JP2014108920A - Processing method of single reinforced glass plate on which cell unit g2 system touch sensors are formed, and production method therefor - Google Patents

Processing method of single reinforced glass plate on which cell unit g2 system touch sensors are formed, and production method therefor Download PDF

Info

Publication number
JP2014108920A
JP2014108920A JP2013097250A JP2013097250A JP2014108920A JP 2014108920 A JP2014108920 A JP 2014108920A JP 2013097250 A JP2013097250 A JP 2013097250A JP 2013097250 A JP2013097250 A JP 2013097250A JP 2014108920 A JP2014108920 A JP 2014108920A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
protective film
cell unit
glass plate
film layer
tempered glass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013097250A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6216538B2 (en
Inventor
Il Jae Lee
壹宰 李
Jae Min Jeong
在▲民▼ 鄭
Hyo Jae Jung
孝才 鄭
明秀 ▲黄▼
Myeoung Soo Hwang
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TAESUNG ENGINEERING CORP
Original Assignee
TAESUNG ENGINEERING CORP
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TAESUNG ENGINEERING CORP filed Critical TAESUNG ENGINEERING CORP
Publication of JP2014108920A publication Critical patent/JP2014108920A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6216538B2 publication Critical patent/JP6216538B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P40/00Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/50Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
    • Y02P40/57Improving the yield, e-g- reduction of reject rates

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
  • Position Input By Displaying (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a processing method of a single reinforced glass plate on which cell unit G2 system touch sensors are formed, and a production method therefor.SOLUTION: Protection film layers 700 are formed on upper and lower faces of a reinforced glass plate 600 on which G2 system touch sensors are formed, and divided in a cell unit. The protection film layer 700 corresponding to a border line of each cell is cut and removed. The reinforced glass plate 600 is cut along a border line in which the protection film layer 700 is removed, to produce a number of cell unit glass plates in which a G2 touch sensor is formed. A side cut part of the cell unit glass plate is etched in a predetermined thickness or depth, and cracks formed in the cut part are removed, and the cell unit glass plate is immersed in water for loosening and removed. Thereby, a G2 touch screen on which the G2 touch sensor is formed is produced.

Description

本発明は、タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板加工方法及びその製造方法に関し、もっと詳しくは複数個のG2方式タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板を区画切断して、G2方式タッチセンサーが形成されたセル単位のタッチスクリーンを製造するセル単位のG2方式タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板加工方法及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a single tempered glass plate processing method in which a touch sensor is formed and a method for manufacturing the same, and more specifically, a single tempered glass plate in which a plurality of G2 touch sensors are formed is sectioned and cut. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a single tempered glass plate processing method in which a cell unit G2 touch sensor is formed and a manufacturing method thereof.

一般的に、スマートフォーン、タブレットPC、タッチスクリーン方式のTVにはタッチスクリーンが使用され、このようなタッチスクリーンはタッチセンサーを構成するガラス板とフィルムの使用可否によってG1F1、GF2、G2などの名称で通用される。   In general, touch screens are used for smartphones, tablet PCs, and touch screen TVs. These touch screens are named G1F1, GF2, G2, etc., depending on the availability of glass plates and films that make up the touch sensor. It is valid at.

ここで、G2方式タッチスクリーンは、フィルムが全然使用されなく、単一の強化ガラスに直接的にタッチセンサーが製作される。   Here, the G2 touch screen does not use any film, and the touch sensor is manufactured directly on a single tempered glass.

このような、G2方式タッチスクリーンが設置されるスマートフォーン、タブレットPC、タッチスクリーン方式のTVなどはスリム化、軽量化及び色の鮮明度が向上される。   Smart phones, tablet PCs, touch screen TVs, etc., where G2 touch screens are installed, will be slimmer, lighter, and will have better color clarity.

前記のような従来のG2方式タッチスクリーン製造方法は次のようである。   The conventional G2 touch screen manufacturing method as described above is as follows.

まず、ガラス板10をタッチスクリーンが使用される製品の規格に対応される大きさのセル単位で切断する(S10)。   First, the glass plate 10 is cut in cell units having a size corresponding to the standard of a product for which the touch screen is used (S10).

この場合、前記ガラス板(10)は強化されていない。   In this case, the glass plate (10) is not strengthened.

この時、前記ガラス板10はスクライビング、水ゼット、レーザービームまたはサンドブラスト方式によって切断される。   At this time, the glass plate 10 is cut by scribing, water jet, laser beam or sandblasting.

前記方式によって切断された前記ガラス板10は、後加工余裕を勘案して切断されることが望ましい。   The glass plate 10 cut by the above method is preferably cut in consideration of a post-processing margin.

次いで、前記ガラス板10の切断で形成された複数のセル単位ガラス板10aを定められた規格で再加工し、その状態で前記セル単位ガラス板10aにラウンド、ホールなどを加工する(S20)。   Next, the plurality of cell unit glass plates 10a formed by cutting the glass plate 10 are reworked according to a predetermined standard, and rounds, holes, etc. are processed in the cell unit glass plate 10a in this state (S20).

この時、前記の方式によって切断されたセル単位ガラス板10aの切断面10a1には微細なクラックが生成され、このようなクラックは進行性クラックであり、時間の経過によって前記セル単位ガラス板10aの自体が破損される恐れがある。   At this time, fine cracks are generated on the cut surface 10a1 of the cell unit glass plate 10a cut by the above method, and such cracks are progressive cracks. It can be damaged.

従って、前記セル単位ガラス板10aの切断面10a1を削る面削及び面取作業を進行して前記切断面10a1に形成されたクラックを除去する(S30)。   Accordingly, the chamfering and chamfering operations for cutting the cut surface 10a1 of the cell unit glass plate 10a are performed to remove cracks formed on the cut surface 10a1 (S30).

ここで、クラックが除去された前記切断面10a1を研磨して前記切断面10a1がつるつるの表面を有するようにすることが望ましい。   Here, it is desirable that the cut surface 10a1 from which the crack has been removed is polished so that the cut surface 10a1 has a slippery surface.

次いで、前記セル単位ガラス板10aを強化炉で化学的に強化して前記セル単位ガラス板10aを強化する(S40)。   Next, the cell unit glass plate 10a is chemically strengthened in a tempering furnace to strengthen the cell unit glass plate 10a (S40).

この時、強化炉には化学薬品が収容されており、この化学薬品に前記セル単位ガラス板10aが浸漬され化学的に強化される。   At this time, a chemical is contained in the tempering furnace, and the cell unit glass plate 10a is immersed in the chemical to be chemically strengthened.

その後、前記の工程で獲得したそれぞれのセル単位ガラス板10aにタッチセンサー20を形成する工程を進行(S50)して、セル単位G2方式タッチスクリーンを獲得するようになる(S60)。   Thereafter, the process of forming the touch sensor 20 on each cell unit glass plate 10a acquired in the above process proceeds (S50) to acquire a cell unit G2 touch screen (S60).

しかし、前記のようなG2方式タッチスクリーン製作方法は、ガラス板10を切断して獲得した複数個のセル単位ガラス板10aの各々にタッチセンサー20を個別的に形成してG2方式タッチスクリーンを製造する時間が長くなり、多数の工程過程の中で、セル単位ガラス板にスクラッチ及び微細チッピング(chipping)、クラック等が発生され、これによりG2方式タッチスクリーン不良率の増加により生産效率低下及び収率が減少される問題点がある。   However, in the G2 touch screen manufacturing method as described above, the touch sensor 20 is individually formed on each of the plurality of cell unit glass plates 10a obtained by cutting the glass plate 10 to manufacture the G2 touch screen. Scratches, fine chipping, cracks, etc. are generated in the cell unit glass plate in a number of process steps, resulting in a decrease in production efficiency and yield due to an increase in G2 touch screen defect rate. There is a problem that is reduced.

本発明は、上述したような問題点を解決するためのものであり、本発明の目的は複数個のG2方式タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板の上・下面に保護フィルムを付着して保護フィルム層を形成した後、強化ガラス板を定められた大きさで切断して、G2方式タッチセンサーが形成されたセル単位ガラス基板を獲得するセル単位のG2方式タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板加工方法を提供することである。   The present invention is for solving the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to attach protective films on the upper and lower surfaces of a single tempered glass plate on which a plurality of G2 touch sensors are formed. After forming the protective film layer, the reinforced glass plate was cut at a predetermined size, and the cell unit G2 touch sensor was obtained to obtain the cell unit glass substrate on which the G2 touch sensor was formed. It is to provide a single tempered glass sheet processing method.

本発明の他の目的は、強化ガラス板に付着された保護フィルム層を製品の規格に対応されるようにセル単位で区画し、各セルの境界線に該当する保護フィルム層をカット除去し、保護フィルム層が除去された境界線に沿って複数個のG2方式タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板を切断して、G2方式タッチセンサーが形成された多数のセル単位ガラス基板を獲得するセル単位のG2方式タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板加工方法を提供することである。   Another object of the present invention is to partition the protective film layer attached to the tempered glass plate in cell units so as to correspond to the product standards, and to cut and remove the protective film layer corresponding to the boundary line of each cell, A single tempered glass plate with a plurality of G2 touch sensors is cut along the boundary line from which the protective film layer is removed to obtain a large number of cell unit glass substrates with G2 touch sensors. It is to provide a single tempered glass plate processing method in which a G2 touch sensor for each cell is formed.

本発明の他の目的は、切断の中で、G2方式タッチセンサーが形成されたセル単位ガラス基板の側面切断部に形成されたクラックを、定められた厚さあるいは深さで蝕刻して微細クラックが除去された切断部を有するセル単位ガラス基板を獲得するセル単位のG2方式タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板加工方法を提供することである。   Another object of the present invention is to form a fine crack by etching a crack formed in a side cut portion of a cell unit glass substrate on which a G2 touch sensor is formed, with a predetermined thickness or depth. It is to provide a single tempered glass plate processing method in which a cell unit G2 touch sensor for obtaining a cell unit glass substrate having a cut portion from which a cell is removed is formed.

本発明の他の目的は、G2方式タッチセンサーが形成された強化ガラス板の上・下面に保護フィルムを付着して、保護フィルム層を形成し、保護フィルム層をセル単位で区画して、各セルの境界線に該当する保護フィルム層をカットして除去し、保護フィルム層が除去された境界線に沿って強化ガラス板を切断してG2方式タッチセンサーが形成された多数のセル単位ガラス基板を獲得し、セル単位ガラス基板の側面切断部を定められた厚さあるいは深さで蝕刻して、切断部に形成されたクラックを除去し、セル単位ガラス基板を水に浸漬させて、保護フィルムを取り外してG2方式タッチスクリーンを獲得するG2方式タッチセンサーが形成されたタッチスクリーン製造方法を提供することである。   Another object of the present invention is to attach a protective film on the upper and lower surfaces of the tempered glass plate on which the G2 touch sensor is formed, to form a protective film layer, and to partition the protective film layer in units of cells. A large number of cell unit glass substrates on which G2 touch sensors are formed by cutting and removing the protective film layer corresponding to the cell boundary line and cutting the tempered glass plate along the boundary line from which the protective film layer is removed The side surface cut portion of the cell unit glass substrate is etched with a predetermined thickness or depth, the crack formed in the cut portion is removed, the cell unit glass substrate is immersed in water, and the protective film It is to provide a touch screen manufacturing method in which a G2 touch sensor is obtained by removing a G2 touch screen.

前記のような本発明の目的を達成するために、本発明によるセル単位のG2方式タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板加工方法は、定められた間隔で離隔されるように複数個のG2方式タッチセンサーを形成した単一の強化ガラス板の上・下面に保護フィルムを付着して保護フィルム層を形成した後、前記強化ガラス板を定められた大きさで切断して、前記タッチセンサーが形成された多数のセル単位ガラス基板を獲得することを特徴とする。   In order to achieve the object of the present invention as described above, a single tempered glass plate processing method in which a G2 touch sensor in units of cells according to the present invention is formed includes a plurality of methods to be separated at a predetermined interval. A protective film is formed on the upper and lower surfaces of a single tempered glass plate on which the G2 touch sensor is formed to form a protective film layer, and then the tempered glass plate is cut to a predetermined size and the touch is applied. A plurality of cell unit glass substrates on which sensors are formed are obtained.

本発明によるセル単位のG2方式タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板加工方法において、前記保護フィルム層を定められた大きさを有するセル単位で区画して、各セルの境界線に該当する保護フィルム層をカットして除去した後、前記保護フィルム層が除去された境界線に沿って前記強化ガラス板を切断して、前記G2方式タッチセンサーが形成された多数のセル単位ガラス基板を獲得することを特徴とする。   In the single tempered glass sheet processing method in which the G2 touch sensor in units of cells according to the present invention is formed, the protective film layer is partitioned in units of cells having a predetermined size, and corresponds to the boundary line of each cell. The protective film layer is cut and removed, and then the tempered glass plate is cut along the boundary line from which the protective film layer is removed, and a plurality of cell unit glass substrates on which the G2 touch sensor is formed. It is characterized by acquiring.

本発明によるセル単位のG2方式タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板加工方法において、定められた間隔で離隔されるように複数個のG2方式タッチセンサーを形成している単一の強化ガラス板の上・下面に保護フィルムを付着して保護フィルム層を形成した後、前記保護フィルム層を、定められた大きさを有するセル単位で区画して各セルの境界線に該当する保護フィルム層をカットして除去した後、前記保護フィルム層が除去された境界線に沿って前記強化ガラス板を切断して、前記G2方式タッチセンサーが形成された多数のセル単位ガラス基板を獲得し、切断中に前記セル単位ガラス基板の側面切断部に形成されたクラックを除去するために前記セル単位ガラス基板の側面切断部を、定められた厚さあるいは深さで蝕刻することを特徴とする。   In a single tempered glass sheet processing method in which a cell-based G2 touch sensor according to the present invention is formed, a single tempering forming a plurality of G2 touch sensors so as to be spaced apart at a predetermined interval. After a protective film is formed on the upper and lower surfaces of the glass plate by forming a protective film layer, the protective film layer is partitioned in units of cells having a predetermined size, and the protective film corresponding to the boundary line of each cell After removing the layer by cutting, the tempered glass plate is cut along the boundary line from which the protective film layer has been removed to obtain a number of cell unit glass substrates on which the G2 touch sensor is formed, In order to remove cracks formed in the side cut portion of the cell unit glass substrate during cutting, the side cut unit of the cell unit glass substrate is etched with a predetermined thickness or depth. And features.

本発明によるセル単位のG2方式タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板加工方法において、前記セル単位ガラス基板は、蝕刻水槽に盛られた、定められた混合比を有する化学薬品に浸漬された状態で、前記蝕刻水槽内で、左・右に移動されるブラシによって切断部が蝕刻されることを特徴とする。   In the single tempered glass plate processing method in which the cell unit G2 touch sensor according to the present invention is formed, the cell unit glass substrate is immersed in a chemical having a predetermined mixing ratio placed in an etching water tank. In this state, the cutting part is etched by the brush moved left and right in the etching water tank.

本発明によるセル単位のG2方式タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板加工方法において、前記強化ガラス板に付着される保護フィルムはPVCフィルムであることを特徴とする。   In the single tempered glass plate processing method in which the cell-based G2 touch sensor according to the present invention is formed, the protective film attached to the tempered glass plate is a PVC film.

本発明によるG2方式タッチセンサーが形成されたタッチスクリーン製造方法は、定められた間隔で離隔されるように複数個のG2方式タッチセンサーを形成している単一の強化ガラス板の上・下面に保護フィルムを付着して保護フィルム層を形成する第1過程と;前記保護フィルム層をセル単位で区画し、各セルの境界線に該当する保護フィルム層をカットして除去する第2過程;前記保護フィルム層が除去された境界線に沿って前記強化ガラス板を切断して、G2方式タッチセンサーが形成された多数のセル単位ガラス基板を獲得する第3過程;第3過程で切断中に前記セル単位ガラス基板の側面切断部に形成されたクラックを除去するために前記セル単位ガラス基板の側面切断部を、定められた厚さあるいは深さで蝕刻する第4過程;及び第4過程でクラックが除去された前記セル単位ガラス基板を、定められた時間の間に水が盛られたふやかし水槽に浸漬して、前記セル単位ガラス基板の上面と下面に形成された前記保護フィルム層をふやかした後に取り外す第5過程;からなることを特徴とする。   A method for manufacturing a touch screen having a G2 touch sensor according to the present invention is formed on the upper and lower surfaces of a single tempered glass plate on which a plurality of G2 touch sensors are formed so as to be spaced apart at a predetermined interval. A first step of forming a protective film layer by attaching a protective film; a second step of partitioning the protective film layer in units of cells and cutting and removing the protective film layer corresponding to the boundary line of each cell; A third process of cutting the tempered glass plate along the boundary line from which the protective film layer has been removed to obtain a large number of cell unit glass substrates on which G2 touch sensors are formed; A fourth step of etching the side cut portion of the cell unit glass substrate with a predetermined thickness or depth to remove a crack formed in the side cut portion of the cell unit glass substrate; and a crack in the fourth step; The cell unit glass substrate from which the cell was removed was immersed in a water bath filled with water for a predetermined time, and the protective film layers formed on the upper and lower surfaces of the cell unit glass substrate were softened. The fifth step is to be removed later.

本発明によるG2方式タッチセンサーが形成されたタッチスクリーン製造方法において、前記第3過程では、前記保護フィルム層が除去された境界線に沿って前記強化ガラス板をサンドブラスターで切断することを特徴とする。   In the touch screen manufacturing method in which the G2 touch sensor according to the present invention is formed, in the third step, the tempered glass plate is cut with a sand blaster along the boundary line from which the protective film layer is removed. To do.

本発明によるG2方式タッチセンサーが形成されたタッチスクリーン製造方法において、前記第4過程では前記セル単位ガラス基板が蝕刻水槽に盛られた、定められた混合比を有する化学薬品に浸漬された状態で、前記蝕刻水槽内で、左・右に移動されるブラシによって切断部が蝕刻されることを特徴とする。   In the touch screen manufacturing method in which the G2 touch sensor according to the present invention is formed, in the fourth step, the cell unit glass substrate is placed in an etching water tank and immersed in a chemical having a predetermined mixing ratio. In the etching water tank, the cutting part is etched by a brush moved left and right.

上述したような、本発明によるセル単位のG2方式タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板加工方法及びその製造方法は、保護フィルム層に形成された境界線によってG2方式タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板が切断される区画部分を明確に把握することができ、G2方式タッチセンサー工程が完了された強化ガラス板を区画切断して、G2方式タッチセンサーが形成された多数のセル単位ガラス基板を迅速に獲得することができ、多数のセル単位ガラス基板獲得により生産效率が増加され、これによってG2方式タッチスクリーンを製造する時間を短縮して大量生産することができる利点がある。   As described above, the single tempered glass plate processing method and the manufacturing method thereof in which the cell-unit G2 touch sensor according to the present invention is formed, the G2 touch sensor is formed by the boundary line formed in the protective film layer. It is possible to clearly grasp the section where a single tempered glass plate is cut, and to divide and cut the tempered glass plate on which the G2 touch sensor process has been completed. The cell unit glass substrate can be quickly acquired, and the production efficiency is increased by acquiring a large number of cell unit glass substrates, which has the advantage that the time for manufacturing the G2 touch screen can be shortened and mass-produced. .

また、複数個のG2方式タッチセンサーが形成された強化ガラス板が保護フィルム層に保護されて、切断時に強化ガラス板の損傷が防止され、G2方式タッチセンサーが形成されたセル単位ガラス基板が保護フィルム層によって保護されて工程中にセル単位ガラス基板にスクラッチ及びチッピングが発生されなく、蝕刻時に保護フィルム層によってセル単位ガラス基板の側面切断部が許容寸法公差以上に蝕刻されることが防止され、保護フィルム層が水でふやかしてセル単位ガラス基板で容易に除去される利点がある。   In addition, the tempered glass plate on which multiple G2 touch sensors are formed is protected by a protective film layer, preventing damage to the tempered glass plate when cut, and the cell unit glass substrate on which the G2 touch sensor is formed is protected Scratch and chipping are not generated on the cell unit glass substrate during the process protected by the film layer, and the side cut part of the cell unit glass substrate is prevented from being etched beyond the allowable dimensional tolerance by the protective film layer at the time of etching, There is an advantage that the protective film layer is easily removed with the cell unit glass substrate by wiping with water.

従来のG2方式タッチスクリーンを製造する工程過程を示す図面である。6 is a diagram illustrating a process of manufacturing a conventional G2 touch screen. 従来のG2方式タッチスクリーンを製造する方法を示す順序図である。It is a flow chart showing a method for manufacturing a conventional G2 touch screen. 本発明によるG2方式タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板を加工する加工装置を示す概略図である。It is the schematic which shows the processing apparatus which processes the single tempered glass board in which the G2 type touch sensor by this invention was formed. 本発明によるG2方式タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板に保護フィルムを付着する状態を示す図面である。1 is a view illustrating a state in which a protective film is attached to a single tempered glass plate on which a G2 touch sensor according to the present invention is formed. 本発明によるG2方式タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板に付着された保護フィルム層をカットして除去する状態を示す図面である。1 is a view illustrating a state in which a protective film layer attached to a single tempered glass plate on which a G2 touch sensor according to the present invention is formed is cut and removed. 本発明によるG2方式タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板に付着された保護フィルム層をカットして除去する状態を示す図面である。1 is a view illustrating a state in which a protective film layer attached to a single tempered glass plate on which a G2 touch sensor according to the present invention is formed is cut and removed. 本発明によるG2方式タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板に形成された境界線に沿って強化ガラス板を切断する状態を示す図面である。1 is a view showing a state in which a tempered glass plate is cut along a boundary line formed on a single tempered glass plate on which a G2 touch sensor according to the present invention is formed. 本発明によるG2方式タッチセンサーが形成されたセル単位ガラス基板を蝕刻する状態を示す図面である。3 is a view illustrating a state in which a cell unit glass substrate on which a G2 touch sensor according to the present invention is formed is etched. 本発明によるG2方式タッチセンサーが形成されたセル単位ガラス基板の保護フィルム層をふやかして除去する状態を示す図面である。3 is a view showing a state where a protective film layer of a cell unit glass substrate on which a G2 touch sensor according to the present invention is formed is removed by softening. 本発明によるG2方式タッチスクリーンを製造する方法を示す順序図である。FIG. 5 is a flowchart illustrating a method for manufacturing a G2 touch screen according to the present invention.

以下、本発明の実施例を添付の図面を参照してもっと詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

図3は、本発明による複数のG2方式タッチセンサーが形成された強化ガラス板を加工してG2方式タッチスクリーンを製造する製造装置を示した実施例として、保護フィルム層を形成するラミネーター(laminator)と、保護フィルム層をカットするカッティングプロッタと、強化ガラス板を切断するサンドブラスターと、セル単位ガラス基板を蝕刻する化学薬品が盛られた蝕刻水槽及び保護フィルムをふやかす水が盛られたふやかし水槽から構成される。   FIG. 3 shows a laminator for forming a protective film layer as an example of a manufacturing apparatus for manufacturing a G2 touch screen by processing a tempered glass plate having a plurality of G2 touch sensors according to the present invention. And a cutting plotter that cuts the protective film layer, a sand blaster that cuts the tempered glass plate, an etching water tank filled with chemicals that etch the cell unit glass substrate, and a water tank filled with water that shines the protective film Composed.

前記ラミネーター100は、複数個のG2方式タッチセンサー601が形成された強化ガラス板600の上・下面に保護フィルム701を付着して、前記強化ガラス板600の上・下面に保護フィルム層700が形成される。   The laminator 100 has a protective film 701 attached to the upper and lower surfaces of the tempered glass plate 600 on which a plurality of G2 touch sensors 601 are formed, and a protective film layer 700 is formed on the upper and lower surfaces of the tempered glass plate 600. Is done.

前記ラミネーター100は、前記強化ガラス板600の上面に保護フィルム701を付着した後、前記強化ガラス板600の下面が上端に位置されるように回転されると、再作動されて前記強化ガラス板600の下面に保護フィルム701を順次に付着する。   When the laminator 100 is rotated so that the lower surface of the tempered glass plate 600 is positioned at the upper end after the protective film 701 is attached to the upper surface of the tempered glass plate 600, the laminator 100 is re-actuated to re-activate the tempered glass plate 600. A protective film 701 is sequentially attached to the lower surface of the substrate.

前記カッティングプロッタ200は、外部器機(未図示)と連結され、外部器機に入力された座標信号値を入力受けて、定められた位置に移動されながら前記保護フィルム層700をカットする。   The cutting plotter 200 is connected to an external device (not shown), receives a coordinate signal value input to the external device, and cuts the protective film layer 700 while being moved to a predetermined position.

前記カッティングプロッタ200は、前記強化ガラス板600の上面に形成された保護フィルム層700をカットした後、前記強化ガラス板600が下面に付着された保護フィルム層700が上端に位置されるように回転されると、再作動されて前記強化ガラス板600の下面に形成された保護フィルム層700を上面に形成された保護フィルム層700と対応されるようにカットする。   The cutting plotter 200 cuts the protective film layer 700 formed on the upper surface of the tempered glass plate 600, and then rotates so that the protective film layer 700 with the tempered glass plate 600 attached to the lower surface is positioned at the upper end. Then, the protective film layer 700 formed on the lower surface of the tempered glass plate 600 after being reactivated is cut so as to correspond to the protective film layer 700 formed on the upper surface.

前記カッティングプロッタ200によってカットされた前記保護フィルム層700を除去することによって、前記強化ガラス板600の上・下面で除去された前記保護フィルム層700によって、互いに対応される境界線700aが形成される。   By removing the protective film layer 700 cut by the cutting plotter 200, a boundary line 700a corresponding to each other is formed by the protective film layer 700 removed on the upper and lower surfaces of the tempered glass plate 600. .

前記カッティングプロッタ200は、カッター刃201を具備し、このカッター刃201が移動されて前記保護フィルム層700をカットする。   The cutting plotter 200 includes a cutter blade 201, and the cutter blade 201 is moved to cut the protective film layer 700.

前記カッティングプロッタ200のカッター刃201は、200〜400mm/sec 以内の速度に移動されて前記境界線700aの間隔が40〜200μmに形成されるように前記保護フィルム層700をカットする。   The cutter blade 201 of the cutting plotter 200 is moved at a speed within 200 to 400 mm / sec to cut the protective film layer 700 so that the interval between the boundary lines 700a is formed to 40 to 200 μm.

前記カッティングプロッタ200のカッター刃201は、上・下面に付着されたそれぞれの前記保護フィルム層700に50〜100μmの深さに侵入して前記保護フィルム層700をカットする。   The cutter blade 201 of the cutting plotter 200 penetrates the protective film layer 700 attached to the upper and lower surfaces to a depth of 50 to 100 μm and cuts the protective film layer 700.

前記サンドブラスター300は、下部に位置された前記強化ガラス板600を、定められた大きさで切断して多数のセル単位ガラス基板600aを形成する。   The sand blaster 300 cuts the tempered glass plate 600 positioned at a lower portion with a predetermined size to form a plurality of cell unit glass substrates 600a.

前記サンドブラスター300は、前記強化ガラス板600の上面で除去された前記保護フィルム層700の境界線700aに沿って移動されて前記強化ガラス板600の上面を、定められた深さで切削し、その後に前記強化ガラス板600の下面が上部に位置されるように回転されると、前記強化ガラス板600の下面で除去された前記保護フィルム層700の境界線700aに沿って移動されながら、前記強化ガラス板600の上面と対応される部分を切削してG2方式タッチセンサー601が形成された、定められた大きさの多数のセル単位ガラス基板600aを獲得するようになる。   The sand blaster 300 is moved along the boundary line 700a of the protective film layer 700 removed on the upper surface of the tempered glass plate 600 to cut the upper surface of the tempered glass plate 600 at a predetermined depth, Thereafter, when rotated so that the lower surface of the tempered glass plate 600 is positioned at the upper part, while being moved along the boundary line 700a of the protective film layer 700 removed on the lower surface of the tempered glass plate 600, A portion corresponding to the upper surface of the tempered glass plate 600 is cut to obtain a large number of cell unit glass substrates 600a having a predetermined size on which the G2 touch sensor 601 is formed.

前記サンドブラスター300は、砂を圧縮空気で噴射して鋳物等、金属製品の表面をきれいに仕上げ及び手入れする工法で、前記サンドブラスター300にはアルミナシリケート(Alumina Silicate)#400研磨剤が使われる。   The sand blaster 300 is a method of finely finishing and maintaining the surface of a metal product such as a casting by injecting sand with compressed air. The sand blaster 300 is made of an alumina silicate # 400 abrasive.

前記サンドブラスター300は、研磨剤を3.0Mpaの圧で調査し、50〜70mm/secの移動速度に移動させて、前記ガラス板600の上・下面を各々加工厚さの50%で切断する。   The sand blaster 300 investigates the abrasive at a pressure of 3.0 MPa, moves it to a moving speed of 50 to 70 mm / sec, and cuts the upper and lower surfaces of the glass plate 600 at 50% of the processing thickness.

前記ガラス板600の切断時湿度は、50〜60%で維持させ、温度は22〜25度(℃)で維持させ、研磨剤を噴射する前記サンドブラスター300のノズル301と前記ガラス板600の間の距離は20mm離隔されるようにすることが望ましい。   The humidity at the time of cutting of the glass plate 600 is maintained at 50 to 60%, the temperature is maintained at 22 to 25 degrees (° C.), and between the nozzle 301 of the sand blaster 300 for spraying the abrasive and the glass plate 600 It is desirable to keep the distance of 20 mm apart.

前記サンドブラスター300は、前記セル単位ガラス基板600aの上面にG2方式タッチセンサー601が位置されるように切断することが望ましい。   The sand blaster 300 is preferably cut so that the G2 touch sensor 601 is positioned on the upper surface of the cell unit glass substrate 600a.

前記蝕刻水槽400は、定められた比率で混合された化学薬品401を収容し、内部両側面に左・右に繰り返し移動されて前記サンドブラスター300によって切断された前記セル単位ガラス基板600aの切断部601aを蝕刻するブラシ402を具備する。   The etching water tank 400 contains a chemical 401 mixed at a predetermined ratio, and is repeatedly moved left and right on both internal side surfaces and cut by the sand blaster 300 to cut the cell unit glass substrate 600a. A brush 402 for etching 601a is provided.

前記蝕刻水槽400は、前記化学薬品401に前記セル単位ガラス基板600aが浸漬されるようにした状態で、前記ブラシ402を作動させて、前記セル単位ガラス基板600aの切断部601aを製造時に設定された許容寸法公差に対応されるように蝕刻する。   In the etching water tank 400, the cutting unit 601a of the cell unit glass substrate 600a is set at the time of manufacture by operating the brush 402 in a state where the cell unit glass substrate 600a is immersed in the chemical 401. Etch to accommodate tolerance tolerances.

前記蝕刻水槽400は、前記化学薬品401に多数の前記セル単位ガラス基板600aを同時に浸漬させて、多数の前記セル単位ガラス基板600aの切断部601aを同時に蝕刻し、前記化学薬品401に同時に浸漬される前記セル単位ガラス基板600aの個数は100枚以下であることが望ましい。   The etching water tank 400 simultaneously immerses a large number of the cell unit glass substrates 600a in the chemical 401, simultaneously etches the cutting portions 601a of the large number of cell unit glass substrates 600a, and is simultaneously immersed in the chemicals 401. The number of the cell unit glass substrates 600a is preferably 100 or less.

前記蝕刻水槽400に盛られた前記化学薬品401の混合比はNH4F10%、HF5%をDI基準100%で添加して混合する。   The mixing ratio of the chemical 401 accumulated in the etching water tank 400 is NH4F 10% and HF 5% added at 100% DI standard and mixed.

前記蝕刻水槽400に具備された前記ブラシ402は、ポリ及びメラミン樹脂材質から製作されることが望ましい。   The brush 402 provided in the etching water tank 400 is preferably made of a poly or melamine resin material.

前記ふやかし水槽500は、内部に定められた温度を有する水を収容し、その水に前記セル単位ガラス基板600aを浸漬させて、前記セル単位ガラス基板600aの上・下面に付着した保護フィルム層700がふやかしされる。   The fading water tank 500 contains water having a temperature determined inside, and the cell unit glass substrate 600a is immersed in the water, and a protective film layer 700 adhered to the upper and lower surfaces of the cell unit glass substrate 600a. Is fascinating.

前記ふやかし水槽500は、水に前記セル単位ガラス基板600aを100〜200枚以内に浸漬することができる空間から形成される。   The soft water tank 500 is formed from a space in which the cell unit glass substrate 600a can be immersed in water within 100 to 200 sheets.

前記ふやかし水槽500は、内部に収容される水の温度を70〜80度(℃)以内に形成し、この水に前記セル単位ガラス基板600aを5分以内に浸漬させて、前記セル単位ガラス基板600aの上・下面に付着された保護フィルム層700がふやかしされる。   In the water tank 500, the temperature of the water contained therein is formed within 70 to 80 degrees (° C.), and the cell unit glass substrate 600a is immersed in the water within 5 minutes. The protective film layer 700 attached to the upper and lower surfaces of 600a is flared.

前記のように構成される製造装置によって本発明によるG2方式タッチスクリーン用ガラスパネル加工方法は図8の手順図に示すように遂行される。   With the manufacturing apparatus configured as described above, the method for processing a glass panel for a G2 touch screen according to the present invention is performed as shown in the flowchart of FIG.

まず、図3を参照すれば、使用者は複数個のG2方式タッチセンサー601が形成された強化ガラス板600を洗浄して、前記強化ガラス板600の上・下面に付着されている異物またはほこりなどを除去するようになる。   First, referring to FIG. 3, the user cleans the tempered glass plate 600 on which a plurality of G2 touch sensors 601 are formed, and removes foreign matter or dust attached to the upper and lower surfaces of the tempered glass plate 600. And so on.

もし、前記強化ガラス板600の上面のG2方式タッチセンサー601部分に異物が付着されていると、前記保護フィルム701の付着時に前記強化ガラス板600と前記保護フィルム701の間の異物によって気泡が発生されることによって、前記保護フィルム701を付着する前に前記強化ガラス板600に圧縮空気を噴射して前記強化ガラス板600に付着された異物を除去する。   If foreign matter is attached to the G2 touch sensor 601 portion on the upper surface of the tempered glass plate 600, bubbles are generated by the foreign matter between the tempered glass plate 600 and the protective film 701 when the protective film 701 is attached. As a result, before the protective film 701 is attached, compressed air is sprayed onto the tempered glass plate 600 to remove foreign matters attached to the tempered glass plate 600.

以後、図4を参照すれば、前記のように圧縮空気によって異物が除去された前記強化ガラス板600の上・下面にラミネーター100を利用して保護フィルム700を付着して保護フィルム層700を形成する(S100)。   Thereafter, referring to FIG. 4, a protective film layer 700 is formed by attaching a protective film 700 to the upper and lower surfaces of the tempered glass plate 600 from which foreign matter has been removed by compressed air as described above using a laminator 100. (S100).

特に、この過程(S100)では前記ラミネーター100の移動速度を20mm/secに調節して、前記強化ガラス板600の上・下面に保護フィルム701を付着することが望ましい。   In particular, in this step (S100), it is desirable to attach the protective film 701 to the upper and lower surfaces of the tempered glass plate 600 by adjusting the moving speed of the laminator 100 to 20 mm / sec.

ここで、前記強化ガラス板600に付着される保護フィルム701は、PVC材質を使用することが望ましく、前記保護フィルム701の物性値は前記強化ガラス板600を加工する工程の間に前記強化ガラス板600の損傷を防止することができる数値を持たなければならない.
すなわち、前記保護フィルム701の物性値を数値化すれば、厚さは50〜100mmであり、接着力は90〜150gf/25mmであり、引張強度は2.5〜4.0kgf/20mmであり、延伸率は200〜300%である。
Here, the protective film 701 attached to the tempered glass plate 600 is preferably made of PVC material, and the physical properties of the protective film 701 are determined during the process of processing the tempered glass plate 600. Must have a value that can prevent 600 damage.
That is, if the physical properties of the protective film 701 are quantified, the thickness is 50 to 100 mm, the adhesive strength is 90 to 150 gf / 25 mm, the tensile strength is 2.5 to 4.0 kgf / 20 mm, and the stretch ratio is 200-300%.

前記のように、前記強化ガラス板600に保護フィルム層700を形成した後、図5aに示したように、前記カッティングプロッタ200で前記強化ガラス板600を移送させれると、前記カッティングプロッタ200のカッター刃201が垂直または水平方向に沿って移動されながら、前記保護フィルム層700をセル単位で区画カットする(S200)。   As described above, after forming the protective film layer 700 on the tempered glass plate 600, as shown in FIG. 5a, when the tempered glass plate 600 is transferred by the cutting plotter 200, a cutter of the cutting plotter 200 is obtained. While the blade 201 is moved along the vertical or horizontal direction, the protective film layer 700 is sectioned and cut in units of cells (S200).

この時、前記カッティングプロッタ200は外部器機(不図示)と連結された状態で外部器機に入力された信号値を伝達受けて前記カッター刃201を、定められた位置に移動させて、前記保護フィルム層700をカットし、このようにカットされたセル単位の保護フィルム層700はタッチスクリーンが使用される製品の規格に対応される大きさであることが望ましい。   At this time, the cutting plotter 200 is connected to an external device (not shown) to receive a signal value input to the external device, and moves the cutter blade 201 to a predetermined position, so that the protective film The layer 700 is cut, and the cell-based protective film layer 700 cut in this way is preferably sized to meet the specifications of the product in which the touch screen is used.

特に、この過程(S200)で前記カッティングプロッタ200のカッター刃201は50〜100μm深さで前記保護フィルム層700に侵入した状態で、200〜400mm/sec以内の速度に移動されて、前記保護フィルム層700を区画カットする。   In particular, in this process (S200), the cutter blade 201 of the cutting plotter 200 is moved to a speed of 200 to 400 mm / sec in a state where it enters the protective film layer 700 at a depth of 50 to 100 μm, and the protective film Section 700 is cut into layers.

ここで、図5bに示したように、使用者が前記カッター刃201によってカットされた前記保護フィルム層700を除去することによって、前記保護フィルム層700をセル単位に区画する境界線700aが形成され、この境界線700aの間隔は40〜200μmに形成される。   Here, as shown in FIG. 5b, the user removes the protective film layer 700 cut by the cutter blade 201, thereby forming a boundary line 700a that partitions the protective film layer 700 into cells. The interval between the boundary lines 700a is 40 to 200 μm.

前記カッティングプロッタ200を利用して前記強化ガラス板600の上面に付着された保護フィルム層700をカットして除去し、前記強化ガラス板600の下面に付着された保護フィルム層700が上端に位置されるように回転させて、前記強化ガラス板600の下面に付着された保護フィルム層700をカットして除去することによって、前記強化ガラス板600の上・下面ンに互いに対応される境界線700aが形成される。   The protective film layer 700 attached to the upper surface of the tempered glass plate 600 is cut and removed using the cutting plotter 200, and the protective film layer 700 attached to the lower surface of the tempered glass plate 600 is positioned at the upper end. The protective film layer 700 attached to the lower surface of the tempered glass plate 600 is cut and removed so that boundary lines 700a corresponding to the upper and lower surfaces of the tempered glass plate 600 are formed. It is formed.

前記のように多数のセル単位で分けられた保護フィルム層700を形成している前記強化ガラス板600を図6に示したサンドブラスター300の下部に移動させて、ホルダー(不図示)に固定した状態で、前記サンドブラスター300を前記境界線700aに沿って移動させながら、前記強化ガラス板600を切断して多数のセル単位ガラス基板600aを獲得するようになる(S300)。   The tempered glass plate 600 forming the protective film layer 700 divided into a large number of cells as described above is moved to the lower part of the sand blaster 300 shown in FIG. 6 and fixed to a holder (not shown). In this state, while moving the sand blaster 300 along the boundary line 700a, the tempered glass plate 600 is cut to obtain a large number of cell unit glass substrates 600a (S300).

すなわち、前記サンドブラスター300を前記強化ガラス板600の上面に形成された前記境界線700aに沿って移動させて、前記強化ガラス板600の上面を、定められた深さで切削し、前記強化ガラス板600の下面が上端に位置されるように回転されると、前記強化ガラス板600の下面で除去された前記保護フィルム層700の境界線700aに沿って移動させて前記強化ガラス板600の上面と対応される部分を定められた深さで切削することによって、前記強化ガラス板600が定められた大きさで切断して、前記G2方式タッチセンサーが形成された多数のセル単位ガラス基板600aを獲得するようになる。   That is, the sand blaster 300 is moved along the boundary line 700a formed on the upper surface of the tempered glass plate 600, and the upper surface of the tempered glass plate 600 is cut at a predetermined depth, and the tempered glass is cut. When rotated so that the lower surface of the plate 600 is positioned at the upper end, the upper surface of the tempered glass plate 600 is moved along the boundary line 700a of the protective film layer 700 removed at the lower surface of the tempered glass plate 600. The tempered glass plate 600 is cut at a predetermined size by cutting a portion corresponding to a plurality of cell unit glass substrates 600a on which the G2 touch sensor is formed. To gain.

ここで、前記サンドブラスター300は、砂を圧縮空気で噴射して鋳物など金属製品の表面をきれいに仕上げ及び手入れする工法で、本発明の前記サンドブラスター300にはアルミナシリケート(Alumina Silicate)#400 研磨剤が使用される。   Here, the sand blaster 300 is a method of finely finishing and maintaining the surface of a metal product such as a casting by injecting sand with compressed air, and the sand blaster 300 of the present invention includes an alumina silicate # 400 polishing. Agent is used.

この時、前記サンドブラスター300で噴射される研磨剤は前記強化ガラス板600の上・下面に形成された境界線700aに沿って噴射されて、前記強化ガラス板600が多数のセル単位ガラス基板600aに切断する。   At this time, the abrasive sprayed by the sand blaster 300 is sprayed along boundary lines 700a formed on the upper and lower surfaces of the tempered glass plate 600, and the tempered glass plate 600 becomes a plurality of cell unit glass substrates 600a. Disconnect.

特に、前記サンドブラスター300で噴射される研磨剤は前記ガラス板600に形成された保護フィルム層700に遮断されて、前記保護フィルム層700の境界線700a間隔以上に前記ガラス板600が切削されることが防止される。   In particular, the abrasive sprayed by the sand blaster 300 is blocked by the protective film layer 700 formed on the glass plate 600, and the glass plate 600 is cut beyond the boundary line 700a of the protective film layer 700. It is prevented.

一方、この過程(S300)では、湿度を50〜60%で維持させ、温度を22〜25度(℃)で維持させ、研磨剤を噴射する前記サンドブラスター300のノズル301と前記ガラス板600の間の距離を20mm離隔されるようにした状態で、研磨剤を3.0Mpaの圧で噴射し、50〜70mm/secの移動速度に移動させて、前記ガラス板600を切削することが望ましい。   Meanwhile, in this process (S300), the humidity is maintained at 50 to 60%, the temperature is maintained at 22 to 25 degrees (° C.), and the nozzle 301 of the sand blaster 300 and the glass plate 600 for injecting the abrasive are used. It is desirable to cut the glass plate 600 by spraying an abrasive at a pressure of 3.0 MPa and moving it at a moving speed of 50 to 70 mm / sec with the distance between them being 20 mm apart.

前記で獲得した多数のセル単位ガラス基板600aは、前記保護フィルム層700によって保護され、このセル単位ガラス基板600aの上面にはG2方式タッチセンサー601が形成されている。   A number of the cell unit glass substrates 600a obtained above are protected by the protective film layer 700, and a G2 touch sensor 601 is formed on the upper surface of the cell unit glass substrate 600a.

そして、図7に示したように、前記過程(S300)によって獲得した前記セル単位ガラス基板600aを、定められた比率で混合した化学薬品401が収容された蝕刻水槽400に浸漬させ、その状態で前記蝕刻水槽400内に設置されたブラシ402を作動させて、前記セル単位ガラス基板600aの側面切断部601aを蝕刻するようになる(S400)。   Then, as shown in FIG. 7, the cell unit glass substrate 600a obtained in the step (S300) is immersed in an etching water tank 400 containing a chemical 401 mixed at a predetermined ratio, and in that state. The brush 402 installed in the etching water tank 400 is operated to etch the side cut portion 601a of the cell unit glass substrate 600a (S400).

ここで、前記サンドブラスター300によって切断した前記セル単位ガラス基板600aの側面切断部601aにはクラック(crack)またはチッピング(chipping)などが形成され、もし、これを放置されると、外部衝撃によって前記セル単位ガラス基板600aのクラックまたはチッピング部位が漸次的に割れて、前記セル単位ガラス基板600aが破損される。   Here, a crack or chipping is formed in the side surface cutting part 601a of the cell unit glass substrate 600a cut by the sand blaster 300. Cracks or chipping portions of the cell unit glass substrate 600a are gradually broken, and the cell unit glass substrate 600a is broken.

したがって、前記蝕刻水槽400の内に浸漬された前記セル単位ガラス基板600aの切断部601aに化学薬品を浸透させ、その状態で前記ブラシ402を左・右に移動されるように作動させることによって、前記ブラシ402によって前記セル単位ガラス基板600aの切断部601aが、定められた深さあるいは厚さで蝕刻されて、前記セル単位ガラス基板600aの側面切断部601aに形成された微細クラックが除去される。   Therefore, by penetrating chemicals into the cutting part 601a of the cell unit glass substrate 600a immersed in the etching water tank 400, by operating the brush 402 to move left and right in that state, The cutting unit 601a of the cell unit glass substrate 600a is etched with a predetermined depth or thickness by the brush 402, and fine cracks formed in the side surface cutting unit 601a of the cell unit glass substrate 600a are removed. .

前記蝕刻水槽400の内の化学薬品401に同時に浸漬されることができる前記セル単位ガラス基板600aの個数は100〜200枚以下であり、このセル単位ガラス基板600aが同時に前記化学薬品401に浸漬された状態で前記ブラシ402によって切断部601aが蝕刻される。   The number of the cell unit glass substrates 600a that can be simultaneously immersed in the chemical 401 in the etching water tank 400 is 100 to 200 or less, and the cell unit glass substrate 600a is simultaneously immersed in the chemical 401. In this state, the cutting portion 601a is etched by the brush 402.

特に、この過程(S400)で、前記蝕刻水槽400の内に収容された化学薬品401は、その混合比がNH4F 4〜10%、HF 2〜5%が DI 基準100%に添加される。 In particular, in this process (S400), the chemical 401 accommodated in the etching water tank 400 is added to a mixture ratio of NH 4 F 4 to 10% and HF 2 to 5% to DI standard 100%. .

そして、前記セル単位ガラス基板600aの側面切断部601aを蝕刻するブラシ402は、その材質がポリ及びメラミン樹脂材質から製作されることが望ましい。   The brush 402 for etching the side cut portion 601a of the cell unit glass substrate 600a is preferably made of a poly or melamine resin material.

次いで、側面切断部601aの微細クラックが除去された前記セル単位ガラス基板600aを図8に示した水が盛られたふやかし水槽500に、定められた時間の間に浸漬させて、前記セル単位ガラス基板600aに形成された保護フィルム層700がふやかしされるようにする(S500)。   Next, the cell unit glass substrate 600a from which the fine cracks of the side cut portion 601a have been removed is immersed in a water tank 500 filled with water as shown in FIG. The protective film layer 700 formed on the substrate 600a is made to fluff (S500).

この時、前記保護フィルム層700をふやかす水の温度を70〜80度(℃)以内に調節し、この水に前記セル単位ガラス基板600aを5分以内に浸漬させることによって、前記セル単位ガラス基板600aに形成された保護フィルム層700がふやかしされる。   At this time, the temperature of the water that swells the protective film layer 700 is adjusted within 70 to 80 degrees (° C.), and the cell unit glass substrate 600a is immersed in the water within 5 minutes, thereby the cell unit glass substrate. The protective film layer 700 formed on 600a is flared.

この状態で、前記セル単位ガラス基板600aを水の外部に拾い上げて、使用者が前記保護フィルム層700を除去するようになる。   In this state, the cell unit glass substrate 600a is picked up outside the water, and the user removes the protective film layer 700.

ここで、使用者は径が50μmに形成された三角形形態の錐を利用して前記保護フィルム層700を除去することが望ましい。   Here, it is preferable that the user removes the protective film layer 700 using a triangular cone having a diameter of 50 μm.

特に、この過程(S500)では、前記ふやかし水槽500に100〜200枚以内の前記セル単位ガラス基板600aを同時に浸漬させてふやかしし、その状態で一杖一杖の前記セル単位ガラス基板600aを順次に拾い上げて使用者が前記保護フィルム層700を除去する。   In particular, in this process (S500), the cell unit glass substrate 600a of 100 to 200 sheets or less is simultaneously immersed in the fluffy water tank 500, and the cell unit glass substrate 600a of one cane in that state is sequentially added. The user removes the protective film layer 700.

このような、前記複数の工程を経って製造された前記G2方式タッチスクリーンは、前記ガラス基板600aが手または特定物体に反応して信号が入力された位置を把握するようになる。   The G2-type touch screen manufactured through the plurality of steps as described above grasps the position where the glass substrate 600a responds to a hand or a specific object and a signal is input.

参照として、前記過程(S500)が完了すれると、ショート検査部800を通じて電気的特性検査を遂行し、この時、プローブピン801で電気的特性を流すことによって、前記G2方式タッチスクリーンのG2方式タッチセンサー601の損傷可否及びタッチ誤作動状態可否を確認するようになる。   As a reference, when the process (S500) is completed, an electrical property test is performed through the short test unit 800. At this time, the electrical property is made to flow through the probe pin 801, so that the G2 method of the G2 touch screen is used. Whether or not the touch sensor 601 is damaged and whether or not a touch malfunction is detected are checked.

そして、前記G2方式タッチスクリーンを最終的に洗浄して、前記G2方式タッチスクリーンに残留されたほこりまたは水気などを除去した後、使用者が肉眼で三波長蛍光灯を利用して、前記G2方式タッチスクリーンに発生したスクラッチ、異物、微細クラック及びチッピングなどを検査する。   Then, the G2 touch screen is finally cleaned to remove dust or moisture remaining on the G2 touch screen, and then the user uses the three-wavelength fluorescent lamp with the naked eye, and the G2 touch screen is used. Inspects scratches, foreign objects, microcracks, and chipping generated on the touch screen.

このように検査が完了された前記G2方式タッチスクリーンの上・下面にフィルムを付着する包装作業を遂行して、前記G2方式タッチスクリーンにスクラッチが発生されることを防止する。   In this way, a packaging operation for attaching the film to the upper and lower surfaces of the G2 touch screen that has been inspected is performed to prevent the G2 touch screen from being scratched.

ここで、前記過程(S500)の以後に行われるショート検査、洗浄、検査及び包装作業は、一般的な方法によって行われることであり、これに対する詳細な説明は省略する。   Here, the short inspection, cleaning, inspection and packaging operations performed after the step (S500) are performed by a general method, and detailed description thereof will be omitted.

前記のように複数のG2方式タッチセンサー601が形成された単一の強化ガラス板600に保護フィルム層700を形成した後、区画切断してG2方式タッチスクリーンを製造する方法は、複数個のG2方式タッチセンサー601が形成された強化ガラス板600の切断でG2方式タッチセンサー601が形成されたセル単位ガラス基板600aを獲得して、生産效率が増加され、これによって大量生産が可能であり、保護フィルム層700が除去された境界線700aに沿って強化ガラス板600を切断して強化ガラス板が保護フィルム層700によって保護され、保護フィルム層700の境界線700aによって強化ガラス板600が切断される区画部分を明確に確認することができ、蝕刻時に保護フィルム層700によってセル単位ガラス基板600aの側面切断部601aが、定められた深さ以上に蝕刻されることが防止される。   As described above, after forming the protective film layer 700 on the single tempered glass plate 600 on which the plurality of G2 type touch sensors 601 are formed, the method of manufacturing the G2 type touch screen by dividing and cutting is a plurality of G2 The glass substrate 600a with the G2 touch sensor 601 is obtained by cutting the tempered glass plate 600 on which the touch sensor 601 is formed, thereby increasing the production efficiency, thereby enabling mass production and protection. The tempered glass plate 600 is cut along the boundary line 700a from which the film layer 700 has been removed to protect the tempered glass plate by the protective film layer 700, and the tempered glass plate 600 is cut by the boundary line 700a of the protective film layer 700. The partition portion can be clearly confirmed, and the side cut portion 601a of the cell unit glass substrate 600a is prevented from being etched beyond a predetermined depth by the protective film layer 700 at the time of etching. The

以上で記述したように、本発明によるセル単位のG2方式タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板加工方法及びその製造方法を実施するための一つの実施例に過ぎないこととして、本発明は前記した実施例に限定されなく、以下特許請求範囲で請求する本発明の要旨を離脱することがなしに本発明が属する分野で通常の知識を有する者であれば、誰でも多様な変更実施が可能な範囲まで本発明の技術的思想がある。   As described above, the present invention is merely an example for carrying out a single tempered glass sheet processing method and a manufacturing method thereof in which a cell-unit G2 touch sensor according to the present invention is formed. The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made by anyone having ordinary knowledge in the field to which the present invention belongs without departing from the spirit of the present invention claimed in the claims below. There is a technical idea of the present invention to the extent possible.

100 : ラミネーター
200 : カッティングプロッタ
201 : カッター刃
300 : サンドブラスター
301 : ノズル
400 : 蝕刻水槽
401 : 化学薬品
402 : ブラシ
500 : ふやかし水槽
600 : ガラス板
600a : セル単位ガラス基板
601 : G2方式タッチセンサー
601a : 切断部
700 : 保護フィルム層
700a : 境界線
701 : 保護フィルム
100: Laminator
200: Cutting plotter
201: Cutter blade
300: Sandblaster
301: Nozzle
400: etching tank
401: Chemical
402: Brush
500: Fluffy aquarium
600: Glass plate
600a: Cell unit glass substrate
601: G2 touch sensor
601a: Cutting part
700: Protective film layer
700a: border
701: Protective film

Claims (8)

定められた間隔で離隔されるように複数個のG2方式タッチセンサー601を形成した単一の強化ガラス板600の上・下面に保護フィルム701を付着して保護フィルム層700を形成した後、前記強化ガラス板600を、定められた大きさで切断して前記タッチセンサー601が形成された多数のセル単位ガラス基板600aを獲得することを特徴とするセル単位のG2方式タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板加工方法。   After forming a protective film layer 700 by attaching a protective film 701 to the upper and lower surfaces of a single tempered glass plate 600 in which a plurality of G2 touch sensors 601 are formed so as to be separated at a predetermined interval, A single unit formed with a cell unit G2-type touch sensor is obtained by cutting the tempered glass plate 600 with a predetermined size to obtain a plurality of cell unit glass substrates 600a on which the touch sensor 601 is formed. One tempered glass plate processing method. 前記保護フィルム層700を、定められた大きさを有するセル単位で区画して各セルの境界線700aに該当する保護フィルム層700をカットして除去した後、前記保護フィルム層700が除去された境界線700aに沿って前記強化ガラス板600を切断して前記G2方式タッチセンサー601が形成された多数のセル単位ガラス基板600aを獲得することを特徴とする請求項1に記載のセル単位のG2方式タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板加工方法。   The protective film layer 700 is partitioned in units of cells having a predetermined size, and after the protective film layer 700 corresponding to the boundary line 700a of each cell is cut and removed, the protective film layer 700 is removed. The cell unit G2 according to claim 1, wherein the tempered glass plate 600 is cut along a boundary line 700a to obtain a plurality of cell unit glass substrates 600a on which the G2 touch sensor 601 is formed. Single tempered glass plate processing method with touch sensor. 定められた間隔で離隔されるように複数個のG2方式タッチセンサー601を形成している単一の強化ガラス板600の上・下面に保護フィルム701を付着して保護フィルム層700を形成した後、前記保護フィルム層700を、定められた大きさを有するセル単位で区画して各セルの境界線700aに該当する保護フィルム層700をカットして除去した後、前記保護フィルム層700が除去された境界線700aに沿って前記強化ガラス板600を切断して前記G2方式タッチセンサー601が形成された多数のセル単位ガラス基板600aを獲得し、切断中に前記セル単位ガラス基板600aの側面切断部601aに形成されたクラックを除去するために前記セル単位ガラス基板600aの側面切断部601aを、定められた厚さあるいは深さに蝕刻することを特徴とするセル単位のG2方式タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板加工方法。   After forming the protective film layer 700 by attaching the protective film 701 to the upper and lower surfaces of a single tempered glass plate 600 forming a plurality of G2 touch sensors 601 so as to be separated at a predetermined interval The protective film layer 700 is partitioned in units of cells having a predetermined size, and after the protective film layer 700 corresponding to the boundary line 700a of each cell is cut and removed, the protective film layer 700 is removed. The tempered glass plate 600 is cut along the boundary line 700a to obtain a large number of cell unit glass substrates 600a on which the G2 touch sensor 601 is formed, and a side cut portion of the cell unit glass substrate 600a is cut during the cutting. A cell unit G2 touch sensor is formed by etching the side cut part 601a of the cell unit glass substrate 600a to a predetermined thickness or depth in order to remove cracks formed in the unit 601a. Simply One tempered glass plate processing method. 前記セル単位ガラス基板600aは、蝕刻水槽400に盛られた定められた混合比を有する化学薬品401に浸漬された状態で、前記蝕刻水槽400の内で左・右に移動されるブラシ402によって切断部601aが蝕刻されることを特徴とする請求項3に記載のセル単位のG2方式タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板加工方法。   The cell unit glass substrate 600a is cut by a brush 402 that is moved to the left and right in the etching water tank 400 in a state where it is immersed in a chemical 401 having a predetermined mixing ratio built up in the etching water tank 400. 4. The single tempered glass sheet processing method according to claim 3, wherein the unit 601a is etched. 前記強化ガラス板600に付着される保護フィルム701は、PVCフィルムであることを特徴とする請求項1または請求項3に記載のセル単位のG2方式タッチセンサーが形成された単一の強化ガラス板加工方法.   4. The single tempered glass plate on which the cell-based G2 touch sensor is formed according to claim 1, wherein the protective film 701 attached to the tempered glass plate 600 is a PVC film. 5. Processing method. 定められた間隔で離隔されるように複数個のG2方式タッチセンサー601を形成している単一の強化ガラス板600の上・下面に保護フィルム701を付着して保護フィルム層700を形成する第1過程(S100)と;
前記保護フィルム層700をセル単位で区画して、各セルの境界線700aに該当する保護フィルム層700をカットして除去する第2過程(S200);
前記保護フィルム層700が除去された境界線700aに沿って前記強化ガラス板600を切断してG2方式タッチセンサー601が形成された多数のセル単位ガラス基板600aを獲得する第3過程(S300);
第3過程(S300)で、切断中に前記セル単位ガラス基板600aの側面切断部601aに形成されたクラックを除去するために前記セル単位ガラス基板600aの側面切断部601aを、定められた厚さあるいは深さに蝕刻する第4過程(S400);及び
第4過程(S400)で、クラックが除去された前記セル単位ガラス基板600aを、定められた時間の間に水が盛られたふやかし水槽500に浸漬して前記セル単位ガラス基板600aの上面と下面に形成された前記保護フィルム層700をふやかした後に拾い上げる第5過程(S500);
からなることを特徴とするG2方式タッチセンサーが形成されたタッチスクリーン製造方法。
A protective film layer 700 is formed by attaching a protective film 701 to the upper and lower surfaces of a single tempered glass plate 600 forming a plurality of G2 touch sensors 601 so as to be separated at a predetermined interval. With one step (S100);
A second step of dividing the protective film layer 700 in units of cells and cutting and removing the protective film layer 700 corresponding to the boundary line 700a of each cell (S200);
A third step (S300) of obtaining a plurality of cell unit glass substrates 600a on which the G2 touch sensor 601 is formed by cutting the tempered glass plate 600 along the boundary line 700a from which the protective film layer 700 is removed;
In the third step (S300), the side cut portion 601a of the cell unit glass substrate 600a has a predetermined thickness to remove cracks formed in the side cut portion 601a of the cell unit glass substrate 600a during cutting. Alternatively, in the fourth step (S400) for etching to a depth; and in the fourth step (S400), the cell unit glass substrate 600a from which cracks have been removed is applied to a buoyant water tank 500 in which water is accumulated for a predetermined time. A fifth step of picking up the protective film layer 700 formed on the upper and lower surfaces of the cell unit glass substrate 600a by dipping in the cell unit glass substrate 600a (S500);
A touch screen manufacturing method in which a G2 touch sensor is formed.
前記第3過程(S300)では、前記保護フィルム層700が除去された境界線700aに沿って前記強化ガラス板600をサンドブラスター300で切断することを特徴とする請求項6に記載のG2方式タッチセンサーが形成されたタッチスクリーン製造方法。   The G2 touch according to claim 6, wherein, in the third step (S300), the tempered glass plate 600 is cut with a sand blaster 300 along a boundary line 700a from which the protective film layer 700 is removed. A touch screen manufacturing method in which a sensor is formed. 前記第4過程(S400)では、前記セル単位ガラス基板600aが蝕刻水槽400に盛られた、定められた混合比を有する化学薬品401に浸漬された状態で、前記蝕刻水槽400の内で左・右に移動されるブラシ402によって切断部601aが蝕刻されることを特徴とする請求項6に記載のG2方式タッチセンサーが形成されたタッチスクリーン製造方法。   In the fourth step (S400), the cell unit glass substrate 600a is placed in the etching water tank 400, immersed in a chemical 401 having a predetermined mixing ratio, and left in the etching water tank 400. 7. The method of manufacturing a touch screen having a G2 touch sensor according to claim 6, wherein the cutting portion 601a is etched by the brush 402 moved to the right.
JP2013097250A 2012-12-03 2013-05-07 Method for manufacturing a single tempered glass plate on which a cell-based G2 touch sensor is formed and a method for manufacturing the same Expired - Fee Related JP6216538B2 (en)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2012-0139187 2012-12-03
KR20120139187 2012-12-03
KR10-2013-0011843 2013-02-01
KR1020130011843A KR101379684B1 (en) 2012-12-03 2013-02-01 One tempered glass sheet shaped of the unit cell g2 touch sensor processing method and g2 touch screen making method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014108920A true JP2014108920A (en) 2014-06-12
JP6216538B2 JP6216538B2 (en) 2017-10-18

Family

ID=50656129

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013097250A Expired - Fee Related JP6216538B2 (en) 2012-12-03 2013-05-07 Method for manufacturing a single tempered glass plate on which a cell-based G2 touch sensor is formed and a method for manufacturing the same

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6216538B2 (en)
KR (1) KR101379684B1 (en)
CN (1) CN103853375A (en)
TW (1) TW201422546A (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101703029B1 (en) * 2014-08-29 2017-02-07 주식회사 태성기연 Sandblast strengthening glass cuting equipment
KR20170007158A (en) 2015-07-07 2017-01-18 주식회사 태성기연 Method for grinding cutting edge of tempered glass and apparatus the same

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003305739A (en) * 2002-04-12 2003-10-28 Audio Technica Corp Manufacturing method for polymer film for vibration film and manufacturing method for vibration film unit
JP2009294771A (en) * 2008-06-03 2009-12-17 Young Fast Optoelectronics Co Ltd Manufacturing method of touch panel
JP2012083659A (en) * 2010-10-14 2012-04-26 Nsc:Kk Method for manufacturing glass substrate for electronic device
US20120120003A1 (en) * 2010-11-17 2012-05-17 Kyu-Taek Lee Touch screen panel and fabricating method for the same

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20100096924A (en) * 2009-02-25 2010-09-02 엘지디스플레이 주식회사 Manufacturing method of substrate of flexible display device
JP5451443B2 (en) * 2010-02-15 2014-03-26 株式会社ジャパンディスプレイ Method for manufacturing electrical solid state device
CN102730956B (en) * 2011-04-11 2015-08-26 诺发光电股份有限公司 The working method of protective glass

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003305739A (en) * 2002-04-12 2003-10-28 Audio Technica Corp Manufacturing method for polymer film for vibration film and manufacturing method for vibration film unit
JP2009294771A (en) * 2008-06-03 2009-12-17 Young Fast Optoelectronics Co Ltd Manufacturing method of touch panel
JP2012083659A (en) * 2010-10-14 2012-04-26 Nsc:Kk Method for manufacturing glass substrate for electronic device
US20120120003A1 (en) * 2010-11-17 2012-05-17 Kyu-Taek Lee Touch screen panel and fabricating method for the same

Also Published As

Publication number Publication date
TW201422546A (en) 2014-06-16
KR101379684B1 (en) 2014-04-01
CN103853375A (en) 2014-06-11
JP6216538B2 (en) 2017-10-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6452743B2 (en) Cover glass for portable devices, glass substrate for portable devices
KR101570658B1 (en) manufacturing method of window glass with tempered side edge using sheet cutting
KR101420263B1 (en) Method Manufacturing Glass
KR101269474B1 (en) Method for cutting tempered glass
CN105645785B (en) A kind of intensifying method of high-intensitive protection glass
JP2013536153A (en) How to strengthen the edge of glassware
CN102951845A (en) Single-side etching method for liquid crystal panel glass
KR20180055734A (en) Manufacturing method of window using sheet like process
CN103159411A (en) Strengthened glass, touch panel and method of manufacturing strengthened glass
US11389919B2 (en) Methods for strengthening edges of laminated glass articles and laminated glass articles formed therefrom
JP2014125399A (en) Method for producing reinforced glass substrate for forming touch panel
JP6216538B2 (en) Method for manufacturing a single tempered glass plate on which a cell-based G2 touch sensor is formed and a method for manufacturing the same
JP6111240B2 (en) Manufacturing method of glass substrate of cover glass for electronic device
CN104750308A (en) Method for manufacturing touch device and resin composition thereof
KR20120033566A (en) Tempered glass manufacture method
KR20060096973A (en) The cutting method of a plate glass to use the water jet for the dispaly window
JP2013241291A (en) Method for producing cover glass for electronic equipment
KR20160000991A (en) Method for cutting glass by double etching
TW201413520A (en) Manufacturing method for high fracture resistance touch panel module and its product
JP2015000847A (en) Processing system for single strengthened glass plate having g2 type touch sensor formed in cell unit
KR20140099188A (en) One tempered glass sheet shaped of the unit cell g2 touch sensor processing method
TWM485821U (en) Laminated glass structure
JP2015000846A (en) Reinforced glass processing system
TW201348164A (en) Rigid substrate, touch panel, and processing method of rigid substrate
KR101453194B1 (en) Manufacturing method of window panel for touch screen

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20141024

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160425

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170221

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170427

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170912

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170925

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6216538

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees