JP2014090836A - モイスチャ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】閉空間内で発生させたモイスチャを均質化することの可能なモイスチャ処理装置を提供する。
【解決手段】殺菌対象物(11)を収容し、殺菌処理をする略密閉した処理空間(3)を形成する処理容器(6)と、処理空間内で殺菌対象物を殺菌可能に支持するための支持部材と、処理空間内に水分を供給する水供給手段(4)と、処理空間内に供給された水分を加熱する加熱手段(5)と、処理容器の内側面に沿って回転可能な螺旋部材(14)と、螺旋部材を処理容器の内側壁に対して相対的に回転させる回転手段(2)と、を備える。
【選択図】図1
【解決手段】殺菌対象物(11)を収容し、殺菌処理をする略密閉した処理空間(3)を形成する処理容器(6)と、処理空間内で殺菌対象物を殺菌可能に支持するための支持部材と、処理空間内に水分を供給する水供給手段(4)と、処理空間内に供給された水分を加熱する加熱手段(5)と、処理容器の内側面に沿って回転可能な螺旋部材(14)と、螺旋部材を処理容器の内側壁に対して相対的に回転させる回転手段(2)と、を備える。
【選択図】図1
Description
本発明は、モイスチャによって処理対象物を殺菌、乾燥等の処理に用いられるモイスチャ処理装置に関するものである。
モイスチャを用いた処理装置が特許文献1に開示されている。この処理装置は、殺菌対象物を収容する処理空間を密閉し、湿り空気発生装置で発生した湿り空気が上昇気流により処理空間内に流入し、殺菌対象物を殺菌する。これにより、湿り空気を全て無駄なく殺菌に利用することができる。また、処理空間を形成するカバー材にの長さを変更したり、カバー材に開口部を設けたりすることによって、処理空間内の湿り空気の温度調節を行うことが可能となる。
しかしながら、上述した従来技術では、処理空間内の温度やモイスチャが均質化せずにムラが発生してしまうため、発生させたモイスチャを効率よく殺菌に用いることには未だ課題が残っている。発生したモイスチャをより効率よく殺菌に用いることができれば、経済的な観点からも好ましい。
本発明は、上述した課題を解決すべくなされたものであり、閉空間内で発生させたモイスチャを均質化することの可能なモイスチャ処理装置の提供を目的とするものである。
上記の目的を達成するべく、本発明の一態様では、殺菌対象物を収容し、殺菌処理をする略密閉した処理空間を形成する処理容器と、前記処理空間内で前記殺菌対象物を殺菌可能に支持するための支持部材と、前記処理空間内に水分を供給する水供給手段と、前記処理空間内に供給された水分を加熱する加熱手段と、前記処理容器の内側面に沿って回転可能な螺旋部材と、前記螺旋部材を前記処理容器の内側壁に対して相対的に回転させる回転手段と、を備えることを特徴とする。
本発明の別の態様では、前記螺旋部材は、前記処理容器の内側壁に回転可能に支持されていることを特徴とする。
本発明の別の態様では、前記螺旋部材は、螺旋溝を備え、前記螺旋溝は、前記螺旋部材の径方向内側に開口していることを特徴とする。
本発明によれば、螺旋部材が回転手段によって処理容器の内側壁に沿って回転するので、処理空間内に空気の渦流が発生し、発生したモイスチャはこの渦流によって拡散し、処理空間内でモイスチャが略均質化される。また、モイスチャを均質化することにより、処理空間内の温度も略均質化する。これにより、モイスチャを用いて殺菌対象物をより効率よく殺菌することができる。
また、螺旋部材は処理容器の内側壁に回転可能に支持されているので、渦流を発生させやすい処理空間の形状、例えば処理空間を広くし、且つ絞りを有するような空間を形成しなくても渦流を発生することが可能となる。
そして、螺旋部材には螺旋溝が形成されているので、処理空間内で発生した上昇気流が螺旋部材に到達すると、螺旋溝に従って回転運動が加えられることにより、渦流の発生を促進することができる。したがって、処理空間内のモイスチャや温度等を略均質化することができ、殺菌対象物をより効率よく殺菌することができる。
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明の実施形態に係るモイスチャ処理装置1の概略断面図である。なお、以下はモイスチャによる殺菌を例にして説明する。
図1は、本発明の実施形態に係るモイスチャ処理装置1の概略断面図である。なお、以下はモイスチャによる殺菌を例にして説明する。
モイスチャ処理装置1は、回転手段2と、処理空間3と、水分供給手段4と、加熱手段5とで構成される。処理空間3は、側壁7と上壁8とからなる円筒状のカバー体6により略密閉されて形成される。処理空間3には、加熱手段5、容器9、及び載置台10が収容され、載置台10の載置面10a上に殺菌対象の処理対象物11が載置される。載置面10aは、載置台10の下部で発生するモイスチャに処理対象物11を十分曝すことができるように、網目状とするのが好ましい。
水分供給手段4は、水タンク12、バルブ13、及び配管14で構成される。加熱手段5は、処理空間3内の下部に備わり、ガスボンベ(図示せず)を用いたカセットコンロであるが、ヒーター(セラミックヒーター)等を用いてもよい。加熱手段5上には、水分を収容する容器9が載置されている。水分供給手段4から容器9に水分が供給され、加熱手段5により容器9内の水分が加熱されてモイスチャを発生させる。水分供給手段4と加熱手段5とは、モイスチャを発生させることができればこのような構成に限られない。例えば、水で満たされた水槽内に超音波振動子を投入し、これをガスバーナーで加熱してミスト状とするのでもよい。
処理空間3の内側壁7aに沿って、螺旋部材14が回転可能に支持されている。螺旋部材14は回転手段2によって駆動し、回転軸Yの軸線周りに内側壁7aに沿って回転する。螺旋部材14は、処理対象物11を囲むように配置される。回転手段2としては、例えばモータ、ベルト、及び歯車等が挙げられるが、これに限られない。
図2に螺旋部材14の概略図を示す。螺旋部材14は、カバー体6の内側壁7aに当接する側壁14aと、径方向内側へ開口する螺旋溝14bとからなる。螺旋部材14の外径は、処理空間3の内径と略等しくなるように形成されている。これにより、内側壁7aが螺旋部材14を回転可能に支持することが可能となる。なお、螺旋部材14の巻き数や高さ等は、適宜変更可能である。
モイスチャ処理装置1で処理対象物11をモイスチャにより処理する場合、まず処理対象物11を載置面10aに載置する。この後、バルブ13を調整して、水タンク12内の水を配管14から容器9に供給する。この供給された水分を加熱手段5により加熱し、モイスチャを発生させる。なお、モイスチャの発生効率を高めるため、配管14をノズル形状とし、水分を拡散させながら容器9に供給してもよい。加熱による上昇気流で、モイスチャは上部に載置された処理対象物11まで移動し、モイスチャが持つ熱エネルギーを処理対象物11に付与する。即ち、モイスチャにより殺菌、消毒等の処理を処理対象物11に施すことができる。
ここで、上述したように処理空間3内の温度や湿度は不均質な状態であり、これを均質化させるために、回転手段2により螺旋部材14が駆動され、螺旋部材14が内側壁7aに対して相対的に回転する。螺旋部材14が回転すると、処理空間3内に渦流が発生し、この渦流により処理空間3内の温度や湿度を略均質化することができる。これにより、モイスチャによる処理対象物11の殺菌、消毒等の処理効率を向上することが可能となる。
また、内側壁7aに螺旋部材14を回転可能に支持することにより、例えば処理空間3を広くして、且つ絞りを有するような渦流を発生させやすい処理空間の形状とすることなく、渦流を発生させることができる。これにより、処理空間3の形状を複雑にすることなく、処理空間内の温度や湿度等の均質化を行うことができる。また、螺旋部材14に螺旋溝14bを形成することにより、加熱手段5により加熱された水分が蒸発して上昇気流となり螺旋部材14に到達すると、螺旋溝14bに従って回転運動が加えられるので、渦流の発生が促進される。これにより、より効率よく処理対象物11の殺菌、消毒等の処理を行うことができる。
以上で実施形態の説明を終えるが、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
例えば、上記実施形態では、螺旋部材14は、処理対象物11を囲むように配置しているが、処理空間3の大きさや形状等に応じて処理空間の適切な位置に配置してもよい。つまり、螺旋部材14を回転させて発生する渦流により処理空間内の温度や湿度等を均質化させることの可能な位置に、螺旋部材14を配置するのが好ましい。
また、上記実施形態では、載置台10に処理対象物11を載置しているが、発生させたモイスチャに処理対象物11を曝すように支持できればよく、例えば網状の収容容器に処理対象物11を収容してもよいし、上壁8から処理対象物11を吊り下げてもよい。
例えば、上記実施形態では、螺旋部材14は、処理対象物11を囲むように配置しているが、処理空間3の大きさや形状等に応じて処理空間の適切な位置に配置してもよい。つまり、螺旋部材14を回転させて発生する渦流により処理空間内の温度や湿度等を均質化させることの可能な位置に、螺旋部材14を配置するのが好ましい。
また、上記実施形態では、載置台10に処理対象物11を載置しているが、発生させたモイスチャに処理対象物11を曝すように支持できればよく、例えば網状の収容容器に処理対象物11を収容してもよいし、上壁8から処理対象物11を吊り下げてもよい。
1 モイスチャ処理装置
2 回転手段
4 水分供給手段
5 加熱手段
6 カバー体
7 側壁
7a 内側壁
9 容器
11 処理対象物
14 螺旋部材
14b 螺旋溝
2 回転手段
4 水分供給手段
5 加熱手段
6 カバー体
7 側壁
7a 内側壁
9 容器
11 処理対象物
14 螺旋部材
14b 螺旋溝
Claims (3)
- 殺菌対象物を収容し、殺菌処理をする略密閉した処理空間を形成する処理容器と、
前記処理空間内で前記殺菌対象物を殺菌可能に支持するための支持部材と、
前記処理空間内に水分を供給する水供給手段と、
前記処理空間内に供給された水分を加熱する加熱手段と、
前記処理容器の内側面に沿って回転可能な螺旋部材と、
前記螺旋部材を前記処理容器の内側壁に対して相対的に回転させる回転手段と、
を備えることを特徴とするモイスチャ処理装置。 - 前記螺旋部材は、前記処理容器の内側壁に回転可能に支持されていることを特徴とする請求項1に記載のモイスチャ処理装置。
- 前記螺旋部材は、螺旋溝を備え、
前記螺旋溝は、前記螺旋部材の径方向内側に開口していることを特徴とする請求項1または2に記載のモイスチャ処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012242328A JP2014090836A (ja) | 2012-11-02 | 2012-11-02 | モイスチャ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2012242328A JP2014090836A (ja) | 2012-11-02 | 2012-11-02 | モイスチャ処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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Family Applications (1)
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JP2012242328A Pending JP2014090836A (ja) | 2012-11-02 | 2012-11-02 | モイスチャ処理装置 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2014090836A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016117050A1 (ja) * | 2015-01-21 | 2016-07-28 | 有限会社創造舎 | 殺菌装置及びこれを用いた殺菌方法 |
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-
2012
- 2012-11-02 JP JP2012242328A patent/JP2014090836A/ja active Pending
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Legal Events
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140409 |
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A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140730 |