JP2014139666A - 透明板、表示システム用表示板、及び表示システム - Google Patents
透明板、表示システム用表示板、及び表示システム Download PDFInfo
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Abstract
【課題】制約が多いディスプレイパネルによらずに、視認される模様を、昼夜、観察位置、或いは昼夜及び観察位置によって変化する視覚効果が得られる、透明板、表示板、及び表示システムを提供する。
【解決手段】透明板１０及び表示板２０は、透明基板１の少なくとも一方の面１ａ上に模様状反射防止領域２Ａと非反射防止領域２Ｂとを有し、模様状反射防止領域は反射防止性微凹凸３を有し、反射防止性微凹凸は多数の微小突起４の集合体である微小突起群４Ｇによって形成され、微小突起の最大突起間距離Ｄａｖｅが可視光の最大波長λｍａｘに対して、Ｄａｖｅ≦λｍａｘである。好ましくは、微小突起群は低高度微小突起が高高度微小突起により周囲を取り囲まれている高低微小突起群を含む。表示システムは、この表示システム用表示板と、これを照らす光源とを有する。
【選択図】図１
【解決手段】透明板１０及び表示板２０は、透明基板１の少なくとも一方の面１ａ上に模様状反射防止領域２Ａと非反射防止領域２Ｂとを有し、模様状反射防止領域は反射防止性微凹凸３を有し、反射防止性微凹凸は多数の微小突起４の集合体である微小突起群４Ｇによって形成され、微小突起の最大突起間距離Ｄａｖｅが可視光の最大波長λｍａｘに対して、Ｄａｖｅ≦λｍａｘである。好ましくは、微小突起群は低高度微小突起が高高度微小突起により周囲を取り囲まれている高低微小突起群を含む。表示システムは、この表示システム用表示板と、これを照らす光源とを有する。
【選択図】図１
Description
本発明は、透明板、表示システム用表示板、及び表示システムに関する。
従来、ガラス窓、ガラス扉、透明な壁又は間仕切り等を構成する透明基板の表面に、着色インクの印刷、印刷シートや切り出した着色シートの貼り付けなどによって、透明又は不透明な着色模様層を形成して、文字、図形、絵柄などの模様を表示することが行われている。模様が文字の場合はメッセージなどを表示し、模様が図形の場合はロゴマークなど表示し、模様が絵柄の場合はデザイン意匠などを表示している。そして、これらの表示によって、商品、店舗、企業、サービスなどの広告宣伝の表示、或いは、出入り口、禁煙、営業中などの各種情報の表示を行なっている。図１４の斜視図は、透明基板１の一方の面上に、着色模様層６を形成して、これを表示板４０としたものである。
さらに、こうした着色模様層６による表示に対して、視覚効果を高める技術も各種提案されている（特許文献１、特許文献２、特許文献３）。
さらに、こうした着色模様層６による表示に対して、視覚効果を高める技術も各種提案されている（特許文献１、特許文献２、特許文献３）。
しかしながら、図１４で例示するような従来の表示板４０は、模様形成という単純な構成による為に、昼夜ともに観察者に同一の模様が視認されるため、昼と夜とで、表示する模様を変えたり、夜のみ模様を視認できるようにしたりすることは不可能であった。
また、例えばガラス窓とした表示板４０を観察する観察者の全員に、同じ模様が視認されるため、例えば、正面から見る観察者には不可視で、斜め方向から見る観察者にのみ視認可能となるように、異なる位置に居る観察者に対して選択的に表示することはできなかった。
また、例えばガラス窓とした表示板４０を観察する観察者の全員に、同じ模様が視認されるため、例えば、正面から見る観察者には不可視で、斜め方向から見る観察者にのみ視認可能となるように、異なる位置に居る観察者に対して選択的に表示することはできなかった。
一方、表示する模様を可変できるものとして、現在では、液晶表示ディスプレイパネルなどの各種ディスプレイパネルを使用する手段も採用されるようになってきた。しかし、ディスプレイパネルは設置するにあたって、いまだに印刷模様に比べれば高価であり、費用がかかる。さらに、ディスプレイパネルは、実際には、設置にあたって建築法や駆動部の設置スペースなど様々な制約がある上、電力の供給が必要となり、しかも、その消費電力も単なる照明付き看板に比べて多目となる。一方、照明付き看板の場合は、変化に富んだ表示は出来なかった。
すなわち、本発明の課題は、制約が多いディスプレイパネルによらずに、視認される模様を、昼夜、観察位置、或いは昼夜及び観察位置によって、変化させることができる、透明板、表示システム用表示板及び表示システムを提供することである。
そこで、本発明では、次の様な構成の、透明板、表示システム用表示板、及び表示システムとした。
（１）透明基板と、前記透明基板の少なくとも一方の面上に、模様状反射防止領域と、前記模様状反射防止領域以外の領域である非反射防止領域とを有し、
前記模様状反射防止領域は、前記透明基板の前記一方の面上に反射防止性微凹凸を有し、
前記反射防止性微凹凸は、複数の微小突起の集合体である微小突起群によって形成され、
前記微小突起の平均突起間距離Ｄａｖｅが、可視光の最大波長λｍａｘに対して、Ｄａｖｅ≦λｍａｘである、
表示システム用透明板。
（２）前記微小突起の最大突起間距離Ｄｍａｘが可視光の最大波長λｍａｘに対して、Ｄｍａｘ≦λｍａｘである、前記（１）に記載の表示システム用透明板。
（３）前記微小突起群は、高度が一定ではない微小突起の集合体として、相対的に低い高度の低高度微小突起と、前記低高度微小突起よりも相対的に高い高度の高高度微小突起とを含み、前記低高度微小突起が前記高高度微小突起により周囲を取り囲まれている高低微小突起群、を含んでなる、前記（１）又は（２）の表示システム用透明板。
（４）前記反射防止性微凹凸は、前記微小突起として、頂部に溝を有する多峰性微小突起を含む、前記（１）〜（３）の表示システム用透明板。
（５）前記透明基板の前記一方の面上に、着色模様層を有する、前記（１）〜（４）のいずれかの表示システム用透明板。
（６）前記非反射防止領域に鏡面反射性領域を有する、前記（１）〜（５）のいずれかの表示システム用透明板。
（１）透明基板と、前記透明基板の少なくとも一方の面上に、模様状反射防止領域と、前記模様状反射防止領域以外の領域である非反射防止領域とを有し、
前記模様状反射防止領域は、前記透明基板の前記一方の面上に反射防止性微凹凸を有し、
前記反射防止性微凹凸は、複数の微小突起の集合体である微小突起群によって形成され、
前記微小突起の平均突起間距離Ｄａｖｅが、可視光の最大波長λｍａｘに対して、Ｄａｖｅ≦λｍａｘである、
表示システム用透明板。
（２）前記微小突起の最大突起間距離Ｄｍａｘが可視光の最大波長λｍａｘに対して、Ｄｍａｘ≦λｍａｘである、前記（１）に記載の表示システム用透明板。
（３）前記微小突起群は、高度が一定ではない微小突起の集合体として、相対的に低い高度の低高度微小突起と、前記低高度微小突起よりも相対的に高い高度の高高度微小突起とを含み、前記低高度微小突起が前記高高度微小突起により周囲を取り囲まれている高低微小突起群、を含んでなる、前記（１）又は（２）の表示システム用透明板。
（４）前記反射防止性微凹凸は、前記微小突起として、頂部に溝を有する多峰性微小突起を含む、前記（１）〜（３）の表示システム用透明板。
（５）前記透明基板の前記一方の面上に、着色模様層を有する、前記（１）〜（４）のいずれかの表示システム用透明板。
（６）前記非反射防止領域に鏡面反射性領域を有する、前記（１）〜（５）のいずれかの表示システム用透明板。
（７）前記（１）〜（６）のいずれかの透明板の前記模様状反射防止領域を有する側の表面における反射光強度差の模様によって表示を行なう、表示システム用表示板。
（８）前記（７）の表示板と、前記表示板の前記模様状反射防止領域を有する側の面に可視光を照射する光源と、を含む、表示システム。
（８）前記（７）の表示板と、前記表示板の前記模様状反射防止領域を有する側の面に可視光を照射する光源と、を含む、表示システム。
本発明によれば、制約が多いディスプレイパネルによらずに、視認される模様を、昼夜、観察位置、或いは昼夜及び観察位置によって、変化させることができる視覚効果が得られる。
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、図面は概念図であり、説明上の都合に応じて適宜、構成要素の縮尺関係、縦横比等は誇張されていることがある。
《１》用語の定義
ここで、本発明で用いる主要な用語の定義を説明しておく。
ここで、本発明で用いる主要な用語の定義を説明しておく。
「微小突起」における「微小」とは、「微小突起」の最大突起間距離Ｄｍａｘが可視光の最大波長λｍａｘに対して、Ｄｍａｘ≦λｍａｘとなる小ささを意味する。
「板面」とは、透明基板１の一方の面又は他方の面乃至はこれらと平行な面であり、図１に於いては、ＸＹ平面と平行な面となる。透明基板１が凹凸ガラスなど「板面」が凹凸面の場合は、この凹凸面の包絡面を意味し、包絡面はＸＹ平面と平行な面となる。また、透明基板１が湾曲ガラスなど「板面」が湾曲面の場合は、この湾曲面を意味する。
「平面視」とは、「板面」に立てた法線の方向から見ることを意味する。図１ではＺ軸方向が法線方向である。
「反射」とは、可視光に対する反射を意味する。
「板面」とは、透明基板１の一方の面又は他方の面乃至はこれらと平行な面であり、図１に於いては、ＸＹ平面と平行な面となる。透明基板１が凹凸ガラスなど「板面」が凹凸面の場合は、この凹凸面の包絡面を意味し、包絡面はＸＹ平面と平行な面となる。また、透明基板１が湾曲ガラスなど「板面」が湾曲面の場合は、この湾曲面を意味する。
「平面視」とは、「板面」に立てた法線の方向から見ることを意味する。図１ではＺ軸方向が法線方向である。
「反射」とは、可視光に対する反射を意味する。
《２》透明板及び表示板
先ず、本発明による透明板及び表示板を、図１に示す一実施形態例を参照して説明する。
先ず、本発明による透明板及び表示板を、図１に示す一実施形態例を参照して説明する。
図１（ａ）の断面図、図１（ｂ）の平面図、並びに図１（ｃ）及び図１（ｄ）の部分拡大断面図に示す、本発明による透明板１０及び表示板２０は、透明基板１と、この透明基板１の一方の面１ａの面上に、模様状反射防止領域２Ａと模様状反射防止領域２Ａ以外の領域である非反射防止領域２Ｂとを有する。
図１（ａ）の断面図は、図１（ｂ）の平面図中、Ｃ−Ｃ線での断面図である。図１（ｃ）の部分拡大断面図は、図（ａ）中の模様状反射防止領域２Ａの反射防止性微凹凸３の部分に注目した断面図であり、図１（ｄ）の部分拡大断面図は、図１（ｃ）中の微小突起付与層５に注目した断面図である。
図１（ａ）の断面図は、図１（ｂ）の平面図中、Ｃ−Ｃ線での断面図である。図１（ｃ）の部分拡大断面図は、図（ａ）中の模様状反射防止領域２Ａの反射防止性微凹凸３の部分に注目した断面図であり、図１（ｄ）の部分拡大断面図は、図１（ｃ）中の微小突起付与層５に注目した断面図である。
模様状反射防止領域２Ａは、透明基板１の一方の面１ａの面上において、反射防止性微凹凸３を有する領域である。反射防止性微凹凸３は、複数の微小突起４の集合体である微小突起群４Ｇによって形成されている。反射防止性微凹凸３は、その微小突起４の最大突起間距離Ｄｍａｘが、可視光の最大波長λｍａｘに対して、Ｄｍａｘ≦λｍａｘであることによって、可視光に対して反射防止性となっている。
また、各微小突起４は透明基板１の板面と平行な切断面で切断した場合の断面積が透明基板１から離れるに従って減少する形状であることが好ましい。
また、各微小突起４は透明基板１の板面と平行な切断面で切断した場合の断面積が透明基板１から離れるに従って減少する形状であることが好ましい。
本実施形態においては、図１（ｃ）及び図１（ｄ）に示すように、微小突起４は、透明基板１の一方の面１ａの表面には直接形成されてなく、透明基板１の一方の面１ａに積層された微小突起付与層５の面に形成されている。微小突起付与層５は、さらに、微小突起４を表面に有する微小突起形成層５Ａと、微小突起形成層５Ａを形成時の基材として用いられた形成用基材層５Ｂと、微小突起付与層５を透明基板１の一方の面１ａに接合するために形成用基材層５Ｂを透明基板１の一方の面１ａに接合する接合層５Ｃと、を有する構成されている。
一方、非反射防止領域２Ｂは、透明基板１の一方の面１ａの表面そのものとなっている。
一方、非反射防止領域２Ｂは、透明基板１の一方の面１ａの表面そのものとなっている。
本実施形態においては、透明基板１はガラス板であり、微小突起形成層５Ａは透明な紫外線硬化性アクリル系樹脂の硬化物層であり、形成用基材層５Ｂはポリエステル系樹脂フィルムであり、接合層５Ｃは透明なアクリル系粘着剤層である。微小突起付与層５として、微小突起形成層５Ａ、形成用基材層５Ｂ及び接合層５Ｃが積層された積層フィルムを、所定の模様形状に切断したものを、透明基板１の所定の位置に接合層５Ｃによって貼り付けることで、本実施形態における透明板１０及び表示板２０は作製されている。
以上の構成によって、本実施形態における透明板１０及び表示板２０は、模様状反射防止領域２Ａと非反射防止領域２Ｂとによって、制約が多いディスプレイパネルによらずに、視認される模様を、昼夜、観察位置、或いは昼夜及び観察位置によって、変化させる視覚効果を得ることができるようになる。
以下、構成要素毎に、さらに詳述する。
《透明基板１》
透明基板１としては、いわゆる、ソーダガラス、石英ガラスなどの無機材料からなる透明板の他に、透明であれば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、スチレン系樹脂などの樹脂からなる樹脂板でもよい。樹脂板では、湾曲面も容易となる。透明基板１は、透明であれば、着色していてもよい。透明基板１の一方の面１ａ及び他方の面１ｂは、鏡面など平滑で平坦な表面以外に、霞（かすみ）ガラスや梨地ガラスなどの凹凸ガラスのように模様状凹凸面であってもよい。透明基板１の厚みは、用途に応じ、例えば０．５〜２０ｍｍ程度である。
透明基板１としては、いわゆる、ソーダガラス、石英ガラスなどの無機材料からなる透明板の他に、透明であれば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、スチレン系樹脂などの樹脂からなる樹脂板でもよい。樹脂板では、湾曲面も容易となる。透明基板１は、透明であれば、着色していてもよい。透明基板１の一方の面１ａ及び他方の面１ｂは、鏡面など平滑で平坦な表面以外に、霞（かすみ）ガラスや梨地ガラスなどの凹凸ガラスのように模様状凹凸面であってもよい。透明基板１の厚みは、用途に応じ、例えば０．５〜２０ｍｍ程度である。
《模様状反射防止領域２Ａと非反射防止領域２Ｂ》
模様状反射防止領域２Ａは、模様状に形成された反射防止性を示す領域である。模様状反射防止領域２Ａでは、透明板１０或いは表示板２０としての表面に、反射防止性微凹凸３を有する。この反射防止性微凹凸３によって、可視光に対する反射防止性が付与されている。反射防止性微凹凸３に入射した可視光線は実質上反射されないと共に、吸収されることもなく、透過してゆく。
模様状反射防止領域２Ａは、模様状に形成された反射防止性を示す領域である。模様状反射防止領域２Ａでは、透明板１０或いは表示板２０としての表面に、反射防止性微凹凸３を有する。この反射防止性微凹凸３によって、可視光に対する反射防止性が付与されている。反射防止性微凹凸３に入射した可視光線は実質上反射されないと共に、吸収されることもなく、透過してゆく。
非反射防止領域２Ｂは、模様状反射防止領域２Ａが形成された透明基板１の面の側の表面において、模様状反射防止領域２Ａ以外の領域である。換言すると、非反射防止領域２Ｂは、模様状反射防止領域２Ａとは、写真で言えばネガ画像とポジ画像のように、逆の模様で相補的な模様状に形成され反射防止性ではない領域である。したがって、非反射防止領域２Ｂも模様状であるので「模様状非反射防止領域」と言うこともできる。
本実施形態においては、模様状反射防止領域２Ａが透明基板１の一方の面１ａ上に形成され、他方の面１ｂには形成されていないので、非反射防止領域２Ｂは、模様状反射防止領域２Ａが形成された透明基板１の一方の面１ａ上において、模様状反射防止領域２Ａ以外の領域である。
本実施形態においては、模様状反射防止領域２Ａが透明基板１の一方の面１ａ上に形成され、他方の面１ｂには形成されていないので、非反射防止領域２Ｂは、模様状反射防止領域２Ａが形成された透明基板１の一方の面１ａ上において、模様状反射防止領域２Ａ以外の領域である。
本発明においては、模様状反射防止領域２Ａが反射防止性を示すとは、反射防止性微凹凸３が有する微小突起４によって、可視光に対して反射防止性能が高められた状態を意味する。一方、非反射防止領域２Ｂが示す反射防止性ではない状態とは、前記微小突起４によって反射防止性能が高められた状態よりも、反射防止性能が低い状態を意味する。したがって、模様状反射防止領域２Ａが反射防止性を示すとは、相対的に、模様状反射防止領域２Ａは非反射防止領域２Ｂよりも反射防止性能が高いことを意味し、絶対的に可視光に対する反射率が特定値以下であることは意味しない。ただし、微小突起４によって付与される模様状反射防止領域２Ａの可視光に対する反射率は、透明基板１として使用し得るガラス基板の平滑表面の可視光に対する反射率よりも小さい。
尚、本発明に於ける模様状反射防止領域２Ａの反射率は、微小突起４の形状、寸法、材料等にも依存するが、通常一般的には、可視光の全波長域に対して、板面の法線方向から入射する光に対して０．０２〜１．００％程度である。
尚、本発明に於ける模様状反射防止領域２Ａの反射率は、微小突起４の形状、寸法、材料等にも依存するが、通常一般的には、可視光の全波長域に対して、板面の法線方向から入射する光に対して０．０２〜１．００％程度である。
〔鏡面反射性領域を含む非反射防止領域２Ｂ〕
非反射防止領域２Ｂは、その領域内に鏡面反射性領域を含むことができる。本実施形態においては、非反射防止領域２Ｂは、その全領域が鏡面反射性領域となっている。このため、非反射防止領域２Ｂの全領域が鏡面反射性領域でない形態に比べて、模様状反射防止領域２Ａの模様を、よりいっそう目立つようにすることができる。
なお、ここで言う鏡面反射性とは、精密光学部品における鏡面反射性を意味するのではなく、建築物用途の一般的な窓ガラスの表面が呈する鏡面反射性以上のことを意味する。
本発明においては、非反射防止領域２Ｂは、その領域内の一部に鏡面反射性領域を含んでいてもよく、非反射防止領域２Ｂは、その領域が鏡面反射性領域ではなく、例えば艶消しではないが、例えば凹凸ガラス板のガラス面のような凹凸面であってもよい。凹凸面の領域の凹凸模様によっても、模様状反射防止領域２Ａとは別の模様を表現できる。
非反射防止領域２Ｂは、その領域内に鏡面反射性領域を含むことができる。本実施形態においては、非反射防止領域２Ｂは、その全領域が鏡面反射性領域となっている。このため、非反射防止領域２Ｂの全領域が鏡面反射性領域でない形態に比べて、模様状反射防止領域２Ａの模様を、よりいっそう目立つようにすることができる。
なお、ここで言う鏡面反射性とは、精密光学部品における鏡面反射性を意味するのではなく、建築物用途の一般的な窓ガラスの表面が呈する鏡面反射性以上のことを意味する。
本発明においては、非反射防止領域２Ｂは、その領域内の一部に鏡面反射性領域を含んでいてもよく、非反射防止領域２Ｂは、その領域が鏡面反射性領域ではなく、例えば艶消しではないが、例えば凹凸ガラス板のガラス面のような凹凸面であってもよい。凹凸面の領域の凹凸模様によっても、模様状反射防止領域２Ａとは別の模様を表現できる。
《反射防止性微凹凸３》
反射防止性微凹凸３は、複数の微小突起４の集合体である微小突起群４Ｇによって形成され、可視光に対して反射防止性能を示す凹凸である。
反射防止性微凹凸３は、複数の微小突起４の集合体である微小突起群４Ｇによって形成され、可視光に対して反射防止性能を示す凹凸である。
《微小突起４》
微小突起４は、その平均突起間距離Ｄａｖｅが、可視光の最大波長λｍａｘに対して、Ｄａｖｅ≦λｍａｘとなっている突起である。より好ましくは、微小突起４の最大突起間距離Ｄａｖｅを、可視光の最大波長λｍａｘに対して、Ｄａｖｅ≦λｍａｘとする。
本発明においては、可視光の最大波長λｍａｘは７８０ｎｍとする。一方、可視光の最小波長λｍｉｎは３８０ｎｍとする。
この結果、微小突起４の集合体である微小突起群４Ｇを有する反射防止性微凹凸３は、可視光に対する反射防止性能を有するものとなる。
また、微小突起４は、その板面に平行な切断面（図１に於いてはＸＹ平面と平行な面）で切断した場合の断面積が微小突起４の高さ方向（図１に於いてはＺ方向）に於いて、透明基板１から離れるに従って減少函数となる形状、即ち、先窄まり（さきすぼまり）の形状とした方が、反射防止効果を奏する上で好ましいことが知られている。よって、本発明に於いては、好ましくは、微小突起群４Ｇを構成する微小突起４のうちの少なくとも一部には、こうした先窄まりの微小突起４を含むように形成する。より好ましくは、全微小突起４のうちの５０％以上、更に好ましくは、全微小突起４のうちの８０％以上を先窄まりの形状とする。
微小突起４は、その平均突起間距離Ｄａｖｅが、可視光の最大波長λｍａｘに対して、Ｄａｖｅ≦λｍａｘとなっている突起である。より好ましくは、微小突起４の最大突起間距離Ｄａｖｅを、可視光の最大波長λｍａｘに対して、Ｄａｖｅ≦λｍａｘとする。
本発明においては、可視光の最大波長λｍａｘは７８０ｎｍとする。一方、可視光の最小波長λｍｉｎは３８０ｎｍとする。
この結果、微小突起４の集合体である微小突起群４Ｇを有する反射防止性微凹凸３は、可視光に対する反射防止性能を有するものとなる。
また、微小突起４は、その板面に平行な切断面（図１に於いてはＸＹ平面と平行な面）で切断した場合の断面積が微小突起４の高さ方向（図１に於いてはＺ方向）に於いて、透明基板１から離れるに従って減少函数となる形状、即ち、先窄まり（さきすぼまり）の形状とした方が、反射防止効果を奏する上で好ましいことが知られている。よって、本発明に於いては、好ましくは、微小突起群４Ｇを構成する微小突起４のうちの少なくとも一部には、こうした先窄まりの微小突起４を含むように形成する。より好ましくは、全微小突起４のうちの５０％以上、更に好ましくは、全微小突起４のうちの８０％以上を先窄まりの形状とする。
〔最大突起間距離Ｄｍａｘ及び平均突起間距離Ｄａｖｅ〕
最大突起間距離Ｄｍａｘ及び平均突起間距離Ｄａｖｅとは、微小突起４が一定の周期で規則的配列をしている場合には、その配列周期に等しい。
本実施形態においては、微小突起４は一定の配列周期を持たない。したがって、個々の微小突起４に注目すると、その微小突起４の周囲に隣接して配置される微小突起４との距離は一定ではなく、ばらつきを有する。このように、隣接する微小突起４同士の間の距離が一定ではなく、ばらつきを有するときは、隣接する微小突起４同士の間の距離の最大の値を、「最大突起間距離」とすることもできるであろう。ただし、実際には、最大値を与える２つの微小突起４の組を見つけるには、反射防止性微凹凸３の全領域を計測する必要があり、現実的ではない。加えて、単に微小突起４同士の間の距離を所定個数計測して其の最大値を最大突起間距離として採用すると、傷、異物等による現実の突起間距離を反映し無いなんらかの異常値を採用する虞も有る。そこで、本発明においては、統計的手法を用いて、「最大突起間距離Ｄｍａｘ」を定義する。以下、その説明をする。
最大突起間距離Ｄｍａｘ及び平均突起間距離Ｄａｖｅとは、微小突起４が一定の周期で規則的配列をしている場合には、その配列周期に等しい。
本実施形態においては、微小突起４は一定の配列周期を持たない。したがって、個々の微小突起４に注目すると、その微小突起４の周囲に隣接して配置される微小突起４との距離は一定ではなく、ばらつきを有する。このように、隣接する微小突起４同士の間の距離が一定ではなく、ばらつきを有するときは、隣接する微小突起４同士の間の距離の最大の値を、「最大突起間距離」とすることもできるであろう。ただし、実際には、最大値を与える２つの微小突起４の組を見つけるには、反射防止性微凹凸３の全領域を計測する必要があり、現実的ではない。加えて、単に微小突起４同士の間の距離を所定個数計測して其の最大値を最大突起間距離として採用すると、傷、異物等による現実の突起間距離を反映し無いなんらかの異常値を採用する虞も有る。そこで、本発明においては、統計的手法を用いて、「最大突起間距離Ｄｍａｘ」を定義する。以下、その説明をする。
（１）先ず、反射防止性微凹凸３について、原子間力顕微鏡（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ；ＡＦＭと略称する。）、或いは走査型電子顕微鏡（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ：ＳＥＭと略称する。）を用いて、板面に平行な面内における微小突起４の配置を検出し、この面内配置から個々の隣接する微小突起４同士の間の距離を計測し、これから最大突起間距離Ｄｍａｘを統計的に算出する。図２の写真は、原子間力顕微鏡によって実際に得られた微小突起４の高さ情報を画像データ化した拡大写真である。
本発明においては、この図２を含めて、図３及び図４等での写真は全て、板面に対して法線方向から微小突起４を捉えたときの平面視の写真である。
微小突起４の面内配置の検出に、本実施形態においては、原子間力顕微鏡を用いたが、本発明においては、上記以外の検出方法を採用してもよい。
本発明においては、この図２を含めて、図３及び図４等での写真は全て、板面に対して法線方向から微小突起４を捉えたときの平面視の写真である。
微小突起４の面内配置の検出に、本実施形態においては、原子間力顕微鏡を用いたが、本発明においては、上記以外の検出方法を採用してもよい。
微小突起４の配置を検出する領域の面積は、透明板１０乃至は表示板２０の製品仕様に要求される反射防止性能に関与する最大突起間距離Ｄｍａｘを、統計的手法で平均値及び標準偏差から許容される誤差範囲内で算出し得る程度以上の微小突起４の計測個数となる面積であれば十分である。例えば、微小突起４の個数で言えば２００個以上、より高精度とするならば、５００個以上とする。
（２）次に、個々の微小突起４における高さの極大点を求める。極大点とは、高さが、其の近傍周辺の何れの点と比べても大（極大値）となる点を意味する。高さの計測方向は、図１で言えばＺ軸方向であり、高さの基準となる基準高さは任意である。ただし、微小突起４の谷部を連結する面にうねりが存在する場合は、うねりを除去した高さを基準高さとする。うねりが存在すると、最大突起間距離Ｄｍａｘの寸法に比べて板面方向で大きな寸法で、微小突起４の極大点の基準高さとの高度差ではない絶対高度が変化する。うねりの除去は、例えば、微小突起４間の谷底の高度について、複数の谷底の高度の平均値が収束するに足る面積の中で算出し、この平均値の高度を基準高さとする。前記平均値を算出する面積の領域を移動させることで、前記面積よりも大きい面積におけるうねりを除去した基準高さを得ることができる。
極大点の計測は、微小突起４の前記面内配置の高さ情報の画像データを、画像処理することによって求めることができる。本実施形態においては、１ｎｍ単位で、極大点を求めた。
この際、画像データにノイズがあり、極大点の誤検出が予想されるときは、例えば、ガウシアン特性によるローパスフィルタを画像データに適用して、ノイズを除去しておくことが好ましい。
図３は、図２の拡大写真の画像データを、画像処理して検出した極大点の部分に黒点を付した拡大写真である。
この際、画像データにノイズがあり、極大点の誤検出が予想されるときは、例えば、ガウシアン特性によるローパスフィルタを画像データに適用して、ノイズを除去しておくことが好ましい。
図３は、図２の拡大写真の画像データを、画像処理して検出した極大点の部分に黒点を付した拡大写真である。
ここで、隣接する極大点同士の間の距離を、「隣接極大点間距離」と呼ぶことにする。隣接極大点間距離が、隣接する微小突起４同士の間の距離であると捉えたとき、隣接極大点間距離を求める方法の一つとして、ドロネー図（Ｄｅｌａｕｎａｒｙ Ｄｉａｇｒａｍ）を利用することができる。
ドロネー図とは、各極大点を母点としてボロノイ分割を行った場合に、ボロノイ領域が隣接する母点同士を隣接母点と定義し、各隣接母点同士を線分で結んで得られる３角形の集合体からなる網状図形である。各３角形は、ドロネー３角形と呼ばれ、各３角形の辺は、隣接母点同士を結ぶ線分に該当し、ドロネー線と呼ばれる。
ところで、ドロネー図は、ボロノイ図（Ｖｏｒｏｎｏｉ ｄｉａｇｒａｍ）と双対の関係を有する。ボロノイ分割とは、各隣接母点間を結ぶ線分（ドロネー線）の垂直２等分線同士によって画成される閉多角形の集合体からなる網状図形で平面を分割することを言う。ボロノイ分割により得られる網状図形がボロノイ図であり、各閉領域がボロノイ領域である。
図４は、図３から作成したドロネー図のドロネー線を白色の線分として、図３に重ね合わせた拡大写真である。
ドロネー線の長さが隣接極大点間距離に該当する。此の様にして求めた隣接突起間距離乃至隣接極大点間距離の度数分布を図１８に図示する。
ドロネー図とは、各極大点を母点としてボロノイ分割を行った場合に、ボロノイ領域が隣接する母点同士を隣接母点と定義し、各隣接母点同士を線分で結んで得られる３角形の集合体からなる網状図形である。各３角形は、ドロネー３角形と呼ばれ、各３角形の辺は、隣接母点同士を結ぶ線分に該当し、ドロネー線と呼ばれる。
ところで、ドロネー図は、ボロノイ図（Ｖｏｒｏｎｏｉ ｄｉａｇｒａｍ）と双対の関係を有する。ボロノイ分割とは、各隣接母点間を結ぶ線分（ドロネー線）の垂直２等分線同士によって画成される閉多角形の集合体からなる網状図形で平面を分割することを言う。ボロノイ分割により得られる網状図形がボロノイ図であり、各閉領域がボロノイ領域である。
図４は、図３から作成したドロネー図のドロネー線を白色の線分として、図３に重ね合わせた拡大写真である。
ドロネー線の長さが隣接極大点間距離に該当する。此の様にして求めた隣接突起間距離乃至隣接極大点間距離の度数分布を図１８に図示する。
（３）次に、それぞれの隣接極大点間距離を計測して、その平均値である平均突起間距離Ｄａｖｅ及び標準偏差σを求める。この平均突起間距離Ｄａｖｅ及び標準偏差σから、最大突起間距離Ｄｍａｘを算出する。
本発明においては、最大突起間距離Ｄｍａｘは下記の式〔１〕により算出する。
本発明においては、最大突起間距離Ｄｍａｘは下記の式〔１〕により算出する。
最大突起間距離Ｄｍａｘ＝Ｄａｖｅ＋２σ 〔１〕
式〔１〕から判るように、最大突起間距離Ｄｍａｘとは、隣接極大点間距離を計測して得られた中の最大値ではない。計測した隣接極大点間距離の値の総数のうち、統計学的に、Ｄａｖｅ±２σの領域に入るのが約９５％であるから、残りの５％の半分の約２．５％は、最大突起間距離Ｄｍａｘを超えるものが存在する。それでも、おおよそ９７．５％は、最大突起間距離Ｄｍａｘ以下の隣接極大点間距離を示す。
反射防止の対象とする可視光の波長が、その最大波長λｍａｘの７８０ｎｍのみであったと仮定しても、約２．５％の微小突起４は、反射防止への寄与が小さくなる。しかし、意識的に、λｍａｘを超過するような隣接極大点間距離を与える微小突起４を局在化して形成しない限り、こうした最大波長λｍａｘを超過するような隣接極大点間距離を与える微小突起４は、面内の全域に散在している。したがって、最大波長λｍａｘを超過するような隣接極大点間距離も含めて、全体としての隣接極大点間距離は領域内で平均化され、大局的には、最大波長λｍａｘを超過するような隣接極大点間距離が前記のとおり約２．５％程度存在しても、可視光の最大波長λｍａｘに対して反射防止性能を、微小突起４が形成された領域全般に亘って得ることができる。
また、本実施形態においては、微小突起４は、陽極酸化処理とエッチング処理によって形成しており、図２の写真からも判るように、隣接極大点間距離が他と比べて極度に大きくなる微小突起４は実際に局在化していない。
以上のように、微小突起４によってもたらされる反射防止効果の点で、最大突起間距離Ｄｍａｘは、統計学的に、前記式〔１〕と設定することができる。
反射防止の対象とする可視光の波長が、その最大波長λｍａｘの７８０ｎｍのみであったと仮定しても、約２．５％の微小突起４は、反射防止への寄与が小さくなる。しかし、意識的に、λｍａｘを超過するような隣接極大点間距離を与える微小突起４を局在化して形成しない限り、こうした最大波長λｍａｘを超過するような隣接極大点間距離を与える微小突起４は、面内の全域に散在している。したがって、最大波長λｍａｘを超過するような隣接極大点間距離も含めて、全体としての隣接極大点間距離は領域内で平均化され、大局的には、最大波長λｍａｘを超過するような隣接極大点間距離が前記のとおり約２．５％程度存在しても、可視光の最大波長λｍａｘに対して反射防止性能を、微小突起４が形成された領域全般に亘って得ることができる。
また、本実施形態においては、微小突起４は、陽極酸化処理とエッチング処理によって形成しており、図２の写真からも判るように、隣接極大点間距離が他と比べて極度に大きくなる微小突起４は実際に局在化していない。
以上のように、微小突起４によってもたらされる反射防止効果の点で、最大突起間距離Ｄｍａｘは、統計学的に、前記式〔１〕と設定することができる。
ちなみに、図２の写真の例では、平均値Ｄａｖｅ＝１５８ｎｍ、標準偏差σ＝３８ｎｍ、最大突起間距離Ｄｍａｘ＝２３４ｎｍであった。よって、可視光の全波長大域に亘って、反射防止効果を得ることができる。
本発明に於いては、微小突起群４Ｇ（乃至これから構成される反射防止性微凹凸３）が反射防止性能を実質上発現し得る為には、平均突起間距離Ｄａｖｅを、反射防止の対象とする可視光の波長が、可視光域全域であるときは、可視光の最小波長λｍｉｎに対して、
Ｄａｖｅ≦λｍｉｎとする。
又、反射防止效果を、より確実に発現せしめる為には、最大突起間距離Ｄｍａｘは、反射防止の対象とする可視光の波長が、可視光域全域であるときは、可視光の最小波長λｍｉｎに対して、
Ｄｍａｘ≦λｍｉｎとすることが好ましい。
一般には、可視光のうち反射防止の対象とする波長帯域に於ける最小の波長をΛｍｉｎとしたとき、
Ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ
とするとよいが、好ましくは、Ｄｍａｘ≦０．８Λｍｉｎであり、より好ましくは、Ｄｍａｘ≦０．５Λｍｉｎである。
以上のように、Ｄｍａｘを設定すると、反射防止効果をより確実に得ることができる。
なお、Λｍｉｎは、Λｍｉｎ＝λｍｉｎ＝３８０ｎｍとは限らない。
具体的には、可視光の全波長帯域３８０〜７８０ｎｍを反射防止の対象とする場合は、Ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ＝λｍｉｎ＝３８０ｎｍとするが、好ましくは、Ｄｍａｘ≦０．８×３８０ｎｍ＝３０４ｎｍ、より好ましくは、Ｄｍａｘ≦０．５×３８０ｎｍ＝１９０ｎｍとする。
Ｄａｖｅ≦λｍｉｎとする。
又、反射防止效果を、より確実に発現せしめる為には、最大突起間距離Ｄｍａｘは、反射防止の対象とする可視光の波長が、可視光域全域であるときは、可視光の最小波長λｍｉｎに対して、
Ｄｍａｘ≦λｍｉｎとすることが好ましい。
一般には、可視光のうち反射防止の対象とする波長帯域に於ける最小の波長をΛｍｉｎとしたとき、
Ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ
とするとよいが、好ましくは、Ｄｍａｘ≦０．８Λｍｉｎであり、より好ましくは、Ｄｍａｘ≦０．５Λｍｉｎである。
以上のように、Ｄｍａｘを設定すると、反射防止効果をより確実に得ることができる。
なお、Λｍｉｎは、Λｍｉｎ＝λｍｉｎ＝３８０ｎｍとは限らない。
具体的には、可視光の全波長帯域３８０〜７８０ｎｍを反射防止の対象とする場合は、Ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ＝λｍｉｎ＝３８０ｎｍとするが、好ましくは、Ｄｍａｘ≦０．８×３８０ｎｍ＝３０４ｎｍ、より好ましくは、Ｄｍａｘ≦０．５×３８０ｎｍ＝１９０ｎｍとする。
［多峰性微小突起４Ｍが存在するときの最大突起間距離Ｄｍａｘの算出］
微小突起４の中には、その頂部に複数の極大点（頂点）を有する多峰性微小突起４Ｍが存在することがある。多峰性微小突起４Ｍについては、後で詳述するが、多峰性微小突起４Ｍが存在すると、１つの微小突起４Ｍが複数の極大点を与えることになり、微小突起４の個数と、極大点の個数とが一致しなくなる。図２及び図３の写真で示せば、添え字「Ｍ」を付したものが、多峰性微小突起４Ｍの例である。図２及び図３において、図面下側中央部の多峰性微小突起４Ｍが頂点を２つ有する例であり、図面上右側の多峰性微小突起４Ｍが頂点を３つ有する例である。これらに対して、図面上方左側の微小突起４が、１つの頂点を有する単峰性微小突起４Ｓの例である。
微小突起４の中には、その頂部に複数の極大点（頂点）を有する多峰性微小突起４Ｍが存在することがある。多峰性微小突起４Ｍについては、後で詳述するが、多峰性微小突起４Ｍが存在すると、１つの微小突起４Ｍが複数の極大点を与えることになり、微小突起４の個数と、極大点の個数とが一致しなくなる。図２及び図３の写真で示せば、添え字「Ｍ」を付したものが、多峰性微小突起４Ｍの例である。図２及び図３において、図面下側中央部の多峰性微小突起４Ｍが頂点を２つ有する例であり、図面上右側の多峰性微小突起４Ｍが頂点を３つ有する例である。これらに対して、図面上方左側の微小突起４が、１つの頂点を有する単峰性微小突起４Ｓの例である。
そこで、最大突起間距離Ｄｍａｘの算出にあたって、多峰性微小突起４Ｍが存在するときは、次のようにするとよい。また、本実施形態においても、次のようにした。
１つの多峰性微小突起４Ｍについて、その１つの多峰性微小突起４Ｍが有する複数の極大点同士から得られる隣接極大点間距離は、複数の単峰性微小突起４Ｓから得られる隣接極大点間距離とは、明らかに大きく異なる。そこで、５〜２０個程度の互いに隣接する単峰性微小突起４Ｓを選んで標本抽出して、この標本抽出した中での隣接極大点間距離の複数の値の数値範囲から、明らかに外れる値を除外する。例えば、単峰性微小突起のみを標本抽出した中での隣接極大点間距離の平均値の１／２以下の値を除外する。本実施形態においては、多峰性微小突起４Ｍの寄与分を減らした後の平均値ではあるが、この平均値でいえば平均値Ｄａｖｅ＝１５８ｎｍに対して約１／３となる５６ｎｍの値以下のものを隣接極大点間距離から除外したものを隣接突起間距離とした。この５６ｎｍという値は、単峰性微小突起４Ｓに主に起因する平均値Ｄａｖｅ＝１５８ｎｍに対する度数分布のピーク（図１８の符号Ａ）と、多峰性微小突起４Ｍに起因する度数分布のピークとの境い目部分となる数値である。
前記した最大突起間距離Ｄｍａｘ＝２３４ｎｍは、こうして、多峰性微小突起４Ｍの寄与分を減らして得られた値である。
１つの多峰性微小突起４Ｍについて、その１つの多峰性微小突起４Ｍが有する複数の極大点同士から得られる隣接極大点間距離は、複数の単峰性微小突起４Ｓから得られる隣接極大点間距離とは、明らかに大きく異なる。そこで、５〜２０個程度の互いに隣接する単峰性微小突起４Ｓを選んで標本抽出して、この標本抽出した中での隣接極大点間距離の複数の値の数値範囲から、明らかに外れる値を除外する。例えば、単峰性微小突起のみを標本抽出した中での隣接極大点間距離の平均値の１／２以下の値を除外する。本実施形態においては、多峰性微小突起４Ｍの寄与分を減らした後の平均値ではあるが、この平均値でいえば平均値Ｄａｖｅ＝１５８ｎｍに対して約１／３となる５６ｎｍの値以下のものを隣接極大点間距離から除外したものを隣接突起間距離とした。この５６ｎｍという値は、単峰性微小突起４Ｓに主に起因する平均値Ｄａｖｅ＝１５８ｎｍに対する度数分布のピーク（図１８の符号Ａ）と、多峰性微小突起４Ｍに起因する度数分布のピークとの境い目部分となる数値である。
前記した最大突起間距離Ｄｍａｘ＝２３４ｎｍは、こうして、多峰性微小突起４Ｍの寄与分を減らして得られた値である。
〔平均突起高さＨａｖｅ〕
平均突起高さＨａｖｅは、個々の微小突起４の高さＨについての平均値である。最大突起間距離Ｄｍａｘの算出に用いた原子間力顕微鏡による画像データ或いは、この画像データの元になった三次元座標データから、個々の微小突起４の極大点の高さ（以下、「極大点の高さ」を、単に、「高さ」又は「高度」とも呼称する）を突起高さＨとして求め、これから、平均突起高さＨａｖｅを得ることができる。ここでも、前記した最大突起間距離Ｄｍａｘと同様に、模様状反射防止領域２Ａの全領域について計測する必要はない。統計学的に標本抽出して、その平均値を平均突起高さＨａｖｅとすることができる。
本実施形態においては、平均突起高さＨａｖｅ＝１７８ｎｍ、標準偏差σ＝３０ｎｍであった。
この際、多峰性微小突起４Ｍが存在するときは、この多峰性微小突起４Ｍが有する複数の極大点の中で高度が最も高い極大点を、当該微小突起４Ｍの突起高さＨとして計測するとよい。
また、多峰性微小突起４Ｍが有する複数の極大点の高度が全て同一の場合は、その同一の高度を以って、当該多峰性微小突起４Ｍの突起高さＨと定義する。
平均突起高さＨａｖｅは、通常、最大突起間距離Ｄｍａｘに対する比率（アスペクト比とも呼称する）で０．５〜３．０程度である。
平均突起高さＨａｖｅは、個々の微小突起４の高さＨについての平均値である。最大突起間距離Ｄｍａｘの算出に用いた原子間力顕微鏡による画像データ或いは、この画像データの元になった三次元座標データから、個々の微小突起４の極大点の高さ（以下、「極大点の高さ」を、単に、「高さ」又は「高度」とも呼称する）を突起高さＨとして求め、これから、平均突起高さＨａｖｅを得ることができる。ここでも、前記した最大突起間距離Ｄｍａｘと同様に、模様状反射防止領域２Ａの全領域について計測する必要はない。統計学的に標本抽出して、その平均値を平均突起高さＨａｖｅとすることができる。
本実施形態においては、平均突起高さＨａｖｅ＝１７８ｎｍ、標準偏差σ＝３０ｎｍであった。
この際、多峰性微小突起４Ｍが存在するときは、この多峰性微小突起４Ｍが有する複数の極大点の中で高度が最も高い極大点を、当該微小突起４Ｍの突起高さＨとして計測するとよい。
また、多峰性微小突起４Ｍが有する複数の極大点の高度が全て同一の場合は、その同一の高度を以って、当該多峰性微小突起４Ｍの突起高さＨと定義する。
平均突起高さＨａｖｅは、通常、最大突起間距離Ｄｍａｘに対する比率（アスペクト比とも呼称する）で０．５〜３．０程度である。
〔高低微小突起群４ＧＨＬ〕
図５は、高低微小突起群４ＧＨＬを模式的に示す図である。図５（ａ）は断面図、図５（ｂ）は斜視図である。図５（ａ）の断面図は、平面視において、隣接する微小突起４の高さの極大点を結ぶ折れ線を含む断面での断面図である。Ｚ軸方向が微小突起４の高さ方向である。図６の写真は、高低微小突起群４ＧＨＬを示す原子間力顕微鏡による拡大写真である。
図５は、高低微小突起群４ＧＨＬを模式的に示す図である。図５（ａ）は断面図、図５（ｂ）は斜視図である。図５（ａ）の断面図は、平面視において、隣接する微小突起４の高さの極大点を結ぶ折れ線を含む断面での断面図である。Ｚ軸方向が微小突起４の高さ方向である。図６の写真は、高低微小突起群４ＧＨＬを示す原子間力顕微鏡による拡大写真である。
このように、微小突起群４Ｇは、高度が一定ではない微小突起４の集合体として、相対的に低い高度の低高度微小突起４Ｌと、低高度微小突起４Ｌよりも相対的に高い高度の高高度微小突起４Ｈとを含み、低高度微小突起４Ｌが高高度微小突起４Ｈにより周囲を取り囲まれている高低微小突起群４ＧＨＬを含んでなることが好ましい。高低微小突起群４ＧＨＬによって、耐擦傷性向上効果が期待できるからである。
なお、前記「高度が一定ではない微小突起４」において、「高度」とは谷底の基準高さと極大点の高さとの高度差としての「高さ」の意味であり、前述した個々の微小突起４の高さＨに相当する。
低高度微小突起４Ｌの周囲を取り囲む複数の高高度微小突起４Ｈの高さは、同一で揃っている必要はない。
低高度微小突起４Ｌ、高高度微小突起４Ｈのいずれも、後述する多峰性微小突起４Ｍであってもよい。低高度微小突起４Ｌ、或いは、高高度微小突起４Ｈが、多峰性微小突起４Ｍである場合には、その高度は、１つの頂部に存在する複数の極大点のうちの最大の高さでとらえる。
なお、前記「高度が一定ではない微小突起４」において、「高度」とは谷底の基準高さと極大点の高さとの高度差としての「高さ」の意味であり、前述した個々の微小突起４の高さＨに相当する。
低高度微小突起４Ｌの周囲を取り囲む複数の高高度微小突起４Ｈの高さは、同一で揃っている必要はない。
低高度微小突起４Ｌ、高高度微小突起４Ｈのいずれも、後述する多峰性微小突起４Ｍであってもよい。低高度微小突起４Ｌ、或いは、高高度微小突起４Ｈが、多峰性微小突起４Ｍである場合には、その高度は、１つの頂部に存在する複数の極大点のうちの最大の高さでとらえる。
高低微小突起群４ＧＨＬは、後述する微小突起４を形成する為の成形型の作製工程にて、（Ｂ）陽極酸化処理工程で作製される微細な穴について、その深さのばらつきが大きくなるようにして作製することで形成することができる。具体的には、陽極酸化処理の印加電圧（化成電圧）を大きくすることで、ばらつきを大きくすることができる。
高低微小突起群４ＧＨＬによって、模様状反射防止領域２Ａに外力が加わったときに、高高度微小突起４Ｈが、低高度微小突起４Ｌよりも先に外力を受け止めて、犠牲的に損傷することにより、低高度微小突起４Ｌの損傷を防ぐことができる。その結果、模様状反射防止領域２Ａの局所的な反射防止性能の劣化を緩和し、ひいては、模様状反射防止領域２Ａによる表示が損なわれることを軽減できる耐擦傷性向上の効果が得られる。
また、微小突起群４Ｇと物体との間に塵埃が付着すると、当該物品が微小突起群に対して相対的に摺動した際に、該塵埃が研磨剤として機能して微小突起（群）の磨耗、損傷が促進されることになる。この場合に、微小突起群を構成する各微小突起間に高低差が有ると、塵埃は高高度微小突起４Ｈに強く接触し、これを損傷させる。一方で低高度微小突起４Ｌとの接触は弱まり、低高度微小突起４Ｌについては損傷が軽減され、無傷ないしは軽微な傷で残存した低高度微小突起４Ｌによって反射防止性能が維持される。
またこれに加えて、各微小突起の高さに分布（高低差）の有る微小突起群４Ｇは、反射防止性能が広帯域化され、白色光のような多波長の混在する光、あるいは広帯域スペクトルを持つ光に対して、全スペクトル帯域で低反射率を実現するのに有利である。これは、かかる微小突起群によって良好な反射防止性能を発現し得る波長帯域が、隣接突起間距離の他に、突起高さにも依存する為である。
またこの場合には、多数の微小突起のうちの高高度微小突起４Ｈのみが、例えば微小突起群４Ｇと対向するように配置された各種の部材表面と接触することになる。これにより高さが同一の微小突起のみによる場合に比して格段的に滑りを良くすることができ、製造工程等における微小突起群４Ｇの取り扱いを容易とすることができる。なおこのように滑りを良くする観点から、ばらつきは、標準偏差により規定した場合に、１０ｎｍ以上必要であるものの、５０ｎｍより大きくなると、このばらつきによる表面のざらつき感が感じられるようになる。従ってこの高さのばらつきは、１０ｎｍ以上、５０ｎｍ以下であることが好ましい。
高低微小突起群４ＧＨＬの個数の、全微小突起４の個数に対する比率は、好ましくは１０％以上、より好ましくは３０％以上、さらに好ましくは５０％以上である。前記比率が前記値未満であると、耐擦傷性向上の効果が充分に発揮されないことがあるからである。
尚、高低微小突起群４ＧＨＬの比率が高くなり過ぎると、高高度微小突起４Ｈの比率が高くなり過ぎ、少数の高高度微小突起４Ｈが犠牲的に外力による損傷、磨耗を引き受けて、低高度微小突起４Ｌを保護すると言う作用効果を奏さなくなってくる。この為、全微小突起４に対する高低微小突起群４ＧＨＬの比率は、好ましくは９０％以下、より好ましくは８０％以下、更に好ましくは７０％以下とする。
又、微小突起群４Ｇ全体の中に於ける高低微小突起群４ＧＨＬの分布は、微小突起群４Ｇが形成される面内の全面に亙ってランダム且つ分布密度（単位面積当たりの高低微小突起群４ＧＨＬの個数）が均一に分布することが好ましい。これは、特定領域に高低微小突起群４ＧＨＬの分布密度が高く偏在すると、高低微小突起群４ＧＨＬにて犠牲的に外力による損傷を負担することによる耐擦傷性向上効果が十分に奏せられなくなる為である。
尚、高低微小突起群４ＧＨＬの比率が高くなり過ぎると、高高度微小突起４Ｈの比率が高くなり過ぎ、少数の高高度微小突起４Ｈが犠牲的に外力による損傷、磨耗を引き受けて、低高度微小突起４Ｌを保護すると言う作用効果を奏さなくなってくる。この為、全微小突起４に対する高低微小突起群４ＧＨＬの比率は、好ましくは９０％以下、より好ましくは８０％以下、更に好ましくは７０％以下とする。
又、微小突起群４Ｇ全体の中に於ける高低微小突起群４ＧＨＬの分布は、微小突起群４Ｇが形成される面内の全面に亙ってランダム且つ分布密度（単位面積当たりの高低微小突起群４ＧＨＬの個数）が均一に分布することが好ましい。これは、特定領域に高低微小突起群４ＧＨＬの分布密度が高く偏在すると、高低微小突起群４ＧＨＬにて犠牲的に外力による損傷を負担することによる耐擦傷性向上効果が十分に奏せられなくなる為である。
〔多峰性微小突起４Ｍ〕
多峰性微小突起４Ｍとは、図７及び図８で例示するように、１つの微小突起４が頂部に溝４ｇを１以上有する結果、頂部に複数の頂点を有することになった微小突起４を意味する。頂点を峰と表現すれば、複数の頂点を有することは複数の峰を有することであり、このような微小突起４を多峰性微小突起４Ｍと呼ぶことにする。多峰性微小突起４Ｍとは、逆に言えば、１つの微小突起４が頂部に頂点（極大点）を２以上有する結果、頂部に溝４ｇを１以上有することになった微小突起４を意味する。溝４ｇは、１つの頂部において、頂点同士の間の凹陥部とも言える。
本実施形態に於いては、図７及び図８に示す如く、多峰性微小突起４Ｍは、各頂点に係る峰が突起の中央を囲繞するように配置されて、各峰の境界をなす溝４ｇによって区劃され、各峰（頂点）が中央より放射状に配置された形状となっている。こうした峰の配置形態が耐擦傷性発現効果を奏する上で好ましい。
多峰性微小突起４Ｍとは、図７及び図８で例示するように、１つの微小突起４が頂部に溝４ｇを１以上有する結果、頂部に複数の頂点を有することになった微小突起４を意味する。頂点を峰と表現すれば、複数の頂点を有することは複数の峰を有することであり、このような微小突起４を多峰性微小突起４Ｍと呼ぶことにする。多峰性微小突起４Ｍとは、逆に言えば、１つの微小突起４が頂部に頂点（極大点）を２以上有する結果、頂部に溝４ｇを１以上有することになった微小突起４を意味する。溝４ｇは、１つの頂部において、頂点同士の間の凹陥部とも言える。
本実施形態に於いては、図７及び図８に示す如く、多峰性微小突起４Ｍは、各頂点に係る峰が突起の中央を囲繞するように配置されて、各峰の境界をなす溝４ｇによって区劃され、各峰（頂点）が中央より放射状に配置された形状となっている。こうした峰の配置形態が耐擦傷性発現効果を奏する上で好ましい。
図７は、多峰性微小突起４Ｍを模式的に示す図である。図７（ａ）は斜視図、図７（ｂ）は平面図である。Ｚ軸方向が微小突起４の高さ方向である。図８の写真は、多峰性微小突起４Ｍを示す拡大写真である。図８（ａ）及び図８（ｃ）は走査型電子顕微鏡による拡大写真であり、図８（ｂ）は原子間力顕微鏡による拡大写真である。図８（ａ）は頂部の溝４ｇにより頂点を２つ有する２峰性微小突起４Ｍを示し、図８（ｂ）は頂部の溝４ｇにより頂点を３つ有する３峰性微小突起４Ｍを示し、図８（ｃ）は頂部の溝４ｇにより頂点を４つ有する４峰性微小突起４Ｍを示す。
多峰性とは、或る一つの微小突起４において、それを１つの山と見なしたときに、頂部に複数の頂上、つまり高さで言う複数の頂点乃至は極大点を有することを意味する。一つの山は１つの裾（麓部）を有する。したがって、多峰性微小突起４Ｍは、その頂部に存在する複数の極大点（頂上）が、一つの裾を共有している微小突起４であると言える。複数の極大点（頂上）の間には、溝４ｇを有する。
このように、微小突起群４Ｇは、そのなかに、多峰性微小突起４Ｍを含んでなることが好ましい。多峰性微小突起４Ｍによって、耐擦傷性向上効果が期待できるからである。
このように、微小突起群４Ｇは、そのなかに、多峰性微小突起４Ｍを含んでなることが好ましい。多峰性微小突起４Ｍによって、耐擦傷性向上効果が期待できるからである。
一方、単峰性微小突起のみからなり、各頂点の高さも一様に作製されている場合には、例えば他の物体が接触した場合には、広い範囲で微小突起４の形状が一様に損なわれ、これにより反射防止機能が局所的に劣化し、また接触個所に白濁、傷等が発生して外観不良が発生し易い。
多峰性微小突起４Ｍは、後述する微小突起４を形成する為の成形型の作製工程にて、
（Ｂ）陽極酸化処理工程で極めて近接して作製された微細な穴が、次の（Ｃ）エッチング処理工程によって、一体化して形成されると考えられる。このため、多峰性微小突起４Ｍと単峰性微小突起４Ｓとを混在させるには、（Ｂ）陽極酸化処理工程で作製される微細な穴同士の間隔のばらつきを、大きくするか、或いは複数回の陽極酸化工程を行うのに際して各回の印加電圧を互いに異なる突起間距離を与える電圧とすることで実現することができる。
（Ｂ）陽極酸化処理工程で極めて近接して作製された微細な穴が、次の（Ｃ）エッチング処理工程によって、一体化して形成されると考えられる。このため、多峰性微小突起４Ｍと単峰性微小突起４Ｓとを混在させるには、（Ｂ）陽極酸化処理工程で作製される微細な穴同士の間隔のばらつきを、大きくするか、或いは複数回の陽極酸化工程を行うのに際して各回の印加電圧を互いに異なる突起間距離を与える電圧とすることで実現することができる。
図２に示すような微小突起４は、（Ｂ）陽極酸化処理工程の条件を、濃度０．０２Ｍのシュウ酸水溶液、液温２０℃、印加電圧４０Ｖ、処理時間１２０ｓとして、（Ｃ）エッチング処理工程の条件を、濃度１．０Ｍのリン酸水溶液、液温２０℃として、上記（Ｂ）工程と上記（Ｃ）工程を交互に２回繰り返して得ることができる。
多峰性微小突起４Ｍは、単峰性微小突起４Ｓに比べて、頂部での寸法（最大突起間距離Ｄｍａｘ、即ち反射防止性能に対応）に対する裾部の太さ（微小突起４の機械的強度に対応する）が相対的に太くなっている。このため、多峰性微小突起４Ｍは、単峰性微小突起４Ｓに比べて、同じ反射防止性能を発現しながら、しかも、より優れた機械的強度を有すると言える。この結果、多峰性微小突起４Ｍによって、模様状反射防止領域２Ａに擦り傷が生じにくくできると考えられる。
また、多峰性微小突起４Ｍによって、模様状反射防止領域２Ａに外力が加わったときに、頂部に存在する複数の頂点のうち、そのなかで最高峰の頂点が、先に外力を受け止めて、犠牲的に損傷することにより、最高峰よりも高さの低い頂点の損傷を防ぐことができる。その結果、模様状反射防止領域２Ａの局所的な反射防止性能の劣化を緩和し、ひいては、模様状反射防止領域２Ａによる表示が損なわれることを軽減できる耐擦傷性向上効果が得られる。しかも、十分な反射防止性能を発現し得る。
また、多峰性微小突起４Ｍによって、模様状反射防止領域２Ａに外力が加わったときに、頂部に存在する複数の頂点のうち、そのなかで最高峰の頂点が、先に外力を受け止めて、犠牲的に損傷することにより、最高峰よりも高さの低い頂点の損傷を防ぐことができる。その結果、模様状反射防止領域２Ａの局所的な反射防止性能の劣化を緩和し、ひいては、模様状反射防止領域２Ａによる表示が損なわれることを軽減できる耐擦傷性向上効果が得られる。しかも、十分な反射防止性能を発現し得る。
多峰性微小突起４Ｍの個数の、全微小突起４の個数に対する比率は、好ましくは１０％以上、より好ましくは３０％以上、さらに好ましくは５０％以上である。前記比率が前記値未満であると、耐擦傷性向上効果が充分に発揮されないことがあるからである。
又、多峰性微小突起の比率を増やすに伴い製造工程の管理の難度が増す為、当該比率は好ましくは９０％以下、より好ましくは８０％以下とする。
又、多峰性微小突起の比率を増やすに伴い製造工程の管理の難度が増す為、当該比率は好ましくは９０％以下、より好ましくは８０％以下とする。
ここで、模様状反射防止領域２Ａに形成される多峰性の微小突起４は、上述の可視光域に係る入射光に対する反射防止機能及び微小突起の耐擦傷性を向上させるために、以下の条件を満たすようにして形成される必要がある。
図２０は、模様状反射防止領域２Ａに形成される微小突起４の高さＨの度数分布の例を示す図である。図２０に示すように、微小突起４の高さＨの度数分布における高さの平均値をｍとし、標準偏差をσとし、Ｈ＜ｍ−σの領域を微小突起の低高度領域とし、ｍ−σ≦Ｈ≦ｍ＋σの領域を中高度領域とし、ｍ＋σ＜Ｈの領域を高高度領域とした場合に、各領域内の多峰性微小突起４Ｍの数Ｎｍと、度数分布全体における微小突起４の総数Ｎｔとの比率が、以下の（ａ）、（ｂ）の関係を満たす必要がある。
（ａ）中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＞低高度領域のＮｍ／Ｎｔ
（ｂ）中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＞高高度領域のＮｍ／Ｎｔ
図２０は、模様状反射防止領域２Ａに形成される微小突起４の高さＨの度数分布の例を示す図である。図２０に示すように、微小突起４の高さＨの度数分布における高さの平均値をｍとし、標準偏差をσとし、Ｈ＜ｍ−σの領域を微小突起の低高度領域とし、ｍ−σ≦Ｈ≦ｍ＋σの領域を中高度領域とし、ｍ＋σ＜Ｈの領域を高高度領域とした場合に、各領域内の多峰性微小突起４Ｍの数Ｎｍと、度数分布全体における微小突起４の総数Ｎｔとの比率が、以下の（ａ）、（ｂ）の関係を満たす必要がある。
（ａ）中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＞低高度領域のＮｍ／Ｎｔ
（ｂ）中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＞高高度領域のＮｍ／Ｎｔ
〔微小突起４の形成方法〕
本発明においては、微小突起４の形成方法は、特に限定されない。本実施形態においては、アルミニウムの陽極酸化処理及びエッチング処理の交互の繰り返しにより成形型（賦型用金型）を作成し、この成形型（賦型用金型）で紫外線硬化性樹脂と２Ｐ（Ｐｈｏｔｏ Ｐｏｌｉｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）法を用いて、樹脂層（微小突起形成層５Ａ）の表面に微小突起４を形成した。
本発明においては、微小突起４の形成方法は、特に限定されない。本実施形態においては、アルミニウムの陽極酸化処理及びエッチング処理の交互の繰り返しにより成形型（賦型用金型）を作成し、この成形型（賦型用金型）で紫外線硬化性樹脂と２Ｐ（Ｐｈｏｔｏ Ｐｏｌｉｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）法を用いて、樹脂層（微小突起形成層５Ａ）の表面に微小突起４を形成した。
高低微小突起群４ＧＨＬ及び多峰性微小突起４Ｍの形成は、ともに、陽極酸化処理及びエッチング処理の、各条件と繰り返し数を調整することで制御することができる。
［成形型の陽極酸化処理及びエッチング処理による作製方法］
ここで、本発明において採用し得る成形型の作製方法について説明する。この成形型を用いて、２Ｐ法、熱プレス法などの公知の成形法によって、微小突起４の集合体である微小突起群４Ｇを表面に有する反射防止性微凹凸３を形成することができる。
ここで、本発明において採用し得る成形型の作製方法について説明する。この成形型を用いて、２Ｐ法、熱プレス法などの公知の成形法によって、微小突起４の集合体である微小突起群４Ｇを表面に有する反射防止性微凹凸３を形成することができる。
〔陽極酸化処理、エッチング処理〕
図１５は、成形型の製造工程を示す図である。この製造工程は、電解溶出作用と、砥粒による擦過作用の複合による電解複合研磨法によって型原型の周側面を超鏡面化する（電解研磨）。続いての工程では、型原型の周側面にアルミニウムをスパッタリングし、純度の高いアルミニウム層を作製する（アルミニウム層形成工程）。型原型は、平板状、円筒状、円柱状などである。アルミニウムの純度は９９％以上、通常は、９９．９％以上とする。続いての工程では、陽極酸化処理を行う工程、即ち、陽極酸化工程Ａ１、…、ＡＮ、エッチング処理を行う工程、即ち、エッチング工程Ｅ１、…、ＥＮを交互に繰り返して母材を処理し、成形型を作製する。尚、陽極酸化工程及びエッチング工程の工程数Ｎ（２以上の整数）は通常２〜７とする。
図１５は、成形型の製造工程を示す図である。この製造工程は、電解溶出作用と、砥粒による擦過作用の複合による電解複合研磨法によって型原型の周側面を超鏡面化する（電解研磨）。続いての工程では、型原型の周側面にアルミニウムをスパッタリングし、純度の高いアルミニウム層を作製する（アルミニウム層形成工程）。型原型は、平板状、円筒状、円柱状などである。アルミニウムの純度は９９％以上、通常は、９９．９％以上とする。続いての工程では、陽極酸化処理を行う工程、即ち、陽極酸化工程Ａ１、…、ＡＮ、エッチング処理を行う工程、即ち、エッチング工程Ｅ１、…、ＥＮを交互に繰り返して母材を処理し、成形型を作製する。尚、陽極酸化工程及びエッチング工程の工程数Ｎ（２以上の整数）は通常２〜７とする。
この製造工程において、陽極酸化工程Ａ１、…、ＡＮでは、陽極酸化法により型原型の周側面に微細な穴を作製し、さらにこの作製した微細な穴を掘り進める。ここで陽極酸化工程では、例えば負極に炭素棒、ステンレス板材等を使用する場合のように、アルミニウムの陽極酸化に適用される各種の手法を広く適用することができる。また溶解液についても、中性、酸性の各種溶解液を使用することができ、より具体的には、例えば硫酸水溶液、シュウ酸水溶液、リン酸水溶液等を使用することができる。この製造工程Ａ１、…、ＡＮは、液温、浴濃度、印加する電圧、陽極酸化に供する時間等の管理により、微細な穴をそれぞれ目的とする深さ及び微小突起形状に対応する形状に作製する。
続くエッチング工程Ｅ１、…、ＥＮは、金型をエッチング液に浸漬し、直前の陽極酸化工程Ａ１、…、ＡＮにより作製、掘り進めた微細な穴の穴径をエッチングにより拡大すると共に、深さ方向に向かって滑らか、かつ徐々に穴径が小さくなるように、これら微細な穴を整形する。なおエッチング液については、この種の処理に適用される各種エッチング液を広く適用することができ、より具体的には、例えば硫酸水溶液、シュウ酸水溶液、リン酸水溶液等を使用することができる。陽極酸化処理に用いる溶解液と同じ液を、電圧印加無しで用いることにより、溶解液をエッチング液としても兼用することが出来る。これらによりこの製造工程では、陽極酸化処理とエッチング処理とを交互にそれぞれ複数回実行することにより、賦型に供する微細な穴を母材の周側面に作製する。
微小突起４の形状は、型原型の準備工程での型表面のアルミニウムの純度（不純物量）及び結晶粒径、並びに陽極酸化処理工程Ａ１、…、ＡＮ及びエッチング処理工程Ｅ１、…、ＥＮでの諸条件を、調整することによって制御することができる。
〔微小突起を形成する微細な穴の形成過程〕
（高低微小突起群４ＧＨＬ及び多峰性微小突起４Ｍの生成）
次に、高低微小突起群４ＧＨＬ及び多峰性微小突起４Ｍを形成し、また、微小突起の高さの分布が制御された微細な穴が形成される方法について説明する。上述したように、賦型用金型（成形型）に形成される微細な穴は、陽極酸化処理及びエッチング処理の交互の繰り返しによって形成されるが、この繰り返しの陽極酸化処理における印加電圧を可変することによって、微細な穴の深さ（微小突起の高さ分布）を制御することができる。ここで、陽極酸化処理における印加電圧と、形成される微細な穴の間隔（ピッチ）とは、比例する関係にあるため、陽極酸化処理、エッチング処理の繰り返しにおいて、各工程Ａ１、・・・、ＡＮ毎に陽極酸化処理の印加電圧を可変すれば、深さ方向に掘り進める時間が相違する微細な穴を混在させてその比率を制御することができる。或いは、直流電圧に交流電圧を加えた変動電圧とする。例えば、印加電圧は１５〜３５Ｖの間の電圧として各工程の陽極酸化処理をすることもできる。
（高低微小突起群４ＧＨＬ及び多峰性微小突起４Ｍの生成）
次に、高低微小突起群４ＧＨＬ及び多峰性微小突起４Ｍを形成し、また、微小突起の高さの分布が制御された微細な穴が形成される方法について説明する。上述したように、賦型用金型（成形型）に形成される微細な穴は、陽極酸化処理及びエッチング処理の交互の繰り返しによって形成されるが、この繰り返しの陽極酸化処理における印加電圧を可変することによって、微細な穴の深さ（微小突起の高さ分布）を制御することができる。ここで、陽極酸化処理における印加電圧と、形成される微細な穴の間隔（ピッチ）とは、比例する関係にあるため、陽極酸化処理、エッチング処理の繰り返しにおいて、各工程Ａ１、・・・、ＡＮ毎に陽極酸化処理の印加電圧を可変すれば、深さ方向に掘り進める時間が相違する微細な穴を混在させてその比率を制御することができる。或いは、直流電圧に交流電圧を加えた変動電圧とする。例えば、印加電圧は１５〜３５Ｖの間の電圧として各工程の陽極酸化処理をすることもできる。
また、このように陽極酸化処理における印加電圧を可変する場合にあっては、太さの太い微細な穴の底面に、複数の微細な穴を作成して高低微小突起群４ＧＨＬ及び多峰性微小突起４Ｍに係る微細な穴とすることができる。この太さの太い微細な穴の高さの制御等により、高低微小突起群４ＧＨＬ及び多峰性微小突起４Ｍについても、高さ分布を制御することができる。
図１６は、このような高さの分布の制御の説明に供する模式図であり、賦型用金型の製造工程における陽極酸化工程とエッチング工程とにより作製される微細な穴を示す図である。
上述したように、陽極酸化処理における印加電圧と、微細な穴のピッチとの関係は比例関係であるが、実際上、処理に供するアルミニウムの粒界等により微細な穴のピッチにはばらつきが生じる。しかし、図１６においては、このばらつきが存在しないものとして、微細な穴が規則正しい配列により作製されるものとして説明する。なお、図１６（ａ）〜図１６（ｅ）において、左側の図は、成形型の表面の拡大図を示し、右側の図は、左側の図におけるａ−ａ断面図を示す。
上述したように、陽極酸化処理における印加電圧と、微細な穴のピッチとの関係は比例関係であるが、実際上、処理に供するアルミニウムの粒界等により微細な穴のピッチにはばらつきが生じる。しかし、図１６においては、このばらつきが存在しないものとして、微細な穴が規則正しい配列により作製されるものとして説明する。なお、図１６（ａ）〜図１６（ｅ）において、左側の図は、成形型の表面の拡大図を示し、右側の図は、左側の図におけるａ−ａ断面図を示す。
（第１の工程）
図１６（ａ）に示すように、まず、賦型用金型の表面のアルミニウム層に、電圧Ｖ１を印加して陽極酸化工程Ａ１を実行した後に、エッチング工程Ｅ１を実行し、微細な穴ｆ１を形成する。ここで、陽極酸化工程Ａ１は、アルミニウムのフラット面に後続する陽極酸化処理のきっかけを作製するものである。なお、この場合、エッチング工程を適宜省略してもよい。
図１６（ａ）に示すように、まず、賦型用金型の表面のアルミニウム層に、電圧Ｖ１を印加して陽極酸化工程Ａ１を実行した後に、エッチング工程Ｅ１を実行し、微細な穴ｆ１を形成する。ここで、陽極酸化工程Ａ１は、アルミニウムのフラット面に後続する陽極酸化処理のきっかけを作製するものである。なお、この場合、エッチング工程を適宜省略してもよい。
（第２の工程）
次に、電圧Ｖ１よりも高い電圧Ｖ２（Ｖ２＞Ｖ１）を印加して陽極酸化工程Ａ２を実行した後に、エッチング工程Ｅ２を実行する。これにより、陽極酸化工程Ａ２では、図１６（ｂ）に示すように、先の陽極酸化工程Ａ１により形成された微細な穴ｆ１のうち、陽極酸化工程Ａ２に対応する間隔の微細な穴ｆ１を更に掘り下げる。
本実施形態では、印加電圧Ｖ２をＶ２＝３×Ｖ１に設定して、陽極酸化工程Ａ２によって、先の陽極酸化工程Ａ１で形成された微細な穴ｆ１を二つ置きに掘り進める処理が行われる。従って、賦型用金型の表面には、二つ置きに広くかつ深く掘り下げられた微細な穴ｆ２が形成され、成形型の表面には、微細な穴ｆ１と微細な穴２とが混在する状態となる。
次に、電圧Ｖ１よりも高い電圧Ｖ２（Ｖ２＞Ｖ１）を印加して陽極酸化工程Ａ２を実行した後に、エッチング工程Ｅ２を実行する。これにより、陽極酸化工程Ａ２では、図１６（ｂ）に示すように、先の陽極酸化工程Ａ１により形成された微細な穴ｆ１のうち、陽極酸化工程Ａ２に対応する間隔の微細な穴ｆ１を更に掘り下げる。
本実施形態では、印加電圧Ｖ２をＶ２＝３×Ｖ１に設定して、陽極酸化工程Ａ２によって、先の陽極酸化工程Ａ１で形成された微細な穴ｆ１を二つ置きに掘り進める処理が行われる。従って、賦型用金型の表面には、二つ置きに広くかつ深く掘り下げられた微細な穴ｆ２が形成され、成形型の表面には、微細な穴ｆ１と微細な穴２とが混在する状態となる。
（第３の工程）
続いて、電圧Ｖ２よりも高い電圧Ｖ３（Ｖ３＞Ｖ２）を印加して陽極酸化工程Ａ３を実行した後に、エッチング工程Ｅ３を実行する。この工程では、ピッチの異なる微細な穴を作製する。具体的には、印加する電圧を、電圧Ｖ２から電圧Ｖ３へ徐々に上昇させ、この印加電圧の上昇を離散的（段階的）に実行すると、微小突起の高さ分布（微細な穴の深さ分布）を離散的に作製することができ、この印加電圧の上昇を連続的に実行すると、微小突起の高さ分布を正規分布に設定することができる。そのため、本実施形態では、印加電圧Ｖ３をＶ３＝４×Ｖ１に設定して、陽極酸化工程Ａ３における印加電圧の印加時間、エッチング工程の処理時間を上述の第１の工程、第２の工程よりも長く設定することにより、図１６（ｃ）に示すように、最初の陽極酸化工程Ａ１において形成された微細な穴ｆ１が二つ、一つに纏まるように広くかつ深く掘り進められ、また、その一つに纏められた微細な穴ｆ３の底面が略平坦に形成される（平坦微細な穴形成工程）。ここで、略平坦とは、微細な穴の底面が平坦な状態だけでなく、その底面が大きい曲率半径で湾曲している状態をも含む状態をいう。
続いて、電圧Ｖ２よりも高い電圧Ｖ３（Ｖ３＞Ｖ２）を印加して陽極酸化工程Ａ３を実行した後に、エッチング工程Ｅ３を実行する。この工程では、ピッチの異なる微細な穴を作製する。具体的には、印加する電圧を、電圧Ｖ２から電圧Ｖ３へ徐々に上昇させ、この印加電圧の上昇を離散的（段階的）に実行すると、微小突起の高さ分布（微細な穴の深さ分布）を離散的に作製することができ、この印加電圧の上昇を連続的に実行すると、微小突起の高さ分布を正規分布に設定することができる。そのため、本実施形態では、印加電圧Ｖ３をＶ３＝４×Ｖ１に設定して、陽極酸化工程Ａ３における印加電圧の印加時間、エッチング工程の処理時間を上述の第１の工程、第２の工程よりも長く設定することにより、図１６（ｃ）に示すように、最初の陽極酸化工程Ａ１において形成された微細な穴ｆ１が二つ、一つに纏まるように広くかつ深く掘り進められ、また、その一つに纏められた微細な穴ｆ３の底面が略平坦に形成される（平坦微細な穴形成工程）。ここで、略平坦とは、微細な穴の底面が平坦な状態だけでなく、その底面が大きい曲率半径で湾曲している状態をも含む状態をいう。
（第４の工程）
続いて、電圧Ｖ３よりも高い電圧Ｖ４（Ｖ４＞Ｖ３）を印加して陽極酸化工程Ａ４を実行した後に、エッチング工程Ｅ４を実行する。この工程では、目的とする突起間間隔によるピッチにより微細な穴を作成する。この陽極酸化工程Ａ４においても、印加電圧は、電圧Ｖ３から電圧Ｖ４へ徐々に上昇させる。本実施形態では、印加電圧Ｖ４をＶ４＝８×Ｖ１に設定して、これにより、上記第３の工程により掘り進められた微細な穴ｆ３の一部が更に掘り進められ、その結果、図１６（ｄ）に示すように、微細な穴ｆ４となり、この微細な穴ｆ４が高さの高い単峰性微小突起４Ｓを形成する。
続いて、電圧Ｖ３よりも高い電圧Ｖ４（Ｖ４＞Ｖ３）を印加して陽極酸化工程Ａ４を実行した後に、エッチング工程Ｅ４を実行する。この工程では、目的とする突起間間隔によるピッチにより微細な穴を作成する。この陽極酸化工程Ａ４においても、印加電圧は、電圧Ｖ３から電圧Ｖ４へ徐々に上昇させる。本実施形態では、印加電圧Ｖ４をＶ４＝８×Ｖ１に設定して、これにより、上記第３の工程により掘り進められた微細な穴ｆ３の一部が更に掘り進められ、その結果、図１６（ｄ）に示すように、微細な穴ｆ４となり、この微細な穴ｆ４が高さの高い単峰性微小突起４Ｓを形成する。
（第５の工程）
続いて、印加電圧を上記第１の工程における電圧Ｖ１に変更して陽極酸化工程Ａ５を実行した後に、エッチング工程Ｅ５を実行する。この工程では、微細な穴ｆ１、ｆ２、及びｆ３については、其の底部の深さが更に一律に深くなるだけで穴形状の峰数は不変で有るが、陽極酸化工程Ａ３において形成された微細な穴ｆ３であって、第４の工程の陽極酸化工程Ａ４の影響を受けていない微細な穴ｆ３の底面には、図１６（ｅ）に示すように、微細な穴を複数個形成し、多峰性の微小突起に対応する微細な穴ｆ５を形成する（多峰突起用微細な穴形成工程）。ここで、印加する電圧Ｖ１の大きさを調整することによって、微細な穴ｆ５の底面に形成される微細な穴の数を増減したり、その微細な穴の間隔を調整したりすることができる。
続いて、印加電圧を上記第１の工程における電圧Ｖ１に変更して陽極酸化工程Ａ５を実行した後に、エッチング工程Ｅ５を実行する。この工程では、微細な穴ｆ１、ｆ２、及びｆ３については、其の底部の深さが更に一律に深くなるだけで穴形状の峰数は不変で有るが、陽極酸化工程Ａ３において形成された微細な穴ｆ３であって、第４の工程の陽極酸化工程Ａ４の影響を受けていない微細な穴ｆ３の底面には、図１６（ｅ）に示すように、微細な穴を複数個形成し、多峰性の微小突起に対応する微細な穴ｆ５を形成する（多峰突起用微細な穴形成工程）。ここで、印加する電圧Ｖ１の大きさを調整することによって、微細な穴ｆ５の底面に形成される微細な穴の数を増減したり、その微細な穴の間隔を調整したりすることができる。
以上より、賦型用金型の表面には、高さの異なる微小突起を形成する微細な穴ｆ１、ｆ２、ｆ４や、多峰性微小突起４Ｍを形成する微細な穴ｆ５が形成される。
ここで、この一連の工程では、第１の工程及び第２の工程により作製された深さの異なる微細な穴ｆ１、ｆ２を、第３の工程で掘り進めて底面の略平坦な微細な穴ｆ３を作製し、第４の工程において、この微細な穴ｆ３を掘り進めて単峰性の微小突起に係る微細な穴ｆ４を作製し、また、第５の工程において、この微細な穴ｆ３の底面を加工して多峰性微小突起４Ｍに係る微細な穴ｆ５を作製している。ここで、第１の工程から第４の工程に係る陽極酸化工程の印加時間、処理時間、エッチング工程の処理時間等を制御して、各工程で作製される微細な穴の深さを制御することにより、微小突起の高さの分布や、多峰性微小突起４Ｍの高さの分布を制御することができる。なお、上述の第１の工程〜第５の工程は、必要に応じて回数を省略したり、繰り返したり、工程を一体化したりすることができる。
ここで、この一連の工程では、第１の工程及び第２の工程により作製された深さの異なる微細な穴ｆ１、ｆ２を、第３の工程で掘り進めて底面の略平坦な微細な穴ｆ３を作製し、第４の工程において、この微細な穴ｆ３を掘り進めて単峰性の微小突起に係る微細な穴ｆ４を作製し、また、第５の工程において、この微細な穴ｆ３の底面を加工して多峰性微小突起４Ｍに係る微細な穴ｆ５を作製している。ここで、第１の工程から第４の工程に係る陽極酸化工程の印加時間、処理時間、エッチング工程の処理時間等を制御して、各工程で作製される微細な穴の深さを制御することにより、微小突起の高さの分布や、多峰性微小突起４Ｍの高さの分布を制御することができる。なお、上述の第１の工程〜第５の工程は、必要に応じて回数を省略したり、繰り返したり、工程を一体化したりすることができる。
又、図２１には、微小突起の高さ分布の制御により高低微小突起群４ＧＨＬが形成される過程を示す模式図である。
（第１の工程）
図２１（ａ）に示すように、先ず、賦型用金型の表面のアルミニウム層に、電圧Ｖ１を印加して陽極酸化工程Ａ１を実行した後に、エッチング工程Ｅ１を実行し、微細な穴ｆ１を形成する。ここで、陽極酸化工程Ａ１は、アルミニウムのフラット面に後続する陽極酸化処理のきっかけを作製するものである。なお、この場合、エッチング工程を適宜省略してもよい。此処までは図１６の工程と同樣である。
図２１（ａ）に示すように、先ず、賦型用金型の表面のアルミニウム層に、電圧Ｖ１を印加して陽極酸化工程Ａ１を実行した後に、エッチング工程Ｅ１を実行し、微細な穴ｆ１を形成する。ここで、陽極酸化工程Ａ１は、アルミニウムのフラット面に後続する陽極酸化処理のきっかけを作製するものである。なお、この場合、エッチング工程を適宜省略してもよい。此処までは図１６の工程と同樣である。
（第２の工程）
次に、電圧Ｖ１よりも高い電圧Ｖ２（Ｖ２＞Ｖ１）を印加して陽極酸化工程Ａ２を実行した後に、エッチング工程Ｅ２を実行する。これにより、陽極酸化工程Ａ２では、図２１（ｂ）に示すように、先の陽極酸化工程Ａ１により形成された微細な穴ｆ１のうち、陽極酸化工程Ａ２に対応する間隔の微細な穴ｆ１を更に掘り下げる。
本実施形態では、印加電圧Ｖ２をＶ２＝２×Ｖ１に設定して、陽極酸化工程Ａ２によって、先の陽極酸化工程Ａ１で形成された微細な穴ｆ１を一つ置きに掘り進める処理が行われる。従って、賦型用金型の表面には、一つ置きに広くかつ深く掘り下げられた微細な穴ｆ２が形成され、成形型の表面には、微細な穴ｆ１と微細な穴２とが混在する状態となる。
次に、電圧Ｖ１よりも高い電圧Ｖ２（Ｖ２＞Ｖ１）を印加して陽極酸化工程Ａ２を実行した後に、エッチング工程Ｅ２を実行する。これにより、陽極酸化工程Ａ２では、図２１（ｂ）に示すように、先の陽極酸化工程Ａ１により形成された微細な穴ｆ１のうち、陽極酸化工程Ａ２に対応する間隔の微細な穴ｆ１を更に掘り下げる。
本実施形態では、印加電圧Ｖ２をＶ２＝２×Ｖ１に設定して、陽極酸化工程Ａ２によって、先の陽極酸化工程Ａ１で形成された微細な穴ｆ１を一つ置きに掘り進める処理が行われる。従って、賦型用金型の表面には、一つ置きに広くかつ深く掘り下げられた微細な穴ｆ２が形成され、成形型の表面には、微細な穴ｆ１と微細な穴２とが混在する状態となる。
（第３の工程）
続いて、電圧Ｖ１と電圧Ｖ２の間の電圧Ｖ３（Ｖ２＞Ｖ３＞Ｖ１）を印加して陽極酸化工程Ａ３を実行した後に、エッチング工程Ｅ３を実行する。この工程では、ピッチの異なる微細な穴を作製する。具体的には、印加する電圧を、電圧Ｖ３として、縦横に面内に配列した微細な穴ｆ２の間に存在する図示の如くの特定の微細な穴ｆ１を一つ置きに広く且つ深く掘り下げる。そのため、本実施形態では、印加電圧Ｖ３をＶ３＝（Ｖ１）1/2に設定して、陽極酸化工程Ａ３における印加電圧の印加時間、エッチング工程の処理時間を上述の第１の工程よりも長く設定することにより、図２１（ｃ）に示すように、最初の陽極酸化工程Ａ１において形成された微細な穴ｆ１のうち、４個の微細な穴ｆ２で囲まれる最小の四角形の中心に位置する微細な穴ｆ１が選択的に深く掘り下げられる。且つ同時に、第２の陽極酸化工程Ａ２形成された微細な穴ｆ２のうちで図２１（ｃ）で図示される位置関係に有る一部のものが更に掘り下げられ、微細な穴ｆ３となる。
続いて、電圧Ｖ１と電圧Ｖ２の間の電圧Ｖ３（Ｖ２＞Ｖ３＞Ｖ１）を印加して陽極酸化工程Ａ３を実行した後に、エッチング工程Ｅ３を実行する。この工程では、ピッチの異なる微細な穴を作製する。具体的には、印加する電圧を、電圧Ｖ３として、縦横に面内に配列した微細な穴ｆ２の間に存在する図示の如くの特定の微細な穴ｆ１を一つ置きに広く且つ深く掘り下げる。そのため、本実施形態では、印加電圧Ｖ３をＶ３＝（Ｖ１）1/2に設定して、陽極酸化工程Ａ３における印加電圧の印加時間、エッチング工程の処理時間を上述の第１の工程よりも長く設定することにより、図２１（ｃ）に示すように、最初の陽極酸化工程Ａ１において形成された微細な穴ｆ１のうち、４個の微細な穴ｆ２で囲まれる最小の四角形の中心に位置する微細な穴ｆ１が選択的に深く掘り下げられる。且つ同時に、第２の陽極酸化工程Ａ２形成された微細な穴ｆ２のうちで図２１（ｃ）で図示される位置関係に有る一部のものが更に掘り下げられ、微細な穴ｆ３となる。
其の結果、図２１（ｃ）に図示する如く、微細な穴ｆ１（これが低高度微小突起４Ｌに対応する穴となる）の周囲をｆ１よりも深い微細な穴ｆ２及びｆ３（これが高高度微小突起４ＨＬに対応する穴となる）によって周囲を包囲された穴群が面内に配列した表面構造を有する成成形型が得られる。該微細な穴ｆ１、ｆ２、及びｆ３からなる穴群が高低微小突起群４ＧＨＬに対応する（これを賦形する）微細な穴となる。
《微小突起付与層５》
微小突起付与層５は、透明基板１に対して、微小突起４を付与する層である。具体的には、図１（ｄ）に示す如く微小突起付与層５は、複数の微小突起４の集合体である微小突起群４Ｇを有する反射防止性微凹凸３によって、模様状反射防止領域２Ａを、透明基板１に付与する層である。
微小突起付与層５は、無色透明であることが好ましい。有色、不透明のいずれの場合でも、従来の着色模様層６と同様に観察条件によらずに同じ模様の表示が視認されてしまうからである。
微小突起付与層５は、透明基板１に対して、微小突起４を付与する層である。具体的には、図１（ｄ）に示す如く微小突起付与層５は、複数の微小突起４の集合体である微小突起群４Ｇを有する反射防止性微凹凸３によって、模様状反射防止領域２Ａを、透明基板１に付与する層である。
微小突起付与層５は、無色透明であることが好ましい。有色、不透明のいずれの場合でも、従来の着色模様層６と同様に観察条件によらずに同じ模様の表示が視認されてしまうからである。
本実施形態においては、図１に示す如く微小突起付与層５は、微小突起形成層５Ａと、この微小突起形成層５Ａを形成時に基材として用いた形成用基材層５Ｂと、この形成用基材層５Ｂでもって微小突起付与層５を透明基板１の一方の面１ａに接合する接合層５Ｃと、から構成されている。
本発明においては、微小突起４を透明基板１自体の表面に形成する場合は、微小突起付与層５は省略することができる。例えば、透明基板１として樹脂製の樹脂ガラスの作製時に、樹脂が熔融状態において成形型により賦形して、樹脂ガラス板の表面に微小突起４を形成する場合などである。
本発明においては、微小突起４を透明基板１自体の表面に形成する場合は、微小突起付与層５は省略することができる。例えば、透明基板１として樹脂製の樹脂ガラスの作製時に、樹脂が熔融状態において成形型により賦形して、樹脂ガラス板の表面に微小突起４を形成する場合などである。
以下、本実施形態で採用している、微小突起形成層５Ａ、形成用基材層５Ｂ、及び接合層５Ｃについて説明する。
本実施形態においては、微小突起付与層５として、形成用基材層５Ｂとしてのポリエステル系樹脂フィルムの片面に、紫外線硬化性樹脂と成形型を用いた２Ｐ法（フォトポリマー法）によって微小突起形成層５Ａを形成し、前記形成用基材層５Ｂの他方の面にアクリル系粘着剤層を接合層５Ｃとして形成して得られた粘着フィルムを、目的とする模様の形状及び大きさに切断したものを用いた。
〔微小突起形成層５Ａ〕
微小突起形成層５Ａは、それ自体の表面に微小突起４を有する層である。微小突起形成層５Ａは、微小突起４を形成できる材料であれば特に制限はなく、例えば、紫外線や電子線などの電離放射線で硬化する電離放射線硬化性樹脂、或いは、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などを用いることができる。これらの樹脂と成形型を用いて、微小突起４を成形することで、これらの樹脂の樹脂層の表面に微小突起４が成形された微小突起形成層５Ａを形成することができる。
成形法には公知の方法を適宜採用することができ、例えば、電離放射線硬化性樹脂には２Ｐ法を利用することができ、熱硬化性樹脂には熱プレス法などを利用することができ、熱可塑性樹脂には、熱プレス法、射出成形法、押出し成形法などを利用することができる。
微小突起形成層５Ａは、それ自体の表面に微小突起４を有する層である。微小突起形成層５Ａは、微小突起４を形成できる材料であれば特に制限はなく、例えば、紫外線や電子線などの電離放射線で硬化する電離放射線硬化性樹脂、或いは、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などを用いることができる。これらの樹脂と成形型を用いて、微小突起４を成形することで、これらの樹脂の樹脂層の表面に微小突起４が成形された微小突起形成層５Ａを形成することができる。
成形法には公知の方法を適宜採用することができ、例えば、電離放射線硬化性樹脂には２Ｐ法を利用することができ、熱硬化性樹脂には熱プレス法などを利用することができ、熱可塑性樹脂には、熱プレス法、射出成形法、押出し成形法などを利用することができる。
〔形成用基材層５Ｂ〕
形成用基材層５Ｂは、代表的には樹脂フィルムを用いることができるが、機械的強度を有するものであれば特に制限はない。前記樹脂フィルムの樹脂としては、例えば、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂、ポリオレフィン系樹脂などの樹脂を用いることができる。
形成用基材層５Ｂは、微小突起形成層５Ａを射出成形法、押出し成形法で形成する場合などでは、省略することができる。
形成用基材層５Ｂは、代表的には樹脂フィルムを用いることができるが、機械的強度を有するものであれば特に制限はない。前記樹脂フィルムの樹脂としては、例えば、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂、ポリオレフィン系樹脂などの樹脂を用いることができる。
形成用基材層５Ｂは、微小突起形成層５Ａを射出成形法、押出し成形法で形成する場合などでは、省略することができる。
〔接合層５Ｃ〕
接合層５Ｃは、微小突起付与層５を透明基板１に接合するための層である。接合層５Ｃには、粘着剤層、接着剤層などが用いられる。これらにはアクリル系、ポリエステル系、シコーン系など粘着剤或いは接着剤を用いることができる。接合層５Ｃは、微小突起形成層５Ａ或いは形成用基材層５Ｂが接着性を有するとき、或いは透明基板１が接着性を有するときは、省略することができる。
接合層５Ｃは、微小突起付与層５を透明基板１に接合するための層である。接合層５Ｃには、粘着剤層、接着剤層などが用いられる。これらにはアクリル系、ポリエステル系、シコーン系など粘着剤或いは接着剤を用いることができる。接合層５Ｃは、微小突起形成層５Ａ或いは形成用基材層５Ｂが接着性を有するとき、或いは透明基板１が接着性を有するときは、省略することができる。
次に、上述の方法により作製された賦型用金型によって製造された微小突起付与層５の具体的な実施形態について説明する。
〔微小突起付与層５の具体的な実施形態〕
図１７は、本実施形態の微小突起付与層５の微小突起４の高さＨの度数分布を示す図である。
本実施形態の微小突起付与層５を製造する賦型用金型は、上述の第２工程、第３工程、第４工程で陽極酸化処理の印加電圧を連続的に変化させたものであり、また第４工程では、第３工程の印加電圧から電圧を低下させたものである。この賦型用金型によって製造された微小突起付与層５は、微小突起４の高さ分布が正規分布を示しており、微小突起４が作製されてなる面の法線を中心とした比較的狭い範囲で、良好な反射防止機能を確保することができる。またこのときこのような高さ分布において、多峰性微小突起４Ｍ（頂点数が２つ及び３つのものをそれぞれ二峰、三峰により示す）についても、ほぼ高さの平均値が一致した正規分布とすることができ、これにより効率良く多峰性微小突起４Ｍの耐擦傷性の機能、光学特性の向上機能を発揮させることができる。
〔微小突起付与層５の具体的な実施形態〕
図１７は、本実施形態の微小突起付与層５の微小突起４の高さＨの度数分布を示す図である。
本実施形態の微小突起付与層５を製造する賦型用金型は、上述の第２工程、第３工程、第４工程で陽極酸化処理の印加電圧を連続的に変化させたものであり、また第４工程では、第３工程の印加電圧から電圧を低下させたものである。この賦型用金型によって製造された微小突起付与層５は、微小突起４の高さ分布が正規分布を示しており、微小突起４が作製されてなる面の法線を中心とした比較的狭い範囲で、良好な反射防止機能を確保することができる。またこのときこのような高さ分布において、多峰性微小突起４Ｍ（頂点数が２つ及び３つのものをそれぞれ二峰、三峰により示す）についても、ほぼ高さの平均値が一致した正規分布とすることができ、これにより効率良く多峰性微小突起４Ｍの耐擦傷性の機能、光学特性の向上機能を発揮させることができる。
上述の方法により製造された具体的な実施形態の微小突起付与層５は、図１７に示すように、微小突起の高さの平均値がｍ＝１４５．７ｎｍであり、その標準偏差がσ＝２２．１ｎｍである。
ここで、微小突起４の高さＨの度数分布において、低高度領域は、Ｈ＜ｍ−σ＝１２３．６ｎｍとなり、中高度領域は、ｍ−σ＝１２３．６ｎｍ≦Ｈ≦ｍ＋σ＝１６７．８ｎｍとなり、高高度領域は、Ｈ＞ｍ＋σ＝１６７．８ｎｍとなる。
度数分布全体の微小突起の総数Ｎｔは、２６３個である。また、中高度領域の多峰性微小突起４Ｍの数Ｎｍは、２３個であるので、中高度領域のＮｍ／Ｎｔは、０．０８７となる。低高度領域の多峰性微小突起４Ｍの数Ｎｍは、２個であるので、低高度領域のＮｍ／Ｎｔは、０．００８となる。高高度領域の多峰性微小突起４Ｍの数Ｎｍは、５個であるので、高高度領域のＮｍ／Ｎｔは、０．０１９となる。
ここで、微小突起４の高さＨの度数分布において、低高度領域は、Ｈ＜ｍ−σ＝１２３．６ｎｍとなり、中高度領域は、ｍ−σ＝１２３．６ｎｍ≦Ｈ≦ｍ＋σ＝１６７．８ｎｍとなり、高高度領域は、Ｈ＞ｍ＋σ＝１６７．８ｎｍとなる。
度数分布全体の微小突起の総数Ｎｔは、２６３個である。また、中高度領域の多峰性微小突起４Ｍの数Ｎｍは、２３個であるので、中高度領域のＮｍ／Ｎｔは、０．０８７となる。低高度領域の多峰性微小突起４Ｍの数Ｎｍは、２個であるので、低高度領域のＮｍ／Ｎｔは、０．００８となる。高高度領域の多峰性微小突起４Ｍの数Ｎｍは、５個であるので、高高度領域のＮｍ／Ｎｔは、０．０１９となる。
従って、具体的な実施形態の微小突起付与層５は、上述の（ａ）、（ｂ）の関係、すなわち、
（ａ）中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＝０．０８７＞低高度領域のＮｍ／Ｎｔ＝０．００８
（ｂ）中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＝０．０８７＞高高度領域のＮｍ／Ｎｔ＝０．０１９
を満足する。
（ａ）中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＝０．０８７＞低高度領域のＮｍ／Ｎｔ＝０．００８
（ｂ）中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＝０．０８７＞高高度領域のＮｍ／Ｎｔ＝０．０１９
を満足する。
以上より、具体的な実施形態の微小突起付与層５は、中高度領域における多峰性微小突起４Ｍの数（Ｎｍ）と度数分布における微小突起４の総数（Ｎｔ）との比率（Ｎｍ／Ｎｔ）が、低高度領域及び高高度領域の比率よりも大きくなるように多峰性微小突起４Ｍが形成されているので、可視光域に係る入射光に対する反射率を効果的に低減することができ、微小突起付与層５の反射防止機能の広帯域化を図ることができる。
また、この微小突起付与層５は、このような高さ分布において、多峰性微小突起４Ｍ（頂点数が２つ及び３つのものをそれぞれ二峰、三峰により示す）についても、ほぼ高さの平均値が一致した正規分布とすることができるので、該高さＨの度数分布が正規分布より一様分布に近い分布、或いは度数分布の極大値を複数有する場合に比べて、視野角特性を制限し、微小突起群４Ｇ形成面の法線に対する角度が７０〜７５度以下の正面方向に於いて十分な低反射率と低ヘイズを実現すると共に該法線に対する角度が７０〜７５度超過の側面方向については射率防及びヘイズが立ち上がる視野角特性とすることができる。斯かる視野角特性の制限により、外光存在下の画像表示裝置の画面に於いて、観察者（乃至操作者）の方向に対しては外光反射を低減した良好な画面視認正を確保し、側面方向からの視線に対しては反射率とヘイズの上昇により画面視認性を法線方向よりも低減させて、覗き見抑制効果を期待しえる。また、多峰性微小突起４Ｍの微小突起４の耐擦傷性を向上させることができる。
即ち、上述の構成にすることによって、微小突起付与層５は、高さが高い（１８０ｎｍ以上）微小突起４に分布する多峰性微小突起４Ｍの比率が小さく、単峰性微小突起４Ｓの比率が多いので、他の物体が微小突起４に摩擦接触したとしても、高さの高い単峰性微小突起４Ｓが先に接触することとなり、反射防止機能を主に向上させる多峰性微小突起４Ｍに接触してしまうのを抑制することができる。
なお、これら多峰性微小突起４Ｍの特徴は、賦型用金型の対応する形状を備えた微細な穴により作製される多峰性微小突起４Ｍの固有の特徴であり、特開２０１２−０３７６７０号公報に開示の樹脂の充填不良により生じる多峰性微小突起によっては得ることができない特徴である。すなわち樹脂の充填不良による多峰性微小突起は、本来、単峰性微小突起として作製される微細な穴に十分に樹脂が充填されないことにより作製されるものであるので、頂点間の間隔が極めて微小であり、これにより耐擦傷性を十分に向上することが困難であり、また上述したような光学特性の向上も困難である。
また、充填不良による多峰性微小突起にあっては、再現性が乏しく、これにより均一な製品を量産できない欠点もあり、これに対して、この具体的な実施形態の微小突起付与層５に係る多峰性微小突起４Ｍは、いわゆる金型により高い再現性を確保することができる。また、上述の実施形態について詳述するように、多峰性微小突起４Ｍの高さ分布について制御できるのに対し、充填不良の多多峰性微小突起については、このような制御が困難である。
図１９は、この頂点を複数有する多峰性微小突起４Ｍの説明に供する断面図（図１９（ａ））、斜視図（図１９（ｂ））、平面図（図１９（ｃ））である。なおこの図１９は、理解を容易にするために模式的に示す図であり、図１９（ａ）は、連続する微小突起の頂点を結ぶ折れ線により断面を取って示す図である。この図１９（ｂ）及び（ｃ）において、ｘｙ方向は、形成用基材層５Ｂの面内方向であり、ｚ方向は微小突起の高さ方向である。微小突起付与層５において、多くの微小突起４は、形成用基材層５Ｂより離れて頂点に向かうに従って徐々に断面積（高さ方向に直交する面（図１９においてＸＹ平面と平行な面）で切断した場合の断面積）が小さくなって、頂点が１つにより作製される。しかしながら中には、複数の微小突起が結合したかのように、先端部分に溝４ｇが形成され、頂点が２つになったもの（４Ｍ2）、頂点が３つになったもの（４Ｍ1）、さらには頂点が４つ以上のもの（図８（ｃ））が存在する。なお単峰性の微小突起４の形状は、概略、回転放物面の様な頂部の丸い形状、或いは円錐の様な頂点の尖った形状で近似することができる。一方、多峰性微小突起４Ｍ1、４Ｍ2の形状は、概略、単峰性の微小突起４の頂部近傍に溝状の凹部を切り込んで、頂部を複数の峰に分割したような形状で近似される。多峰性微小突起４Ｍ1、４Ｍ2の形状は、或いは、複数の峰を含み高さ方向（図１９ではＺ軸方向）を含む仮想的切断面で切断した場合の縦断面形状が、極大点を複数個含み各極大点近傍が上に凸の曲線になる代数曲線Ｚ＝ａ2Ｘ2＋ａ4Ｘ4＋・・＋ａ2nＸ2n＋・・で近似されるような形状である。
なお上述した図２〜図４、図１８に係る測定結果は、本実施形態に係る反射防止物品の測定結果であり、図１８に示す度数分布においては、隣接突起間距離（横軸の値）について、２０ｎｍ及び４０ｎｍの短距離の極大値と１２０ｎｍ及び１６４ｎｍの長距離の極大値との２種類の極大値が存在する。これらの極大値のうちの長距離の極大値は、微小突起本体（頂部よりも下の中腹から麓にかけての部分）の配列に対応し、一方、短距離の極大値は頂部近傍に存在する複数の頂点（峰）に対応する。これにより極大点間距離の度数分布によっても、多峰性微小突起の存在を見て取ることができる。
またこのように多峰性微小突起が混在する場合には、単峰性微小突起のみによる場合に比して反射防止の性能を向上することができる。すなわち図２、図８、及び図１９等に示すような多峰性微小突起４Ｍ1、４Ｍ2等は、隣接突起間距離が同じ場合であっても、また突起高さが同じ場合であっても、単峰性微小突起４Ｓと比べて、より光の反射率が低減することになる。その理由は、多峰性微小突起４Ｍ1、４Ｍ2等は、頂部より下（中腹及び麓）の形状が同じ単峰性微小突起４Ｓよりも、頂部近傍における有効屈折率の高さ方向の変化率が小さくなる為である。
すなわち図１９において、ｚ＝０を高さＨ＝０とおき、高さ方向（Ｚ軸方向）に直交する仮想的切断面Ｚ＝ｚで微小突起４Ｓ、４Ｍ等を切断したと仮定した場合の面Ｚ＝ｚにおける微小突起と周辺の媒質（通常は空気）との屈折率の平均値として得られる有効屈折率ｎｅｆは、切断面Ｚ＝ｚにおける周辺媒質（ここでは空気とする）の屈折率をｎA＝１、微小突起４Ｓ、４Ｍ、・・の構成材料の屈折率をｎM＞１とし、又周辺媒質（空気）の断面積の合計値をＳA（ｚ）、微小突起４Ｓ、４Ｍ、・・の断面積の合計値をＳM（ｚ）としたとき、
ｎef（ｚ）＝１×ＳA(ｚ)／(ＳA(ｚ)＋ＳM(ｚ))＋ｎA×ＳM(ｚ)／(ＳA(ｚ)＋ＳM(ｚ))（式１）
で表される。これは、周辺媒質の屈折率ｎA及び微小突起構成材料の屈折率ｎMを、各々周辺媒質の合計断面積ＳA（ｚ）及び微小突起の合計断面積の合計値ＳM（ｚ）で比例配分した値となる。
ｎef（ｚ）＝１×ＳA(ｚ)／(ＳA(ｚ)＋ＳM(ｚ))＋ｎA×ＳM(ｚ)／(ＳA(ｚ)＋ＳM(ｚ))（式１）
で表される。これは、周辺媒質の屈折率ｎA及び微小突起構成材料の屈折率ｎMを、各々周辺媒質の合計断面積ＳA（ｚ）及び微小突起の合計断面積の合計値ＳM（ｚ）で比例配分した値となる。
ここで、単峰性微小突起４Ｓを基準にして考えたときに、多峰性微小突起４Ｍ1、４Ｍ2、・・は、頂部近傍が複数の峰に分裂している。そのため、頂部近傍を切断する仮想的切断面Ｚ＝ｚにおいて、多峰性微小突起４Ｍ1、４Ｍ2、・・は、単峰性微小突起４Ｓ、・・に比べて相対的に低屈折率である周辺媒質の合計断面積ＳA（ｚ）の比率が、相対的に高屈折率である微小突起の合計断面積ＳM（ｚ）の比率に比べて、より増大することになる。
その結果、仮想的切断面Ｚ＝ｚにおける有効屈折率ｎef（ｚ）は、多峰性微小突起４Ｍ1、４Ｍ2、・・の方が単峰性微小突起４Ｓ、・・に比べて、より周辺媒質の屈折率ｎAに近くなる。面Ｚ＝ｚにおける多峰性微小突起の有効屈折率と周辺媒質の屈折率との差を｜ｎef（ｚ）−ｎA（ｚ）｜multi、単峰性微小突起の有効屈折率と周辺媒質の屈折率との差を｜ｎef（ｚ）−ｎA（ｚ）｜monoとすると、
｜ｎef（ｚ）−ｎA（ｚ）｜multi＜｜ｎef（ｚ）−ｎA（ｚ）｜mono（式２）
となる。ここでｎA（ｚ）＝１とすると、
｜ｎef（ｚ）−１｜multi＜｜ｎef（ｚ）−１｜mono（式２Ａ）
となる。
｜ｎef（ｚ）−ｎA（ｚ）｜multi＜｜ｎef（ｚ）−ｎA（ｚ）｜mono（式２）
となる。ここでｎA（ｚ）＝１とすると、
｜ｎef（ｚ）−１｜multi＜｜ｎef（ｚ）−１｜mono（式２Ａ）
となる。
これにより頂部近傍において、多峰性微小突起を含む微小突起群（各微小突起間に周辺媒質を含む）については、単峰性微小突起のみからなる突起群に比べて、その有効屈折率と周辺媒質（空気）の屈折率との差、より詳細に言えば、微小突起の高さ方向の単位距離当たりの屈折率の変化率をより低減化すること、換言すれば、屈折率の高さ方向変化の連続性をより高めること）が可能になることが判る。
一般に、隣接する屈折率ｎ0の媒質と屈折率ｎ1の媒質との界面に光が入射する場合に、該界面における光の反射率Ｒは、入射角＝０として、
Ｒ＝（ｎ1−ｎ0）2／（ｎ1＋ｎ0）2（式３）
となる。この式より界面両側の媒質の屈折率差ｎ1−ｎ0が小さいほど界面での光の反射率Ｒは減少し、（ｎ1−ｎ0）が値０に近づけばＲも値０に近づくことになる。
Ｒ＝（ｎ1−ｎ0）2／（ｎ1＋ｎ0）2（式３）
となる。この式より界面両側の媒質の屈折率差ｎ1−ｎ0が小さいほど界面での光の反射率Ｒは減少し、（ｎ1−ｎ0）が値０に近づけばＲも値０に近づくことになる。
（式２）、（式２Ａ）及び（式３）より、多峰性微小突起４Ｍ1、４Ｍ2、・・を含む微小突起群（各微小突起間に周辺媒質を含む）については、単峰性微小突起４Ｓ、・・のみからなる突起群に比べて光の反射率が低減する。
又、単峰性微小突起４Ｓのみからなる微小突起群を用いた場合は、隣接峰間の距離と隣接微小突起間距離とが同一となる為、隣接微小突起間が接触、一体複合化する現象（いわゆるスティッキング）が発生し易くなる。スティッキングを生じると、実質上の隣接突起間距離は一体複合化した微小突起数の分だけ増加する。
例えば、Ｄ＝２００ｎｍの微小突起が４個スティッキングすると、実質上、スティッキングして一体化した突起の大きさは、Ｄ＝４×２００ｎｍ＝８００ｎｍ＞可視光線帯域の最長波長（７８０ｎｍ）となり、これにより局所的に反射防止効果を損なうことになる。
一方、多峰性微小突起４Ｍ1、４Ｍ2、・・からなる微小突起群の場合、頂部近傍の各峰間の隣接突起間距離ＤPEAKは、麓から中腹にかけての微小突起本体部の隣接突起間距離ＤBASEよりも小さくなり（ＤPEAK＜ＤBASE）、通常、ＤPEAK＝ＤBASE／４〜ＤBASE／２程度である。その為、各峰間の隣接突起間距離ＤPEAK≪λｍｉｎとすることで十分な反射防止性能を得ることができる。但し、多峰性微小突起の各峰部は、麓部の幅に対する峰部の高さの比が小さく、単峰性微小突起の麓部の幅に対する頂点の高さの比の１／２〜１／１０程度である。従って、同じ外力に対して、多峰性微小突起の峰部は単峰性微小突起に比べての変形し難い。且つ、多峰性微小突起の本体部自体は峰部よりも隣接突起間距離は大であり、且つ強度も大である。その為、結局、多峰性微小突起からなる微小突起群は、単峰性微小突起からなる突起群に比べて、スティッキングの生じ難さと低反射率とを容易に両立させることができる。
なお可視光の反射防止用途の他の用途であっても、又は可視光環境下であっても、当該反射防止材料が設置、使用される環境条件に応じて、想定する反射防止波長に応じたモスアイ構造を形成し、高さ分布を持たせる事により、前記の通り、従来のものより耐擦性があり、かつ、プロセス要件などで低硬度の材料を使用した場合においても互いのスティッキングを防止し、光学的必要性能を合わせ持つ反射防止材料を作製する事が可能となる。例えば、３８０ｎｍ前後の紫外領域について反射防止性能を得たい場合はモスアイの高さが約５０ｎｍでも可能であり、同様に７００ｎｍ前後の赤外領域については約１５０ｎｍ〜実用上を考慮し４００ｎｍであれば可能である。なお、前記の通りモスアイの配置ピッチについては高さについて飽和するような製作条件を見出し、モスアイの反射率を効果的に操作する事が可能である。さらに、モスアイの頂部構造についても、従来の単峰から改良を加える事で高さと反射率を両立し、かつ物理的にスティッキングを起こしにくく、効果的に反射率を低減する事が可能となっている。
《透明板１０と表示板２０との違い》
透明板１０が、例えば後述する窓ガラスなどのような、特定の用途に使用され、特定の用途として機能している状態のものを表示板２０と呼ぶ。つまり、透明板１０とは、その用途に使用される前の状態のものを言い、例えば、販売前においては倉庫に保存された状態、商品として陳列された状態、販売後においては、その用途に取り付けられる前の状態のものを言う。
表示板２０が表示する内容は、単なる模様、それ自体が人間に対してメッセージなどの情報としての意味を持つ文字又はロゴマークなどの図形、或いはこれらの組み合わせである。
そして、表示板２０は、透明板１０の模様状反射防止領域２Ａを有する側の表面における、反射光強度差による模様によって表示を行なう。
透明板１０が、例えば後述する窓ガラスなどのような、特定の用途に使用され、特定の用途として機能している状態のものを表示板２０と呼ぶ。つまり、透明板１０とは、その用途に使用される前の状態のものを言い、例えば、販売前においては倉庫に保存された状態、商品として陳列された状態、販売後においては、その用途に取り付けられる前の状態のものを言う。
表示板２０が表示する内容は、単なる模様、それ自体が人間に対してメッセージなどの情報としての意味を持つ文字又はロゴマークなどの図形、或いはこれらの組み合わせである。
そして、表示板２０は、透明板１０の模様状反射防止領域２Ａを有する側の表面における、反射光強度差による模様によって表示を行なう。
本発明の透明板１０及び表示板２０は、上記した形態以外に様々な形態をとり得る。以下、そのうちの一部を説明する。
本発明においては、透明板１０及び表示板２０は、さらに、着色模様層６を有することができる。図９の断面図は、着色模様層６を有する透明板１０及び表示板２０の例を示す。図９（ａ）、図９（ｂ）、及び図９（ｃ）は、いずれも、模様状反射防止領域２Ａを有する側の透明基板１の一方の面１ａ上に、着色模様層６を有する形態例を示す。このうち、図９（ｃ）は、さらに、透明基板１の一方の面１ａとは反対側の他方の面１ｂの面上にも、着色模様層６を有する形態例を示す。
図９（ａ）に示す形態例は、模様状反射防止領域２Ａは着色模様層６の面上にのみ形成されており、着色模様層６の模様が模様状反射防止領域２Ａの模様と一致し平面視において互いに重なり合う形態例である。この形態例では、模様状反射防止領域２Ａの模様と着色模様層６との模様とが同じとなる為に、昼夜或いは観察条件によって可変となる模様状反射防止領域２Ａの反射光強度の模様という見え方を、着色模様層６による模様に重ねて表示することが可能となる。
図９（ｂ）に示す形態例は、模様状反射防止領域２Ａと着色模様層６とは、平面視において重なる部分が存在しないように形成されており、着色模様層６の模様と模様状反射防止領域２Ａの模様とは、一致せず、別々の模様を表現できることになる。着色模様層６によって、常時見える模様を表示すると共に、模様状反射防止領域２Ａによって照明条件乃至入射光条件に応じて可視状態と不可視状態とが切り換る模様を表示することができる。
図９（ｃ）に示す形態例は、図９（ｂ）に示す形態例に対して、模様状反射防止領域２Ａと着色模様層６とが、平面視において一部分で互いに重なり合う形態例である。しかも、模様状反射防止領域２Ａと一部重なる着色模様層６は、透明基板１の他方の面１ｂに形成されることで、模様状反射防止領域２Ａと一部重なる形態例でもある。このように、本発明においては、着色模様層６は、模様状反射防止領域２Ａが透明基板１の一方の面１ａの面上のみに形成されている形態においては、透明基板１の他方の面１ｂの面上に形成されていてもよい。
模様状反射防止領域２Ａを透明基板１の一方の面１ａの面上にのみ形成されている形態において、着色模様層６を透明基板１の他方の面１ｂの面上に形成する形態は、製品設計及び表示の自由度を増すことができる。
また、着色模様層６と模様状反射防止領域２Ａとが一部重なるようにすることで、表示の自由度を増すことができる。
尚、図９（ｃ）の形態に於いては、更に透明基板１の一方の面１ａ上にも図９（ｂ）の形態と同様の着色模様層６が形成されている。
模様状反射防止領域２Ａを透明基板１の一方の面１ａの面上にのみ形成されている形態において、着色模様層６を透明基板１の他方の面１ｂの面上に形成する形態は、製品設計及び表示の自由度を増すことができる。
また、着色模様層６と模様状反射防止領域２Ａとが一部重なるようにすることで、表示の自由度を増すことができる。
尚、図９（ｃ）の形態に於いては、更に透明基板１の一方の面１ａ上にも図９（ｂ）の形態と同様の着色模様層６が形成されている。
着色模様層６は、着色インキの印刷、模様形状に切り抜いた着色粘着シートの貼り付けなど、従来の方法によって形成することができる。着色模様層６は、目的とする表示内容に応じて、透明、不透明、いずでもよい。
着色模様層６は、単層、或いは２以上の複層のいずれでもよい。図９（ｃ）は複層の一例として互いに離間した形態例でもある。
着色模様層６は、単層、或いは２以上の複層のいずれでもよい。図９（ｃ）は複層の一例として互いに離間した形態例でもある。
以上のように、着色模様層６も有する形態とすることによって、模様状反射防止領域２Ａによる模様以外に、着色模様層６による模様も表示することが可能となる。着色模様層６による表示は、光さえあれば、昼夜及び観察位置によらずに常時視認できる模様を付与することができる。
〔その他の層〕
本発明においては、透明板１０乃至は表示板２０は、上述した以外の層を適宜含むことができる。
例えば、微小突起４が形成されていない側の面の全面に対して、所定の機能を付与する為の機能層である。機能層としては、所定の色に着色するための着色層、結露防止層、熱線遮断層、紫外線吸収層、電磁波遮蔽層などである。これらには、公知の層を用いることができる。これらの機能層によって、その機能層が有する機能を付与することができる。
本発明においては、透明板１０乃至は表示板２０は、上述した以外の層を適宜含むことができる。
例えば、微小突起４が形成されていない側の面の全面に対して、所定の機能を付与する為の機能層である。機能層としては、所定の色に着色するための着色層、結露防止層、熱線遮断層、紫外線吸収層、電磁波遮蔽層などである。これらには、公知の層を用いることができる。これらの機能層によって、その機能層が有する機能を付与することができる。
〔張り替え自在な微小突起付与層５〕
模様状反射防止領域２Ａは、これを形成するための微小突起付与層５の接合層５Ｃに弱粘着性の粘着剤層を用いることができる。この結果、模様状反射防止領域２Ａの模様は、貼付自在な模様として、容易に張替えが可能であり、演出上の多彩な利用が可能となる。
模様状反射防止領域２Ａは、これを形成するための微小突起付与層５の接合層５Ｃに弱粘着性の粘着剤層を用いることができる。この結果、模様状反射防止領域２Ａの模様は、貼付自在な模様として、容易に張替えが可能であり、演出上の多彩な利用が可能となる。
《用途》
本発明による透明板１０及び表示板２０の用途は、その微小突起４による可視光に対する模様状の反射防止効果を活用できる用途であれば、特に制限されない。
本発明による透明板１０及び表示板２０の用途は、その微小突起４による可視光に対する模様状の反射防止効果を活用できる用途であれば、特に制限されない。
って、本発明による透明板１０及び表示板２０の用途は、例えば、住宅、店舗、事務所、学校、病院乃至は医院、等の建築物の窓、扉、間仕切、（透明な）隔壁、或いは、自動車、列車、船舶、航空機などの乗り物の窓、扉、間仕切、（透明な）隔壁、或いは、店舗のショウウインドウや商品展示箱、美術館の展示物の展示窓や展示箱等に使用するガラス板や樹脂板、看板などの用途である。
《３》表示システム１００
本発明による表示システムは、上記した表示板２０と、この表示板２０に可視光を照明する光源とを少なくとも含む表示システムである。
図１０は、本発明による表示システム１００の基本的な構成を示す斜視図である。
同図において、表示板２０は、その板面に模様状反射防止領域２Ａを有する。そして、模様状反射防止領域２Ａを有する面に対して、斜め上方に設置された光源３０からの入射光Ｌｉは、模様状反射防止領域２Ａの部分では反射せず、非反射防止領域２Ｂの部分で反射して反射光Ｌｒとなって、表示板２０を観察する観察者Ｏに届いて、模様状反射防止領域２Ａの模様が視認される構成となっている。
本発明による表示システムは、上記した表示板２０と、この表示板２０に可視光を照明する光源とを少なくとも含む表示システムである。
図１０は、本発明による表示システム１００の基本的な構成を示す斜視図である。
同図において、表示板２０は、その板面に模様状反射防止領域２Ａを有する。そして、模様状反射防止領域２Ａを有する面に対して、斜め上方に設置された光源３０からの入射光Ｌｉは、模様状反射防止領域２Ａの部分では反射せず、非反射防止領域２Ｂの部分で反射して反射光Ｌｒとなって、表示板２０を観察する観察者Ｏに届いて、模様状反射防止領域２Ａの模様が視認される構成となっている。
以下、表示システム１００を構成する構成要素などについて説明する。
《表示板２０》
表示板２０については、既に上述したので、ここでは更なる説明は省略する。
表示板２０については、既に上述したので、ここでは更なる説明は省略する。
《光源３０》
光源３０は、表示板２０の模様状反射防止領域２Ａが形成された側の面に、可視光を照射できるものであれば、特に制限はない。白熱電球、ハロゲンランプ、蛍光灯、ＬＥＤ（発光ダイオード）光源、ＥＬ（電界発光）光源などである。
光源３０には、それ自体で可変模様を表示可能な画像表示パネルとして、液晶表示パネル、プラズマディスプレイパネル、電界発光パネル、プロジェクタ（映写機）などであってもよい。これらの画像表示パネルは、動画を表示してもよいし、静止画を表示してもよいし、無地で模様のない任意の白を含む色を表示してもよい。画像表示パネルを光源３０に用いることによって、これらの表示内容に応じた光を、表示板２０に照射することになり、より複雑な表示内容とすることが可能となる。
光源３０を配置する位置は、後述の如く、表示システム１００によって得る視覚効果に応じた位置に設置すればよい。
光源３０は、スポットライトのように、指向性を有するものでもよい。指向性を有する光源３０によって、特に夜間など暗い場所において、表示を際立たせることができる。
光源３０は、少なくとも１つを設置するが、複数を隣接或いは互いに離間して設置してもよい。
光源３０は、表示板２０の模様状反射防止領域２Ａが形成された側の面に、可視光を照射できるものであれば、特に制限はない。白熱電球、ハロゲンランプ、蛍光灯、ＬＥＤ（発光ダイオード）光源、ＥＬ（電界発光）光源などである。
光源３０には、それ自体で可変模様を表示可能な画像表示パネルとして、液晶表示パネル、プラズマディスプレイパネル、電界発光パネル、プロジェクタ（映写機）などであってもよい。これらの画像表示パネルは、動画を表示してもよいし、静止画を表示してもよいし、無地で模様のない任意の白を含む色を表示してもよい。画像表示パネルを光源３０に用いることによって、これらの表示内容に応じた光を、表示板２０に照射することになり、より複雑な表示内容とすることが可能となる。
光源３０を配置する位置は、後述の如く、表示システム１００によって得る視覚効果に応じた位置に設置すればよい。
光源３０は、スポットライトのように、指向性を有するものでもよい。指向性を有する光源３０によって、特に夜間など暗い場所において、表示を際立たせることができる。
光源３０は、少なくとも１つを設置するが、複数を隣接或いは互いに離間して設置してもよい。
《視覚効果》
図１１は、表示システム１００によって得られる視覚効果の一例として、屋内に居る観察者Ｏに対して、昼間と夜間とで視認される様子の違いを説明する図である。
先ず、昼間は、図１１（ａ）に示すように、屋内光Ｌｉｎに比べて屋外光Ｌｏｕｔの方が相対的に強い為、観察者Ｏは模様状反射防止領域２Ａ及び非反射防止領域２Ｂの両方の領域において、屋外の風景からの屋外光Ｌｏｕｔのみ視認し得る。よって、模様状反射防止領域２Ａの模様は見えない。
一方、夜間は、図１１（ｂ）に示すように、屋外光Ｌｏｕｔに比べて、屋内に設置されている光源３０から発せられる屋内光Ｌｉｎの方が、相対的に強い為、観察者Ｏは模様状反射防止領域２Ａのみ屋内光Ｌｉｎの反射光は見えず、且つ非反射防止領域２Ｂのみ前記反射光が見える。よって、観察者Ｏには、夜間のみ、屋内光Ｌｉｎが表示板２０の表面で反射した像中に、模様状反射防止領域２Ａの模様が光源３０の反射光を背景とした中で暗黒の模様として視認される。
図１１は、表示システム１００によって得られる視覚効果の一例として、屋内に居る観察者Ｏに対して、昼間と夜間とで視認される様子の違いを説明する図である。
先ず、昼間は、図１１（ａ）に示すように、屋内光Ｌｉｎに比べて屋外光Ｌｏｕｔの方が相対的に強い為、観察者Ｏは模様状反射防止領域２Ａ及び非反射防止領域２Ｂの両方の領域において、屋外の風景からの屋外光Ｌｏｕｔのみ視認し得る。よって、模様状反射防止領域２Ａの模様は見えない。
一方、夜間は、図１１（ｂ）に示すように、屋外光Ｌｏｕｔに比べて、屋内に設置されている光源３０から発せられる屋内光Ｌｉｎの方が、相対的に強い為、観察者Ｏは模様状反射防止領域２Ａのみ屋内光Ｌｉｎの反射光は見えず、且つ非反射防止領域２Ｂのみ前記反射光が見える。よって、観察者Ｏには、夜間のみ、屋内光Ｌｉｎが表示板２０の表面で反射した像中に、模様状反射防止領域２Ａの模様が光源３０の反射光を背景とした中で暗黒の模様として視認される。
次に、観察者Ｏの位置による見え方の違いについて説明する。図１１（ｂ）で説明したような、模様状反射防止領域２Ａの模様がくり抜かれた屋内光Ｌｉｎの反射光による模様は、図１１（ｃ）に示すように、屋内に設置された光源３０を、正反射光として視認できる位置に居る図面右側の観察者Ｏのみに見える。光源３０を正反射で視認し得ない位置に居る図面左側の観察者Ｏには、模様状反射防止領域２Ａのくり抜かれた模様は見ることができない。
こうして、観察者Ｏの位置によっても、模様状反射防止領域２Ａの模様を、見えたり、見えなかったりさせることができる。
以上の結果、制約が多いディスプレイパネルによらずに、視認される模様を、昼夜、観察位置、或いは昼夜及び観察位置によって、変化させることができる、視覚効果が得られる。
こうして、観察者Ｏの位置によっても、模様状反射防止領域２Ａの模様を、見えたり、見えなかったりさせることができる。
以上の結果、制約が多いディスプレイパネルによらずに、視認される模様を、昼夜、観察位置、或いは昼夜及び観察位置によって、変化させることができる、視覚効果が得られる。
〔屋内での視覚効果〕
図１２は、本発明による表示システム１００を屋内に適用したときの一実施形態を示す図であり、図１２（ａ）は斜視図、図１２（ｂ）は平面図である。図１３は、図１２に示す表示システム１００で得られる屋内での視覚効果を説明する図である。
図１２は、本発明による表示システム１００を屋内に適用したときの一実施形態を示す図であり、図１２（ａ）は斜視図、図１２（ｂ）は平面図である。図１３は、図１２に示す表示システム１００で得られる屋内での視覚効果を説明する図である。
図１２に示す表示システム１００は、壁８１によって屋外と仕切られた屋内、及び屋外の様子を模式的に示す。壁８１の一部には窓８２を有し、この窓８２は、上述したような模様状反射防止領域２Ａ及び非反射防止領域２Ｂを有する表示板２０からなる窓ガラス８３が、窓枠８４に固定されている。表示板２０の模様状反射防止領域２Ａ及び非反射防止領域２Ｂは、窓ガラス８３の屋内側となっている。さらに、窓８２が設置されている壁８１に対して直交する図面で上方の壁８１には、平面状の光源３０が設置されている。
床８５には、食卓８６と、食卓８６を取り囲む椅子８７とが、客席８８として設置されている。床８５の光源３０側のスペースは、廊下８９となっており、図面右側の方向が出口方向となっている。
一方、屋外には風景９０としての山岳景色９０Ａと、夜間に点灯する灯籠９０Ｂとがある。山岳景色９０Ａは夜間は見えないが、灯籠９０Ｂは点灯するので夜間も見える。
床８５には、食卓８６と、食卓８６を取り囲む椅子８７とが、客席８８として設置されている。床８５の光源３０側のスペースは、廊下８９となっており、図面右側の方向が出口方向となっている。
一方、屋外には風景９０としての山岳景色９０Ａと、夜間に点灯する灯籠９０Ｂとがある。山岳景色９０Ａは夜間は見えないが、灯籠９０Ｂは点灯するので夜間も見える。
光源３０からの光は、窓８２の窓ガラス８３として用いられている表示板２０における非反射防止領域２Ｂに当たって正反射した光Ｌ１及び光Ｌ２は、食卓８６の方に届く。一方、光源３０からの光のうち、窓ガラス８３として用いられている表示板２０における模様状反射防止領域２Ａに当たった光Ｌ３は正反射しないで、食卓８６の方には届かない。なお、図面では、理解を容易にするために、食卓８６の上面に光Ｌ１及び光Ｌ２が届くように描いてあるが、食卓８６に対する椅子８７に着席する客の目の位置にも届く。
したがって、図１２（ｂ）の平面図でよく判るように、光源３０から表示板２０に当たった光は、客席８８の椅子８７には届くが、廊下８９の方に届かない。
また、椅子８７に着席した客の目線から、屋外の風景９０の山岳景色９０Ａ及び灯籠９０Ｂが共に（昼間は）見える位置に、椅子８７は設置されている。
したがって、図１２（ｂ）の平面図でよく判るように、光源３０から表示板２０に当たった光は、客席８８の椅子８７には届くが、廊下８９の方に届かない。
また、椅子８７に着席した客の目線から、屋外の風景９０の山岳景色９０Ａ及び灯籠９０Ｂが共に（昼間は）見える位置に、椅子８７は設置されている。
そして、このような表示システム１００では、図１３で示すような、昼間と夜間、及び客席８８と廊下８９で、窓８２を見たときに視認される風景の見え方が異なる視覚効果が得られる。
但し、此処では、光源３０以外に屋内には光源は無いか、或いは有っても表示システム１００の表示概観には影響し無い配置になっているものとして説明する。
但し、此処では、光源３０以外に屋内には光源は無いか、或いは有っても表示システム１００の表示概観には影響し無い配置になっているものとして説明する。
＜昼間で光源３０点灯時＞
客席８８側からは、模様状反射防止領域２Ａの模様と、風景９０として山岳景色９０Ａ及び灯籠９０Ｂを見ることができる。また、光源３０の平面形状も、其の中で模様状反射防止領域２Ａが切り抜かれた状態で見ることができる。
廊下８９側からは、模様状反射防止領域２Ａは見えず、風景９０として山岳景色９０Ａ及び灯籠９０Ｂのみを見ることができる。但し、光源３０の長方形の平面形状は見ることができない。
＜昼間で光源３０消灯時＞
客席８８側からも、廊下８９側からも、ともに、模様状反射防止領域２Ａは見えず、風景９０として山岳景色９０Ａ及び灯籠９０Ｂのみを見ることができる。もちろん、光源３０の平面形状は、其の中で模様状反射防止領域２Ａが切り抜かれた状態で見ることができない。
客席８８側からは、模様状反射防止領域２Ａの模様と、風景９０として山岳景色９０Ａ及び灯籠９０Ｂを見ることができる。また、光源３０の平面形状も、其の中で模様状反射防止領域２Ａが切り抜かれた状態で見ることができる。
廊下８９側からは、模様状反射防止領域２Ａは見えず、風景９０として山岳景色９０Ａ及び灯籠９０Ｂのみを見ることができる。但し、光源３０の長方形の平面形状は見ることができない。
＜昼間で光源３０消灯時＞
客席８８側からも、廊下８９側からも、ともに、模様状反射防止領域２Ａは見えず、風景９０として山岳景色９０Ａ及び灯籠９０Ｂのみを見ることができる。もちろん、光源３０の平面形状は、其の中で模様状反射防止領域２Ａが切り抜かれた状態で見ることができない。
＜夜間で光源３０点灯時＞
客席８８側からは、模様状反射防止領域２Ａの模様と、風景９０として点灯している灯籠９０Ｂを見ることができ、山岳景色９０Ａは見ることができない。但し、光源３０の平面形状は見ることができる。
廊下８９側からは、模様状反射防止領域２Ａは見えず、風景９０として点灯している灯籠９０Ｂを見ることができ、山岳景色９０Ａは見ることができない。また、光源３０の平面形状も見ることができない。
＜夜間で光源３０消灯時＞
客席８８側からも、廊下８９側からも、ともに、模様状反射防止領域２Ａ及び風景９０として山岳景色９０Ａは見えず、風景９０として点灯している灯籠９０Ｂのみを見ることができる。もちろん、光源３０の平面形状は見ることができない。
客席８８側からは、模様状反射防止領域２Ａの模様と、風景９０として点灯している灯籠９０Ｂを見ることができ、山岳景色９０Ａは見ることができない。但し、光源３０の平面形状は見ることができる。
廊下８９側からは、模様状反射防止領域２Ａは見えず、風景９０として点灯している灯籠９０Ｂを見ることができ、山岳景色９０Ａは見ることができない。また、光源３０の平面形状も見ることができない。
＜夜間で光源３０消灯時＞
客席８８側からも、廊下８９側からも、ともに、模様状反射防止領域２Ａ及び風景９０として山岳景色９０Ａは見えず、風景９０として点灯している灯籠９０Ｂのみを見ることができる。もちろん、光源３０の平面形状は見ることができない。
以上のように、本実施形態では、昼間は、屋外が屋内よりも明るいので、通常通りの視界が得られる。一方、夜間は、光源３０を点灯すると、光源３０により窓ガラス８３が照らされた状態において、客があらかじめ設定された客席８８の位置へ到着した時に初めて、窓ガラス８３上に模様状反射防止領域２Ａにより表示された模様と、それを通して模様状反射防止領域２Ａの部分のみ窓ガラス８３の外の風景９０を観察する事が可能となる。
したがって、客席に居る客に対して、昼間と夜間、及び客席８８と廊下８９で、窓８２を見たときに視認される風景の見え方が異なる視覚効果を与えることができる。
このため、客席に居る客の興味が新鮮かつ持続性を有する事が期待できる。
したがって、客席に居る客に対して、昼間と夜間、及び客席８８と廊下８９で、窓８２を見たときに視認される風景の見え方が異なる視覚効果を与えることができる。
このため、客席に居る客の興味が新鮮かつ持続性を有する事が期待できる。
以上のように、本発明の表示システム１００においては、表示板２０を窓ガラス８３としたときの一例で言えば、特定の対象者位置とその窓ガラス８３に対する視線方向を設定し、好ましくは、窓ガラス８３の外の特定の風景９０と模様状反射防止領域２Ａの位置が対象者に何らかの興味を持たせられるような組み合わせを設定する事が望ましい。さらに、屋内側に窓ガラス８３の全面、或いは、前記特定の風景９０にかかる様に投影をする光源３０を設置するとき、光源３０は、通常は単純な屋内照明、好ましくは表示物を照らすような面照明、スポットライト、或いは、これらの組み合わせとするとよい。
《変形形態》
本発明の表示システム１００は、上記した形態以外に様々な形態をとり得る。以下、そのうちの一部を説明する。
本発明の表示システム１００は、上記した形態以外に様々な形態をとり得る。以下、そのうちの一部を説明する。
〔複数の表示板２０〕
前記実施形態では、表示板２０及び光源３０はともに１つであった。しかし、本発明においては、１の室内において、表示板２０或いは光源３０は複数設置されていてもよい。複数とすることにより、より複雑な表示が可能となる。
前記実施形態では、表示板２０及び光源３０はともに１つであった。しかし、本発明においては、１の室内において、表示板２０或いは光源３０は複数設置されていてもよい。複数とすることにより、より複雑な表示が可能となる。
《用途》
本発明による表示システム１００は、各種用途に適用することができる。例えば、住宅、店舗、事務所、学校、病院乃至は医院、等の建築物の窓、扉、間仕切、（透明な）隔壁、或いは、自動車、列車、船舶、航空機などの乗り物の窓、扉、間仕切、（透明な）隔壁、或いは、店舗のショウウインドウや商品展示箱、美術館の展示物の展示窓や展示箱等に使用するガラス板や樹脂板、看板などの用途である。
用途の例を挙げれば、間仕切、隔壁、展示ケースなどの用途で、特別な表示や衝突防止柵等を設置することなく、ガラス板の存在を視認し易くして、人や動物が該ガラス板に衝突しないように注意喚起する用途である。或いは、飲食店の窓ガラスとして、昼夜、観察位置で表示を変化させる視覚効果により、客席を演出する用途、或いは広告、宣伝用途などである。
本発明による表示システム１００は、各種用途に適用することができる。例えば、住宅、店舗、事務所、学校、病院乃至は医院、等の建築物の窓、扉、間仕切、（透明な）隔壁、或いは、自動車、列車、船舶、航空機などの乗り物の窓、扉、間仕切、（透明な）隔壁、或いは、店舗のショウウインドウや商品展示箱、美術館の展示物の展示窓や展示箱等に使用するガラス板や樹脂板、看板などの用途である。
用途の例を挙げれば、間仕切、隔壁、展示ケースなどの用途で、特別な表示や衝突防止柵等を設置することなく、ガラス板の存在を視認し易くして、人や動物が該ガラス板に衝突しないように注意喚起する用途である。或いは、飲食店の窓ガラスとして、昼夜、観察位置で表示を変化させる視覚効果により、客席を演出する用途、或いは広告、宣伝用途などである。
１ 透明基板
２Ａ 模様状反射防止領域
２Ｂ 非反射防止領域
３ 反射防止性微凹凸
４ 微小突起
４ｇ 溝
４Ｇ 微小突起群
４ＧＨＬ 高低微小突起群
４Ｈ 高高度微小突起
４Ｌ 低高度微小突起
４Ｍ 多峰性微小突起
４Ｍ1 （三峰）多峰性微小突起
４Ｍ2 （二峰）多峰性微小突起
４Ｓ 単峰性微小突起
５ 微小突起付与層
５Ａ 微小突起形成層
５Ｂ 形成用基材層
５Ｃ 接合層
６ 着色模様層
１０ 透明板
２０ 表示板
３０ 光源
４０ 従来の表示板
８１ 壁
８２ 窓
８３ 窓ガラス
８４ 窓枠
８５ 床
８６ 食卓
８７ 椅子
８８ 客席
８９ 廊下
９０ 風景
９０Ａ 山岳景色
９０Ｂ 灯籠
１００ 表示システム
Ｄｍａｘ 最大突起間距離
Ｌｉ 入射光
Ｌｉｎ 屋内光
Ｌｏｕｔ 屋外光
Ｌｒ 反射光
Ｏ 観察者
λｍａｘ （可視光の）最大波長
２Ａ 模様状反射防止領域
２Ｂ 非反射防止領域
３ 反射防止性微凹凸
４ 微小突起
４ｇ 溝
４Ｇ 微小突起群
４ＧＨＬ 高低微小突起群
４Ｈ 高高度微小突起
４Ｌ 低高度微小突起
４Ｍ 多峰性微小突起
４Ｍ1 （三峰）多峰性微小突起
４Ｍ2 （二峰）多峰性微小突起
４Ｓ 単峰性微小突起
５ 微小突起付与層
５Ａ 微小突起形成層
５Ｂ 形成用基材層
５Ｃ 接合層
６ 着色模様層
１０ 透明板
２０ 表示板
３０ 光源
４０ 従来の表示板
８１ 壁
８２ 窓
８３ 窓ガラス
８４ 窓枠
８５ 床
８６ 食卓
８７ 椅子
８８ 客席
８９ 廊下
９０ 風景
９０Ａ 山岳景色
９０Ｂ 灯籠
１００ 表示システム
Ｄｍａｘ 最大突起間距離
Ｌｉ 入射光
Ｌｉｎ 屋内光
Ｌｏｕｔ 屋外光
Ｌｒ 反射光
Ｏ 観察者
λｍａｘ （可視光の）最大波長
Claims (8)
- 透明基板と、前記透明基板の少なくとも一方の面上に、模様状反射防止領域と、前記模様状反射防止領域以外の領域である非反射防止領域とを有し、
前記模様状反射防止領域は、前記透明基板の前記一方の面上に反射防止性微凹凸を有し、
前記反射防止性微凹凸は、複数の微小突起の集合体である微小突起群によって形成され、
前記微小突起の平均突起間距離Ｄａｖｅが、可視光の最大波長λｍａｘに対して、Ｄａｖｅ≦λｍａｘである、
表示システム用透明板。 - 前記微小突起の最大突起間距離Ｄｍａｘが、可視光の最大波長λｍａｘに対して、Ｄｍａｘ≦λｍａｘである、
請求項１に記載の表示システム用透明板。 - 前記微小突起群は、高度が一定ではない微小突起の集合体として、相対的に低い高度の低高度微小突起と、前記低高度微小突起よりも相対的に高い高度の高高度微小突起とを含み、前記低高度微小突起が前記高高度微小突起により周囲を取り囲まれている高低微小突起群、を含んでなる、請求項１又は２に記載の表示システム用透明板。
- 前記反射防止性微凹凸は、前記微小突起として、頂部に溝を有する多峰性微小突起を含む、請求項１〜３に記載の表示システム用透明板。
- 前記透明基板の前記一方の面上に、着色模様層を有する、請求項１〜４のいずれかに記載の表示システム用透明板。
- 前記非反射防止領域に鏡面反射性領域を有する、請求項１〜５のいずれかに記載の表示システム用透明板。
- 請求項１〜６のいずれかに記載の透明板の前記模様状反射防止領域を有する側の表面における反射光強度差の模様によって表示を行なう、表示システム用表示板。
- 請求項７に記載の表示板と、前記表示板の前記模様状反射防止領域を有する側の面に可視光を照射する光源と、を含む、表示システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013263077A JP2014139666A (ja) | 2012-12-21 | 2013-12-19 | 透明板、表示システム用表示板、及び表示システム |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012279531 | 2012-12-21 | ||
| JP2012279531 | 2012-12-21 | ||
| JP2013263077A JP2014139666A (ja) | 2012-12-21 | 2013-12-19 | 透明板、表示システム用表示板、及び表示システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014139666A true JP2014139666A (ja) | 2014-07-31 |
Family
ID=51416382
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013263077A Pending JP2014139666A (ja) | 2012-12-21 | 2013-12-19 | 透明板、表示システム用表示板、及び表示システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2014139666A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016071070A (ja) * | 2014-09-29 | 2016-05-09 | 大日本印刷株式会社 | 情報表示システム |
| JP2017198969A (ja) * | 2016-02-26 | 2017-11-02 | ザ・ボーイング・カンパニーＴｈｅ Ｂｏｅｉｎｇ Ｃｏｍｐａｎｙ | 輸送体の客室の案内誘導アセンブリ |
| JP2019089217A (ja) * | 2017-11-13 | 2019-06-13 | 凸版印刷株式会社 | 赤外線潜像デバイス |
-
2013
- 2013-12-19 JP JP2013263077A patent/JP2014139666A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2016071070A (ja) * | 2014-09-29 | 2016-05-09 | 大日本印刷株式会社 | 情報表示システム |
| JP2017198969A (ja) * | 2016-02-26 | 2017-11-02 | ザ・ボーイング・カンパニーＴｈｅ Ｂｏｅｉｎｇ Ｃｏｍｐａｎｙ | 輸送体の客室の案内誘導アセンブリ |
| JP7057627B2 (ja) | 2016-02-26 | 2022-04-20 | ザ・ボーイング・カンパニー | 輸送体の客室の案内誘導アセンブリ |
| JP2019089217A (ja) * | 2017-11-13 | 2019-06-13 | 凸版印刷株式会社 | 赤外線潜像デバイス |
| JP7059575B2 (ja) | 2017-11-13 | 2022-04-26 | 凸版印刷株式会社 | 赤外線潜像デバイス |
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