JP2014086118A - Substrate for suspension, suspension, suspension with head, hard disk drive, and method of manufacturing substrate for suspension - Google Patents

Substrate for suspension, suspension, suspension with head, hard disk drive, and method of manufacturing substrate for suspension Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate for a suspension, which allows a head slider to be accurately displaced by preventing the elastic operation of an actuator element provided in a head area from being hindered and is easy to manufacture.SOLUTION: A substrate 1 for a suspension includes a metallic support layer 20, an insulating layer 10, a wiring layer 40 having a plurality of wires 43 passing an area other than a junction area 2b of a head slider area 2a, and a protection layer 50. A support pedestal 60 supporting a head slider 112 is conductive and is electrically connected to the metallic support layer 20. The support pedestal 60 has a placing surface 61 on which the head slider 112 is placed. A top surface 52a of a pedestal protection part 52 covering the placing surface 61 of the support pedestal 60 is located above a top surface 51a of a wiring protection part 51 covering a top surface 43a of the wires 43 in the head slider area 2a.

Description

本発明は、サスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法に係り、とりわけ、ヘッド領域に設けられたアクチュエータ素子の伸縮動作が阻害されることを防止してヘッドスライダを精度良く変位させることができると共に容易に製造することができるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a suspension substrate, a suspension, a suspension with a head, a hard disk drive, and a method for manufacturing a suspension substrate. The present invention relates to a suspension substrate, a suspension, a suspension with a head, a hard disk drive, and a method for manufacturing a suspension substrate that can be displaced with high accuracy.

一般に、ハードディスクドライブ(HDD)は、データが記憶されるディスクに対してデータの書き込みおよび読み取りを行う磁気ヘッドスライダが実装されたサスペンション用基板(フレキシャー)を備えている。このサスペンション用基板は、磁気ヘッドスライダが実装されるヘッド領域から、FPC基板(フレキシブルプリント基板)に接続されるテール領域に延びるように形成されており、金属支持層と、金属支持層に絶縁層を介して積層された複数の配線を有する配線層と、を備え、各配線に電気信号を流すことにより、ディスクに対してデータの書き込みまたは読み取りを行うようになっている。   Generally, a hard disk drive (HDD) includes a suspension substrate (flexure) on which a magnetic head slider for writing and reading data to and from a disk storing data is mounted. The suspension substrate is formed to extend from a head region on which the magnetic head slider is mounted to a tail region connected to an FPC substrate (flexible printed circuit board), and a metal support layer and an insulating layer on the metal support layer And a wiring layer having a plurality of wirings stacked via each other, and by writing an electric signal through each wiring, data is written to or read from the disk.

このようなハードディスクドライブにおいては、ディスク上の所望のデータトラックに磁気ヘッドスライダを移動させるために、磁気ヘッドスライダを支持するアクチュエータアームを回動させるVCMアクチュエータ(ボイスコイルモータ)を、サーボコントロールシステムによって制御している。   In such a hard disk drive, in order to move the magnetic head slider to a desired data track on the disk, a VCM actuator (voice coil motor) that rotates an actuator arm that supports the magnetic head slider is provided by a servo control system. I have control.

ところで、近年、ディスクの容量増大の要求が高まっている。この要求に応えるために、ディスクが高密度化されて、トラックの幅が小さくなっている。このため、VCMアクチュエータによって、磁気ヘッドスライダを所望のトラックに精度良く位置合わせすることが困難な場合がある。   In recent years, there has been an increasing demand for an increase in disk capacity. In order to meet this demand, the density of the disk is increased and the width of the track is reduced. For this reason, it may be difficult to accurately align the magnetic head slider to a desired track by the VCM actuator.

このことに対処するために、VCMアクチュエータとPZTマイクロアクチュエータ(Dual Stage Actuator:DSA)とを協働させて、所望のトラックに磁気ヘッドスライダを移動させるデュアルアクチュエータ方式のサスペンションが知られている(例えば、特許文献1および2参照)。このPZTマイクロアクチュエータは、PZT(チタン酸ジルコン酸鉛)からなるピエゾ素子(圧電素子)により構成され、電圧が印加されることにより伸縮し、磁気ヘッドスライダを微小に移動させるようになっている。このようなデュアルアクチュエータ方式のサスペンションにおいては、VCMアクチュエータが、磁気ヘッドスライダの位置を大まかに調整し、PZTマイクロアクチュエータが、磁気ヘッドスライダの位置を微小調整する。このようにして、磁気ヘッドスライダを、所望のトラックに、迅速に、かつ精度良く位置合わせするようになっている。   In order to cope with this, a dual actuator type suspension is known in which a VCM actuator and a PZT microactuator (Dual Stage Actuator: DSA) cooperate to move a magnetic head slider to a desired track (for example, Patent Documents 1 and 2). This PZT microactuator is composed of a piezo element (piezoelectric element) made of PZT (lead zirconate titanate), and expands and contracts when a voltage is applied to move the magnetic head slider minutely. In such a dual actuator type suspension, the VCM actuator roughly adjusts the position of the magnetic head slider, and the PZT microactuator finely adjusts the position of the magnetic head slider. In this way, the magnetic head slider is aligned with a desired track quickly and accurately.

特許文献1および2においては、サスペンション用基板のヘッド領域にピエゾ素子が実装されている。この場合、ピエゾ素子をヘッドスライダに近接して配置することができるため、ヘッドスライダの位置合わせの精度向上が可能となる。配線は、ヘッドスライダの下方を平面的に湾曲しながら通っており、ピエゾ素子の伸縮動作が、配線の剛性によって阻害されることを抑制している。   In Patent Documents 1 and 2, a piezoelectric element is mounted on the head region of the suspension substrate. In this case, since the piezo element can be disposed close to the head slider, it is possible to improve the accuracy of alignment of the head slider. The wiring passes under the head slider while being curved in a plane, and the expansion / contraction operation of the piezoelectric element is suppressed from being hindered by the rigidity of the wiring.

特開2010−146631号公報JP 2010-146631 A 特開2012−99204号公報JP 2012-99204 A

上述したように、配線がヘッドスライダの下方を通っているサスペンション用基板においては、ヘッドスライダが配線を覆う保護層に接触する場合、この接触によってピエゾ素子の伸縮動作が阻害され、ヘッドスライダを精度良く変位させることが困難になるという問題がある。   As described above, in the suspension substrate in which the wiring passes under the head slider, when the head slider comes into contact with the protective layer covering the wiring, this contact hinders the expansion / contraction operation of the piezo element, thereby There is a problem that it is difficult to displace well.

このことに対処するために、特許文献1では、金属支持層に、絶縁層(ポリイミド下層)および配線層を介して積層された保護層(ポリイミド第1上層)上に、ポリイミド第2上層が更に積層され、このポリイミド第2上層上にヘッドスライダが載置されるようになっている。しかしながら、このようなポリイミド第2上層を形成する場合、ポリイミド材料が、サスペンション用基板の全面にわたって塗布され、その後エッチングされる。このことから、ポリイミド第2上層を形成するために、無用なポリイミド材料を多く使用するという問題があり、製造効率上好ましくない。   In order to cope with this, in Patent Document 1, a polyimide second upper layer is further provided on a protective layer (polyimide first upper layer) laminated on a metal support layer via an insulating layer (polyimide lower layer) and a wiring layer. A head slider is placed on the second polyimide upper layer. However, when such a polyimide second upper layer is formed, a polyimide material is applied over the entire surface of the suspension substrate and then etched. Therefore, in order to form the polyimide second upper layer, there is a problem that many unnecessary polyimide materials are used, which is not preferable in terms of manufacturing efficiency.

また、特許文献2では、ヘッドスライダの下方の領域において、絶縁層の厚みを薄くした薄肉領域を形成することにより、ヘッドスライダと、配線を覆う保護層との間にギャップを形成して、ヘッドスライダが保護層に接触することを防止している。しかしながら、このようなサスペンション用基板は、アディティブ法といった特定の製造方法では製造し得るが、サブトラクティブ法などの他の製造方法によっては製造工程が煩雑化し、製造効率が低下するという問題がある。   Moreover, in Patent Document 2, a gap is formed between the head slider and the protective layer covering the wiring by forming a thin region where the thickness of the insulating layer is reduced in a region below the head slider. The slider is prevented from contacting the protective layer. However, although such a suspension substrate can be manufactured by a specific manufacturing method such as an additive method, there is a problem that a manufacturing process becomes complicated and manufacturing efficiency decreases depending on other manufacturing methods such as a subtractive method.

本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、ヘッド領域に設けられたアクチュエータ素子の伸縮動作が阻害されることを防止してヘッドスライダを精度良く変位させることができると共に容易に製造することができるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of such points, and can prevent displacement of the actuator element provided in the head region from being hindered and can displace the head slider with high accuracy and is easy. It is an object of the present invention to provide a suspension substrate, a suspension, a suspension with a head, a hard disk drive, and a method for manufacturing a suspension substrate that can be manufactured.

本発明は、ヘッドスライダと、前記ヘッドスライダを変位させる伸縮自在なアクチュエータ素子とが実装されるヘッド領域であって、実装される前記ヘッドスライダにより覆われるヘッドスライダ領域と、前記ヘッドスライダ領域内に配置され、前記ヘッドスライダが接合される接合領域と、を含むヘッド領域を有するサスペンション用基板において、金属支持層と、前記金属支持層上に設けられた絶縁層と、前記絶縁層上に設けられ、前記ヘッドスライダ領域のうち前記接合領域以外の領域を通る複数の配線を有する配線層と、前記絶縁層上に設けられ、前記配線を覆う保護層と、前記保護層上に配置される前記ヘッドスライダを支持する支持台座であって、導電性を有し、前記金属支持層に電気的に接続された支持台座と、を備え、前記支持台座は、前記ヘッドスライダが載置される載置面を有し、前記保護層は、前記ヘッドスライダ領域における前記配線の上面を覆う配線保護部と、前記支持台座の前記載置面を覆う台座保護部と、を有し、前記台座保護部の上面は、前記配線保護部の上面より上方に配置されていることを特徴とするサスペンション用基板を提供する。   The present invention provides a head region in which a head slider and a telescopic actuator element that displaces the head slider are mounted, the head slider region covered by the mounted head slider, and the head slider region In a suspension substrate having a head region including a bonding region to which the head slider is bonded, a metal support layer, an insulating layer provided on the metal support layer, and provided on the insulating layer A wiring layer having a plurality of wires passing through a region other than the bonding region in the head slider region, a protective layer provided on the insulating layer and covering the wiring, and the head disposed on the protective layer A support pedestal for supporting the slider, the support pedestal having conductivity and electrically connected to the metal support layer, The holding pedestal has a mounting surface on which the head slider is mounted, and the protective layer covers a wiring protection portion that covers an upper surface of the wiring in the head slider region and the mounting surface described above of the support pedestal. And a pedestal protection part, and the upper surface of the pedestal protection part is disposed above the upper surface of the wiring protection part.

なお、上述したサスペンション用基板において、前記支持台座の前記載置面は、前記ヘッドスライダ領域における前記配線の上面より上方に配置され、前記保護層の前記配線保護部と前記台座保護部は、同一の厚さを有している、ことが好ましい。   In the suspension substrate described above, the mounting surface of the support pedestal is disposed above the upper surface of the wiring in the head slider region, and the wiring protection portion and the pedestal protection portion of the protective layer are the same. It is preferable that it has thickness of.

また、上述したサスペンション用基板において、前記支持台座は、前記絶縁層および前記配線層を貫通して、前記金属支持層に電気的に接続されている、ことが好ましい。   In the suspension substrate described above, it is preferable that the support base penetrates the insulating layer and the wiring layer and is electrically connected to the metal support layer.

また、上述したサスペンション用基板において、前記配線層は、前記アクチュエータ素子の接地をとるための素子接続端子を有し、前記支持台座は、前記絶縁層および前記素子接続端子を貫通している、ことが好ましい。   In the suspension board described above, the wiring layer has an element connection terminal for grounding the actuator element, and the support base penetrates the insulating layer and the element connection terminal. Is preferred.

また、上述したサスペンション用基板において、前記絶縁層は、前記ヘッドスライダ領域に設けられた、前記金属支持層を露出させる絶縁縁部を有し、前記支持台座は、前記絶縁縁部を覆うように前記金属支持層上に形成されている、ことが好ましい。   Further, in the suspension substrate described above, the insulating layer has an insulating edge provided in the head slider region to expose the metal support layer, and the support pedestal covers the insulating edge. It is preferable that it is formed on the metal support layer.

また、上述したサスペンション用基板において、前記支持台座は、ニッケルにより形成されている、ことが好ましい。   In the suspension substrate described above, it is preferable that the support base is made of nickel.

本発明は、ベースプレートと、前記ベースプレートに、ロードビームを介して取り付けられた上述のサスペンション用基板と、前記サスペンション用基板の前記ヘッド領域に実装された前記アクチュエータ素子と、を備えたことを特徴とするサスペンションを提供する。   The present invention includes a base plate, the above-described suspension substrate attached to the base plate via a load beam, and the actuator element mounted on the head region of the suspension substrate. To provide a suspension.

本発明は、上述のサスペンションと、前記サスペンション用基板の前記ヘッド領域に実装されたヘッドスライダと、を備えたことを特徴とするヘッド付サスペンションを提供する。   The present invention provides a suspension with a head comprising the above-described suspension and a head slider mounted on the head region of the suspension substrate.

本発明は、上述のヘッド付サスペンションを備えたことを特徴とするハードディスクドライブを提供する。   The present invention provides a hard disk drive including the above-described suspension with a head.

本発明は、ヘッドスライダと、前記ヘッドスライダを変位させる伸縮自在なアクチュエータ素子とが実装されるヘッド領域であって、実装される前記ヘッドスライダにより覆われるヘッドスライダ領域と、前記ヘッドスライダ領域内に配置され、前記ヘッドスライダが接合される接合領域と、を含むヘッド領域を有するサスペンション用基板の製造方法において、金属支持層と、前記金属支持層上に設けられた絶縁層と、前記絶縁層上に設けられ、前記ヘッドスライダ領域のうち前記接合領域以外の領域を通る複数の配線を有する配線層と、を有する積層体を形成する工程と、前記積層体の前記絶縁層上に、前記配線を覆う保護層を形成する工程と、を備え、前記積層体を形成する工程において、前記保護層上に配置される前記ヘッドスライダを支持する支持台座であって、導電性を有し、前記金属支持層に電気的に接続され、前記ヘッドスライダが載置される載置面を有する支持台座が形成され、前記保護層を形成する工程において、前記保護層は、前記ヘッドスライダ領域における前記配線を覆う配線保護部と、前記支持台座の前記載置面を覆う台座保護部と、を有するように形成され、前記台座保護部の上面は、前記配線保護部の上面より上方に配置されることを特徴とするサスペンション用基板の製造方法を提供する。   The present invention provides a head region in which a head slider and a telescopic actuator element that displaces the head slider are mounted, the head slider region covered by the mounted head slider, and the head slider region In a method for manufacturing a suspension substrate having a head region including a bonding region to which the head slider is bonded, a metal supporting layer, an insulating layer provided on the metal supporting layer, and the insulating layer And a wiring layer having a plurality of wirings that pass through a region other than the bonding region in the head slider region, and forming the wiring on the insulating layer of the multilayered body. Forming a protective layer for covering, and in the step of forming the laminated body, the head slice disposed on the protective layer. A support pedestal that supports the substrate, has conductivity, is electrically connected to the metal support layer, has a mounting surface on which the head slider is mounted, and forms the protective layer In the step of performing, the protective layer is formed to have a wiring protection portion that covers the wiring in the head slider region, and a pedestal protection portion that covers the mounting surface of the support pedestal. An upper surface is disposed above the upper surface of the wiring protection part. A method for manufacturing a suspension substrate is provided.

なお、上述したサスペンション用基板の製造方法において、前記積層体を形成する工程は、前記配線層を貫通する配線層貫通孔を形成する工程と、前記絶縁層を貫通する絶縁層貫通孔を形成する工程と、前記配線層貫通孔および前記絶縁層貫通孔に前記支持台座を形成する工程と、を有している、ことが好ましい。   In the suspension substrate manufacturing method described above, the step of forming the stacked body includes a step of forming a wiring layer through hole penetrating the wiring layer and an insulating layer through hole penetrating the insulating layer. Preferably, the method includes a step and a step of forming the support base in the wiring layer through hole and the insulating layer through hole.

本発明によれば、ヘッド領域に設けられたアクチュエータ素子の伸縮動作が阻害されることを防止してヘッドスライダを精度良く変位させることができると共に容易に製造することができる。   According to the present invention, it is possible to prevent the expansion / contraction operation of the actuator element provided in the head region from being hindered, and to displace the head slider with high accuracy and to easily manufacture the head slider.

図1は、本発明の実施の形態におけるヘッド付サスペンションの一例を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing an example of a suspension with a head according to an embodiment of the present invention. 図2は、図1のヘッド付サスペンションにおけるヘッド領域を拡大して示す平面図である。FIG. 2 is an enlarged plan view showing a head region in the suspension with a head shown in FIG. 図3は、図2のA−A線断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 図4は、図1のヘッド付サスペンションを含むハードディスクドライブの一例を示す斜視図である。4 is a perspective view showing an example of a hard disk drive including the suspension with a head shown in FIG. 図5(a)〜(e)は、図1のサスペンション用基板の製造方法の一例を示す図である。5A to 5E are views showing an example of a method for manufacturing the suspension substrate of FIG. 図6(a)〜(c)は、図5に続いて、図1のサスペンション用基板の製造方法の一例を示す図である。6 (a) to 6 (c) are diagrams illustrating an example of a manufacturing method of the suspension substrate of FIG. 1 following FIG. 図7は、図3の変形例を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a modification of FIG.

図1乃至図6を用いて、本発明の実施の形態におけるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。   A manufacturing method of a suspension substrate, a suspension, a suspension with a head, a hard disk drive, and a suspension substrate according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the drawings attached to the present specification, for the sake of illustration and ease of understanding, the scale, the vertical / horizontal dimension ratio, and the like are appropriately changed and exaggerated from those of the actual ones.

図1に示すように、ヘッド付サスペンション111は、サスペンション101と、サスペンション用基板1のヘッド領域2に実装されたヘッドスライダ112と、を備えている。このうちヘッドスライダ112は、後述するディスク123(図4参照)に対してデータの書き込みおよび読み取りを行うためのものであり、後述するサスペンション用基板1のヘッド領域2に接着剤を用いて接合されている。また、ヘッドスライダ112は、スライダ端子112bを有し、半田113によってヘッド端子41に電気的に接続されている(図3参照)。   As shown in FIG. 1, the suspension with head 111 includes a suspension 101 and a head slider 112 mounted on the head region 2 of the suspension substrate 1. Of these, the head slider 112 is for writing and reading data on a disk 123 (see FIG. 4) described later, and is bonded to the head region 2 of the suspension substrate 1 described later using an adhesive. ing. The head slider 112 has a slider terminal 112b and is electrically connected to the head terminal 41 by solder 113 (see FIG. 3).

サスペンション101は、ベースプレート102と、ベースプレート102上に取り付けられたロードビーム103と、ロードビーム103に取り付けられたサスペンション用基板1と、ヘッド領域2に実装され、サスペンション用基板1に接続された一対のピエゾ素子(アクチュエータ素子)104と、を備えている。このうちベースプレート102およびロードビーム103は、いずれも、好適にはステンレスにより形成され、互いに溶接されて固定されている。   The suspension 101 is mounted on the base plate 102, the load beam 103 attached on the base plate 102, the suspension substrate 1 attached to the load beam 103, and the head region 2 and connected to the suspension substrate 1. A piezo element (actuator element) 104. Of these, the base plate 102 and the load beam 103 are both preferably made of stainless steel and are fixed to each other by welding.

また、ロードビーム103は、サスペンション用基板1の金属支持層20(後述)に、溶接により取り付けられるようになっている。なお、ロードビーム103には、治具孔(図示せず)が設けられており、サスペンション用基板1には、図1に示すように、当該ロードビーム103の治具孔とアライメント(位置合わせ)を行うための治具孔5が設けられている。このことにより、サスペンション用基板1にロードビーム103を取り付ける際に、サスペンション用基板1とロードビーム103との位置合わせを行うことができるようになっている。ロードビーム103の治具孔およびサスペンション用基板1の治具孔5は、図1に示す長手方向軸線(X)上に配置されている。   The load beam 103 is attached to the metal support layer 20 (described later) of the suspension substrate 1 by welding. The load beam 103 is provided with a jig hole (not shown), and the suspension substrate 1 is aligned with the jig hole of the load beam 103 as shown in FIG. A jig hole 5 for performing the above is provided. Thus, when the load beam 103 is attached to the suspension substrate 1, the suspension substrate 1 and the load beam 103 can be aligned. The jig hole of the load beam 103 and the jig hole 5 of the suspension substrate 1 are arranged on the longitudinal axis (X) shown in FIG.

図1および図2に示すように、ピエゾ素子104は、長手方向(図2のP方向)に伸縮自在に構成され、ヘッドスライダ112をスウェイ方向(旋回方向、図2の矢印Q方向)に変位させるためのものである。また、ピエゾ素子104は、ヘッドスライダ112に近接して配置されている。各ピエゾ素子104は、図3に示すように、一対の電極104aと、一対の電極104a間に設けられ、例えばPZT(チタン酸ジルコン酸鉛)等の圧電セラミックスからなる圧電材料部104bと、を有している。   As shown in FIGS. 1 and 2, the piezo element 104 is configured to expand and contract in the longitudinal direction (P direction in FIG. 2), and the head slider 112 is displaced in the sway direction (swivel direction, arrow Q direction in FIG. 2). It is for making it happen. In addition, the piezo element 104 is disposed in the vicinity of the head slider 112. As shown in FIG. 3, each piezo element 104 includes a pair of electrodes 104a and a piezoelectric material portion 104b provided between the pair of electrodes 104a and made of a piezoelectric ceramic such as PZT (lead zirconate titanate). Have.

図2および図3に示すように、一対の電極104aのうち一方の電極104aは、導電性接着剤105(例えば、銀ペースト)を介して、サスペンション用基板1の第1素子接続端子45(後述)に接続されている。この第1素子接続端子45は、支持台座60(後述)を介して、金属支持層20に接続されて接地されている。他方の電極104aは、導電性接着剤105を介して、サスペンション用基板1の第2素子接続端子46(後述)に接続されている。この第2素子接続端子46は、後述する素子配線44に接続されており、第2素子接続端子46には、ピエゾ素子104を伸縮させるために所定の電圧が印加されるようになっている。   As shown in FIGS. 2 and 3, one electrode 104a of the pair of electrodes 104a is connected to a first element connection terminal 45 (described later) of the suspension substrate 1 via a conductive adhesive 105 (for example, silver paste). )It is connected to the. The first element connection terminal 45 is connected to the metal support layer 20 via a support base 60 (described later) and grounded. The other electrode 104 a is connected to a second element connection terminal 46 (described later) of the suspension substrate 1 via a conductive adhesive 105. The second element connection terminal 46 is connected to an element wiring 44 which will be described later, and a predetermined voltage is applied to the second element connection terminal 46 in order to expand and contract the piezo element 104.

一対のピエゾ素子104の圧電材料部104bは、互いに180°異なる分極方向となるように形成されており、所定の電圧が印加されると、一方のピエゾ素子104が収縮すると共に、他方のピエゾ素子104が伸長するようになっている。すなわち、ピエゾ素子104は、電極104a間に所定の電圧が印加されることにより図2の矢印P方向に伸縮自在な圧電素子として構成されている。   The piezoelectric material portions 104b of the pair of piezo elements 104 are formed to have polarization directions different from each other by 180 °. When a predetermined voltage is applied, one piezo element 104 contracts and the other piezo element 104 104 extends. That is, the piezo element 104 is configured as a piezoelectric element that can expand and contract in the direction of arrow P in FIG. 2 when a predetermined voltage is applied between the electrodes 104a.

このようなピエゾ素子104は、図1に示すように、長手方向軸線(X)に沿って細長の矩形状に形成されており、その伸縮方向が、当該長手方向軸線(X)に平行となっている。また、ピエゾ素子104は、長手方向軸線(X)に対して互いに線対称に配置されており、各ピエゾ素子104の伸縮が、ヘッドスライダ112に均等に伝達されるようになっている。   As shown in FIG. 1, such a piezo element 104 is formed in an elongated rectangular shape along the longitudinal axis (X), and its expansion / contraction direction is parallel to the longitudinal axis (X). ing. The piezo elements 104 are arranged symmetrically with respect to the longitudinal axis (X) so that the expansion and contraction of each piezo element 104 is evenly transmitted to the head slider 112.

次に、サスペンション用基板1について説明する。   Next, the suspension substrate 1 will be described.

図1に示すように、サスペンション用基板1は、ヘッドスライダ112とピエゾ素子104とが実装されるヘッド領域(ジンバル領域)2と、FPC基板(外部接続基板)131が接続されるテール領域3と、を有している。ヘッド領域2には、ヘッドスライダ112に接続される複数のヘッド端子41が設けられ、テール領域3には、FPC基板131に接続される複数のテール端子(外部接続基板端子)42が設けられている。ヘッド端子41とテール端子42とは、後述する複数の信号配線43によってそれぞれ接続されている。   As shown in FIG. 1, the suspension substrate 1 includes a head region (gimbal region) 2 on which the head slider 112 and the piezoelectric element 104 are mounted, and a tail region 3 to which an FPC substrate (external connection substrate) 131 is connected. ,have. The head region 2 is provided with a plurality of head terminals 41 connected to the head slider 112, and the tail region 3 is provided with a plurality of tail terminals (external connection substrate terminals) 42 connected to the FPC board 131. Yes. The head terminal 41 and the tail terminal 42 are respectively connected by a plurality of signal wirings 43 described later.

図2に示すように、ヘッド領域2は、ヘッドスライダ112により覆われるヘッドスライダ領域2aと、ヘッドスライダ領域2a内に配置され、ヘッドスライダ112が接合される接合領域2bと、を含んでいる。ここで、ヘッドスライダ領域2aは、ヘッドスライダ112が実装された場合に、ヘッドスライダ112と平面視で重なるサスペンション用基板1の領域を意味している。接合領域2bは、ヘッドスライダ112をヘッドスライダ領域2aに接合するための接着剤を塗布する領域を意味している。この接合領域2bには、信号配線43が通っていない。このため、ヘッド領域2に実装されたヘッドスライダ112が、信号配線43に直接接合されることを防止し、ピエゾ素子104の伸縮によって、ヘッドスライダ112は、信号配線43に対して相対運動を行うことができるようになっている。   As shown in FIG. 2, the head region 2 includes a head slider region 2 a covered by the head slider 112 and a joining region 2 b that is disposed in the head slider region 2 a and to which the head slider 112 is joined. Here, the head slider region 2a means a region of the suspension substrate 1 that overlaps the head slider 112 in plan view when the head slider 112 is mounted. The bonding region 2b means a region where an adhesive for bonding the head slider 112 to the head slider region 2a is applied. The signal wiring 43 does not pass through the junction region 2b. For this reason, the head slider 112 mounted in the head region 2 is prevented from being directly joined to the signal wiring 43, and the head slider 112 performs relative movement with respect to the signal wiring 43 by the expansion and contraction of the piezo element 104. Be able to.

図1乃至図3に示すように、サスペンション用基板1は、金属支持層20と、金属支持層20上に設けられた絶縁層10と、絶縁層10上に設けられ、複数の配線43、44を有する配線層40と、絶縁層10上に設けられ、配線43、44を覆う保護層50と、を備えている。すなわち、金属支持層20に絶縁層10および配線層40を介して保護層50が積層されている。上述したヘッドスライダ112は、図3に示すように、サスペンション用基板1の保護層50の側(保護層50上)に配置され、ピエゾ素子104は、金属支持層20の側に配置されている。なお、図1および図2においては、図面を明瞭にするために、保護層50は省略している。   As shown in FIGS. 1 to 3, the suspension substrate 1 includes a metal support layer 20, an insulating layer 10 provided on the metal support layer 20, and a plurality of wirings 43 and 44 provided on the insulating layer 10. And a protective layer 50 that is provided on the insulating layer 10 and covers the wirings 43 and 44. That is, the protective layer 50 is laminated on the metal support layer 20 via the insulating layer 10 and the wiring layer 40. As shown in FIG. 3, the head slider 112 described above is disposed on the protective layer 50 side (on the protective layer 50) of the suspension substrate 1, and the piezo element 104 is disposed on the metal support layer 20 side. . In FIGS. 1 and 2, the protective layer 50 is omitted for the sake of clarity.

金属支持層20は、図2および図3に示すように、金属支持層本体21と、ヘッド領域2に配置され、ヘッドスライダ112が取り付けられたタング部22と、を有している。金属支持層本体21とタング部22とは、一対の外側連結部23によって連結されている。また、金属支持層本体21とタング部22とは、一対の外側連結部23の間に配置された中央連結部24によっても連結されている。これらの外側連結部23および中央連結部24は、柔軟性を有しており、ヘッドスライダ112のピボット運動が阻害されることを防止すると共に、ピエゾ素子104の伸縮動作が阻害されることを防止している。また、各外側連結部23と中央連結部24との間に、ピエゾ素子104を収容する収容開口部25が設けられている。   As shown in FIGS. 2 and 3, the metal support layer 20 includes a metal support layer main body 21 and a tongue portion 22 that is disposed in the head region 2 and to which the head slider 112 is attached. The metal support layer main body 21 and the tongue portion 22 are connected by a pair of outer connecting portions 23. Further, the metal support layer main body 21 and the tongue portion 22 are also connected by a central connecting portion 24 disposed between the pair of outer connecting portions 23. The outer connecting portion 23 and the central connecting portion 24 have flexibility and prevent the pivot movement of the head slider 112 from being hindered, and prevent the expansion and contraction operation of the piezo element 104 from being hindered. doing. An accommodation opening 25 for accommodating the piezo element 104 is provided between each outer coupling portion 23 and the central coupling portion 24.

配線層40は、複数の配線、すなわち、一対の読取配線と一対の書込配線とを含む信号配線43と、ピエゾ素子104に接続される一対の素子配線44と、を有している。このうち、信号配線43は、ヘッド端子41とテール端子42とを接続しており、この信号配線43に電気信号が流されることによって、ヘッドスライダ112がディスク123(図4参照)に対してデータの書き込みまたは読み取りを行うようになっている。また、信号配線43は、ヘッドスライダ領域2a、すなわち、実装されるヘッドスライダ112の下方の領域のうち、接合領域2b以外の領域を通っている。より詳細には、テール端子42から延びる信号配線43は、後述する第1素子接続端子45と第2素子接続端子46との間を通ると共に、2つの第1素子接続端子45の間を通って、ヘッド端子41に向かって延びている。一方、テール端子42から延びる素子配線44は、第2素子接続端子46に接続されており、ピエゾ素子104の一方の電極104aに所定の電圧を印加するようになっている。   The wiring layer 40 includes a plurality of wirings, that is, a signal wiring 43 including a pair of reading wirings and a pair of writing wirings, and a pair of element wirings 44 connected to the piezoelectric element 104. Among these, the signal wiring 43 connects the head terminal 41 and the tail terminal 42, and when an electric signal flows through the signal wiring 43, the head slider 112 performs data transfer to the disk 123 (see FIG. 4). Write or read. The signal wiring 43 passes through a region other than the bonding region 2b in the head slider region 2a, that is, a region below the head slider 112 to be mounted. More specifically, the signal wiring 43 extending from the tail terminal 42 passes between a first element connection terminal 45 and a second element connection terminal 46 described later, and passes between the two first element connection terminals 45. , Extending toward the head terminal 41. On the other hand, the element wiring 44 extending from the tail terminal 42 is connected to the second element connection terminal 46, and applies a predetermined voltage to one electrode 104 a of the piezo element 104.

配線層40は、ピエゾ素子104の一方の電極104aに接続される第1素子接続端子(素子接続端子)45と、ピエゾ素子104の他方の電極104aに接続される第2素子接続端子46と、を有している。このうち、第1素子接続端子45は、ピエゾ素子104の対応する電極104aを接地して、ピエゾ素子104の接地をとるためのものであり、後述の支持台座60を介して、金属支持層20のタング部22に電気的に接続されている。第2素子接続端子46は、上述したように、ピエゾ素子104の対応する電極104aに所定の電圧を印加するためのものであり、第2素子接続端子46には、素子配線44が接続されている。また、第1素子接続端子45は、ヘッドスライダ領域2aに配置されており、タング部22に支持されるようになっている。一方、第2素子接続端子46は、ヘッドスライダ領域2aよりもテール領域3の側に配置されており、金属支持層本体21に支持されるようになっている。   The wiring layer 40 includes a first element connection terminal (element connection terminal) 45 connected to one electrode 104a of the piezo element 104, a second element connection terminal 46 connected to the other electrode 104a of the piezo element 104, have. Among these, the first element connection terminal 45 is for grounding the corresponding electrode 104a of the piezo element 104 and grounding the piezo element 104, and the metal support layer 20 via the support pedestal 60 described later. This is electrically connected to the tongue portion 22. As described above, the second element connection terminal 46 is for applying a predetermined voltage to the corresponding electrode 104a of the piezo element 104, and the element wiring 44 is connected to the second element connection terminal 46. Yes. The first element connection terminal 45 is disposed in the head slider region 2 a and is supported by the tongue portion 22. On the other hand, the second element connection terminal 46 is disposed closer to the tail region 3 than the head slider region 2 a and is supported by the metal support layer body 21.

また、配線層40は、後述する支持台座60が貫通する配線台座部47を有している。この配線台座部47は、ヘッドスライダ領域2aに配置されている。   Further, the wiring layer 40 has a wiring pedestal portion 47 through which a support pedestal 60 described later passes. The wiring base 47 is disposed in the head slider area 2a.

図3に示すように、絶縁層10に、素子接続端子45、46をピエゾ素子104の側に露出させる端子開口部11が設けられている。素子接続端子45、46のうち端子開口部11に露出された部分に、ニッケル(Ni)めっきおよび金(Au)めっきがこの順に施されて形成されためっき層70が設けられている。このことにより、素子接続端子45、46が腐食することを防止している。なお、ヘッド端子41およびテール端子42にも、同様にして、めっき層70が設けられている。   As shown in FIG. 3, the insulating layer 10 is provided with a terminal opening 11 that exposes the element connection terminals 45 and 46 to the piezoelectric element 104 side. A plating layer 70 formed by performing nickel (Ni) plating and gold (Au) plating in this order on the portion of the element connection terminals 45 and 46 exposed to the terminal opening 11 is provided. This prevents the element connection terminals 45 and 46 from being corroded. The head terminal 41 and the tail terminal 42 are similarly provided with a plating layer 70.

端子開口部11に導電性接着剤105が塗布されており、収容開口部25に収容されたピエゾ素子104の電極104aが接続されている。素子接続端子45、46と導電性接着剤105との接触抵抗は、めっき層70が設けられていることにより低減されている。また、ピエゾ素子104は、図示しない非導電性接着剤によってサスペンション用基板1に接合されている。   A conductive adhesive 105 is applied to the terminal opening 11, and the electrode 104 a of the piezo element 104 accommodated in the accommodation opening 25 is connected. The contact resistance between the element connection terminals 45 and 46 and the conductive adhesive 105 is reduced by providing the plating layer 70. The piezo element 104 is joined to the suspension substrate 1 by a non-conductive adhesive (not shown).

図2および図3に示すように、ヘッド領域2に、ヘッドスライダ112を支持する支持台座60が設けられている。支持台座60は、導電性を有し、金属支持層30のタング部22に電気的に接続されている。また、支持台座60は、ヘッドスライダ112が載置される載置面61を有している。この載置面61は、ヘッドスライダ領域2aにおける信号配線43の上面(ヘッドスライダ112の側の面)43aより、上方に配置されている。なお、図3に示す支持台座60の載置面61には、凹部64が形成されている。   As shown in FIGS. 2 and 3, a support base 60 that supports the head slider 112 is provided in the head region 2. The support pedestal 60 has conductivity and is electrically connected to the tongue portion 22 of the metal support layer 30. Further, the support base 60 has a placement surface 61 on which the head slider 112 is placed. The mounting surface 61 is disposed above the upper surface (the surface on the head slider 112 side) 43a of the signal wiring 43 in the head slider region 2a. In addition, the recessed part 64 is formed in the mounting surface 61 of the support base 60 shown in FIG.

本実施の形態においては、支持台座60は、絶縁層10および配線層40(より具体的には、第1素子接続端子45および配線台座部47)を貫通する台座貫通部62と、台座貫通部62に一体に形成され、配線層40の上面から上方に突出する台座突出部63と、を有している。このうち台座貫通部62は、絶縁層10を貫通する絶縁層貫通孔12と、配線層40を貫通する配線層貫通孔48に形成されている。台座突出部63が配線層40の上方に突出していることにより、台座突出部63の上面、すなわち載置面61は、信号配線43の上面43aより上方に配置されるようになっている。   In the present embodiment, the support pedestal 60 includes a pedestal penetrating portion 62 that penetrates the insulating layer 10 and the wiring layer 40 (more specifically, the first element connection terminal 45 and the wiring pedestal portion 47), and a pedestal penetrating portion. And a base protrusion 63 that is formed integrally with the protrusion 62 and protrudes upward from the upper surface of the wiring layer 40. Of these, the pedestal penetrating portion 62 is formed in the insulating layer through hole 12 that penetrates the insulating layer 10 and the wiring layer through hole 48 that penetrates the wiring layer 40. Since the base protrusion 63 protrudes above the wiring layer 40, the upper surface of the base protrusion 63, that is, the placement surface 61 is arranged above the upper surface 43 a of the signal wiring 43.

このようにして、支持台座60は、絶縁層10および配線層40を貫通して、タング部22に電気的に接続されている。本実施の形態においては、ヘッド領域2に、5つの支持台座60が設けられており、このうち2つの支持台座60が、第1素子接続端子45を貫通して設けられている。当該2つの支持台座60は、第1素子接続端子45を接地させることができる。また、残り3つの支持台座60は、配線台座部47を貫通して設けられている。当該3つの支持台座60は、配線台座部47を接地させることができる。   In this way, the support pedestal 60 penetrates the insulating layer 10 and the wiring layer 40 and is electrically connected to the tongue portion 22. In the present embodiment, five support pedestals 60 are provided in the head region 2, and two of the support pedestals 60 are provided through the first element connection terminals 45. The two support bases 60 can ground the first element connection terminal 45. Further, the remaining three support bases 60 are provided through the wiring base 47. The three support bases 60 can ground the wiring base 47.

支持台座60は、保護層50によって覆われている。すなわち、図3に示すように、保護層50は、ヘッドスライダ領域2aにおける信号配線43の上面43aを覆う配線保護部51と、支持台座60の載置面61を覆う台座保護部52と、を有している。このうち台座保護部52の上面52aは、配線保護部51の上面51aより上方に配置されている。すなわち、ヘッドスライダ112の下面112aと配線保護部51の上面51aとが離間し、ヘッドスライダ112の下面112aと配線保護部51の上面51aとの間にギャップ(g)が形成されている。なお、本実施の形態においては、保護層50は、台座突出部63を覆うように形成されている。   The support pedestal 60 is covered with a protective layer 50. That is, as shown in FIG. 3, the protective layer 50 includes a wiring protection part 51 that covers the upper surface 43 a of the signal wiring 43 in the head slider region 2 a and a pedestal protection part 52 that covers the mounting surface 61 of the support pedestal 60. Have. Among these, the upper surface 52 a of the base protection unit 52 is disposed above the upper surface 51 a of the wiring protection unit 51. That is, the lower surface 112a of the head slider 112 and the upper surface 51a of the wiring protection part 51 are separated from each other, and a gap (g) is formed between the lower surface 112a of the head slider 112 and the upper surface 51a of the wiring protection part 51. In the present embodiment, the protective layer 50 is formed so as to cover the base protrusion 63.

配線保護部51と台座保護部52とは、同一の厚さを有している。すなわち、配線保護部51と台座保護部52とが同一の厚さを有している場合、支持台座60の載置面61が、ヘッドスライダ領域2aにおける信号配線43の上面43aより上方に配置されることにより、台座保護部52の上面52aを、配線保護部51の上面51aより上方に配置することができる。ここで、同一とは、厳密な意味での同一に限られることはなく、実質的に同一とみなすことができる程度の製造誤差等を含む意味として用いている。   The wiring protection part 51 and the base protection part 52 have the same thickness. That is, when the wiring protection part 51 and the base protection part 52 have the same thickness, the mounting surface 61 of the support base 60 is disposed above the upper surface 43a of the signal wiring 43 in the head slider region 2a. Thus, the upper surface 52 a of the base protection unit 52 can be disposed above the upper surface 51 a of the wiring protection unit 51. Here, the same is not limited to the same in a strict sense, but is used to include a manufacturing error or the like that can be regarded as substantially the same.

次に、サスペンション用基板1の各層を構成する材料について詳細に述べる。   Next, materials constituting each layer of the suspension substrate 1 will be described in detail.

絶縁層10の材料としては、所望の絶縁性を有する材料であれば特に限定されることはないが、例えば、ポリイミド(PI)を用いることが好適である。なお、絶縁層10の材料は、感光性材料であっても非感光性材料であっても用いることができる。また、絶縁層10の厚さは、5μm〜10μmであることが好ましい。このことにより、金属支持層20と各配線43、44との間の絶縁性能を確保するとともに、サスペンション用基板1全体としての剛性が喪失されることを防止することができる。   The material of the insulating layer 10 is not particularly limited as long as it is a material having a desired insulating property. For example, it is preferable to use polyimide (PI). Note that the material of the insulating layer 10 can be a photosensitive material or a non-photosensitive material. Moreover, it is preferable that the thickness of the insulating layer 10 is 5 micrometers-10 micrometers. As a result, the insulation performance between the metal support layer 20 and the wirings 43 and 44 can be ensured, and loss of the rigidity of the suspension substrate 1 as a whole can be prevented.

配線層40の各配線43、44は、電気信号を伝送するための導体として構成されており、各配線43、44の材料としては、所望の導電性を有する材料であれば特に限定されることはないが、銅(Cu)を用いることが好適である。銅以外にも、純銅に準ずる電気特性を有する材料であれば用いることもできる。ここで、各配線43、44の厚さは、5μm〜18μmであることが好ましい。このことにより、各配線43、44の伝送特性を確保するとともに、サスペンション用基板1全体としての柔軟性が喪失されることを防止することができる。なお、ヘッド端子41、テール端子42、素子接続端子45、46および配線台座部47は、各配線43、44と同一の材料、同一の厚みとなっており、配線層40を構成している。   The wirings 43 and 44 of the wiring layer 40 are configured as conductors for transmitting electrical signals, and the materials of the wirings 43 and 44 are particularly limited as long as they have a desired conductivity. However, it is preferable to use copper (Cu). In addition to copper, any material having electrical characteristics similar to pure copper can be used. Here, it is preferable that the thickness of each wiring 43 and 44 is 5 micrometers-18 micrometers. As a result, it is possible to ensure the transmission characteristics of the wirings 43 and 44 and to prevent the flexibility of the suspension substrate 1 as a whole from being lost. The head terminal 41, the tail terminal 42, the element connection terminals 45 and 46, and the wiring pedestal 47 have the same material and the same thickness as the wirings 43 and 44, and constitute the wiring layer 40.

金属支持層20の材料としては、所望の導電性、弾力性、および強度を有するものであれば特に限定されることはないが、例えば、ステンレス、42アロイ、アルミニウム、ベリリウム銅、またはその他の銅合金を用いることができ、このうちステンレスを用いることが好適である。金属支持層20の厚さは、15μm〜20μmであることが好ましい。このことにより、金属支持層20の導電性、剛性、および弾力性を確保することができる。   The material of the metal support layer 20 is not particularly limited as long as it has desired conductivity, elasticity, and strength. For example, stainless steel, 42 alloy, aluminum, beryllium copper, or other copper Alloys can be used, and among these, stainless steel is preferred. The thickness of the metal support layer 20 is preferably 15 μm to 20 μm. As a result, the conductivity, rigidity, and elasticity of the metal support layer 20 can be ensured.

保護層50の材料としては、樹脂材料、例えば、ポリイミドを用いることが好適である。なお、保護層50の材料は、感光性材料であっても非感光性材料であっても用いることができる。保護層50の厚さは、配線43、44上および支持台座60の載置面61上において3μm〜10μmであることが好ましい。   As a material of the protective layer 50, it is preferable to use a resin material, for example, polyimide. The material of the protective layer 50 can be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The thickness of the protective layer 50 is preferably 3 μm to 10 μm on the wirings 43 and 44 and the mounting surface 61 of the support base 60.

支持台座60の材料としては、導電性を有していれば、特に限定されることはないが、支持台座60は、例えば、ニッケルまたは銅により形成されることが好適であり、とりわけ、ニッケルにより形成されることが好ましい。この場合、製造工程上有利である。すなわち、ヘッド領域2に、ヘッドスライダ112の接地をとるための接地端子(図示せず)が設けられている場合、この接地端子と金属支持層20とを接続するための接地ビア(図示せず)が設けられることがある。このような接地ビアは、通常ニッケルにより形成される。このため、接地ビアを形成する工程において、支持台座60を形成することができ、製造工程の煩雑化を防止できる。支持台座60の台座突出部63の厚さは、1〜20μmであることが好適である。この場合、ヘッドスライダ112の下面112aと、配線保護部51の上面51aとの間のギャップを1〜20μmとすることができる。   The material of the support pedestal 60 is not particularly limited as long as it has conductivity, but the support pedestal 60 is preferably formed of, for example, nickel or copper. Preferably it is formed. In this case, it is advantageous in the manufacturing process. That is, when a ground terminal (not shown) for grounding the head slider 112 is provided in the head region 2, a ground via (not shown) for connecting the ground terminal and the metal support layer 20 is provided. ) May be provided. Such a ground via is usually made of nickel. For this reason, in the process of forming the ground via, the support pedestal 60 can be formed, and the manufacturing process can be prevented from becoming complicated. The thickness of the base protrusion 63 of the support base 60 is preferably 1 to 20 μm. In this case, the gap between the lower surface 112a of the head slider 112 and the upper surface 51a of the wiring protection part 51 can be set to 1 to 20 μm.

次に、図4により、本実施の形態におけるハードディスクドライブ121について説明する。図4に示すハードディスクドライブ121は、ケース122と、このケース122に回転自在に取り付けられ、データが記憶されるディスク123と、このディスク123を回転させるスピンドルモータ124と、ディスク123に所望のフライングハイトを保って近接するように設けられ、ディスク123に対してデータの書き込みおよび読み取りを行うヘッドスライダ112を含むヘッド付サスペンション111と、を有している。このうちヘッド付サスペンション111は、ケース122に対して移動自在に取り付けられており、ケース122にはヘッド付サスペンション111のヘッドスライダ112をディスク123上に沿って移動させるボイスコイルモータ125が取り付けられている。また、ヘッド付サスペンション111は、ボイスコイルモータ125にアーム126を介して取り付けられると共に、ハードディスクドライブ121を制御する制御部(図示せず)に接続されたFPC基板131(図1参照)に接続されている。このようにして、電気信号が、サスペンション用基板1とFPC基板131を介して、制御部とヘッドスライダ112との間で伝送されるようになっている。   Next, the hard disk drive 121 in this embodiment will be described with reference to FIG. A hard disk drive 121 shown in FIG. 4 is attached to a case 122, a disk 123 that is rotatably attached to the case 122, stores data, a spindle motor 124 that rotates the disk 123, and a desired flying height on the disk 123. And a suspension 111 with a head including a head slider 112 that writes and reads data to and from the disk 123. Of these, the suspension with head 111 is movably attached to the case 122, and a voice coil motor 125 that moves the head slider 112 of the suspension with head 111 along the disk 123 is attached to the case 122. Yes. The suspension with head 111 is attached to the voice coil motor 125 via an arm 126, and is connected to an FPC board 131 (see FIG. 1) connected to a control unit (not shown) that controls the hard disk drive 121. ing. In this way, an electrical signal is transmitted between the control unit and the head slider 112 via the suspension board 1 and the FPC board 131.

次に、本実施の形態によるサスペンション用基板1の製造方法について説明する。ここでは、一例として、サブトラクティブ法により製造する場合について説明する。   Next, a method for manufacturing the suspension substrate 1 according to the present embodiment will be described. Here, the case where it manufactures by a subtractive method is demonstrated as an example.

まず、金属支持層20と、金属支持層20上に設けられた絶縁層10と、絶縁層10上に設けられた配線層40と、を有する第1積層体81を準備する(図5(a)参照)。この場合、まず、金属支持層20を準備し、この金属支持層20上に、非感光性ポリイミドを用いた塗工方法により絶縁層10が形成される。続いて、絶縁層10上に、ニッケル、クロムおよび銅がスパッタ工法により順次成膜され、シード層(図示せず)が形成される。その後、このシード層を導通媒体として、銅めっきにより配線層40が形成される。このようにして、絶縁層10と金属支持層20と配線層40とを有する第1積層体81が得られる。   First, the 1st laminated body 81 which has the metal support layer 20, the insulating layer 10 provided on the metal support layer 20, and the wiring layer 40 provided on the insulating layer 10 is prepared (FIG. 5 (a). )reference). In this case, first, the metal support layer 20 is prepared, and the insulating layer 10 is formed on the metal support layer 20 by a coating method using non-photosensitive polyimide. Subsequently, nickel, chromium and copper are sequentially formed on the insulating layer 10 by a sputtering method to form a seed layer (not shown). Thereafter, the wiring layer 40 is formed by copper plating using the seed layer as a conductive medium. Thus, the 1st laminated body 81 which has the insulating layer 10, the metal support layer 20, and the wiring layer 40 is obtained.

第1積層体81が準備された後、配線層40および金属支持層20がエッチング加工される(図5(b)参照)。この場合、フォトファブリケーションの手法により、ドライフィルムを用いてパターン状のレジスト(図示せず)が形成され、配線層40および金属支持層20のうち露出された部分が、塩化第二鉄水溶液などの腐食液によりエッチングされる。このようにして、所望の形状を有する配線層40および金属支持層20が形成される。すなわち、配線層40において、各配線43、44、素子接続端子45、46、配線台座部47、ヘッド端子41、テール端子42および配線層貫通孔48が形成される。また、金属支持層20においては、後に形成される絶縁層10の端子開口部11に対応する部分に、収容開口部25が形成される。その後、レジストは除去される。   After the first stacked body 81 is prepared, the wiring layer 40 and the metal support layer 20 are etched (see FIG. 5B). In this case, a patterned resist (not shown) is formed using a dry film by a photofabrication technique, and exposed portions of the wiring layer 40 and the metal support layer 20 are ferric chloride aqueous solution or the like. Etched with a corrosive solution. In this way, the wiring layer 40 and the metal support layer 20 having a desired shape are formed. That is, in the wiring layer 40, the wirings 43 and 44, the element connection terminals 45 and 46, the wiring base 47, the head terminal 41, the tail terminal 42, and the wiring layer through hole 48 are formed. Further, in the metal support layer 20, an accommodation opening 25 is formed at a portion corresponding to the terminal opening 11 of the insulating layer 10 to be formed later. Thereafter, the resist is removed.

配線層40および金属支持層20のエッチング加工の後、絶縁層10に、絶縁層貫通孔12が形成される(図5(c)参照)。この場合、まず、パターン状のレジスト(図示せず)が形成され、絶縁層10の露出された部分がエッチングされて、絶縁層貫通孔12が形成される。ここで、絶縁層10をエッチングする方法は、特に限定されるものではないが、ウェットエッチングを行うことが好ましい。とりわけ、エッチング液は、絶縁層10の材料の種類に応じて適宜選択されることが好ましいが、例えば、絶縁層10がポリイミド樹脂により形成される場合には、有機アルカリエッチング液等のアルカリ系エッチング液を用いることができる。エッチングが行われた後、レジストは除去される。   After the etching process of the wiring layer 40 and the metal support layer 20, the insulating layer through-hole 12 is formed in the insulating layer 10 (see FIG. 5C). In this case, a patterned resist (not shown) is first formed, and the exposed portion of the insulating layer 10 is etched to form the insulating layer through-hole 12. Here, the method of etching the insulating layer 10 is not particularly limited, but it is preferable to perform wet etching. In particular, the etching solution is preferably selected as appropriate according to the type of material of the insulating layer 10. For example, when the insulating layer 10 is formed of a polyimide resin, an alkaline etching such as an organic alkaline etching solution is used. A liquid can be used. After the etching is performed, the resist is removed.

絶縁層貫通孔12が形成された後、支持台座60が形成される(図5(d)参照)。この場合、まず、パターン状のレジスト(図示せず)が形成される。続いて、レジストから露出された部分が酸洗浄されて、当該部分に電解めっき法によりニッケルめっきが施され、支持台座60が形成される。その後、レジストが除去される。   After the insulating layer through-hole 12 is formed, the support base 60 is formed (see FIG. 5D). In this case, first, a patterned resist (not shown) is formed. Subsequently, the portion exposed from the resist is subjected to acid cleaning, and the portion is subjected to nickel plating by an electrolytic plating method to form the support base 60. Thereafter, the resist is removed.

このようにして、金属支持層20と絶縁層10と配線層40と支持台座60とを有する第2積層体(積層体)82が得られる。   Thus, the 2nd laminated body (laminated body) 82 which has the metal support layer 20, the insulating layer 10, the wiring layer 40, and the support base 60 is obtained.

支持台座60が形成された後、第2積層体82の絶縁層10上に、配線層40の各配線43、44および支持台座60を覆う所望の形状の保護層50が形成される(図5(e)参照)。この場合、非感光性ポリイミドが、ダイコータを用いて、絶縁層10、配線層20および支持台座60上に塗布され、これを乾燥させて、保護層50が形成される。続いて、パターン状のレジスト(図示せず)が形成され、保護層50のうち露出された部分がエッチングされ、保護層50を熱硬化させる。このようにして、配線保護部51と台座保護部52とを有する所望の形状の保護層50が得られる。なお、保護層50をエッチングする方法は、絶縁層10をエッチングする方法と同様に、特に限定されるものではないが、ウェットエッチングを行うことが好ましい。とりわけ、エッチング液は、保護層50の材料の種類に応じて適宜選択されることが好ましいが、例えば、保護層50がポリイミド樹脂により形成される場合には、有機アルカリエッチング液等のアルカリ系エッチング液を用いることができる。その後、レジストが除去される。   After the support pedestal 60 is formed, a protective layer 50 having a desired shape is formed on the insulating layer 10 of the second stacked body 82 to cover the wirings 43 and 44 of the wiring layer 40 and the support pedestal 60 (FIG. 5). (See (e)). In this case, non-photosensitive polyimide is applied onto the insulating layer 10, the wiring layer 20, and the support base 60 using a die coater, and dried to form the protective layer 50. Subsequently, a patterned resist (not shown) is formed, the exposed portion of the protective layer 50 is etched, and the protective layer 50 is thermally cured. In this way, a protective layer 50 having a desired shape having the wiring protection part 51 and the pedestal protection part 52 is obtained. The method for etching the protective layer 50 is not particularly limited as in the method for etching the insulating layer 10, but wet etching is preferably performed. In particular, the etching solution is preferably appropriately selected according to the type of material of the protective layer 50. For example, when the protective layer 50 is formed of a polyimide resin, an alkaline etching such as an organic alkaline etching solution is used. A liquid can be used. Thereafter, the resist is removed.

保護層50が得られた後、絶縁層10が所望の形状に外形加工されるとともに、素子接続端子45、46を露出させる端子開口部11が形成される(図6(a)参照)。この場合、図5(c)に示す絶縁層貫通孔12を形成するためのエッチング加工と同様にしてエッチング加工することができる。エッチングが行われた後、レジストは除去される。   After the protective layer 50 is obtained, the insulating layer 10 is trimmed into a desired shape, and the terminal opening 11 that exposes the element connection terminals 45 and 46 is formed (see FIG. 6A). In this case, the etching process can be performed in the same manner as the etching process for forming the insulating layer through-hole 12 shown in FIG. After the etching is performed, the resist is removed.

絶縁層10の外形加工の後、素子接続端子45、46に、めっき層70が形成される(図6(b)参照)。この場合、まず、パターン状のレジスト(図示せず)が形成される。続いて、レジストから露出された部分が酸洗浄されて、当該部分に電解めっき法によりニッケルめっきおよび金めっきが順次施されてめっき層70が形成される。この際、ヘッド端子41およびテール端子42(図1参照)にも同様にしてめっき層70が形成される。なお、めっきを施す方法としては、電解めっき法に限られることはなく、浸漬めっき法、治具めっき法などを用いることもできる。その後、レジストは除去される。   After the outer shape processing of the insulating layer 10, a plating layer 70 is formed on the element connection terminals 45 and 46 (see FIG. 6B). In this case, first, a patterned resist (not shown) is formed. Subsequently, the portion exposed from the resist is subjected to acid cleaning, and nickel plating and gold plating are sequentially performed on the portion by electrolytic plating to form a plating layer 70. At this time, the plating layer 70 is similarly formed on the head terminal 41 and the tail terminal 42 (see FIG. 1). The plating method is not limited to the electrolytic plating method, and an immersion plating method, a jig plating method, or the like can also be used. Thereafter, the resist is removed.

めっき層70が形成された後、金属支持層20が外形加工される(図6(c)参照)。この場合、まず、パターン状のレジスト(図示せず)が形成される。続いて、例えば、塩化鉄系エッチング液により、金属支持層20のうちレジストから露出された部分がエッチングされて、金属支持層20が所望の形状に外形加工される。すなわち、金属支持層本体21、タング部22、外側連結部23および中央連結部24などが形成される。その後、レジストは除去される。   After the plating layer 70 is formed, the metal support layer 20 is trimmed (see FIG. 6C). In this case, first, a patterned resist (not shown) is formed. Subsequently, for example, a portion of the metal support layer 20 exposed from the resist is etched by an iron chloride-based etching solution, and the metal support layer 20 is processed into a desired shape. That is, the metal support layer main body 21, the tongue portion 22, the outer connecting portion 23, the central connecting portion 24, and the like are formed. Thereafter, the resist is removed.

このようにして、本実施の形態によるサスペンション用基板1が得られる。   In this way, the suspension substrate 1 according to the present embodiment is obtained.

次に、上述のようにして得られたサスペンション用基板1を用いたサスペンション101の製造方法について説明する。   Next, a method for manufacturing the suspension 101 using the suspension substrate 1 obtained as described above will be described.

まず、ベースプレート102に、ロードビーム103を介して、上述のサスペンション用基板1が、溶接により取り付けられる。この場合、まず、ベースプレート102にロードビーム103が溶接により固定され、続いて、ロードビーム103に設けられた治具孔(図示せず)と、サスペンション用基板1に設けられた治具孔5とにより、ロードビーム103とサスペンション用基板1とのアライメントが行われる。その後、サスペンション用基板1の金属支持層20に溶接が施されて、ロードビーム103とサスペンション用基板1が互いに接合されて固定される。   First, the above-described suspension substrate 1 is attached to the base plate 102 via the load beam 103 by welding. In this case, first, the load beam 103 is fixed to the base plate 102 by welding, then, a jig hole (not shown) provided in the load beam 103 and a jig hole 5 provided in the suspension substrate 1. Thus, alignment of the load beam 103 and the suspension substrate 1 is performed. Thereafter, the metal support layer 20 of the suspension substrate 1 is welded, and the load beam 103 and the suspension substrate 1 are joined and fixed to each other.

次に、ピエゾ素子104が、サスペンション用基板1のヘッド領域2に実装される。この場合、まず、導電性接着剤105が、絶縁層10の端子開口部11に塗布される。続いて、ピエゾ素子104が収容開口部25に収容される。このことにより、ピエゾ素子104の電極104aが、導電性接着剤105に接続される。次に、非導電性接着剤(図示せず)が塗布される。その後、導電性接着剤105および非導電性接着剤を硬化する。このことにより、ピエゾ素子104がサスペンション用基板1に接合される。   Next, the piezo element 104 is mounted on the head region 2 of the suspension substrate 1. In this case, first, the conductive adhesive 105 is applied to the terminal opening 11 of the insulating layer 10. Subsequently, the piezoelectric element 104 is accommodated in the accommodation opening 25. As a result, the electrode 104 a of the piezo element 104 is connected to the conductive adhesive 105. Next, a non-conductive adhesive (not shown) is applied. Thereafter, the conductive adhesive 105 and the non-conductive adhesive are cured. As a result, the piezo element 104 is bonded to the suspension substrate 1.

このようにして、本実施の形態によるサスペンション101が得られる。   In this way, the suspension 101 according to the present embodiment is obtained.

その後、得られたサスペンション101にヘッドスライダ112が実装される。この場合、まず、ヘッド領域2の接合領域2bに接着剤が塗布されて、ヘッドスライダ112がヘッド領域2に接合される。続いて、ヘッド端子41と、ヘッドスライダ112のスライダ端子112bとが半田113により接続される。このようにして、本実施の形態によるヘッド付サスペンション111が得られる。   Thereafter, the head slider 112 is mounted on the obtained suspension 101. In this case, first, an adhesive is applied to the joining region 2 b of the head region 2, and the head slider 112 is joined to the head region 2. Subsequently, the head terminal 41 and the slider terminal 112 b of the head slider 112 are connected by solder 113. Thus, the suspension with head 111 according to the present embodiment is obtained.

さらに、このヘッド付サスペンション111がハードディスクドライブ121のアーム126に取り付けられると共に、サスペンション用基板1のテール端子42にFPC基板131(図1参照)が接続されて、図4に示すハードディスクドライブ121が得られる。   Further, the suspension with head 111 is attached to the arm 126 of the hard disk drive 121, and the FPC board 131 (see FIG. 1) is connected to the tail terminal 42 of the suspension board 1 to obtain the hard disk drive 121 shown in FIG. It is done.

図4に示すハードディスクドライブ121においてデータの書き込みおよび読み取りを行う際、スピンドルモータ124によってディスク123が回転し、ボイスコイルモータ125によってヘッド付サスペンション111のヘッドスライダ112がディスク123に沿って移動する。この際、ヘッドスライダ112は、ディスク123の回転により生じた気流の影響を受けて、タング部22と共にピボット運動を行いながら、ディスク123に所望のフライングハイトを保って浮上する。この状態で、ヘッドスライダ112とディスク123との間で、データの受け渡しが行われる。この間、サスペンション用基板1とFPC基板131を介して、FPC基板131に接続されている制御部(図示せず)とヘッドスライダ112との間で電気信号が伝送される。このような電気信号は、サスペンション用基板1においては、各信号配線43によって、ヘッド端子41(図1参照)とテール端子42との間で伝送される。   When writing and reading data in the hard disk drive 121 shown in FIG. 4, the disk 123 is rotated by the spindle motor 124, and the head slider 112 of the suspension with head 111 is moved along the disk 123 by the voice coil motor 125. At this time, the head slider 112 floats while maintaining a desired flying height on the disk 123 while performing a pivot motion together with the tongue 22 under the influence of the airflow generated by the rotation of the disk 123. In this state, data is exchanged between the head slider 112 and the disk 123. During this time, an electrical signal is transmitted between the head slider 112 and a control unit (not shown) connected to the FPC board 131 via the suspension board 1 and the FPC board 131. Such an electrical signal is transmitted between the head terminal 41 (see FIG. 1) and the tail terminal 42 by each signal wiring 43 in the suspension board 1.

ヘッドスライダ112を移動させる際、ボイスコイルモータ125が、ヘッドスライダ112の位置を大まかに調整し、ピエゾ素子104が、ヘッドスライダ112の位置を微小調整する。すなわち、ピエゾ素子104の電極104aに所定の電圧を印加することにより、長手方向軸線(X)に沿った方向(図2の矢印P方向)に、一方のピエゾ素子104が収縮すると共に他方のピエゾ素子104が伸長する。この場合、ピエゾ素子104には、素子配線44、第2素子接続端子46および導電性接着剤105を介して所定の電圧が入力される。   When moving the head slider 112, the voice coil motor 125 roughly adjusts the position of the head slider 112, and the piezo element 104 finely adjusts the position of the head slider 112. That is, by applying a predetermined voltage to the electrode 104a of the piezo element 104, one piezo element 104 contracts in the direction along the longitudinal axis (X) (the direction of arrow P in FIG. 2) and the other piezo element 104 Element 104 expands. In this case, a predetermined voltage is input to the piezoelectric element 104 via the element wiring 44, the second element connection terminal 46, and the conductive adhesive 105.

ピエゾ素子104が伸縮すると、金属支持層20の外側連結部23および中央連結部24が弾性変形し、ヘッド領域2に実装されているヘッドスライダ112がスウェイ方向(図2の矢印Q方向)に移動する。この際、図3に示すように、ヘッドスライダ112の下面112aと配線保護部51の上面51aとの間にギャップ(g)が形成されていることにより、ヘッドスライダ112は、配線保護部51に対して相対的に移動することができる。このようにして、ピエゾ素子104の伸縮動作が阻害されることを防止し、ヘッドスライダ112を、ディスク123の所望のトラックに、精度良く位置合わせすることができる。   When the piezo element 104 expands and contracts, the outer connecting portion 23 and the central connecting portion 24 of the metal support layer 20 are elastically deformed, and the head slider 112 mounted on the head region 2 moves in the sway direction (arrow Q direction in FIG. 2). To do. At this time, as shown in FIG. 3, the gap (g) is formed between the lower surface 112 a of the head slider 112 and the upper surface 51 a of the wiring protection unit 51, so that the head slider 112 is connected to the wiring protection unit 51. It can move relatively. In this manner, the expansion / contraction operation of the piezo element 104 is prevented from being hindered, and the head slider 112 can be accurately aligned with a desired track of the disk 123.

このように本実施の形態によれば、ヘッドスライダ112が載置される支持台座60の載置面61を覆う台座保護部52の上面52aが、ヘッドスライダ領域2aにおける信号配線43の上面43aを覆う配線保護部51の上面51aより上方に配置されている。このことにより、支持台座60に支持されたヘッドスライダ112の下面112aと、配線保護部51の上面51aとの間に、ギャップ(g)を形成することができる。このため、ピエゾ素子104が伸縮した際に、ピエゾ素子104の伸縮動作が、ヘッドスライダ112と配線保護部51とが接触することにより阻害されることを防止できる。この結果、ヘッド領域2に設けられたピエゾ素子104の伸縮動作が阻害されることを防止し、ヘッドスライダ112を精度良く変位させることができる。   As described above, according to the present embodiment, the upper surface 52a of the pedestal protection unit 52 that covers the mounting surface 61 of the support pedestal 60 on which the head slider 112 is mounted has the upper surface 43a of the signal wiring 43 in the head slider region 2a. It is arranged above the upper surface 51a of the wiring protection part 51 to be covered. Thus, a gap (g) can be formed between the lower surface 112 a of the head slider 112 supported by the support base 60 and the upper surface 51 a of the wiring protection unit 51. For this reason, when the piezo element 104 expands and contracts, it is possible to prevent the expansion and contraction operation of the piezo element 104 from being hindered by contact between the head slider 112 and the wiring protection unit 51. As a result, it is possible to prevent the expansion / contraction operation of the piezo element 104 provided in the head region 2 from being hindered and to displace the head slider 112 with high accuracy.

また、本実施の形態によれば、支持台座60の載置面61が、ヘッドスライダ領域2aにおける信号配線43の上面43aより上方に配置され、保護層50の配線保護部51と台座保護部52は、同一の厚さを有している。このことにより、保護層50の台座保護部52の上面52aを、配線保護部51の上面51aより上方に配置することができる。すなわち、保護層50の配線保護部51と台座保護部52が同一の厚さを有している場合、支持台座60の載置面61の高さを変えることにより、台座保護部52の上面52aの高さを調節し、ヘッドスライダ112の下面112aと配線保護部51の上面51aとの間のギャップ(g)を調整することができる。支持台座60の載置面61の高さは、支持台座60を形成する際のニッケルめっきのめっき条件(例えば、めっき時間など)を変えることにより、容易に調整可能である。このため、ヘッドスライダ112の下面112aと配線保護部51の上面51aとの間のギャップ(g)を容易に調整することができる。例えば、ピエゾ素子104が伸縮した際に信号配線43の厚さ方向の撓みが大きくなる場合には、上記ギャップ(g)を増やすように支持台座60の載置面61の高さを容易に高くすることができる。この場合、ヘッドスライダ112と配線保護部51との接触をより一層確実に防止することができる。   Further, according to the present embodiment, the mounting surface 61 of the support pedestal 60 is disposed above the upper surface 43a of the signal wiring 43 in the head slider region 2a, and the wiring protection part 51 and the pedestal protection part 52 of the protective layer 50 are arranged. Have the same thickness. As a result, the upper surface 52 a of the pedestal protection part 52 of the protective layer 50 can be disposed above the upper surface 51 a of the wiring protection part 51. That is, when the wiring protective part 51 and the pedestal protective part 52 of the protective layer 50 have the same thickness, the upper surface 52a of the pedestal protective part 52 is changed by changing the height of the mounting surface 61 of the support pedestal 60. The gap (g) between the lower surface 112a of the head slider 112 and the upper surface 51a of the wiring protection part 51 can be adjusted. The height of the mounting surface 61 of the support pedestal 60 can be easily adjusted by changing the plating conditions (for example, plating time) of nickel plating when the support pedestal 60 is formed. For this reason, the gap (g) between the lower surface 112a of the head slider 112 and the upper surface 51a of the wiring protection part 51 can be adjusted easily. For example, when the bending in the thickness direction of the signal wiring 43 increases when the piezoelectric element 104 expands and contracts, the height of the mounting surface 61 of the support base 60 is easily increased so as to increase the gap (g). can do. In this case, contact between the head slider 112 and the wiring protection part 51 can be prevented more reliably.

また、本実施の形態によれば、支持台座60が、導電性を有し、絶縁層10および配線層40の部分(第1素子接続端子45および配線台座部47)を貫通して、金属支持層20のタング部22に接続されている。このことにより、支持台座60をタング部22に電気的に接続することができ、支持台座60が貫通している配線層40の部分を接地することができる。このため、支持台座60が貫通している配線層40の部分が、電気的に不安定になることを防止し、信号配線43の電気特性を安定化させることができる。   Further, according to the present embodiment, the support pedestal 60 has conductivity, penetrates through the insulating layer 10 and the wiring layer 40 (the first element connection terminal 45 and the wiring pedestal 47), and supports the metal. Connected to the tongue 22 of the layer 20. Thus, the support pedestal 60 can be electrically connected to the tongue 22 and the portion of the wiring layer 40 through which the support pedestal 60 passes can be grounded. For this reason, the portion of the wiring layer 40 through which the support base 60 passes can be prevented from becoming electrically unstable, and the electrical characteristics of the signal wiring 43 can be stabilized.

また、本実施の形態によれば、5つの支持台座60のうち、2つの支持台座60は、第1素子接続端子45を貫通している。このことにより、当該2つの支持台座60に、ヘッドスライダ112を支持する機能だけでなく、ピエゾ素子104の接地をとる機能をも付与させることができ、ヘッド領域2の構造を簡素化することができる。   Further, according to the present embodiment, of the five support bases 60, the two support bases 60 penetrate the first element connection terminals 45. As a result, not only the function of supporting the head slider 112 but also the function of grounding the piezo element 104 can be given to the two support bases 60, and the structure of the head region 2 can be simplified. it can.

また、本実施の形態によれば、支持台座60の載置面61上に、保護層50の台座保護部52を介してヘッドスライダ112が載置される。このことにより、導電性を有する支持台座60が、ヘッドスライダ112と電気的に接続されることを防止できる。ここで、磁性材料であるニッケルにより形成された支持台座60が、ヘッドスライダ112と電気的に接続される場合、支持台座60にヘッドスライダ112の接地電流が流れ、これにより、ハードディスクドライブ121のディスク123に書き込まれているデータを破損させるおそれがある。これに対して、本実施の形態によれば、上述したように、支持台座60とヘッドスライダ112とが電気的に接続されることを防止しているため、ディスク123のデータが破損することを防止できる。   Further, according to the present embodiment, the head slider 112 is placed on the placement surface 61 of the support pedestal 60 via the pedestal protection part 52 of the protective layer 50. This can prevent the electrically conductive support base 60 from being electrically connected to the head slider 112. Here, when the support pedestal 60 formed of nickel, which is a magnetic material, is electrically connected to the head slider 112, the ground current of the head slider 112 flows through the support pedestal 60, and thereby the disk of the hard disk drive 121. There is a possibility that the data written in 123 may be damaged. On the other hand, according to the present embodiment, as described above, since the support base 60 and the head slider 112 are prevented from being electrically connected, the data on the disk 123 is prevented from being damaged. Can be prevented.

また、本実施の形態によれば、ヘッドスライダ112の下面112aと信号配線43上の配線保護部51の上面51aとの間にギャップ(g)を形成可能にするための支持台座60を、例えば、ニッケルめっき等の金属めっきにより形成することができる。このため、支持台座60を有するサスペンション用基板1を、容易に製造することができる。とりわけ、支持台座60をニッケルにより形成する場合、ヘッドスライダ112の接地を取るための接地端子(図示せず)を金属支持層20と接続するための接地ビア(図示せず)と、同一の工程において形成することができる。この場合、製造工程の煩雑化を防止することができる。   Further, according to the present embodiment, the support pedestal 60 for enabling the gap (g) to be formed between the lower surface 112a of the head slider 112 and the upper surface 51a of the wiring protection part 51 on the signal wiring 43, for example, It can be formed by metal plating such as nickel plating. For this reason, the suspension substrate 1 having the support base 60 can be easily manufactured. In particular, when the support base 60 is made of nickel, the same process as a ground via (not shown) for connecting a ground terminal (not shown) for grounding the head slider 112 to the metal support layer 20 is performed. Can be formed. In this case, complication of the manufacturing process can be prevented.

さらに、本実施の形態によれば、ヘッドスライダ112は、平面領域を小さくし得る支持台座60によって支持されている。ここで、特許文献2に示すようにして絶縁層10に薄肉領域を形成する場合には、薄肉領域の周囲の断面がテーパー状に形成される。この場合、薄肉領域を形成するために必要となる平面領域が大きくなり、ヘッドスライダ領域2aにおける信号配線43の配置およびヘッドスライダ112の支持箇所等が制約され得る。しかしながら、本実施の形態によれば、上述したように、平面領域を小さくし得る支持台座60によってヘッドスライダ112が支持されている。このことにより、ヘッドスライダ領域2aにおける信号配線43の配置等が制約されることを抑制できる。また、支持台座60の配置に融通性を持たせることができ、ヘッドスライダ112を支持するために効果的な位置に、支持台座60をピンポイントで配置することもできる。   Furthermore, according to the present embodiment, the head slider 112 is supported by the support base 60 that can reduce the planar area. Here, when a thin region is formed in the insulating layer 10 as shown in Patent Document 2, a cross section around the thin region is formed in a tapered shape. In this case, the plane area required for forming the thin area is increased, and the arrangement of the signal wiring 43 in the head slider area 2a and the support position of the head slider 112 can be restricted. However, according to the present embodiment, as described above, the head slider 112 is supported by the support base 60 that can reduce the plane area. As a result, it is possible to prevent the arrangement of the signal wiring 43 in the head slider region 2a from being restricted. Further, the arrangement of the support pedestal 60 can be provided with flexibility, and the support pedestal 60 can be pinpointed at a position effective for supporting the head slider 112.

なお、上述した本実施の形態においては、サスペンション用基板がサブトラクティブ法により製造される例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、サスペンション用基板は、アディティブ法により製造することもできる。この場合、例えば、第1素子接続端子45および配線台座部47が絶縁層貫通孔12に入り込むように形成され、支持台座60を第1素子接続端子45上および配線台座部47上に形成し、金属支持層20に電気的に接続された支持台座60を得ることができる。すなわち、本発明によるサスペンション用基板1を、サブトラクティブ法だけではなく、アディティブ法によっても製造することができ、種々の方法で容易に製造することができる。   In the above-described embodiment, the example in which the suspension substrate is manufactured by the subtractive method has been described. However, the present invention is not limited to this, and the suspension substrate can be manufactured by an additive method. In this case, for example, the first element connection terminal 45 and the wiring pedestal 47 are formed so as to enter the insulating layer through-hole 12, and the support pedestal 60 is formed on the first element connection terminal 45 and the wiring pedestal 47. A support base 60 electrically connected to the metal support layer 20 can be obtained. That is, the suspension substrate 1 according to the present invention can be manufactured not only by the subtractive method but also by the additive method, and can be easily manufactured by various methods.

また、上述した本実施の形態においては、支持台座60の台座突出部63が、保護層50により覆われている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、台座突出部63のうち載置面61のみが保護層50により覆われるようにして、台座突出部63の側面は、保護層50により覆われることなく露出されていてもよい。   Moreover, in this Embodiment mentioned above, the base protrusion part 63 of the support base 60 demonstrated the example covered with the protective layer 50. As shown in FIG. However, the present invention is not limited to this, and only the mounting surface 61 of the base protrusion 63 is covered with the protective layer 50, and the side surface of the base protrusion 63 is exposed without being covered with the protective layer 50. May be.

また、上述した本実施の形態においては、5つの支持台座60が設けられる例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、ヘッドスライダ112を支持する支持台座60の個数は、任意とすることができる。また、5つの支持台座60のうち2つの支持台座60が、第1素子接続端子45を貫通して設けられている例に限られることはなく、5つの支持台座60が、ともに配線台座部47を貫通して設けられるようにしてもよい。   Moreover, in this Embodiment mentioned above, the example in which the five support bases 60 were provided was demonstrated. However, the present invention is not limited to this, and the number of support bases 60 that support the head slider 112 can be arbitrarily set. Further, the two support pedestals 60 among the five support pedestals 60 are not limited to the example provided through the first element connection terminals 45, and the five support pedestals 60 are both the wiring pedestal portion 47. May be provided so as to pass through.

また、上述した本実施の形態においては、支持台座60が、絶縁層10および配線層40を貫通する例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、支持台座60は、図7に示す形態とすることもできる。   Moreover, in this Embodiment mentioned above, the support base 60 demonstrated the example which penetrates the insulating layer 10 and the wiring layer 40. FIG. However, the present invention is not limited to this, and the support base 60 can be configured as shown in FIG.

すなわち、図7に示す形態においては、絶縁層10は、ヘッドスライダ領域2aに設けられた、金属支持層20のタング部22を上方(ヘッドスライダ112の側)に露出させる絶縁縁部13を有し、載置面61を有する支持台座65が、この絶縁縁部13を覆うようにタング部22上に形成されている。このような形態の支持台座65も、支持台座60と同様にしてニッケルめっきにより形成することが好適である。また、上述した本実施の形態と同様にして、当該支持台座65の載置面61上に、保護層50の台座保護部52が形成されている。   In other words, in the form shown in FIG. 7, the insulating layer 10 has the insulating edge 13 provided in the head slider region 2a so that the tongue 22 of the metal support layer 20 is exposed upward (on the head slider 112 side). A support base 65 having a mounting surface 61 is formed on the tongue 22 so as to cover the insulating edge 13. The support pedestal 65 having such a configuration is also preferably formed by nickel plating in the same manner as the support pedestal 60. Further, a pedestal protection part 52 of the protective layer 50 is formed on the mounting surface 61 of the support pedestal 65 in the same manner as in the present embodiment described above.

図7に示す形態においても、支持台座65に支持されたヘッドスライダ112の下面112aと、配線保護部51の上面51aとの間に、ギャップ(g)を形成することができ、ヘッド領域2に設けられたピエゾ素子104の伸縮動作が阻害されることを防止し、ヘッドスライダ112を精度良く変位させることができる。また、ピエゾ素子114が伸縮した際に信号配線43の厚さ方向の撓みが大きくなる場合であっても、ヘッドスライダ領域2aに図7に示すような支持台座65を設けることによって、絶縁縁部13がタング部22から剥離されることを防止し、絶縁縁部13のタング部22に対する密着性を向上させることができる。   Also in the form shown in FIG. 7, a gap (g) can be formed between the lower surface 112 a of the head slider 112 supported by the support base 65 and the upper surface 51 a of the wiring protection unit 51, and the head region 2 can be formed. It is possible to prevent the expansion / contraction operation of the provided piezo element 104 from being hindered and to displace the head slider 112 with high accuracy. In addition, even when the deflection in the thickness direction of the signal wiring 43 increases when the piezo element 114 expands and contracts, by providing a support base 65 as shown in FIG. 7 in the head slider region 2a, an insulating edge portion is provided. 13 can be prevented from being peeled off from the tongue 22, and the adhesion of the insulating edge 13 to the tongue 22 can be improved.

以上、本発明の実施の形態について詳細に説明してきたが、本発明によるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法は、上記実施の形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能である。   Although the embodiments of the present invention have been described in detail, the suspension substrate, the suspension, the suspension with a head, the hard disk drive, and the suspension substrate manufacturing method according to the present invention are not limited to the above-described embodiments. Instead, various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

1 サスペンション用基板
2 ヘッド領域
2a ヘッドスライダ領域
2b 接合領域
10 絶縁層
12 絶縁層貫通孔
13 絶縁縁部
20 金属支持層
40 配線層
43 信号配線
43a 上面
45 第1素子接続端子
48 配線層貫通孔
50 保護層
51 配線保護部
51a 上面
52 台座保護部
52a 上面
60 支持台座
61 載置面
82 第2積層体
101 サスペンション
102 ベースプレート
103 ロードビーム
104 ピエゾ素子
111 ヘッド付サスペンション
112 ヘッドスライダ
121 ハードディスクドライブ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Suspension board | substrate 2 Head area | region 2a Head slider area | region 2b Joint area | region 10 Insulating layer 12 Insulating layer through-hole 13 Insulating edge 20 Metal support layer 40 Wiring layer 43 Signal wiring 43a Upper surface 45 1st element connection terminal 48 Wiring layer through-hole 50 Protective layer 51 Wiring protector 51a Top surface 52 Base protector 52a Top surface 60 Support base 61 Placement surface 82 Second laminated body 101 Suspension 102 Base plate 103 Load beam 104 Piezo element 111 Suspension with head 112 Head slider 121 Hard disk drive

Claims (11)

ヘッドスライダと、前記ヘッドスライダを変位させる伸縮自在なアクチュエータ素子とが実装されるヘッド領域であって、実装される前記ヘッドスライダにより覆われるヘッドスライダ領域と、前記ヘッドスライダ領域内に配置され、前記ヘッドスライダが接合される接合領域と、を含むヘッド領域を有するサスペンション用基板において、
金属支持層と、
前記金属支持層上に設けられた絶縁層と、
前記絶縁層上に設けられ、前記ヘッドスライダ領域のうち前記接合領域以外の領域を通る複数の配線を有する配線層と、
前記絶縁層上に設けられ、前記配線を覆う保護層と、
前記保護層上に配置される前記ヘッドスライダを支持する支持台座であって、導電性を有し、前記金属支持層に電気的に接続された支持台座と、を備え、
前記支持台座は、前記ヘッドスライダが載置される載置面を有し、
前記保護層は、前記ヘッドスライダ領域における前記配線の上面を覆う配線保護部と、前記支持台座の前記載置面を覆う台座保護部と、を有し、
前記台座保護部の上面は、前記配線保護部の上面より上方に配置されていることを特徴とするサスペンション用基板。
A head region in which a head slider and a telescopic actuator element that displaces the head slider are mounted, the head slider region covered by the mounted head slider, and the head slider region disposed in the head slider region; In a suspension substrate having a head region including a bonding region to which a head slider is bonded,
A metal support layer;
An insulating layer provided on the metal support layer;
A wiring layer provided on the insulating layer and having a plurality of wires passing through a region other than the bonding region in the head slider region;
A protective layer provided on the insulating layer and covering the wiring;
A support pedestal for supporting the head slider disposed on the protective layer, the support pedestal having conductivity and electrically connected to the metal support layer,
The support pedestal has a mounting surface on which the head slider is mounted;
The protective layer includes a wiring protection portion that covers an upper surface of the wiring in the head slider region, and a pedestal protection portion that covers a placement surface of the support pedestal,
The suspension substrate according to claim 1, wherein an upper surface of the pedestal protection unit is disposed above an upper surface of the wiring protection unit.
前記支持台座の前記載置面は、前記ヘッドスライダ領域における前記配線の上面より上方に配置され、
前記保護層の前記配線保護部と前記台座保護部は、同一の厚さを有していることを特徴とする請求項1に記載のサスペンション用基板。
The mounting surface of the support pedestal is disposed above the upper surface of the wiring in the head slider region,
The suspension substrate according to claim 1, wherein the wiring protection portion and the pedestal protection portion of the protection layer have the same thickness.
前記支持台座は、前記絶縁層および前記配線層を貫通して、前記金属支持層に電気的に接続されていることを特徴とする請求項1または2に記載のサスペンション用基板。   The suspension substrate according to claim 1, wherein the support base penetrates the insulating layer and the wiring layer and is electrically connected to the metal support layer. 前記配線層は、前記アクチュエータ素子の接地をとるための素子接続端子を有し、
前記支持台座は、前記絶縁層および前記素子接続端子を貫通していることを特徴とする請求項3に記載のサスペンション用基板。
The wiring layer has an element connection terminal for grounding the actuator element;
The suspension substrate according to claim 3, wherein the support base passes through the insulating layer and the element connection terminal.
前記絶縁層は、前記ヘッドスライダ領域に設けられた、前記金属支持層を露出させる絶縁縁部を有し、
前記支持台座は、前記絶縁縁部を覆うように前記金属支持層上に形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載のサスペンション用基板。
The insulating layer has an insulating edge provided in the head slider region and exposing the metal support layer;
3. The suspension substrate according to claim 1, wherein the support base is formed on the metal support layer so as to cover the insulating edge portion. 4.
前記支持台座は、ニッケルにより形成されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載のサスペンション用基板。   6. The suspension board according to claim 1, wherein the support base is made of nickel. ベースプレートと、
前記ベースプレートに、ロードビームを介して取り付けられた請求項1乃至6のいずれかに記載の前記サスペンション用基板と、
前記サスペンション用基板の前記ヘッド領域に実装された前記アクチュエータ素子と、を備えたことを特徴とするサスペンション。
A base plate;
The suspension substrate according to any one of claims 1 to 6, attached to the base plate via a load beam;
And the actuator element mounted on the head region of the suspension substrate.
請求項7に記載の前記サスペンションと、
前記サスペンション用基板の前記ヘッド領域に実装されたヘッドスライダと、を備えたことを特徴とするヘッド付サスペンション。
The suspension according to claim 7;
And a head slider mounted on the head region of the suspension substrate.
請求項8に記載の前記ヘッド付サスペンションを備えたことを特徴とするハードディスクドライブ。   A hard disk drive comprising the suspension with a head according to claim 8. ヘッドスライダと、前記ヘッドスライダを変位させる伸縮自在なアクチュエータ素子とが実装されるヘッド領域であって、実装される前記ヘッドスライダにより覆われるヘッドスライダ領域と、前記ヘッドスライダ領域内に配置され、前記ヘッドスライダが接合される接合領域と、を含むヘッド領域を有するサスペンション用基板の製造方法において、
金属支持層と、前記金属支持層上に設けられた絶縁層と、前記絶縁層上に設けられ、前記ヘッドスライダ領域のうち前記接合領域以外の領域を通る複数の配線を有する配線層と、を有する積層体を形成する工程と、
前記積層体の前記絶縁層上に、前記配線を覆う保護層を形成する工程と、を備え、
前記積層体を形成する工程において、前記保護層上に配置される前記ヘッドスライダを支持する支持台座であって、導電性を有し、前記金属支持層に電気的に接続され、前記ヘッドスライダが載置される載置面を有する支持台座が形成され、
前記保護層を形成する工程において、前記保護層は、前記ヘッドスライダ領域における前記配線を覆う配線保護部と、前記支持台座の前記載置面を覆う台座保護部と、を有するように形成され、
前記台座保護部の上面は、前記配線保護部の上面より上方に配置されることを特徴とするサスペンション用基板の製造方法。
A head region in which a head slider and a telescopic actuator element that displaces the head slider are mounted, the head slider region covered by the mounted head slider, and the head slider region disposed in the head slider region; In a method for manufacturing a suspension substrate having a head region including a bonding region to which a head slider is bonded,
A metal support layer, an insulating layer provided on the metal support layer, and a wiring layer provided on the insulating layer and having a plurality of wirings passing through a region other than the bonding region in the head slider region. Forming a laminate having:
Forming a protective layer covering the wiring on the insulating layer of the laminate, and
In the step of forming the laminated body, the support pedestal that supports the head slider disposed on the protective layer, has conductivity, is electrically connected to the metal support layer, and the head slider is A support pedestal having a placement surface to be placed is formed,
In the step of forming the protective layer, the protective layer is formed to have a wiring protective part that covers the wiring in the head slider region, and a pedestal protective part that covers the mounting surface of the support pedestal,
A method for manufacturing a suspension substrate, wherein the upper surface of the pedestal protection portion is disposed above the upper surface of the wiring protection portion.
前記積層体を形成する工程は、前記配線層を貫通する配線層貫通孔を形成する工程と、前記絶縁層を貫通する絶縁層貫通孔を形成する工程と、前記配線層貫通孔および前記絶縁層貫通孔に前記支持台座を形成する工程と、を有していることを特徴とする請求項10に記載のサスペンション用基板の製造方法。   The step of forming the laminated body includes a step of forming a wiring layer through hole penetrating the wiring layer, a step of forming an insulating layer through hole penetrating the insulating layer, the wiring layer through hole and the insulating layer. The method for manufacturing a suspension substrate according to claim 10, further comprising: forming the support pedestal in a through hole.
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