JP2014091690A - ２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１ｈ‐インドール−２‐イル）フェノール誘導体及びその製造法 - Google Patents
２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１ｈ‐インドール−２‐イル）フェノール誘導体及びその製造法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014091690A JP2014091690A JP2012242354A JP2012242354A JP2014091690A JP 2014091690 A JP2014091690 A JP 2014091690A JP 2012242354 A JP2012242354 A JP 2012242354A JP 2012242354 A JP2012242354 A JP 2012242354A JP 2014091690 A JP2014091690 A JP 2014091690A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- indol
- nmr
- mhz
- trifluoromethylsulfonyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Indole Compounds (AREA)
Abstract
【課題】２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノール誘導体及びその製造法
【解決手段】発明者らは反応基質として新規化合物群である２‐（１Ｈ‐インドール‐２‐イル）フェニルトリフルオロメタンスルホネートを用い，塩基存在下，［１，５］チアフリース転位を行うことで，高収率で新規化合物群である２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノールを得ることに成功した。
【選択図】なし
【解決手段】発明者らは反応基質として新規化合物群である２‐（１Ｈ‐インドール‐２‐イル）フェニルトリフルオロメタンスルホネートを用い，塩基存在下，［１，５］チアフリース転位を行うことで，高収率で新規化合物群である２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノールを得ることに成功した。
【選択図】なし
Description
本発明は，２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノール誘導体及びその製造法に関するものである。
トリフルオロメチルスルホニル(トリフリル)基を有する芳香族化合物，すなわち芳香族トリフロンは医薬品や農薬合成において，頻繁に用いられている母骨格の一つとして挙げられ，またキラル触媒や機能性材料の分野においても利用されている。また一方でインドールは天然物や様々な生理活性物質に含まれる複素環化合物として知られており，医薬品や農薬の設計・合成の際の重要な基本骨格として用いられ，その誘導体合成は重要なトピックとして認識されている。
このような事実から，トリフリル基を有するインドール，すなわちインドールトリフロンが生理活性物質合成の魅力的なユニットとして期待されている。１位の窒素上に置換基を持つ３−トリフリルインドールの合成例は比較的多く報告されているが， ３−トリフリルインドールＮＨ誘導体及び，２位にアリール基を有する３−トリフリルインドールの報告例は少ない。このような背景下，医薬品や農薬合成を志向した，３−トリフリルインドールの合成法の開発が望まれていた。
Charmant, J. P. H.; Dyke, A. M.; Lloyd-Jones, G. C. Chem. Commun. 2003, 380.
Creary, X. J. Org. Chem. 1980, 45, 2727.
Chen, Q-y.; Duan, J-x. J. Chem. Soc., Chem. Commun. 1993, 918.
Hendrickson, J. B.; Bair, K. W. J. Org. Chem. 1977, 42, 3875.
Yanai, H.; Fujita, M.; Taguchi, T. Chem. Commun. 2011, 47, 7245.
本発明は上記点に鑑みて［１，５］チアフリース転位による，新規化合物群である２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノール誘導体及びその合成法の開発を目的とする。
上記目的を達成するため，発明者らは反応基質として新規化合物群である，２‐（１Ｈ‐インドール‐２‐イル）フェニルトリフルオロメタンスルホネートを用い，塩基存在下，［１，５］チアフリース転位を行うことで，高収率で新規化合物群である２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノールを得ることに成功した。すなわち請求項１に記載の発明は，下記一般式（１）で表される２‐（１Ｈ‐インドール‐２‐イル）フェニルトリフルオロメタンスルホネートにある。
（式中，R１，R2，R3，R4，R5，R6，R7及びR8は置換もしくは未置換のアルキル基，アルケニル基，アルキニル基，アリール基，アルコキシ基，アミノ基，オキソ基，スルホニル基，ハロゲン基を示す。）
請求項２に記載の発明は，下記一般式（２）で表される２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノールにある。
(式中，R１，R2，R3，R4，R5，R6，R7及びR8は式（１）記載の通りである。）
請求項３に記載の発明は，前記の一般式（２）で表される２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノールの合成法であって，溶媒中，塩基存在下，前記の一般式（１）で表される２‐（１Ｈ‐インドール‐２‐イル）フェニルトリフルオロメタンスルホネートを反応させることにより，［１，５］チアフリース転位が起こり，２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノールが得られることを特徴とする製造方法にある。
本明細書において，R１，R2，R3，R4，R5，R6，R7及びR8のアルキル基としては，例えば，炭素数１乃至２０程度のアルキル基を用いることができる。具体的には，メチル基，エチル基，プロピル基，ブチル基，ペンチル基，ヘキシル基，ヘプチル基，オクチル基，ノニル基，デシル基，ウンデシル基，ドデシル基，トリデシル基，テトラデシル基，ペンタデシル基，ヘキサデシル基，ヘプタデシル基，オクタデシル基，ノナデシル基，イコシル基，又はこれらの環状アルキル基，分鎖アルキル基などを用いることができる。アルキル基はフッ素原子，塩素原子，臭素原子，ヨウ素原子，シアノ基，トリフルオロメチルスルホニル基，アリール基，アシル基，アルコキシ基，アリールオキシ基，アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよく，２個以上の置換基を有する場合には，それらは同一でも異なっていてもよい。
R１，R2，R3，R4，R5，R6，R7及びR8のアルケニル基又はアルキニル基に含まれる不飽和結合の数は特に限定されないが，好ましくは１乃至２個程度である。該アルケニル基又はアルキニル基は，直鎖状又は分枝鎖状のいずれでもよい。アルケニル基はフッ素原子，塩素原子，臭素原子，ヨウ素原子，シアノ基，トリフルオロメチルスルホニル基，アリール基，アシル基，アルコキシ基，アリールオキシ基，アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよく，２個以上の置換基を有する場合には，それらは同一でも異なっていてもよい。アルキニル基はフッ素原子，塩素原子，臭素原子，ヨウ素原子，シアノ基，トリフルオロメチルスルホニル基，アリール基，アシル基，アルコキシ基，アリールオキシ基，アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよく，２個以上の置換基を有する場合には，それらは同一でも異なっていてもよい。
R１，R2，R3，R4，R5，R6，R7及びR8が示すアリール基としては，ヘテロアリール基も含有し，具体例としては，例えば炭素数2〜30のアリール基，具体的にはフェニル基，ナフチル基，アンスラニル基，ピレニル基，ビフェニル基，インデニル基，テトラヒドロナフチル基，ピリジル基，ピリミジニル基，ピラジニル基，ピリダニジル基，ピペラジニル基，ピラゾリル基，イミダゾリル基，キニリル基，ピロリル基，インドリル基，フリル基などが挙げることができる。アリール基はアルキル基，フッ素原子，塩素原子，臭素原子，ヨウ素原子，シアノ基，トリフルオロメチルスルホニル基，アリール基，アシル基，アルコキシ基，アリールオキシ基，アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよく，２個以上の置換基を有する場合には，それらは同一でも異なっていてもよい。
R１，R2，R3，R4，R5，R6，R7及びR8が示すスルホニル基としては，炭素数１乃至２０程度のアルキル基を有するスルホニル基が挙げられ，具体的には，メチル基，エチル基，プロピル基，ブチル基，ペンチル基，ヘキシル基，ヘプチル基，オクチル基，ノニル基，デシル基，ウンデシル基，ドデシル基，トリデシル基，テトラデシル基，ペンタデシル基，ヘキサデシル基，ヘプタデシル基，オクタデシル基，ノナデシル基，イコシル基，又はこれらの環状アルキル基，分鎖アルキル基などを用いることができる。アルキル基はフッ素原子，塩素原子，臭素原子，ヨウ素原子，シアノ基，トリフルオロメチルスルホニル基，アリール基，アシル基，アルコキシ基，アリールオキシ基，アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよく，２個以上の置換基を有する場合には，それらは同一でも異なっていてもよい。あるいはアリールスルホニル基も挙げられ，このアリール基としては，ヘテロアリール基も含有し，具体例としては，例えば炭素数2〜30のアリール基，具体的にはフェニル基，ナフチル基，アンスラニル基，ピレニル基，ビフェニル基，インデニル基，テトラヒドロナフチル基，ピリジル基，ピリミジニル基，ピラジニル基，ピリダニジル基，ピペラジニル基，ピラゾリル基，イミダゾリル基，キニリル基，ピロリル基，インドリル基，フリル基などが挙げることができる。アリール基はアルキル基，フッ素原子，塩素原子，臭素原子，ヨウ素原子，シアノ基，トリフルオロメチルスルホニル基，アリール基，アシル基，アルコキシ基，アリールオキシ基，アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよく，２個以上の置換基を有する場合には，それらは同一でも異なっていてもよい。
R１，R2，R3，R4，R5，R6，R7及びR8が示すオキソ基としては，ホルミル基や炭素数１乃至２０程度のアルキル基を有するアルキルオキソ基が挙げられ，具体的には，メチル基，エチル基，プロピル基，ブチル基，ペンチル基，ヘキシル基，ヘプチル基，オクチル基，ノニル基，デシル基，ウンデシル基，ドデシル基，トリデシル基，テトラデシル基，ペンタデシル基，ヘキサデシル基，ヘプタデシル基，オクタデシル基，ノナデシル基，イコシル基，又はこれらの環状アルキル基，分鎖アルキル基などを用いることができる。アルキル基はフッ素原子，塩素原子，臭素原子，ヨウ素原子，シアノ基，トリフルオロメチルスルホニル基，アリール基，アシル基，アルコキシ基，アリールオキシ基，アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよく，２個以上の置換基を有する場合には，それらは同一でも異なっていてもよい。またアリールオキソ基が挙げられ，アリール基としては，ヘテロアリール基も含有し，具体例としては，例えば炭素数2〜30のアリール基，具体的にはフェニル基，ナフチル基，アンスラニル基，ピレニル基，ビフェニル基，インデニル基，テトラヒドロナフチル基，ピリジル基，ピリミジニル基，ピラジニル基，ピリダニジル基，ピペラジニル基，ピラゾリル基，イミダゾリル基，キニリル基，ピロリル基，インドリル基，フリル基などが挙げることができる。アリール基はアルキル基，フッ素原子，塩素原子，臭素原子，ヨウ素原子，シアノ基，トリフルオロメチルスルホニル基，アリール基，アシル基，アルコキシ基，アリールオキシ基，アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよく，２個以上の置換基を有する場合には，それらは同一でも異なっていてもよい。またエステル，チオエステル，アミドなどのオキソ基も挙げられる。
R１，R2，R3，R4，R5，R6，R7及びR8のアルコキシ基は炭素数が１〜２０のアルコキシ基が好ましく，炭素数が１〜１０のアルコキシ基がさらに好ましい。アルコキシ基の場合も上記のアルキル基の場合と同様の置換基により置換されていてもよい。
R１，R2，R3，R4，R5，R6，R7及びR8のアミノ基は，Ｎ上に水素，置換もしくは未置換のアルキル基，アルケニル基，アラルキル基，アルキニル基，アリール基の置換基が１つか２つ置換しているものが挙げられる。置換基はそれぞれ独立しており，同一である必要はない。アミノ基は，置換基を組み合わせて形成されうる環状構造を形成することができる。特に３員環から２０員環でなる単環，双環，またはそれ以上の多環の構造を示すことができる。また，ヘテロ原子の介在もしくは非介在で環状構造の一部を形成してもよい。
R１，R2，R3，R4，R5，R6，R7及びR8のハロゲン基はフッ素原子，塩素原子，臭素原子，ヨウ素原子が挙げられる。
R１，R2，R3，R4，R5，R6，R7及びR8が示すアリール基としては，ヘテロアリール基も含有し，具体例としては，例えば炭素数2〜30のアリール基，具体的にはフェニル基，ナフチル基，アンスラニル基，ピレニル基，ビフェニル基，インデニル基，テトラヒドロナフチル基，ピリジル基，ピリミジニル基，ピラジニル基，ピリダニジル基，ピペラジニル基，ピラゾリル基，イミダゾリル基，キニリル基，ピロリル基，インドリル基，フリル基などが挙げることができる。アリール基はアルキル基，フッ素原子，塩素原子，臭素原子，ヨウ素原子，シアノ基，トリフルオロメチルスルホニル基，アリール基，アシル基，アルコキシ基，アリールオキシ基，アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよく，２個以上の置換基を有する場合には，それらは同一でも異なっていてもよい。
R１，R2，R3，R4，R5，R6，R7及びR8が示すスルホニル基としては，炭素数１乃至２０程度のアルキル基を有するスルホニル基が挙げられ，具体的には，メチル基，エチル基，プロピル基，ブチル基，ペンチル基，ヘキシル基，ヘプチル基，オクチル基，ノニル基，デシル基，ウンデシル基，ドデシル基，トリデシル基，テトラデシル基，ペンタデシル基，ヘキサデシル基，ヘプタデシル基，オクタデシル基，ノナデシル基，イコシル基，又はこれらの環状アルキル基，分鎖アルキル基などを用いることができる。アルキル基はフッ素原子，塩素原子，臭素原子，ヨウ素原子，シアノ基，トリフルオロメチルスルホニル基，アリール基，アシル基，アルコキシ基，アリールオキシ基，アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよく，２個以上の置換基を有する場合には，それらは同一でも異なっていてもよい。あるいはアリールスルホニル基も挙げられ，このアリール基としては，ヘテロアリール基も含有し，具体例としては，例えば炭素数2〜30のアリール基，具体的にはフェニル基，ナフチル基，アンスラニル基，ピレニル基，ビフェニル基，インデニル基，テトラヒドロナフチル基，ピリジル基，ピリミジニル基，ピラジニル基，ピリダニジル基，ピペラジニル基，ピラゾリル基，イミダゾリル基，キニリル基，ピロリル基，インドリル基，フリル基などが挙げることができる。アリール基はアルキル基，フッ素原子，塩素原子，臭素原子，ヨウ素原子，シアノ基，トリフルオロメチルスルホニル基，アリール基，アシル基，アルコキシ基，アリールオキシ基，アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよく，２個以上の置換基を有する場合には，それらは同一でも異なっていてもよい。
R１，R2，R3，R4，R5，R6，R7及びR8が示すオキソ基としては，ホルミル基や炭素数１乃至２０程度のアルキル基を有するアルキルオキソ基が挙げられ，具体的には，メチル基，エチル基，プロピル基，ブチル基，ペンチル基，ヘキシル基，ヘプチル基，オクチル基，ノニル基，デシル基，ウンデシル基，ドデシル基，トリデシル基，テトラデシル基，ペンタデシル基，ヘキサデシル基，ヘプタデシル基，オクタデシル基，ノナデシル基，イコシル基，又はこれらの環状アルキル基，分鎖アルキル基などを用いることができる。アルキル基はフッ素原子，塩素原子，臭素原子，ヨウ素原子，シアノ基，トリフルオロメチルスルホニル基，アリール基，アシル基，アルコキシ基，アリールオキシ基，アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよく，２個以上の置換基を有する場合には，それらは同一でも異なっていてもよい。またアリールオキソ基が挙げられ，アリール基としては，ヘテロアリール基も含有し，具体例としては，例えば炭素数2〜30のアリール基，具体的にはフェニル基，ナフチル基，アンスラニル基，ピレニル基，ビフェニル基，インデニル基，テトラヒドロナフチル基，ピリジル基，ピリミジニル基，ピラジニル基，ピリダニジル基，ピペラジニル基，ピラゾリル基，イミダゾリル基，キニリル基，ピロリル基，インドリル基，フリル基などが挙げることができる。アリール基はアルキル基，フッ素原子，塩素原子，臭素原子，ヨウ素原子，シアノ基，トリフルオロメチルスルホニル基，アリール基，アシル基，アルコキシ基，アリールオキシ基，アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよく，２個以上の置換基を有する場合には，それらは同一でも異なっていてもよい。またエステル，チオエステル，アミドなどのオキソ基も挙げられる。
R１，R2，R3，R4，R5，R6，R7及びR8のアルコキシ基は炭素数が１〜２０のアルコキシ基が好ましく，炭素数が１〜１０のアルコキシ基がさらに好ましい。アルコキシ基の場合も上記のアルキル基の場合と同様の置換基により置換されていてもよい。
R１，R2，R3，R4，R5，R6，R7及びR8のアミノ基は，Ｎ上に水素，置換もしくは未置換のアルキル基，アルケニル基，アラルキル基，アルキニル基，アリール基の置換基が１つか２つ置換しているものが挙げられる。置換基はそれぞれ独立しており，同一である必要はない。アミノ基は，置換基を組み合わせて形成されうる環状構造を形成することができる。特に３員環から２０員環でなる単環，双環，またはそれ以上の多環の構造を示すことができる。また，ヘテロ原子の介在もしくは非介在で環状構造の一部を形成してもよい。
R１，R2，R3，R4，R5，R6，R7及びR8のハロゲン基はフッ素原子，塩素原子，臭素原子，ヨウ素原子が挙げられる。
溶媒の種類は特に限定されないが，ジエチルエーテル，ジイソプロピルエーテル，ｎ−ブチルメチルエーテル，ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル，テトラヒドロフラン，ジオキサン等のエーテル系溶媒；ヘプタン，ヘキサン，シクロペンタン，シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒；クロロホルム，四塩化炭素，塩化メチレン，ジクロロエタン，トリクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒；ベンゼン，トルエン，キシレン，クメン，シメン，メシチレン，ジイソプロピルベンゼン，ピリジン,ピリミジン,ピラジン,ピリダジン等の芳香族系溶媒；ジメチルスルホキシド，ジメチルホルムアミド，アセトニトリル等の溶媒；メタノール,エタノール,プロパノール，i-プロピルアルコール，アミノエタノール，N,N-ジメチルアミノエタノール等のアルコール系溶媒が挙げられるが，２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノールの合成にはジメチルホルムアミドが最も好ましい。これらは単独で使用し得るのみならず，２種類以上を混合して用いることも可能である。
２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノールに用いる塩基は無機塩基，有機塩基，有機金属試薬等が使用できるが，例えば，炭酸カリウム，炭酸セシウム等の炭酸塩；酢酸ナトリウム，酢酸カリウムなどの酢酸塩；テトラメチルアンモニウムフロリド，テトラエチルアンモニウムフロリド，テトラブチルアンモニウムフロリドなどのアンモニウムフロリド；フッ化カリウム，フッ化セシウムなどのフッ化アルカリ金属類；水素化ナトリウム，水素化リチウム，水素化カリウム等の金属水素化物；水酸化ナトリウム，水酸化カリウム等の水酸化物；ナトリウムメトキシド，カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルコキシド化合物；DABCO，DBU，トリエチルアミン，ジイソプロピルエチルアミン，Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン等の有機塩基；ｎ−ブチルリチウム，ｓｅｃ−ブチルリチウム，ｔｅｒｔ−ブチルリチウム，リチウムジイソプロピルアミド，ヘキサメチルジシラザンリチウム塩などのリチウム塩などが挙げられるが水素化ナトリウムが最も好ましい。使用量は一般的に式（２）に対して，１〜１０当量で，好ましくは２当量である。
反応温度は特に限定されるものではないが、通常−８０℃乃至１２０℃であり，より好ましくは室温付近である。反応器は大気開放型の反応器，またはオートクレーブ等の密閉型の反応器のいずれも可能である。反応圧力は大気圧下，または加圧下のいずれも可能である。反応時間は特に限定されるものではないが，通常１〜２時間で反応は完結する。
反応後，前記一般式（２）で示される２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノール化合物は一般的な手法によって反応液から単離および精製することができ，例えば反応液を濃縮した後，シリカゲル，アルミナ等の吸着剤を用いたカラムクロマトグラフ法での精製，塩析，再結晶等が挙げられる。
２‐（１Ｈ‐インドール‐２‐イル）フェニルトリフルオロメタンスルホネート誘導体の合成方法は特に限定されるものではないが，下記文献（非特許文献６）の方法を参考に２‐（１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノール誘導体を得，引き続き一般的な手法により２‐（１Ｈ‐インドール‐２‐イル）フェニルトリフルオロメタンスルホネート誘導体を得た。
（非特許文献：６Slatt, J.; Bergmn, J. Tetrahedron. 2002, 58, 9187.）
２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノールに用いる塩基は無機塩基，有機塩基，有機金属試薬等が使用できるが，例えば，炭酸カリウム，炭酸セシウム等の炭酸塩；酢酸ナトリウム，酢酸カリウムなどの酢酸塩；テトラメチルアンモニウムフロリド，テトラエチルアンモニウムフロリド，テトラブチルアンモニウムフロリドなどのアンモニウムフロリド；フッ化カリウム，フッ化セシウムなどのフッ化アルカリ金属類；水素化ナトリウム，水素化リチウム，水素化カリウム等の金属水素化物；水酸化ナトリウム，水酸化カリウム等の水酸化物；ナトリウムメトキシド，カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルコキシド化合物；DABCO，DBU，トリエチルアミン，ジイソプロピルエチルアミン，Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン等の有機塩基；ｎ−ブチルリチウム，ｓｅｃ−ブチルリチウム，ｔｅｒｔ−ブチルリチウム，リチウムジイソプロピルアミド，ヘキサメチルジシラザンリチウム塩などのリチウム塩などが挙げられるが水素化ナトリウムが最も好ましい。使用量は一般的に式（２）に対して，１〜１０当量で，好ましくは２当量である。
反応温度は特に限定されるものではないが、通常−８０℃乃至１２０℃であり，より好ましくは室温付近である。反応器は大気開放型の反応器，またはオートクレーブ等の密閉型の反応器のいずれも可能である。反応圧力は大気圧下，または加圧下のいずれも可能である。反応時間は特に限定されるものではないが，通常１〜２時間で反応は完結する。
反応後，前記一般式（２）で示される２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノール化合物は一般的な手法によって反応液から単離および精製することができ，例えば反応液を濃縮した後，シリカゲル，アルミナ等の吸着剤を用いたカラムクロマトグラフ法での精製，塩析，再結晶等が挙げられる。
２‐（１Ｈ‐インドール‐２‐イル）フェニルトリフルオロメタンスルホネート誘導体の合成方法は特に限定されるものではないが，下記文献（非特許文献６）の方法を参考に２‐（１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノール誘導体を得，引き続き一般的な手法により２‐（１Ｈ‐インドール‐２‐イル）フェニルトリフルオロメタンスルホネート誘導体を得た。
（非特許文献：６Slatt, J.; Bergmn, J. Tetrahedron. 2002, 58, 9187.）
Compound 1a: ２‐（１Ｈ‐インドール‐２‐イル）フェニルトリフルオロメタンスルホネート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.53 (s, 1H), 7.75 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 7.67 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.48-7.25 (m, 4H), 7.25 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.18 (t, J = 8.1 Hz, 1H), 6.91 (s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -74.1 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 104.4, 111.2, 118.5 (q, J = 321.7 Hz), 120.6, 121.2, 122.6, 123.3, 126.6, 128.4, 128.9, 129.1, 130.2, 131.5, 137.0, 146.2; MS (ESI, m/z) 342.5 [M+H]+，８４％収率．
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.53 (s, 1H), 7.75 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 7.67 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.48-7.25 (m, 4H), 7.25 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.18 (t, J = 8.1 Hz, 1H), 6.91 (s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -74.1 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 104.4, 111.2, 118.5 (q, J = 321.7 Hz), 120.6, 121.2, 122.6, 123.3, 126.6, 128.4, 128.9, 129.1, 130.2, 131.5, 137.0, 146.2; MS (ESI, m/z) 342.5 [M+H]+，８４％収率．
Compound 1b: ２‐（１Ｈ‐インドール‐２‐イル）‐６‐メチルフェニルトリフルオロメタンスルホネート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.35 (s, 1H), 7.66 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.50 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.42 (t, J = 8.1 Hz, 1H), 7.37-7.21 (m, 3H), 7.14 (t, J = 7.5 Hz, 1H), 6.78 (t, J = 0.9 Hz, 1H), 2.51 (s, 3H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -74.8 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 17.5, 104.1, 111.1, 118.3 (q, J = 320.1 Hz), 120.4, 121.0, 123.0, 127.4, 128.5, 128.6, 129.0, 131.7, 132.3, 132.8, 136.9, 145.4; MS (ESI, m/z) 356.5 [M+H]+, 80％収率.
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.35 (s, 1H), 7.66 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.50 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.42 (t, J = 8.1 Hz, 1H), 7.37-7.21 (m, 3H), 7.14 (t, J = 7.5 Hz, 1H), 6.78 (t, J = 0.9 Hz, 1H), 2.51 (s, 3H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -74.8 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 17.5, 104.1, 111.1, 118.3 (q, J = 320.1 Hz), 120.4, 121.0, 123.0, 127.4, 128.5, 128.6, 129.0, 131.7, 132.3, 132.8, 136.9, 145.4; MS (ESI, m/z) 356.5 [M+H]+, 80％収率.
Compound 1c: ２‐（１Ｈ‐インドール‐２‐イル）‐５‐メチルフェニルトリフルオロメタンスルホネート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.48 (s, 1H), 7.66-7.60 (m, 2H), 7.41 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.27-7.11 (m, 4H), 6.85 (s, 1H), 2.43 (s, 3H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -74.1 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 21.1, 103.8, 111.2, 118.9 (q, J = 322.9 Hz), 120.5, 121.0, 122.9, 123.1, 123.5, 128.5, 129.7, 129.9, 131.7, 136.9, 140.0, 146.0; MS (ESI, m/z) 356.4 [M+H]+, 75％収率.
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.48 (s, 1H), 7.66-7.60 (m, 2H), 7.41 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.27-7.11 (m, 4H), 6.85 (s, 1H), 2.43 (s, 3H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -74.1 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 21.1, 103.8, 111.2, 118.9 (q, J = 322.9 Hz), 120.5, 121.0, 122.9, 123.1, 123.5, 128.5, 129.7, 129.9, 131.7, 136.9, 140.0, 146.0; MS (ESI, m/z) 356.4 [M+H]+, 75％収率.
Compound 1d: ２‐（１Ｈ‐インドール‐２‐イル）‐４‐メチルフェニルトリフルオロメタンスルホネート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.52 (s, 1H), 7.67 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 7.54 (d, J = 1.5 Hz, 1H), 7.43 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.31-7.13 (m, 4H), 6.90 (t, J = 1.2 Hz, 1H), 2.44 (s, 3H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -74.1 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 21.0, 104.2, 111.2, 118.6 (q, J = 321.4 Hz), 120.5, 121.1, 122.3, 123.2, 126.1, 128.5, 129.7, 130.5, 131.7, 136.9, 139.1, 144.2; MS (ESI, m/z) 356.0 [M+H]+, 87％収率.
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.52 (s, 1H), 7.67 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 7.54 (d, J = 1.5 Hz, 1H), 7.43 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.31-7.13 (m, 4H), 6.90 (t, J = 1.2 Hz, 1H), 2.44 (s, 3H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -74.1 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 21.0, 104.2, 111.2, 118.6 (q, J = 321.4 Hz), 120.5, 121.1, 122.3, 123.2, 126.1, 128.5, 129.7, 130.5, 131.7, 136.9, 139.1, 144.2; MS (ESI, m/z) 356.0 [M+H]+, 87％収率.
Compound 1e: ２‐（１Ｈ‐インドール‐２‐イル）‐３，５‐ジメチルフェニルトリフルオロメタンスルホネート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.13 (s, 1H), 7.66 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.41 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.22-7.12 (m, 3H), 7.05 (s, 1H), 7.56 (t, J = 0.9 Hz, 1H), 2.41 (s, 3H), 2.30 (s, 3H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -74.6 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 20.7, 21.3, 105.3, 111.0, 118.5 (q, J = 319.9 Hz), 119.7, 120.1, 120.8, 122.5, 124.2, 128.4, 129.4, 131.2, 136.4, 140.5, 141.0, 147.8; MS (ESI, m/z) 370.0 [M+H]+, 81％収率.
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.13 (s, 1H), 7.66 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.41 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.22-7.12 (m, 3H), 7.05 (s, 1H), 7.56 (t, J = 0.9 Hz, 1H), 2.41 (s, 3H), 2.30 (s, 3H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -74.6 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 20.7, 21.3, 105.3, 111.0, 118.5 (q, J = 319.9 Hz), 119.7, 120.1, 120.8, 122.5, 124.2, 128.4, 129.4, 131.2, 136.4, 140.5, 141.0, 147.8; MS (ESI, m/z) 370.0 [M+H]+, 81％収率.
Compound 1f: ２‐（１Ｈ‐インドール‐２‐イル）‐５‐メトキシフェニルトリフルオロメタンスルホネート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.43 (s, 1H), 7.65-7.62 (m, 2H), 7.40 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.21 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.14 (t, J = 7.5 Hz, 1H), 7.02-6.94 (m, 2H), 6.78 (d, J = 1.2 Hz, 1H), 3.87 (s, 3H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -74.1 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 55.9, 103.3, 108.5, 111.1, 114.7, 118.6 (q, J = 321.4 Hz), 118.9, 120.4, 120.8, 122.9, 128.6, 130.9, 131.7, 136.8, 146.7, 160.0; MS (ESI, m/z) 370.4 [M+H]+, 72％収率.
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.43 (s, 1H), 7.65-7.62 (m, 2H), 7.40 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.21 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.14 (t, J = 7.5 Hz, 1H), 7.02-6.94 (m, 2H), 6.78 (d, J = 1.2 Hz, 1H), 3.87 (s, 3H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -74.1 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 55.9, 103.3, 108.5, 111.1, 114.7, 118.6 (q, J = 321.4 Hz), 118.9, 120.4, 120.8, 122.9, 128.6, 130.9, 131.7, 136.8, 146.7, 160.0; MS (ESI, m/z) 370.4 [M+H]+, 72％収率.
Compound 1g: ４‐フルオロ‐２‐（１Ｈ‐インドール‐２‐イル）フェニルトリフルオロメタンスルホネート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.54 (s, 1H), 7.68 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.46-7.37 (m, 3H), 7.28 (t, J = 8.1 Hz, 1H), 7.17 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.12-7.08 (m, 1H), 6.93 (t, J = 0.9 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -73.9 (s, 3F), -116.0 (s, 1F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 105.1, 111.4, 115.7 (d, J = 24.1 Hz), 116.5 (d, J = 25.7 Hz), 118.6 (q, J = 321.4 Hz), 120.8, 121.4, 123.8, 124.4 (d, J = 9.1 Hz), 128.3, 128.6 (d, J = 9.1 Hz), 130.4 (d, J = 3.0 Hz), 137.2, 141.8 (d, J = 3.0 Hz), 161.6 (d, J = 249.0 Hz); MS (ESI, m/z) 360.0 [M+H]+, 80％収率.
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.54 (s, 1H), 7.68 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.46-7.37 (m, 3H), 7.28 (t, J = 8.1 Hz, 1H), 7.17 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.12-7.08 (m, 1H), 6.93 (t, J = 0.9 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -73.9 (s, 3F), -116.0 (s, 1F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 105.1, 111.4, 115.7 (d, J = 24.1 Hz), 116.5 (d, J = 25.7 Hz), 118.6 (q, J = 321.4 Hz), 120.8, 121.4, 123.8, 124.4 (d, J = 9.1 Hz), 128.3, 128.6 (d, J = 9.1 Hz), 130.4 (d, J = 3.0 Hz), 137.2, 141.8 (d, J = 3.0 Hz), 161.6 (d, J = 249.0 Hz); MS (ESI, m/z) 360.0 [M+H]+, 80％収率.
Compound 1h: ４‐クロロ‐２‐（１Ｈ‐インドール‐２‐イル）フェニルトリフルオロメタンスルホネート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.50 (s, 1H), 7.73 (s, 1H), 7.67 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.43 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.35 (d, J = 1.2 Hz, 2H), 7.27 (t, J = 7.5 Hz, 1H), 7.16 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 6.93 (d, J = 1.8 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -73.9 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 105.3, 111.4, 118.5 (q, J = 321.4 Hz), 120.8, 121.4, 123.8, 124.0, 128.2, 128.3, 128.8, 129.8, 130.2, 134.7, 137.2, 144.4; MS (ESI, m/z) 376.50 [M+H]+, 91％収率.
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.50 (s, 1H), 7.73 (s, 1H), 7.67 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.43 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.35 (d, J = 1.2 Hz, 2H), 7.27 (t, J = 7.5 Hz, 1H), 7.16 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 6.93 (d, J = 1.8 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -73.9 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 105.3, 111.4, 118.5 (q, J = 321.4 Hz), 120.8, 121.4, 123.8, 124.0, 128.2, 128.3, 128.8, 129.8, 130.2, 134.7, 137.2, 144.4; MS (ESI, m/z) 376.50 [M+H]+, 91％収率.
Compound 1i: ４‐ブロモ‐２‐（１Ｈ‐インドール‐２‐イル）フェニルトリフルオロメタンスルホネート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.50 (s, 1H), 7.89 (s, 1H), 7.67 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.50 (dd, J = 8.7 Hz, 1.2 Hz, 1H), 7.43 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.30-7.24 (m, 2H), 7.16 (t, J = 7.2 Hz, 1H), 6.94 (s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -73.9 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 105.3, 111.3, 118.5 (q, J = 321.4 Hz), 120.8, 121.4, 122.4, 123.8, 124.2, 128.3, 128.4, 130.0, 131.7, 132.8, 137.2, 145.0; MS (ESI, m/z) 419.7 [M+H]+, 93％収率.
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.50 (s, 1H), 7.89 (s, 1H), 7.67 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.50 (dd, J = 8.7 Hz, 1.2 Hz, 1H), 7.43 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.30-7.24 (m, 2H), 7.16 (t, J = 7.2 Hz, 1H), 6.94 (s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -73.9 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 105.3, 111.3, 118.5 (q, J = 321.4 Hz), 120.8, 121.4, 122.4, 123.8, 124.2, 128.3, 128.4, 130.0, 131.7, 132.8, 137.2, 145.0; MS (ESI, m/z) 419.7 [M+H]+, 93％収率.
Compound 1j：３‐（１Ｈ‐インドール‐２‐イル)ビフェニル‐４‐イルトリフルオロメタンスルホネート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.57 (s, 1H), 7.92 (d, J = 2.1 Hz, 1H), 7.68 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.62-7.57 (m, 3H), 7.52-7.43 (m, 5H), 7.26 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.16 (t, J = 7.5 Hz, 1H), 6.97 (s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -74.0 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 104.6, 111.3, 118.6 (q, J = 321.4 Hz), 120.6, 121.2, 122.9, 123.3, 126.7, 127.3, 127.6, 128.4, 128.5, 128.7, 129.1, 131.5, 137.0, 139.0, 142.1, 145.4; MS (ESI, m/z) 418.0 [M+H]+, 51％収率.
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.57 (s, 1H), 7.92 (d, J = 2.1 Hz, 1H), 7.68 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.62-7.57 (m, 3H), 7.52-7.43 (m, 5H), 7.26 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.16 (t, J = 7.5 Hz, 1H), 6.97 (s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -74.0 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 104.6, 111.3, 118.6 (q, J = 321.4 Hz), 120.6, 121.2, 122.9, 123.3, 126.7, 127.3, 127.6, 128.4, 128.5, 128.7, 129.1, 131.5, 137.0, 139.0, 142.1, 145.4; MS (ESI, m/z) 418.0 [M+H]+, 51％収率.
Compound 1k: １‐（１Ｈ‐インドール‐２‐イル)ナフタレン‐２‐イルトリフルオロメタンスルホネート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.36 (s, 1H), 8.02-7.94 (m, 3H), 7.74 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.56-7.45 (m, 4H), 7.31-7.18 (m, 2H), 6.80 (s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -74.5 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 106.9, 111.2, 118.5 (q, J = 319.9 Hz), 119.6, 120.4, 121.0, 122.9, 124.4, 126.8, 127.4, 128.0, 128.1, 128.3, 128.4, 131.2, 132.7, 133.6, 136.8, 145.2; MS (ESI, m/z) 391.9 [M+H]+, 76％収率.
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.36 (s, 1H), 8.02-7.94 (m, 3H), 7.74 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.56-7.45 (m, 4H), 7.31-7.18 (m, 2H), 6.80 (s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -74.5 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 106.9, 111.2, 118.5 (q, J = 319.9 Hz), 119.6, 120.4, 121.0, 122.9, 124.4, 126.8, 127.4, 128.0, 128.1, 128.3, 128.4, 131.2, 132.7, 133.6, 136.8, 145.2; MS (ESI, m/z) 391.9 [M+H]+, 76％収率.
Compound 1l: １‐（５‐ブロモ‐１Ｈ‐インドール‐２‐イル)ナフタレン‐２‐イルトリフルオロメタンスルホネート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.38 (s, 1H), 8.04-7.86 (m, 4H), 7.63-7.49 (m, 3H), 7.38-7.31 (m, 2H), 6.74 (d, J = 1.8 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -74.4 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 106.3, 112.6, 113.6, 118.5 (q, J = 321.4 Hz), 119.6, 123.5, 123.8, 125.9, 126.5, 127.6, 128.4, 128.5, 129.4, 130.0, 131.6, 132.7, 133.5, 135.3, 145.2; MS (ESI, m/z) 468.1 [M-H]-, 80％収率.
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.38 (s, 1H), 8.04-7.86 (m, 4H), 7.63-7.49 (m, 3H), 7.38-7.31 (m, 2H), 6.74 (d, J = 1.8 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -74.4 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 106.3, 112.6, 113.6, 118.5 (q, J = 321.4 Hz), 119.6, 123.5, 123.8, 125.9, 126.5, 127.6, 128.4, 128.5, 129.4, 130.0, 131.6, 132.7, 133.5, 135.3, 145.2; MS (ESI, m/z) 468.1 [M-H]-, 80％収率.
Compound 1m: １‐（６‐クロロ‐１Ｈ‐インドール‐２‐イル)ナフタレン‐２‐イルトリフルオロメタンスルホネート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.34 (s, 1H), 8.03-7.93 (m, 3H), 7.65-7.46 (m, 5H), 7.17 (dd, J = 8.4 Hz, 1.8 Hz, 1H), 6.78 (s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -74.5 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 106.9, 111.1, 118.5 (q, J = 321.4 Hz), 119.7, 121.3, 121.9, 123.9, 126.6, 126.9, 127.6, 128.4, 128.8, 128.9, 131.5, 132.7, 133.5, 137.0, 145.2; MS (ESI, m/z) 424.1 [M-H]-, 88％収率.
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 8.34 (s, 1H), 8.03-7.93 (m, 3H), 7.65-7.46 (m, 5H), 7.17 (dd, J = 8.4 Hz, 1.8 Hz, 1H), 6.78 (s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -74.5 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 106.9, 111.1, 118.5 (q, J = 321.4 Hz), 119.7, 121.3, 121.9, 123.9, 126.6, 126.9, 127.6, 128.4, 128.8, 128.9, 131.5, 132.7, 133.5, 137.0, 145.2; MS (ESI, m/z) 424.1 [M-H]-, 88％収率.
以下，実施形態により本発明をさらに具体的に説明するが，本発明の範囲は下記の実施形態に限定されるものではない。
（実施形態１） 前記一般式（２）の一般的な製造方法：２‐（１Ｈ‐インドール‐２‐イル）フェニルトリフルオロメタンスルホネート（０．３４１ mg，１．００ mmol）を窒素雰囲気下でジメチルホルムアミド１０．０ mlに溶解させ，反応容器を０℃に氷冷した。水素化ナトリウム（８０．０ mg， ２．００ mmol）を加え，室温にて2時間撹拌した。反応終了後，塩化アンモニウム水溶液を加え，ジエチルエーテルで抽出した。有機相は蒸留水，飽和食塩水にて洗浄し，無水硫酸アンモニウムで乾燥後，減圧下で溶媒を留去した。残渣はカラムクロマトグラフィーにて精製し，２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノール化合物２を得た。
Compound 2a: ２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノール
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 7.99 (d, J = 6.9 Hz, 1H), 7.64 (d, J = 7.2 Hz, 1H), 7.47-7.35 (m, 4H), 7.03-6.94 (m, 2H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -81.0 (s, 3F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 101.7, 113.4, 116.5, 117.1, 119.7, 120.5, 121.5 (q, J = 327.0 Hz), 123.9, 125.1, 127.2, 132.5, 133.3, 136.3, 147.5, 156.6; MS (ESI, m/z) 340.2 [M-H]-, 82％収率．
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 7.99 (d, J = 6.9 Hz, 1H), 7.64 (d, J = 7.2 Hz, 1H), 7.47-7.35 (m, 4H), 7.03-6.94 (m, 2H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -81.0 (s, 3F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 101.7, 113.4, 116.5, 117.1, 119.7, 120.5, 121.5 (q, J = 327.0 Hz), 123.9, 125.1, 127.2, 132.5, 133.3, 136.3, 147.5, 156.6; MS (ESI, m/z) 340.2 [M-H]-, 82％収率．
Compound 2b: ２‐メチル‐６‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノール
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 7.96 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.64 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.44-7.36 (m, 2H), 7.30-7.23 (m, 2H), 6.89 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 2.30 (s, 3H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -79.9 (s, 3F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 16.6, 102.2, 113.4, 117.3, 119.8, 120.5, 121.6 (q, J = 324.8 Hz), 123.9, 125.1, 125.9, 127.3, 130.5, 133.7, 136.7, 147.4, 154.5; MS (ESI, m/z) 354.2 [M-H]-, 93％収率.
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 7.96 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.64 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.44-7.36 (m, 2H), 7.30-7.23 (m, 2H), 6.89 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 2.30 (s, 3H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -79.9 (s, 3F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 16.6, 102.2, 113.4, 117.3, 119.8, 120.5, 121.6 (q, J = 324.8 Hz), 123.9, 125.1, 125.9, 127.3, 130.5, 133.7, 136.7, 147.4, 154.5; MS (ESI, m/z) 354.2 [M-H]-, 93％収率.
Compound 2c: ５‐メチル‐２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノール
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 7.98 (d, J = 6.9 Hz, 1H), 7.63 (d, J = 7.2 Hz, 1H), 7.40-7.33 (m, 3H), 6.85 (s, 1H), 6.79 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 2.33 (s, 3H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -79.8 (s, 3F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 21.4, 101.4, 113.3, 114.2, 117.0, 120.5, 120.6, 121.5 (q, J = 325.9 Hz), 123.8, 125.0, 127.2, 133.1, 136.5, 142.9, 147.7, 156.4; MS (ESI, m/z) 354.2 [M-H]-, 74％収率.
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 7.98 (d, J = 6.9 Hz, 1H), 7.63 (d, J = 7.2 Hz, 1H), 7.40-7.33 (m, 3H), 6.85 (s, 1H), 6.79 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 2.33 (s, 3H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -79.8 (s, 3F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 21.4, 101.4, 113.3, 114.2, 117.0, 120.5, 120.6, 121.5 (q, J = 325.9 Hz), 123.8, 125.0, 127.2, 133.1, 136.5, 142.9, 147.7, 156.4; MS (ESI, m/z) 354.2 [M-H]-, 74％収率.
Compound 2d: ４‐メチル‐２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノール
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 7.98 (dd, J = 6.6 Hz, 2.4 Hz, 1H), 7.65 (dd, J = 6.0 Hz, 2.7 Hz, 1H), 7.40-7.37 (m, 2H), 7.26 (s, 1H), 7.18 (dd, J = 8.4 Hz, 1.8 Hz, 1H), 6.91 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 2.29 (s, 3H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -79.8 (s, 3F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 20.3, 101.5, 113.3, 116.3, 116.8, 120.5, 121.5 (q, J = 327.5 Hz), 124.8, 125.0, 127.2, 128.6, 133.0, 133.5, 136.5, 147.7, 154.4; MS (ESI, m/z) 354.4 [M-H]-, 71％収率.
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 7.98 (dd, J = 6.6 Hz, 2.4 Hz, 1H), 7.65 (dd, J = 6.0 Hz, 2.7 Hz, 1H), 7.40-7.37 (m, 2H), 7.26 (s, 1H), 7.18 (dd, J = 8.4 Hz, 1.8 Hz, 1H), 6.91 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 2.29 (s, 3H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -79.8 (s, 3F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 20.3, 101.5, 113.3, 116.3, 116.8, 120.5, 121.5 (q, J = 327.5 Hz), 124.8, 125.0, 127.2, 128.6, 133.0, 133.5, 136.5, 147.7, 154.4; MS (ESI, m/z) 354.4 [M-H]-, 71％収率.
Compound 2e: ３，５‐ジメチル‐２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノール
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 7.98-7.95 (m, 1H), 7.66-7.62 (m, 1H), 7.40-7.36 (m, 2H), 6.65 (s, 2H), 2.27 (s, 3H), 2.09 (s, 3H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -79.6 (s, 3F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 19.9, 21.4, 102.5, 113.4, 114.2, 114.7, 120.4, 121.5 (q, J = 325.9 Hz), 122.5, 123.8, 124.9, 127.2, 136.8, 139.9, 141.8, 147.2, 156.9; MS (ESI, m/z) 368.4 [M-H]-, 86％収率.
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 7.98-7.95 (m, 1H), 7.66-7.62 (m, 1H), 7.40-7.36 (m, 2H), 6.65 (s, 2H), 2.27 (s, 3H), 2.09 (s, 3H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -79.6 (s, 3F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 19.9, 21.4, 102.5, 113.4, 114.2, 114.7, 120.4, 121.5 (q, J = 325.9 Hz), 122.5, 123.8, 124.9, 127.2, 136.8, 139.9, 141.8, 147.2, 156.9; MS (ESI, m/z) 368.4 [M-H]-, 86％収率.
Compound 2f: ５‐メトキシ‐２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノール
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 7.98 (d, J = 6.6 Hz, 1H), 7.63 (d, J = 6.3 Hz, 1H), 7.42-7.35 (m, 3H), 6.59-6.56 (m, 2H), 3.82 (s, 3H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -79.8 (s, 3F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 55.6, 101.1, 102.1, 105.6, 109.5, 113.3, 120.5, 121.5 (q, J = 327.5 Hz), 123.7, 125.0, 127.3, 134.4, 136.5, 147.6, 157.8, 163.5; MS (ESI, m/z) 370.3 [M-H]-, 77％収率.
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 7.98 (d, J = 6.6 Hz, 1H), 7.63 (d, J = 6.3 Hz, 1H), 7.42-7.35 (m, 3H), 6.59-6.56 (m, 2H), 3.82 (s, 3H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -79.8 (s, 3F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 55.6, 101.1, 102.1, 105.6, 109.5, 113.3, 120.5, 121.5 (q, J = 327.5 Hz), 123.7, 125.0, 127.3, 134.4, 136.5, 147.6, 157.8, 163.5; MS (ESI, m/z) 370.3 [M-H]-, 77％収率.
Compound 2g: ４‐フルオロ‐２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノール
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 7.98 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 7.66 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.45-7.36 (m, 2H), 7.29 (dd, J = 8.7 Hz, 3.0 Hz, 1H) 7.21-7.14 (m, 1H), 7.05-7.00 (m, 1H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -79.9 (s, 3F), -126.3 (s, 1F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 101.8, 113.5, 117.5 (d, J = 9.1 Hz), 117.8 (d, J = 9.1 Hz), 118.9 (d, J = 22.6 Hz), 119.5 (d, J = 25.7 Hz), 120.5, 121.5 (q, J = 325.9 Hz), 124.0, 125.3, 127.0, 136.5, 145.8, 153.1, 156.1 (d, J = 235.4 Hz); MS (ESI, m/z) 358.4 [M-H]-, 74％収率.
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 7.98 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 7.66 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.45-7.36 (m, 2H), 7.29 (dd, J = 8.7 Hz, 3.0 Hz, 1H) 7.21-7.14 (m, 1H), 7.05-7.00 (m, 1H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -79.9 (s, 3F), -126.3 (s, 1F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 101.8, 113.5, 117.5 (d, J = 9.1 Hz), 117.8 (d, J = 9.1 Hz), 118.9 (d, J = 22.6 Hz), 119.5 (d, J = 25.7 Hz), 120.5, 121.5 (q, J = 325.9 Hz), 124.0, 125.3, 127.0, 136.5, 145.8, 153.1, 156.1 (d, J = 235.4 Hz); MS (ESI, m/z) 358.4 [M-H]-, 74％収率.
Compound 2h: ４‐クロロ‐２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノール
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 7.98 (d, J = 6.6 Hz, 1H), 7.66 (d, J = 7.2 Hz, 1H), 7.50 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 7.45-7.37 (m, 3H), 7.04 (d, J = 8.7 Hz, 1H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -79.9 (s, 3F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 102.0, 113.5, 118.0, 118.7, 120.5, 121.4 (q, J = 325.9 Hz), 123.9, 124.1, 125.3, 127.0, 132.2, 132.7, 136.5, 145.5, 155.6; MS (ESI, m/z) 374.3 [M-H]-, 68％収率.
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 7.98 (d, J = 6.6 Hz, 1H), 7.66 (d, J = 7.2 Hz, 1H), 7.50 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 7.45-7.37 (m, 3H), 7.04 (d, J = 8.7 Hz, 1H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -79.9 (s, 3F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 102.0, 113.5, 118.0, 118.7, 120.5, 121.4 (q, J = 325.9 Hz), 123.9, 124.1, 125.3, 127.0, 132.2, 132.7, 136.5, 145.5, 155.6; MS (ESI, m/z) 374.3 [M-H]-, 68％収率.
Compound 2i: ４‐ブロモ‐２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノール
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 7.98 (d, J = 6.9 Hz, 1H), 7.68-7.63 (m, 2H), 7.54 (dd, J = 8.7 Hz, 2.4 Hz, 1H), 7.42-7.39 (m, 2H), 7.00 (d, J = 8.7 Hz, 1H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -79.9 (s, 3F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 102.0, 111.1, 113.5, 118.4, 119.2, 120.5, 121.4 (q, J = 325.9 Hz), 124.1, 125.3, 127.0, 135.1, 135.5, 136.6, 145.4, 156.1; MS (ESI, m/z) 418.2 [M-H]-, 66％収率.
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 7.98 (d, J = 6.9 Hz, 1H), 7.68-7.63 (m, 2H), 7.54 (dd, J = 8.7 Hz, 2.4 Hz, 1H), 7.42-7.39 (m, 2H), 7.00 (d, J = 8.7 Hz, 1H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -79.9 (s, 3F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 102.0, 111.1, 113.5, 118.4, 119.2, 120.5, 121.4 (q, J = 325.9 Hz), 124.1, 125.3, 127.0, 135.1, 135.5, 136.6, 145.4, 156.1; MS (ESI, m/z) 418.2 [M-H]-, 66％収率.
Compound 2j： ３‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）ビフェニル‐４‐オール
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 8.02 (dd, J = 6.3 Hz, 2.4 Hz, 1H), 7.81 (d, J = 1.8 Hz, 1H), 7.71-7.65 (m, 4H), 7.47-7.15 (m, 5H), 7.13 (d, J = 8.4 Hz, 1H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -79.8 (s, 3F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 101.6, 113.4, 116.5, 117.0, 117.3, 120.5, 121.5 (q, J = 325.9 Hz), 124.0, 125.2, 127.1, 127.2, 127.7, 129.7, 130.9, 132.0, 132.6, 136.5, 140.9, 147.2, 156.2; MS (ESI, m/z) 416.3 [M-H]-, 73％収率.
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 8.02 (dd, J = 6.3 Hz, 2.4 Hz, 1H), 7.81 (d, J = 1.8 Hz, 1H), 7.71-7.65 (m, 4H), 7.47-7.15 (m, 5H), 7.13 (d, J = 8.4 Hz, 1H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -79.8 (s, 3F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 101.6, 113.4, 116.5, 117.0, 117.3, 120.5, 121.5 (q, J = 325.9 Hz), 124.0, 125.2, 127.1, 127.2, 127.7, 129.7, 130.9, 132.0, 132.6, 136.5, 140.9, 147.2, 156.2; MS (ESI, m/z) 416.3 [M-H]-, 73％収率.
Compound 2k: １‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）ナフタレン‐２‐オール
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 8.05-7.95 (m, 2H), 7.87 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.00 (d, J = 6.9 Hz, 1H), 7.46-7.21 (m, 6H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -79.4 (s, 3F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 103.8, 109.9, 113.6, 118.3, 120.5, 121.5 (q, J = 325.9 Hz), 124.0, 124.1, 124.7, 125.1, 127.3, 127.8, 128.7, 128.8, 132.7, 135.3, 137.1, 145.7, 155.3; MS (ESI, m/z) 390.4 [M-H]-, 91％収率.
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 8.05-7.95 (m, 2H), 7.87 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.00 (d, J = 6.9 Hz, 1H), 7.46-7.21 (m, 6H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -79.4 (s, 3F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 103.8, 109.9, 113.6, 118.3, 120.5, 121.5 (q, J = 325.9 Hz), 124.0, 124.1, 124.7, 125.1, 127.3, 127.8, 128.7, 128.8, 132.7, 135.3, 137.1, 145.7, 155.3; MS (ESI, m/z) 390.4 [M-H]-, 91％収率.
Compound 2l: １‐（３‐ブロモ‐３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）ナフタレン‐２‐オール
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 8.16 (s, 1H), 7.98 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.88 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.69 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.59 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 7.41-7.22 (m, 4H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -79.4 (s, 3F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 103.6, 109.3, 115.6, 117.1, 118.6, 121.3 (q, J = 325.9 Hz), 122.8, 124.2, 124.6, 128.0, 128.1, 128.8, 128.9, 129.0, 133.0, 135.1, 135.9, 147.0, 155.3; MS (ESI, m/z) 468.1 [M-H]-, 95％収率.
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 8.16 (s, 1H), 7.98 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.88 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.69 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.59 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 7.41-7.22 (m, 4H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -79.4 (s, 3F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 103.6, 109.3, 115.6, 117.1, 118.6, 121.3 (q, J = 325.9 Hz), 122.8, 124.2, 124.6, 128.0, 128.1, 128.8, 128.9, 129.0, 133.0, 135.1, 135.9, 147.0, 155.3; MS (ESI, m/z) 468.1 [M-H]-, 95％収率.
Compound 2m: １‐（６‐クロロ‐３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）ナフタレン‐２‐オール
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 8.01-7.96 (m, 2H), 7.88 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.75 (d, J = 0.9 Hz, 1H), 7.48-7.23 (m, 5H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -79.4 (s, 3F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 104.3, 109.4, 113.4, 118.6, 121.4 (q, J = 325.9 Hz), 121.8, 124.1, 124.5, 124.6, 126.0, 128.0, 128.8, 128.9, 130.5, 132.9, 135.1, 137.5, 146.7, 155.3; MS (ESI, m/z) 424.2 [M-H]-, 96％収率.
1H NMR (acetone-d6, 300 MHz) δ 8.01-7.96 (m, 2H), 7.88 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.75 (d, J = 0.9 Hz, 1H), 7.48-7.23 (m, 5H); 19F NMR (acetone-d6, 282.3 MHz) δ -79.4 (s, 3F); 13C NMR (acetone-d6, 150.9 MHz) δ 104.3, 109.4, 113.4, 118.6, 121.4 (q, J = 325.9 Hz), 121.8, 124.1, 124.5, 124.6, 126.0, 128.0, 128.8, 128.9, 130.5, 132.9, 135.1, 137.5, 146.7, 155.3; MS (ESI, m/z) 424.2 [M-H]-, 96％収率.
Claims (3)
- 下記一般式（１）で表される２‐（１Ｈ‐インドール‐２‐イル）フェニルトリフルオロメタンスルホネート。
（式中，R１，R2，R3，R4，R5，R6，R7及びR8は置換もしくは未置換のアルキル基，アルケニル基，アルキニル基，アリール基，アルコキシ基，アミノ基，オキソ基，スルホニル基，ハロゲン基を示す。）
- 下記一般式（２）で表される２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノール。
(式中，R１，R2，R3，R4，R5，R6，R7及びR8は式（１）記載の通りである。）
- 前記の一般式（２）で表される２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノールの合成法であって，溶媒中，塩基存在下，前記の一般式（１）で表される２‐（１Ｈ‐インドール‐２‐イル）フェニルトリフルオロメタンスルホネートを反応させることにより，［１，５］チアフリース転位が起こり，２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１Ｈ‐インドール-２‐イル）フェノールが得られることを特徴とする製造方法にある。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012242354A JP2014091690A (ja) | 2012-11-02 | 2012-11-02 | ２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１ｈ‐インドール−２‐イル）フェノール誘導体及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012242354A JP2014091690A (ja) | 2012-11-02 | 2012-11-02 | ２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１ｈ‐インドール−２‐イル）フェノール誘導体及びその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014091690A true JP2014091690A (ja) | 2014-05-19 |
Family
ID=50936036
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012242354A Pending JP2014091690A (ja) | 2012-11-02 | 2012-11-02 | ２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１ｈ‐インドール−２‐イル）フェノール誘導体及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2014091690A (ja) |
-
2012
- 2012-11-02 JP JP2012242354A patent/JP2014091690A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| PT2307393E (pt) | Processo para a preparação do promotor de apoptose abt-263 | |
| WO2018153380A1 (zh) | 维帕他韦及其衍生物的制备 | |
| JP2013170151A (ja) | インドール‐３−トリフロン類の直接的製造法及びインドールトリフロン誘導体 | |
| KR20170081189A (ko) | 루테늄 촉매작용에 의한 아조벤졸로부터 바이페닐아민의 제조 방법 | |
| JP6067228B2 (ja) | エトリコキシブの中間体、１−（６−メチルピリジン−３−イル）−２−［４−（メチルスルホニル）フェニル］エタノンの調製方法の改良 | |
| JP2007230963A (ja) | ２，４−ジ置換ピリジンの製造法 | |
| Morigaki et al. | Unusual annulation reaction of electron-deficient alkenes with enamines: an easy access to stereocontrolled 4-fluoroalkylated 3, 4-dihydro-2H-pyrans | |
| JP2012111745A (ja) | ５−トリフルオロメチル−４−ニトロ−２−イソキサゾリン化合物およびその製造方法 | |
| US6187926B1 (en) | Process for producing quinolone derivatives | |
| CN102863371A (zh) | 氟代二氢吡咯或氟代吡咯 | |
| JP2014091690A (ja) | ２‐（３‐（トリフルオロメチルスルホニル）‐１ｈ‐インドール−２‐イル）フェノール誘導体及びその製造法 | |
| Saidalimu et al. | Activation of Trifluoromethylthio Moiety by Appending Iodonium Ylide under Copper Catalysis for Electrophilic Trifluoromethylation Reaction | |
| JP2015071572A (ja) | クロメントリフロン類，クマリントリフロン類及びその製造法 | |
| JP2014019667A (ja) | モノフルオロメチル基を有するヘテロ原子含有５員環化合物と不活性なｃ−ｆ結合切断を鍵反応とするその製造方法 | |
| CN105636938A (zh) | 制备3-烷硫基-2-溴吡啶的方法 | |
| JP4419761B2 (ja) | スピロ骨格を持つキラルな相間移動触媒およびその製造法、並びにそれを用いた不斉触媒反応。 | |
| CN104136422A (zh) | 化合物、化合物的制造方法、以及化合物的精制方法 | |
| KR101580821B1 (ko) | 디메틸설폭사이드 용매하에서 호기성 산화법을 이용한 퀴나졸리논 유도체의 제조방법 | |
| JP2013151460A (ja) | ４−トリフルオロメチルスルホニルイソキサゾール及びその製造法 | |
| JP2014151285A (ja) | 新規光学活性イミダゾリン−リン酸触媒とその誘導体 | |
| JP2015071571A (ja) | （ｅ）−２−（２−（トリフルオロメチルスルホニル）ビニル）フェノール誘導体及びその製造方法 | |
| KR101953575B1 (ko) | 스타틴계 고지혈증 치료제 합성을 위한 새로운 중간체 합성 및 이를 이용한 로수바스타틴 합성 공정 개발 | |
| JP2016034911A (ja) | ケイ素試薬による不活性ｓｐ３Ｃ−Ｆ結合活性化反応を経由するモノフルオロメチル置換エポキシドの触媒的製造方法及びそのモノフルオロメチル置換エポキシド | |
| JPWO2014024752A1 (ja) | ５−トリフルオロメチル−４−トリフルオロメチルスルホニル−２−イソキサゾリン誘導体およびその製造方法 | |
| JP2014034516A (ja) | ３，５−ジアリール−４−トリフルオロメチルスルホニルピラゾールと１−トリフルオロメチルスルホニルピラゾロ［５，１−ａ］イソキノリン及びその製造法 |