JP2014110241A - 耐インバータサージ絶縁ワイヤ及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】導体の外周に少なくとも1層の、エナメル焼付層及び押出被覆樹脂層を有し、エナメル焼付層と押出被覆樹脂層との合計厚さが50μm以上、エナメル焼付層の厚さが60μm以下、押出被覆樹脂層の厚さが200μm以下、押出被覆樹脂層の樹脂が融点300℃以上であり、押出被覆樹脂層が50%以上の皮膜結晶化度を有する耐インバータサージ絶縁ワイヤ、並びに、エナメル焼付層の外周に接着層を形成し、接着層に用いられた樹脂のガラス転移温度よりも高い温度で溶融状態にある、押出被覆樹脂層を形成する熱可塑性樹脂を接着層に押出して接触させる耐インバータサージ絶縁ワイヤの製造方法。
【選択図】なし
Description
部分放電開始電圧を測定する際は、マグネットワイヤとして用いられる場合における最も過酷な状況を想定し、密着する二本の絶縁ワイヤの間について観測できるような試料形状を作製する方法が用いられる。例えば、断面円形の絶縁ワイヤについては、二本の絶縁ワイヤを螺旋状にねじることで線接触させ、二本の間に電圧をかける。また、断面形状が方形の絶縁ワイヤについては、二本の絶縁ワイヤの長辺である面同士を面接触させ、二本の間に電圧をかけるという方法である。
一方、焼き付け炉を通す回数を増やさないために1回の焼き付けで塗布できる厚さを厚くする方法もあるが、この方法では、ワニスの溶媒が蒸発しきれずにエナメル層の中に気泡として残るという欠点があった。
一方、部分放電開始電圧及び導体とエナメル層との密着性の観点から取り組んだ技術として特許文献3が挙げられる。
例えば、ステータースロットの内部に、丸断面の電線を細密充填した場合、デッドスペースとなる空隙と絶縁皮膜の断面積が問題となる。このため、ユーザーでは、丸断面の電線が変形するほど、ステータースロットへ電線を押し込み、少しでも占積率の向上を狙っている。しかし、絶縁皮膜の断面積を少なくすることは、その電気的な性能(絶縁破壊など)を犠牲にするため、望ましいとはいえない。
以上の理由から、占積率を向上させる手段として、ごく最近では導体の断面形状が四角型(正方形や長方形)に類似した平角線を使用することが試みられている。平角線の使用は、占積率の向上には劇的な効果を示すが、平角導体上に絶縁皮膜を均一に塗布することが難しく、特に断面積の小さい絶縁電線には絶縁皮膜の厚さの制御が難しいことから、あまり普及していない。
前者の潤滑性能を付与させる方法として、電線の表面にワックスなどの潤滑剤を塗布する方法、絶縁皮膜中に潤滑剤を添加して電線の製造時にその潤滑剤を電線表面にブリードアウトさせて潤滑性能を付与させる方法などが旧来採られており、その実施例は多い。しかしながら、皮膜に潤滑性能を付与させる方法は、電線皮膜自体の強度を向上させる訳ではないので、外傷要因に対しては効果があるように見えるが、実際にはコイル加工時の効果に限界があった。
しかしながら、これらの微粉末を添加する方法は、微粉末の添加手法が複雑であり、分散が困難であるため、多くは溶剤に分散させたこれらの微粉末を絶縁塗料中に添加する方法が採られている。
これらの自己潤滑成分は、その潤滑成分によって自己潤滑性能(摩擦係数)の向上は見られるが、加工前後での電気絶縁性維持特性の低下に対しては、往復摩耗などの特性向上は見られず、電気絶縁性維持ができない。また、ポリエチレンやポリテトラフルオロエチレンなどの多くの自己潤滑成分は、絶縁塗料との比重の差によって、絶縁塗料中で分離してしまい、これらの塗料を使用する方法は実施上の問題があった。
(1)矩形状の断面を有する導体の外周に、少なくとも1層のエナメル焼付層と、その外側に少なくとも1層の押出被覆樹脂層とを有し、該エナメル焼付層と該押出被覆樹脂層との間に厚さ2〜20μmの接着層を有し、耐インバータサージ絶縁ワイヤの断面における前記エナメル焼付層と前記押出被覆樹脂層の断面形状が矩形状であって、断面図における前記導体を取り囲む該エナメル焼付層と該押出被覆樹脂層が形成する前記矩形の断面形状において、該導体に対して上下または左右で対向する2対の2辺のうちの少なくとも1対の2辺がともに、該エナメル焼付層と該押出被覆樹脂層の合計厚さが100μm以上、該エナメル焼付層の厚さが50μm以下、該押出被覆樹脂層の厚さが200μm以下であり、かつ該押出被覆樹脂層の樹脂が融点300℃以上370℃以下であって、ポリエーテルエーテルケトン、変性ポリエーテルエーテルケトン、熱可塑性ポリイミド及び芳香族ポリアミドからなる群より選択される少なくとも1種の熱可塑性樹脂であり、該押出被覆樹脂層が50%以上の示差走査熱量分析により下記式で求められた皮膜結晶化度を有し、
前記接着層が、ポリエーテルイミド、ポリフェニルサルホン及びポリエーテルサルホンからなる群より選択される少なくとも1種の熱可塑性樹脂の層であり、かつ、
部分放電開始電圧が、2450Vp〜2520Vpである耐インバータサージ絶縁ワイヤ。
式: 皮膜結晶化度(%)=[(融解熱量−結晶化熱量)/(融解熱量)]×100
(2)前記対向する2対の2辺のうちの少なくとも1対の2辺がともに、該エナメル焼付層と該押出被覆樹脂層の合計厚さが182μm以上である(1)に記載の耐インバータサージ絶縁ワイヤ。
(3)前記エナメル焼付層が、厚さが6μm以上50μm以下のポリイミド樹脂またはポリアミドイミド樹脂である(1)または(2)に記載の耐インバータサージ絶縁ワイヤ。
(4)前記エナメル焼付層の外周に、ワニス化された樹脂を焼き付けて前記接着層を形成し、その後、該接着層に用いられた前記樹脂のガラス転移温度よりも高い温度で溶融状態にある、押出被覆樹脂層を形成する熱可塑性樹脂を前記接着層に押出して接触させ、前記エナメル焼付層に前記接着層を介して前記押出被覆樹脂を熱融着させて前記押出被覆樹脂層を形成する(1)〜(3)のいずれか1項に記載の耐インバータサージ絶縁ワイヤの製造方法。
したがって、本発明の耐インバータサージ絶縁ワイヤ(以下、単に「絶縁ワイヤ」という)は、耐熱巻線用として好適であり、例えば、インバータ関連機器、高速スイッチング素子、インバータモーター、変圧器等の電気機器コイルや宇宙用電気機器、航空機用電気機器、原子力用電気機器、エネルギー用電気機器、自動車用電気機器用のマグネットワイヤ等に用いることができる。
この合計厚さは、同一であっても異なっていてもよく、ステータースロットに対する占有率の観点から以下のように異なっているのが好ましい。すなわち、モーター等のステータースロット内でおきる部分放電はスロットと電線の間で起きる場合、及び電線と電線の間で起きる場合の2種類ある。そこで、絶縁ワイヤにおいて、フラット面に設けられた押出被覆樹脂層の厚さが、エッジ面に設けられた押出被覆樹脂層の厚さと異なる絶縁ワイヤを用いることによって、部分放電開始電圧の値を維持しつつ、モーターのスロット内の全断面積に対する導体のトータル断面積の割合(占積率)を向上させることができる。
ここで、フラット面とは平角線の断面が矩形の対の対向する2辺のうち長辺の対をいい、エッジ面とは対向する2辺のうち短辺の対をいう。
スロット内に1列にエッジ面とフラット面での厚さが異なる電線を並べるとき、スロットと電線の間で放電が起きる場合はスロットに対して厚膜面が接するように並べ、隣あう電線間の膜厚は薄い方で並べる。膜厚が薄い分より多くの本数を挿入することができ、占積率は向上する。またこの時、部分放電開始電圧の値は維持できる。同様に電線と電線の間で放電が起きやすい場合は膜厚の厚い面を電線と接する面にして、スロットに面する方は薄くすると必要以上にスロットの大きさを大きくしないため占積率は向上する。またこの時、部分放電開始電圧の値は維持できる。
押出被覆樹脂層の厚さが、該断面の一対の対向する2辺と他の一対の対向する2辺とで異なる場合は、一対の対向する2辺の厚さを1とした時もう1対の対向する2辺の厚さは1.01〜5の範囲にするのが好ましく、さらに好ましくは1.01〜3の範囲である。
本発明の絶縁ワイヤにおける導体としては、従来、絶縁ワイヤで用いられているものを使用することができるが、好ましくは、酸素含有量が30ppm以下の低酸素銅、さらに好ましくは20ppm以下の低酸素銅または無酸素銅の導体である。酸素含有量が30ppm以下であれば、導体を溶接するために熱で溶融させた場合、溶接部分に含有酸素に起因するボイドの発生がなく、溶接部分の電気抵抗が悪化することを防止するとともに溶接部分の強度を保持することができる。
また、導体はその横断面が所望の形状のものを使用できるが、ステータースロットに対する占有率の点で、円形以外の形状を有するものが好ましく、特に平角形状のものが好ましい。更には、角部からの部分放電を抑制するという点において、4隅に面取り(半径r)を設けた形状であることが望ましい。
本発明の絶縁ワイヤにおけるエナメル焼付層(以下、単に「エナメル層」ともいう)は、エナメル樹脂で少なくとも1層に形成され、1層であっても複数層であってもよい。エナメル層を形成するエナメル樹脂としては、従来用いられているものを使用することができ、例えば、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリエーテルイミド、ポリイミドヒダントイン変性ポリエステル、ポリアミド、ホルマール、ポリウレタン、ポリエステル、ポリビニルホルマール、エポキシ、ポリヒダントインが挙げられる。エナメル樹脂は、耐熱性に優れる、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリエーテルイミド、ポリイミドヒダントイン変性ポリエステルなどのポリイミド系樹脂が好ましい。エナメル樹脂は、これらを1種独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよい。
本発明の絶縁ワイヤにおける押出被覆樹脂層は、部分放電開始電圧の高い絶縁ワイヤを得るために、エナメル層の外側に少なくとも1層設けられ、1層であっても複数層であってもよい。
押出被覆樹脂層は熱可塑性樹脂の層であり、押出被覆樹脂層を形成する熱可塑性樹脂は、押出成形可能な熱可塑性樹脂であって、耐熱老化特性に加えて、加工前後での電気絶縁性維持特性、エナメル層と押出被覆樹脂層と接着強度及び耐溶剤性にも優れる点で、融点が310℃以上の熱可塑性樹脂が好ましく、330℃以上の熱可塑性樹脂がさらに好ましい。熱可塑性樹脂の融点の上限は、370℃以下であり、360℃以下であるのがさらに好ましい。熱可塑性樹脂の融点は、示差走査熱量分析(DSC)により、後述する方法によって、測定できる。
この熱可塑性樹脂は、部分放電開始電圧をより一層高くできる点で、比誘電率が4.5以下であるのが好ましく、4.0以下であるのがさらに好ましい。ここで、比誘電率とは市販の誘電率測定装置で測定することができる。測定温度、周波数については、必要に応じて変更するものであるが、本発明においては、特に記載の無い限り、25℃、50Hzにおいて測定した値を意味する。
押出成形によって押出被覆樹脂層を形成する場合に、熱可塑性樹脂をエナメル層上に押出成形した後に10秒以上の時間を空けて冷却、例えば水冷するか、又は、熱可塑性樹脂をエナメル層上に押出成形した後に約250℃まで例えば水冷し、次いで外気温に2秒以上晒すと、押出被覆樹脂層の皮膜結晶化度を50%以上にすることができ、所望の絶縁破壊電圧を維持できる。
この好適な実施態様における絶縁ワイヤは、後述するように、エナメル層と押出被覆樹脂層と接着強度にも優れている。
本発明において、耐熱老化特性は、エナメル層及び押出被覆樹脂層のいずれにも亀裂が確認できず、異常がない場合に優れたものと評価できる。この好適な実施態様における絶縁ワイヤは、1000時間はもちろん、1500時間であっても、エナメル層及び押出被覆樹脂層のいずれにも亀裂が確認できず、耐熱老化特性に優れ、高温の環境で使用されてもより一層長期間にわたって信頼性を保つことができる。
この製造方法において、接着層、すなわちエナメル層と押出被覆樹脂層を十分に熱融着させるためには、押出被覆工程における、押出被覆樹脂層を形成する熱可塑性樹脂の加熱温度は、接着層を形成する熱可塑性樹脂のガラス転移温度(Tg)以上であるのが好ましく、さらに好ましくはTgよりも30℃以上高い温度、特に好ましくはTgよりも50℃以上高い温度である。ここで、押出被覆樹脂層を形成する熱可塑性樹脂の加熱温度は、ダイス部の温度である。
接着層を形成する熱可塑性樹脂をワニス化する溶剤は、選択した熱可塑性樹脂を溶解させ得る溶剤であればいずれでもよい。
1.8×3.4mm(厚さ×幅)で四隅の面取り半径r=0.3mmの平角導体(酸素含有量15ppmの銅)を準備した。エナメル層の形成に際しては、導体の形状と相似形のダイスを使用して、ポリアミドイミド樹脂(PAI)ワニス(日立化成製、商品名:HI406)を導体へコーティングし、450℃に設定した炉長8mの焼付炉内を、焼き付け時間15秒となる速度で通過させ、この1回の焼き付け工程で厚さ5μmのエナメルを形成した。これを繰り返し5回行うことで厚さ25μmのエナメル層を形成し、被膜厚さ25μmのエナメル線を得た。
押出被覆樹脂層の厚さ及び合計厚さを表2に示す厚さに変更したこと以外は参考例1と同様にしてPEEK押出被覆エナメル線からなる各絶縁ワイヤを得た。押出温条件は表1に従って行った。
押出被覆樹脂としてPEEKに代えてポリフェニレンスルフィド(PPS、DIC製、商品名:FZ−2100、比誘電率3.4)を用いて、押出被覆樹脂層の厚さ及び合計厚さを表2に示す厚さに変更したこと以外は参考例1と同様にしてPPS押出被覆エナメル線からなる各絶縁ワイヤを得た。押出温度条件は表1に従った。
エナメル樹脂としてポリアミドイミドに代えてポリイミド樹脂(PI)ワニス(ユニチカ製、商品名:Uイミド)を用い、また押出被覆樹脂としてPEEKに代えて芳香族ポリアミド6T(PA6T、三井化学製、商品名:アーレン)を用いて、エナメル層の厚さ、押出被覆樹脂層の厚さ及び合計厚さを表2に示す厚さに変更したこと以外は参考例1と同様にして、PA6T押出被覆エナメル線からなる絶縁ワイヤを得た。押出温度条件は表1に従った。
エナメル樹脂としてポリアミドイミドに代えてポリイミド樹脂(PI)ワニス(ユニチカ製、商品名:Uイミド)を用い、また押出被覆樹脂としてPEEKに代えて熱可塑性ポリイミド(熱可塑性PI、三井化学製、商品名:PL450C)を用いて、エナメル層の厚さ、押出被覆樹脂層の厚さ及び合計厚さを表2に示す厚さに変更したこと以外は参考例1と同様にして、熱可塑性PI押出被覆エナメル線からなる絶縁ワイヤを得た。押出温度条件は表1に従った。
エナメル樹脂としてポリアミドイミドに代えてポリイミド樹脂(PI)ワニス(ユニチカ製、商品名:Uイミド)を用いて、エナメル層の厚さ、押出被覆樹脂層の厚さ及び合計厚さを表2に示す厚さに変更したこと以外は参考例1と同様にして、PEEK押出被覆エナメル線からなる絶縁ワイヤを得た。押出温度条件は表1に従った。
エナメル樹脂としてポリアミドイミドに代えてポリエステルイミド(EI)樹脂ワニス(東特塗料製、商品名:ネオヒート8600)を用いて、エナメル層の厚さ、押出被覆樹脂層の厚さ及び合計厚さを表2に示す厚さに変更したこと以外は参考例1と同様にして、PEEK押出被覆エナメル線からなる絶縁ワイヤを得た。押出温度条件は表1に従った。
押出被覆樹脂としてPEEKに代えて変性ポリエーテルエーテルケトン(modified−PEEK、ソルベイスペシャリティポリマーズ製、商品名:アバスパイアAV−650、比誘電率3.1)を用いて、エナメル層の厚さ、押出被覆樹脂層の厚さ及び合計厚さを表2に示す厚さに変更したこと以外は参考例1と同様にして、modified−PEEK押出被覆エナメル線からなる絶縁ワイヤを得た。押出温度条件は表1に従った。
実施例1は、接着層を設けた実験例である。
1.8×3.4mm(厚さ×幅)で四隅の面取り半径r=0.3mmの平角導体(酸素含有量15ppmの銅)を準備した。エナメル層の形成に際しては、導体の形状と相似形のダイスを使用して、ポリアミドイミド樹脂(PAI)ワニス(日立化成(株)製、商品名:HI406)を導体へコーティングし、450℃に設定した炉長8mの焼付炉内を、焼き付け時間15秒となる速度で通過させ、この1回の焼き付け工程で厚さ5μmのエナメルを形成した。これを繰り返し6回行うことで厚さ31μmのエナメル層を形成し、エナメル線を得た。
次に、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)にポリエーテルイミド樹脂(PEI)(サビックイノベーティブプラスチックス製、商品名:ウルテム1010)を溶解させ、20wt%溶液とした樹脂ワニスを、導体の形状と相似形のダイスを使用して、前記エナメル線へコーティングし、450℃に設定した炉長8mの焼付炉内を、焼き付け時間15秒となる速度で通過させ、これを繰り返し2回行うことで厚さ11μmの接着層を形成し(1回の焼き付け工程で形成される厚さは5μm)、厚さ41μmの接着層付きエナメル線を得た。
接着層を形成する熱可塑性樹脂としてPEIに代えてポリフェニルサルホン(PPSU、ソルベイスペシャリティポリマーズ製、商品名:レーデルR5800)を用いて接着層の厚さ、押出被覆樹脂層の厚さ、合計厚さ及び全体厚さを表2に示す厚さに変更したこと以外は実施例1と同様にして、接着層付きPEEK押出被覆エナメル線からなる絶縁ワイヤを得た。押出温度条件は表1に従い、押出被覆樹脂層を形成する熱可塑性樹脂の押出温度は、D地点(400℃)で接着層を形成するPPSUのガラス転移温度(220℃)よりも180℃高かった。
エナメル樹脂としてポリアミドイミドに代えてポリイミド樹脂(PI)ワニスを用いてエナメル樹脂の厚さ、接着層の厚さ、押出被覆樹脂層の厚さ、合計厚さ及び全体厚さを表2に示す厚さに変更したこと以外は実施例1と同様にして、接着層付きPEEK押出被覆エナメル線からなる絶縁ワイヤを得た。押出温度条件は表1に従った。
エナメル樹脂の厚さ、接着層の厚さ、押出被覆樹脂層の厚さ、合計厚さ及び全体厚さを表2に示す厚さに変更したこと以外は参考例10と同様にして、接着層付きPEEK押出被覆エナメル線からなる各絶縁ワイヤを得た。押出温度条件は表1に従った。
参考例1〜10、実施例1〜3及び比較例1〜7における押出温度条件を表1に示す。
表1において、C1、C2、C3は押出機のシリンダー部分における温度制御を分けて行っている3ゾーンを材料投入側から順に示したものである。また、Hは押出機のシリンダーの後ろにあるヘッドを示す。また、Dはヘッドの先にあるダイを示す。
押出被覆樹脂層の皮膜結晶化度は、熱分析装置「DSC−60」(島津製作所製)を用いて、示差走査熱量分析(DSC)によって次のようにして測定した。すなわち、押出被覆樹脂層の皮膜を10mg採取し、5℃/minの速度で昇温させた。このとき、300℃を超える領域で見られる融解に起因する熱量(融解熱量)と150℃周辺で見られる結晶化に起因する熱量(結晶化熱量)とを算出し、融解熱量に対する、融解熱量から結晶化熱量を差し引いた熱量の差分を、皮膜結晶化度とした。この計算式を以下に示す。
式: 皮膜結晶化度(%)=[(融解熱量−結晶化熱量)/(融解熱量)]×100
押出被覆樹脂層10mgを、熱分析装置「DSC−60」(島津製作所製)を用いて、5℃/minの速度で昇温させたときの、250℃を超える領域で見られる融解に起因する熱量のピーク温度を読み取って、融点とした。なお、ピーク温度が複数存在する場合には、より高温のピーク温度を融点とする。
加工前後の加工前後での電気絶縁性維持特性を次のようにして評価した。すなわち、絶縁ワイヤを直径が30mmの鉄芯に巻付けて恒温槽内で280℃まで昇温させて30分保持した。恒温槽から取り出した後に、鉄芯に巻き付けたままの状態で鉄芯を銅粒に挿し込んで巻き付けた一端を電極につなぎ、10kVの電圧において絶縁破壊を起こすことなく1分間の通電を保持できれば合格とした。表2において、合格を「○」で示し、不合格を「×」で示した。なお、10kVの電圧の通電を1分間保持できず、絶縁破壊した場合を不合格とした。絶縁破壊する場合、電線の可とう性が乏しくなり電線表面に白化等変化が生じ、亀裂まで生じることもある。
絶縁ワイヤの部分放電開始電圧の測定には、菊水電子工業製の部分放電試験機「KPD2050」を用いた。断面形状が方形の絶縁ワイヤを、2本の絶縁ワイヤの長辺となる面同士を長さ150mmに亘って隙間が無いように密着させた試料を作製した。この2本の導体間に電極をつなぎ、温度は25℃にて、50Hzの交流電圧かけながら連続的に昇圧していき、10pCの部分放電が発生した時点の電圧をピーク電圧(Vp)で読み取った。読み取った電圧のピーク電圧(Vp)を表2に示した。なお、表2において「ND」は測定していないことを意味する。
まず、絶縁ワイヤの押出被覆層のみを一部剥離した電線試料を島津製作所製の引張試験機「オートグラフAG−X」にセットし、4mm/minの速度で押出被覆層を上方へ引き剥がした(180℃剥離)。その際に読み取った引張荷重が40g以上であった場合を表2に「○」で示し、引張荷重が100g以上であった場合を「◎」で示した。
絶縁ワイヤの熱老化特性を、JIS C 3003エナメル線試験方法の、7.可撓性に従って巻き付けたものを、190℃に設定した高温槽へ投入した。1000時間及び1500時間静置した後の、エナメル層又は押出被覆樹脂層に亀裂の有無を目視にて調べた。1000時間静置した後にもエナメル層及び押出被覆樹脂層に亀裂等の異常が確認できなかった場合を「○」として表2に示し、1500時間静置した後にもエナメル層及び押出被覆樹脂層に亀裂等の異常が確認できなかった場合を「◎」として表2に示した。なお、1000時間静置した後にエナメル層及び押出被覆樹脂層の少なくとも一方に亀裂等の異常が確認できた場合は不合格として「×」とする。
従来、要求されていた耐熱老化特性であれば評価「○」でもよいが、より一層長期間にわたって優れた耐熱老化特性が要求される場合には評価「◎」を合格とする。
総合評価は、優れた耐熱老化特性をより長期間にわたって維持できることが要求される近年の電気機器に適用可能であるか否かを基準にした。すなわち、耐熱老化特性の評価が「○」以下である場合、又は、鉄芯巻付、加熱後絶縁破壊電圧測定部分放電開始電圧及び接着強度の少なくとも1つの評価が「×」である場合を、総合評価として「×」にした。
具体的には、参考例1〜4及び比較例1の比較から、合計厚さが50μm以上であると部分放電開始電圧が1000Vpを超えるのに対して、合計厚さが50μm未満であると部分放電開始電圧が500Vにも到達せず、インバータサージ劣化を防止できないことがわかった。
また、比較例2、3、参考例1〜10の結果から、押出被覆樹脂層を形成する熱可塑性樹脂として、融点が300℃以上の熱可塑性樹脂を用いると長期間に及ぶ耐熱老化特性を満足できる一方で、融点が300℃未満の熱可塑性樹脂を用いると、押出被覆層の皮膜結晶化度によらずに、従来要求される程度の耐熱老化特性に留まることがわかった。
さらに、比較例3及び4の結果から、押出被覆層の厚さが200μm以下であっても皮膜結晶化度が50%未満であると、鉄芯に巻付けて加熱後の絶縁性能(加工前後での電気絶縁性維持特性)に低下が見られた。
また、比較例5の結果から、押出被覆層の厚さが200μmを超えると、鉄芯に巻付けて加熱後、ワイヤ表面に白色化した箇所が観察できたうえ、かつ絶縁性能の低下が見られ、加工前後での電気絶縁性維持特性に劣ることがわかった。
なお、参考例1〜10及び実施例1〜3の各絶縁電線が上述の耐摩耗性及び耐溶剤性を満たしていることを確認している。
参考例11は、導体の矩形状の断面における一方の2辺及び他方の2辺に異なる厚さの押出被覆樹脂層を設けた実験例である。
1.8×3.4mm(厚さ×幅)で四隅の面取り半径r=0.3mmの平角導体(酸素含有量15ppmの銅)を準備した。エナメル層の形成に際しては、導体の形状と相似形のダイスを使用して、ポリアミドイミド樹脂(PAI)ワニス(日立化成(株)製、商品名:HI406)を導体へコーティングし、450℃に設定した炉長8mの焼付炉内を、焼き付け時間15秒となる速度で通過させ、この1回の焼き付け工程で厚さ5μmのエナメルを形成した。これを繰り返し8回行うことで厚さ39μmのエナメル層を形成し、被膜厚さ39μmのエナメル線を得た。
得られたエナメル線を心線とし、押出機のスクリューは、30mmフルフライト、L/D=20、圧縮比3を用いた。材料はポリエーテルエーテルケトン(PEEK)(ソルベイスペシャリティポリマーズ、商品名:キータスパイアKT−820)を用い、押出温条件は表1に従って行った。押出ダイを用いて導体に対してフラット面がエッジ面よりも厚いダイスを用いて樹脂の押出被覆を行い、エナメル層の外側にフラット面が71μm、エッジ面が45μmの押出被覆樹脂層を形成し、合計厚さがフラット面で110μm、エッジ面で84μmのPEEK押出被覆エナメル線からなる絶縁ワイヤを得た。
ここでいうフラット面とは該断面が矩形の対の対向する2辺のうち長辺の対をさす。またエッジ面とは対向する2辺のうち短辺の対をさす。
押出ダイを用いて導体に対してエッジ面がフラット面より厚いダイスを用いてPEEKの押出被覆を行ったこと以外は参考例11と同様にして、エナメル層の外側にフラット面が42μm、エッジ面が75μmの押出被覆樹脂層を形成し、合計厚さがフラット面で82μm、エッジ面で115μmのPEEK押出被覆エナメル線からなる絶縁ワイヤを得た。押出温度条件は表1の通りである。
なお、参考例11及び12の各絶縁電線が上述の耐摩耗性及び耐溶剤性を満たしていることを確認している。
Claims (4)
- 矩形状の断面を有する導体の外周に、少なくとも1層のエナメル焼付層と、その外側に少なくとも1層の押出被覆樹脂層とを有し、該エナメル焼付層と該押出被覆樹脂層との間に厚さ2〜20μmの接着層を有し、耐インバータサージ絶縁ワイヤの断面における前記エナメル焼付層と前記押出被覆樹脂層の断面形状が矩形状であって、断面図における前記導体を取り囲む該エナメル焼付層と該押出被覆樹脂層が形成する前記矩形の断面形状において、該導体に対して上下または左右で対向する2対の2辺のうちの少なくとも1対の2辺がともに、該エナメル焼付層と該押出被覆樹脂層の合計厚さが100μm以上、該エナメル焼付層の厚さが50μm以下、該押出被覆樹脂層の厚さが200μm以下であり、かつ該押出被覆樹脂層の樹脂が融点300℃以上370℃以下であって、ポリエーテルエーテルケトン、変性ポリエーテルエーテルケトン、熱可塑性ポリイミド及び芳香族ポリアミドからなる群より選択される少なくとも1種の熱可塑性樹脂であり、該押出被覆樹脂層が50%以上の示差走査熱量分析により下記式で求められた皮膜結晶化度を有し、
前記接着層が、ポリエーテルイミド、ポリフェニルサルホン及びポリエーテルサルホンからなる群より選択される少なくとも1種の熱可塑性樹脂の層であり、かつ、
部分放電開始電圧が、2450Vp〜2520Vpである耐インバータサージ絶縁ワイヤ。
式: 皮膜結晶化度(%)=[(融解熱量−結晶化熱量)/(融解熱量)]×100 - 前記対向する2対の2辺のうちの少なくとも1対の2辺がともに、該エナメル焼付層と該押出被覆樹脂層の合計厚さが182μm以上である請求項1に記載の耐インバータサージ絶縁ワイヤ。
- 前記エナメル焼付層が、厚さが6μm以上50μm以下のポリイミド樹脂またはポリアミドイミド樹脂である請求項1または2に記載の耐インバータサージ絶縁ワイヤ。
- 前記エナメル焼付層の外周に、ワニス化された樹脂を焼き付けて前記接着層を形成し、その後、該接着層に用いられた前記樹脂のガラス転移温度よりも高い温度で溶融状態にある、押出被覆樹脂層を形成する熱可塑性樹脂を前記接着層に押出して接触させ、前記エナメル焼付層に前記接着層を介して前記押出被覆樹脂を熱融着させて前記押出被覆樹脂層を形成する請求項1〜3のいずれか1項に記載の耐インバータサージ絶縁ワイヤの製造方法。
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