JP2014103018A - 有機エレクトロルミネッセンス発光装置の製造方法、及び有機エレクトロルミネッセンス発光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 生産効率のよい有機EL発光装置の製造方法及び有機EL発光装置を提供する。
【解決手段】 本発明の有機EL発光装置1の製造方法は、陽極端子211と陰極端子221を有する複数の有機EL素子2をタイル状に並列配置することで、発光パネル3を形成する工程と、発光パネル3内の複数の有機EL素子2と外部電源5を電気的に接続する、導電部42が基板41上に設けられた接続基板4を準備する工程と、発光パネル3内の複数の有機EL素子2と接続基板4の導電部42を接続することにより複数の有機EL素子2を一体化する工程と、を有する。
【選択図】 図3
【解決手段】 本発明の有機EL発光装置1の製造方法は、陽極端子211と陰極端子221を有する複数の有機EL素子2をタイル状に並列配置することで、発光パネル3を形成する工程と、発光パネル3内の複数の有機EL素子2と外部電源5を電気的に接続する、導電部42が基板41上に設けられた接続基板4を準備する工程と、発光パネル3内の複数の有機EL素子2と接続基板4の導電部42を接続することにより複数の有機EL素子2を一体化する工程と、を有する。
【選択図】 図3
Description
本発明は、複数の有機エレクトロルミネッセンス素子をタイル状に並列配置し、有機エレクトロルミネッセンス発光装置を製造する方法などに関する。
従来、複数の有機エレクトロルミネッセンス素子をタイル状に並列配置することで大面積の発光パネルを形成し、発光パネルに含まれる各有機EL素子を電気的に接続することで全体として大型の有機EL発光装置を形成することが知られている(例えば、特許文献1)。
以下、有機エレクトロルミネッセンスを単に「有機EL」と表す。
以下、有機エレクトロルミネッセンスを単に「有機EL」と表す。
このような大型の有機EL発光装置では、複数の有機EL素子を電気的に接続する必要がある。具体的には、第1有機EL素子の陽極端子を、それに隣接する第2有機EL素子の陰極端子に電気線路を用いて接続し、さらに第2有機EL素子の陽極端子を、それに隣接する第3有機EL素子の陰極端子に電気線路を用いて接続する。そして、このような工程を全ての有機EL素子が接続されるまで順次行わなければならない。一般的に、大型の有機EL発光装置は、10個以上有機EL素子が並列配置される。そのため、並列配置される有機EL素子の数に合わせ、9個以上の電気線路を用意し、各電気線路を順次接続しなければならない。
さらに、複数の有機EL素子に外部電源から電流を供給するために、前述の電気線路とは別に、外部電源接続用の接続部(例えば、導電性ワイヤー)を有機EL素子に接続する必要がある。
このように、大型の有機EL発光装置は、その製造工程において、電気線路及び接続部の接続に伴う時間的ロスが発生し、生産効率が悪いという問題がある。
さらに、複数の有機EL素子に外部電源から電流を供給するために、前述の電気線路とは別に、外部電源接続用の接続部(例えば、導電性ワイヤー)を有機EL素子に接続する必要がある。
このように、大型の有機EL発光装置は、その製造工程において、電気線路及び接続部の接続に伴う時間的ロスが発生し、生産効率が悪いという問題がある。
本発明の目的は、生産効率のよい有機EL発光装置の製造方法及び有機EL発光装置を提供することである。
本発明の有機EL発光装置の製造方法は、陽極端子と陰極端子を有する複数の有機EL素子をタイル状に並列配置することで、発光パネルを形成する工程と、発光パネル内の複数の有機EL素子と外部電源を電気的に接続する、導電部が基板上に設けられた接続基板を準備する工程と、発光パネル内の複数の有機EL素子と接続基板の導電部を接続することにより複数の有機EL素子を一体化する工程と、を有する
本発明の好ましい有機EL発光装置の製造方法では、導電部が、陽極接続部と、陰極接続部と、両接続部の間に断続的に設けられたコネクタ部と、を有し、陽極接続部を発光パネルの一端に配置された有機EL素子の陽極端子に接続し、陰極接続部を発光パネルの他端に配置された有機EL素子の陰極端子に接続し、コネクタ部を、発光パネル内で隣接する一方の有機EL素子の陽極端子と他方の有機EL素子の陰極端子とを跨ぐように接続することにより複数の有機EL素子を一体化する。
また、本発明の好ましい有機EL発光装置の製造方法では、導電部が、陽極接続部と、陰極接続部と、を有し、陽極接続部を発光パネル内にある全ての有機EL素子の陽極端子に接続し、且つ、陰極接続部を発光パネル内にある全ての有機EL素子の陰極端子に接続することにより複数の有機EL素子を一体化する。
さらに、本発明の好ましい有機EL発光装置の製造方法では、接続基板及び複数の有機EL素子が、可撓性を有する。また、より好ましくは、複数の有機EL素子と接続基板の導電部を、異方性導電フィルムを用いて接続する。
さらに、本発明の別の局面によれば、タイル状に並列配置された、陽極端子と陰極端子を有する複数の有機EL素子を有する発光パネルと、発光パネル内の複数の有機EL素子と外部電源を電気的に接続する、導電部が基板上に設けられた接続基板と、を有し、発光パネル内の複数の有機EL素子と接続基板の導電部が接続されることにより、複数の有機EL素子が一体化されている有機EL発光装置が提供される。
本発明の好ましい有機EL発光装置では、導電部が、陽極接続部と、陰極接続部と、両接続部の間に断続的に設けられたコネクタ部と、を有し、陽極接続部が発光パネルの一端に配置された有機EL素子の陽極端子に接続され、陰極接続部が発光パネルの他端に配置された有機EL素子の陰極端子に接続され、コネクタ部が、発光パネル内で隣接する一方の有機EL素子の陽極端子と他方の有機EL素子の陰極端子とを跨ぐように接続されている。
本発明の製造方法によれば、大型の有機EL発光装置を簡易に製造でき、比較的安価な有機EL発光装置を提供できる。
以下、本発明について、図面を参照しつつ説明する。ただし、各図における層厚及び長さなどの寸法は、実際のものとは異なっていることに留意されたい。また、本明細書において、用語の接頭語として、第1、第2などを付す場合があるが、この接頭語は、用語を区別するためだけに付加されたものであり、順序や優劣などの特別な意味を持たない。
[有機EL発光装置の構成]
本発明の有機EL発光装置は、陽極端子と陰極端子を有する複数の有機EL素子をタイル状に並列配置することで形成される発光パネルを有する。
また、有機EL発光装置は、接続基板を有しており、接続基板と発光パネルが接続されている。具体的には、接続基板は、基板と、基板上に設けられた導電部と、を有しており、接続基板の導電部と複数の有機EL素子が接続されている。
このように、発光パネルと接続基板が接続されることにより、導電部を介して発光パネル内の複数の有機EL素子に電流が供給される(即ち、複数の有機EL素子が電気的に一体化される)。また、複数の有機EL素子は、基板を介して構造的に一体化される。
以下、図面を参照しつつ本発明について詳述する。
本発明の有機EL発光装置は、陽極端子と陰極端子を有する複数の有機EL素子をタイル状に並列配置することで形成される発光パネルを有する。
また、有機EL発光装置は、接続基板を有しており、接続基板と発光パネルが接続されている。具体的には、接続基板は、基板と、基板上に設けられた導電部と、を有しており、接続基板の導電部と複数の有機EL素子が接続されている。
このように、発光パネルと接続基板が接続されることにより、導電部を介して発光パネル内の複数の有機EL素子に電流が供給される(即ち、複数の有機EL素子が電気的に一体化される)。また、複数の有機EL素子は、基板を介して構造的に一体化される。
以下、図面を参照しつつ本発明について詳述する。
図1は、本発明で用いられる接続基板の一実施形態を表す概略背面図である。図2は、本発明で用いられる発光パネルの構成例を表す概略平面図である。
図3は、図1の接続基板及び図2発光パネルを接続して得られる有機EL発光装置を表す概略平面図である。図4は、前記発光装置における接続基板と発光パネルの接続状態を表す端面図である。
図1において、便宜上、両接続部には無数のドットを付しており、コネクタ部には、格子状模様を付している。また、図3において、両接続部、並びに、コネクタ部を、便宜上、一点鎖線によって表している。
図3は、図1の接続基板及び図2発光パネルを接続して得られる有機EL発光装置を表す概略平面図である。図4は、前記発光装置における接続基板と発光パネルの接続状態を表す端面図である。
図1において、便宜上、両接続部には無数のドットを付しており、コネクタ部には、格子状模様を付している。また、図3において、両接続部、並びに、コネクタ部を、便宜上、一点鎖線によって表している。
図1に示す接続基板4の導電部42と、図2に示す発光パネル3内の複数の有機EL素子2と、を接続することにより図3に示す本発明の有機EL発光装置1が形成される。
接続基板の導電部は、発光パネル内の有機EL素子を外部電源に電気的に接続する部分である。導電部は、少なくとも、陽極接続部及び陰極接続部を有しており、好ましくは、陽極接続部、陰極接続部、及びコネクタ部を有する(図1では、陽極接続部、陰極接続部、及びコネクタ部を有する)。
陽極(陰極)接続部は、その一端が有機EL素子の陽極(陰極)端子に接続し、且つ、その他端部が直接又は間接的に外部電源の陽極(陰極)と接続する部分である。
コネクタ部は、発光パネル内で隣接する一方の有機EL素子の陽極端子と、他方の有機EL素子の陰極端子と、を跨ぐように電気的に接続する部分である。なお、導電部(接続部及びコネクタ部)は、何れも導電性を有する。
陽極(陰極)接続部は、その一端が有機EL素子の陽極(陰極)端子に接続し、且つ、その他端部が直接又は間接的に外部電源の陽極(陰極)と接続する部分である。
コネクタ部は、発光パネル内で隣接する一方の有機EL素子の陽極端子と、他方の有機EL素子の陰極端子と、を跨ぐように電気的に接続する部分である。なお、導電部(接続部及びコネクタ部)は、何れも導電性を有する。
陽極接続部の他端部に接続された外部電源から供給される電流は、陽極接続部を通じて発光パネルの一端に配置された有機EL素子に供給され、その後、コネクタ部を介して発光パネル内の全ての有機EL素子に供給される。そして、電流は、発光パネルの他端に配置された有機EL素子の陰極端子に接続された陰極接続部を介して外部電源の陰極へと戻る。
パネル内の全ての有機EL素子に電流が供給されることにより、発光パネルが発光する。
パネル内の全ての有機EL素子に電流が供給されることにより、発光パネルが発光する。
図1において、接続基板4は、基板41と、陰極接続部421と、陽極接続部422と、コネクタ部423と、を有する。陰極接続部421及び陽極接続部422、並びに、コネクタ部423は、基板41の上に設けられている。
基板41の平面視形状は、特に限定されないが、例えば、一辺が部分的に突出した略矩形状とされている。基板41の平面内において、この突出した部分に陰極接続部421の他端部及び陽極接続部422の他端部が配置されている。また、基板41の平面内において、突出した部分に対向する基板41の端部には、陰極接続部421の一端部及び陽極接続部422の一端部が配置されている。また、この陰極接続部421の一端部と陽極接続部422の一端部との間に、所要の間隔を開けて、断続的に3つのコネクタ部423が設けられている。
基板41の平面視形状は、特に限定されないが、例えば、一辺が部分的に突出した略矩形状とされている。基板41の平面内において、この突出した部分に陰極接続部421の他端部及び陽極接続部422の他端部が配置されている。また、基板41の平面内において、突出した部分に対向する基板41の端部には、陰極接続部421の一端部及び陽極接続部422の一端部が配置されている。また、この陰極接続部421の一端部と陽極接続部422の一端部との間に、所要の間隔を開けて、断続的に3つのコネクタ部423が設けられている。
なお、陰極接続部421、陽極接続部422、及び各コネクタ部423は、それぞれ独立し、電気的に繋がっていない。
陰極接続部421の一端部及び陽極接続部422の一端部、並びに、コネクタ部423は、後述する発光パネル3内の有機EL素子2に電気的に接続される。
なお、接続基板4は、陽極接続部421及び陰極接続部422、並びに、コネクタ部423以外の部分を有していてもよい。もっとも、本明細書においては、これらの部分についての説明を省略し、図面上においても表示していない。
陰極接続部421の一端部及び陽極接続部422の一端部、並びに、コネクタ部423は、後述する発光パネル3内の有機EL素子2に電気的に接続される。
なお、接続基板4は、陽極接続部421及び陰極接続部422、並びに、コネクタ部423以外の部分を有していてもよい。もっとも、本明細書においては、これらの部分についての説明を省略し、図面上においても表示していない。
基板41に導電部42(両接続部421,422及びコネクタ部423)を形成する方法は、特に限定されず、基板41上に両接続部421,422及びコネクタ部423を半田付けする方法、基板41上に導電性材料の薄膜を付着させる方法(いわゆる、プリント配線によって両接続部421,422及びコネクタ部423を形成する)などが挙げられる。なお、両接続部421,422及びコネクタ部423は、同じ方法で形成されることが好ましいが、それぞれ異なる方法で形成することもできる。例えば、両接続部421,422が、プリント配線によって形成され、コネクタ部423が半田付けによって形成されていてもよい。
また、図2において、発光パネル3は、複数(例えば4つ)の有機EL素子2から形成されている。発光パネル3において、各有機EL素子2が、母材6の上で並列配置され、且つ、それに固着されている。複数の平面視略帯状の有機EL素子2は、その幅方向に僅かな間隔を開けて規則的に並列配置されている。
各有機EL素子2は、発光パネル3の両端に位置する電極端子(陽極端子211及び陰極端子221)を除き、陽極端子211と陰極端子221が隣接するように並列配置される。このように隣接した陽極端子211と陰極端子221は、前記接続基板4のコネクタ部423を介して電気的に接続される。また、発光パネル3の両端に位置する電極端子(陽極端子211及び陰極端子221)は、接続基板4の陽極接続部422及び陰極接続部421にそれぞれ接続される。
図1に示す接続基板4と図2に示す発光パネル3を接続することで、図3及び図4で示す有機EL発光装置1が形成される。
各有機EL素子2は、発光パネル3の両端に位置する電極端子(陽極端子211及び陰極端子221)を除き、陽極端子211と陰極端子221が隣接するように並列配置される。このように隣接した陽極端子211と陰極端子221は、前記接続基板4のコネクタ部423を介して電気的に接続される。また、発光パネル3の両端に位置する電極端子(陽極端子211及び陰極端子221)は、接続基板4の陽極接続部422及び陰極接続部421にそれぞれ接続される。
図1に示す接続基板4と図2に示す発光パネル3を接続することで、図3及び図4で示す有機EL発光装置1が形成される。
具体的には、図3及び図4に示すように、接続基板4の陽極接続部422は、発光パネル3の一端(図面では左端)に位置する有機EL素子2の陽極端子211と電気的に接続し、且つ、陰極接続部421は、発光パネル3の他端(図面では右端)に位置する有機EL素子2の陰極端子221と電気的に接続している。
また、接続基板4のコネクタ部423は、発光パネル3内の隣接する陽極端子211と陰極端子221に跨がって電気的に接続している。
また、接続基板4のコネクタ部423は、発光パネル3内の隣接する陽極端子211と陰極端子221に跨がって電気的に接続している。
接続基板4における両接続部421,422の配置は、図1に示す例に限定されず、複数の有機EL素子2(発光パネル3)の配置に従って適宜変更することができる。
接続基板4における各コネクタ部423の配置も、特に限定されず、発光パネル3内の複数の有機EL素子2の配置、及び、有機EL素子2の陽極端子211と陰極端子221の位置に従って適宜変更することができる。
接続基板4における各コネクタ部423の配置も、特に限定されず、発光パネル3内の複数の有機EL素子2の配置、及び、有機EL素子2の陽極端子211と陰極端子221の位置に従って適宜変更することができる。
なお、図1の接続基板4は、基板41上に、陰極接続部421、陽極接続部422、及びコネクタ部423と、を有する。しかし、本発明では、コネクタ部423が設けられていなくてもよい。
コネクタ部423が設けられない場合、発光パネル3内の全ての有機EL素子2の陰極端子221に陰極接続部421が接続され、且つ、発光パネル3内の全ての有機EL素子2の陽極端子211に陽極接続部422が接続されることにより、発光パネル3内の全ての有機EL素子2が一体化される(図示せず)。
コネクタ部423が設けられない場合、発光パネル3内の全ての有機EL素子2の陰極端子221に陰極接続部421が接続され、且つ、発光パネル3内の全ての有機EL素子2の陽極端子211に陽極接続部422が接続されることにより、発光パネル3内の全ての有機EL素子2が一体化される(図示せず)。
母材6は、可撓性を有するものが好ましい。母材6は、例えば、接続基板4の基板41や後述する有機EL素子2の素子基板23と同様な材料によって形成される。母材6が可撓性を有せば、可撓性を有する有機EL素子2を形成することが容易になる。
母材6は、透明及び不透の何れでよいが、ボトムエミッション型の発光パネル3を形成する場合には、透明な母材が用いられる。
母材6は、透明及び不透の何れでよいが、ボトムエミッション型の発光パネル3を形成する場合には、透明な母材が用いられる。
なお、図3及び図4では、発光パネル3は、4つの有機EL素子2によって構成されているが、発光パネル3を構成する有機EL素子2の数は特に限定されない。1つの発光パネル3は、2つ以上の有機EL素子2を用いて構成され、好ましくは、3つ〜20つの有機EL素子2を用いて構成され、より好ましくは、4つ〜15つの有機EL素子2を用いて構成される。
発光パネル3内の各有機EL素子2は、ボトムエミッション型の素子であってもよく、トップエミッション型の素子であってもよい。好ましくは、各有機EL素子2は、ボトムエミッション型の素子であることが好ましい。ボトムエミッション型の素子は、素子基板の裏側から光が出射されるものである。
(接続基板の基板)
接続基板4は、発光パネル3内の複数の有機EL素子2を導電部42を介して電気的に接続する(即ち、複数の有機EL素子2を電気的に一体化する)と共に、複数の有機EL素子を基板41を介して構造的に一体化する部材である。1つの発光パネル3に対して、1つの接続基板4が取り付けられる。即ち、1つの接続基板4によって、複数の有機EL素子2が纏めて一体化される。
接続基板4は、発光パネル3内の複数の有機EL素子2を導電部42を介して電気的に接続する(即ち、複数の有機EL素子2を電気的に一体化する)と共に、複数の有機EL素子を基板41を介して構造的に一体化する部材である。1つの発光パネル3に対して、1つの接続基板4が取り付けられる。即ち、1つの接続基板4によって、複数の有機EL素子2が纏めて一体化される。
基板は、特に限定されないが、可撓性を有するフィルム状のものが好ましい。可撓性の基板を用いれば、可撓性を有する有機EL発光装置を構成できる。
可撓性を有する基板としては、合成樹脂フィルムが好ましく用いられる。合成樹脂樹脂フィルムの形成材料としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)等のポリエステル系樹脂;ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリメチルペンテン(PMP)、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)等のα−オレフィンをモノマー成分とするオレフィン系樹脂;ポリ塩化ビニル(PVC);酢酸ビニル系樹脂;ポリカーボネート(PC);ポリフェニレンスルフィド(PPS);ポリアミド(ナイロン)、全芳香族ポリアミド(アラミド)等のアミド系樹脂;ポリイミド系樹脂;ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)などが挙げられ、好ましくは、ポリイミド系樹脂である。
基板の厚みは特に限定されないが、好ましくは、10μm〜200μmであり、より好ましくは、20μm〜50μmである。
可撓性を有する基板としては、合成樹脂フィルムが好ましく用いられる。合成樹脂樹脂フィルムの形成材料としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)等のポリエステル系樹脂;ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリメチルペンテン(PMP)、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)等のα−オレフィンをモノマー成分とするオレフィン系樹脂;ポリ塩化ビニル(PVC);酢酸ビニル系樹脂;ポリカーボネート(PC);ポリフェニレンスルフィド(PPS);ポリアミド(ナイロン)、全芳香族ポリアミド(アラミド)等のアミド系樹脂;ポリイミド系樹脂;ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)などが挙げられ、好ましくは、ポリイミド系樹脂である。
基板の厚みは特に限定されないが、好ましくは、10μm〜200μmであり、より好ましくは、20μm〜50μmである。
接続部とコネクタ部が電気的に繋がらないようにするため、絶縁性を有する基板が用いられる。上記に列挙した合成樹脂フィルムの形成材料は、通常、絶縁性を有する。なお、基板そのものが絶縁性を有さない(導電性を有する)場合には、基板の表面のうち、少なくとも接続部及びコネクタ部が設けられる領域に、絶縁層が設けられる。
基板は、透明であってもよく、又、不透明であってもよい。
本明細書において、透明の指標としては、例えば、全光線透過率70%以上、好ましくは80%以上が例示できる。ただし、全光線透過率は、JIS K7105(プラスチックの光学的特性試験方法)に準拠した測定法によって測定される値をいう。
本明細書において、透明の指標としては、例えば、全光線透過率70%以上、好ましくは80%以上が例示できる。ただし、全光線透過率は、JIS K7105(プラスチックの光学的特性試験方法)に準拠した測定法によって測定される値をいう。
基板の大きさは特に限定されず、適宜設計することができる。
また、基板の平面視形状は、特に限定されず、発光パネル内の有機EL素子の配列に合わせて適宜変更することができる。
また、基板の平面視形状は、特に限定されず、発光パネル内の有機EL素子の配列に合わせて適宜変更することができる。
(接続基板の接続部)
接続部は、発光パネル内の複数の有機EL素子に外部電源からの電流を供給する部分である。接続部は、有機EL素子の陽極端子に電気的に接続する陽極接続部と、陰極端子に電気的に接続する陰極接続部と、を有する。
両接続部の一端部は、陽極端子及び陰極端子にそれぞれ接続され、且つ、その他端部は、外部電源の陽極及び陰極にそれぞれ接続される。もっとも、両接続部の他端部は、外部電源に直接接続されていてもよいが、ICチップ等の他部材を介して間接的に外部電源に接続されていてもよい。
接続部は、導電性を有する材料で形成されており、その形状は特に限定されない。例えば、接続部は、好ましくは基板上に線状に形成された配線からなり、より好ましくは、基板上に導電性材料の薄膜を付着させることで形成されるプリント配線からなる。
接続部の形成材料は、特に限定されず、白金、金、銀、銅、ニッケル、コバルト、チタン等の金属;ITO等の金属酸化物;黒鉛等の無機材料;などの導電性材料が挙げられる。電気抵抗が低いことから、接続部の形成材料は、銅が好ましい。
接続部は、発光パネル内の複数の有機EL素子に外部電源からの電流を供給する部分である。接続部は、有機EL素子の陽極端子に電気的に接続する陽極接続部と、陰極端子に電気的に接続する陰極接続部と、を有する。
両接続部の一端部は、陽極端子及び陰極端子にそれぞれ接続され、且つ、その他端部は、外部電源の陽極及び陰極にそれぞれ接続される。もっとも、両接続部の他端部は、外部電源に直接接続されていてもよいが、ICチップ等の他部材を介して間接的に外部電源に接続されていてもよい。
接続部は、導電性を有する材料で形成されており、その形状は特に限定されない。例えば、接続部は、好ましくは基板上に線状に形成された配線からなり、より好ましくは、基板上に導電性材料の薄膜を付着させることで形成されるプリント配線からなる。
接続部の形成材料は、特に限定されず、白金、金、銀、銅、ニッケル、コバルト、チタン等の金属;ITO等の金属酸化物;黒鉛等の無機材料;などの導電性材料が挙げられる。電気抵抗が低いことから、接続部の形成材料は、銅が好ましい。
(接続基板のコネクタ部)
コネクタ部は、発光パネル内で隣接する一方の有機EL素子の陽極端子と他方の有機EL素子の陰極端子を跨ぐように電気的に接続する部分である。
コネクタ部の平面視形状は、特に限定されないが、好ましくは、平面視細長状である。平面視細長状であれば、接続基板と複数の有機EL素子(発光パネル)を接続する際に、多少位置ズレが生じても、隣り合う陽極端子と陰極端子を接続することができる。
コネクタ部は、導電性を有する材料で形成されている。コネクタ部は、例えば、上述のプリント配線などの配線から形成されていてもよく、基板上に固着された導電性材料の塊体から形成されていてもよい。コネクタ部の形成材料としては、前記接続部の形成材料が例示できる。
コネクタ部は、発光パネル内で隣接する一方の有機EL素子の陽極端子と他方の有機EL素子の陰極端子を跨ぐように電気的に接続する部分である。
コネクタ部の平面視形状は、特に限定されないが、好ましくは、平面視細長状である。平面視細長状であれば、接続基板と複数の有機EL素子(発光パネル)を接続する際に、多少位置ズレが生じても、隣り合う陽極端子と陰極端子を接続することができる。
コネクタ部は、導電性を有する材料で形成されている。コネクタ部は、例えば、上述のプリント配線などの配線から形成されていてもよく、基板上に固着された導電性材料の塊体から形成されていてもよい。コネクタ部の形成材料としては、前記接続部の形成材料が例示できる。
本発明では、可撓性を有する基板上に、接続部及びコネクタ部がプリント配線された接続基板が特に好ましく用いられる。可撓性の基板上にプリント配線された接続基板は、一般的に、フレキシブルプリント基板(FPC)と呼ばれる。FPCは可撓性を有する。
FPCを用いれば、容易に配線パターンを変更できるので、コネクタ部及び接続部の配置を容易に設定できる。そのため、発光パネル内の有機EL素子の配置に適合した接続基板を、容易且つ安価に形成できる。
FPCを用いれば、容易に配線パターンを変更できるので、コネクタ部及び接続部の配置を容易に設定できる。そのため、発光パネル内の有機EL素子の配置に適合した接続基板を、容易且つ安価に形成できる。
(有機EL素子)
本発明で用いられる有機EL素子は、素子基板と、素子基板の上に設けられた有機EL層を有する。
有機EL層は、素子基板の上に設けられた第1電極層と、第1電極層の上に設けられた有機層と、有機層の上に設けられた第2電極層と、を有する。
本発明において、有機EL素子の層構成は、上記の条件を満たす限り特に限定されず、任意の層を付加することができる。また、有機EL素子は、素子基板の表側(有機EL層が積層されている側)から光を取り出すことができるトップエミッション型の素子であってもよいし、素子基板の裏側から光を取り出すことのできるボトムエミッション型の素子であってもよい。
本発明で用いられる有機EL素子は、素子基板と、素子基板の上に設けられた有機EL層を有する。
有機EL層は、素子基板の上に設けられた第1電極層と、第1電極層の上に設けられた有機層と、有機層の上に設けられた第2電極層と、を有する。
本発明において、有機EL素子の層構成は、上記の条件を満たす限り特に限定されず、任意の層を付加することができる。また、有機EL素子は、素子基板の表側(有機EL層が積層されている側)から光を取り出すことができるトップエミッション型の素子であってもよいし、素子基板の裏側から光を取り出すことのできるボトムエミッション型の素子であってもよい。
また、本発明で用いられる有機EL素子は、第1及び第2電極層に通電可能な電極端子(陽極端子及び陰極端子)が表面に露出している。
第1電極層が陽極層である場合、第1電極層に通電可能な電極端子が陽極端子であり、第2電極層が陰極層である場合、第2電極層に通電可能な電極端子が陰極端子である。
第1電極層が陽極層である場合、第1電極層に通電可能な電極端子が陽極端子であり、第2電極層が陰極層である場合、第2電極層に通電可能な電極端子が陰極端子である。
有機EL素子の平面視形状は特に限定されないが、一般的には平面視略矩形状の有機EL素子が用いられ、好ましくは、平面視略帯状の有機EL素子が用いられる。
平面視略帯状の有機EL素子を用いれば、その幅方向に複数の有機EL素子を並列配置するだけで大型の有機EL発光装置を得ることができる。
平面視略帯状の有機EL素子の寸法は特に限定されないが、一般的には、有機EL素子の幅:長さが、1:3〜1:20であり、好ましくは、1:4〜1:10である。
平面視略帯状の有機EL素子を用いれば、その幅方向に複数の有機EL素子を並列配置するだけで大型の有機EL発光装置を得ることができる。
平面視略帯状の有機EL素子の寸法は特に限定されないが、一般的には、有機EL素子の幅:長さが、1:3〜1:20であり、好ましくは、1:4〜1:10である。
図5及び図6に、有機EL素子の一例を示す。
本発明で用いられる有機EL素子2は、好ましくは、その幅方向両端部に電極端子(陽極端子211及び陰極端子221)が設けられている。図5では、幅方向左端部が陽極端子211であり、幅方向右端部が陰極端子221である。この場合、図6に示すように、素子基板23の上に設けられた第1電極層21は陽極層であり、有機層の上に設けられた第2電極層22は陰極層である。もっとも、陽極と陰極は、反対であってもよい。
本発明で用いられる有機EL素子2は、好ましくは、その幅方向両端部に電極端子(陽極端子211及び陰極端子221)が設けられている。図5では、幅方向左端部が陽極端子211であり、幅方向右端部が陰極端子221である。この場合、図6に示すように、素子基板23の上に設けられた第1電極層21は陽極層であり、有機層の上に設けられた第2電極層22は陰極層である。もっとも、陽極と陰極は、反対であってもよい。
なお、図6において、陰極層22の表面には、陰極層22を含む有機層24を保護する保護層25が積層されている。もっとも保護層25は、必要に応じて省略することができる。以下、有機EL素子の各層の構成について詳述する。
(有機EL素子の素子基板)
素子基板は、特に限定されないが、例えば、ガラス板、セラミック板、合成樹脂製フィルム、金属製薄板などが挙げられる。素子基板は、透明及び不透明の何れでよいが、ボトムエミッション型の有機EL素子を形成する場合には、透明な素子基板が用いられる。
また、駆動時に有機EL素子の温度上昇を防止するため、素子基板は、放熱性に優れていることが好ましく、また、有機EL層に酸素や水蒸気が浸入することを防止するため、ガス及び水蒸気バリア性を有することが好ましい。
このような耐熱性、放熱性及びバリア性を考慮すると、素子基板としては、金属製薄板を用いることが好ましい。なお、金属製薄板を用いる場合には、その表面に形成される第1電極層(陽極層)との短絡を防止するため、金属製薄板の表面に絶縁層が設けられる。
素子基板は、特に限定されないが、例えば、ガラス板、セラミック板、合成樹脂製フィルム、金属製薄板などが挙げられる。素子基板は、透明及び不透明の何れでよいが、ボトムエミッション型の有機EL素子を形成する場合には、透明な素子基板が用いられる。
また、駆動時に有機EL素子の温度上昇を防止するため、素子基板は、放熱性に優れていることが好ましく、また、有機EL層に酸素や水蒸気が浸入することを防止するため、ガス及び水蒸気バリア性を有することが好ましい。
このような耐熱性、放熱性及びバリア性を考慮すると、素子基板としては、金属製薄板を用いることが好ましい。なお、金属製薄板を用いる場合には、その表面に形成される第1電極層(陽極層)との短絡を防止するため、金属製薄板の表面に絶縁層が設けられる。
(有機EL素子の陽極層)
上記陽極層は、導電性を有する膜からなる。陽極層は、素子基板の一面に直接設けられていてもよく、或いは、絶縁層を介して素子基板に設けられていてもよい。
陽極層の形成材料は、特に限定されない。陽極層の形成材料としては、インジウム錫酸化物(ITO);酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(ITSO);アルミニウム;金;白金;ニッケル;タングステン;銅;合金;などが挙げられる。陽極層の厚みは特に限定されないが、通常、0.01μm〜1.0μmである。
陽極層の形成方法は、その形成材料に応じて最適な方法を採用できるが、スパッタ法、蒸着法、インクジェット法などが挙げられる。例えば、金属によって陽極を形成する場合には、蒸着法が用いられる。
上記陽極層は、導電性を有する膜からなる。陽極層は、素子基板の一面に直接設けられていてもよく、或いは、絶縁層を介して素子基板に設けられていてもよい。
陽極層の形成材料は、特に限定されない。陽極層の形成材料としては、インジウム錫酸化物(ITO);酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(ITSO);アルミニウム;金;白金;ニッケル;タングステン;銅;合金;などが挙げられる。陽極層の厚みは特に限定されないが、通常、0.01μm〜1.0μmである。
陽極層の形成方法は、その形成材料に応じて最適な方法を採用できるが、スパッタ法、蒸着法、インクジェット法などが挙げられる。例えば、金属によって陽極を形成する場合には、蒸着法が用いられる。
図6の陽極層21は、その一端部(図面上では左端部)が露出することで陽極端子211を形成している。また、露出した陽極層21の表面又は裏面に補助電極層が積層されていてもよい(図示せず)。補助電極層を介することで、有機EL層全体に均一に電圧をかけることができる。
(有機EL素子の有機層)
有機層は、少なくとも2つの機能層からなる積層体である。有機層の構造としては、例えば、(A)正孔輸送層、発光層、及び電子輸送層の、3つの層からなる構造、(B)正孔輸送層及び発光層の、2つの層からなる構造、(C)発光層及び電子輸送層、の2つの層からなる構造、などが挙げられる。
前記(B)の有機層は、発光層が電子輸送層を兼用している。前記(C)の有機層は、発光層が正孔輸送層を兼用している。
本発明に用いられる有機EL素子の有機層は、上記(A)〜(C)の何れの構造であってもよい。図6の有機EL素子は、(A)の構造を有する。
有機層は、少なくとも2つの機能層からなる積層体である。有機層の構造としては、例えば、(A)正孔輸送層、発光層、及び電子輸送層の、3つの層からなる構造、(B)正孔輸送層及び発光層の、2つの層からなる構造、(C)発光層及び電子輸送層、の2つの層からなる構造、などが挙げられる。
前記(B)の有機層は、発光層が電子輸送層を兼用している。前記(C)の有機層は、発光層が正孔輸送層を兼用している。
本発明に用いられる有機EL素子の有機層は、上記(A)〜(C)の何れの構造であってもよい。図6の有機EL素子は、(A)の構造を有する。
図6において、有機層24に含まれる正孔輸送層241は、発光層242に正孔を注入する機能を有し、電子輸送層242は、発光層242に電子を注入する機能を有する。
有機EL素子2においては、陽極層21及び陰極層22から発光層242に注入された電子及び正孔が再結合することにより、励起子(エキシトン)を生じる。この励起子が基底状態に戻るときに発光層242が発光する。
有機EL素子2においては、陽極層21及び陰極層22から発光層242に注入された電子及び正孔が再結合することにより、励起子(エキシトン)を生じる。この励起子が基底状態に戻るときに発光層242が発光する。
正孔輸送層241は、陽極層21の表面に設けられる。もっとも、有機EL素子2の発光効率を低下させないことを条件として、陽極層21と正孔輸送層241の間にこれら以外の任意の機能層が介在されていてもよい。
例えば、正孔注入層が、陽極層21の表面に設けられ、その正孔注入層の表面に正孔輸送層241が設けられていてもよい。正孔注入層は、陽極層21から正孔輸送層241へ正孔の注入を補助する機能を有する層である。
正孔注入層を設けることにより、正孔輸送層241から正孔が発光層242へ注入され易くなる。
なお、正孔輸送層241の形成材料として、正孔輸送機能及び正孔注入機能を併有するものを用いることにより、正孔注入層を設けなくても、実質的に正孔注入層の機能も有する正孔輸送層241を形成することもできる。
例えば、正孔注入層が、陽極層21の表面に設けられ、その正孔注入層の表面に正孔輸送層241が設けられていてもよい。正孔注入層は、陽極層21から正孔輸送層241へ正孔の注入を補助する機能を有する層である。
正孔注入層を設けることにより、正孔輸送層241から正孔が発光層242へ注入され易くなる。
なお、正孔輸送層241の形成材料として、正孔輸送機能及び正孔注入機能を併有するものを用いることにより、正孔注入層を設けなくても、実質的に正孔注入層の機能も有する正孔輸送層241を形成することもできる。
正孔輸送層の形成材料は、正孔輸送機能を有する材料であれば特に限定されない。正孔輸送層の形成材料としては、4,4’,4”−トリス(カルバゾール−9−イル)−トリフェニルアミン(略称:TcTa)などの芳香族アミン化合物;1,3−ビス(N−カルバゾリル)ベンゼンなどのカルバゾール誘導体;N,N’−ビス(ナフタレン−1−イル)−N,N’−ビス(フェニル)−9,9’−スピロビスフルオレン(略称:Spiro−NPB)などのスピロ化合物;高分子化合物;などが挙げられる。正孔輸送層の形成材料は、1種単独で又は2種以上を併用してもよい。また、正孔輸送層は、2層以上の多層構造であってもよい。
正孔注入層の形成材料は、特に限定されず、例えば、バナジウム酸化物、ニオブ酸化物やタンタル酸化物などの金属酸化物;フタロシアニンなどのフタロシアニン化合物;ヘキサアザトリフェニレンヘキサカルボニトリル(略称:HAT−CN)などの多環式複素芳香族化合物;3,4−エチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルホン酸の混合物(略称:PEDOT/PSS)などの高分子化合物;などが挙げられる。正孔注入層の形成材料は、1種単独で又は2種以上を併用してもよい。また、正孔注入層は、2層以上の多層構造であってもよい。
正孔輸送層及び正孔注入層の厚みは、特に限定されないが、駆動電圧を下げるという観点から、それぞれ1nm〜500nmが好ましい。
また、正孔輸送層及び正孔注入層の形成方法は、その形成材料に応じて最適な方法を採用できるが、例えば、スパッタ法、蒸着法、インクジェット法、コート法などが挙げられる。
正孔輸送層及び正孔注入層の厚みは、特に限定されないが、駆動電圧を下げるという観点から、それぞれ1nm〜500nmが好ましい。
また、正孔輸送層及び正孔注入層の形成方法は、その形成材料に応じて最適な方法を採用できるが、例えば、スパッタ法、蒸着法、インクジェット法、コート法などが挙げられる。
発光層242は、正孔輸送層241の表面に設けられる。
発光層の形成材料は、発光性を有する材料であれば特に限定されない。発光層の形成材料としては、例えば、低分子蛍光発光材料、低分子燐光発光材料などの低分子発光材料を用いることができる。
発光層の形成材料は、発光性を有する材料であれば特に限定されない。発光層の形成材料としては、例えば、低分子蛍光発光材料、低分子燐光発光材料などの低分子発光材料を用いることができる。
低分子発光材料としては、例えば、4,4’−ビス(2,2’−ジフェニルビニル)−ビフェニル(略称:DPVBi)などの芳香族ジメチリデン化合物;5−メチル−2−[2−[4−(5−メチル−2−ベンゾオキサゾリル)フェニル]ビニル]ベンゾオキサゾールなどのオキサジアゾール化合物;3−(4−ビフェニルイル)−4−フェニル−5−t−ブチルフェニル−1,2,4−トリアゾールなどのトリアゾール誘導体;1,4−ビス(2−メチルスチリル)ベンゼンなどのスチリルベンゼン化合物;ベンゾキノン誘導体;ナフトキノン誘導体;アントラキノン誘導体;フルオレノン誘導体;アゾメチン亜鉛錯体、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(Alq3)などの有機金属錯体;などが挙げられる。
また、発光層の形成材料として、ホスト材料中に発光性のドーパント材料をドープしたものを用いてもよい。
前記ホスト材料としては、例えば、上述の低分子発光材料を用いることができ、これ以外に、1,3,5−トリス(カルバゾ−9−イル)ベンゼン(略称:TCP)、1,3−ビス(N−カルバゾリル)ベンゼン(略称:mCP)、2,6−ビス(N−カルバゾリル)ピリジン、9,9−ジ(4−ジカルバゾール−ベンジル)フルオレン(略称:CPF)、4,4’−ビス(カルバゾール−9−イル)−9,9−ジメチル−フルオレン(略称:DMFL−CBP)などのカルバゾール誘導体などを用いることができる。
前記ホスト材料としては、例えば、上述の低分子発光材料を用いることができ、これ以外に、1,3,5−トリス(カルバゾ−9−イル)ベンゼン(略称:TCP)、1,3−ビス(N−カルバゾリル)ベンゼン(略称:mCP)、2,6−ビス(N−カルバゾリル)ピリジン、9,9−ジ(4−ジカルバゾール−ベンジル)フルオレン(略称:CPF)、4,4’−ビス(カルバゾール−9−イル)−9,9−ジメチル−フルオレン(略称:DMFL−CBP)などのカルバゾール誘導体などを用いることができる。
前記ドーパント材料としては、例えば、スチリル誘導体;ペリレン誘導体;トリス(2−フェニルピリジル)イリジウム(III)(Ir(ppy)3)、トリス(1−フェニルイソキノリン)イリジウム(III)(Ir(piq)3)、ビス(1−フェニルイソキノリン)(アセチルアセトナト)イリジウム(III)(略称:Ir(piq)2(acac))などの有機イリジウム錯体などの燐光発光性金属錯体;などを用いることができる。
さらに、発光層の形成材料には、上述の正孔輸送層の形成材料、後述の電子輸送層の形成材料、各種添加剤などが含まれていてもよい。
発光層の厚みは、特に限定されないが、例えば、2nm〜500nmが好ましい。
また、発光層の形成方法は、その形成材料に応じて最適な方法を採用できるが、通常、蒸着法によって形成される。
さらに、発光層の形成材料には、上述の正孔輸送層の形成材料、後述の電子輸送層の形成材料、各種添加剤などが含まれていてもよい。
発光層の厚みは、特に限定されないが、例えば、2nm〜500nmが好ましい。
また、発光層の形成方法は、その形成材料に応じて最適な方法を採用できるが、通常、蒸着法によって形成される。
電子輸送層243は、発光層242の表面(陰極層22の裏面)に設けられる。もっとも、有機EL素子の発光効率を低下させないことを条件として、陰極層22と電子輸送層243の間にこれら以外の任意の機能層が介在されていてもよい。
例えば、電子注入層が、電子輸送層243の表面に設けられ、電子注入層の表面に、陰極層22が設けられていてもよい。電子注入層は、前記陰極層22から電子輸送層243へ電子の注入を補助する機能を有する層である。
例えば、電子注入層が、電子輸送層243の表面に設けられ、電子注入層の表面に、陰極層22が設けられていてもよい。電子注入層は、前記陰極層22から電子輸送層243へ電子の注入を補助する機能を有する層である。
電子注入層を設けることにより、電子輸送層から電子が発光層へ注入され易くなる。
なお、電子輸送層の形成材料として、電子輸送機能及び電子注入機能を併有するものを用いることにより、電子注入層を設けなくとも、実質的に電子注入層の機能を有する正孔輸送層を形成することもできる。
なお、電子輸送層の形成材料として、電子輸送機能及び電子注入機能を併有するものを用いることにより、電子注入層を設けなくとも、実質的に電子注入層の機能を有する正孔輸送層を形成することもできる。
電子輸送層の形成材料は、電子輸送機能を有する材料であれば特に限定されない。電子輸送層の形成材料としては、例えば、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Alq3)、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(4−フェニルフェノラト)アルミニウム(略称:BAlq)などの金属錯体;2,7−ビス[2−(2,2’−ビピリジン−6−イル)−1,3,4−オキサジアゾ−5−イル]−9,9−ジメチルフルオレン(略称:Bpy−FOXD)、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(略称:PBD)、1,3−ビス[5−(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル]ベンゼン(略称:OXD−7)、2,2’,2’'−(1,3,5−フェニレン)−トリス(1−フェニル−1H−ベンズイミダゾール)(略称:TPBi)などの複素芳香族化合物;ポリ(2,5−ピリジン−ジイル)(略称:PPy)などの高分子化合物;などが挙げられる。電子輸送層の形成材料は、1種単独で又は2種以上を併用してもよい。また、電子輸送層は、2層以上の多層構造であってもよい。
電子注入層の形成材料は、特に限定されず、例えば、フッ化リチウム(LiF)、フッ化セシウム(CsF)などのアルカリ金属化合物;フッ化カルシウム(CaF2)などのアルカリ土類金属化合物;上記電子輸送層の形成材料;などが挙げられる。電子注入層の形成材料は、1種単独で又は2種以上を併用してもよい。また、電子注入層は、2層以上の多層構造であってもよい。
電子輸送層及び電子注入層の厚みは、特に限定されないが、駆動電圧を下げるという観点から、それぞれ1nm〜500nmが好ましい。
また、電子輸送層及び電子注入層の形成方法は、その形成材料に応じて最適な方法を採用できるが、例えば、スパッタ法、蒸着法、インクジェット法、コート法などが挙げられる。
電子輸送層及び電子注入層の厚みは、特に限定されないが、駆動電圧を下げるという観点から、それぞれ1nm〜500nmが好ましい。
また、電子輸送層及び電子注入層の形成方法は、その形成材料に応じて最適な方法を採用できるが、例えば、スパッタ法、蒸着法、インクジェット法、コート法などが挙げられる。
(有機EL素子の陰極層)
上記陰極層は、導電性を有する膜からなる。陰極層22は、図6に示すように、有機層24の上に設けられる。
もっとも、有機EL素子の発光効率を低下させないことを条件として、陰極層22と電子輸送層243の間にこれら以外の任意の機能層が介在されていてもよい。
陰極層の形成材料は、特に限定されない。トップエミッション型の有機EL素子を形成する場合には、透明な陰極層が用いられる。透明及び導電性を有する陰極層の形成材料としては、インジウム錫酸化物(ITO);酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(ITSO);アルミニウムなどの導電性金属を添加した酸化亜鉛(ZnO:Al);マグネシウム−銀合金などが挙げられる。陰極層の厚みは特に限定されないが、通常、0.01μm〜1.0μmである。
陰極層の形成方法は、その形成材料に応じて最適な方法を採用できるが、例えば、スパッタ法、蒸着法、インクジェット法などが挙げられる。例えば、ITOによって陰極層を形成する場合には、スパッタ法が用いられ、マグネシウム−銀合金又はマグネシウム−銀積層膜によって陰極層を形成する場合には、蒸着法が用いられる。
上記陰極層は、導電性を有する膜からなる。陰極層22は、図6に示すように、有機層24の上に設けられる。
もっとも、有機EL素子の発光効率を低下させないことを条件として、陰極層22と電子輸送層243の間にこれら以外の任意の機能層が介在されていてもよい。
陰極層の形成材料は、特に限定されない。トップエミッション型の有機EL素子を形成する場合には、透明な陰極層が用いられる。透明及び導電性を有する陰極層の形成材料としては、インジウム錫酸化物(ITO);酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(ITSO);アルミニウムなどの導電性金属を添加した酸化亜鉛(ZnO:Al);マグネシウム−銀合金などが挙げられる。陰極層の厚みは特に限定されないが、通常、0.01μm〜1.0μmである。
陰極層の形成方法は、その形成材料に応じて最適な方法を採用できるが、例えば、スパッタ法、蒸着法、インクジェット法などが挙げられる。例えば、ITOによって陰極層を形成する場合には、スパッタ法が用いられ、マグネシウム−銀合金又はマグネシウム−銀積層膜によって陰極層を形成する場合には、蒸着法が用いられる。
図6では、陰極層22の一端部(図面上では右端部)が露出することで陰極端子221を形成している。また、上述した陽極層21と同様に、露出した陰極層22の表面又は裏面に補助電極層を積層することもできる(図示せず)。
(有機EL素子の保護層)
保護層は、有機EL層に、酸素や水蒸気などが浸入することを防止するための層である。保護層は、陰極層22の上に設けられる。
また、必要に応じて、素子基板上に形成された有機EL層を囲うように、凹状の有機EL素子封止ケース又は封止樹脂が設けられていてもよい(図示せず)。前記封止ケースの内側には、通常、不活性ガスが封入される。その結果、有機EL素子にガス及び水蒸気バリア性を付与できる。
保護層は、有機EL層に、酸素や水蒸気などが浸入することを防止するための層である。保護層は、陰極層22の上に設けられる。
また、必要に応じて、素子基板上に形成された有機EL層を囲うように、凹状の有機EL素子封止ケース又は封止樹脂が設けられていてもよい(図示せず)。前記封止ケースの内側には、通常、不活性ガスが封入される。その結果、有機EL素子にガス及び水蒸気バリア性を付与できる。
保護層の形成材料は、特に限定されないが、例えば、SiOx(SiOやSiO2)、SiOxCyNz、MgO、Al2O3、GeO、NiO、CaO、BaO、Fe2O3、Y2O3、TiO2などの無機酸化物;SiNx、SiNxOyなどの無機窒化物;MgF2、LiF、AlF3、CaF2などの無機フッ化物;などが挙げられる。
保護層の厚みは、特に限定されないが、通常、数nm〜数十nmが好ましい。
また、保護層の形成方法は、その形成材料に応じて最適な方法を採用できるが、例えば、スパッタ法、化学気相法(CVD法)などが挙げられる。
保護層の厚みは、特に限定されないが、通常、数nm〜数十nmが好ましい。
また、保護層の形成方法は、その形成材料に応じて最適な方法を採用できるが、例えば、スパッタ法、化学気相法(CVD法)などが挙げられる。
[有機EL発光装置の製造方法]
本発明の有機EL発光装置の製造方法は、少なくとも以下の工程を含む。
(A)上記有機EL素子をタイル状に並列配置することで、発光パネルを形成する工程。
(B)上記接続基板を準備する工程。
(C)前記発光パネル内の複数の有機EL素子と前記接続基板の導電部を接続し、複数の有機EL素子を一体化する工程。
なお、工程A及工程Bは、必ずしもこの順番に行われる必要はなく、発光パネルを形成する前に接続基板を準備してもよく、両工程を同時並行的に行ってもよい。
本発明の有機EL発光装置の製造方法は、少なくとも以下の工程を含む。
(A)上記有機EL素子をタイル状に並列配置することで、発光パネルを形成する工程。
(B)上記接続基板を準備する工程。
(C)前記発光パネル内の複数の有機EL素子と前記接続基板の導電部を接続し、複数の有機EL素子を一体化する工程。
なお、工程A及工程Bは、必ずしもこの順番に行われる必要はなく、発光パネルを形成する前に接続基板を準備してもよく、両工程を同時並行的に行ってもよい。
(工程A)
工程Aでは、上述した複数の有機EL素子をタイル状に並列配置することで発光パネルを形成する。ここで、「複数の有機EL素子をタイル状に並列配置する」とは、各有機EL素子同士が重なり合わないように並べられることを意味する。各有機EL素子は、好ましくは、所要間隔を開けて並べられる。
各有機EL素子を所要間隔を開けて並べる場合、その間隔は全て一定であってもよいし、それぞれ異なっていてもよい。もっとも、各有機EL素子を、一定間隔を開けて並べることが好ましい。
各有機EL素子の間隔は、特に限定されないが、通常、0.1mm〜0.5mmであり、好ましくは、0.1mm〜0.3mmである。
工程Aでは、上述した複数の有機EL素子をタイル状に並列配置することで発光パネルを形成する。ここで、「複数の有機EL素子をタイル状に並列配置する」とは、各有機EL素子同士が重なり合わないように並べられることを意味する。各有機EL素子は、好ましくは、所要間隔を開けて並べられる。
各有機EL素子を所要間隔を開けて並べる場合、その間隔は全て一定であってもよいし、それぞれ異なっていてもよい。もっとも、各有機EL素子を、一定間隔を開けて並べることが好ましい。
各有機EL素子の間隔は、特に限定されないが、通常、0.1mm〜0.5mmであり、好ましくは、0.1mm〜0.3mmである。
(工程B)
工程Bでは、上述した接続基板を準備する。接続基板の構成、形成材料及び製法は、上記を参照されたい。
工程Bでは、上述した接続基板を準備する。接続基板の構成、形成材料及び製法は、上記を参照されたい。
(工程C)
工程Cでは、複数の有機EL素子が有する電極端子(陽極端子及び陰極端子)と、接続基板が有する導電部を接続する。
これら電極端子と導電部を接続する方法は特に限定されない。電極端子と導電部は、好ましくは異方性導電フィルム(ACF)を用いて接続される。
ACFは、導電性を持つ微細な金属粒子が熱硬化性樹脂に混ぜ合わさったフィルムである。以下、ACFを用いて接続を行う方法について説明する。
工程Cでは、複数の有機EL素子が有する電極端子(陽極端子及び陰極端子)と、接続基板が有する導電部を接続する。
これら電極端子と導電部を接続する方法は特に限定されない。電極端子と導電部は、好ましくは異方性導電フィルム(ACF)を用いて接続される。
ACFは、導電性を持つ微細な金属粒子が熱硬化性樹脂に混ぜ合わさったフィルムである。以下、ACFを用いて接続を行う方法について説明する。
ACFを用いる場合、有機EL素子と接続基板の導電部は、以下の工程によって接続される。
(a)有機EL素子の電極端子、及び/又は、接続基板の導電部にACFを積層する工程。
(b)加熱ヘッドにより、電極端子と導電部を加熱及び加圧し、両者を接着する工程。
(a)有機EL素子の電極端子、及び/又は、接続基板の導電部にACFを積層する工程。
(b)加熱ヘッドにより、電極端子と導電部を加熱及び加圧し、両者を接着する工程。
工程aでは、ACFを、電極端子に積層することが好ましい。接続基板の導電部は基板上で複雑に配置されているため、導電部にACFを積層するのは煩雑であり、時間的なロスが大きいためである。
積層されるACFの厚みは、特に限定されないが、一般的には10μm〜50μmである。
積層されるACFの厚みは、特に限定されないが、一般的には10μm〜50μmである。
工程bでは、加熱ヘッドにより、電極端子と導電部を加熱及び加圧する。その結果、ACFに含まれる熱硬化性樹脂が溶融し、電極端子と導電部が機械的に接続される。さらに、ACFに含まれる金属粒子が、加熱及び加圧されたACFの一部分のみに導通性を付与する。即ち、ACFのうち、加熱及び加圧された部分は、導電性の接着層になる一方で、ACFのうち、加熱及び加圧されなかった部分は、絶縁層となる。
従って、ACFを用いることで、短絡が生じることなく効率的に複数の有機EL素子の電極端子と接続基板の導電部を接続することができる。
従って、ACFを用いることで、短絡が生じることなく効率的に複数の有機EL素子の電極端子と接続基板の導電部を接続することができる。
なお、ACFを用いる場合、工程a及びbの間に、電極端子と導電部の位置合わせ行い、両者を仮接着する工程(工程c)が含まれていてもよい。
このように位置合わせ及び仮接着を行うことで、より確実に複数の有機EL素子と接続基板を接続することができる。
このように位置合わせ及び仮接着を行うことで、より確実に複数の有機EL素子と接続基板を接続することができる。
本発明の有機EL発光装置の製造方法によれば、予め発光パネルに含まれる有機EL素子の電極端子の位置に合わせた接続基板を準備することにより、容易に接続基板と複数の有機EL素子を電気的に接続することができる。また、接続基板を介して、複数の有機EL素子を一体化することができる。従って、有機EL発光装置を効率的に製造することができる。
本発明の有機EL発光装置は、ディスプレイ装置や照明装置などとして利用できる。
1…有機EL発光装置、2…有機EL素子、21…第1電極層(陽極層)、211…陽極端子、22…第2電極層(陰極層)、221…陰極端子、23…素子基板、24…有機層、25…保護層、3…発光パネル、4…接続基板、41…基板、42…導電部、421…陰極接続部、422…陽極接続部、423…コネクタ部、5…外部電源、6…母材
Claims (7)
- 陽極端子と陰極端子を有する複数の有機エレクトロルミネッセンス素子をタイル状に並列配置することで、発光パネルを形成する工程と、
前記発光パネル内の複数の有機エレクトロルミネッセンス素子と外部電源を電気的に接続する、導電部が基板上に設けられた接続基板を準備する工程と、
前記発光パネル内の複数の有機エレクトロルミネッセンス素子と前記接続基板の導電部を接続することにより前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を一体化する工程と、を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス発光装置の製造方法。 - 前記導電部が、陽極接続部と、陰極接続部と、両接続部の間に断続的に設けられたコネクタ部と、を有し、
前記陽極接続部を前記発光パネルの一端に配置された有機エレクトロルミネッセンス素子の陽極端子に接続し、前記陰極接続部を前記発光パネルの他端に配置された有機エレクトロルミネッセンス素子の陰極端子に接続し、
前記コネクタ部を、前記発光パネル内で隣接する一方の有機エレクトロルミネッセンス素子の陽極端子と他方の有機エレクトロルミネッセンス素子の陰極端子とを跨ぐように接続することにより前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を一体化する請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス発光装置の製造方法。 - 前記導電部が、陽極接続部と、陰極接続部と、を有し、
前記陽極接続部を前記発光パネル内にある全ての有機エレクトロルミネッセンス素子の陽極端子に接続し、且つ、前記陰極接続部を前記発光パネル内にある全ての有機エレクトロルミネッセンス素子の陰極端子に接続することにより前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を一体化する請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス発光装置の製造方法。 - 前記接続基板及び前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子が、可撓性を有する、請求項1〜3の何れかに記載の有機エレクトロルミネッセンス発光装置の製造方法。
- 前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子と前記接続基板の導電部を、異方性導電フィルムを用いて接続する、請求項1〜4の何れかに記載の有機エレクトロルミネッセンス発光装置の製造方法。
- タイル状に並列配置された、陽極端子と陰極端子を有する複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を有する発光パネルと、
前記発光パネル内の複数の有機エレクトロルミネッセンス素子と外部電源を電気的に接続する、導電部が基板上に設けられた接続基板と、を有し、
前記発光パネル内の複数の有機エレクトロルミネッセンス素子と前記接続基板の導電部が接続されることにより、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子が一体化されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス発光装置。 - 前記導電部が、陽極接続部と、陰極接続部と、両接続部の間に断続的に設けられたコネクタ部と、を有し、
前記陽極接続部が前記発光パネルの一端に配置された有機エレクトロルミネッセンス素子の陽極端子に接続され、前記陰極接続部が前記発光パネルの他端に配置された有機エレクトロルミネッセンス素子の陰極端子に接続され、
前記コネクタ部が、前記発光パネル内で隣接する一方の有機エレクトロルミネッセンス素子の陽極端子と他方の有機エレクトロルミネッセンス素子の陰極端子とを跨ぐように接続されている請求項6に記載の有機エレクトロルミネッセンス発光装置。
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JP2017079185A (ja) * | 2015-10-22 | 2017-04-27 | コニカミノルタ株式会社 | 面発光装置及び面発光装置の製造方法 |
JP2020184463A (ja) * | 2019-05-08 | 2020-11-12 | 住友化学株式会社 | 有機el発光装置 |
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