JP2014081490A - Platemaking roll for gravure printing and method for manufacturing the same - Google Patents

Platemaking roll for gravure printing and method for manufacturing the same Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a platemaking roll for gravure printing and a method for manufacturing the same excellent in production efficiency, without using hexavalent chromium and without occurrence of a problem of side etching because no etching is performed.SOLUTION: A photoresist is applied on a surface of a cylindrical metal substrate that can be plated; the photoresist is exposed and developed to form a resist pattern part where a resist pattern is produced and a non-resist pattern part where the metal substrate is exposed on the surface of the substrate; the non-resist pattern part is plated with a metal that is applicable for plating, to a thickness exceeding the thickness of the resist pattern part, to form an overhanging plated part, rendering the resist pattern part into a recessed part; and DLC (diamond-like carbon) is applied to coat the overhanging plated part and the resist pattern part.

Description

本発明は、メッキによりパターニングを施した新規なグラビア印刷用製版ロール及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a novel gravure printing plate making patterning by plating and a method for producing the same.

グラビア印刷では、版母材に対し、製版情報に応じた微小な凹部(グラビアセル)を形成して版面を製作し当該グラビアセルにインキを充填して被印刷物に転写するものである。図3によく示されるように、従来の一般的なグラビア印刷用製版ロール100においては、アルミニウムや鉄などの金属製中空ロール(版母材)102又はCFRP(炭素繊維強化プラスチックス)等のプラスチック製中空ロール(版母材)の表面に版面形成用の銅メッキ層(版材)104を設け、該銅メッキ層104にフォトレジストを塗布し、前記フォトレジストを露光・現像せしめてレジストパターン106を形成し、エッチング法又は電子彫刻法によって製版情報に応じ多数の微小な凹部(グラビアセル)108を形成し、次いでグラビア製版ロールの耐刷力を増すためのクロムメッキによって硬質のクロム層110を形成して表面強化被覆層とし、製版(版面の製作)が完了する。しかし、クロムメッキ工程においては毒性の高い六価クロムを用いているために、作業の安全維持を図るために余分なコストがかかる他、公害発生の問題もあり、クロム層に替わる表面強化被覆層の出現が待望されているのが現状である。   In gravure printing, a minute concave portion (gravure cell) corresponding to plate making information is formed on a plate base material to produce a plate surface, and the gravure cell is filled with ink and transferred to a printing material. As well shown in FIG. 3, in a conventional general gravure printing roll 100, a metal hollow roll (plate base material) 102 such as aluminum or iron or a plastic such as CFRP (carbon fiber reinforced plastics). A copper plating layer (plate material) 104 for forming a plate surface is provided on the surface of a hollow roll (plate base material), a photoresist is applied to the copper plating layer 104, and the photoresist is exposed and developed to form a resist pattern 106. A large number of concave portions (gravure cells) 108 are formed according to plate making information by an etching method or an electronic engraving method, and then a hard chromium layer 110 is formed by chromium plating for increasing the printing durability of the gravure plate making roll. The surface-enhanced coating layer is formed to complete the plate making (plate surface production). However, because highly toxic hexavalent chromium is used in the chrome plating process, there is an extra cost to maintain work safety, and there are also problems of pollution, and the surface-enhanced coating layer replaces the chrome layer. The current situation is that the appearance of

そこで、本願出願人は、例えば、特許文献1に記載されたグラビア製版ロールを提案している。   Therefore, the applicant of the present application has proposed, for example, a gravure printing roll described in Patent Document 1.

しかし、特許文献1に記載されたグラビア製版ロールのように、基材に感光材を塗布して露光・現像・バーニングしてエッチングすると、いわゆるサイドエッチングと呼ばれるオーバーエッチングが発生する問題があった。そして、パターニングが微細になる程、サイドエッチングの問題がより一層顕在化する。そこで、本願出願人は、例えば、特許文献2に記載されたパターン付ロールを提案している。   However, like the gravure plate roll described in Patent Document 1, when a photosensitive material is applied to a base material and exposed, developed, burned, and etched, there is a problem that over etching called so-called side etching occurs. As the patterning becomes finer, the problem of side etching becomes more obvious. Therefore, the applicant of the present application has proposed a roll with a pattern described in Patent Document 2, for example.

しかしながら、特許文献2に記載されたパターン付ロールの製造方法では、成膜時間がかかるため、製造時間が長くなり、生産効率が劣るという問題があった。   However, in the manufacturing method of the roll with a pattern described in Patent Document 2, since the film formation time is required, there is a problem that the manufacturing time becomes long and the production efficiency is inferior.

国際公開WO2008/120789International Publication WO2008 / 120789 特開2012−154964号公報JP 2012-154964 A 特開2009−093170号公報JP 2009-093170 A

本発明は、上記した従来技術の問題点に鑑みなされたもので、六価クロムを用いることなく、またエッチングをしないためサイドエッチングの問題が生じることがなく、生産効率に優れたグラビア印刷用製版ロール及びその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and does not use hexavalent chromium, and since etching is not performed, the problem of side etching does not occur, and the gravure printing plate making is excellent in production efficiency. It aims at providing a roll and its manufacturing method.

上記課題を解決するため、本発明のグラビア印刷用製版ロールは、メッキ可能な円筒状金属基材の表面にフォトレジストを塗布し、前記フォトレジストを露光・現像せしめてレジストパターンが作製されたレジストパターン部と前記金属基材が露出した非レジストパターン部とを前記金属基材の表面に形成し、メッキ可能な金属を前記非レジストパターン部に前記レジストパターン部の厚さを超える厚さにメッキせしめてオーバーハング状メッキ部を形成して前記レジストパターン部が凹部とされてなり、前記オーバーハング状メッキ部と前記レジストパターン部を被覆するようにDLC(ダイヤモンドライクカーボン)で被覆せしめてなることを特徴とする。   In order to solve the above problems, the gravure printing roll of the present invention is a resist in which a photoresist is applied to the surface of a cylindrical metal substrate that can be plated, and the photoresist is exposed and developed to form a resist pattern. A pattern portion and a non-resist pattern portion where the metal substrate is exposed are formed on the surface of the metal substrate, and a metal capable of plating is plated on the non-resist pattern portion to a thickness exceeding the thickness of the resist pattern portion. At least an overhang-shaped plated portion is formed so that the resist pattern portion is a recess, and the overhang-shaped plated portion and the resist pattern portion are covered with DLC (diamond-like carbon). It is characterized by.

つまり、図3に示した従来のグラビア版とは凹部のパターンが反転した版となる。   That is, the conventional gravure plate shown in FIG. 3 is a plate in which the pattern of the recesses is reversed.

このように、六価クロムを用いることなく製版するため、環境にやさしいという利点がある。また、エッチングせずに製版するため、サイドエッチングの問題が生じないという利点もある。さらに、メッキで連続的にパターニングが行えるため、生産効率に優れるという利点もある。なお、本発明のグラビア印刷用製版ロールにおけるパターニングは、グラビアセルを形成するためのパターニングである。   Thus, since the plate making is performed without using hexavalent chromium, there is an advantage that it is environmentally friendly. Further, since the plate making is performed without etching, there is an advantage that the problem of side etching does not occur. Furthermore, since the patterning can be continuously performed by plating, there is an advantage that the production efficiency is excellent. The patterning in the gravure printing plate roll of the present invention is patterning for forming a gravure cell.

また、前記フォトレジストが塗布される円筒状金属基材はメッキ可能な金属であればいずれも適用できるが、ニッケル、タングステン、クロム、チタン、金、銀、白金、鉄、銅、アルミニウムからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料から構成されるのが好適である。前記非レジストパターン部にメッキされるメッキ可能な金属についてもメッキ可能な金属であればいずれも適用でき、例えば、ニッケル、タングステン、クロム、チタン、金、銀、白金、鉄、銅、アルミニウムなどを適用することができる。   The cylindrical metal substrate to which the photoresist is applied can be any metal that can be plated, but the group consisting of nickel, tungsten, chromium, titanium, gold, silver, platinum, iron, copper, and aluminum. It is preferable to be composed of at least one material selected from Any metal that can be plated can be applied to the metal that can be plated on the non-resist pattern portion, for example, nickel, tungsten, chromium, titanium, gold, silver, platinum, iron, copper, aluminum, etc. Can be applied.

そして、本発明では、メッキ可能な金属を前記非レジストパターン部に前記レジストパターン部の厚さを超える厚さにメッキせしめてオーバーハング状メッキ部とすることに特徴がある。前記オーバーハング状メッキ部は、いわゆるオーバーハングさせてメッキしたものである。通常はグラビア印刷用製版ロールのグラビアセルは、セル底が平らであり、ハイライト部にいくとセル底が丸底となるが、メッキ部の厚さが、レジストパターン部の厚さを超えてオーバーハングすると、グラビア印刷用製版ロールの版面のハイライト部にいくとグラビアセルのセル底が四角錐状となる。このため、本発明のグラビア印刷用製版ロールでは、より高精細な印刷が可能となる。   The present invention is characterized in that a metal that can be plated is plated on the non-resist pattern portion to a thickness exceeding the thickness of the resist pattern portion to form an overhang-shaped plated portion. The overhang-shaped plated portion is plated by so-called overhang. Normally, the gravure cell of the gravure printing plate making roll has a flat cell bottom, and when going to the highlight part, the cell bottom becomes a round bottom, but the thickness of the plating part exceeds the thickness of the resist pattern part. When overhanging, the cell bottom of the gravure cell becomes a quadrangular pyramid when going to the highlight portion of the plate surface of the gravure printing plate making roll. For this reason, the plate-making roll for gravure printing of the present invention enables higher-definition printing.

そして、本発明のグラビア印刷用製版ロールでは、サイドエッチングの問題がないため、従来よりも濃度範囲を広げることが可能である。   The gravure printing plate making roll of the present invention does not have a problem of side etching, so that the concentration range can be expanded as compared with the prior art.

前記被覆したDLC被覆膜の厚さは、0.1μm〜10μmであるのが好適である。より具体的には、0.1μm〜5μmがさらに好ましい。   The thickness of the coated DLC coating film is preferably 0.1 μm to 10 μm. More specifically, 0.1 μm to 5 μm is more preferable.

前記円筒状金属基材が、CFRP(炭素繊維強化樹脂)材の上に設けられる構成としてもよい。   The cylindrical metal substrate may be provided on a CFRP (carbon fiber reinforced resin) material.

前記円筒状金属基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層の上に設けられる構成としてもよい。前記クッション層としては、シリコンゴム等の合成ゴムやポリウレタン、ポリスチレン等の弾力性のある合成樹脂を使用することができる。このクッション層の厚さはクッション性即ち弾力性を付与できる厚さであればよく、特別の限定はないが、例えば、1cm〜5cm程度の厚さがあれば充分である。ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を備えたグラビア版の例としては、例えば特許文献3などがある。   The cylindrical metal base material may be provided on a cushion layer made of rubber or a resin having cushioning properties. As the cushion layer, a synthetic rubber such as silicone rubber, or a synthetic resin having elasticity such as polyurethane or polystyrene can be used. The thickness of the cushion layer is not particularly limited as long as it can provide cushioning properties, that is, elasticity. For example, a thickness of about 1 cm to 5 cm is sufficient. As an example of the gravure plate provided with a cushion layer made of rubber or a resin having cushioning properties, there is, for example, Patent Document 3.

前記フォトレジストが、ネガ型フォトレジストであるのが好ましい。   The photoresist is preferably a negative photoresist.

本発明の製品は、前記グラビア印刷用製版ロールによって印刷されたことを特徴とする。   The product of the present invention is printed by the gravure printing plate making roll.

本発明のグラビア印刷用製版ロールの製造方法は、円筒状金属基材を準備する工程と、前記金属基材の表面にフォトレジストを塗布し、前記フォトレジストを露光・現像せしめてレジストパターンが作製されたレジストパターン部と前記金属基材が露出した非レジストパターン部とを前記金属基材の表面に形成する工程と、メッキ可能な金属を前記非レジストパターン部に前記レジストパターン部の厚さを超える厚さにメッキせしめてオーバーハング状メッキ部を形成して前記レジストパターン部が凹部となるようにする工程と、前記オーバーハング状メッキ部と前記レジストパターン部を被覆するようにDLCで被覆せしめる工程と、を含むことを特徴とする。   The method for producing a gravure printing roll according to the present invention comprises a step of preparing a cylindrical metal substrate, a photoresist is applied to the surface of the metal substrate, and the photoresist is exposed and developed to produce a resist pattern. Forming a resist pattern portion formed on the surface of the metal base material and a non-resist pattern portion where the metal base material is exposed; and a thickness of the resist pattern portion on the non-resist pattern portion with a metal capable of being plated. A step of forming an overhang-like plated portion by plating to a thickness exceeding the thickness and forming the resist pattern portion as a recess, and covering with the DLC so as to cover the overhang-like plated portion and the resist pattern portion And a process.

前記フォトレジストが塗布される円筒状金属基材が、ニッケル、タングステン、クロム、チタン、金、銀、白金、鉄、銅、アルミニウムからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料から構成されるのが好適である。   The cylindrical metal substrate to which the photoresist is applied is composed of at least one material selected from the group consisting of nickel, tungsten, chromium, titanium, gold, silver, platinum, iron, copper, and aluminum. Is preferred.

前記被覆したDLC被覆膜の厚さが、0.1μm〜10μmであるのが好適である。より具体的には、0.1μm〜5μmがさらに好ましい。   The thickness of the coated DLC coating film is preferably 0.1 μm to 10 μm. More specifically, 0.1 μm to 5 μm is more preferable.

前記円筒状金属基材が、CFRP材の上に設けられていることを特徴とする請求項8〜10いずれか1項記載のグラビア印刷用製版ロールの製造方法。   The method for manufacturing a gravure printing plate-making roll according to any one of claims 8 to 10, wherein the cylindrical metal substrate is provided on a CFRP material.

前記円筒状金属基材が、CFRP材の上に設けられる構成としてもよい。   The cylindrical metal substrate may be provided on a CFRP material.

前記円筒状金属基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層の上に設けられる構成としてもよい。   The cylindrical metal base material may be provided on a cushion layer made of rubber or a resin having cushioning properties.

前記フォトレジストが、ネガ型フォトレジストであるのが好ましい。   The photoresist is preferably a negative photoresist.

本発明によれば、六価クロムを用いることなく、またエッチングをしないためサイドエッチングの問題が生じることがなく、生産効率に優れたグラビア印刷用製版ロール及びその製造方法を提供することができるという著大な効果を有する。   According to the present invention, there is no problem of side etching because hexavalent chromium is not used and etching is not performed, and a gravure printing plate making roll excellent in production efficiency and a method for producing the same can be provided. Has a great effect.

本発明のグラビア印刷用製版ロールの一つの実施の形態を模式的に示し、(a)が円筒状金属基材の表面にフォトレジストを塗布し、前記フォトレジストを露光・現像せしめてレジストパターンを形成し、レジストパターン部と金属基材が露出した非レジストパターン部とを前記金属基材の表面に形成した状態を示す要部断面図、(b)メッキ可能な金属を前記非レジストパターン部に前記レジストパターン部の厚さを超える厚さにメッキせしめてオーバーハング状メッキ部を形成して前記レジストパターン部が凹部とされた状態を示す要部断面図、(c)がオーバーハング状メッキ部と前記レジストパターン部を被覆するようにDLC(ダイヤモンドライクカーボン)で被覆した状態を示す要部断面図である。1 schematically shows one embodiment of a gravure printing roll according to the present invention, wherein (a) applies a photoresist to the surface of a cylindrical metal substrate, and exposes and develops the photoresist to form a resist pattern; The main part sectional view showing the state where the resist pattern portion and the non-resist pattern portion where the metal base material is exposed are formed on the surface of the metal base material, and (b) the metal that can be plated on the non-resist pattern portion. Cross-sectional view of the principal part showing a state in which an overhang-shaped plated portion is formed by plating to a thickness exceeding the thickness of the resist pattern portion, and the resist pattern portion is formed as a recess, (c) is an overhang-shaped plated portion FIG. 3 is a cross-sectional view of a main part showing a state where the resist pattern portion is covered with DLC (diamond-like carbon) so as to cover the resist pattern portion. 図1に示したグラビア印刷用製版ロールの製造方法の工程順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the process order of the manufacturing method of the plate-making roll for gravure printing shown in FIG. 従来のグラビア印刷用製版ロールの実施の形態を模式的に示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows typically embodiment of the plate-making roll for the conventional gravure printing.

以下に本発明の実施の形態を説明するが、これら実施の形態は例示的に示されるもので、本発明の技術思想から逸脱しない限り種々の変形が可能なことはいうまでもない。   Embodiments of the present invention will be described below, but these embodiments are exemplarily shown, and it goes without saying that various modifications can be made without departing from the technical idea of the present invention.

図1において、符号10はグラビア印刷用製版ロールを示す。符号12はメッキ可能な円筒状金属基材である。円筒状金属基材12はメッキ可能な金属であればいずれも適用できるが、例えば、ニッケル、タングステン、クロム、チタン、金、銀、白金、鉄、銅、アルミニウムからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料から構成することができる。   In FIG. 1, the code | symbol 10 shows the plate-making roll for gravure printing. Reference numeral 12 denotes a cylindrical metal substrate that can be plated. The cylindrical metal substrate 12 can be any metal as long as it can be plated, but, for example, at least one selected from the group consisting of nickel, tungsten, chromium, titanium, gold, silver, platinum, iron, copper, and aluminum. It can be comprised from the material of.

また、円筒状金属基材12は、CFRP(炭素繊維強化樹脂)材の上に設けられる構成としてもよいし、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層の上に設けられる構成としてもよい。   Moreover, the cylindrical metal base material 12 is good also as a structure provided on a CFRP (carbon fiber reinforced resin) material, and is good also as a structure provided on the cushion layer which consists of resin which has rubber | gum or cushioning properties.

まず、円筒状金属基材12を準備し(図2のステップ100)、前記円筒状金属基材12の表面にフォトレジストを塗布し、前記フォトレジストを露光・現像せしめてレジストパターンが作製されたレジストパターン部14と前記金属基材12が露出した非レジストパターン部16とを前記金属基材12の表面に形成する(図2のステップ102)。前記フォトレジストとしては、ネガ型フォトレジストが好適である。このようにして、図1(a)に示す状態となる。   First, a cylindrical metal substrate 12 was prepared (step 100 in FIG. 2), a photoresist was applied to the surface of the cylindrical metal substrate 12, and the photoresist was exposed and developed to produce a resist pattern. A resist pattern portion 14 and a non-resist pattern portion 16 where the metal substrate 12 is exposed are formed on the surface of the metal substrate 12 (step 102 in FIG. 2). A negative photoresist is suitable as the photoresist. In this way, the state shown in FIG.

そして、メッキ可能な金属を前記非レジストパターン部16に前記レジストパターン部14の厚さを超える厚さにメッキせしめてオーバーハング状メッキ部18を形成して前記レジストパターン部を凹部22とする(図2のステップ104)。   Then, a metal that can be plated is plated on the non-resist pattern portion 16 to a thickness exceeding the thickness of the resist pattern portion 14 to form an overhang-shaped plated portion 18, thereby forming the resist pattern portion as a recess 22 ( Step 104 of FIG.

前記非レジストパターン部16にメッキされるメッキ可能な金属については、メッキ可能な金属であればいずれも適用でき、例えば、ニッケル、タングステン、クロム、チタン、金、銀、白金、鉄、銅、アルミニウムなどを適用することができる。例えば、円筒状金属基材12が銅の場合、メッキ部18の金属はニッケルが適用できる。このようにして、図1(b)に示す状態となる。   As the metal that can be plated on the non-resist pattern portion 16, any metal that can be plated can be applied. For example, nickel, tungsten, chromium, titanium, gold, silver, platinum, iron, copper, aluminum Etc. can be applied. For example, when the cylindrical metal substrate 12 is copper, nickel can be applied as the metal of the plating portion 18. In this way, the state shown in FIG.

次に、前記オーバーハング状メッキ部18と前記レジストパターン部14を被覆するようにDLCで被覆せしめる(図2のステップ106)。DLC被覆膜20の形成にあたっては、CVD(Chemical Vapor Deposition)法やスパッタ法によってDLCで被覆することが可能である。   Next, the overhanging plated portion 18 and the resist pattern portion 14 are covered with DLC so as to cover (step 106 in FIG. 2). When the DLC coating film 20 is formed, it can be coated with DLC by a CVD (Chemical Vapor Deposition) method or a sputtering method.

前記DLC被覆膜20の厚さは、0.1μm〜10μmであるのが好適である。より具体的には、0.1μm〜5μmがさらに好ましい。図1の例では、銅で作製した円筒状金属基材12の表面にニッケルメッキでオーバーハング状メッキ部18を作製し、前記オーバーハング状メッキ部18と前記レジストパターン部14の除去された部分をDLCで被覆した例を示した。図1の例では、オーバーハング状メッキ部18の厚さは8〜12μm、レジストパターン部14の厚さが2〜3μm、DLC被覆膜20の厚さが1〜2μmの例を示した。すなわち、前記メッキ部18の厚さが、前記レジストパターン部14の厚さを超える厚さとされている。   The thickness of the DLC coating film 20 is preferably 0.1 μm to 10 μm. More specifically, 0.1 μm to 5 μm is more preferable. In the example of FIG. 1, an overhang-like plated portion 18 is produced by nickel plating on the surface of a cylindrical metal base material 12 made of copper, and the overhang-like plated portion 18 and the resist pattern portion 14 are removed. The example which coat | covered with DLC was shown. In the example of FIG. 1, the overhanging plated portion 18 has a thickness of 8 to 12 μm, the resist pattern portion 14 has a thickness of 2 to 3 μm, and the DLC coating film 20 has a thickness of 1 to 2 μm. That is, the thickness of the plated portion 18 is set to a thickness exceeding the thickness of the resist pattern portion 14.

このようにして、図1(c)に示すグラビア印刷用製版ロール10となる。   In this way, the gravure printing plate making roll 10 shown in FIG.

以下に実施例をあげて本発明をさらに具体的に説明するが、これらの実施例は例示的に示されるもので限定的に解釈されるべきでないことはいうまでもない。   The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. However, it is needless to say that these examples are shown by way of illustration and should not be construed in a limited manner.

(実施例1)
円周600mm、面長1100mmの版母材(アルミ中空ロール)を準備し、ブーメランライン(株式会社シンク・ラボラトリー製全自動レーザーグラビア製版ロール製造装置)を用いて下記する銅メッキ層の形成までを行った。
Example 1
Prepare a plate base material (aluminum hollow roll) with a circumference of 600 mm and a surface length of 1100 mm, and use the boomerang line (a fully automatic laser gravure plate making apparatus manufactured by Sink Laboratories, Inc.) to form the copper plating layer described below. went.

まず、版母材(アルミ中空ロール)を銅メッキ槽に装着し、中空ロールをメッキ液に全没させて20A/dm2、6.0Vで80μmの銅メッキ層を形成した。メッキ表面はブツやピットの発生がなく、均一な銅メッキ層を得た。 First, a plate base material (aluminum hollow roll) was mounted on a copper plating tank, and the hollow roll was completely immersed in a plating solution to form a copper plating layer of 80 μm at 20 A / dm 2 and 6.0 V. The plating surface was free of bumps and pits, and a uniform copper plating layer was obtained.

この銅メッキ層の表面を4ヘッド型研磨機(株式会社シンク・ラボラトリー製研磨機)を用いて研磨して当該銅メッキ層の表面を均一な研磨面とした。形成した銅メッキ層を基材としてその表面に感光膜(サーマルレジスト:TSER−NS(株式会社シンク・ラボラトリー製))を塗布(ファウンテンコーター)、乾燥した。得られた感光膜の膜厚は膜厚計(FILLMETRICS社製F20、松下テクノトレーデイング社販売)で計ったところ、5μmであった。ついで、画像をレーザー露光し現像した。上記レーザー露光は、Laser Stream FXを用い露光条件300mJ/cm2で所定のパターン露光を行った。
・また、上記現像は、TLD現像液(株式会社シンク・ラボラトリー製現像液)を用い、現像液希釈比率(原液1:水7)で、24℃90秒間行い、所定のレジストパターンを形成した。
The surface of the copper plating layer was polished using a 4-head type polishing machine (Sink Laboratory Co., Ltd. polishing machine) to make the surface of the copper plating layer a uniform polishing surface. Using the formed copper plating layer as a base material, a photosensitive film (thermal resist: TSER-NS (manufactured by Sink Laboratories)) was applied (fountain coater) to the surface and dried. The film thickness of the obtained photosensitive film was 5 μm as measured by a film thickness meter (F20 manufactured by FILLMETRICS, sold by Matsushita Techno Trading). The image was then developed with laser exposure. In the laser exposure, a laser stream FX was used and a predetermined pattern exposure was performed under an exposure condition of 300 mJ / cm 2 .
The above development was performed at 24 ° C. for 90 seconds at a developer dilution ratio (stock solution 1: water 7) using a TLD developer (Sink Laboratories Inc. developer) to form a predetermined resist pattern.

ついで、ニッケルメッキ槽に装着し、メッキ液に半没させて2A/dm2、7.0Vで10μmのニッケルメッキ層を形成した。メッキ表面はブツやピットの発生がなく、均一なニッケルメッキ層を得た。ついで、5%水酸化ナトリウム水溶液にてレジストを剥離させ、所定のニッケルパターンを形成した。該ニッケルパターンの表面にDLC被覆膜をCVD法で形成した。 Next, it was mounted in a nickel plating tank and half-immersed in a plating solution to form a 10 μm nickel plating layer at 2 A / dm 2 and 7.0 V. The plating surface was free of bumps and pits, and a uniform nickel plating layer was obtained. Next, the resist was peeled off with a 5% aqueous sodium hydroxide solution to form a predetermined nickel pattern. A DLC coating film was formed on the surface of the nickel pattern by a CVD method.

雰囲気アルゴン/水素ガス雰囲気、原料ガスにヘキサメチルジシロキサン、成膜温度80−120℃、成膜時間60分で膜厚0.1μmの中間層を成膜した。次に、原料ガスにトルエン、成膜温度80−120℃、成膜時間180分で膜厚2μmのDLC層を成膜した。このようにして、グラビア印刷用製版ロールを得た。このようにして得られたグラビア印刷用製版ロールの表面を光学顕微鏡で観察したところ、高精細なグラビア版が観察された。この得られたグラビア印刷用製版ロールの凹部22、すなわちグラビアセルの1辺は145μmでニッケルパターンの土手の線幅24は12μmであった。グラビアセルの深度は10μmであった。   An intermediate layer having a film thickness of 0.1 μm was formed in an argon / hydrogen gas atmosphere, hexamethyldisiloxane as a source gas, a film formation temperature of 80 to 120 ° C., and a film formation time of 60 minutes. Next, a DLC layer having a thickness of 2 μm was formed as a source gas using toluene, a film formation temperature of 80 to 120 ° C., and a film formation time of 180 minutes. Thus, a gravure printing plate making roll was obtained. When the surface of the plate-making roll for gravure printing thus obtained was observed with an optical microscope, a high-definition gravure plate was observed. The concave portion 22 of the obtained gravure printing plate making roll, that is, one side of the gravure cell was 145 μm, and the line width 24 of the nickel pattern bank was 12 μm. The depth of the gravure cell was 10 μm.

10:グラビア印刷用製版ロール、12:円筒状金属基材、14:レジストパターン部、16:非レジストパターン部、18:オーバーハング状メッキ部、20:DLC被覆膜、22:凹部、24:土手の線幅、100:従来のグラビア印刷用製版ロール、102:金属製中空ロール(版母材)、104:銅メッキ層(版材)、106:レジストパターン、108:凹部(グラビアセル)、110:クロム層。 10: Plate making roll for gravure printing, 12: Cylindrical metal substrate, 14: Resist pattern part, 16: Non-resist pattern part, 18: Overhang-like plating part, 20: DLC coating film, 22: Concave part, 24: Line width of bank, 100: Conventional roll for gravure printing, 102: Metal hollow roll (plate base material), 104: Copper plating layer (plate material), 106: Resist pattern, 108: Recess (gravure cell), 110: Chrome layer.

Claims (13)

メッキ可能な円筒状金属基材の表面にフォトレジストを塗布し、前記フォトレジストを露光・現像せしめてレジストパターンが作製されたレジストパターン部と前記金属基材が露出した非レジストパターン部とを前記金属基材の表面に形成し、メッキ可能な金属を前記非レジストパターン部に前記レジストパターン部の厚さを超える厚さにメッキせしめてオーバーハング状メッキ部を形成して前記レジストパターン部が凹部とされてなり、前記オーバーハング状メッキ部と前記レジストパターン部を被覆するようにDLCで被覆せしめてなることを特徴とするグラビア印刷用製版ロール。   A photoresist is applied to the surface of a cylindrical metal substrate that can be plated, and the photoresist is exposed and developed to form a resist pattern portion and a non-resist pattern portion where the metal substrate is exposed Formed on the surface of the metal substrate, plating the non-resist pattern portion to a thickness exceeding the thickness of the resist pattern portion by forming a metal that can be plated to form an overhang-shaped plated portion, and the resist pattern portion is recessed. A gravure printing roll made by coating with DLC so as to cover the overhanging plated portion and the resist pattern portion. 前記フォトレジストが塗布される円筒状金属基材が、ニッケル、タングステン、クロム、チタン、金、銀、白金、鉄、銅、アルミニウムからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料から構成されることを特徴とする請求項1記載のグラビア印刷用製版ロール。   The cylindrical metal substrate to which the photoresist is applied is composed of at least one material selected from the group consisting of nickel, tungsten, chromium, titanium, gold, silver, platinum, iron, copper, and aluminum. 2. A plate making roll for gravure printing according to claim 1, wherein 前記被覆したDLC被覆膜の厚さが、0.1μm〜10μmであることを特徴とする請求項1又は2記載のグラビア印刷用製版ロール。   The plate making roll for gravure printing according to claim 1 or 2, wherein the coated DLC coating film has a thickness of 0.1 µm to 10 µm. 前記円筒状金属基材が、CFRP材の上に設けられていることを特徴とする請求項1〜3いずれか1項記載のグラビア印刷用製版ロール。   The plate-making roll for gravure printing according to any one of claims 1 to 3, wherein the cylindrical metal substrate is provided on a CFRP material. 前記円筒状金属基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層の上に設けられていることを特徴とする請求項1〜3いずれか1項記載のグラビア印刷用製版ロール。   The plate-making roll for gravure printing according to any one of claims 1 to 3, wherein the cylindrical metal substrate is provided on a cushion layer made of rubber or a resin having cushioning properties. 前記フォトレジストが、ネガ型フォトレジストであることを特徴とする1〜5いずれか1項記載のグラビア印刷用製版ロール。   The plate making roll for gravure printing according to any one of claims 1 to 5, wherein the photoresist is a negative photoresist. 請求項1〜6いずれか1項記載のグラビア印刷用製版ロールによって印刷されたことを特徴とする製品。   A product printed by the gravure printing roll according to any one of claims 1 to 6. 円筒状金属基材を準備する工程と、
前記金属基材の表面にフォトレジストを塗布し、前記フォトレジストを露光・現像せしめてレジストパターンが作製されたレジストパターン部と前記金属基材が露出した非レジストパターン部とを前記金属基材の表面に形成する工程と、
メッキ可能な金属を前記非レジストパターン部に前記レジストパターン部の厚さを超える厚さにメッキせしめてオーバーハング状メッキ部を形成して前記レジストパターン部が凹部となるようにする工程と、
前記オーバーハング状メッキ部と前記レジストパターン部を被覆するようにDLCで被覆せしめる工程と、
を含むことを特徴とするグラビア印刷用製版ロールの製造方法。
Preparing a cylindrical metal substrate;
A photoresist is applied to the surface of the metal substrate, and a resist pattern portion in which the photoresist is exposed and developed to form a resist pattern and a non-resist pattern portion where the metal substrate is exposed are formed on the metal substrate. Forming on the surface;
Plating the metal capable of plating on the non-resist pattern portion to a thickness exceeding the thickness of the resist pattern portion to form an overhang-like plated portion so that the resist pattern portion becomes a recess;
Coating with DLC so as to cover the overhanging plating portion and the resist pattern portion;
The manufacturing method of the plate-making roll for gravure printing characterized by including this.
前記フォトレジストが塗布される円筒状金属基材が、ニッケル、タングステン、クロム、チタン、金、銀、白金、鉄、銅、アルミニウムからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料から構成されることを特徴とする請求項8記載のグラビア印刷用製版ロールの製造方法。   The cylindrical metal substrate to which the photoresist is applied is composed of at least one material selected from the group consisting of nickel, tungsten, chromium, titanium, gold, silver, platinum, iron, copper, and aluminum. The manufacturing method of the plate-making roll for gravure printing of Claim 8 characterized by the above-mentioned. 前記被覆したDLC被覆膜の厚さが、0.1μm〜10μmであることを特徴とする請求項8又は9項記載のグラビア印刷用製版ロールの製造方法。   10. The method for producing a gravure printing plate-making roll according to claim 8, wherein the coated DLC coating film has a thickness of 0.1 μm to 10 μm. 前記円筒状金属基材が、CFRP材の上に設けられていることを特徴とする請求項8〜10いずれか1項記載のグラビア印刷用製版ロールの製造方法。   The method for manufacturing a gravure printing plate-making roll according to any one of claims 8 to 10, wherein the cylindrical metal substrate is provided on a CFRP material. 前記円筒状金属基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層の上に設けられていることを特徴とする請求項8〜10いずれか1項記載のグラビア印刷用製版ロールの製造方法。   The method for producing a gravure printing plate-making roll according to any one of claims 8 to 10, wherein the cylindrical metal substrate is provided on a cushion layer made of rubber or a resin having cushioning properties. . 前記フォトレジストが、ネガ型フォトレジストであることを特徴とする8〜12いずれか1項記載のグラビア印刷用製版ロールの製造方法。   The method for producing a plate making roll for gravure printing according to any one of claims 8 to 12, wherein the photoresist is a negative photoresist.
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