JP2014105783A - 回転機器 - Google Patents

Abstract

【課題】流体動圧軸受を備えた回転機器の薄型化を容易にする技術を提供する。
【解決手段】回転機器は、上ロッド１０と下ロッド１４と、その外周面から外側に延伸する上フランジ１２と、下フランジ１６とを備える軸体６と、上フランジと下フランジとの間で軸体を環囲するシャフト環囲部材を備える軸受体８と、シャフト環囲部材と上フランジとに形成された第１スラスト対向部８６と、シャフト環囲部材と下フランジとに形成された第２スラスト対向部８８と、軸体とシャフト環囲部材との隙間に設けられた潤滑剤溜まり部８２と、第１及び第２ラジアル動圧軸受部８０，８４と、第１スラスト対向部、第１及び第２ラジアル動圧軸受部、潤滑剤溜まり部、及び第２スラスト対向部に介在する潤滑剤と、第１スラスト対向部と潤滑剤溜まり部とを連通させる第１連通路３６と、第２スラスト対向部と潤滑剤溜まり部とを連通させる第２連通路３８とを備える。
【選択図】図３

Description

本発明は、相対回転可能に支持される軸体と軸受体とを備える回転機器に関する。

ディスク駆動装置などの回転機器は、小型化、大容量化が進み、種々の電子機器に搭載されている。特にノートパソコンや携帯型音楽再生機器などの携帯型の電子機器へのディスク駆動装置の一種であるハードディスクドライブの搭載が進んでいる。このような携帯型の電子機器に搭載されるディスク駆動装置などの回転機器に対しては、デスクトップパソコンなどの据置型の電子機器に搭載されるものと比べて、持ち運びによる振動や落下などの衝撃にも耐えうるように耐衝撃性および耐振動性（以下「耐振動特性等」と表記する。）の向上が求められている。また一方で、このような回転機器に対しては、デスクトップパソコンなどの据置型の電子機器に搭載されるものと比べて、薄型化や軽量化が求められている。一般的に薄型化と耐振動特性等の向上とはトレードオフの関係にある。

本出願人は例えば特許文献１において、軸体と軸受体との間に流体動圧軸受機構を形成し、シャフト含む軸体をベースに固定したディスク駆動装置である回転機器を提案している。特許文献１に記載の回転機器においては、軸体と軸受体のラジアル方向に対向する隙間にラジアル動圧軸受が形成され、軸方向に対向する隙間にスラスト動圧軸受が形成されている。

特開２０１０−２６１５８０号公報

特許文献１に記載のディスク駆動装置のような回転機器においては耐振動特性等を向上するために、ラジアル動圧軸受の剛性（以下「ラジアル剛性」と表記する。）を向上する要請がある。ラジアル剛性を向上するためにラジアル軸受を構成する軸体と軸受体の部材の半径方向の隙間を狭くする方法がある。しかしながら、このような回転機器の場合、軸体と軸受体との隙間が小さ過ぎると、回転中にこれらが接触して回転に支障を来し、最悪の場合、これらに損傷を与える可能性が高くなる。
また、ラジアル動圧を高くするとラジアル軸受部に発生する動圧のバランスが不均衡になる可能性が高くなる。動圧のバランスが不均衡になることによって潤滑剤に負圧領域が発生することがある。潤滑剤に負圧領域が発生すると、その領域で潤滑剤に溶け込んでいた気体が気化して気泡を生成する。このような気泡はラジアル動圧軸受部に入り込むとその動圧発生機能を低下させ、最悪の場合、潤滑剤介在領域から潤滑剤が吹き出して軸受機能を損なう可能性が高くなる。

このような背景から、本発明者らは、回転機器の耐振動特性等を向上するためには、ラジアル軸受部の動圧のバランスの不均衡を軽減して負圧領域の発生を防止することが課題であると認識した。
なお、このような課題は、携帯型の電子機器に搭載される回転機器に限らず他の種類の電子機器でも生じうる。

本発明はこうした状況に鑑みてなされたものであり、その目的は回転機器の薄型化と耐振動性等の向上の両立を図ることである。

本発明のある態様は、回転機器に関する。この回転機器は、シャフトと、シャフトの一端側の外周面から半径方向外側に延伸する第１フランジと、シャフトの他端から半径方向外側に延伸する第２フランジとを備える軸体と、軸方向において第１フランジと第２フランジとの間でシャフトを環囲するシャフト環囲部材備え、軸体に対して相対回転可能にされる軸受体と、軸方向におけるシャフト環囲部材と第１フランジとの隙間に形成された第１スラスト対向部と、軸方向におけるシャフト環囲部材と第２フランジとの隙間に形成された第２スラスト対向部と、半径方向におけるシャフトとシャフト環囲部材との隙間に設けられた潤滑剤溜まり部と、隙間において、潤滑剤溜まり部の第１スラスト対向部側に設けられた第１ラジアル動圧軸受と、潤滑剤溜まり部の第２スラスト対向部側に設けられた第２ラジアル動圧軸受とを含むラジアル動圧軸受部と、第１スラスト対向部、ラジアル動圧軸受部、潤滑剤溜まり部、及び第２スラスト対向部を通じて連続的に介在する潤滑剤と、第１スラスト対向部と潤滑剤溜まり部とを連通させる第１連通路と、第２スラスト対向部と潤滑剤溜まり部とを連通させる第２連通路と、を備える。
この態様によると、第１スラスト対向部と第２スラスト対向部のそれぞれが潤滑剤溜まり部と連通することができる。

なお、以上の構成要素の任意の組み合わせや、本発明の構成要素や表現を方法、装置、システムなどの間で相互に置換したものもまた、本発明の態様として有効である。

本発明によれば、動圧軸受を備えた回転機器の薄型化を容易にする技術を提供することができる。

本発明の実施の形態に係る回転機器を示す分解斜視図である。 図１のＡ−Ａ線断面図である。 図２の軸体と軸受体の周辺を拡大して示す拡大断面図である。 軸体にトップカバーを取り付けた状態を示す断面図である。 実施の形態に係る回転機器のラジアル動圧の分布の模式図である。 本発明の第１変形例に係る回転機器の図２に対応する断面図である。 本発明の第２変形例に係る回転機器の図２に対応する断面図である。

以下、本発明を好適な実施の形態をもとに図面を参照しながら説明する。各図面に示される同一または同等の構成要素、部材には、同一の符号を付するものとし、適宜重複した説明は省略する。また、各図面における部材の寸法は、理解を容易にするために適宜拡大、縮小して示される。また、各図面において実施の形態を説明する上で重要ではない部材の一部は省略して表示する。

実施の形態に係る回転機器は、例えば、磁気的にデータを記録する磁気記録ディスクを搭載し、それを回転駆動するハードディスクドライブなどのディスク駆動装置として好適に用いられる。特にシャフトがシャーシーに対して固定的に設けられ、ハブがシャフトに対して回転するようなシャフト固定型のディスク駆動装置として好適に用いられる。例えばこの回転機器は、静止体に軸支手段を介して回転自在に取り付けられる回転体を含む。回転体は例えば磁気記録ディスクなどの被駆動メディアを搭載しうる搭載手段を含む。軸支手段は、例えば、静止体と回転体の何れかに構成されたラジアル軸支手段を備えている。また、軸支手段は、例えば、静止体と回転体の何れかに構成されたスラスト軸支手段を備えている。一例として、スラスト軸支手段はラジアル軸支手段の半径方向外側に位置する。ラジアル軸支手段やスラスト軸支手段は、一例として、潤滑媒体に動圧を発生させる。ラジアル軸支手段やスラスト軸支手段は、例えば潤滑流体を含むことができる。さらに、この回転機器は、回転体に回転トルクを与えるために回転駆動手段を備える。この回転駆動手段は、例えば、ブラシレススピンドルモータである。この回転駆動手段は、例えば、コイルとマグネットとを含む。

（実施の形態）
図１は、実施の形態に係る回転機器１００を示す斜視図である。図１は、発明の理解を容易にするため、トップカバー２２を分離した状態を示す。図１では説明する上で重要ではない部材、例えば、クランパーや電子回路等は省略して示している。回転機器１００は、シャーシー２４と、上シャフト部材１１０と、ハブ２６と、磁気記録ディスク６２と、データリード／ライト部６０と、トップカバー２２と、中央ネジ７４と、例えば６個の周辺ネジ１０４と、を含む。
以降シャーシー２４に対してハブ２６が搭載される側を上側として説明する。また、回転体の回転軸Ｒに沿った方向を軸方向と、回転軸Ｒに鉛直な平面上で回転軸Ｒを通る任意の方向を半径方向と、当該平面上における任意の方向を平面方向ということがある。かかる方向の表記は回転機器１００が使用される姿勢を制限するものではなく、回転機器１００は任意の姿勢で使用され得る。

磁気記録ディスク６２は、例えば、直径が６５ｍｍのガラス製の２．５インチ型磁気記録ディスクであり、その中央の孔の直径は２０ｍｍである。磁気記録ディスク６２の厚みを薄くすると剛性が低下し回転機器１００の製造時に研磨する際に反って加工平面度が低下することがある。一方磁気記録ディスク６２の厚みを厚くすると重量が増大することがある。磁気記録ディスク６２は、少なくとも厚みが０．５ｍｍから１．２５ｍｍの範囲で剛性および重量について実用性を有することが判明している。本実施の形態において、磁気記録ディスク６２の厚みは０．７ｍｍから０．９ｍｍとしており、加工平面度の低下を抑制して記録密度の低下を防いでいる。例えば１枚の磁気記録ディスク６２が、ハブ２６に搭載され、ハブ２６の回転に伴って回転する。磁気記録ディスク６２は、スペーサー７２（不図示）とクランパー７８（不図示）とによってハブ２６に固定される。

シャーシー２４は、回転機器１００の底部を形成する底板部２４Ａと、磁気記録ディスク６２の載置領域を囲むように底板部２４Ａの外周に沿って形成された外周壁部２４Ｂと、を有する。外周壁部２４Ｂの上面には、ネジ孔２４Ｃが、例えば６つ設けられる。

データリード／ライト部６０は、記録再生ヘッド（不図示）と、スイングアーム６４と、ボイスコイルモータ６６と、ピボットアセンブリ６８と、を含む。記録再生ヘッドは、スイングアーム６４の先端部に取り付けられ、磁気記録ディスク６２にデータを記録し、あるいは、磁気記録ディスク６２からデータを読み取る。ピボットアセンブリ６８は、スイングアーム６４をシャーシー２４に対してヘッド回転軸Ｓの周りに揺動自在に支持する。ボイスコイルモータ６６は、スイングアーム６４をヘッド回転軸Ｓの周りに揺動させ、記録再生ヘッドを磁気記録ディスク６２の上面上の所望の位置に移動させる。ボイスコイルモータ６６およびピボットアセンブリ６８は、ヘッドの位置を制御する公知の技術を用いて構成される。

トップカバー２２は、略矩形の薄板状で、周辺に設けられる例えば６つのネジ貫通孔２２Ｃと、カバー凹部２２Ｅと、カバー凹部２２Ｅの中央部に設けられる中央孔２２Ｄとを有する。カバー凹部２２Ｅは回転軸Ｒを中心として周設される。トップカバー２２は、例えばアルミニウム板や鉄鋼板をプレス加工することによって所定の形状に形成される。トップカバー２２は、腐食を防止するため例えばメッキ等の表面処理が施されてもよい。トップカバー２２は、例えば、６つの周辺ネジ１０４を用いてシャーシー２４の外周壁部２４Ｂの上面に固定される。６つの周辺ネジ１０４は、６つのネジ貫通孔２２Ｃと、６つのネジ孔２４Ｃにそれぞれ対応する。特にトップカバー２２と外周壁部２４Ｂの上面とは、それらの接合部分から回転機器１００の内側へリークが生じないように互いに固定される。ここで回転機器１００の内側とは具体的には、シャーシー２４の底板部２４Ａと、外周壁部２４Ｂと、トップカバー２２と、で囲まれる清浄空間７０である。この清浄空間７０は密閉されるように、つまり外部からのリークインもしくは外部へのリークアウトが無いように設計される。清浄空間７０は、パーティクルが除去された清浄な空気で満たされる。これにより、磁気記録ディスク６２へのパーティクルなどの異物の付着が抑えられ、回転機器１００の動作の信頼性が高められている。中央ネジ７４は、上シャフト部材１１０の収納孔１０Ａに対応する。トップカバー２２は、中央ネジ７４が中央孔２２Ｄを貫通して収納孔１０Ａに螺合して嵌め合わされることによって上シャフト部材１１０の後述する上ロッド１０に結合される。

図２は図１のＡ−Ａ線断面図である。図３は図２の軸体と軸受体の周辺を拡大して示す拡大断面図である。図２は回転軸Ｒに沿って左右対称である同一の部材については左右何れかの参照符号の表示を省略することがある。
図２を参照して、静止体２は、軸体６と、ステータコア３２と、コイル３０と、磁性リング３４と、をさらに含む。軸体６は上シャフト部材１１０と下シャフト部材１１２と、を含む。上シャフト部材１１０は上ロッド１０と上フランジ１２とを有する。下シャフト部材１１２は下ロッド１４と下フランジ１６とフランジ環囲部１８とを有する。以下、上ロッド１０と下ロッド１４とを合わせて単にシャフトと表記することがある。
回転体４は、軸受体８と、キャップ４８と、円筒状のマグネット２８と、をさらに含む。軸受体８はスリーブ４２と、結合部４４と、リング状部４６とを有する。回転体４と静止体２は、軸体６と軸受体８の隙間の一部に潤滑媒体として潤滑剤２０が連続的に介在する。スリーブ４２と、結合部４４と、リング状部４６とはシャフトを環囲する部材でありシャフト環囲部材と表記することがある。
また、軸体６と、軸受体８と、潤滑剤２０とは後述する動圧発生部とともに流体軸受ユニットを構成する。

シャーシー２４を形成する材料や方法に特別な制限はない。実施の形態においては、一例として、シャーシー２４をアルミニウムの合金をダイカストにより成型して一体に形成している。シャーシー２４は、例えば、ステンレスやアルミニウムのなどの金属板をプレス加工して形成してもよい。シャーシー２４は、一部に切削加工された切削面を含んでもよい。シャーシー２４は、例えば、ニッケルメッキなどの表面処理層を有してもよい。また、シャーシー２４は、例えば、一部が樹脂で形成された部分を含んでもよい。さらに、シャーシー２４は、例えば、エポキシ樹脂等のコーティング層を有してもよい。シャーシー２４の底板部２４Ａは２枚以上の板を積層して形成してもよい。

実施の形態においては、底板部２４Ａは、中央部分のベース２４Ｈと、ベース２４Ｈの外周から半径方向外側に延在するフレーム２４Ｊとを有する。換言すると、ベース２４Ｈはフレーム２４Ｊに環囲される。ベース２４Ｈの軸方向投影領域の外縁はハブ２６の軸方向投影領域の外縁を包囲する。つまり、ベース２４Ｈは、底板部２４Ａのうちハブ２６と軸方向に対向する領域を全て含む。ベース２４Ｈは、回転体４の回転軸Ｒを中心とした開口２４Ｄと、開口２４Ｄを環囲する円筒状の突出部２４Ｅと、を含む。突出部２４Ｅはベース２４Ｈの上面からハブ２６に向かって突出する。底板部２４Ａのベース２４Ｈには環状の凹部２４Ｎが回転軸Ｒを中心に周設される。環状の凹部２４Ｎは後述するハブ２６の載置部２６Ｊと軸方向に対向する位置に設けられる。外周壁部２４Ｂはフレーム２４Ｊからハブ２６に向かって突出する。底板部２４Ａは、ベース２４Ｈとフレーム２４Ｊとが別々に形成された後に結合されて形成される。ベース２４Ｈとフレーム２４Ｊとは同一の材料から形成されることがある。

実施の形態においては、ベース２４Ｈは、例えば、ＳＵＳ３０３などの鋼材から切削加工して形成され、フレーム２４Ｊは、例えば、アルミニウムの合金をダイカスト成形により形成される。ＳＵＳ３０３のヤング率は１００ＧＰａより大きく、アルニウム合金のヤング率は１００ＧＰａより小さい。したがって、ベース２４Ｈは、フレーム２４Ｊを形成するアルニウム合金よりヤング率が大きな材料から形成されている。また、ＳＵＳ３０３の比重は６より大きく、アルニウム合金の比重は３より小さい。したがって、フレーム２４Ｊは、ベース２４Ｈを形成する材料より比重（密度）が小さな材料から形成されている。

ベース２４Ｈの外周面には嵌合用の外側段差２４Ｋが設けられ、フレーム２４Ｊの内周面には外側段差２４Ｋに嵌合する形状の内側段差２４Ｌが設けられる。外側段差２４Ｋと内側段差２４Ｌの代わりに互いに嵌合する形状のテーパー面を設けてもよい。ベース２４Ｈはフレーム２４Ｊに、例えば、接着により固定される。締り嵌めを併用してもよい。ベース２４Ｈの外周面とフレーム２４Ｊの内周面の少なくとも一方には周方向に延在して接着剤が塗布される接着溝２４Ｍが設けられる。一方の周面の接着溝２４Ｍと他方の周面の接着溝２４Ｍとは少なくとも一部が半径方向に対向している。

ステータコア３２は円環部と、円環部から半径方向外向きに延在する、例えば、１２個の突極とを有する。ステータコア３２は円環部の内周側がベース２４Ｈに圧入、接着またはこれらを併用した方法によって結合される。ステータコア３２は、例えば、０．２ｍｍ厚の電磁鋼板を５枚積層しカシメにより一体化して形成される。ステータコア３２の表面には表面層が設けられる。ステータコア３２の表面、すなわち、この表面層には、例えば、電着塗装や粉体塗装などの絶縁塗装が施される。

コイル３０は、ステータコア３２の各突極に導体ワイヤが所定の回数だけ巻回されて形成される。コイル３０は駆動電流が流されることによって突極に沿って界磁磁界を発生する。導体ワイヤは、例えば、軟銅などの芯線の表面に、例えば、ウレタン樹脂の絶縁層を被覆して形成される。導体ワイヤの表面には、摩擦抵抗を小さくするように潤滑物質が付着される。潤滑物質に特別の制限はないが、本実施形態においては、潤滑物質としてポリアミド化合物を主成分としてワイヤに付着させ、パラフィンなどのハイドロカーボンの付着を極力少なくしている。さらに、突極に巻回後のコイル３０は、純水や界面活性剤あるいはエステルを含む洗浄液に浸して超音波を加えながら洗浄することによって表面に付着するハイドロカーボンを一層少なくしている。この結果、コイル３０に付着するハイドロカーボンの総量はコイル３０に付着するポリアミド化合物の総量より少ない。

磁性リング３４は軸方向に薄い中空リング状で、その内周面がマグネット２８と回転軸Ｒに沿って同軸に配置される。磁性リング３４は、例えば接着、カシメまたはこれらを併用した方法によってベース２４Ｈの上面に固着される。磁性リング３４は、軟磁性を有する例えば鋼板からプレス加工によって形成される。磁性リング３４は、マグネット２８の下面と軸方向に非接触状態で対向する。磁性リング３４は、マグネット２８に下向きの吸引力を与える。このように構成することで回転体４の軸方向の浮上を抑制する。

ハブ２６は、中央部から半径方向外側へ延在する円盤部２６Ｄと、円盤部２６Ｄの外周部から軸方向下側に延在する円環部２６Ｅと、円環部２６Ｅの下側の外周面から半径方向外向きに延在する載置部２６Ｊと、載置部２６Ｊの下側からベース２４Ｈに向かって軸方向に突出する突出壁部２６Ｎと、を含む。円盤部２６Ｄと、円環部２６Ｅと、載置部２６Ｊと、突出壁部２６Ｎと、はそれぞれ回転軸Ｒに沿って同軸の環状に形成される。この結果、ハブ２６は略カップ状を呈する。円盤部２６Ｄと円環部２６Ｅと載置部２６Ｊと突出壁部２６Ｎとは一体に形成される。ハブ２６は、例えば軟磁性を有するＳＵＳ４３０Ｆ等の鉄鋼材料から形成される。ハブ２６の円環部２６Ｅには円盤状の磁気記録ディスク６２の中央孔が嵌合し、載置部２６Ｊには磁気記録ディスク６２が載置される。突出壁部２６Ｎの一部はベース２４Ｈに設けられた環状の凹部２４Ｎに軸方向に進入する。突出壁部２６Ｎと凹部２４Ｎの隙間はラビリンスを形成する。

上側の磁気記録ディスク６２と下側の磁気記録ディスク６２とを離間させるため、スペーサー７２が設けられている。スペーサー７２は、中空リング状で、内周面が円環部２６Ｅに嵌合している。スペーサー７２は、下側の磁気記録ディスク６２と上側の磁気記録ディスク６２の間に挟まれる。また、上側の磁気記録ディスク６２を押えることによって磁気記録ディスク６２がハブ２６から外れないようにするため、クランパー７８が設けられる。クランパー７８は中空円盤状で、例えば、スクリュウーなどのファスナーによってハブ２６に固定される。

マグネット２８は中空のリング状で、その外周面がハブ２６の内周面に、例えば、接着によって固定される。マグネット２８の上面はハブ２６の突出部に接している。マグネット２８は、例えば、フェライト系の磁石材料や希土類系の磁石材料から形成される。バインダーとして、例えば、ポリアミドなどの樹脂を含んでいる。マグネット２８は、フェライト系マグネットの層と希土類系マグネットの層とが積層されて形成されてもよい。マグネット２８の表面には、例えば、電着塗装やスプレー塗装などによる表面層を有する。表面層を有することによってマグネット２８の酸化が抑制され、あるいはマグネット２８の表面のはく離が抑制される。マグネット２８は内周面に周方向に、例えば、１６極の磁極が設けられ、内周面がコア３２の突極の外周面と隙間を介して半径方向に対向する。

次に、図３を参照して流体軸受ユニットおよびその周辺について説明する。図３は、図２における軸体６と軸受体８の周辺を拡大して示す拡大断面図である。図３は主に回転軸Ｒの左側を示す。

下シャフト部材１１２は、上向きに突出するロッド状の下ロッド１４と、下ロッド１４の下端側から半径方向外側に延在する円盤状の下フランジ１６と、下フランジ１６から上向きに突出する円環状のフランジ環囲部１８とを含む。下ロッド１４は、その外周面に雄ネジ部１４Ａが設けられる。下シャフト部材１１２は、例えば、下ロッド１４と下フランジ１６とフランジ環囲部１８とが一体に形成される。この場合、下シャフト部材１１２の製造誤差を低減でき、接合の手間を省くことができる。あるいは衝撃荷重に対する下シャフト部材１１２の変形を抑制することができる。下シャフト部材１１２は、例えば、ＳＵＳ３０３などの金属材料から切削加工によって形成される。回転機器１００の用途や設計の制限等によっては、下シャフト部材１１２は樹脂などの他の材料や、プレス加工やモールディングなど他の方法を用いて形成されてもよい。

下シャフト部材１１２は、フランジ環囲部１８の外周面が開口２４Ｄの内周面に、例えば、接着されることによってベース２４Ｈに固定される。フランジ環囲部１８は、その上端１８Ｃが、例えば、軸方向において後述する第２ラジアル動圧溝５０の配設領域またはその上側に位置する。

下フランジ１６は外周にベース２４Ｈの開口２４Ｄより大形にされる鍔部１６Ｂを有する。ベース２４Ｈには、開口２４Ｄの縁に環状の凹部である鍔収納部２４Ｇが設けられる。鍔収納部２４Ｇは鍔部１６Ｂの少なくとも一部を収納する。下シャフト部材１１２は、鍔部１６Ｂがベース２４Ｈの鍔収納部２４Ｇの端面と軸方向に対向している。鍔部１６Ｂと鍔収納部２４Ｇの間には接着剤が介在する。

上シャフト部材１１０は、ロッド状の上ロッド１０と、上ロッド１０の上端側から半径方向外側に延在する略円盤状の上フランジ１２と、を含む。上フランジ１２は上ロッド１０に接する第１張出部１２Ｇと、第１張出部１２Ｇの半径方向外側に接続されるフランジ張出部１２Ｈと、を含む。上フランジ１２は、その外周面に、ベース２４Ｈに近づくほど回転軸Ｒからの半径方向の距離が大きくなるようなテーパー面１２Ｊを有する。

上ロッド１０は、上端に設けられる収納孔１０Ａと下端に設けられ下ロッド１４を収納する孔であるロッド収納部１０Ｂとを有する。収納孔１０Ａとロッド収納部１０Ｂとはそれぞれが袋孔で非貫通にされる。収納孔１０Ａとロッド収納部１０Ｂとは軸方向に連通していてもよい。上ロッド１０は、収納孔１０Ａに雌ネジ部１０Ｅが設けられ、ロッド収納部１０Ｂの内周面には雌ネジ部１０Ｄが設けられる。

上シャフト部材１１０は、上ロッド１０と上フランジ１２の第１張出部１２Ｇとが一体に形成される。上ロッド１０と第１張出部１２Ｇとは別々に形成した後に結合されてもよい。第１張出部１２Ｇとフランジ張出部１２Ｈとは別々に形成した後に結合される。第１張出部１２Ｇとフランジ張出部１２Ｈとは一体に形成されてもよい。この場合、上シャフト部材１１０の寸法精度を高めることができ、接合作業を省くことが可能になる。

上シャフト部材１１０は、例えば、ＳＵＳ４２０Ｊ２やＳＵＳ４３０やＳＵＳ３０３などの鉄鋼材料から切削加工によって形成される。上シャフト部材１１０は、硬度を高めるために焼き入れされることがある。上シャフト部材１１０は、寸法精度を向上するために上ロッド１０の外周面１０Ｃと上フランジ１２の下面１２Ｃとが研摩されることがある。上シャフト部材１１０は樹脂などの他の材料や、プレス加工やモールディングなど他の方法を用いて形成されてもよい。

下ロッド１４は、下ロッド１４に設けた雄ネジ部１４Ａが上ロッド１０のロッド収納部１０Ｂに設けた雌ネジ部１０Ｄに螺合されて上ロッド１０に結合される。下ロッド１４と上ロッド１０との半径方向隙間にはシール剤７６が介在する。また、シール剤７６は、例えば、上ロッド１０と下ロッド１４との軸方向の隙間に介在してもよい。さらに、シール剤７６は、例えば、雌ネジ部１０Ｄと雄ネジ部１４Ａの半径方向隙間に介在することがある。シール剤７６は、潤滑剤２０のリークアウトを抑制し、あるいは下ロッド１４と上ロッド１０の接合強度を向上する。シール剤７６は、例えば、嫌気性の接着剤を用いることができる。

軸受体８は、上ロッド１０を環囲する略円筒状のスリーブ４２と、スリーブ４２を環囲する結合部４４と、結合部４４の上端側に設けられ上フランジ１２を環囲するリング状部４６と、を含む。軸受体８は、スリーブ４２と、結合部４４と、リング状部４６と、が一体に形成される。軸受体８は、スリーブ４２と、結合部４４と、リング状部４６と、のいずれかを別に形成した後に結合してもよい。軸受体８は、スリーブ４２が上ロッド１０を隙間を介して環囲し、相対回転可能にされる。軸受体８は、スリーブ４２が上フランジ１２と下フランジ１６の間に隙間を介して間在する。軸受体８は、結合部４４がハブ２６に環囲される。軸受体８はハブ２６と一体に形成される。軸受体８はハブ２６とは別々に形成した後に結合してもよい。軸受体８は、スリーブ４２がフランジ環囲部１８に隙間を介して環囲される。このように構成されることによって、ハブ２６はベース２４Ｈに対して回転自在に支持される。

軸受体８とハブ２６は、例えば、ＳＵＳ４３０などの金属材料から切削加工して形成される。軸受体８とハブ２６は、例えば、無電解ニッケルメッキなどによって形成される表面層を有することがある。軸受体８は、例えば、黄銅など別の材料から形成されてもよい。

スリーブ４２は、中空の略円筒状で、内周面４２Ａと、外周面４２Ｂと、上面４２Ｃと、下面４２Ｄと、を有する。スリーブ４２は、内周面４２Ａが上ロッド１０を隙間を介して環囲する。スリーブ４２の内周面４２Ａと上ロッド１０の外周面１０Ｃの半径方向隙間には第１ラジアル動圧軸受部８０と、潤滑剤溜まり部８２と、第２ラジアル動圧軸受部８４と、が設けられる。第１ラジアル動圧軸受部８０は第２ラジアル動圧軸受部８４の上方に当該第２ラジアル動圧軸受部８４から離間して設けられ、第１ラジアル動圧軸受部８０と第２ラジアル動圧軸受部８４の間に潤滑剤溜まり部８２が設けられる。スリーブ４２の内周面４２Ａのうち、第１ラジアル動圧軸受部８０に対応する領域にはラジアル動圧を発生する第１ラジアル動圧溝５２が設けられる。第１ラジアル動圧溝５２はスリーブ４２の代りに上ロッド１０の外周面１０Ｃに設けてもよい。スリーブ４２の内周面４２Ａのうち、第２ラジアル動圧軸受部８４に対応する領域にはラジアル動圧を発生する第２ラジアル動圧溝５０が設けられる。第２ラジアル動圧溝５０はスリーブ４２の代りに上ロッド１０の外周面１０Ｃに設けてもよい。スリーブ４２の内周面４２Ａの潤滑剤溜まり部８２に対応する領域は半径方向外向きに窪んだ大径部が設けられる。なお、本実施形態の説明において、第２ラジアル動圧溝５０および第１ラジアル動圧溝５２が設けられる領域をラジアル動圧溝の配設領域と表記することがある。

図５は、実施の形態に係る回転機器１００のラジアル動圧の分布ＤＰを模式的に示す圧力分布図である。矢印Ｈは圧力が高い方向を示す。第１ラジアル動圧発生溝５２は、例えば、屈曲部を有するヘリングボーン形状とすることができる。第１ラジアル動圧発生溝５２の屈曲部の頂点Ｂ１は第１ラジアル動圧発生溝５２の配設領域の軸方向中心Ｃ１の上側に位置する。この場合、圧力分布ＤＰは、第１ラジアル動圧発生溝５２の下端で最も低く、屈曲部の頂点Ｂ１に向かって高くなり、屈曲部の頂点Ｂ１付近で最大になり、屈曲部の頂点Ｂ１から上側に向かって低くなる。つまり、第１ラジアル動圧発生溝５２が発生する動圧の軸方向の最大圧力発生部位Ｐ１は屈曲部の頂点Ｂ１付近に生じる。言い換えると、第１ラジアル動圧発生溝５２の最大圧力発生部位Ｐ１は軸方向中心Ｃ１の上フランジ１２側に位置する。このような構成では、軸受体８と軸体６とが相対回転するとき、第１ラジアル動圧軸受部８０は潤滑剤２０を後述する第１スラスト対向部８６に向かって押し出す。第１ラジアル動圧溝５２はスパイラル形状などの他の形状にされてもよい。

第２ラジアル動圧発生溝５０は、例えば、屈曲部を有するヘリングボーン形状とすることができる。第２ラジアル動圧発生溝５０の屈曲部の頂点Ｂ２は第２ラジアル動圧発生溝５０の配設領域の軸方向中心Ｃ２の下側に位置する。上記した最大圧力発生部位Ｐ１と同様のメカニズムにより、第２ラジアル動圧発生溝５２の最大圧力発生部位Ｐ２は軸方向中心Ｃ２の下フランジ１６側に位置する。このような構成では、軸受体８と軸体６とが相対回転するとき、第２ラジアル動圧軸受部８４は潤滑剤２０を後述する第２スラスト対向部８８に向かって押し出す。第２ラジアル動圧溝５０はスパイラル形状などの他の形状にされてもよい。

第１ラジアル動圧発生溝５２は、その溝幅がその配設領域の端部より中央部（屈曲部の頂点Ｂ１）の方が狭く、その溝深さがその配設領域の端部より中央部（屈曲部の頂点Ｂ１）の方が浅い。第１ラジアル動圧発生溝５２は、溝幅と溝深さの少なくともいずれかが略均一であってもよい。
第２ラジアル動圧発生溝５２は、その溝幅がその配設領域の端部より中央部（屈曲部の頂点Ｂ２）の方が狭く、その溝深さがその配設領域の端部より中央部（屈曲部の頂点Ｂ２）の方が浅い。第２ラジアル動圧発生溝５０は、溝幅と溝深さの少なくともいずれかが略均一であってもよい。

図３に戻る。上フランジ１２とスリーブ４２とには、下面１２Ｃと上面４２Ｃとが軸方向に対向する隙間に第１スラスト対向部８６が設けられる。スリーブ４２の上面４２Ｃの第１スラスト対向部８６に対応する領域に、スラスト動圧を発生するために第１スラスト動圧溝５４が設けられる。第１スラスト動圧溝５４はスリーブ４２の代りに上フランジ１２の下面１２Ｃの第１スラスト対向部８６に対応する領域に設けてもよい。下フランジ１６とスリーブ４２とには、上面１６Ａと下面４２Ｄとが軸方向に対向する隙間に第２スラスト対向部８８が設けられる。スリーブ４２の下面４２Ｄの第２スラスト対向部８８に対応する領域に、スラスト動圧を発生するために第２スラスト動圧溝５６が設けられる。第２スラスト動圧溝５６はスリーブ４２の代りに下フランジ１６の上面１６Ａの第２スラスト対向部８８に対応する領域に設けてもよい。なお、本実施形態の説明において、第１スラスト動圧溝５４または第２スラスト動圧溝５６が設けられる領域をスラスト動圧溝の配設領域と表記することがある。

第１スラスト動圧溝５４と第２スラスト動圧溝５６は、例えば、スパイラル形状にされる。第１スラスト動圧溝５４と第２スラスト動圧溝５６はヘリングボーン形状などの他の形状にされてもよい。第２ラジアル動圧溝５０、第１ラジアル動圧溝５２、第１スラスト動圧溝５４および第２スラスト動圧溝５６は、例えば、プレス加工、ボール転造加工、電解エッチング加工、切削加工などの方法によって形成される。これらの動圧発生溝はそれぞれ異なった方法によって形成されてもよい。

結合部４４は、中空の環状で、上面には軸方向下向きに窪んだ環状凹部４４Ｇが設けられ、上フランジ１２の一部が環状凹部４４Ｇに進入する。具体的には、上フランジ１２のフランジ張出部１２Ｈの先端部が第１張出部１２Ｇから下垂して環状凹部４４Ｇに軸方向に進入する。フランジ張出部１２Ｈは環状凹部４４Ｇの中で非接触状態で相対回転する。結合部４４はスリーブ４２の外周の上側の一部を環囲して設けられる。結合部４４の下面はフランジ環囲部１８の上端１８Ｃと隙間を介して軸方向に対向してラビリンスを形成する。結合部４４の外周からハブ２６の円盤部２６Ｄが半径方向外向きに延在する。

スリーブ４２の外周面４２Ｂは、フランジ環囲部１８の内周面１８Ａと半径方向に対向する領域にその上端に近いほど半径が小さくなる傾斜面４２Ｇを有する。傾斜面４２Ｇと内周面１８Ａとの半径方向隙間は軸方向上側に向けて徐々に拡大するテーパー状の空間を形成している。傾斜面４２Ｇと内周面１８Ａとは、後述する潤滑剤２０の環囲部側気液界面１２２が接し、毛細管力によって潤滑剤２０の飛散を抑制する第２キャピラリーシール９２を構成する。例えば、環囲部側気液界面１２２は、軸方向において第２ラジアル動圧溝５０の配設領域またはその上側に位置する。例えば、環囲部側気液界面１２２は、第１スラスト対向部８６と第２スラスト対向部８８の半径方向外側に設けられる。

リング状部４６は、上フランジ１２を環囲するように結合部４４の内周側に設けられる。リング状部４６の内周面４６Ａと上フランジ１２のテーパー面１２Ｊとの半径方向隙間は、上方に向かって徐々に拡がるテーパー状の空間を形成している。リング状部４６の内周面４６Ａと上フランジ１２のテーパー面１２Ｊとは、潤滑剤２０のフランジ側気液界面１２４が接し、毛細管力によって潤滑剤２０の飛散を抑制する第１キャピラリーシール９０を構成する。第１キャピラリーシール９０の配設領域は第１ラジアル動圧発生溝５２の配設領域と軸方向において少なくとも一部が重複する。

スリーブ４２には、潤滑剤溜まり部８２に開口する潤滑剤２０の連通路が設けられる。当該連通路はスリーブ４２と上ロッド１０の半径方向隙間とは別に設けられ、潤滑剤２０が介在する領域内の圧力差を抑制する。具体的には、スリーブ４２は、第１スラスト対向部８６のフランジ側気液界面１２４側の領域と潤滑剤溜まり部８２とを連通する潤滑剤２０の第１連通路３６と、第２スラスト対向部８８の環囲部側気液界面１２２側の領域と前記潤滑剤溜まり部８２とを連通する潤滑剤の第２連通路３８と、を有する。第１連通路３６と第２連通路３８とは、例えば、ドリル加工された孔であってもよい。第１連通路３６と第２連通路３８とはそれぞれの連通路の両端の圧力差を抑制する。

キャップ４８は、軸方向に薄い中空リング状で、例えば、ＳＵＳ３０３やＳＵＳ４３０などのステンレス材料から切削加工して形成される。キャップ４８は、その他の金属材料や樹脂材料から、プレス加工やモールディングによって形成されてもよい。キャップ４８は内周側が軸体６を隙間を介して環囲するように軸受体８に固定的に設けられる。具体的には、キャップ４８の内周面が上ロッド１０の外周面と非接触状態で対向し、キャップ４８の外周側が結合部４４とリング状部４６とに接着固定される。キャップ４８はフランジ側気液界面１２４と上フランジ１２の一部を覆う。キャップ４８の内周部には回転軸Ｒを中心に下向きに延在する周状凸部４８Ｅが設けられる。周状凸部４８Ｅの一部は上フランジ１２の上面に回転軸Ｒを中心に周設される周状凹部１２Ｅに軸方向に進入する。キャップ４８と上シャフト部材１１０とは潤滑剤２０のラビリンスを形成し、潤滑剤２０の飛散を抑制する。キャップ４８は軸体６に固定的に設けられ、軸受体８とは非接触状態にされることがある。

潤滑剤２０は、軸受体８と軸体６の隙間にフランジ側気液界面１２４から環囲部側気液界面１２２まで連続して介在する。具体的には、潤滑剤２０は、テーパー面１２Ｊと内周面４６Ａとの隙間と、上フランジ１２と結合部４４との隙間と、上フランジ１２とスリーブ４２との隙間と、スリーブ４２と上ロッド１０との半径方向隙間と、スリーブ４２と下フランジ１６との隙間と、傾斜面４２Ｇと内周面１８Ａとの隙間と、第１連通路３６と第２連通路３８と、を含む領域に介在する。換言すると、潤滑剤２０は、第１スラスト対向部８６と、第１ラジアル動圧軸受部８０と、潤滑剤溜まり部８２と、第２ラジアル軸受部８４と、第２スラスト対向部８８と、を含む領域に連続的に充填されている。

軸受体８が軸体６に対して相対的に回転するとき、第２ラジアル動圧溝５０、第１ラジアル動圧溝５２、第１スラスト動圧溝５４、第２スラスト動圧溝５６はそれぞれ潤滑剤２０に動圧を発生させる。この動圧によって軸受体８に接続された回転体４は、軸体６に接続された静止体２に対して非接触状態で半径方向および軸方向に支持される。

図４は、軸体６にトップカバー２２を取り付けた状態を示す断面図である。理解を容易にするため重要ではない部材は省略して示す。トップカバー２２は、ファスナーが収納孔１０Ａに嵌合されることによって軸体６の上ロッド１０に結合される。具体的には、中央ネジ７４がトップカバー２２の中央孔２２Ｄを貫通して上ロッド１０の収納孔１０Ａに設けられた雌ネジ部１０Ｅの一部に螺合される。トップカバー２２は、そのカバー凹部２２Ｅの中央孔２２Ｄの周縁が中央ネジ７４の鍔と上ロッド１０の上端面とに挟まれて上ロッド１０に固定される。このように軸体６の両端がシャーシー２４とトップカバー２２とに固定される構成によって、回転機器１００の耐振動特性等を高めることができる。

以上のように構成された回転機器１００の動作を説明する。磁気記録ディスク６２を回転させるために、３相の駆動電流がコイル３０に供給される。その駆動電流がコイル３０を流れることにより、ステータコア３２の突極に沿って界磁磁束が発生する。この界磁磁束とマグネット２８の駆動磁極の磁束との相互作用によってマグネット２８にトルクが与えられ、ハブ２６およびそれに嵌合された磁気記録ディスク６２が回転する。同時にボイスコイルモータ６６がスイングアーム６４を揺動させることによって、記録再生ヘッドが磁気記録ディスク６２上の揺動範囲を行き来する。記録再生ヘッドは磁気記録ディスク６２に記録された磁気データを電気信号に変換して制御基板（不図示）へ伝え、また制御基板から電気信号の形で送られてくるデータを磁気記録ディスク６２上に磁気データとして書き込む。

以上のように構成された本実施の形態の回転機器１００は以下のような特徴を有する。
軸受体８と軸体６とが相対的に回転することにより、第１ラジアル動圧軸受部と第２ラジアル動圧軸受部の間の潤滑剤に負圧が生じることがある。潤滑剤に負圧が生じると、潤滑剤に溶け込んでいた空気が気化して気泡を生成する。このような気泡はラジアル動圧軸受部に入りこむと動圧発生機能を阻害して回転機器の信頼性を低下させる可能性がある。しかしながら、回転機器１００では、上記の説明のように、潤滑剤溜まり部８２に開口する連通路を設けたから第１ラジアル動圧軸受部８０と第２ラジアル動圧軸受部８４の間における潤滑剤に負圧の発生を抑制できる。

回転機器１００では、軸受体８と軸体６とが相対回転するとき、第１ラジアル動圧軸受部８０は潤滑剤２０を第１スラスト対向部８６に向かって押し出すから、第１スラスト対向部８６と第１ラジアル動圧軸受部８０の境界部付近の動圧の低下を抑制できる。また、第２ラジアル動圧軸受部８４は潤滑剤２０を第２スラスト対向部８８に向かって押し出すから、第２スラスト対向部８８と第２ラジアル動圧軸受部８４の境界部付近の動圧の低下を抑制できる。この結果、回転体４が静止体２に接触する可能性を低くすることができる。

回転機器１００では、第１ラジアル動圧発生溝５２が発生する動圧の軸方向の最大圧力発生部位Ｐ１は第１ラジアル動圧発生溝５２の配設領域の軸方向中心Ｃ１の上フランジ１２側に位置するから、実効的な軸受スパンを上方向に長くできる。また、第２ラジアル動圧発生溝５０が発生する動圧の軸方向の最大圧力発生部位Ｐ２は第２ラジアル動圧発生溝５０の配設領域の軸方向中心Ｃ２の下フランジ１６側に位置するから、実効的な軸受スパンを下方向に長くできる。

回転機器１００では、第１ラジアル動圧発生溝５２は、その屈曲部の頂点Ｂ１が配設領域の軸方向中心Ｃ１の上フランジ１２側に位置するから、実効的な軸受スパンを上方向に長くできる。また、第２ラジアル動圧発生溝５０は、その屈曲部の頂点Ｂ２が配設領域の軸方向中心Ｃ２の下フランジ１６側に位置するから、実効的な軸受スパンを下方向に長くできる。

回転機器１００では、軸受体８は上フランジ１２に近い方の端面に軸方向に凹んだ環状凹部４４Ｇが設けられ、上フランジ１２の少なくとも一部が環状凹部４４Ｇに進入するフランジ張出部１２Ｈを有しているから、第１ラジアル動圧軸受部８０の配設領域は第１キャピラリーシール９０の配設領域と軸方向で重複して設けられる。この場合、ラジアル軸受の軸受スパンを長くすることができる。

回転機器１００では、上フランジ１２は上ロッド１０と一体に形成される部分を有するから、上フランジ１２が上ロッド１０から脱落する可能性が抑制され、上フランジ１２と上ロッド１０の境界部を薄くできる。また、下フランジ１６は下ロッド１４と一体に形成される部分を有するから、下フランジ１６と下ロッド１４の接合強度の低下が抑制され、下フランジ１６と下ロッド１４の境界部を薄くできる。

回転機器１００では、上ロッド１０の雌ネジ部１０Ｄに下ロッド１４の雄ネジ部１４Ａを螺合して固定しているから、下ロッド１４と上ロッド１０の接合強度の低下を抑制できる。

回転機器１００では、下フランジ１６は外周に開口２４Ｄより大形にされる鍔部１６Ｂを有し、鍔部１６Ｂが抜け止めとして機能するから、衝撃を受けた場合にも下シャフト部材１１２がベース２４Ｈから脱落する可能性を抑制できる。また、開口２４Ｄの縁に鍔収納部２４Ｇが設けられるから、鍔部１６Ｂの軸方向下側への出っ張りを抑制できる。

回転機器１００では、底板部２４Ａのベース２４Ｈは、フレーム２４Ｊよりヤング率が大きな材料から形成されるから、所望の強度を確保しながらベース２４Ｈを薄くできる。また、フレーム２４Ｊはベース２４Ｈより比重（密度）が小さな材料から形成されるから、重量の増大を抑制できる。

回転機器１００では、フランジ環囲部１８はその上端１８Ｃが軸方向で第２ラジアル動圧溝５０の配設領域またはその上側に位置するから、フランジ環囲部１８の内周面１８Ａと軸受体８の外周面との隙間の体積を大きくできる。また、環囲部側気液界面１２２は、軸方向において第２ラジアル動圧溝５０の配設領域またはその上側に位置するから、多くの量の潤滑剤２０を保持して、潤滑剤２０の欠乏による障害発生の可能性を低減できる。

回転機器１００では、ハブ２６の突出壁部２６Ｎの一部がベース２４Ｈの環状の凹部２４Ｎに進入することによって通路抵抗が増大するから、環囲部側気液界面１２２から飛散した潤滑剤２０の磁気記録ディスク６２配設空間への拡散を抑制できる。

コイルに電流が流れそのジュール熱によって温度上昇するとコイル表面に付着したハイドロカーボンなどのパラフィン成分は揮発して雰囲気中に拡散し、やがて磁気記録ディスクの表面に達する。その揮発成分は結露して磁気記録ディスク表面に徐々に堆積し、ディスク駆動装置の動作を阻害する。最悪の場合は、ディスク駆動装置の故障の原因となる。しかしながら、回転機器１００では、コイル３０に付着するハイドロカーボンの総量はコイル３０に付着するポリアミド化合物の総量より少ないから、ハイドロカーボンの揮発による障害発生の可能性を低減できる。

（第１変形例）
次に、上記実施の形態の変形例について説明する。図６は上記実施の形態の第１変形例に係る回転機器２００の図２に対応する断面図である。製品の仕様によっては、製造プロセスにおいて、部品の加工に必要な時間を短縮し、製造プロセス数を減らしたいという要望がある。そこで、この回転機器２００では、フランジ環囲部２１８はベース２２４Ｈと一体に設けられる。この場合、下シャフト部材２１２の形成が容易になるから、加工時間を短縮できる。また、第１連通路２３６は第２連通路２３８と同軸に形成されている。この場合、第１連通路２３６と第２連通路２３８とは同一のドリルで連続して加工できるから、加工時間を短縮できる。回転機器２００のその他の部分の構成は回転機器１００と同様であり、回転機器２００によると回転機器１００によって奏される作用効果と同様の作用効果が奏される。

（第２変形例）
図７は上記実施の形態の第２変形例に係る回転機器３００の図２に対応する断面図である。回転機器３００では、下シャフト部材３１２はベース３２４Ｈと一体に設けられる。この場合、下シャフト部材３１２とベース３２４Ｈの接合の手間を省くことができる。回転機器３００のその他の部分の構成は回転機器１００と同様であり、回転機器３００によると回転機器１００によって奏される作用効果と同様の作用効果が奏される。

以上、実施の形態に係る回転機器およびその変形例に係る回転機器の構成と動作について説明した。これらは例示であり、それらの各構成要素の組み合わせにいろいろな展開が可能なこと、またそうした構成も本発明の範囲にあることは当業者に理解されるところである。

上記実施の形態及びその変形例では、回転体４が軸受体８に接続され、軸体６が静止体２に接続される場合について説明したが、これに限られない。回転体４が軸体６に接続され、軸受体８が静止体２に接続されてもよい。

実施の形態及びその変形例では、シャフトは上ロッド１０と下ロッド１４とが別々に形成されて結合される場合について説明したが、これに限られない。例えば、上ロッド１０と下ロッド１４と下フランジ１６とフランジ環囲部１８とを一体に形成するようにしてもよい。上ロッド１０に対する下フランジ１６やフランジ環囲部１８の製造誤差を抑制することができる。この状態でシャフトに軸受体８を嵌合した後、上フランジ１２をシャフトに結合することができる。

実施の形態及びその変形例では、ステータコアがマグネットに環囲される場合について説明したが、これに限られない。例えば、マグネットがステータコアに環囲される構成としてもよい。

実施の形態及びその変形例では、スリーブ４２の上面４２Ｃの第１スラスト対向部８６に対応する領域に、第１スラスト動圧溝５４が設けられる場合について説明したが、これに限られない。例えば、第１スラスト対向部８６には上面４２Ｃと第１フランジの上フランジ１２の下面１２Ｃのいずれにもスラスト動圧溝を設けない構成であってもよい。

１００、２００、３００ 回転機器
２ 静止体
４ 回転体
６ 軸体
８ 軸受体
１０ 上ロッド
１２ 上フランジ
１４ 下ロッド
１６ 下フランジ
１８、２１８ フランジ環囲部
２２ トップカバー
２４、２２４、３２４ シャーシー
２４Ｈ、２２４Ｈ、３２４Ｈ ベース
２６ ハブ
２８ マグネット
３０ コイル
３２ ステータコア
３４ 磁性リング
３６、２３６ 第１連通路
３８、２３８ 第２連通路
４２ スリーブ
４４ 結合部
４６ リング状部
４８ キャップ
５０ 第２ラジアル動圧溝
５２ 第１ラジアル動圧溝
５４ 第１スラスト動圧溝
５６ 第２スラスト動圧溝
６０ データリード／ライト部
６２ 磁気記録ディスク
６４ スイングアーム
６６ ボイスコイルモータ
６８ ピボットアセンブリ
７０ 清浄空間
７２ スペーサー
７４ 中央ネジ
７６ シール剤
７８ クランパー
８０ 第１ラジアル動圧軸受部
８２ 潤滑剤溜まり部
８４ 第２ラジアル動圧軸受部
８６ 第１スラスト対向部
８８ 第２スラスト対向部
１０４ 周辺ネジ
１１０ 上シャフト部材
１１２、２１２、３１２ 下シャフト部材
Ｒ 回転軸
Ｃ１、Ｃ２ 軸方向中心
Ｐ１、Ｐ２ 最大圧力発生部位

Claims (14)

1. シャフトと、前記シャフトの一端側の外周面から半径方向外側に延伸する第１フランジと、前記シャフトの他端から半径方向外側に延伸する第２フランジとを備える軸体と、
   軸方向において前記第１フランジと前記第２フランジとの間で前記シャフトを環囲するシャフト環囲部材備え、前記軸体に対して相対回転可能にされる軸受体と、
   軸方向における前記シャフト環囲部材と前記第１フランジとの隙間に形成された第１スラスト対向部と、
   軸方向における前記シャフト環囲部材と前記第２フランジとの隙間に形成された第２スラスト対向部と、
   半径方向における前記シャフトと前記シャフト環囲部材との隙間に設けられた潤滑剤溜まり部と、
   前記隙間において、前記潤滑剤溜まり部の前記第１スラスト対向部側に設けられた第１ラジアル動圧軸受と、前記潤滑剤溜まり部の前記第２スラスト対向部側に設けられた第２ラジアル動圧軸受とを含むラジアル動圧軸受部と、
   前記第１スラスト対向部、前記ラジアル動圧軸受部、前記潤滑剤溜まり部、及び前記第２スラスト対向部を通じて連続的に介在する潤滑剤と、
   前記第１スラスト対向部と前記潤滑剤溜まり部とを連通させる第１連通路と、
   前記第２スラスト対向部と前記潤滑剤溜まり部とを連通させる第２連通路と、
   を備えたことを特徴とする回転機器。
2. 前記軸受体と前記軸体とが相対回転することにより、
   前記第１ラジアル動圧軸受は、前記潤滑剤を前記第１スラスト対向部に向けて押し出し、
   前記第２ラジアル動圧軸受は、前記潤滑剤を前記第２スラスト対向部に向けて押し出す、
   ことを特徴とする請求項１に記載の回転機器。
3. 前記第１ラジアル動圧軸受は、前記シャフトの外周面または前記シャフト環囲部材の内周面のいずれかに設けられた第１動圧発生溝を備え、
   前記第１動圧発生溝が発生する動圧の軸方向における最大圧力発生位置は、前記第１動圧発生溝が設けられた領域の中心よりも第１フランジ寄りに位置し、
   前記第２ラジアル動圧軸受は、前記シャフトの外周面または前記シャフト環囲部材の内周面のいずれかに設けられた第２動圧発生溝を備え、
   前記第２動圧発生溝が発生する動圧の軸方向における最大圧力発生位置は、前記第２動圧発生溝が設けられた領域の中心よりも第２フランジ寄りに位置する、
   ことを特徴とする請求項１または２に記載の回転機器。
4. 前記第１動圧発生溝は、ヘリングボーン形状であって、その屈曲部が前記第１動圧発生溝が設けられた領域の中心よりも前記第１フランジ寄りに位置するヘリングボーン形状を有し、
   前記第２動圧発生溝は、ヘリングボーン形状であって、その屈曲部が前記第２動圧発生溝が設けられた領域の中心よりも前記第２フランジ寄りに位置するヘリングボーン形状を有する、
   ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の回転機器。
5. 前記第１フランジは、前記第１フランジの外周面から半径方向外向きに張出すフランジ張出部を備え、
   前記軸受体は、軸方向に凹む環状の凹部であって前記フランジ張出部の少なくとも一部が進入する環状凹部を備えることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の回転機器。
6. 毛細管力によって前記潤滑剤の漏れ出しを抑制する第１キャピラリーシールをさらに備え、
   軸方向において、前記第１キャピラリーシールが設けられた領域と、前記ラジアル動圧軸受が設けられた領域とは、少なくとも部分的に重複する、
   ことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の回転機器。
7. 前記第１フランジは、前記シャフトと一体に形成される部分を備えることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の回転機器。
8. 前記第２フランジは、前記シャフトと一体に形成される部分を備えることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の回転機器。
9. 前記第１スラスト対向部と前記第２スラスト対向部との少なくとも一方は、スラスト動圧軸受を備えることを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の回転機器。
10. 前記軸体は、少なくとも前記シャフト環囲部材の一部をラジアル隙間を介して環囲するフランジ環囲部をさらに備え、
    前記ラジアル隙間は、軸方向において前記第１フランジに向かって徐々に拡大する部分を有し、
    前記ラジアル隙間には、前記潤滑剤が前記第２スラスト対向部から連続的に介在することを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の回転機器。
11. 前記軸体の少なくとも一部を収納して固定するベース孔が形成されたベースと、
    前記軸受体と一体に回転するハブと、
    をさらに備えたことを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の回転機器。
12. 前記第２フランジは、その外周に、前記ベース孔よりも大形の鍔部を備え、
    前記鍔部は、前記ベースと軸方向において対向し、
    前記ベースは、前記鍔部の少なくとも一部を収容する鍔収容部が形成されている、
    ことを特徴とする請求項１１に記載の回転機器。
13. 前記ベースは、少なくとも前記ハブと軸方向において対向する部分を有する内側部材と、前記内側部材を固定的に環囲する外側部材とを備え、
    前記内側部材は、前記外側部材よりもヤング率が大きな材料から形成される、
    ことを特徴とする請求項１１または１２に記載の回転機器。
14. シャフトと、前記シャフトの一端側の外周面から半径方向外側に延伸する第１フランジと、前記シャフトの他端から半径方向外側に延伸する第２フランジとを備える軸体と、
    軸方向において前記第１フランジと前記第２フランジとの間で前記シャフトを環囲するシャフト環囲部材を備えた軸受体と、
    半径方向における前記シャフトと前記シャフト環囲部材との隙間に設けられた少なくとも一つのラジアル動圧軸受部と、
    前記隙間のうち、前記ラジアル動圧軸受が形成された部分以外の部分の少なくとも一部に設けられた潤滑剤溜まり部と、
    軸方向における前記シャフト環囲部材と前記第１フランジとの隙間に形成された第１スラスト対向部と、
    軸方向における前記シャフト環囲部材と前記第２フランジとの隙間に形成された第２スラスト対向部と、
    前記第１スラスト対向部、前記ラジアル動圧軸受部、前記潤滑剤溜まり部、及び前記第２スラスト対向部を通じて連続的に介在する潤滑剤と、
    前記第１スラスト対向部と前記潤滑剤溜まり部とを連通させる第１連通路と、
    を備えたことを特徴とする回転機器。

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