JP2014129348A - 液晶配向剤、液晶配向膜および液晶表示素子 - Google Patents
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Abstract
Description
(1)液晶配向膜を形成させるための、物性の異なる2以上のポリアミック酸を組み合わせて用いたポリアミック酸組成物が知られている(特許文献1および2)。
(2)ポリアミック酸とポリアミドを用いたポリマー成分と、溶剤とを用いるワニス組成物が知られている(特許文献3)。
(3)物性の異なる2以上のポリアミック酸およびポリアミド、ならびに溶剤を用いたワニス組成物が知られている。(特許文献4)。
(4)特定の構造を有するアミン成分を用いて合成されるポリアミック酸等を用いた高分子材料を用いたワニス組成物が知られている(特許文献5)。
しかしながら、これらの先行技術によっては、電圧保持率および残留DCの問題が十分には解決されておらず、多くの検討が今なお継続されている。
また、液晶配向膜を形成させるためのポリイミドの原料としてジアミンを使用するが、このジアミンには非側鎖型ジアミン即ち側鎖基を持たないジアミンと、側鎖型ジアミン即ち側鎖基を有するジアミンが使用されている。これらのうち、側鎖型ジアミンは殆どがプレチルト角の付与のために使用されており(特許文献6)、残留DCなど電気特性を改善するための側鎖型ジアミンの開発はあまりおこなわれておらず、改善の余地がある。
化学式の定義において用いる用語「任意の」は、「位置だけでなく数においても自由に選択できること」を意味する。例えば、「任意のAがB、C、DまたはEで置き換えられてもよい」という表現は、1つのAがB、C、DまたはEで置き換えられてもよいという意味と、複数のAのどれもがB、C、DおよびEのいずれか1つで置き換えられてもよいという意味とに加えて、Bで置き換えられるA、Cで置き換えられるA、Dで置き換えられるA、およびEで置き換えられるAの少なくとも2つが混在してもよいという意味をも有する。但し、任意の−CH2−が他の基で置き換えられてもよいとするとき、連続する複数の−CH2−が同じ基で置き換えられることは含まれない。
環を構成する炭素の何れか1つと明確に結合していない置換基は、その結合位置が化学的に問題のない範囲内で自由であることを意味する。
複数の式において同じ記号が用いられている場合は、その基が同じ定義範囲を有することを意味するが、すべての式において同時に同じ基でなければならないことを意味しない。そのような場合は、複数の式において同じ基が選択されてもよいし、式ごとに異なる基が選択されてもよい。このとき、1つの式に複数の同じ記号が用いられている場合は、そのすべてが他の式における基と異なってもよいし、一部が異なってもよい。
特に限定しない「アルキル」は、直鎖アルキルおよび分岐アルキルの総称として用いられる。
[2] A1が−COO−または炭素数1〜3のアルキレンであり、Rが水素または炭素数1〜4のアルキルである、[1]項に記載の液晶配向剤。
ここに、式(1−1)において、aは0または1であり;環Aは1,4−シクロヘキシレン、1,3−フェニレン、1,4−フェニレンまたは1,2,4−トリアゾール−3,5−ジイルであり;シクロヘキシレンおよびフェニレンの任意の水素はメチル、ジエチルアミノまたはジビニルアミノで置き換えられてもよく;
式(1−2)におけるW1は−CH2−または−NH−であり;
式(1−3)におけるbは0〜2の整数であり:
ここに、X1は単結合または炭素数1〜10のアルキレンであり;このアルキレンの任意の−CH2−は−O−、−S−、−NH−、−N(CH3)−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−、−CO−、−SO2−、−CH=CH−、−C≡C−、−N=N−、1,3−フェニレン、1,4−フェニレンまたはピペラジン−1,4−ジイルで置き換えられてもよく;ベンゼン環の任意の水素はフッ素、メチル、メトキシ、−CF3または−OCF3で置き換えられてもよく:
ここに、Y1は炭素数3〜30のアルキルであり;このアルキルの任意の−CH2−は−O−、−CH=CH−または1,4−シクロヘキシレンで置き換えられてもよく;Y2は水素またはY1であり:
式(3)において、X2は単結合、−O−、−COO−、−OCO−、−CONH−または炭素数1〜6のアルキレンであり;R1は炭素数3〜30のアルキル、コレステリル、または式(a)で表される基であり;
式(a)において、X3およびX4は独立して単結合または炭素数1〜4のアルキレンであり;環Bおよび環Cは独立して1,4−フェニレンまたは1,4−シクロヘキシレンであり;R2およびR3は独立してフッ素またはメチルであって、fおよびgは独立して0、1または2であり;c、dおよびeは独立して0または1であって、これらの合計は1〜3であり;R4は炭素数1〜30のアルキル、炭素数1〜30のアルコキシ、炭素数2〜30のアルコキシアルキル、または炭素数2〜30のアルケニルであり、これらのアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキルおよびアルケニルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく:
ここに、X5は独立して−O−または炭素数1〜6のアルキレンであり;jは0または1であり;R5は炭素数1〜30のアルキル、炭素数1〜30のアルコキシ、炭素数2〜30のアルコキシアルキル、または炭素数2〜30のアルケニルであり;環Tは1,4−フェニレンまたは1,4−シクロヘキシレンであり;X6は単結合または炭素数1〜3のアルキレンであり;hは0または1である。
ここに、X5は独立して−O−または炭素数1〜6のアルキレンであり;jは0または1であり;R6は水素、炭素数1〜30のアルキル、炭素数1〜30のアルコキシ、炭素数2〜30のアルコキシアルキル、または炭素数2〜30のアルケニルであり;R7は炭素数6〜30のアルキルまたはコレステリルである。
ここに、Y4は炭素数2〜10のアルキル、炭素数2〜10のアルコキシ、炭素数2〜10のアルコキシアルキル、または炭素数2〜10のアルケニルであり;Y5は炭素数1〜10のアルキル、炭素数1〜10のアルコキシ、炭素数2〜10のアルコキシアルキル、または炭素数2〜10のアルケニルである。
ここに、Y6は炭素数1〜10のアルキル、炭素数1〜10のアルコキシ、炭素数2〜10のアルコキシアルキル、または炭素数2〜10のアルケニルである。
式(I)において、A1は単結合、−O−、−COO−、−CO−、−CONH−または炭素数1〜6のアルキレンであり、好ましくは−COO−または炭素数1〜3のアルキレンであり、より好ましくは−COO−または−CH2−である。Rは独立して水素または炭素数1〜6のアルキルであり、好ましくは水素または炭素数1〜4のアルキルであり、より好ましくは水素またはターシャリブチル(以下の説明では、t−ブチルまたはt−Buと略称することがある。)である。
ここに、aは0または1であり、環Aは1,4−シクロヘキシレン、1,3−シクロヘキシレン、1,4−フェニレン、1,3−フェニレンまたは1,2,4−トリアゾール−3,5−ジイルであり、好ましくは1,4−シクロヘキシレン、1,4−フェニレンまたは1,2,4−トリアゾール−3,5−ジイルである。そして、シクロヘキシレンおよびフェニレンの任意の水素はメチル、−CF3、ジエチルアミノまたはジビニルアミノで置き換えられてもよい。
ここに、X1は単結合または炭素数1〜10のアルキレンであり、このアルキレンの任意の−CH2−は−O−、−S−、−NH−、−N(CH3)−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−、−CO−、−SO2−、−CH=CH−、−C≡C−、−N=N−、1,3−フェニレン、1,4−フェニレンまたはピペラジン−1,4−ジイルで置き換えられてもよい。ベンゼン環の任意の水素はフッ素、メチル、メトキシ、−CF3または−OCF3で置き換えられてもよい。そして、好ましくは、X1は単結合または基中の任意の−CH2−が−O−、1,4−フェニレンまたはピペラジン−1,4−ジイルで置き換えられてもよい炭素数1〜10のアルキレンであり、ベンゼン環の1つの水素はメチルで置き換えられてもよい。なお、ベンゼン環に対するアミノ基の結合位置はX1に対してパラ位またはメタ位であり、パラ位が好ましい。
ここに、Y1は炭素数3〜30のアルキルであり、好ましくは炭素数3〜20のアルキルであり、より好ましくは素数3〜10のアルキルである。そして、これらのアルキルの任意の−CH2−は−O−、−CH=CH−または1,4−シクロヘキシレンで置き換えられてもよい。Y2は水素またはY1である。
これらの式において、Y3は炭素数3〜10のアルキル、炭素数3〜10のアルコキシ、または炭素数3〜10のアルケニルであり、Y4は炭素数2〜10のアルキル、炭素数2〜10のアルコキシ、または炭素数2〜10のアルケニルである。そして、Y5は炭素数1〜10のアルキル、炭素数1〜10のアルコキシ、または炭素数2〜10のアルケニルである。
式(3)において、X2は単結合、−O−、−COO−、−OCO−、−CONH−または炭素数1〜6のアルキレンであり、R1は炭素数3〜30のアルキル、コレステリル、または式(a)で表される基である。R1は好ましくは炭素数3〜10のアルキルまたは式(a)で表される基である。そして、ベンゼン環に対する2つのアミノ基の結合位置は、X2に対して共にメタ位であることが好ましい。
式(a)において、X3およびX4は独立して単結合または炭素数1〜4のアルキレンである。環Bおよび環Cは独立して1,4−フェニレンまたは1,4−シクロヘキシレンである。R2およびR3は独立してフッ素またはメチルであって、fおよびgは独立して0、1または2である。c、dおよびeは独立して0または1であって、これらの合計は1〜3である。R4は炭素数1〜30のアルキル、炭素数1〜30のアルコキシ、炭素数2〜30のアルコキシアルキル、または炭素数2〜30のアルケニルであり、好ましくは炭素数1〜10のアルキル、炭素数1〜10のアルコキシ、炭素数2〜10のアルコキシアルキル、または炭素数2〜10のアルケニルである。そして、これらのアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキルおよびアルケニルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい。
式(4−1)において、X5は独立して−O−または炭素数1〜6のアルキレンであり、jは0または1である。R5は炭素数1〜30のアルキル、炭素数1〜30のアルコキシ、炭素数2〜30のアルコキシアルキル、または炭素数2〜30のアルケニルであり、好ましくは炭素数1〜10のアルキル、炭素数1〜10のアルコキシ、炭素数2〜10のアルコキシアルキル、または炭素数2〜10のアルケニルである。環Tは1,4−フェニレンまたは1,4−シクロヘキシレンであり、X6は単結合または炭素数1〜3のアルキレンであり、hは0または1である。そして、jが1であるとき、ベンゼン環に対する2つのアミノ基の結合位置は、X5に対して共にパラ位であることが好ましい。
式(4−2)において、X5は独立して−O−または炭素数1〜6のアルキレンであり;jは0または1であり;R6は水素、炭素数1〜30のアルキル、炭素数1〜30のアルコキシ、炭素数2〜30のアルコキシアルキル、または炭素数2〜30のアルケニルであり、好ましくは水素、炭素数1〜10のアルキル、炭素数1〜10のアルコキシ、炭素数2〜10のアルコキシアルキル、または炭素数2〜10のアルケニルである。そして、R7は炭素数6〜30のアルキルまたはコレステリルであり、好ましくは炭素数6〜10のアルキルである。
ここに、W1はフェニルまたは炭素数1〜20のアルキルである。
最初に、実施例において用いられる酸無水物、ジアミンおよび溶剤を、化合物No.または略号と共に次に示す。なお、実施例においては容量の単位リットルを略号Lで示す。従って、ミリリットルはmLで示される。
<酸無水物>
酸無水物(H−1)
酸無水物(S−1)
酸無水物(S−6)
酸無水物(S−48)
NMP:N−メチル−2−ピロリドン
BC:ブチルセロソルブ(エチレングリコールモノブチルエーテル)
<ジアミン(I−1)(4−(3,5−ジアミノベンジル)フェノール)の合成>
特開2006−124371号公報に従って、4−(3,5−ジニトロベンジル)フェノールを合成した。この化合物10gと5%パラジウム活性炭1gをジメチルホルムアミド100mLに混合し、40℃で水素添加反応を行った(水素圧680kPa)。反応後、温度を室温まで冷却し、触媒をろ過により除去し、溶媒を減圧留去して目的物を得た。収量7.5g、(96%)。
融点;230.4−233.8℃
1H NMR;9.15(s,1H), 6.98(d,2H,J=8.35Hz),6.72(d,2H,J=8.52Hz),5.66(s,3H),4.63(br s,4H)
<ジアミン(I−2)(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル 3,5−ジアミノベンゾエート)の合成>
温度計、攪拌機および滴下漏斗を装着した2L−3つ口フラスコに、市販の水素化ホウ素ナトリウム6.4g(170mmol)を入れ、脱水テトラヒドロフラン500mLを加えた。溶液を5℃以下に冷却し、そこに市販の2,6−ジ−t−ブチルベンゾキノン50g(230mmol)を脱水テトラヒドロフラン500mLに溶解させた溶液を滴下した。反応液を室温まで昇温させ、室温で8時間攪拌させた。攪拌後、得られた反応液を3M−塩酸1Lにあけ、酢酸エチル1Lで抽出した。有機層を純水1Lで2回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥させた。無水硫酸マグネシウムをろ過して除去した後、溶媒を減圧留去して、2,6−ジ−t−ブチルヒドロキノンを得た(収量46g、収率91%)。
融点;203.1−206.5℃
1H−NMR(ppm);1.44(18H,s,−CH3)、3.74(4H,br・s、、−NH2),5.11(1H,s,−OH),6.24(1H,m,arm・H),6.92(2H,m,arm・H)、7.26(2H,m,arm・H).
<ポリアミック酸の合成1>
温度計、攪拌機、原料投入仕込み口および窒素ガス導入口を備えた100mLの四つ口フラスコに、ジアミン(I−1)を2.55g、ジアミン(2−1−1)を0.591gおよび脱水NMP60.0gを入れ、乾燥窒素気流下攪拌溶解した。次いで酸無水物(H−1)を1.30g、酸無水物(S−1)を1.75gを添加し、室温環境下で30時間反応させた。反応中に反応温度が上昇する場合は、反応温度を約70℃以下に抑えて反応させた。
得られた溶液に、BCを34.0gを加えて、濃度が6重量%のポリアミック酸溶液(PA1を調製した。得られたPA1の粘度は26.8mPa・sであった。また、生成したポリアミック酸の重量平均分子量は55,000であった。
ここで、ポリマーの重量平均分子量は、得られたポリマーを(リン酸/DMF=0.6/100:重量比)希釈液でポリマー濃度が約1重量%になるように希釈し、クロマトパックC−R7A(島津製作所製)を用いて、上記希釈液を展開剤としてGPC法により測定し、ポリスチレン換算することにより求めた。なお、カラムはGF−7HQ(昭和電工株式会社製)を使用し、カラム温度50℃、流速0.6mL/minの条件で測定した。
<ポリアミック酸の合成2および3>
表1に示した割合に酸無水物、ジアミンおよび溶剤の組成を変更した以外は、合成例1に準拠してポリアミック酸溶液(PA2、PA3)を調製した。
<ポリアミック酸の合成4>
温度計、攪拌機、原料投入仕込み口および窒素ガス導入口を備えた100mLの四つ口フラスコに、ジアミン(3−7−1)を1.17g、ジアミン(2−1−1)を2.14g、および脱水NMP60.0gを入れ、乾燥窒素気流下攪拌溶解した。次いで酸無水物(H−1)を0.59g、酸無水物(S−1)を2.11gを添加し、室温環境下で30時間反応させた。反応中に反応温度が上昇する場合は、反応温度を約70℃以下に抑えて反応させた。
得られた溶液に、BCを34.0gを加えて、濃度が6重量%のポリアミック酸溶液(PA4)を調製した。得られたPA1の粘度は23.6mPa・sであった。また、生成したポリアミック酸の重量平均分子量は約36,000であった。このPA4は、PA1〜PA3とブレンドするためのポリマー溶液として用いた。
表1に示したようにジアミンを変更した以外は合成例3に準じて、ジアミン(I)を使用しない濃度6重量%のポリアミック酸溶液CA1およびCA2を調製した。合成例3を含めて、原料組成および得られたポリアミック酸の重量平均分子量を表1にまとめた。
合成例3で調製した濃度6重量%のポリアミック酸溶液(PA1)と合成例6で調製した濃度6重量%のポリアミック酸溶液(PA4)を重量比2/8で混合した。得られた混合物を、NMP/BC=1/1(重量比)の混合溶剤で4重量%に希釈して液晶配向剤とした。液晶配向剤を用いて、下記の通り液晶表示素子を作製した。
<電圧保持率(VHR)の測定>
東陽テクニカ製液晶物性評価装置6254型を用いて、液晶表示素子のVHRの測定を行った。測定条件は、ゲ−ト幅60μsec、周波数3Hz、波高±1Vであり、測定温度は60℃である。
<VHRの長期光信頼性の評価>
VA型液晶表示素子は家庭用テレビに使用される場合が多く、様々な環境で長時間使用されるため、長期間使用した場合の光焼付きが問題となり、長期光信頼性が求められる。長期光信頼性の評価は、点灯させた5000cd/m2の液晶ディスプレイ用冷陰極管型バックライトの上に電圧保持率を測定した液晶表示素子を載せておき、2週間後に再度電圧保持率を測定することによりおこなった。バックライトの上に載せる前に測定した電圧保持率と2週間後の再測定との差が小さいほど長期光信頼性が高いといえる。
<誘電吸収法による残留DCの測定>
東陽テクニカ製液晶物性評価装置6254型を用いて、誘電吸収法による残留DCの測定を行った。測定条件は、セルに直流5Vを1時間印加後1秒ショートして30分間電位差を観察した。表には最大の残留DCと最小の残留DCを記載した。なお測定温度は60℃である。この値が小さいほど電気特性が良好といえる。
<プレチルト角の測定>
プレチルト角はクロスニコル下でサンプル回転角−透過率曲線を求めて透過率極小となるサンプル回転角の値より算出した。
PA1に代えてPA2、PA3およびCA1をそれぞれ用いた他は実施例1と同様にして液晶表示素子を作成し、実施例1と同様に特性の評価を行った。また、PA1に代えてCA1を用い、PA4に代えてCA2を用いた場合(比較例2)について、他の条件は実施例1と同様にして液晶表示素子を作成し、実施例1と同様に特性の評価を行った。これらの結果を表2に示す。
酸無水物、ジアミンおよび溶剤の組成を変更した以外は、合成例3に準拠してポリアミック酸溶液(PA5〜PA9およびCA3〜CA7)を調製した。結果を表3に示す。
<表3>
表3に示したポリアミック酸溶液PA5を、NMP/BC(重量比1/1)の混合溶媒で4重量%になるように希釈して液晶配向剤とした。この液晶配向剤を2枚のITO電極付きガラス基板にスピンナーにて塗布し、膜厚70nmの膜を形成した。塗膜後80℃にて約5分間加熱乾燥した後、220℃にて10分間加熱処理を行い、液晶配向膜を形成した。
配向膜が形成された一方のガラス基板を、株式会社飯沼ゲージ製作所製のラビング処理装置を用いて、ラビング布(毛足長1.9mm:レーヨン)の毛足押し込み量0.40mm、ステージ移動速度を60mm/sec、ローラー回転速度を1000rpmの条件で、ラビング処理した。もう一方のガラス基板は、他方のラビング方向と直交するようにラビング方向を90°変えて同様にラビング処理した。これらの基板を、超純水中で5分間超音波洗浄してからオーブン中120℃で30分間乾燥した。一方のガラス基板に7μmのギャップ材を散布した。
配向膜を形成した面を内側にしてラビング方向が直交するように対向配置させた後、エポキシ硬化剤でシールし、ギャップ7μmの90°ツイストセルを作製した。このセルに、下記の液晶組成物B100重量部に対して光学活性物質であるコレステリックノナノエート5重量部を加えて均質にした組成物を注入し、注入口を光硬化剤で封止した。次いで、110℃で30分間加熱処理を行い、TN型液晶表示素子を作製した。
<電圧保持率(VHR)の測定>
東陽テクニカ製液晶物性評価装置6254型を用いて、液晶表示素子のVHRの測定を行った。測定条件は、ゲ−ト幅60μsec、周波数3Hz、波高±1Vであり、測定温度は60℃である。
<VHRの長期光信頼性の評価>
TN型液晶表示素子に関しても、実施例1と同様にVA型液晶表示素子と同様に長期光信頼性を評価した。
<フリッカーフリー法による残留DCの測定>
TN型液晶表示素子については、以下に示すフリッカーフリー法により残留DCを測定した。
偏光板を90度配置した(株)ニコン製偏光顕微鏡に治具を用いて装着したTN型液晶表示素子に、横河電機(株)製FG110型ファンクジョンジェネレーターを用いて30Hz、3Vの矩形波を印加した。そこに3Vの直流電圧を30分間重畳した後、直流電圧の重畳を終了してから、アジレント・テクノロジー社製DSO3062型オシロスコープに接続した浜松ホトニクス製光電子増倍管により、液晶表示素子の透過光量を検出した。オシロスコープに映し出された光量の変化を表す波形の変化が最も少なくなるようにファンクションジェネレーターのオフセット電圧を調節し、そのオフセット電圧をフリッカー消去電圧として記録した。表には最大の残留DCと最小の残留DCを記載した。この値が小さいほど電気特性が良好といえる。
<プレチルト角の測定>
TN型液晶表示素子のプレチルト角は、中央精機製液晶特性評価装置OMS−CA3型で測定した。
ポリアミック酸溶液PA6〜PA8およびCA3〜CA5のそれぞれについて、実施例4と同様にして液晶表示素子を作製し、評価した。結果を表4に示す。
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