JP2014106332A5 - - Google Patents
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Description
細孔33の平均孔径は、特に限定されないが、中でも、できるだけ大きいことが好ましい。電気泳動粒子20が細孔33を経由して移動しやすくなるからである。このため、細孔33の平均孔径は、0.01μm〜10μmであることが好ましい。
図2Bは電気泳動粒子120が対向電極152側に移動している、即ち暗表示されている領域Aを対向電極側、表示面S側から見た平面図である。領域Aにおける表示面S側の近傍には、図2Bに示したように暗表示を担う電気泳動粒子120と共に、明表示を担う繊維状構造体131の一部が混在している。このため、暗表示(黒反射率)が低下する。また、電気泳動粒子120が画素電極145側(裏面R側)に移動している領域Bでは、ここでは図示していないが、電気泳動粒子120の一部が繊維状構造体131内に残留することによって繊維状構造体131による白反射率が低下する。即ち、コントラストが低下するという問題があった。
また、本実施の形態のように多孔質層30を3層構造とする場合には表示面S側および裏面R側の層(本実施の形態では低屈折率層30B)と電気泳動粒子20との親和性が高い構成とすることにより、電界消去後における電気泳動粒子20の拡散が抑制される。即ち、メモリ性が向上する。低屈折率層30Bと電気泳動粒子20との親和性は、低屈折率層30Bに電気泳動粒子20とは反対の極性を有する高分子材料を用いるか、あるいは反対の極性を有する官能基を付加することで向上する。なお、多孔質層30は2層構造でもよく、図4Aおよび図4Bに示したように、電気泳動粒子20との親和性が高い層(低屈折率層30B)を表示面S側または裏面R側のどちらか一方に設けてもよい。
[駆動基板]
駆動基板40は、例えば、支持基体41の一面に、複数の薄膜トランジスタ(TFT)42と、保護層43と、平坦化絶縁層44と、複数の画素電極45とがこの順に形成されたものである。TFT42および画素電極45は、画素配置に応じてマトリクス状またはセグメント状に配置されている。
駆動基板40は、例えば、支持基体41の一面に、複数の薄膜トランジスタ(TFT)42と、保護層43と、平坦化絶縁層44と、複数の画素電極45とがこの順に形成されたものである。TFT42および画素電極45は、画素配置に応じてマトリクス状またはセグメント状に配置されている。
[絶縁性液体の調製]
次に、絶縁性液体として、N,N−ジメチルプロパン−1,3−ジアミン、12−ヒドロキシオクタデカン酸およびメトキシスルホニルオキシメタン(Lubrizol社製Solsperse17000)を0.75%、ソルビタントリオレート(Span85)を5.0%、第1成分であるイソパラフィン(エクソンモービル社製IsoparG)を94%混合して調製した。ここでは、必要に応じて、絶縁性液体9.7gに泳動粒子0.2gを加えて、ジルコニアビーズ(0.03mmφ)を加えたホモジナイザで攪拌(4時間)したのち、遠心分離(2000rpmで5分間)を行い、ジルコニアビーズを除去した。更に、遠心分離(4000rpmで5分間)を行い、泳動粒子が分散された絶縁性液体を調製した。
次に、絶縁性液体として、N,N−ジメチルプロパン−1,3−ジアミン、12−ヒドロキシオクタデカン酸およびメトキシスルホニルオキシメタン(Lubrizol社製Solsperse17000)を0.75%、ソルビタントリオレート(Span85)を5.0%、第1成分であるイソパラフィン(エクソンモービル社製IsoparG)を94%混合して調製した。ここでは、必要に応じて、絶縁性液体9.7gに泳動粒子0.2gを加えて、ジルコニアビーズ(0.03mmφ)を加えたホモジナイザで攪拌(4時間)したのち、遠心分離(2000rpmで5分間)を行い、ジルコニアビーズを除去した。更に、遠心分離(4000rpmで5分間)を行い、泳動粒子が分散された絶縁性液体を調製した。
[表示装置の組み立て]
まず、画素電極45が形成されたガラス基板から、画素電極45が形成されていない領域に付着した不要な繊維状構造体31Aを除去したのち、対向電極52(ITO)が全面に形成されたガラス基板上にスペーサとしてPETフィルム(厚さ20μm)を設けた。このスペーサ上に画素電極45および繊維状構造体31A,31Bが形成されたガラス基板を重ねた。なお、多孔質層30と重ならない位置にはビーズ(外径=20μm)を含む光硬化性樹脂(積水化学工業株式会社製感光樹脂フォトレック A-400)を描画した。最後に、2枚のガラス基板の間の隙間に電気泳動粒子20が分散された絶縁性液体を注入したのち、ローラーで全体を押圧して多孔質層30を画素電極45と対向電極52との間に行き割らせたのち、再度全体を押圧して圧縮することで表示装置(実験例1−1)を作製した。
まず、画素電極45が形成されたガラス基板から、画素電極45が形成されていない領域に付着した不要な繊維状構造体31Aを除去したのち、対向電極52(ITO)が全面に形成されたガラス基板上にスペーサとしてPETフィルム(厚さ20μm)を設けた。このスペーサ上に画素電極45および繊維状構造体31A,31Bが形成されたガラス基板を重ねた。なお、多孔質層30と重ならない位置にはビーズ(外径=20μm)を含む光硬化性樹脂(積水化学工業株式会社製感光樹脂フォトレック A-400)を描画した。最後に、2枚のガラス基板の間の隙間に電気泳動粒子20が分散された絶縁性液体を注入したのち、ローラーで全体を押圧して多孔質層30を画素電極45と対向電極52との間に行き割らせたのち、再度全体を押圧して圧縮することで表示装置(実験例1−1)を作製した。
なお、本技術は以下のような構成もとることができる。
(1)絶縁性液体中に、複数の電気泳動粒子と、繊維状構造体を含む多孔質層とを有し、前記多孔質層は屈折率の異なる複数の層を含む電気泳動素子。
(2)前記多孔質層は多孔質状の高屈折率層と、少なくとも表示面側に設けられた低屈折率層とを含む、前記(1)に記載の電気泳動素子。
(3)前記多孔質層は前記高屈折率層を間に2つの前記低屈折率層を有する、前記(2)に記載の電気泳動素子。
(4)前記低屈折率層の屈折率は2以下である、前記(2)または(3)に記載の電気泳動素子。
(5)前記低屈折率層は多孔質層である、前記(2)乃至(4)のいずれか1つに記載の電気泳動素子。
(6)前記低屈折率は連続膜である、前記(2)乃至(4)のいずれか1つに記載の電気泳動素子。
(7)前記低屈折率層は前記絶縁性液体と同等の屈折率を有する、前記(2)乃至(6)のいずれか1つに記載の電気泳動素子。
(8)前記低屈折率層と前記絶縁性液体との屈折率の差は0.5以下である、前記(2)乃至(7)のいずれか1つに記載の電気泳動素子。
(9)前記繊維状構造体は、前記電気泳動粒子とは異なる光学特性を有する複数の非泳動粒子を含む、前記(1)乃至(8)のいずれか1つに記載の電気泳動素子。
(10)前記低屈折率層に対する前記電気泳動粒子の親和性は前記非泳動粒子を含む前記繊維状構造体に対する親和性よりも高い、前記(9)に記載の電気泳動素子。
(11)前記低屈折率層の極性は、前記電気泳動粒子とは異なる、前記(2)乃至(10)のいずれか1つに記載の電気泳動素子。
(12)前記繊維状構造体は高分子材料または無機材料により形成されている、前記(1)乃至(11)のいずれか1つに記載の電気泳動素子。
(13)前記繊維状構造体は細孔を有し、前記細孔の平均孔径は0.01μm以上10μm以下である前記(1)乃至(12)のいずれか1つに記載の電気泳動素子。
(14)前記繊維状構造体は静電紡糸法により形成されている、前記(1)乃至(13)のいずれか1つに記載の電気泳動素子。
(15)前記繊維状構造体はナノファイバーである、前記(1)乃至(14)のいずれか1つに記載の電気泳動素子。
(16)前記電気泳動粒子および前記非泳動粒子は、有機顔料、無機顔料、染料、炭素材料、金属材料、金属酸化物、ガラスまたは高分子材料により形成されている、前記(9)乃至(15)のいずれか1つに記載の電気泳動素子。
(17)前記非泳動粒子の光学特性は前記電気泳動粒子の光学特性よりも高い、前記(9)乃至(16)のいずれか1つに記載の電気泳動素子。
(18)少なくとも一方が光透過性であると共にそれぞれに電極が設けられた一対の基体の間に電気泳動素子を備え、前記電気泳動素子は、絶縁性液体中に、複数の電気泳動粒子と、繊維状構造体を含む多孔質層とを有し、前記多孔質層は屈折率の異なる複数の層を含む表示装置。
(1)絶縁性液体中に、複数の電気泳動粒子と、繊維状構造体を含む多孔質層とを有し、前記多孔質層は屈折率の異なる複数の層を含む電気泳動素子。
(2)前記多孔質層は多孔質状の高屈折率層と、少なくとも表示面側に設けられた低屈折率層とを含む、前記(1)に記載の電気泳動素子。
(3)前記多孔質層は前記高屈折率層を間に2つの前記低屈折率層を有する、前記(2)に記載の電気泳動素子。
(4)前記低屈折率層の屈折率は2以下である、前記(2)または(3)に記載の電気泳動素子。
(5)前記低屈折率層は多孔質層である、前記(2)乃至(4)のいずれか1つに記載の電気泳動素子。
(6)前記低屈折率は連続膜である、前記(2)乃至(4)のいずれか1つに記載の電気泳動素子。
(7)前記低屈折率層は前記絶縁性液体と同等の屈折率を有する、前記(2)乃至(6)のいずれか1つに記載の電気泳動素子。
(8)前記低屈折率層と前記絶縁性液体との屈折率の差は0.5以下である、前記(2)乃至(7)のいずれか1つに記載の電気泳動素子。
(9)前記繊維状構造体は、前記電気泳動粒子とは異なる光学特性を有する複数の非泳動粒子を含む、前記(1)乃至(8)のいずれか1つに記載の電気泳動素子。
(10)前記低屈折率層に対する前記電気泳動粒子の親和性は前記非泳動粒子を含む前記繊維状構造体に対する親和性よりも高い、前記(9)に記載の電気泳動素子。
(11)前記低屈折率層の極性は、前記電気泳動粒子とは異なる、前記(2)乃至(10)のいずれか1つに記載の電気泳動素子。
(12)前記繊維状構造体は高分子材料または無機材料により形成されている、前記(1)乃至(11)のいずれか1つに記載の電気泳動素子。
(13)前記繊維状構造体は細孔を有し、前記細孔の平均孔径は0.01μm以上10μm以下である前記(1)乃至(12)のいずれか1つに記載の電気泳動素子。
(14)前記繊維状構造体は静電紡糸法により形成されている、前記(1)乃至(13)のいずれか1つに記載の電気泳動素子。
(15)前記繊維状構造体はナノファイバーである、前記(1)乃至(14)のいずれか1つに記載の電気泳動素子。
(16)前記電気泳動粒子および前記非泳動粒子は、有機顔料、無機顔料、染料、炭素材料、金属材料、金属酸化物、ガラスまたは高分子材料により形成されている、前記(9)乃至(15)のいずれか1つに記載の電気泳動素子。
(17)前記非泳動粒子の光学特性は前記電気泳動粒子の光学特性よりも高い、前記(9)乃至(16)のいずれか1つに記載の電気泳動素子。
(18)少なくとも一方が光透過性であると共にそれぞれに電極が設けられた一対の基体の間に電気泳動素子を備え、前記電気泳動素子は、絶縁性液体中に、複数の電気泳動粒子と、繊維状構造体を含む多孔質層とを有し、前記多孔質層は屈折率の異なる複数の層を含む表示装置。
1,2A,2B,3,4A,4B…電気泳動素子、10…絶縁性液体,20…電気泳動粒子、30…多孔質層、30A…高屈折率層、30B…低屈折率層、31(31A,31B)…繊維状構造体、32…非泳動粒子、33…細孔、40…駆動基板、41,51…支持基体、42…TFT、43…保護層、44…平坦化絶縁層、45…画素電極、50…対向基板、52…対向電極、60…スペーサ。
Claims (18)
- 絶縁性液体中に、複数の電気泳動粒子と、繊維状構造体を含む多孔質層とを有し、
前記多孔質層は屈折率の異なる複数の層を含む
電気泳動素子。 - 前記多孔質層は多孔質状の高屈折率層と、少なくとも表示面側に設けられた低屈折率層とを含む、請求項1に記載の電気泳動素子。
- 前記多孔質層は前記高屈折率層を間に2つの前記低屈折率層を有する、請求項2に記載の電気泳動素子。
- 前記低屈折率層の屈折率は2以下である、請求項2に記載の電気泳動素子。
- 前記低屈折率層は多孔質層である、請求項2に記載の電気泳動素子。
- 前記低屈折率は連続膜である、請求項2に記載の電気泳動素子。
- 前記低屈折率層は前記絶縁性液体と同等の屈折率を有する、請求項2に記載の電気泳動素子。
- 前記低屈折率層と前記絶縁性液体との屈折率の差は0.5以下である、請求項2に記載の電気泳動素子。
- 前記繊維状構造体は、前記電気泳動粒子とは異なる光学特性を有する複数の非泳動粒子を含む、請求項1に記載の電気泳動素子。
- 前記低屈折率層に対する前記電気泳動粒子の親和性は前記非泳動粒子を含む前記繊維状構造体に対する親和性よりも高い、請求項9に記載の電気泳動素子。
- 前記低屈折率層の極性は、前記電気泳動粒子とは異なる、請求項2に記載の電気泳動素子。
- 前記繊維状構造体は高分子材料または無機材料により形成されている、請求項1に記載の電気泳動素子。
- 前記繊維状構造体は細孔を有し、前記細孔の平均孔径は0.01μm以上10μm以下である、請求項1記載の電気泳動素子。
- 前記繊維状構造体は静電紡糸法により形成されている、請求項1に記載の電気泳動素子。
- 前記繊維状構造体はナノファイバーである、請求項1に記載の電気泳動素子。
- 前記電気泳動粒子および前記非泳動粒子は、有機顔料、無機顔料、染料、炭素材料、金属材料、金属酸化物、ガラスまたは高分子材料により形成されている、請求項9に記載の電気泳動素子。
- 前記非泳動粒子の光学特性は前記電気泳動粒子の光学特性よりも高い、請求項9に記載の電気泳動素子。
- 少なくとも一方が光透過性であると共にそれぞれに電極が設けられた一対の基体の間に電気泳動素子を備え、
前記電気泳動素子は、
絶縁性液体中に、複数の電気泳動粒子と、繊維状構造体を含む多孔質層とを有し、
前記多孔質層は屈折率の異なる複数の層を含む
表示装置。
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