JP2014109768A - 光導波路の製造方法および光導波路 - Google Patents

光導波路の製造方法および光導波路 Download PDF

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Abstract

【課題】複数のコア部に形成されたミラー間で特性の均一化が図られ、全体の光通信品質の特性が高い光導波路、およびかかる光導波路を効率よく製造可能な光導波路の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の光導波路の製造方法は、硬化前の硬化性樹脂材料で構成された硬化性樹脂層100に、平面視で線状をなす第1の溝210および第2の溝220を形成する工程と、第2の溝220と重なる部分は除く第1の領域1310および第1の溝210と重なる部分は除く第2の領域1320について硬化性樹脂材料を硬化させる工程と、硬化させなかった硬化性樹脂材料を除去する工程と、第1の溝210の一部(傾斜面21)と第2の溝220の一部(傾斜面22)にそれぞれ反射膜を成膜する工程と、硬化させた硬化性樹脂層100(コア層13)を覆うように上側クラッド部を設ける工程と、を有する。
【選択図】図3

Description

本発明は、光導波路の製造方法および光導波路に関するものである。
光搬送波を使用してデータを移送する光通信技術が開発され、近年、この光搬送波を、一地点から他地点に導くための手段として、光導波路が普及しつつある。この光導波路は、線状のコア部と、その周囲を覆うように設けられたクラッド部と、を有している。コア部は、光搬送波の光に対して実質的に透明な材料によって構成され、クラッド部は、コア部より屈折率が低い材料によって構成されている。
光導波路では、コア部の一端から導入された光が、クラッド部との境界で反射しながら他端に伝送(搬送)される。光導波路の入射側には半導体レーザー等の発光素子が配置され、出射側にはフォトダイオード等の受光素子が配置される。発光素子から入射された光は光導波路を伝搬し、受光素子により受光され、受光した光の明滅パターンもしくはその強弱パターンに基づいて通信を行う。
このような光導波路と発光素子および受光素子とを光結合させるにあたり、光導波路のコア部の途中に形成したミラーを介してコア部の光路を変換し、光導波路の主面に垂直な方向に光路を導くことによって光結合させる構造が検討されている。例えば特許文献1には、ビルドアップ基板と、ビルドアップ基板上に設けられた光導波路と、光導波路上に配置された発光素子と、を有する光モジュールが開示されており、このうち、発光素子と光導波路内のコアとが、光導波路に形成されたミラーを介して光学的に接続されている。
かかる構造の光モジュールについては小型化の要請が強くあり、そのため、光導波路中に並列配置された複数のコアの間隔を狭める試みがなされている。これにより、光モジュールの単位面積当たりの伝送容量については増大が図られる。しかしながら、コアの間隔を狭めると、コアに合わせて発光素子を配置したとき、発光素子同士が互いに干渉し合う場合があり、このような立体障害が光モジュールの小型化を阻む要因の1つになっている。また、ミラー同士の間隔が狭まることによって、発光素子から出射した光がその発光素子に対応して設けられたミラーとは異なるミラーに入射してしまったり、あるいは、ミラーから出射した光信号がそのミラーに対応して設けられた受光素子とは異なる受光素子に入射してしまったりする現象(クロストーク)が発生し、通信品質が低下するおそれがある。
そこで、特許文献2には、並列配置された複数のコア部において、隣り合うコア部間で光入出射部の位置を延伸方向に互いにずらすことにより、光入出射部同士の間隔を確保することが提案されている。
しかしながら、このような構造を備えた光導波路では、各コア部で異なった位置にミラー(光入出射部)を形成する必要があるため、製造工程が非常に複雑にならざるを得ない。このため、ミラーごとの光の反射角や反射率といった特性の均一化が図り難く、全体の通信品質の低下を招き易くなる。また、製造歩留まりが悪化するとともに、製造コストの上昇が避けられない。
特開2006−145789号公報 特開2004−198579号公報
本発明の目的は、通信品質の高い光導波路、およびかかる光導波路を効率よく製造可能な光導波路の製造方法を提供することにある。
このような目的は、下記(1)〜(8)の本発明により達成される。
(1) 並列する線状をなす第1のコア部および第2のコア部と、前記各コア部にそれぞれ設けられ、その位置が前記第1のコア部と前記第2のコア部とで長手方向に互いにずれているミラーと、を有する光導波路を製造する方法であって、
硬化前の硬化性樹脂材料で構成された硬化性樹脂層と、前記硬化性樹脂層をそれぞれ斜めに横切るよう設けられ、平面視で線状をなす第1の傾斜面および第2の傾斜面と、を備えるコア部形成層を用意する工程と、
前記第1の傾斜面の一部分とそこから前記第1の傾斜面の長手方向と交差する方向に伸びる線状の領域であって前記第1のコア部を形成すべき第1の領域と、前記第2の傾斜面の一部分とそこから前記第2の傾斜面の長手方向と交差する方向に伸びる線状の領域であって前記第2のコア部を形成すべき第2の領域と、についてはそれぞれ前記硬化前の硬化性樹脂材料を硬化させるとともに、前記第2の領域と前記第1の傾斜面とが重なる部分については前記硬化前の硬化性樹脂材料を硬化させないように、前記硬化性樹脂層に対して硬化処理を施す工程と、
前記硬化性樹脂層のうち、硬化させなかった前記硬化前の硬化性樹脂材料を除去する工程と、を有することを特徴とする光導波路の製造方法。
(2) 並列する線状をなす第1のコア部および第2のコア部と、前記各コア部にそれぞれ設けられ、その位置が前記第1のコア部と前記第2のコア部とで長手方向に互いにずれているミラーと、を有する光導波路を製造する方法であって、
硬化前の硬化性樹脂材料で構成された硬化性樹脂層を用意し、そのうち前記第1のコア部を形成すべき第1の領域と前記第2のコア部を形成すべき第2の領域とについてはそれぞれ前記硬化前の硬化性樹脂材料を硬化させるとともに、前記第2の領域の途中の一部については前記硬化前の硬化性樹脂材料を硬化させないように、前記硬化性樹脂層に対して硬化処理を施す工程と、
前記硬化性樹脂層をそれぞれ斜めに横切るよう設けられ、前記第1の領域の長手方向と交差する方向に伸びる平面視で線状をなす傾斜面であって前記第2の領域の前記途中の一部に対応する位置に設けられた第1の傾斜面と、前記第2の領域の長手方向と交差する方向に伸びる平面視で線状をなす第2の傾斜面と、を形成する工程と、
前記硬化性樹脂層のうち、硬化させなかった前記硬化前の硬化性樹脂材料を除去する工程と、を有することを特徴とする光導波路の製造方法。
(3) 前記光導波路は、前記各コア部の側面を覆うように設けられたクラッド部を有するものであり、
当該光導波路の製造方法は、さらに、前記クラッド部を設ける工程を有する上記(1)または(2)に記載の光導波路の製造方法。
(4) 前記クラッド部は、前記第2のコア部が途切れた部分を充填するよう構成されている上記(3)に記載の光導波路の製造方法。
(5) 前記硬化性樹脂材料は、光硬化性を有するものであり、
前記硬化処理は、硬化させるべき領域またはその領域の反転領域に光を照射する処理である上記(1)ないし(4)のいずれか1項に記載の光導波路の製造方法。
(6) 前記ミラーは、前記各コア部を横切る面と、その上に成膜された反射膜と、を備えたものであり、
当該光導波路の製造方法は、さらに、前記反射膜を成膜する工程を有する上記(1)ないし(5)のいずれか1項に記載の光導波路の製造方法。
(7) 並列する線状をなす第1のコア部および第2のコア部と、前記各コア部にそれぞれ設けられ、その位置が前記第1のコア部と前記第2のコア部とで長手方向に互いにずれているミラーと、を有し、
前記第2のコア部は、前記第1のコア部に設けられた前記ミラーに対応する位置で途切れていることを特徴とする光導波路。
(8) さらに、前記第1のコア部および前記第2のコア部の側面を覆うとともに、前記第2のコア部が途切れた部分を充填するように設けられたクラッド部を有する上記(7)に記載の光導波路。
本発明によれば、通信品質の高い光導波路が得られる。
また、本発明によれば、上記光導波路を効率よく製造することができる。
本発明の光導波路の実施形態を示す平面図および平面図のA−A線に対応する断面図である。 本発明の光導波路の製造方法の第1実施形態を説明するための平面図および各平面図のA−A線に対応する断面図である。 本発明の光導波路の製造方法の第1実施形態を説明するための平面図および各平面図のA−A線に対応する断面図である。 本発明の光導波路の製造方法の第1実施形態を説明するための平面図および各平面図のA−A線に対応する断面図である。 本発明の光導波路の他の実施形態の製造途中の状態を示す平面図および平面図のA−A線に対応する断面図である。 本発明の光導波路の製造方法の第2実施形態を説明するための平面図および各平面図のA−A線に対応する断面図である。
以下、本発明の光導波路の製造方法および光導波路について添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
<光導波路>
まず、本発明の光導波路の実施形態について説明する。
図1は、本発明の光導波路の実施形態を示す平面図および平面図のA−A線に対応する断面図である。なお、図1では、図1の左右方向に延伸している光導波路の右端部および左端部のみを図示し、それらの間については図示を省略している(図1の一点鎖線部分)。また、図1の平面図では、上側クラッド部12を透過した図を図示している。
図1に示す光導波路1は、層状の下側クラッド部11と、その上に設けられた平面視で線状をなすコア部13と、下側クラッド部11上においてコア部13を覆うように設けられた上側クラッド部12と、を備えている。
光導波路1は、2本のコア部13を備えており、このうち、図1の平面図において上側に位置しているものをコア部(第1のコア部)131とし、下側に位置しているものをコア部(第2のコア部)132とする。これらは、平面視で直線状をなしており、互いに平行である。
また、コア部131、132の両端部は傾斜面21、22になっており、その傾斜面21、22上にはそれぞれ反射膜(ミラー)14が設けられている。この反射膜14により、コア部131、132の光路を変換し、他の光学部品と光導波路1とを光学的に接続することができる。なお、図1では、コア部131、132に粗のドットを付し、反射膜14にそれより密のドットを付している。
また、コア部131は、全体的にコア部132に対して左側にずれている。その結果、コア部131に設けられた反射膜14についても、コア部132に設けられた反射膜14に対して左側にずれている。このように反射膜14が長手方向にずれていることにより、反射膜14の位置に対応して他の光学部品を載置したとき、ずれていない場合に比べて、隣り合う反射膜14同士の離間距離、すなわち他の光学部品同士の離間距離を十分に確保することができる。その結果、他の光学部品同士の干渉を避けるとともに、クロストークの発生を抑えることができる。加えて、コア部131とコア部132との離間距離をより狭めることができるので、光導波路1の高密度化を図ることができ、光通信の大容量化を図ることができる。
また、コア部131は、長手方向の途中で途切れており、その途切れた箇所23には上側クラッド部12が充填されている。コア部131が途切れた箇所23は、コア部132に設けられた反射膜14の位置に対応している。同様に、コア部132も、長手方向の途中で途切れており、その途切れた箇所24には上側クラッド部12が充填されている。そして、コア部132が途切れた箇所24は、コア部131に設けられた反射膜14の位置に対応している。
このような構成の光導波路1は、各反射膜14を設けるための傾斜面21、22を形成し易いという利点がある。すなわち、傾斜面21、22を形成する際に、コア部131、132の位置を狙って精度よく加工しなくても、複数のコア部131、132に対してまとめて加工すればよいので、加工の位置精度をあまり考慮することなく、傾斜面を容易に形成することができる。これは、コア部131、132に対し、前述した途切れた箇所23、24をあえて設けることにより、隣り合うコア部ごと、まとめて加工することを可能にしたためである。そして、途切れた箇所23、24には上側クラッド部12が充填されることによって、伝送損失の増大を抑えることができる。なお、かかる利点については、後に詳述する。
以上のことから、光導波路1は、他の光学部品の実装が容易であり、かつ、複数のコア部131、132間で生じるクロストークを抑制し得るものとなる。また、上述したように、複数のコア部131、132に対して傾斜面21、22を一括で形成することができるので、傾斜面21、22の加工精度に基づく反射膜14の反射角や反射率といった光学特性を高められるとともに、均一化を図り易い。よって、光導波路1は、通信品質の低下を確実に抑え得るものとなる。
<光導波路の製造方法>
次に、本発明の光導波路の製造方法について説明する。
≪第1実施形態≫
まず、本発明の光導波路の製造方法の第1実施形態について説明する。
図2〜4は、それぞれ、本発明の光導波路の製造方法の第1実施形態を説明するための平面図および各平面図のA−A線に対応する断面図である。なお、図2〜4では、図1に示す光導波路1のうち、右端部近傍について図示している。
本実施形態に係る光導波路1の製造方法は、[1]硬化前の硬化性樹脂材料で構成された硬化性樹脂層100に、平面視で線状をなす第1の溝210および第2の溝220を形成する工程と、[2]第2の溝220と重なる部分は除く第1の領域1310および第1の溝210と重なる部分は除く第2の領域1320について硬化性樹脂材料を硬化させる工程と、[3]硬化させなかった硬化性樹脂材料を除去する工程と、[4]第1の溝210の一部(傾斜面21)と第2の溝220の一部(傾斜面22)にそれぞれ反射膜14を成膜する工程と、[5]硬化させた硬化性樹脂層100を覆うように上側クラッド部12を設ける工程と、を有する。以下、各工程について順次説明する。
[1]
[1−1] まず、層状の下側クラッド部11上に、硬化前の硬化性樹脂材料で構成された硬化性樹脂層100を用意する(図2(a)参照)。硬化前の硬化性樹脂材料とは、熱や光等のエネルギーを付与することにより、硬化反応を生じる材料であり、本硬化する前の状態、すなわち未硬化または半硬化の状態(未固化または半固化の状態も含む。)にある硬化性樹脂材料(固化性樹脂材料も含む。)のことを指す。
硬化性樹脂層100は、最終的に光導波路を形成するためのものであり、その平面視形状は特に限定されないが、一般的には長尺状に形成される。そして、その長手方向に沿ってコア部が形成され、光配線として用いられることとなる。本実施形態では、図2(a)の左右方向を長手方向とする硬化性樹脂層100を用意する。なお、以下の説明では、この長手方向に延伸する2本の並列するコア部を形成する場合について説明する。なお、形成するコア部の数は、特に限定されず、3本以上であってもよい。
このような硬化性樹脂材料としては、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、PETやPBTのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂のような各種樹脂材料等を用いることができる。なお、樹脂材料は、異なる組成のものを組み合わせた複合材料であってもよい。
また、このような硬化性樹脂材料は、熱や光等のエネルギーを付与することで硬化反応を生じる材料であるが、ポジ型材料であっても、ネガ型材料であってもよい。なお、以下の説明では、一例として、光を照射した領域にある硬化性樹脂材料に硬化反応が生じるネガ型材料を用いる場合について説明する。
硬化性樹脂層100は、硬化前の硬化性樹脂材料を下側クラッド部11上に塗布し、乾燥させることにより形成される。
塗布方法は、特に限定されず、例えば、ドクターブレード法、スピンコート法、ディッピング法、テーブルコート法、スプレー法、アプリケーター法、カーテンコート法、ダイコート法、インクジェット法等の方法が挙げられる。
また、このような方法で形成された液状被膜を乾燥させる方法も、特に限定されないが、例えば、液状被膜を加熱したり、減圧下に置いたり、あるいは乾燥ガスを吹き付けたりする方法が用いられる。
[1−2] 次に、硬化性樹脂層100に対し、図2(b)に示すように、平面視で線状をなす第1の溝210および第2の溝220を形成する。これらの第1の溝210および第2の溝220は、所定の離間距離で並列するものであり、その延伸方向は互いに非平行であっても構わないが、好ましくは互いに平行とされる。
また、これらの第1の溝210および第2の溝220は、図2(b)に示すように、横断面形状が略V字状をなしている。その結果、第1の溝210および第2の溝220には、それぞれ硬化性樹脂層100を斜めに横切る傾斜面が2つずつ形成されることとなる。すなわち、第1の溝210には、図2(b)においてその最深部より左側と右側にそれぞれ傾斜面が形成される。本実施形態では、このうち、左側の傾斜面を「第1の傾斜面211」とする。同様に、第2の溝220には、図2(b)においてその最深部より左側と右側にそれぞれ傾斜面が形成されるが、本実施形態では、このうち、左側の傾斜面を「第2の傾斜面221」とする。これらの第1の傾斜面211および第2の傾斜面221は、その上に反射膜が形成されることによって、コア部の光路を変換するミラー(光路変換部)として機能する。このような第1の傾斜面211および第2の傾斜面221が形成された硬化性樹脂層100を「コア部形成層10」という。
第1の溝210および第2の溝220の形成方法としては、特に限定されないが、例えば、ダイシング法、インプリント法、レーザー加工法、電子線加工法等が挙げられる。
また、第1の溝210および第2の溝220の最深部は、硬化性樹脂層100の途中で止まっていても、下側クラッド部11に到達していても、さらには下側クラッド部11を貫通していてもよい。
また、溝の本数は、コア部13の本数や、反射膜14同士の間において必要とされる離間距離等に応じて適宜設定される。
なお、第1の溝210および第2の溝220の横断面形状は、図2に示す形状に限定されない。例えば、第1の傾斜面211や第2の傾斜面221の傾斜角度(下側クラッド部11の上面との角度)は、10〜85°程度の範囲から適宜選択されるが、好ましくは45°とされる。一方、最深部より右側の傾斜面については、傾斜角度が1〜179°の範囲から第1の傾斜面211および第2の傾斜面221との干渉を避けつつ適宜選択されるが、好ましくは30〜90°とされる。
[2]
図3(c)に示すコア部形成層10のうち、コア部(第1のコア部)131を形成しようとする領域を「第1の領域1310」とし、コア部(第2のコア部)132を形成しようとする領域を「第2の領域1320」とする。具体的には、第1の領域1310および第2の領域1320は、それぞれ、図3(c)の左右方向に延伸する、互いに平行な帯状の領域であり、このうち第1の領域1310は、第1の傾斜面211より左側に向かって延伸している。また、第2の領域1320は、第2の傾斜面221より左側に向かって延伸している。また、第1の領域1310および第2の領域1320は、図3(c)に示すように、平面視において第1の溝210および第2の溝220と交差するよう設定される。
これらの第1の領域1310および第2の領域1320に対し、それぞれ光を照射する。これにより、照射部の硬化性樹脂材料に硬化反応が生じ、第1の領域1310および第2の領域1320が硬化する。一方、この硬化処理では、第2の領域1320と第1の溝210とが重なる部分については、光を照射しないようにする。これにより、この部分については、硬化性樹脂材料が硬化しない。なお、図3のうち、光の照射領域にはドットを付している。また、図3のうち、第1の領域1310および第2の領域1320は、二点鎖線で示している。
照射する光の波長は、硬化性樹脂材料が有する感光性に応じて適宜選択されるが、例えば10〜1000nm程度とされる。また、照射するのは光に限定されず、電子線、イオン線、粒子線等であってもよい。
一方、熱硬化性樹脂材料の場合、上記の光照射領域に対応する領域を選択的に加熱するようにすればよい。加熱方法としては、例えば、赤外線照射、ヒーター加熱等が挙げられる。
なお、硬化性樹脂材料としてポジ型材料を用いる場合、上記の光照射領域や加熱領域は反転させるようにすればよい。
また、第1の領域1310および第2の領域1320は、平面視において第1の溝210および第2の溝220と交差していればよく、その交差角は特に限定されないが、好ましくは60〜120°程度とされ、より好ましくは略直角とされる。
[3]
次いで、コア部形成層10において、硬化させなかった硬化前の硬化性樹脂材料を除去する。これにより、硬化させた硬化性樹脂材料のみが残存し、図3(d)に示す第1のコア部131および第2のコア部132が形成される。そして、第1の傾斜面211と第1の領域1310との交差部分は、コア部131に設けられた傾斜面21となる。同様に、第2の傾斜面221と第2の領域1320との交差部分は、コア部132に設けられた傾斜面22となる。
また、前述した硬化処理において硬化させなかった第2の領域1320と第1の傾斜面211とが重なる部分が除去されることにより、コア部131、132が途中で途切れることとなり、図1に示す途切れた箇所23、24が得られる。
なお、このようなプロセスによって途切れた箇所23、24が形成された結果、途切れた箇所23、24に臨むコア部131、132の端面231、241(図1参照)の傾斜角度(下側クラッド部11の上面との角度)は、ほぼ90°になる。これは、上記硬化処理において下側クラッド部11の上面に対して垂直な方向に沿って光が照射される(あるいは熱が付与される)ため、照射領域と非照射領域との界面は、自ずと、下側クラッド部11の上面に対して垂直になるからである。このような端面231、241では、コア部131、132を伝搬してきた光が通過するときの反射や散乱に伴う損失を最小限に抑えることができる。その結果、伝送損失の小さい光導波路1が得られる。
端面231、241の傾斜角度は、ほぼ90°であるのが最良であるが、好ましくは90±5°程度とされる。
一方、後述するようにして、この途切れた箇所23、24が他の部材(上側クラッド部12等)で充填される場合、端面231、241での反射や散乱は大幅に抑えられることになるので、端面231、241の傾斜角度は上記範囲に限定されない。
硬化させなかった硬化性樹脂材料を除去するには、例えば、硬化性樹脂材料を溶解する処理液を用いる方法、各種ウェットエッチング法、各種ドライエッチング法等が挙げられる。このうち、簡便性や除去精度等の観点から、処理液を用いる方法が好ましく用いられる。このような処理液に接触することで、硬化させなかった硬化性樹脂材料が処理液に溶解し、処理液とともに除去されることとなる。一方、このような処理液は、硬化させた硬化性樹脂材料には作用しないので、これらのみを選択的に残存させることができる。
このような処理液としては、例えば、アルカリ現像液といった現像液が用いられる。
コア部形成層10に対して処理液を接触させる方法としては、例えば、スプレー法、ディッピング法等が挙げられる。
以上のようにして、傾斜面(ミラー)21、22を備えた第1のコア部131および第2のコア部132が形成される。このような第1のコア部131および第2のコア部132を備えた光導波路では、傾斜面21、22において光路が変換される。したがって、この時点でも光配線として機能するが、本実施形態では、以下の工程[4]、[5]をさらに行う。
第1のコア部131および第2のコア部132の幅および高さは、特に限定されないが、それぞれ1〜200μm程度であるのが好ましく、5〜100μm程度であるのがより好ましく、10〜70μm程度であるのがさらに好ましい。
また、第1のコア部131と第2のコア部132の間隔は、5〜250μm程度であるのが好ましく、10〜200μm程度であるのがより好ましく、10〜120μm程度であるのがさらに好ましい。
[4]
次いで、形成した傾斜面21、22にそれぞれ反射膜14を成膜する(図4(e)参照)。
反射膜14としては、例えば、金属膜、炭素膜、樹脂膜、セラミック膜、シリコン膜等が挙げられる。このうち、金属膜が好ましく用いられる。金属膜によれば、金属特有の光沢による反射率の高い反射膜14が得られる。金属膜の構成材料としては、例えば、アルミニウム、鉄、クロム、ニッケル、銅、亜鉛、銀、白金、金、鉛等が挙げられる。
反射膜14の平均厚さは、特に限定されないが、0.1〜500μm程度であるのが好ましく、0.5〜300μm程度であるのがより好ましい。これにより、十分な反射率を有するとともに、剥がれ難い反射膜14が得られる。
反射膜14の成膜方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法のような物理蒸着法、CVD法のような化学蒸着法、めっき法、熱転写法、金属箔転写法、印刷法、塗布法等が挙げられる。このうち、蒸着法では、マスクを介して蒸着することにより、傾斜面21、22に対して選択的に反射膜14を成膜することができる。また、熱転写法、金属箔転写法、印刷法、塗布法のような方法では、処理装置や部材を傾斜面21、22に接触させる必要があるが、本実施形態のように第1の溝210や第2の溝220があることによって、これらの処理装置や部材を傾斜面21、22に接触させ易い。このため、反射膜14の成膜を効率よく行うことができる。
[5]
次いで、硬化させた硬化性樹脂層を覆うように、すなわち第1のコア部131および第2のコア部132を覆うように、上側クラッド部12を成膜する。これにより、第1のコア部131および第2のコア部132は、それぞれ下面が下側クラッド部11で覆われ、両側面と上面が上側クラッド部12で覆われる。その結果、入出射面以外がクラッド部で囲われた状態となる。また、途切れた箇所23、24にも、上部クラッド部12が充填される。これにより、図4(f)に示す光導波路1が得られる。
上側クラッド部12は、液状の原材料を塗布し、乾燥、硬化させることにより成膜される。この原材料としては、特に限定されないが、例えば、各種ポリマー、各種モノマー、各種重合開始剤、各種添加剤等を、必要に応じて溶媒で希釈してなるものが挙げられる。
同様に、前述した下側クラッド部11についても上側クラッド部12と同様に形成することができる。
コア部13の屈折率は、下側クラッド部11および上側クラッド部12の屈折率より大きければよいが、その差は0.3%以上であるのが好ましく、0.5%以上であるのがより好ましい。一方、上限値は特に設定されないが、好ましくは5.5%程度とされる。屈折率差が前記下限値未満の場合、光を伝搬する効果が低下するおそれがあり、一方、屈折率差が前記上限値を上回る場合、光の伝送効率のそれ以上の向上は期待できない。
なお、前記屈折率差とは、コア部13の屈折率をA、クラッド部の屈折率をBとしたとき、次式で表される。
屈折率差(%)=|A/B−1|×100
以上のような方法によれば、隣り合うコア部131、132において、傾斜面21、22の位置をコア部の長手方向にずらした光導波路1を製造する際、コア部131、132をそれぞれ横切るように第1の溝210および第2の溝220を形成しさえすれば、コア部131、132に対してそれぞれ異なる位置に傾斜面21、22を加工する場合に比べて、加工の容易性が飛躍的に高まる。これにより、短時間で高精度の傾斜面21、22を形成することができる。その結果、他の光学部品に対して高い結合効率で接続し得る光導波路が得られる。
また、第1の溝210および第2の溝220は、硬化処理前の硬化性樹脂層100を加工してなるものであるので、加工バラツキを抑えることができる。これにより、特に精度の高い加工を行うことができる。
このような効果は、光導波路1に設けられるコア部13の数が多ければ多いほど、顕著になる。
図5は、本発明の光導波路の他の実施形態の製造途中の状態を示す平面図および平面図のA−A線に対応する断面図である。なお、図5では、コア部形成層の一部のみを図示しており、その他の部位については図示を省略している。
図5に示すコア部形成層10は、これに形成されている溝の数およびこれに形成しようとするコア部の数がそれぞれ異なる以外、図3(c)に示すコア部形成層10と同様である。
図5に示すコア部形成層10には、平面視で線状をなす3本の溝230、240、250が形成されている。これらの溝230〜250は、所定の離間距離で並列しており、その延伸方向は互いに平行である。
また、これらの溝230〜250の横断面形状は、上述した第1の溝210や第2の溝220と同様、図5に示すような略V字状とされる。
一方、コア部形成層10には、コア部を形成しようとする領域が6本設定されている。これらの領域1330、1340、1350、1360、1370、1380は、上述した第1の領域1310や第2の領域1320と同様、図5の左右方向に延伸しており、互いに平行とされる。これらの領域1330〜1380に対し、それぞれ光を照射する。これにより、照射部の硬化性樹脂材料に硬化反応が生じ、領域1330〜1380が硬化する。一方、この硬化処理では、領域1340と溝230とが重なる部分については、光を照射しないようにする。これにより、この部分については、硬化性樹脂材料が硬化しない。同様に、領域1350と溝230、240とがそれぞれ重なる部分、領域1370と溝230とが重なる部分、および、領域1380と溝230、240とがそれぞれ重なる部分についても、光を照射しないようにする。これにより、この部分についても、硬化性樹脂材料が硬化しない。なお、図5のうち、光の照射領域にはドットを付している。
この硬化処理の後、上述した各工程を経ることにより、隣り合うコア部同士で傾斜面(反射膜)の位置が長手方向にずれている光導波路が得られる。このような光導波路を製造するには、従来、コア部ごとに凹部を加工する必要があり、加工作業に多くの手間を要していたのに対し、図5では、6本のコア部に傾斜面を形成するにあたって、3本の溝230〜250を形成し、その溝230〜250に合わせて露光領域を適宜設定することのみで、傾斜面の位置を長手方向にずらした光導波路を容易に製造することができる。
また、図5の場合、溝230〜250は、それぞれ2本のコア部に対して傾斜面を形成するのに寄与している。これら2つの傾斜面は、共通する1本の溝の壁面の一部からなるので、互いの位置精度が非常に高くなる。そして、溝230〜250の加工自体、凹部を形成する加工に比べて、加工精度を高め易いという利点もある。これらの観点から、本発明によれば、互いの位置精度、そして面精度の高い傾斜面を形成することができ、その結果、他の光学部品に対して高い結合効率で接続し得る光導波路が得られる。
≪第2実施形態≫
次に、本発明の光導波路の製造方法の第2実施形態について説明する。
図6は、本発明の光導波路の製造方法の第2実施形態を説明するための平面図および各平面図のA−A線に対応する断面図である。
以下、第2実施形態について説明するが、以下の説明では、第1実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。
第2実施形態は、硬化性樹脂層100に対して硬化処理を施す工程と、硬化性樹脂層100に対して第1の傾斜面211および第2の傾斜面221を形成する工程の順序が、第1実施形態に対して入れ替わっていること以外、第1実施形態と同様である。
まず、図6(a)に示す硬化性樹脂層100のうち、コア部(第1のコア部)131を形成しようとする領域を「第1の領域1310」とし、コア部(第2のコア部)132を形成しようとする領域を「第2の領域1320」とする。
これらの第1の領域1310および第2の領域1320に対し、それぞれ光を照射する。これにより、照射部の硬化性樹脂材料に硬化反応が生じ、第1の領域1310および第2の領域1320が硬化する。なお、この硬化処理では、第2の領域1320のうち、後述する第1の溝210と重なる部分については、光を照射しないようにする。なお、図6のうち、光の照射領域にはドットを付している。また、図6のうち、第1の領域1310および第2の領域1320は、二点鎖線で示している。
次に、図6(b)に示す硬化性樹脂層100に対し、平面視で線状をなす第1の溝210および第2の溝220を形成する。これにより、第1の溝210および第2の溝220には、それぞれ硬化性樹脂層100を斜めに横切る傾斜面が2つずつ形成されることとなる。その結果、第1の傾斜面211および第2の傾斜面221が形成される。このようにしてコア部形成層10が得られる。
以後、第1実施形態と同様の工程を経て、光導波路1が得られる。
このような本実施形態においても、第1実施形態と同様の作用・効果が得られる。
<電子機器>
上述したような本発明の光導波路は、前述したように、ミラーを介した他の光学部品との結合効率が高いものであって、かつ製造が容易なものとなる。このため、本発明の光導波路を備えることにより、信頼性の高い電子機器が得られる。
本発明の光導波路を備える電子機器としては、例えば、携帯電話、ゲーム機、ルーター装置、WDM装置、テレビ、ホーム・サーバー、パーソナルコンピューター、スーパーコンピューター等の電子機器類が挙げられる。これらの電子機器では、いずれも、例えばLSI等の演算装置とRAM等の記憶装置との間で、大容量のデータを高速に伝送する必要がある。したがって、このような電子機器が本発明の光導波路を備えることにより、電気配線に特有なノイズ、信号劣化等の不具合が解消され、その性能の飛躍的な向上が期待できる。
さらに、光導波路部分では、電気配線に比べて発熱量が大幅に削減される。このため、冷却に要する電力を削減することができ、電子機器全体の消費電力を削減することができる。
以上、本発明の光導波路の製造方法および光導波路を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。
1 光導波路
10 コア部形成層
100 硬化性樹脂層
11 下側クラッド部
12 上側クラッド部
13、131、132 コア部
1310 第1の領域
1320 第2の領域
1330〜1380 領域
14 反射膜
21、22 傾斜面
210 第1の溝
220 第2の溝
230〜250 溝
211 第1の傾斜面
221 第2の傾斜面
23、24 途切れた箇所
231、241 端面

Claims (8)

  1. 並列する線状をなす第1のコア部および第2のコア部と、前記各コア部にそれぞれ設けられ、その位置が前記第1のコア部と前記第2のコア部とで長手方向に互いにずれているミラーと、を有する光導波路を製造する方法であって、
    硬化前の硬化性樹脂材料で構成された硬化性樹脂層と、前記硬化性樹脂層をそれぞれ斜めに横切るよう設けられ、平面視で線状をなす第1の傾斜面および第2の傾斜面と、を備えるコア部形成層を用意する工程と、
    前記第1の傾斜面の一部分とそこから前記第1の傾斜面の長手方向と交差する方向に伸びる線状の領域であって前記第1のコア部を形成すべき第1の領域と、前記第2の傾斜面の一部分とそこから前記第2の傾斜面の長手方向と交差する方向に伸びる線状の領域であって前記第2のコア部を形成すべき第2の領域と、についてはそれぞれ前記硬化前の硬化性樹脂材料を硬化させるとともに、前記第2の領域と前記第1の傾斜面とが重なる部分については前記硬化前の硬化性樹脂材料を硬化させないように、前記硬化性樹脂層に対して硬化処理を施す工程と、
    前記硬化性樹脂層のうち、硬化させなかった前記硬化前の硬化性樹脂材料を除去する工程と、を有することを特徴とする光導波路の製造方法。
  2. 並列する線状をなす第1のコア部および第2のコア部と、前記各コア部にそれぞれ設けられ、その位置が前記第1のコア部と前記第2のコア部とで長手方向に互いにずれているミラーと、を有する光導波路を製造する方法であって、
    硬化前の硬化性樹脂材料で構成された硬化性樹脂層を用意し、そのうち前記第1のコア部を形成すべき第1の領域と前記第2のコア部を形成すべき第2の領域とについてはそれぞれ前記硬化前の硬化性樹脂材料を硬化させるとともに、前記第2の領域の途中の一部については前記硬化前の硬化性樹脂材料を硬化させないように、前記硬化性樹脂層に対して硬化処理を施す工程と、
    前記硬化性樹脂層をそれぞれ斜めに横切るよう設けられ、前記第1の領域の長手方向と交差する方向に伸びる平面視で線状をなす傾斜面であって前記第2の領域の前記途中の一部に対応する位置に設けられた第1の傾斜面と、前記第2の領域の長手方向と交差する方向に伸びる平面視で線状をなす第2の傾斜面と、を形成する工程と、
    前記硬化性樹脂層のうち、硬化させなかった前記硬化前の硬化性樹脂材料を除去する工程と、を有することを特徴とする光導波路の製造方法。
  3. 前記光導波路は、前記各コア部の側面を覆うように設けられたクラッド部を有するものであり、
    当該光導波路の製造方法は、さらに、前記クラッド部を設ける工程を有する請求項1または2に記載の光導波路の製造方法。
  4. 前記クラッド部は、前記第2のコア部が途切れた部分を充填するよう構成されている請求項3に記載の光導波路の製造方法。
  5. 前記硬化性樹脂材料は、光硬化性を有するものであり、
    前記硬化処理は、硬化させるべき領域またはその領域の反転領域に光を照射する処理である請求項1ないし4のいずれか1項に記載の光導波路の製造方法。
  6. 前記ミラーは、前記各コア部を横切る面と、その上に成膜された反射膜と、を備えたものであり、
    当該光導波路の製造方法は、さらに、前記反射膜を成膜する工程を有する請求項1ないし5のいずれか1項に記載の光導波路の製造方法。
  7. 並列する線状をなす第1のコア部および第2のコア部と、前記各コア部にそれぞれ設けられ、その位置が前記第1のコア部と前記第2のコア部とで長手方向に互いにずれているミラーと、を有し、
    前記第2のコア部は、前記第1のコア部に設けられた前記ミラーに対応する位置で途切れていることを特徴とする光導波路。
  8. さらに、前記第1のコア部および前記第2のコア部の側面を覆うとともに、前記第2のコア部が途切れた部分を充填するように設けられたクラッド部を有する請求項7に記載の光導波路。
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006078607A (ja) * 2004-09-07 2006-03-23 Tokai Univ 光接続装置の製造法及びその光接続装置
JP2006251219A (ja) * 2005-03-09 2006-09-21 Nitto Denko Corp 光導波路の製造方法
WO2008035466A1 (fr) * 2006-09-21 2008-03-27 Hitachi Chemical Co., Ltd. Substrat de guide d'ondes optique et substrat supportant un circuit hybride photoélectrique
JP2010250309A (ja) * 2009-03-26 2010-11-04 Panasonic Electric Works Co Ltd ミラー面を有する光導波路の製造方法及び光電複合配線板
JP2012128153A (ja) * 2010-12-15 2012-07-05 Shinko Electric Ind Co Ltd 光導波路及びその製造方法と光導波路装置
JP2012247670A (ja) * 2011-05-30 2012-12-13 Hitachi Chem Co Ltd ミラー付き光導波路及びその製造方法
JP2014089262A (ja) * 2012-10-29 2014-05-15 Shinko Electric Ind Co Ltd 光導波路、光モジュール及び光導波路の製造方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006078607A (ja) * 2004-09-07 2006-03-23 Tokai Univ 光接続装置の製造法及びその光接続装置
JP2006251219A (ja) * 2005-03-09 2006-09-21 Nitto Denko Corp 光導波路の製造方法
WO2008035466A1 (fr) * 2006-09-21 2008-03-27 Hitachi Chemical Co., Ltd. Substrat de guide d'ondes optique et substrat supportant un circuit hybride photoélectrique
JP2010250309A (ja) * 2009-03-26 2010-11-04 Panasonic Electric Works Co Ltd ミラー面を有する光導波路の製造方法及び光電複合配線板
JP2012128153A (ja) * 2010-12-15 2012-07-05 Shinko Electric Ind Co Ltd 光導波路及びその製造方法と光導波路装置
JP2012247670A (ja) * 2011-05-30 2012-12-13 Hitachi Chem Co Ltd ミラー付き光導波路及びその製造方法
JP2014089262A (ja) * 2012-10-29 2014-05-15 Shinko Electric Ind Co Ltd 光導波路、光モジュール及び光導波路の製造方法

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