JP2014080471A - Monolayer film and hydrophilic material composed of the same - Google Patents

Monolayer film and hydrophilic material composed of the same Download PDF

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Akira Hasegawa
在 長谷川
Kenichi Fujii
謙一 藤井
Kazuyuki Fukuda
和幸 福田
Jun Kamata
潤 鎌田
Mitsuki Okazaki
光樹 岡崎
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a monolayer film having high hydrophilicity and surface hardness which is excellent in antifogging properties, antifouling properties (self-cleaning properties) and antistatic properties (dust adhesion prevention properties) and further excellent in scratch resistance or the like, and to provide an antifogging material, antifouling material and antistatic material containing the monolayer film and a method for producing a laminate which is formed by providing the monolayer film on a substrate surface by heat polymerization.SOLUTION: There is prepared a laminate in which a monolayer film is formed and the method for producing the monolayer film comprises the steps of: producing a composition which contains a specific compound (I) and a compound (II) so that the molar ratio of the compound (I) to the compound (II) is in the range of 1/0.05 to 1/1000 and contains a peroxide (III) having one-hour half-life temperature Tof 40 to 100°C and a solvent (IV); forming a coated film composed of the composition on at least one surface of a substrate and then copolymerizing the coated film by heat to produce a monolayer film in which at least one anionic hydrophilic group selected from a sulfonic cid group, a carboxyl group and a phosphoric acid group is distributed so that the ratio (Sa/Da) of the anion concentration (Sa) on the outer surface to the anion concentration (Da) on the middle spot between the inner surface in contact with the substrate and the outer surface is 1.1 or more.

Description

本発明は、防曇性、防汚性及び帯電防止性に優れる、アニオン性親水基が特定の濃度比で分布する単層膜の製造方法に関する。更に詳しくは、特定の化合物と1分子内に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物とを含む組成物を熱重合して得られる親水性の共重合体からなる単層膜、該単層膜を含んでなる防曇材料、防汚材料及び帯電防止材料、防曇被膜、防汚被膜及び帯電防止被膜、並びにこれらの単層膜及び被膜が基材表面に設けられた積層体の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a monolayer film that is excellent in antifogging property, antifouling property, and antistatic property and in which anionic hydrophilic groups are distributed at a specific concentration ratio. More specifically, a monolayer film comprising a hydrophilic copolymer obtained by thermal polymerization of a composition containing a specific compound and a compound having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule, Antifogging material comprising a layer film, antifouling material and antistatic material, antifogging coating, antifouling coating and antistatic coating, and production of a laminate in which these single layer films and coatings are provided on the substrate surface Regarding the method.

親水性を有する樹脂としては、例えば、特許文献1に記載されている3−スルホプロピルメタクリレート・カリウム塩、2−アクリルアミド−2−メチルプロパン−スルホン酸・ナトリウム塩、及びポリエチレングリコールジアクリレートを用いて得られるポリマー、特許文献2に記載されている3−スルホプロピルメタクリレート・ナトリウム塩と長鎖ウレタンジアクリレート(新中村化学社製、商品名「NKオリゴ UA−W2A」)を用いて得られるポリマー、特許文献3に記載されている2−スルホエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、トリメチロールプロパンアクリレート、及びスピログリコールウレタンジアクリレートを用いて得られるポリマー、特許文献4に記載されている2−スルホエチルメタクリレート及び/又はリン酸基を有する(メタ)アクリレートとエポキシ樹脂を用いて得られるポリマー、非特許文献1に記載されているヒドロキシエチルメタクリレート、スルホアルキレン(C6〜C10)メタクリレート、及びメチレンビスアクリルアミドを用いて得られるポリマー等が知られている。   Examples of the hydrophilic resin include 3-sulfopropyl methacrylate / potassium salt, 2-acrylamido-2-methylpropane-sulfonic acid / sodium salt, and polyethylene glycol diacrylate described in Patent Document 1. A polymer obtained by using 3-sulfopropyl methacrylate sodium salt and long-chain urethane diacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name “NK Oligo UA-W2A”) described in Patent Document 2; Polymer obtained by using 2-sulfoethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, trimethylolpropane acrylate, and spiroglycol urethane diacrylate described in Patent Document 3, 2-sulfoethyl methacrylate described in Patent Document 4 Les Polymer obtained by using (meth) acrylate having epoxy group and / or phosphate group and epoxy resin, hydroxyethyl methacrylate, sulfoalkylene (C6-C10) methacrylate described in Non-Patent Document 1, and methylenebisacrylamide There are known polymers obtained by using.

特許文献1には得られた透明ゲルが生体接着剤として使用されることが記載され、特許文献2には得られたポリマーがインク吸収性に優れ、耐水性が高く、ブロッキングのないインクジェット記録方式に用いられる被記録材として使用され、特許文献3には得られたポリマーが光情報ディスク駆動のためのメタルハブと樹脂基盤を強固に接着する接着剤として使用されることが記載されている。特許文献4にはエチレン性不飽和結合が架橋するとともにスルホン酸基若しくはリン酸基もエポキシ基とイオン反応して架橋することによって得られたポリマーが機械的性能、耐溶剤性、造膜性、接着性、透明性、耐磨耗性に優れた電導性硬化膜として使用できることが記載されている。   Patent Document 1 describes that the obtained transparent gel is used as a bioadhesive, and Patent Document 2 describes an ink jet recording method in which the obtained polymer has excellent ink absorbability, high water resistance, and no blocking. Patent Document 3 describes that the polymer obtained is used as an adhesive that firmly bonds a metal hub for driving an optical information disk and a resin substrate. In Patent Document 4, a polymer obtained by crosslinking an ethylenically unsaturated bond and sulfonic acid group or phosphoric acid group by ionic reaction with an epoxy group has mechanical performance, solvent resistance, film-forming property, It is described that it can be used as an electrically conductive cured film excellent in adhesiveness, transparency and abrasion resistance.

非特許文献4にはガラス上に形成された微架橋被膜の親水性が、モノマーとして使用したスルホアルキレンメタクリレートのアルキレン鎖長(C6〜C10)によって変化し(前進接触角と後退接触角)、更に水和時間によっても変化すること等が記載されている。   In Non-Patent Document 4, the hydrophilicity of the finely crosslinked film formed on the glass varies depending on the alkylene chain length (C6 to C10) of the sulfoalkylene methacrylate used as the monomer (advanced contact angle and receding contact angle), and It is described that it varies depending on the hydration time.

また、特許文献6では、親水性成型物を製造する方法として、基材の表面に架橋重合性モノマー組成物を塗布し紫外線照射量をコントロールして不完全に重合した架橋ポリマーを形成させ、次いで親水性モノマーを塗布し再び紫外線を照射する事により親水モノマーを架橋ポリマーの表面にブロック又はグラフト重合させる2度塗りによる2層構造の提案が行われている。   In Patent Document 6, as a method for producing a hydrophilic molded product, a crosslinked polymerizable monomer composition is applied to the surface of a substrate to form an incompletely polymerized crosslinked polymer by controlling the amount of ultraviolet irradiation, A two-layer structure has been proposed in which a hydrophilic monomer is applied and irradiated again with ultraviolet rays to block or graft polymerize the hydrophilic monomer on the surface of a crosslinked polymer.

しかしながら、本発明者の検討によれば上記特許文献1〜4に記載のポリマーは、分子間の架橋度合いが低く水に対する溶解性が高いか又は水に溶解しないが水を吸収してゲル状になり易(やす)かったり、表面が軟らかく傷つき易(やす)かったり、又は親水性が不充分で、防曇材料及び防汚材料として使用するには充分とは言えないものであった。上記特許文献6の方法は、例えば、親水モノマーと架橋モノマーからなる組成物を塗布し紫外線等によって重合させる1度塗りによる1層構造の一般的な方法に比べ、明らかに煩雑でコスト高であり、表面の平滑性も損ない易く、好ましい方法とは言えないものであった。   However, according to the study of the present inventors, the polymers described in Patent Documents 1 to 4 have a low degree of cross-linking between molecules and high solubility in water or do not dissolve in water, but absorb water and form a gel. It was easy to become, easy to be scratched easily (easy), or insufficient in hydrophilicity, and could not be said to be sufficient for use as an antifogging material and antifouling material. The method of the above-mentioned Patent Document 6 is obviously complicated and expensive compared with a general method of a one-layer structure by a single coating in which a composition comprising a hydrophilic monomer and a crosslinking monomer is applied and polymerized by ultraviolet rays or the like. Further, the smoothness of the surface is easily lost, and it cannot be said to be a preferable method.

本発明者らも、上記問題を解決する方法として、水酸基含有(メタ)アクリルアミド化合物を用いる重合体を先に提案した(特許文献5)。
一般的に、防汚コート用の樹脂に要求される物性として、高い表面硬度と高い親水性が挙げられる。防曇コート用の樹脂に要求される物性として、比較的高い表面硬度、及び防汚用途以上の親水性が挙げられる。
The present inventors previously proposed a polymer using a hydroxyl group-containing (meth) acrylamide compound as a method for solving the above problem (Patent Document 5).
In general, physical properties required for a resin for antifouling coating include high surface hardness and high hydrophilicity. The physical properties required for the resin for anti-fogging coating include relatively high surface hardness and hydrophilicity more than antifouling use.

また、これら重合体又は樹脂を作製する方法としては、熱重合(熱による重合)、紫外線重合(紫外線による重合)等が知られているが、熱重合は紫外線重合に対して、1)設備の制約が少ない、2)成型物の表面が平面に限られず複雑な形状にも対応できる、3)開始に紫外光を使わないため、紫外線吸収剤等の紫外線吸収能を有する添加剤をより高い自由度で使用できるという利点を有している。このため高い表面硬度と親水性を持つ親水性膜を熱により重合する方法が望まれていた。   As methods for producing these polymers or resins, thermal polymerization (polymerization by heat), ultraviolet polymerization (polymerization by ultraviolet rays), etc. are known. Thermal polymerization is in contrast to ultraviolet polymerization. There are few restrictions, 2) The surface of the molded product is not limited to a flat surface, and it can handle complex shapes. 3) Since UV light is not used at the start, additives that have UV absorbing ability such as UV absorbers are more free. Has the advantage that it can be used at a high degree. For this reason, a method of polymerizing a hydrophilic film having high surface hardness and hydrophilicity by heat has been desired.

特開2003−000000号公報JP 2003-000000 A 特表2002−521140号公報Special table 2002-521140 gazette 特開平11−115305号公報JP-A-11-115305 特開平08−325524号公報Japanese Patent Laid-Open No. 08-325524 特公昭53−010636号公報Japanese Examined Patent Publication No. 53-010636 国際公開第2004/058900号公報International Publication No. 2004/058900 特開2001−98007号公報JP 2001-98007 A

Journal of Colloid and Interface Science,vol.110(2),468-476(1986年)Journal of Colloid and Interface Science, vol.110 (2), 468-476 (1986)

本発明は、防曇性、防汚性(セルフクリーニング性)及び帯電防止性(ほこり付着防止性)に優れ、更に耐擦傷性等にも優れる、高い親水性と表面硬度を有する単層膜、該単層膜を含んでなる防曇材料、防汚材料及び帯電防止材料、更に基材表面にこの単層膜を設けてなる積層体を熱重合により製造する方法を提供することを目的とする。   The present invention is a single layer film having high hydrophilicity and surface hardness that is excellent in antifogging property, antifouling property (self-cleaning property) and antistatic property (anti-dust adhesion property), and also excellent in scratch resistance, etc. An object of the present invention is to provide a method for producing an antifogging material, an antifouling material and an antistatic material comprising the monolayer film, and further producing a laminate comprising the monolayer film on the surface of the substrate by thermal polymerization. .

本発明者らの検討によれば、熱重合により親水性の単層膜の作製を行う際に、得られる膜の透明性や親水性が低下する場合があることがわかった。
本発明者らは、上記課題を解決すべく、更に検討を重ねた結果、
特定の分解温度を有する開始剤を用いて熱重合を行うことにより、上記問題が防止できること、また、得られる単層膜が優れた防曇性、防汚性、帯電防止性及び耐擦傷性を発揮することを見出し、本発明を完成するに至った。
According to the study by the present inventors, it has been found that when a hydrophilic single layer film is produced by thermal polymerization, the transparency and hydrophilicity of the resulting film may be lowered.
As a result of further studies to solve the above problems, the present inventors have
By performing thermal polymerization using an initiator having a specific decomposition temperature, the above problems can be prevented, and the resulting monolayer film has excellent antifogging properties, antifouling properties, antistatic properties and scratch resistance. As a result, the present invention was completed.

即ち、本発明の積層体の製造方法は、
下記一般式(1)で表される化合物(I)と2以上の(メタ)アクリロイル基を有する(但し、スルホン酸基、カルボキシル基及びリン酸基を有さない)化合物(II)とを化合物(II)に対する化合物(I)のモル比(I)/(II)が1/0.05〜1/1000の範囲となるように含み、かつ1時間半減温度T1/2が40〜100℃の範囲にある過酸化物(III)と溶剤(IV)とを含む組成物を作製する第一工程、
該組成物からなる塗膜を基材の少なくとも片面に形成する第二工程、
該塗膜を熱により共重合させて、スルホン酸基、カルボキシル基及びリン酸基から選ばれる少なくとも1種のアニオン性親水基が、外表面のアニオン濃度(Sa)と基材に接する内表面と外表面との中間地点のアニオン濃度(Da)とのアニオン濃度比(Sa/Da)が1.1以上となるように分布する単層膜を形成する第三工程を含むことを特徴とする。
[X]s[M1]l[M2]m (1)
(上記式(1)中、sは1又は2を表し、l及びmはs=l+2mを満たす整数を表す。M1は、水素イオン、アンモニウムイオン、及びアルカリ金属イオンから選ばれる少なくとも1つの1価カチオンであり、M2はアルカリ土類金属イオンから選ばれる少なくとも1つの2価カチオンである。Xは、下記一般式(1−1)〜(1−4)で示される基から選ばれる少なくとも1つの1価アニオンである。)
That is, the method for producing a laminate of the present invention includes:
Compound (I) represented by the following general formula (1) and compound (II) having two or more (meth) acryloyl groups (however, having no sulfonic acid group, carboxyl group and phosphoric acid group) The molar ratio (I) / (II) of compound (I) to (II) is in the range of 1 / 0.05 to 1/1000, and the one-hour half-life temperature T 1/2 is 40 to 100 ° C. A first step of preparing a composition comprising peroxide (III) and solvent (IV) in the range of
A second step of forming a coating film comprising the composition on at least one side of the substrate;
The coating film is copolymerized by heat so that at least one anionic hydrophilic group selected from a sulfonic acid group, a carboxyl group and a phosphoric acid group has an anion concentration (Sa) on the outer surface and an inner surface in contact with the substrate. The method includes a third step of forming a monolayer film distributed so that an anion concentration ratio (Sa / Da) with an anion concentration (Da) at an intermediate point with the outer surface is 1.1 or more.
[X] s [M1] l [M2] m (1)
(In the above formula (1), s represents 1 or 2, and l and m represent integers satisfying s = 1 + 2m. M1 represents at least one monovalent selected from a hydrogen ion, an ammonium ion, and an alkali metal ion. M2 is at least one divalent cation selected from alkaline earth metal ions, and X is at least one selected from groups represented by the following general formulas (1-1) to (1-4). It is a monovalent anion.)

Figure 2014080471
Figure 2014080471

Figure 2014080471
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Figure 2014080471
Figure 2014080471

Figure 2014080471
(上記式(1−1)〜(1−4)中、J及びJ'はそれぞれ独立にH又はCH3であり、nは0又は1を表し、Rはそれぞれ独立に、炭素数1〜600の脂肪族炭化水素基であり、該脂肪族炭化水素基に含まれる任意のメチレン基は、2価の芳香族基、2価の脂肪族環状炭化水素基、−O−、−COO−、又は−OCO−で置換されていてもよい。)
Figure 2014080471
(In the above formulas (1-1) to (1-4), J and J ′ each independently represent H or CH 3 , n represents 0 or 1, and R each independently represents 1 to 600 carbon atoms. Any methylene group contained in the aliphatic hydrocarbon group is a divalent aromatic group, a divalent aliphatic cyclic hydrocarbon group, -O-, -COO-, or (It may be substituted with -OCO-.)

上記第一工程で作製される組成物に含まれる過酸化物(III)としては、パーオキシカーボネート、及びジアシルパーオキサイドから選ばれる少なくとも1種が好ましい。
前記第二工程において塗膜を基材に形成した後、塗膜を形成する組成物に含まれる溶剤(IV)の含有量が30重量%以下となるように乾燥し、その後前記第三工程において塗膜の熱による共重合を行うことが好ましい。
前記第一工程で作製される組成物に更に紫外線吸収剤が含まれていることが好ましい。
The peroxide (III) contained in the composition produced in the first step is preferably at least one selected from peroxycarbonate and diacyl peroxide.
After the coating film is formed on the substrate in the second step, the solvent (IV) contained in the composition for forming the coating film is dried so that the content is 30% by weight or less, and then in the third step. It is preferable to perform copolymerization by heat of the coating film.
It is preferable that an ultraviolet absorber is further contained in the composition produced in the first step.

本発明によれば、親水性の単層膜、これらを含む親水性材料、例えば、防曇材料、防汚材料及び帯電防止材料、防曇被膜、防汚被膜及び帯電防止被膜、並びにこれらを基材に積層してなる積層体を熱重合により製造する方法提供することができる。   According to the present invention, a hydrophilic monolayer film, a hydrophilic material containing them, for example, an antifogging material, an antifouling material and an antistatic material, an antifogging coating, an antifouling coating and an antistatic coating, and a basis thereof. It is possible to provide a method for producing a laminate formed by lamination on a material by thermal polymerization.

アニオン濃度比の測定用試料調製の方法を示す略図である。It is the schematic which shows the method of the sample preparation for a measurement of anion concentration ratio.

本発明の製造方法の第一工程では、化合物(I)、1分子中に2以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(II)、1時間半減温度T1/2が40〜100℃の範囲にある過酸化物(III)、及び溶剤(IV)を含む組成物を作製する。 In the first step of the production method of the present invention, compound (I), compound (II) having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule, 1 hour half-life temperature T 1/2 is in the range of 40 to 100 ° C. A composition comprising a peroxide (III) and a solvent (IV) is prepared.

上記組成物に含まれる化合物(I)は、下記一般式(1)で表される。
[X]s[M1]l[M2]m (1)
上記式(1)中、sは1又は2を表し、l及びmはs=l+2mを満たす整数を表す。
M1は、水素イオン、アンモニウムイオン、及びアルカリ金属イオンから選ばれる少なくとも1つの1価カチオンである。
Compound (I) contained in the composition is represented by the following general formula (1).
[X] s [M1] l [M2] m (1)
In the above formula (1), s represents 1 or 2, and l and m represent integers satisfying s = 1 + 2m.
M1 is at least one monovalent cation selected from a hydrogen ion, an ammonium ion, and an alkali metal ion.

なお、本発明でいうアンモニウムイオンとは、アンモニア、1級アミン、2級アミン又は3級アミンに水素イオンが結合してできた陽イオンである。上記アンモニウムイオンとしては、親水性の観点からは、アンモニア及び炭素数の少ないアミンに水素イオンが結合した陽イオンが好ましく、アンモニアに水素イオンが結合して形成されるアンモニウムイオン、メチルアンモニウムがより好ましい。   The ammonium ion in the present invention is a cation formed by bonding a hydrogen ion to ammonia, a primary amine, a secondary amine, or a tertiary amine. From the viewpoint of hydrophilicity, the ammonium ion is preferably a cation in which hydrogen ions are bonded to ammonia and an amine having a small number of carbon atoms, more preferably an ammonium ion formed by bonding hydrogen ions to ammonia, or methylammonium. .

上記アルカリ金属としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウムなどが挙げられる。
上記M1の中でもアルカリ金属イオンが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、及びルビジウムイオンがより好ましい。
Examples of the alkali metal include lithium, sodium, potassium, rubidium, and the like.
Among the M1, alkali metal ions are preferable, and sodium ions, potassium ions, and rubidium ions are more preferable.

M2は、アルカリ土類金属イオンから選ばれる少なくとも1つの2価カチオンである。
Xは、下記一般式(1−1)〜(1−4)で示される基から選ばれる少なくとも1つの1価アニオンである。
M2 is at least one divalent cation selected from alkaline earth metal ions.
X is at least one monovalent anion selected from the groups represented by the following general formulas (1-1) to (1-4).

Figure 2014080471
Figure 2014080471

Figure 2014080471
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Figure 2014080471
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Figure 2014080471
Figure 2014080471

上記一般式(1−1)〜(1−4)中、J及びJ'はそれぞれ独立にH又はCH3である。nは0又は1を表す。Rはそれぞれ独立に、炭素数1〜600の脂肪族炭化水素基を表し、該該脂肪族炭化水素基に含まれる任意のメチレン基は、2価の芳香族基、2価の脂肪族環状炭化水素基、−O−、−COO−、又は−OCO−で置換されていてもよい。 In the general formulas (1-1) to (1-4), J and J ′ are each independently H or CH 3 . n represents 0 or 1. R each independently represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 600 carbon atoms, and any methylene group contained in the aliphatic hydrocarbon group is a divalent aromatic group or a divalent aliphatic cyclic carbon group. It may be substituted with a hydrogen group, -O-, -COO-, or -OCO-.

上記Rとしては、任意のメチレン基が2価の芳香族基、2価の脂肪族環状炭化水素基、−O−、−COO−、又は−OCO−で置換されていてもよい炭素数2〜100の脂肪族炭化水素基が好ましく、任意のメチレン基が2価の芳香族基、2価の脂肪族環状炭化水素基、−O−、−COO−、又は−OCO−で置換されていてもよい炭素数2〜20の脂肪族炭化水素基がより好ましい。   As R, any methylene group may be substituted with a divalent aromatic group, a divalent aliphatic cyclic hydrocarbon group, —O—, —COO—, or —OCO—. 100 aliphatic hydrocarbon groups are preferred, and any methylene group may be substituted with a divalent aromatic group, a divalent aliphatic cyclic hydrocarbon group, —O—, —COO—, or —OCO—. A good aliphatic hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms is more preferred.

前記化合物(I)の中でも、m=0の化合物が好ましい。
上記Xの式量は、通常50〜18,000、好ましくは100〜1,000、より好ましくは170〜500である。
Among the compounds (I), compounds with m = 0 are preferable.
The formula amount of X is usually 50 to 18,000, preferably 100 to 1,000, and more preferably 170 to 500.

前記化合物(I)の中でも、下記一般式(1−1−1)及び一般式(1−1−2)で表される化合物が好ましい。   Among the compounds (I), compounds represented by the following general formula (1-1-1) and general formula (1-1-2) are preferable.

Figure 2014080471
Figure 2014080471

Figure 2014080471
Figure 2014080471

上記式(1−1−1)及び(1−2−1)において、Jは、H又はCH3である。
1及びR2は、それぞれ独立に、H、CH3、又はC25である。これらR1及びR2の中でも、合成の容易さからHが好ましい。
nは1〜20の整数を表すが、合成の容易さから、好ましくは2〜10の整数、より好ましくは2〜4の整数である。
In the above formulas (1-1-1) and (1-2-1), J is H or CH 3 .
R 1 and R 2 are each independently H, CH 3 , or C 2 H 5 . Among these R 1 and R 2 , H is preferable because of easy synthesis.
n represents an integer of 1 to 20, but is preferably an integer of 2 to 10 and more preferably an integer of 2 to 4 for ease of synthesis.

lは、2〜10の整数を表すが、好ましくは2〜6の整数、より好ましくは2〜4の整数である。
Mは水素イオン、アンモニウムイオン、及びアルカリ金属イオンから選ばれる少なくとも1つの1価カチオン、又はアルカリ土類金属イオンから選ばれる少なくとも1つの2価カチオンである。
l represents an integer of 2 to 10, preferably an integer of 2 to 6, more preferably an integer of 2 to 4.
M is at least one monovalent cation selected from hydrogen ions, ammonium ions, and alkali metal ions, or at least one divalent cation selected from alkaline earth metal ions.

そして、Mが1価のカチオンである場合にはmは1であり、Mが2価のカチオンである場合にはmは2である。
上記アンモニウムイオンは、アンモニア、1級アミン、2級アミン又は3級アミンに水素イオンが結合してできた陽イオンである。上記アンモニウムイオンとしては、親水性の観点からは、アンモニア及び炭素数の少ないアミンに水素イオンが結合した陽イオンが好ましく、アンモニアに水素イオンが結合して形成されるアンモニウムイオン、メチルアンモニウムがより好ましい。
When M is a monovalent cation, m is 1, and when M is a divalent cation, m is 2.
The ammonium ion is a cation formed by binding a hydrogen ion to ammonia, a primary amine, a secondary amine, or a tertiary amine. From the viewpoint of hydrophilicity, the ammonium ion is preferably a cation in which hydrogen ions are bonded to ammonia and an amine having a small number of carbon atoms, more preferably an ammonium ion formed by bonding hydrogen ions to ammonia, or methylammonium. .

上記アルカリ金属としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウムなどが挙げられる。上記アルカリ土類金属としては、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウムなどが挙げられる。   Examples of the alkali metal include lithium, sodium, potassium, rubidium, and the like. Examples of the alkaline earth metal include beryllium, magnesium, calcium, and strontium.

これらMの中でも、1価のカチオンが好ましく、アルカリ金属イオンがより好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、及びルビジウムイオンが更に好ましい。
これら式(1−1−1)及び(1−1−2)で表される単量体の中でも、2−スルホニルエチル−(メタ)アクリレート、3−スルホニルプロピル−(メタ)アクリレート及びこれら化合物のアルカリ金属塩が好ましい。
Among these M, monovalent cations are preferable, alkali metal ions are more preferable, and sodium ions, potassium ions, and rubidium ions are more preferable.
Among these monomers represented by the formulas (1-1-1) and (1-1-2), 2-sulfonylethyl- (meth) acrylate, 3-sulfonylpropyl- (meth) acrylate, and these compounds Alkali metal salts are preferred.

上記化合物(I)の分子量は、通常168〜18,000、好ましくは180〜1,000、より好ましくは200〜500である。
上記化合物(I)は1種単独で用いてもよいし、2種以上混合して用いてもよい。
The molecular weight of the compound (I) is usually 168 to 18,000, preferably 180 to 1,000, more preferably 200 to 500.
The said compound (I) may be used individually by 1 type, and may be used in mixture of 2 or more types.

なお、本発明の単量体組成物には上記化合物(I)が含まれるが、上記化合物(I)の少なくとも一部が反応してオリゴマーの形になって上記単量体組成物に含まれていてもよい。なお、ここでいうオリゴマーとは上記化合物(I)から形成される繰り返し単位を通常2〜20含むものである。なお、該オリゴマーの分子量は、通常30,000以下、好ましくは10,000以下、より好ましくは5,000以下の範囲である。   The monomer composition of the present invention contains the compound (I), but at least a part of the compound (I) reacts to form an oligomer and is contained in the monomer composition. It may be. In addition, an oligomer here contains the repeating unit formed from the said compound (I) normally 2-20. The molecular weight of the oligomer is usually in the range of 30,000 or less, preferably 10,000 or less, more preferably 5,000 or less.

上記化合物(I)は公知の方法又は公知に準ずる方法により製造でき、例えば、特公昭49−36214号公報、特公昭51−9732号公報、特開昭63284157号公報、又は米国特許第3024221号明細書に記載された方法により製造できる。   The compound (I) can be produced by a known method or a method according to a known method. For example, Japanese Patent Publication No. 49-36214, Japanese Patent Publication No. 51-9732, Japanese Patent Publication No. 6284157, or US Pat. No. 3,024,221 It can be produced by the method described in the book.

上記式(1−1−1)で表される単量体は、例えば、アルカリ金属炭酸塩の存在下、(メタ)アクリル酸とプルパンスルトンとを反応させることにより製造できる。また、上記式(1−1−2)で表される単量体は、例えば、ポリオールの一部の水酸基をハロゲン化水素でハロゲン化し、次いで置換されたハロゲンにアルカリ金属スルホネートを反応させて水酸基を有するアルカリ金属スルホネート化合物を合成し、最後にこの水酸基と(メタ)アクリル酸ハライド又は(メタ)アクリル酸とを反応させることにより製造できる。   The monomer represented by the above formula (1-1-1) can be produced, for example, by reacting (meth) acrylic acid with purpan sultone in the presence of an alkali metal carbonate. The monomer represented by the above formula (1-1-2) is, for example, a group in which a hydroxyl group of a polyol is partially halogenated with hydrogen halide, and then the substituted halogen is reacted with an alkali metal sulfonate. Can be produced by reacting the hydroxyl group with (meth) acrylic acid halide or (meth) acrylic acid.

第一工程で作製される上記組成物には、更に、1分子中に2以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(II)が含まれる。ただし、化合物(II)は、スルホン酸基、カルボキシル基、及びリン酸基のいずれも有さない。   The composition prepared in the first step further includes a compound (II) having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule. However, compound (II) does not have any of a sulfonic acid group, a carboxyl group, and a phosphoric acid group.

この化合物(II)に含まれる(メタ)アクリロイル基の形態については特に制限はないが、(メタ)アクリロイル基は、例えば、(メタ)アクリロイルオキシ基、(メタ)アクリロイルチオ基、又は(メタ)アクリルアミド基などの形態で化合物(II)に含まれるが、好ましくは、(メタ)アクリロイルオキシ基又は(メタ)アクリロイルチオ基の形態で含まれる。   Although there is no restriction | limiting in particular about the form of the (meth) acryloyl group contained in this compound (II), For example, (meth) acryloyl group, (meth) acryloyloxy group, (meth) acryloylthio group, or (meth) Although it is contained in the compound (II) in the form of an acrylamide group or the like, it is preferably contained in the form of a (meth) acryloyloxy group or a (meth) acryloylthio group.

上記化合物(II)としては、例えば、1以上の水酸基と2以上の(メタ)アクリロイル基とを有する化合物、1以上のエーテル結合又はチオエーテル結合と2以上の(メタ)アクリロイル基とを有する化合物、1以上のエステル結合と2以上の(メタ)アクリロイル基とを有する化合物、1以上の脂肪族環構造又は芳香族環構造と2以上の(メタ)アクリロイル基とを有する化合物、1以上のヘテロ環構造と2以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物などが挙げられる。   Examples of the compound (II) include compounds having one or more hydroxyl groups and two or more (meth) acryloyl groups, compounds having one or more ether bonds or thioether bonds and two or more (meth) acryloyl groups, A compound having one or more ester bonds and two or more (meth) acryloyl groups, a compound having one or more aliphatic ring structures or aromatic ring structures and two or more (meth) acryloyl groups, one or more heterocycles And a compound having a structure and two or more (meth) acryloyl groups.

これら化合物(II)の中でも、下記一般式(2−1)及び(2−2)で表される化合物が好ましい。   Among these compounds (II), compounds represented by the following general formulas (2-1) and (2-2) are preferable.

Figure 2014080471
Figure 2014080471

Figure 2014080471
Figure 2014080471

上記式(2−1)及び(2−2)において、R3及びR5〜R9はそれぞれ独立にH又はCH3であり、R12及びR13はそれぞれ独立にH又はCH3であり、X1、X2、X3、X4及びX5はそれぞれ独立にO又はSである。aは2〜30の整数を表し、bは0〜2の整数を表し、cは0〜30の整数を表し、dは0〜20の整数を表し、eは0〜2の整数を表す。iは1〜20の整数を表し、好ましくは1〜10、より好ましくは1〜5、更に好ましくは1〜3の整数を表す。kは1〜10の整数を表し、より好ましくは2〜8、更に好ましくは2〜6の整数を表す。 In the above formulas (2-1) and (2-2), R 3 and R 5 to R 9 are each independently H or CH 3 , R 12 and R 13 are each independently H or CH 3 , X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 are each independently O or S. a represents an integer of 2 to 30, b represents an integer of 0 to 2, c represents an integer of 0 to 30, d represents an integer of 0 to 20, and e represents an integer of 0 to 2. i represents an integer of 1 to 20, preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, and still more preferably an integer of 1 to 3. k represents an integer of 1 to 10, more preferably 2 to 8, and still more preferably an integer of 2 to 6.

Aは、下記化学式から選ばれる1種を表す。   A represents one selected from the following chemical formula.

Figure 2014080471
又は
Figure 2014080471
Or

Figure 2014080471
から選ばれる1種を表す。
Figure 2014080471
1 type chosen from.

ここで、*は結合手である。
5、R6、R7、R9、R10及びR11はそれぞれ独立にH又はCH3であり、R100及びR101はそれぞれ独立にH又は炭素数1〜6のアルキル基であり、R200及びR201はそれぞれ独立にH、CH3又はフェニル基である。Rは、ヘキサメチレン、イソホロン(1−メチレン−3−エチレン−3−メチル−5,5−ジメチル−シクロヘキサン)、ノルボルナンジメチレン、ジシクロヘキシレンメタン、シクロヘキサンジメチレン又はキシリレンであり、R50はヘキサメチレン、イソホロン(1−メチレン−3−エチレン−3−メチル−5,5−ジメチル−シクロヘキサン)、ノルボルナンジメチレン、ジシクロヘキシレンメタン、シクロヘキサンジメチレン、トルイレン、ジフェニルメタン又はキシリレンである。
Here, * is a bond.
R 5 , R 6 , R 7 , R 9 , R 10 and R 11 are each independently H or CH 3 ; R 100 and R 101 are each independently H or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; R 200 and R 201 are each independently H, CH 3 or a phenyl group. R is hexamethylene, isophorone (1-methylene-3-ethylene-3-methyl-5,5-dimethyl - cyclohexane), norbornane methylene, dicyclohexylene methane, cyclohexane dimethylene or xylylene, R 50 is hexamethylene Methylene, isophorone (1-methylene-3-ethylene-3-methyl-5,5-dimethyl-cyclohexane), norbornane dimethylene, dicyclohexylenemethane, cyclohexanedimethylene, toluylene, diphenylmethane or xylylene.

VはOH又は結合手(*)を有する酸素原子であり、W1〜W3はそれぞれ独立にH、CH3、OH又は結合手(*)を有する酸素原子であり、ZはOH、結合手(*)を有する酸素原子、COOH又は結合手(*)を有するカルボキシル基(COO)を表し、V1〜V3はそれぞれ独立にH又は結合手(*)である。 V is an oxygen atom having OH or a bond (*), W 1 to W 3 are independently oxygen atoms having H, CH 3 , OH or a bond (*), and Z is OH, a bond An oxygen atom having (*), COOH, or a carboxyl group (COO) having a bond (*) is represented, and V 1 to V 3 are each independently H or a bond (*).

n1及びn2はそれぞれ独立に0〜8の整数を表し、o1及びo2はそれぞれ独立に1〜3の整数を表し、fは1〜20の整数を表し、gは0〜3の整数を表し、mは0又は1を表す。qは1〜7の整数を表し、好ましくは1〜5の整数、より好ましくは1〜3の整数を表す。a1は、2〜3の整数を表し、好ましくは3である。a2は、3〜4の整数を表し、好ましくは3である。a3は、4〜6の整数を表し、好ましくは5又は6である。a4は、2〜3の整数を表し、好ましくは3である。a5は、2〜4の整数を表し、好ましくは3又は4である。   n1 and n2 each independently represent an integer of 0 to 8, o1 and o2 each independently represent an integer of 1 to 3, f represents an integer of 1 to 20, g represents an integer of 0 to 3, m represents 0 or 1; q represents an integer of 1 to 7, preferably an integer of 1 to 5, more preferably an integer of 1 to 3. a1 represents an integer of 2 to 3, and is preferably 3. a2 represents an integer of 3 to 4, and is preferably 3. a3 represents an integer of 4 to 6, preferably 5 or 6. a4 represents an integer of 2 to 3, and is preferably 3. a5 represents an integer of 2 to 4, and is preferably 3 or 4.

上記一般式(2−1)〜(2−2)で表される化合物は、公知の方法又は公知に準ずる方法により製造できる。また、市販品として入手可能である。
上記式(2−1)及び一般式(2−2)で表される化合物の中でも、下記一般式(3)〜(8)及び(10)〜(33)で表される化合物が好ましい。
The compounds represented by the general formulas (2-1) to (2-2) can be produced by a known method or a method according to a known method. Moreover, it is available as a commercial item.
Among the compounds represented by the formula (2-1) and the general formula (2-2), compounds represented by the following general formulas (3) to (8) and (10) to (33) are preferable.

Figure 2014080471
上記式(3)中、R3及びR4はそれぞれ独立にH又はCH3であり、R100及びR101はそれぞれ独立にH又は炭素数1〜6のアルキル基であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0〜2の整数を表し、n1及びn2はそれぞれ独立に0〜8の整数を表す。
Figure 2014080471
In the above formula (3), R 3 and R 4 are each independently H or CH 3 , R 100 and R 101 are each independently H or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and b1 and b2 are each Independently represents an integer of 0 to 2, and n1 and n2 each independently represents an integer of 0 to 8.

Figure 2014080471
上記式(4)中、R3〜R6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、R100及びR101はそれぞれ独立にH又は炭素数1〜6のアルキル基であり、n1及びn2はそれぞれ独立に0〜8の整数を表す。
Figure 2014080471
In the above formula (4), R 3 to R 6 are each independently H or CH 3 , R 100 and R 101 are each independently H or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and n1 and n2 are each Independently represents an integer of 0 to 8.

Figure 2014080471
上記式(5)中、R3〜R6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0〜2の整数を表し、c1は2〜30の整数を表す。
Figure 2014080471
In the above formula (5), R 3 ~R 6 is H or CH 3 independently, b1 and b2 represent each independently an integer of 0 to 2, c1 represents an integer of 2 to 30.

Figure 2014080471
上記式(6)中、R3〜R6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、c2及びc3はそれぞれ独立に1〜5の整数を表し、d1は2〜20の整数を表す。
Figure 2014080471
In the above formula (6), R 3 ~R 6 is H or CH 3 independently, c2 and c3 each independently represents an integer of 1 to 5, d1 represents an integer of 2 to 20.

Figure 2014080471
上記式(7)中、R3及びR4はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0〜2の整数を表し、d1は2〜20の整数を表し、mは0又は1を表す。
Figure 2014080471
In the above formula (7), R 3 and R 4 are each independently H or CH 3 , b1 and b2 each independently represent an integer of 0 to 2, d1 represents an integer of 2 to 20, and m is 0 or 1 is represented.

Figure 2014080471
上記式(8)中、R3及びR4はそれぞれ独立にH又はCH3であり、o1及びo2はそれぞれ独立1〜3の整数を表す。
Figure 2014080471
In the above formula (8), R 3 and R 4 are each independently H or CH 3 , and o1 and o2 each independently represent an integer of 1 to 3.

Figure 2014080471
上記式(10)中、R3〜R8はそれぞれ独立にH又はCH3であり、c4及びc5はそれぞれ独立に0〜5の整数を表し、mは0又は1を表す。
Figure 2014080471
In the above formula (10), R 3 to R 8 are each independently H or CH 3 , c4 and c5 each independently represent an integer of 0 to 5, and m represents 0 or 1.

Figure 2014080471
上記式(11)中、R3及びR4はそれぞれ独立にH又はCH3であり、mは0又は1を表す。
Figure 2014080471
In the above formula (11), R 3 and R 4 are each independently H or CH 3 , and m represents 0 or 1.

Figure 2014080471
上記式(12)中、R3〜R7はそれぞれ独立にH又はCH3である。
Figure 2014080471
In the above formula (12), R 3 to R 7 are each independently H or CH 3 .

Figure 2014080471
上記式(13)中、*は結合手であり、R3、R5及びR6それぞれ独立にH又はCH3であり、c6は0〜3の整数を表す。
Figure 2014080471
In the above formula (13), * represents a bond, R3, R5 and R6 each independently H or CH 3, c6 represents an integer of 0 to 3.

Figure 2014080471
上記式(14)中、R3〜R8はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0〜2の整数を表し、c7及びc8はそれぞれ独立に0〜5の整数を表し、mは0又は1を表す。
Figure 2014080471
In the above formula (14), R 3 to R 8 are each independently H or CH 3 , b1 and b2 each independently represent an integer of 0 to 2, and c7 and c8 are each independently an integer of 0 to 5 M represents 0 or 1;

Figure 2014080471
上記式(15)中、R3〜R10はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0〜2の整数を表し、c9及びc10はそれぞれ独立に0〜30の整数を表す。
Figure 2014080471
In the formula (15), R 3 to R 10 are each independently H or CH 3 , b1 and b2 each independently represent an integer of 0 to 2, and c9 and c10 are each independently an integer of 0 to 30. Represents.

Figure 2014080471
上記式(16)中、R3〜R10はそれぞれ独立にH又はCH3であり、c11〜c14は1以上の整数を表し、なおかつc11+c12+c13+c14=4〜30を満足する。
Figure 2014080471
In the above formula (16), R 3 to R 10 are each independently H or CH 3 , c11 to c14 represent an integer of 1 or more, and satisfy c11 + c12 + c13 + c14 = 4 to 30.

Figure 2014080471
上記式(17)中、R3及びR4はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0〜2の整数を表す。
Figure 2014080471
In the above formula (17), R 3 and R 4 is H or CH 3 independently, b1 and b2 each independently represent an integer of 0-2.

Figure 2014080471
上記式(18)中、R3〜R8はそれぞれ独立にH又はCH3であり、R200及びR201はそれぞれ独立にH、CH3又はフェニル基であり、c4及びc5はそれぞれ独立に0〜5の整数を表す。
Figure 2014080471
In the above formula (18), R 3 to R 8 are each independently H or CH 3 , R 200 and R 201 are each independently H, CH 3 or a phenyl group, and c4 and c5 are each independently 0 Represents an integer of ~ 5.

Figure 2014080471
上記式(19)中、R3〜R5及びR11はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1〜b3はそれぞれ独立に0〜2の整数を表し、fは1〜20の整数を表す。
Figure 2014080471
In the above formula (19), R 3 ~R 5 and R 11 is H or CH 3 independently, b1 to b3 represent each independently an integer of 0 to 2, f is an integer from 1 to 20 .

Figure 2014080471
上記式(20)中、*は結合手であり、VはOH又は結合手(*)を有する酸素原子であり、R3、R5及びR6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、a1は2又は3を表し、b1は0〜2の整数を表し、c15は0〜20の整数を表す。)
Figure 2014080471
In the above formula (20), * is a bond, V is an oxygen atom having OH or a bond (*), R 3 , R 5 and R 6 are each independently H or CH 3 , a1 Represents 2 or 3, b1 represents an integer of 0 to 2, and c15 represents an integer of 0 to 20. )

Figure 2014080471
上記式(21)中、*は結合手であり、W1はH、CH3、OH又は結合手(*)を有する酸素原子であり、R3、R5及びR6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、a2は3又は4を表し、c16は0〜20の整数を表す。
Figure 2014080471
In the above formula (21), * is a bond, W 1 is H, CH 3 , OH or an oxygen atom having a bond (*), and R 3 , R 5 and R 6 are each independently H or is CH 3, a2 represents 3 or 4, c16 represents an integer of 0 to 20.

Figure 2014080471
上記式(22)中、*は結合手であり、W2及びW3はそれぞれ独立にH、CH3、OH又は結合手(*)を有する酸素原子であり、R3、R5及びR6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、a3は4〜6の整数を表し、c17は0〜3の整数を表す。
Figure 2014080471
In the above formula (22), * is a bond, W 2 and W 3 are each independently an oxygen atom having H, CH 3 , OH or a bond (*), and R 3 , R 5 and R 6 Are each independently H or CH 3 , a3 represents an integer of 4 to 6, and c17 represents an integer of 0 to 3.

Figure 2014080471
上記式(23)中、R30はヘキサメチレン、イソホロン(1−メチレン−3−エチレン−3−メチル−5,5−ジメチル−シクロヘキサン)、ノルボルナンジメチレン、ジシクロヘキシレンメタン、シクロヘキサンジメチレン、又はキシリレンであり、R3〜R10はそれぞれ独立にH又はCH3であり、e1及びe2はそれぞれ独立に0〜2の整数を表す。
Figure 2014080471
In the above formula (23), R 30 is hexamethylene, isophorone (1-methylene-3-ethylene-3-methyl-5,5-dimethyl-cyclohexane), norbornane dimethylene, dicyclohexylenemethane, cyclohexanedimethylene, or Xylylene, R 3 to R 10 are each independently H or CH 3 , and e1 and e2 each independently represent an integer of 0 to 2.

Figure 2014080471
上記式(24)中、W4はH、CH3、OH又は結合手(*)を有する酸素原子であり、R3、R5及びR6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1は0〜2の整数を表し、c15は0〜20の整数を表し、a6は1〜6の整数を表し、n100は1〜6の整数を表す。
Figure 2014080471
In the above formula (24), W 4 is H, CH 3 , OH or an oxygen atom having a bond (*), R 3 , R 5 and R 6 are each independently H or CH 3 , and b1 is N represents an integer of 0 to 2, c15 represents an integer of 0 to 20, a6 represents an integer of 1 to 6, and n100 represents an integer of 1 to 6.

Figure 2014080471
上記式(25)中、R3〜R10はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0〜2の整数を表し、c9及びc10はそれぞれ独立に0〜5の整数を表す。
Figure 2014080471
In the above formula (25), R 3 to R 10 are each independently H or CH 3 , b1 and b2 each independently represent an integer of 0 to 2, and c9 and c10 are each independently an integer of 0 to 5 Represents.

Figure 2014080471
上記式(26)中、R3はH又はCH3であり、p1は1〜6の整数を表し、a10は3を表す。
Figure 2014080471
In the above formula (26), R 3 is H or CH 3, p1 is an integer of 1 to 6, a10 represents 3.

Figure 2014080471
上記式(27)中、R3〜R8はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0〜2の整数を表し、c7及びc8はそれぞれ独立に0〜5の整数を表す。
Figure 2014080471
In the above formula (27), R 3 to R 8 are each independently H or CH 3 , b1 and b2 each independently represent an integer of 0 to 2, and c7 and c8 are each independently an integer of 0 to 5 Represents.

Figure 2014080471
上記式(28)中、R3〜R8はそれぞれ独立にH又はCH3であり、b1及びb2はそれぞれ独立に0〜2の整数を表し、c7及びc8はそれぞれ独立に0〜5の整数を表す。
Figure 2014080471
In the above formula (28), R 3 to R 8 are each independently H or CH 3 , b1 and b2 each independently represent an integer of 0 to 2, and c7 and c8 are each independently an integer of 0 to 5 Represents.

Figure 2014080471
上記式(29)中、R3及びR5〜R13はそれぞれ独立にH又はCH3であり、i1は0〜5の整数を表す。
Figure 2014080471
In the above formula (29), R 3 and R 5 to R 13 is H or CH 3 independently, i1 is an integer of 0-5.

Figure 2014080471
上記式(30)中、R3及びR5〜R9はそれぞれ独立にH又はCH3であり、W1はH、CH3、OH又は結合手(*)を有する酸素原子であり、a2は3又は4を表し、i1は0〜5の整数を表す。
Figure 2014080471
In the above formula (30), R 3 and R 5 to R 9 are each independently H or CH 3 , W 1 is H, CH 3 , OH or an oxygen atom having a bond (*), and a2 is 3 or 4 is represented, and i1 represents an integer of 0 to 5.

Figure 2014080471
上記式(31)中、R3〜R9はそれぞれ独立にH又はCH3であり、W2及びW3はそれぞれ独立にH、CH3、OH又は結合手(*)を有する酸素原子であり、a7は1〜6の整数を表し、a8は0〜5の整数を表し、なおかつa7+a8=4〜6を満足する。
Figure 2014080471
In the above formula (31), R 3 to R 9 are each independently H or CH 3 , and W 2 and W 3 are each independently an oxygen atom having H, CH 3 , OH, or a bond (*). , A7 represents an integer of 1-6, a8 represents an integer of 0-5, and a7 + a8 = 4-6 is satisfied.

Figure 2014080471
上記式(32)中、R70はトルイレン、ジフェニルメタン、ヘキサメチレン、イソホロン(1−メチレン−3−エチレン−3−メチル−5,5−ジメチル−シクロヘキサン)、ノルボルナンジメチレン、ジシクロヘキシレンメタン、シクロヘキサンジメチレン、N,N‘,N“−トリス(ヘキサメチレン)−イソシアヌレート、N,N,N’−トリス(ヘキサメチレン)−ウレア、N,N,N‘,N’−テトラキス(ヘキサメチレン)−ウレア、又はキシリレンであり、R3、R5及びR6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、W1はH、CH3、OH又は結合手(*)を有する酸素原子であり、a9は2〜3の整数を表し、a10は2〜4の整数を表し、b1は0〜2の整数を表し、c4は0〜5の整数を表す。
Figure 2014080471
In the above formula (32), R 70 is toluylene, diphenylmethane, hexamethylene, isophorone (1-methylene-3-ethylene-3-methyl-5,5-dimethyl - cyclohexane), norbornane methylene, dicyclohexylene methane, cyclohexane Dimethylene, N, N ', N "-tris (hexamethylene) -isocyanurate, N, N, N'-tris (hexamethylene) -urea, N, N, N', N'-tetrakis (hexamethylene) -Urea or xylylene, R 3 , R 5 and R 6 are each independently H or CH 3 , W 1 is H, CH 3 , OH or an oxygen atom having a bond (*), a9 Represents an integer of 2 to 3, a10 represents an integer of 2 to 4, b1 represents an integer of 0 to 2, and c4 represents an integer of 0 to 5.

Figure 2014080471
上記式(33)中、R70は、トルイレン、ジフェニルメタン、ヘキサメチレン、イソホロン(1−メチレン−3−エチレン−3−メチル−5,5−ジメチル−シクロヘキサン)、ノルボルナンジメチレン、ジシクロヘキシレンメタン、シクロヘキサンジメチレン、N,N‘,N“−トリス(ヘキサメチレン)−イソシアヌレート、N,N,N’−トリス(ヘキサメチレン)−ウレア、N,N,N‘,N’−テトラキス(ヘキサメチレン)−ウレア、又はキシリレンであり、R3、R5及びR6はそれぞれ独立にH又はCH3であり、W2及びW3はそれぞれ独立にH、CH3、OH又は結合手(*)を有する酸素原子であり、a9は3〜5の整数を表し、a10は2〜4の整数を表し、b1は0〜2の整数を表し、c4は0〜5の整数を表す。
Figure 2014080471
In the above formula (33), R 70 is toluylene, diphenylmethane, hexamethylene, isophorone (1-methylene-3-ethylene-3-methyl-5,5-dimethyl-cyclohexane), norbornane dimethylene, dicyclohexylenemethane, Cyclohexanedimethylene, N, N ′, N ″ -tris (hexamethylene) -isocyanurate, N, N, N′-tris (hexamethylene) -urea, N, N, N ′, N′-tetrakis (hexamethylene) ) -Urea or xylylene, R 3 , R 5 and R 6 are each independently H or CH 3 , and W 2 and W 3 are each independently H, CH 3 , OH or a bond (*). A9 represents an integer of 3 to 5, a10 represents an integer of 2 to 4, b1 represents an integer of 0 to 2, and c4 represents an integer of 0 to 5.

上記一般式(3)で表される化合物(II)としては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,2−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、2−メチル−1,8−オクタンジオールジ(メタ)アクリレート、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、1,2−ビス{3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシ−プロピルオキシ}エタン、1,2−ビス{3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシ−プロピルオキシ}プロパン、1,3−ビス{3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシ−プロピルオキシ}プロパン、1,4−ビス{3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシ−プロピルオキシ}プタン、1,6−ビス{3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシ−プロピルオキシ}ヘキサンなどが挙げられる。   Examples of the compound (II) represented by the general formula (3) include ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,2-propanediol di (meth) acrylate, and 1,3-propanediol di (meth) acrylate. 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate, neo Pentyl glycol di (meth) acrylate, 2-methyl-1,8-octanediol di (meth) acrylate, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol di (meth) acrylate, 1,2-bis { 3- (meth) acryloyloxy-2-hydroxy-propyloxy} ethane, 1,2-bis {3- (Meth) acryloyloxy-2-hydroxy-propyloxy} propane, 1,3-bis {3- (meth) acryloyloxy-2-hydroxy-propyloxy} propane, 1,4-bis {3- (meth) acryloyloxy -2-hydroxy-propyloxy} ptane, 1,6-bis {3- (meth) acryloyloxy-2-hydroxy-propyloxy} hexane, and the like.

上記一般式(4)で表される化合物(II)としては、例えば、ネオペンチルグリコールヒドロキシピバリン酸ジ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
上記一般式(5)で表される化合物(II)としては、例えば、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,2−ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ポリブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、 ポリエチレングリコール−ビス{3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシ−プロピル}エーテル、1,2−ポリプロピレングリコール−ビス{3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシ−プロピル}エーテルなどが挙げられる。
Examples of the compound (II) represented by the general formula (4) include neopentyl glycol hydroxypivalic acid di (meth) acrylate.
Examples of the compound (II) represented by the general formula (5) include polyethylene glycol di (meth) acrylate, 1,2-polypropylene glycol di (meth) acrylate, and 1,3-polypropylene glycol di (meth) acrylate. 1,4-polybutylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol-bis {3- (meth) acryloyloxy-2-hydroxy-propyl} ether, 1,2-polypropylene glycol-bis {3- (meth) acryloyl And oxy-2-hydroxy-propyl} ether.

上記一般式(6)で表される化合物(II)としては、例えば、1,2−ポリプロピレングリコール−ビス{(メタ)アクリロイル−ポリ(オキシエチレン)}エーテルなどが挙げられる。   Examples of the compound (II) represented by the general formula (6) include 1,2-polypropylene glycol-bis {(meth) acryloyl-poly (oxyethylene)} ether.

上記一般式(7)で表される化合物(II)としては、例えば、1,3−ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ポリブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ポリブチレングリコール−ビス{3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシ−プロピル}エーテルなどが挙げられる。   Examples of the compound (II) represented by the general formula (7) include 1,3-polypropylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-polybutylene glycol di (meth) acrylate, and 1,4-polybutylene. And glycol-bis {3- (meth) acryloyloxy-2-hydroxy-propyl} ether.

上記一般式(8)で表される化合物(II)としては、例えば、ビス{2−(メタ)アクリロイルチオ−エチル}スルフィド、ビス{5−(メタ)アクリロイルチオ−3−チアペンチル}スルフィドなどが挙げられる。   Examples of the compound (II) represented by the general formula (8) include bis {2- (meth) acryloylthio-ethyl} sulfide and bis {5- (meth) acryloylthio-3-thiapentyl} sulfide. Can be mentioned.

上記一般式(10)で表される化合物(II)としては、例えば、シクロヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ビス{(メタ)アクリロイルオキシ−メチル}シクロヘキサン、ビス{7−(メタ)アクリロイルオキシ−2,5−ジオキサヘプチル}シクロヘキサン、ビス{(メタ)アクリロイルオキシ−ポリ(エチレンオキシ)−メチル}シクロヘキサンなどが挙げられる。   Examples of the compound (II) represented by the general formula (10) include cyclohexanediol di (meth) acrylate, bis {(meth) acryloyloxy-methyl} cyclohexane, and bis {7- (meth) acryloyloxy-2. , 5-dioxaheptyl} cyclohexane, bis {(meth) acryloyloxy-poly (ethyleneoxy) -methyl} cyclohexane, and the like.

上記一般式(11)で表される化合物(II)としては、例えば、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
上記一般式(12)で表される化合物(II)としては、例えば、2−プロペノイックアシッド {2−(1,1,−ジメチル−2−{(1−オキソ−2−プロペニル)オキシ}エチル)−5−エチル−1,3−ジオキサン−5−イル}メチルエステル(日本化薬社製,商品名「KAYARAD R−604」)などが挙げられる。
Examples of the compound (II) represented by the general formula (11) include tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate.
As the compound (II) represented by the general formula (12), for example, 2-propenoic acid {2- (1,1, -dimethyl-2-{(1-oxo-2-propenyl) oxy} Ethyl) -5-ethyl-1,3-dioxane-5-yl} methyl ester (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name “KAYARAD R-604”).

上記一般式(13)で表される化合物(II)としては、例えば、N,N‘,N“−トリス{2−(メタ)アクリロイルオキシ−エチル}イソシアヌレートなどが挙げられる。
上記一般式(14)で表される化合物(II)としては、例えば、キシリレンジオールジ(メタ)アクリレート、ビス{7−(メタ)アクリロイルオキシ−2,5−ジオキサヘプチル}ベンゼン、ビス{(メタ)アクリロイルオキシ−ポリ(エチレンオキシ)−メチル}ベンゼンなどが挙げられる。
Examples of the compound (II) represented by the general formula (13) include N, N ′, N ″ -tris {2- (meth) acryloyloxy-ethyl} isocyanurate.
Examples of the compound (II) represented by the general formula (14) include xylylenediol di (meth) acrylate, bis {7- (meth) acryloyloxy-2,5-dioxaheptyl} benzene, bis { (Meth) acryloyloxy-poly (ethyleneoxy) -methyl} benzene and the like.

上記一般式(15)で表される化合物(II)としては、例えば、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、ビス{(メタ)アクリロイル−オキシエチル}ビスフェノールA、ビス{(メタ)アクリロイル−オキシプロピル}ビスフェノールA、ビス{(メタ)アクリロイル−ポリ(オキシエチレン)}ビスフェノールA、ビス{(メタ)アクリロイル−ポリ(オキシ−1,2−プロピレン)}ビスフェノールA、ビス{3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシ−プロピル}ビスフェノールA、ビス{3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシ−プロピルーオキシエチル}ビスフェノールA、ビス{3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシ−プロピル−オキシプロピル}ビスフェノールA、ビス{3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシ−プロピル−ポリ(オキシエチレン)}ビスフェノールA、ビス{3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシ−プロピル−ポリ(オキシ−1,2−プロピレン)}ビスフェノールAなどが挙げられる。   Examples of the compound (II) represented by the general formula (15) include bisphenol A di (meth) acrylate, bis {(meth) acryloyl-oxyethyl} bisphenol A, bis {(meth) acryloyl-oxypropyl} bisphenol. A, bis {(meth) acryloyl-poly (oxyethylene)} bisphenol A, bis {(meth) acryloyl-poly (oxy-1,2-propylene)} bisphenol A, bis {3- (meth) acryloyloxy-2 -Hydroxy-propyl} bisphenol A, bis {3- (meth) acryloyloxy-2-hydroxy-propyl-oxyethyl} bisphenol A, bis {3- (meth) acryloyloxy-2-hydroxy-propyl-oxypropyl} bisphenol A, screw {3- (meta Examples include acryloyloxy-2-hydroxy-propyl-poly (oxyethylene)} bisphenol A, bis {3- (meth) acryloyloxy-2-hydroxy-propyl-poly (oxy-1,2-propylene)} bisphenol A, and the like. It is done.

上記一般式(16)で表される化合物(II)としては、例えば、ビス{(メタ)アクリロイル−オキシエチル−オキシプロピル}ビスフェノールA、ビス{(メタ)アクリロイルポリ(オキシエチレン)−ポリ(オキシ−1,2−プロピレン)}ビスフェノールAなどが挙げられる。   Examples of the compound (II) represented by the general formula (16) include bis {(meth) acryloyl-oxyethyl-oxypropyl} bisphenol A, bis {(meth) acryloyl poly (oxyethylene) -poly (oxy-). 1,2-propylene)} bisphenol A and the like.

上記一般式(17)で表される化合物(II)としては、例えば、ナフタレンジオールジ(メタ)アクリレート、ビス{3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシ−プロピル−オキシ}ナフタレンなどが挙げられる。   Examples of the compound (II) represented by the general formula (17) include naphthalenediol di (meth) acrylate, bis {3- (meth) acryloyloxy-2-hydroxy-propyl-oxy} naphthalene, and the like. .

上記一般式(18)で表される化合物(II)としては、例えば、9,9−フルオレンジオールジ(メタ)アクリレート、9,9−ビス{4−(2−(メタ)アクリロイルオキシ−エチル−オキシ)}フルオレン、9,9−ビス{3−フェニル−4−(メタ)アクリロイルオキシ−ポリ(エチレンオキシ)}フルオレンなどが挙げられる。   Examples of the compound (II) represented by the general formula (18) include 9,9-fluorenediol di (meth) acrylate, 9,9-bis {4- (2- (meth) acryloyloxy-ethyl). -Oxy)} fluorene, 9,9-bis {3-phenyl-4- (meth) acryloyloxy-poly (ethyleneoxy)} fluorene, and the like.

上記一般式(19)で表される化合物(II)としては、例えば、フェノールノボラック型エポキシ(メタ)アクリレート(新中村化学製,商品名「NKオリゴ EA−6320,EA−7120,EA−7420」)などが挙げられる。   Examples of the compound (II) represented by the general formula (19) include a phenol novolac type epoxy (meth) acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade names “NK Oligo EA-6320, EA-7120, EA-7420”). ) And the like.

上記一般式(20)で表される化合物(II)としては、例えば、グリセリン−1,3−ジ(メタ)アクリレート、1−アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシ−3−メタクリロイルオキシ−プロパン、2,6,10−トリヒドロキシ−4,8−ジオキサウンデカン−1,11−ジ(メタ)アクリレート、1,2,3−トリス{3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシ−プロピル−オキシ}プロパン、1,2,3−トリス{2−(メタ)アクリロイルオキシ−エチル−オキシ}プロパン、1,2,3−トリス{2−(メタ)アクリロイルオキシ−プロピル−オキシ}プロパン、1,2,3−トリス{(メタ)アクリロイルオキシ−ポリ(エチレンオキシ)}プロパン、1,2,3−トリス{(メタ)アクリロイルオキシ−ポリ(1,2−プロピレンオキシ)}プロパンなどが挙げられる。   Examples of the compound (II) represented by the general formula (20) include glycerin-1,3-di (meth) acrylate, 1-acryloyloxy-2-hydroxy-3-methacryloyloxy-propane, 2,6 , 10-trihydroxy-4,8-dioxaundecane-1,11-di (meth) acrylate, 1,2,3-tris {3- (meth) acryloyloxy-2-hydroxy-propyl-oxy} propane, 1,2,3-tris {2- (meth) acryloyloxy-ethyl-oxy} propane, 1,2,3-tris {2- (meth) acryloyloxy-propyl-oxy} propane, 1,2,3- Tris {(meth) acryloyloxy-poly (ethyleneoxy)} propane, 1,2,3-tris {(meth) acryloyloxy-poly (1, - propylene oxy)} propane.

上記一般式(21)で表される化合物(II)としては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン−トリス{(メタ)アクリロイルオキシ−エチル−オキシ}エーテル、トリメチロールプロパン−トリス{2−(メタ)アクリロイルオキシ−プロピル−オキシ}エーテル、トリメチロールプロパン−トリス{(メタ)アクリロイルオキシ−ポリ(エチレンオキシ)}エーテル、トリメチロールプロパン−トリス{(メタ)アクリロイルオキシ−ポリ(1,2−プロピレンオキシ)}エーテル、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール−テトラキス{(メタ)アクリロイルオキシ−エチル−オキシ}エーテル、ペンタエリスリトール−テトラキス{2−(メタ)アクリロイルオキシ−プロピル−オキシ}エーテル、ペンタエリスリトール−テトラキス{(メタ)アクリロイルオキシ−ポリ(エチレンオキシ)}エーテル、ペンタエリスリトール−テトラキス{(メタ)アクリロイルオキシ−ポリ(1,2−プロピレンオキシ)}エーテルなどが挙げられる。   Examples of the compound (II) represented by the general formula (21) include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane-tris {(meth) acryloyloxy-ethyl-oxy} ether, trimethylolpropane- Tris {2- (meth) acryloyloxy-propyl-oxy} ether, trimethylolpropane-tris {(meth) acryloyloxy-poly (ethyleneoxy)} ether, trimethylolpropane-tris {(meth) acryloyloxy-poly ( 1,2-propyleneoxy)} ether, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol-tetrakis {(meth) acryloyloxy-ethyl-oxy} ether, Intererythritol-tetrakis {2- (meth) acryloyloxy-propyl-oxy} ether, pentaerythritol-tetrakis {(meth) acryloyloxy-poly (ethyleneoxy)} ether, pentaerythritol-tetrakis {(meth) acryloyloxy-poly (1,2-propyleneoxy)} ether and the like.

上記一般式(22)で表される化合物(II)としては、例えば、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパン−テトラキス{(メタ)アクリロイルオキシ−エチル−オキシ}エーテル、ジトリメチロールプロパン−テトラキス{2−(メタ)アクリロイルオキシ−プロピル−オキシ}エーテル、ジトリメチロールプロパン−テトラキス{(メタ)アクリロイルオキシ−ポリ(エチレンオキシ)}エーテル、ジトリメチロールプロパン−テトラキス{(メタ)アクリロイルオキシ−ポリ(1,2−プロピレンオキシ)}エーテル、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトール−ヘキサ{(メタ)アクリロイルオキシ−エチル−オキシ}エーテル、ジペンタエリスリトール−ヘキサ{2−(メタ)アクリロイルオキシ−プロピル−オキシ}エーテル、ジペンタエリスリトール−ヘキサ{(メタ)アクリロイルオキシ−ポリ(エチレンオキシ)}エーテル、ジペンタエリスリトール−ヘキサ{(メタ)アクリロイルオキシ−ポリ(1,2−プロピレンオキシ)}エーテルなどが挙げられる。   Examples of the compound (II) represented by the general formula (22) include ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane-tetrakis {(meth) acryloyloxy-ethyl-oxy} ether, ditrimethylolpropane- Tetrakis {2- (meth) acryloyloxy-propyl-oxy} ether, ditrimethylolpropane-tetrakis {(meth) acryloyloxy-poly (ethyleneoxy)} ether, ditrimethylolpropane-tetrakis {(meth) acryloyloxy-poly ( 1,2-propyleneoxy)} ether, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol-hexa {(meth) acryloylo Cy-ethyl-oxy} ether, dipentaerythritol-hexa {2- (meth) acryloyloxy-propyl-oxy} ether, dipentaerythritol-hexa {(meth) acryloyloxy-poly (ethyleneoxy)} ether, dipenta And erythritol-hexa {(meth) acryloyloxy-poly (1,2-propyleneoxy)} ether.

上記一般式(23)で表される化合物(II)としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、又は4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートなどのヒドロキシルアルキル(メタ)アクリレートとヘキサメチレンジイソシアナートとの反応物、ヒドロキシルアルキル(メタ)アクリレートとイソホロンジイソシアナートとの反応物、ヒドロキシルアルキル(メタ)アクリレートとビス(イソシアナトメチル)ノルボルナンとの反応物、ヒドロキシルアルキル(メタ)アクリレートとノルビス(4−イソシアナトシクロヘキシル)メタンとの反応物、ヒドロキシルアルキル(メタ)アクリレートと1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサンとの反応物、ヒドロキシルアルキル(メタ)アクリレートとm−キシリレンジイソシアナートとの反応物などが挙げられる。   Examples of the compound (II) represented by the general formula (23) include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 4-hydroxy Reaction product of hydroxylalkyl (meth) acrylate and hexamethylene diisocyanate such as butyl (meth) acrylate, reaction product of hydroxylalkyl (meth) acrylate and isophorone diisocyanate, hydroxylalkyl (meth) acrylate and bis (isocyanate) Reaction product of natomethyl) norbornane, reaction product of hydroxylalkyl (meth) acrylate and norbis (4-isocyanatocyclohexyl) methane, hydroxylalkyl (meth) acrylate and 1,3-bis (isocyanato) Chill) a reaction product of cyclohexane, and the like hydroxyalkyl (meth) reaction product of acrylate and m- xylylene diisocyanate.

上記組成物に含まれる、化合物(II)に対する化合物(I)のモル比 (I)/(II)は、通常1/0.05〜1/1000の範囲、好ましくは1/1〜1/1000の範囲、より好ましくは1/5〜1/1000の範囲、特に好ましくは1/5〜1/500の範囲である。(I)/(II)のモル比が上記範囲内にあることにより、得られる単層膜の膜厚が大きくなった場合であっても、親水性に優れ、しかも耐擦傷性にも優れる単層膜が得られる。   The molar ratio (I) / (II) of the compound (I) to the compound (II) contained in the composition is usually in the range of 1 / 0.05 to 1/1000, preferably 1/1 to 1/1000. More preferably, the range is from 1/5 to 1/1000, and particularly preferably from 1/5 to 1/500. Even when the film thickness of the resulting monolayer film is increased because the molar ratio of (I) / (II) is within the above range, it is excellent in hydrophilicity and scratch resistance. A layer film is obtained.

第一工程で作製される上記組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、化合物(I)、化合物(II)以外の他の重合性化合物(VI)が含まれていてもよい。
上記他の重合性化合物(VI)としては、例えば、(メタ)アクリル酸などの化合物(I)以外のカルボキシル基又はカルボン酸塩基含有単量体;ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートなどのヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸イソボルニルなどのアルキルモノ(メタ)アクリレート;N,N−ジメチル−アミノエチル−(メタ)アクリレート、N,N−ジメチル−アミノエチル−(メタ)アクリレート塩酸塩などのアミノ基又はアンモニウム塩基含有単量体;ビニルスルホン酸ナトリウム、スチレンスルホン酸、スチレンスルホン酸ナトリウム、スチレンスルホン酸カリウム、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸カリウムなどの化合物(I)以外のスルホン酸基又はスルホン酸塩基含有単量体;
アリル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコーリビス(アリルカーボネート)、ジアリルフタレート、ジビニルベンゼン、ジビニルスルホン、グリシジル(メタ)アクリレート、3−イソプロペニル−α,α−ジメチル−ベンジルイソシアナート、(メタ)アクリロイルイソシアナート、(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアナート、キシリレンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、ビス(イソシアナトメチル)ノルボルナン、イソホロンジイソシアナート、1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、ビス(4−イソシアナト−シクロヘキシル)メタンなどが挙げられる。
The composition prepared in the first step may contain a polymerizable compound (VI) other than the compound (I) and the compound (II) as long as the effects of the present invention are not impaired.
As said other polymeric compound (VI), carboxyl group or carboxylate group containing monomers other than compound (I), such as (meth) acrylic acid; hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth), for example Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as acrylate and hydroxybutyl (meth) acrylate; alkyl mono (meta) such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate ) Acrylate; amino group or ammonium base-containing monomer such as N, N-dimethyl-aminoethyl- (meth) acrylate, N, N-dimethyl-aminoethyl- (meth) acrylate hydrochloride; sodium vinyl sulfonate, styrene Sulfonic acid, sodium styrene sulfonate Potassium styrene sulfonate, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, 2-acrylamido-2-methyl compounds such as propane potassium acid (I) other than the sulfonic acid group or sulfonate group-containing monomers;
Allyl (meth) acrylate, diethylene glycol bis (allyl carbonate), diallyl phthalate, divinylbenzene, divinyl sulfone, glycidyl (meth) acrylate, 3-isopropenyl-α, α-dimethyl-benzyl isocyanate, (meth) acryloyl isocyanate , (Meth) acryloyloxyethyl isocyanate, xylylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, bis (isocyanatomethyl) norbornane, isophorone diisocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, bis (4- And isocyanato-cyclohexyl) methane.

また、単層膜の屈折率の値を大きくしたい場合には、上記単量体(III)として、2,5−ビス(アクリロイルチオメチル)−1,4−ジチアン、1,8−ビス(アクリロイルチオ)−5−アクリロイルチオメチル−3,6−ジチアオクタン、2,5−ビス(アクリロイルチオメチル)−1,4−ジチアン、1,11−ビス(アクリロイルチオ)−4,8−ビス(アクリロイルチオメチル)−3,6,9−トリチアウンデカンなどの硫黄原子を有する単量体を用いてもよい。   When it is desired to increase the refractive index value of the single layer film, 2,5-bis (acryloylthiomethyl) -1,4-dithiane, 1,8-bis (acryloyl) is used as the monomer (III). Thio) -5-acryloylthiomethyl-3,6-dithiaoctane, 2,5-bis (acryloylthiomethyl) -1,4-dithiane, 1,11-bis (acryloylthio) -4,8-bis (acryloylthio) A monomer having a sulfur atom such as methyl) -3,6,9-trithiaundecane may be used.

上記重合性化合物(VI)の組成物中の含有量は本発明の効果を損なわない限り特に制限はないが、化合物(I)及び化合物(II)の合計100モル%に対し、通常100モル%以下、好ましくは49モル%以下、より好ましくは40モル%以下、更に好ましくは20モル%以下の量、通常1モル%以上、好ましくは3モル%以上の量で使用する。このような含有量で単量体組成物に含ませることにより、柔軟性、靭性、屈折率などの物性を調整できる。   The content of the polymerizable compound (VI) in the composition is not particularly limited as long as the effect of the present invention is not impaired, but is usually 100 mol% with respect to 100 mol% in total of the compound (I) and the compound (II). In the following, it is preferably used in an amount of 49 mol% or less, more preferably 40 mol% or less, still more preferably 20 mol% or less, usually 1 mol% or more, preferably 3 mol% or more. By including the monomer composition in such a content, physical properties such as flexibility, toughness, and refractive index can be adjusted.

第一工程で作製される上記組成物には、1時間半減温度T1/2が40〜100℃の範囲にある過酸化物(III)が含まれる。このような過酸化物(III)が組成物に含まれていることにより、熱により共重合させて得られる単層膜の親水性、及び耐擦傷性に優れる。このような単層膜が基材上に形成される詳細なメカニズムは不明であるが、過酸化物の分解が遅くなると、単層膜を形成する組成物の共重合(硬化)が遅くなってしまい、組成物中で相分離が起きやすくなると考えられ、その結果、単層膜表面の親水基が固定化されず親水性が低下したり、硬化不足のため耐擦傷性が低下すると推定される。 The composition prepared in the first step includes peroxide (III) having a one-hour half-life temperature T 1/2 in the range of 40 to 100 ° C. When such a peroxide (III) is contained in the composition, the hydrophilicity and scratch resistance of the monolayer film obtained by copolymerization with heat are excellent. Although the detailed mechanism by which such a single layer film is formed on the substrate is unknown, if the decomposition of the peroxide is slow, the copolymerization (curing) of the composition forming the single layer film is slow. Therefore, it is considered that phase separation is likely to occur in the composition, and as a result, the hydrophilic group on the surface of the single layer film is not fixed and the hydrophilicity is lowered, or the scratch resistance is lowered due to insufficient curing. .

1時間半減温度T1/2が40〜100℃の範囲にある過酸化物(III)としては、ジ(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート等のパーオキシジカーボネート(RO−(C=O)−O−O−(C=O)−OR’:R及びR’は炭化水素基を表す。);ジラウロイルパーオキサイド、ジベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド(R−(C=O)−O−O−(C=O)−R’:R及びR’は炭化水素基を表す。);t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート等のパーオキシエステル(R−(C=O)−O−O−R’又はR−O−(C=O)−O−O−R’:R及びR’は炭化水素基を表す。));アルキルパーオキシエステル(R−(C=O)−O−O−R’:R及びR’は炭化水素基を表す。)などが挙げられる。 Examples of the peroxide (III) having a one-hour half-life temperature T 1/2 in the range of 40 to 100 ° C. include peroxydicarbonates such as di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate (RO- (C ═O) —O—O— (C═O) —OR ′: R and R ′ represent a hydrocarbon group.); Diacyl peroxides such as dilauroyl peroxide and dibenzoyl peroxide (R— (C═ O) -O-O- (C = O) -R ': R and R' represent a hydrocarbon group.); Peroxyesters such as t-butylperoxy-2-ethylhexanoate (R- ( C═O) —O—O—R ′ or R—O— (C═O) —O—O—R ′: R and R ′ represent a hydrocarbon group))); alkyl peroxyester (R— (C═O) —O—O—R ′: R and R ′ each represents a hydrocarbon group.

これら過酸化物(III)の中でも、得られる膜の親水性が高く、耐擦傷性に優れるという観点から、パーオキシカーボネート、ジアシルパーオキシドが好ましく、ジ(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジベンゾイルパーオキシドがより好ましい。   Among these peroxides (III), peroxycarbonate and diacyl peroxide are preferable from the viewpoint of high hydrophilicity of the film obtained and excellent scratch resistance. Di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydi Carbonate and dibenzoyl peroxide are more preferable.

上記過酸化物(III)は1種単独で用いてもよく、2種以上組み合わせて用いてもよい。
第一工程で作製される組成物には、熱重合開始剤として上記過酸化物(III)が含まれていれば、本発明の効果を損なわない範囲で、他の過酸化物、アゾ化合物などの熱重合開始剤が含まれていてもよい。このような過酸化物(III)以外の熱重合開始剤が組成物に含まれている場合には、その熱重合開始剤に含まれている過酸化物のうち少なくとも1種の1時間半減温度が、40〜100℃の範囲にあることが好ましい。
The said peroxide (III) may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
If the peroxide (III) is contained as a thermal polymerization initiator in the composition prepared in the first step, other peroxides, azo compounds, etc., as long as the effects of the present invention are not impaired. The thermal polymerization initiator may be contained. When a thermal polymerization initiator other than such peroxide (III) is contained in the composition, at least one kind of one-hour half-temperature among the peroxides contained in the thermal polymerization initiator However, it is preferable that it exists in the range of 40-100 degreeC.

第一工程で作製される上記組成物には、溶剤(IV)が含まれる。溶剤(IV)としては、例えば、アルキルモノアルコール、アルコキシエタノール、アルコキシプロパノールに代表されるアルコキシアルキルアルコール、アルキレングリコール、グリセリン等アルコール、アルキレングリコールメチルエーテル等のアルキレングリコールアルキルエーテル、ケトン、カルボン酸、カルボン酸エステル、エーテル、アミド、ニトリル、水、水とアルコールなどのこれら化合物の混合物等の極性溶剤が挙げられる。これら溶剤(IV)は1種単独で用いてもよいし、2種以上混合して用いてもよい。   The composition prepared in the first step includes a solvent (IV). Examples of the solvent (IV) include alkyl monoalcohols, alkoxyethanols represented by alkoxyethanol and alkoxypropanol, alcohols such as alkylene glycol and glycerin, alkylene glycol alkyl ethers such as alkylene glycol methyl ether, ketones, carboxylic acids, and carboxylic acids. Examples thereof include polar solvents such as acid esters, ethers, amides, nitriles, water, and mixtures of these compounds such as water and alcohol. These solvents (IV) may be used alone or in combination of two or more.

これら溶剤(IV)の中でも、得られる単層膜中のアニオン濃度比(Sa/Da)を大きくする(アニオンを単層膜の表面に濃縮し易くする)観点からは、上記溶剤(IV)の沸点は、30〜170℃の範囲が好ましく、50〜140℃がより好ましく、60〜125℃が更に好ましい。なお、溶剤(IV)が複数の化合物の混合物である場合には、その混合物中に含まれる最も沸点の高い化合物の沸点が上記範囲にあることが好ましい。   Among these solvents (IV), from the viewpoint of increasing the anion concentration ratio (Sa / Da) in the obtained monolayer film (making it easier to concentrate anions on the surface of the monolayer film), the solvent (IV) The boiling point is preferably in the range of 30 to 170 ° C, more preferably 50 to 140 ° C, and still more preferably 60 to 125 ° C. In addition, when solvent (IV) is a mixture of a some compound, it is preferable that the boiling point of the compound with the highest boiling point contained in the mixture exists in the said range.

上記沸点の範囲の溶剤(IV)としては、例えば、メタノール、エタノール、シクロヘキサノール、1−プロパノール、イソプロパノール(IPA)、1−ブタノール、イソブタノール、2−ブタノール、1−ペンタノール、2−メチル−1−ブタノール、イソペンタノール(3−メチル−1−ブタノール)などのアルキルモノアルコール;2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、1−メトキシ−2−プロパノールなどのアルコキシアルキルアルコール;等のアルコール化合物
シクロヘキサノン、2−メチルシクロヘキサノン、アセトンなどのケトン;
蟻酸、酢酸、プロピオン酸などのカルボン酸;
酢酸メチルなどのカルボン酸エステル;
ジオキサン、アニソール、テトラヒドロフラン(THF)などのエーテル;
N,N’−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N’−ジメチルアセトアミドDMACなどのアミド;
アセトニトリルなどのニトリル;
及び水等が挙げられる。
これら溶剤(IV)の中でもアルコール、及びアルコールとケトンの混合物が好ましい。
Examples of the solvent (IV) within the above boiling range include methanol, ethanol, cyclohexanol, 1-propanol, isopropanol (IPA), 1-butanol, isobutanol, 2-butanol, 1-pentanol, 2-methyl- Alkyl monoalcohols such as 1-butanol and isopentanol (3-methyl-1-butanol); Alcohol alkyl alcohols such as 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol and 1-methoxy-2-propanol; Alcohol compounds such as cyclohexanone , Ketones such as 2-methylcyclohexanone and acetone;
Carboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid;
Carboxylate esters such as methyl acetate;
Ethers such as dioxane, anisole, tetrahydrofuran (THF);
Amides such as N, N′-dimethylformamide (DMF), N, N′-dimethylacetamide DMAC;
Nitriles such as acetonitrile;
And water.
Among these solvents (IV), alcohol and a mixture of alcohol and ketone are preferable.

アルコールの中では、メタノール、エタノール、1−プロパノール、1−ブタノール、1−ペンタノール、2−メチル−1−ブタノール、イソペンタノール(3−メチル−1−ブタノール)等の1級アルキルモノアルコール及び2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノールなどの1級アルキルモノアルコールと直鎖アルキレングリコールの反応生成物である、直鎖アルコキシアルキルアルコールが好ましい傾向にある。   Among alcohols, primary alkyl monoalcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol, 1-butanol, 1-pentanol, 2-methyl-1-butanol, isopentanol (3-methyl-1-butanol) and the like A linear alkoxyalkyl alcohol which is a reaction product of a primary alkyl monoalcohol such as 2-methoxyethanol and 2-ethoxyethanol and a linear alkylene glycol tends to be preferable.

アルコールとケトンの混合物の中では、メタノールとアセトンの混合物が好ましい。
上記溶剤(IV)の使用量は、本発明の積層体が得られる限り特に制限はなく、経済性等を考慮して適宜その使用量を決定することができる。
Of the mixture of alcohol and ketone, a mixture of methanol and acetone is preferred.
The amount of the solvent (IV) used is not particularly limited as long as the laminate of the present invention is obtained, and the amount used can be appropriately determined in consideration of economy and the like.

本発明で得られる単層膜を、例えば防汚材料、防曇材料等として使用する際に、長期間外部に曝されても変質しないようにするためには、第一工程で作製される上記組成物には、更に紫外線吸収剤又はヒンダードアミン系光安定剤を添加して、耐候処方の組成物とすることが望ましい。   When using the monolayer film obtained in the present invention as, for example, an antifouling material, an antifogging material or the like, in order to prevent deterioration even when exposed to the outside for a long period of time, the above-mentioned produced in the first step It is desirable to add a UV absorber or a hindered amine light stabilizer to the composition to obtain a weather-resistant composition.

上記紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤、プロパンジオック酸エステル系紫外線吸収剤、及びオキサニリド系紫外線吸収剤などの種々の一般的な紫外線吸収剤を用いることができる。紫外線重合により、単層膜を形成する場合には、紫外線吸収剤がその紫外線を吸収してしまい、著しい場合にはその重合が阻害される場合があるが、本発明の製造方法では熱重合を主体として単層膜を形成するため、このような問題は生じ難い。   Examples of the UV absorber include benzotriazole UV absorbers, triazine UV absorbers, benzophenone UV absorbers, benzoate UV absorbers, propanedioic acid ester UV absorbers, and oxanilide UV absorbers. Various common ultraviolet absorbers can be used. When a single layer film is formed by ultraviolet polymerization, the ultraviolet absorber absorbs the ultraviolet rays, and in the case of remarkable, the polymerization may be inhibited. However, in the production method of the present invention, thermal polymerization is performed. Such a problem is unlikely to occur because a single layer film is formed as a main body.

上記紫外線吸収剤としては、例えば、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−p−クレゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−tert−ブチルフェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−ジ−tert−ブチルフェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−ビス(1−メチル−1−フェニルエチル)フェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチル−ブチル)−6−(1−メチル−1−フェニルエチル)フェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(3−オン−4−オキサ−ドデシル)−6−tert−ブチル−フェノール、2−{5−クロロ(2H)−ベンゾトリアゾール−2−イル}−4−(3−オン−4−オキサ−ドデシル)−6−tert−ブチル−フェノール、2−{5−クロロ(2H)−ベンゾトリアゾール−2−イル}−4−メチル−6−tert−ブチル−フェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−ジ−tert−ペンチルフェノール、2−{5−クロロ(2H)−ベンゾトリアゾール−2−イル}−4,6−ジ−tert−ブチルフェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−tert−オクチルフェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−メチル−6−n−ドデシルフェノール、メチル−3−{3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル}プロピオネート/ポリエチレングリコール300の反応性生物などのベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤;
2−(4−フェノキシ−2−ヒドロキシ−フェニル)−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オキサ−ヘキサデシロキシ)−4,6−ジ(2、4−ジメチル−フェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オキサ−ヘプタデシロキシ)−4,6−ジ(2、4−ジメチル−フェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−iso−オクチロキシ−フェニル)−4,6−ジ(2、4−ジメチル−フェニル)−1,3,5−トリアジン、商品名チヌビン400(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製)、商品名チヌビン405(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製)、商品名チヌビン460(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製)、商品名チヌビン479(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製)などのトリアジン系紫外線吸収剤;
2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系紫外線吸収剤;
2,4−ジ−tert−ブチルフェニル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエートなどのベンゾエート系紫外線吸収剤;及び
プロパンジオック酸−{(4−メトキシフェニル)−メチレン}−ジメチルエステル、商品名ホスタビンPR−25(クラリアント・ジャパン株式会社製)、商品名ホスタビンB−CAP(クラリアント・ジャパン株式会社製)などのプロパンジオック酸エステル系紫外線吸収剤;
2−エチル−2'−エトキシ−オキサニリド、商品名Sanduvor VSU(クラリアント・ジャパン株式会社製)などのオキサニリド系紫外線吸収剤などが挙げられる。
Examples of the ultraviolet absorber include 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -p-cresol, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4-tert-butylphenol, 2- (2H- Benzotriazol-2-yl) -4,6-di-tert-butylphenol, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4,6-bis (1-methyl-1-phenylethyl) phenol, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4- (1,1,3,3-tetramethyl-butyl) -6- (1-methyl-1-phenylethyl) phenol, 2- (2H-benzotriazole- 2-yl) -4- (3-one-4-oxa-dodecyl) -6-tert-butyl-phenol, 2- {5-chloro (2H) -benzotriazol-2-yl } -4- (3-one-4-oxa-dodecyl) -6-tert-butyl-phenol, 2- {5-chloro (2H) -benzotriazol-2-yl} -4-methyl-6-tert- Butyl-phenol, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4,6-di-tert-pentylphenol, 2- {5-chloro (2H) -benzotriazol-2-yl} -4,6- Di-tert-butylphenol, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4-tert-octylphenol, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4-methyl-6-n-dodecylphenol, methyl -3- {3- (2H-benzotriazol-2-yl) -5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl} propionate / polyethylene glycol Benzotriazole ultraviolet absorbents such as reaction products of Lumpur 300;
2- (4-phenoxy-2-hydroxy-phenyl) -4,6-diphenyl-1,3,5-triazine, 2- (2-hydroxy-4-oxa-hexadecyloxy) -4,6-di ( 2,4-dimethyl-phenyl) -1,3,5-triazine, 2- (2-hydroxy-4-oxa-heptadecyloxy) -4,6-di (2,4-dimethyl-phenyl) -1,3 5-triazine, 2- (2-hydroxy-4-iso-octyloxy-phenyl) -4,6-di (2,4-dimethyl-phenyl) -1,3,5-triazine, trade name Tinuvin 400 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), trade name Tinuvin 405 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), trade name Tinuvin 460 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) , Triazine-based UV absorbers such as trade name Tinuvin 479 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.);
Benzophenone ultraviolet absorbers such as 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone;
Benzoate UV absorbers such as 2,4-di-tert-butylphenyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoate; and propanedioic acid-{(4-methoxyphenyl) -methylene}- Propanediocic acid ester-based ultraviolet absorbers such as dimethyl ester, trade name hostabin PR-25 (manufactured by Clariant Japan KK), trade name hostabin B-CAP (manufactured by Clariant Japan KK);
Oxanilide ultraviolet absorbers such as 2-ethyl-2′-ethoxy-oxanilide and trade name Sanduvor VSU (manufactured by Clariant Japan Co., Ltd.) and the like can be mentioned.

これら紫外線吸収剤の中でもトリアジン系紫外線吸収剤が好ましい傾向にある。
上記紫外線吸収剤の使用量は、単量体組成物に含まれる化合物(I)、化合物(II)及び必要に応じて含まれる重合性化合物(VI)の合計100重量部に対して、通常0.01〜20重量部、好ましくは0.05〜10重量部の範囲である。
Among these ultraviolet absorbers, triazine ultraviolet absorbers tend to be preferable.
The amount of the ultraviolet absorber used is usually 0 with respect to 100 parts by weight of the total of the compound (I), the compound (II) contained in the monomer composition and the polymerizable compound (VI) contained if necessary. 0.01 to 20 parts by weight, preferably 0.05 to 10 parts by weight.

紫外線吸収剤の使用量が上記下限値未満である場合には、得られる単層膜の耐候性の改良効果が小さくなる傾向にある。また、紫外線吸収剤の使用量が上記上限値を超えて添加しても、耐候性の改良効果がこれ以上大きくならない場合がある。   When the usage-amount of a ultraviolet absorber is less than the said lower limit, it exists in the tendency for the improvement effect of the weather resistance of the single layer film obtained to become small. Moreover, even if the usage-amount of a ultraviolet absorber exceeds the said upper limit, the weather-resistant improvement effect may not become large any more.

上記ヒンダードアミン系光安定剤(Hindered Amin Light Stabilizers:HALS)は、一般にHALSと略称されている通常、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン骨格を有する化合物の総称であり、分子量などにより、低分子量HALS、中分子量HALS、高分子量HALS及び反応型HALSに大別されている。   The hindered amine light stabilizer (HALS) is a general term for a compound having a 2,2,6,6-tetramethylpiperidine skeleton, generally abbreviated as HALS, and has a low molecular weight. Molecular weight HALS, medium molecular weight HALS, high molecular weight HALS, and reactive HALS are roughly divided.

上記HALSとしては、例えば、商品名チヌビン111FDL(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製)、ビス(1−オクチロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート(商品名チヌビン123(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製))、商品名チヌビン144(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製)、商品名チヌビン292(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製)、商品名チヌビン765(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製)、商品名チヌビン770(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製)、N,N'−ビス(3−アミノプロピル)エチレンジアミン−2,4−ビス[N−ブチル−N−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)アミノ]−6−クロロ−1,3,5−トリアジン縮合物(商品名CHIMASSORB119FL(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製))、商品名CHIMASSORB2020FDL(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製)、コハク酸ジメチル−1−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン重縮合物(商品名CHIMASSORB622LD(チバ・スペシャリ・ティー・ケミカルズ株式会社製))、ポリ[{6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}](商品名CHIMASSORB944FD(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製))、商品名Sanduvor3050 Liq.(クラリアント・ジャパン株式会社製)、商品名Sanduvor3052 Liq.(クラリアント・ジャパン株式会社製)、商品名Sanduvor3058 Liq.(クラリアント・ジャパン株式会社製)、商品名Sanduvor3051 Powder.(クラリアント・ジャパン株式会社製)、商品名Sanduvor3070 Powder.(クラリアント・ジャパン株式会社製)、商品名VP Sanduvor PR−31(クラリアント・ジャパン株式会社製)、商品名ホスタビンN20(クラリアント・ジャパン株式会社製)、商品名ホスタビンN24(クラリアント・ジャパン株式会社製)、商品名ホスタビンN30(クラリアント・ジャパン株式会社製)、商品名ホスタビンN321(クラリアント・ジャパン株式会社製)、商品名ホスタビンPR−31(クラリアント・ジャパン株式会社製)、商品名ホスタビン845(クラリアント・ジャパン株式会社製)、及び商品名ナイロスタッブS−EED(クラリアント・ジャパン株式会社製)などが挙げられる。   Examples of the HALS include trade name Tinuvin 111FDL (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), bis (1-octyloxy-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate (trade name Tinuvin 123). (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)), trade name Tinuvin 144 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), trade name Tinuvin 292 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), trade name Tinuvin 765 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), trade name Tinuvin 770 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), N, N′-bis (3-aminopropyl) ethylenediamine-2,4-bis [N-butyl -N- (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-pipe Lysyl) amino] -6-chloro-1,3,5-triazine condensate (trade name CHIMASSORB 119FL (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)), trade name CHIMASSORB 2020FDL (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), Dimethyl-1- (2-hydroxyethyl) -4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine polycondensate (trade name CHIMASSORB 622LD (manufactured by Ciba Specialty Tea Chemicals)), poly [{6- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) amino-1,3,5-triazine-2,4-diyl} {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) Imino} hexamethylene {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino ] (Trade name CHIMASSORB944FD (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)), the trade name Sanduvor3050 Liq. (Manufactured by Clariant Japan Co., Ltd.), trade name Sanduvor 3052 Liq. (Manufactured by Clariant Japan Co., Ltd.), trade name Sanduvor 3058 Liq. (Manufactured by Clariant Japan Co., Ltd.), trade name Sanduvor 3051 Powder. (Manufactured by Clariant Japan Co., Ltd.), trade name Sanduvor 3070 Powder. (Manufactured by Clariant Japan Co., Ltd.), product name VP Sanduvor PR-31 (manufactured by Clariant Japan Co., Ltd.), product name Hostabin N20 (manufactured by Clariant Japan Co., Ltd.), product name Hostabin N24 (manufactured by Clariant Japan Co., Ltd.) , Brand name Hostabin N30 (manufactured by Clariant Japan KK), brand name Hostabin N321 (manufactured by Clariant Japan KK), brand name Hostabin PR-31 (manufactured by Clariant Japan KK), brand name HOSTABIN 845 (Clariant Japan KK) And Niro stub S-EED (manufactured by Clariant Japan Co., Ltd.).

上記HALSの使用量は、単量体組成物に含まれる化合物(I)、化合物(II)及び必要に応じて含まれる重合性化合物(VI)の合計100重量部に対して、通常0.01〜10重量部、好ましくは0.05〜5重量部、更に好ましくは0.05〜3重量部の範囲である。   The amount of HALS used is usually 0.01 with respect to a total of 100 parts by weight of the compound (I), the compound (II) and the polymerizable compound (VI) contained as necessary in the monomer composition. -10 parts by weight, preferably 0.05-5 parts by weight, more preferably 0.05-3 parts by weight.

HALSの使用量が上記下限値未満である場合には、得られる単層膜の耐候性の改良効果が小さくなる傾向にある。また、HALSの使用量が上記上限値を超えて添加しても、耐候性の改良効果がこれ以上大きくならない場合がある。   When the amount of HALS used is less than the lower limit, the effect of improving the weather resistance of the resulting single layer film tends to be small. Moreover, even if the usage-amount of HALS exceeds the said upper limit, the improvement effect of a weather resistance may not become large any more.

本発明の積層体の製造方法において、熱重合により単層膜を形成するが、熱重合に加えて更に放射線により一部を重合させてもよい。放射線としては、波長領域が通常0.0001〜800nm範囲のエネルギー線を用いることができる。このような放射線としては、例えば、α線、β線、γ線、X線、電子線、紫外線、可視光などが挙げられる。紫外線により一部を重合する場合には、紫外線ラジカル重合開始剤、紫外線カチオン重合開始剤、又は紫外線アニオン重合開始剤などの紫外線重合開始剤が、上記組成物に含まれていてもよい。また、紫外線により一部を重合する場合には、上記紫外線重合開始剤に加えて更に紫外線重合促進剤が上記混合物には含まれていてもよい。   In the method for producing a laminate of the present invention, a single layer film is formed by thermal polymerization, but in addition to thermal polymerization, a part may be further polymerized by radiation. As the radiation, energy rays having a wavelength region of usually 0.0001 to 800 nm can be used. Examples of such radiation include α rays, β rays, γ rays, X rays, electron beams, ultraviolet rays, and visible light. When partially polymerizing with ultraviolet rays, an ultraviolet polymerization initiator such as an ultraviolet radical polymerization initiator, an ultraviolet cationic polymerization initiator, or an ultraviolet anionic polymerization initiator may be contained in the composition. In addition, when a part of the mixture is polymerized by ultraviolet rays, an ultraviolet polymerization accelerator may be further contained in the mixture in addition to the ultraviolet polymerization initiator.

また、第一工程で作製される上記組成物には、更に必要に応じて、赤外線吸収剤、ラジカル補足剤、酸化防止剤、重合禁止剤、色素、バインダー、内部離型剤、レベリング剤、触媒、種々の金属酸化物、金属、金属塩、ヨウ素、及びヨードニウム塩などのその他添加剤が含まれていてもよい。   In addition, the composition prepared in the first step further includes an infrared absorber, a radical scavenger, an antioxidant, a polymerization inhibitor, a dye, a binder, an internal mold release agent, a leveling agent, and a catalyst as necessary. Other additives such as various metal oxides, metals, metal salts, iodine, and iodonium salts may be included.

機械強度又は熱安定性などを向上させる目的、光応答性又は殺菌性などを付与する目的等で、シリカ、酸化チタンなどの金属又は金属酸化物等が添加できる。また、殺菌性又は抗菌性などを付与する目的で、銀塩、リチウム塩などの金属塩、ヨウ素、又はヨードニウム塩等が添加できる。   Metals or metal oxides such as silica and titanium oxide can be added for the purpose of improving mechanical strength or thermal stability and for the purpose of imparting photoresponsiveness or bactericidal properties. For the purpose of imparting bactericidal or antibacterial properties, metal salts such as silver salts and lithium salts, iodine, iodonium salts, and the like can be added.

これらその他添加剤の添加量は、その目的に応じ適宜設定できるが、単量体組成物に含まれる化合物(I)、化合物(II)及び必要に応じて含まれる重合性化合物(VI)の合計100重量部に対して、通常0.01〜200重量部、好ましくは0.1〜100重量部の囲である。   The addition amount of these other additives can be appropriately set according to the purpose, but is the total of compound (I), compound (II) contained in the monomer composition and polymerizable compound (VI) contained if necessary. The range is usually 0.01 to 200 parts by weight, preferably 0.1 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight.

本発明の製造方法の第二工程では、基材の少なくとも片面に、第一工程で得た上記組成物から塗膜を形成する。
上記基材となる材料としては、例えば、シリカ、金属、金属酸化物などの結晶性又は非晶性などの無機材料;ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、塩化ビニル樹脂、シリコーン樹脂などのポリマー材料、紙、パルプなどの有機材料、及びガラスフィラーとポリエチレンテレフタレートの混合物に代表される無機材料と有機材料のハイブリッド材料などが挙げられる。
In the second step of the production method of the present invention, a coating film is formed from the composition obtained in the first step on at least one side of the substrate.
Examples of the material used as the substrate include crystalline or amorphous inorganic materials such as silica, metal, and metal oxide; polymethyl methacrylate, polycarbonate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyurethane resin, epoxy Examples thereof include polymer materials such as resins, vinyl chloride resins and silicone resins, organic materials such as paper and pulp, and hybrid materials of inorganic materials and organic materials typified by a mixture of glass filler and polyethylene terephthalate.

本発明の基材となる材料としては上述の材料が例示できるが、本発明で使用される基材は無機材料、有機材料などからなる基材の表面に塗料等が塗布されたものであってもよい。   Examples of the material used as the base material of the present invention include the above-mentioned materials, but the base material used in the present invention is obtained by applying a paint or the like on the surface of a base material made of an inorganic material, an organic material, or the like. Also good.

また上記基材の表面は、必要に応じて、物理的又は化学的処理、プライマー処理、などの表面処理が施されていてもよい。この表面処理は、例えば、基材と単層膜との接着性(密着性)を改良するために基材の表面を活性化することなどを目的として行われる。   Further, the surface of the substrate may be subjected to a surface treatment such as a physical or chemical treatment, a primer treatment, or the like, if necessary. This surface treatment is performed for the purpose of, for example, activating the surface of the base material in order to improve the adhesion (adhesion) between the base material and the single layer film.

物理的又は化学的処理としては、例えば、コロナ処理、オゾン処理、酸素ガス又は窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、グロー放電処理、化学薬品等を用いて行う酸化処理などが挙げられる。   Examples of physical or chemical treatment include corona treatment, ozone treatment, low temperature plasma treatment using oxygen gas or nitrogen gas, glow discharge treatment, oxidation treatment using chemicals, and the like.

プライマー処理は、いわゆるプライマーコート剤、アンダーコート剤、又はアンカーコート剤などを称されるコート剤を基材表面に塗布、乾燥することにより行われる。
上記コート剤としては、例えば、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、フェノール系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレン及びポリプロピレンなどのポリオレフィン、変性ポリオレフィン、セルロース系樹脂などの重合体をビヒクルの主成分とする重合体組成物が挙げられる。
The primer treatment is performed by applying and drying a coating agent called a so-called primer coating agent, undercoat agent, or anchor coating agent on the substrate surface.
Examples of the coating agent include polyesters, polyamides, polyurethanes, epoxy resins, phenolic resins, (meth) acrylic resins, polyolefins such as polyvinyl acetate, polyethylene and polypropylene, polymers such as modified polyolefins and cellulose resins. Examples thereof include a polymer composition having a vehicle as a main component.

上記コート剤としては、例えば、上記重合体を溶剤に溶解した溶剤型コート剤、上記重合体を水などの水性溶剤に分散したラテックスタイプ又はディスパーションタイプの水性型コート剤が挙げられる。   Examples of the coating agent include a solvent type coating agent obtained by dissolving the polymer in a solvent, and a latex type or dispersion type aqueous type coating agent obtained by dispersing the polymer in an aqueous solvent such as water.

上記水性型コート剤に含まれる重合体としては、ポリオレフィン、ポリエチレンビニルアルコール、ポリエチレンイミン、ポリブタジエン、ウレタンアクリル樹脂及びポリエステル系ポリウレタンなどのポリウレタン、ポリ塩化ビニル、シリコンアクリル樹脂、酢酸ビニルアクリル樹脂、アクリル樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリルニトリル−ブタジエン共重合体、メチルメタアクリレート−ブタジエン共重合体、クロロプレンゴム、ポリブタジエンなどのゴム、ポリアクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン、及びこれら樹脂をカルボン酸等で変性した重合体などが挙げられる。   Polymers contained in the aqueous coating agent include polyurethanes such as polyolefin, polyethylene vinyl alcohol, polyethylene imine, polybutadiene, urethane acrylic resin and polyester polyurethane, polyvinyl chloride, silicon acrylic resin, vinyl acetate acrylic resin, acrylic resin. Styrene-butadiene copolymer, acrylonitrile-butadiene copolymer, methyl methacrylate-butadiene copolymer, rubber such as chloroprene rubber, polybutadiene, polyacrylic acid ester, polyvinylidene chloride, and these resins with carboxylic acid, etc. Examples thereof include modified polymers.

これらコート剤の中でも、ポリウレタン含むコート剤が好ましい。ポリウレタンとしては、重合体の主鎖又は側鎖のいずれにウレタン結合を有していてもよく、例えば、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール又はアクリルポリオールなどのポリオールとイソシアネート化合物とを反応させることにより得られるポリウレタンを用いることができる。   Among these coating agents, a coating agent containing polyurethane is preferable. The polyurethane may have a urethane bond in either the main chain or the side chain of the polymer, and is obtained, for example, by reacting a polyol such as polyester polyol, polyether polyol or acrylic polyol with an isocyanate compound. Polyurethane can be used.

また、上記ポリウレタンを含むコート剤としては、ポリオールを含む液と、イソシアネート化合物を含む液とをその場で混合してコートする二液型のコート剤を用いることもできる。この二液型のコート剤の場合、基材上にプライマーが形成される限り、ポリオールを含む液とイソシアネート化合物を含む液の混合方法は特に限定されない。また、基材上にプライマーが形成される限り、ポリオールとイソシアネート化合物との配合比も特に限定されないが、(ポリオールに含まれるOH基)/(イソシアネート化合物に含まれるNCO基)の値は、当量換算で、通常2/1〜1/40の範囲である。   In addition, as the coating agent containing polyurethane, a two-component coating agent that coats a solution containing a polyol and a solution containing an isocyanate compound on the spot can also be used. In the case of this two-pack type coating agent, as long as a primer is formed on the substrate, the mixing method of the liquid containing the polyol and the liquid containing the isocyanate compound is not particularly limited. Further, as long as the primer is formed on the substrate, the blending ratio of the polyol and the isocyanate compound is not particularly limited, but the value of (OH group contained in the polyol) / (NCO group contained in the isocyanate compound) is equivalent. In terms of conversion, it is usually in the range of 2/1 to 1/40.

これらポリウレタンを含むコート剤の中でも、基材と単層膜との密着性に優れ、剥離強度が高いという点でポリオールとして縮合系ポリエステルポリオール、ラクトン系ポリエステルポリオールなどのポリエステルポリオールを用い、イソシアネート化合物としてトリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネートなどを用いたポリウレタンを含むコート剤が好ましい。   Among these coating agents containing polyurethane, polyester polyols such as condensed polyester polyols and lactone polyester polyols are used as the isocyanate compounds because they have excellent adhesion between the substrate and the single layer film and high peel strength. A coating agent containing polyurethane using tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, xylene diisocyanate or the like is preferable.

上記コート剤を基材に塗布する方法としては、例えば、グラビアコート法、リバースロールコート法、ナイフコート法、キスコート法などが挙げられる。コート剤の塗布量は、乾燥状態で、通常0.01g/m2〜10g/m2、好ましくは0.05g/m2〜5g/m2である。 Examples of the method for applying the coating agent to the substrate include a gravure coating method, a reverse roll coating method, a knife coating method, and a kiss coating method. The coating amount of the coating agent, in the dry state, typically 0.01g / m 2 ~10g / m 2 , preferably from 0.05g / m 2 ~5g / m 2 .

このように、必要に応じて処理を行った基材に、第一工程で作製した組成物を塗布して塗膜を形成する。組成物を塗布する方法としては特に制限はないが、例えば、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、リバースロールコート法、ナイフコート法、キスコート法などが挙げられる。   Thus, the composition produced at the 1st process is apply | coated to the base material which processed as needed, and a coating film is formed. The method for applying the composition is not particularly limited, and examples thereof include a bar coating method, a gravure coating method, a roll coating method, a reverse roll coating method, a knife coating method, and a kiss coating method.

第二工程において形成された塗膜は、通常乾燥され、その塗膜を形成する上記組成物から少なくとも一部の溶剤(IV)を除去する。溶剤の除去が不十分であると、得られる単層膜の透明性が低下する傾向にある。   The coating film formed in the second step is usually dried, and at least a part of the solvent (IV) is removed from the composition forming the coating film. If the removal of the solvent is insufficient, the transparency of the obtained monolayer film tends to be lowered.

したがって、塗膜を形成する上記組成物を共重合する直前のその組成物に含まれる溶剤(IV)の含有量は、好ましくは30重量%以下、より好ましくは10重量%以下、更に好ましくは5重量%以下、特に好ましくは1重量%以下である。   Therefore, the content of the solvent (IV) contained in the composition immediately before copolymerizing the composition forming the coating film is preferably 30% by weight or less, more preferably 10% by weight or less, and further preferably 5%. % By weight or less, particularly preferably 1% by weight or less.

上記混合物からの溶剤の除去方法は特に制限はなく、例えば、室温下で静置し混合物から溶剤を自然蒸発させ除去する方法、加熱して上記混合物から溶剤を除去する方法、室温下で静置し風により上記混合物から溶剤を除去する方法、減圧して上記混合物から溶剤を除去する方法、減圧及び加熱して上記混合物から溶剤を除去する方法、並びに加熱及び風により上記混合物から溶剤を除去する方法などが挙げられる。   The method for removing the solvent from the mixture is not particularly limited, for example, a method for allowing the solvent to spontaneously evaporate and remove from the mixture by leaving at room temperature, a method for removing the solvent from the mixture by heating, and standing at room temperature. A method of removing the solvent from the mixture by a draft, a method of removing the solvent from the mixture by reducing the pressure, a method of removing the solvent from the mixture by reducing and heating, and a method of removing the solvent from the mixture by heating and wind. The method etc. are mentioned.

これら方法の中でも、温風により基材に塗布された上記混合物から溶剤を除去する方法、上記混合物を塗布された基材を加熱しながら更に温風により上記混合物から溶剤を除去する方法などに代表される加熱及び風により上記混合物から溶剤を除去する方法が好ましい。   Among these methods, representative examples include a method of removing the solvent from the mixture applied to the substrate with hot air, and a method of removing the solvent from the mixture with hot air while heating the substrate coated with the mixture. The method of removing a solvent from the said mixture with the heating and wind which are performed is preferable.

加熱を伴い溶剤を除去する場合の加熱温度は、通常室温以上であり、上限を過酸化物の10時間半減期温度とすることが、過酸化物の分解を抑えられる点で好ましい。
溶剤除去を行う雰囲気は、大気であっても窒素などの不活性ガスでも構わない。しかし、雰囲気の湿度は低い方が好ましい傾向にある。雰囲気の湿度は好ましくは60%以下、より好ましくは50%以下、更に好ましくは40%以下である。
When removing the solvent with heating, the heating temperature is usually room temperature or higher, and the upper limit is preferably set to the 10-hour half-life temperature of the peroxide from the viewpoint of suppressing the decomposition of the peroxide.
The atmosphere for removing the solvent may be air or an inert gas such as nitrogen. However, a lower atmospheric humidity tends to be preferable. The humidity of the atmosphere is preferably 60% or less, more preferably 50% or less, and still more preferably 40% or less.

加熱を伴い溶剤を除去する場合、風を加えると蒸発速度が速くなり、溶剤の残存量の低下、乾燥時間の短縮、乾燥温度の低下などが可能となり、しかも溶剤を除去する際の基材からの膜剥れ(密着性低下)、クラック(膜割れ)などが抑制される傾向にある。   When removing the solvent with heating, adding air increases the evaporation rate, reducing the residual amount of solvent, shortening the drying time, lowering the drying temperature, etc., and from the base material when removing the solvent. Film peeling (adhesion degradation), cracks (film cracking) and the like tend to be suppressed.

風を加える場合の風速は、好ましくは0.1m/秒〜30m/秒の範囲、より好ましくは0.1m/秒〜10m/秒の範囲、更に好ましくは0.2m/秒〜5m/秒の範囲である。風速が上記上限値を超えると均一な塗布面が得られにくくなる傾向にある。一方、上記下限値未満では、風を加える場合の効果が不十分になる傾向にある。   The wind speed when adding wind is preferably in the range of 0.1 m / sec to 30 m / sec, more preferably in the range of 0.1 m / sec to 10 m / sec, and still more preferably in the range of 0.2 m / sec to 5 m / sec. It is a range. When the wind speed exceeds the above upper limit, a uniform coated surface tends to be difficult to obtain. On the other hand, if it is less than the lower limit, the effect of adding wind tends to be insufficient.

溶剤除去を行う際の圧力は特に限定されないが、常圧又は減圧下で溶剤除去を行うことが比較的好ましい。なお、溶剤除去は微加圧下で行ってもよい。
溶剤除去のための時間も、好ましい溶剤の残存量の観点などから適宜設定できるが、通常5分から30分程度が好ましい。
The pressure at the time of solvent removal is not particularly limited, but it is relatively preferable to remove the solvent under normal pressure or reduced pressure. The solvent removal may be performed under slight pressure.
Although the time for removing the solvent can be appropriately set from the viewpoint of a preferable residual amount of the solvent, it is usually preferably about 5 to 30 minutes.

本発明の製造方法の第三工程では、第二工程で形成された塗膜を熱により共重合し、単層膜を形成し、単層膜と基材とを含む積層体を作製する。
熱による共重合を行う温度は、通常室温以上、使用基材の耐熱温度以下である。温度は、過酸化物の1時間半減期温度以上が好ましく、1時間半減期温度+20℃以上がより好ましく、1分間半減期温度以上がさらに好ましい。共重合温度が高いほど加熱時間を短くすることができるので、生産性の観点から好ましい。
In the third step of the production method of the present invention, the coating film formed in the second step is copolymerized by heat to form a single layer film, and a laminate including the single layer film and the substrate is produced.
The temperature at which the copolymerization with heat is performed is usually room temperature or higher and lower than the heat resistant temperature of the substrate used. The temperature is preferably not less than the one-hour half-life temperature of the peroxide, more preferably not less than the one-hour half-life temperature + 20 ° C., more preferably not less than the one-minute half-life temperature. The higher the copolymerization temperature, the shorter the heating time, which is preferable from the viewpoint of productivity.

また、重合は大気下で行ってもよいが、重合時間を短縮させる(酸素による重合阻害を回避する)観点から、窒素などの不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。さらに重合は減圧下で実施しても良い。   The polymerization may be performed in the air, but it is preferably performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen from the viewpoint of shortening the polymerization time (avoiding the inhibition of polymerization by oxygen). Furthermore, the polymerization may be carried out under reduced pressure.

加熱に必要な時間は共重合温度にもよるが、生産性の観点から短い方が好ましい。12時間以内が好ましく、6時間以内がより好ましく、4時間以内がさらに好ましく、2時間以内が特に好ましい。   Although the time required for heating depends on the copolymerization temperature, a shorter one is preferable from the viewpoint of productivity. It is preferably within 12 hours, more preferably within 6 hours, further preferably within 4 hours, and particularly preferably within 2 hours.

また、酸素による重合阻害を回避する目的で、上記混合物の基材への塗布、溶剤の少なくとも一部の除去を行った後に、この混合物の塗布層をフィルムなどの被覆材で被覆してから重合を行ってもよい。被覆材で塗布層を被覆する際には、塗布層と被覆材との間に空気(酸素)を含まないように密着することが望ましい。空気、特に酸素を含まないようにすることで、放射線により重合を行う場合には放射線照射量を減らすことができる場合があり、また、過酸化物(III)などの重合開始剤量を減らすことができる。   For the purpose of avoiding polymerization inhibition due to oxygen, after applying the above mixture to a substrate and removing at least a part of the solvent, the coating layer of this mixture is coated with a coating material such as a film and then polymerized. May be performed. When the coating layer is coated with the coating material, it is desirable that the coating layer and the coating material are in close contact so as not to include air (oxygen). By avoiding air, especially oxygen, when performing polymerization by radiation, the radiation dose may be reduced, and the amount of polymerization initiator such as peroxide (III) may be reduced. Can do.

上記被覆材としては、酸素が遮断される限り特に制限なく種々の材料を様々な形態で使用できるが、操作性の面からフィルムが好ましく、放射線により重合を行う場合には、重合を阻害しない放射線透過率の高い透明性フィルムが好ましい。   As the covering material, various materials can be used in various forms without particular limitation as long as oxygen is blocked, but a film is preferable from the viewpoint of operability, and when polymerization is performed by radiation, radiation that does not inhibit the polymerization. A transparent film having a high transmittance is preferred.

上記被覆材の材料としては、例えば、ポリビニルアルコール(PVA)及びエチレン−ビニルアルコール共重合体などのビニルアルコール系重合体、ポリアクリルアミド、ポリイソプロピルアクリルアミド、ポリアクリロニトリル、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリスチレン(PS)、二軸延伸ポリプロピレン(OPP)などが挙げられる。   Examples of the material for the covering material include vinyl alcohol polymers such as polyvinyl alcohol (PVA) and ethylene-vinyl alcohol copolymer, polyacrylamide, polyisopropylacrylamide, polyacrylonitrile, polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate ( PMMA), polyethylene terephthalate (PET), polystyrene (PS), biaxially oriented polypropylene (OPP), and the like.

上記被覆材、典型的にはフィルムの厚さは、通常3〜200μm、好ましくは5〜100μm、より好ましくは10〜50μmの範囲である。
なお、本発明の単層膜、及び、該単層膜を少なくとも基材の一方の面に形成した積層体では、上述の被覆材をそのまま被覆した状態にしておいてもよい。被覆材を単層膜上に形成しておくと、単層膜又は積層体を輸送、保管、陳列等する際の単層膜の傷つき、汚れを防止できる。
The thickness of the covering material, typically a film, is usually 3 to 200 μm, preferably 5 to 100 μm, more preferably 10 to 50 μm.
In the single-layer film of the present invention and a laminate in which the single-layer film is formed on at least one surface of the base material, the above-described covering material may be covered as it is. When the covering material is formed on the single-layer film, the single-layer film or the laminate can be prevented from being damaged or soiled during transportation, storage, display, or the like.

このようにして得られた、本発明の単層膜は、スルホン酸基(SO3 -)、カルボキシル基(CO2 -)、及びリン酸基(PO4 -)から選ばれる少なくとも1種のアニオン性親水基、好ましくはスルホン酸基(SO3 -)、を有する親水性有機単層膜である。 The monolayer membrane of the present invention thus obtained has at least one anion selected from a sulfonic acid group (SO 3 ), a carboxyl group (CO 2 ), and a phosphoric acid group (PO 4 ). Hydrophilic organic monolayer film having a hydrophilic hydrophilic group, preferably a sulfonic acid group (SO 3 ).

そして、その単層膜の外気に接する外表面のアニオン濃度(Sa)と基材に接する内表面と外表面との中間地点のアニオン濃度(Da)とのアニオン濃度比(Sa/Da)が1.1以上となる。   The anion concentration ratio (Sa / Da) between the anion concentration (Sa) of the outer surface in contact with the outside air of the monolayer film and the anion concentration (Da) at the intermediate point between the inner surface and the outer surface in contact with the substrate is 1. .1 or more.

ここで、基材に接する内表面と外表面との中間地点とは、単層膜の膜厚方向でみたときに、基材に接する内表面部分と外気に接する外表面部分との1/2の地点をいう。
上記アニオン濃度比は、基材上に設けられた単層膜を斜めに切断し、単層膜の外気に接する外表面のアニオン濃度と内表面と外表面との中間地点のアニオン濃とを、飛行時間型二次イオン質量分析装置(TOF−SIMS)を用いて測定して求める。
Here, the intermediate point between the inner surface and the outer surface in contact with the substrate is 1/2 of the inner surface portion in contact with the substrate and the outer surface portion in contact with the outside air when viewed in the film thickness direction of the single layer film. The point of.
The anion concentration ratio is obtained by obliquely cutting a single layer film provided on a substrate, and an anion concentration on the outer surface in contact with the outside air of the single layer film and an anion concentration at an intermediate point between the inner surface and the outer surface, Measurement is performed using a time-of-flight secondary ion mass spectrometer (TOF-SIMS).

このような本発明の単層膜は、単層膜中の上述のアニオンが、基材側の内表面部分から外気に接する外表面部分まで濃度差を持って分布しており、外気と接する外表面部分に最も多くのアニオンが分布するようなアニオンの濃度差を有している。このようなアニオンの濃度差が膜厚方向に生じる理由は、塗膜又は単層膜形成の過程で親水性の上述のアニオンが外気と接する表面に自己集合するためであると推定される。本発明の単層膜は、このようにその単層膜の外表面に高親水性基のアニオンが高濃度で存在するので、防曇性、防汚性又はセルフクリーニング性、帯電防止性、埃付着防止性等に優れる。   In such a monolayer film of the present invention, the above-mentioned anions in the monolayer film are distributed with a concentration difference from the inner surface portion on the substrate side to the outer surface portion in contact with the outside air, and the outer layer in contact with the outside air is distributed. The anion concentration difference is such that the most anions are distributed on the surface portion. It is estimated that the reason why such anion concentration difference occurs in the film thickness direction is that the hydrophilic anions described above are self-assembled on the surface in contact with the outside air in the process of forming a coating film or a single layer film. In the single layer film of the present invention, since the anion of the highly hydrophilic group is present in a high concentration on the outer surface of the single layer film, antifogging property, antifouling property or self-cleaning property, antistatic property, dust Excellent adhesion prevention.

上記アニオン濃度比(Sa/Da)は、好ましくは1.2以上、より好ましくは1.3以上である。アニオン濃度比が上記値以上である場合には、防曇性、防汚性又はセルフクリーニング性、帯電防止性、埃付着防止性等により優れる傾向にある。なお、アニオン濃度比(Sa/Da)は、通常20.0程度以下である。   The anion concentration ratio (Sa / Da) is preferably 1.2 or more, more preferably 1.3 or more. When the anion concentration ratio is not less than the above value, the antifogging property, antifouling property or self-cleaning property, antistatic property, dust adhesion preventing property and the like tend to be excellent. The anion concentration ratio (Sa / Da) is usually about 20.0 or less.

本発明の単層膜の水接触角は、通常30°以下、好ましくは20°以下、より好ましくは10°以下である。水接触角が上記上限値以下である単層膜は、親水性が高く、水となじみ(濡れ)やすく親水性材料として優れている。したがって、例えば防曇材料、防曇被膜(以下、防曇コートとも言う)、防汚材料、防汚被膜又はセルフクリーニングコート、帯電防止材、速乾性材料又は速乾性コート、及び帯電防止被膜又はほこり付着防止コートなどに有用である。   The water contact angle of the monolayer film of the present invention is usually 30 ° or less, preferably 20 ° or less, more preferably 10 ° or less. A single layer film having a water contact angle of not more than the above upper limit has high hydrophilicity and is easily blended (wet) with water and is excellent as a hydrophilic material. Thus, for example, antifogging materials, antifogging coatings (hereinafter also referred to as antifogging coatings), antifouling materials, antifouling coatings or self-cleaning coatings, antistatic materials, quick drying materials or quick drying coatings, and antistatic coatings or dust. Useful for anti-adhesion coats.

例えば、防曇コートとして用いると膜表面に水滴が広がり水膜を形成させることができるため防曇効果に優れ、またセルフクリーニングコートとして用いると水が汚れとコーティング面の間に入り込み汚れを浮かせて除去することができるため防汚効果に優れている。   For example, when used as an anti-fogging coat, water droplets spread on the film surface and a water film can be formed, so it is excellent in an anti-fogging effect, and when used as a self-cleaning coat, water enters between the dirt and the coating surface to float dirt. Since it can be removed, the antifouling effect is excellent.

また、本発明のアニオン性親水基を有する単層膜は、従来のアニオン性親水基を有する被膜に比べ帯電防止性に優れており、帯電防止材、及び帯電防止被膜又はほこり付着防止コートなどにも有用である。   In addition, the monolayer film having an anionic hydrophilic group of the present invention is superior in antistatic properties as compared with a film having a conventional anionic hydrophilic group, and can be used as an antistatic material, an antistatic film, or an anti-dust coating. Is also useful.

上記単層膜の厚さは、用途により適宜設定できるが、通常0.1〜100μm、好ましくは0.5〜20μm、より好ましくは1〜10μmの範囲である。
本発明の単層膜は、上記基材の形状を工夫するなどすることにより、種々の形態の単層膜とすることができる。
The thickness of the monolayer film can be appropriately set depending on the application, but is usually in the range of 0.1 to 100 μm, preferably 0.5 to 20 μm, more preferably 1 to 10 μm.
The monolayer film of the present invention can be made into various forms of monolayer films by devising the shape of the substrate.

上記積層体の単層膜が形成されていない基材の他方の面には粘着層を設けてもよい。
このように粘着層を設けた積層体は、例えば防曇フィルム及び防汚フィルムなどとして、ガラス、浴室などの鏡、ディスプレイ、テレビなどの表示材料表面、看板、広告、案内板などの案内板、鉄道、道路などの標識、建物の外壁及び内壁、窓ガラス等に容易に貼付することができる。
An adhesive layer may be provided on the other surface of the base material on which the single layer film of the laminate is not formed.
Thus, the laminate provided with the adhesive layer is, for example, an antifogging film and an antifouling film, glass, a mirror such as a bathroom, a display, the surface of a display material such as a television, a signboard, an advertisement, a guide plate such as a guide plate, It can be easily attached to signs such as railways and roads, outer and inner walls of buildings, and window glass.

粘着層は単層膜が形成されていない基材の他方の面に粘着剤を塗布し、更に必要に応じ溶剤を除去することにより、基材上に形成できる。この粘着剤は特に制限なく使用できる。上記粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ビニルエーテルポリマー系粘着剤、及びシリコーン粘着剤などが挙げられる。粘着層の厚さは、通常2〜50μm、好ましくは5〜30μmの範囲である。   The pressure-sensitive adhesive layer can be formed on the base material by applying a pressure-sensitive adhesive to the other surface of the base material on which the monolayer film is not formed, and further removing the solvent as necessary. This pressure-sensitive adhesive can be used without particular limitation. Examples of the pressure-sensitive adhesive include acrylic pressure-sensitive adhesives, rubber pressure-sensitive adhesives, vinyl ether polymer pressure-sensitive adhesives, and silicone pressure-sensitive adhesives. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is generally 2 to 50 μm, preferably 5 to 30 μm.

なお、上記粘着層の上に更に剥離層が設けられていてもよい。
また、本発明の積層体は上記単層膜の表面に剥離可能な被覆材層が更に設けられていてもよい。
A release layer may be further provided on the adhesive layer.
Moreover, the laminated body of this invention may be further provided with the coating | coated material layer which can peel on the surface of the said single layer film.

本発明の積層体は、基材の形状を工夫するなどすることにより、種々の形態の積層体とすることができる。例えば、本発明の単層膜及び積層体は、フィルム、シート、テープなどの形態で使用できる。なお、本発明の単層膜は、プライマー層として用いることもできる。   The laminate of the present invention can be made into laminates of various forms by devising the shape of the substrate. For example, the monolayer film and laminate of the present invention can be used in the form of a film, a sheet, a tape and the like. The single layer film of the present invention can also be used as a primer layer.

本発明で得られる単層膜及び積層体は親水性に優れ、防曇材料、防汚材料、帯電防止材料などとして有用である。例えば、透明樹脂、ガラスなどの透明材料からなる基材に本発明の単層膜を積層した積層体は、透明性、親水性、防曇性、防汚性、更には、帯電防止性、速乾性、結露防止性に優れた積層体として用いることができる。   The monolayer film and laminate obtained in the present invention are excellent in hydrophilicity and are useful as antifogging materials, antifouling materials, antistatic materials and the like. For example, a laminate in which a single layer film of the present invention is laminated on a substrate made of a transparent material such as transparent resin and glass has transparency, hydrophilicity, antifogging property, antifouling property, and further antistatic property, speed It can be used as a laminate excellent in dryness and anti-condensation properties.

そのため、本発明の単層膜及び積層体は、ボディー、ホイール、外装材、及び内装材などの自動車、船舶、航空機に代表される輸送機器用材;外壁材、内壁材、床材、家具材、浴室用材、洗面化粧室用材、換気扇などのキッチン用資材、トイレ用資材、配管用材、などの建築材及び住宅資材;高速道路などに設置される遮音板などの建設用材;衣服、布及び繊維などの衣料用材;窓材、鏡、光学フィルム、光ディスク、眼鏡、コンタクトレンズ、ゴーグル、反射フィルム、及び反射板などの光学材;ランプ用材及びライト用材などの照明用材;冷却フィンなどの産業資材;電化製品用材、配線用材、タッチパネルフラットパネルなどのディスプレイ用材、及びフォトレジストなどの電気・電子材料;インクジェット記録版、印刷・印字用プライマーなどの印刷材料;化粧品容器などの日用品用材などの用途に用いることができる。   Therefore, the single-layer film and the laminate of the present invention are materials for transportation equipment represented by automobiles, ships, aircrafts such as bodies, wheels, exterior materials, and interior materials; outer wall materials, inner wall materials, floor materials, furniture materials, Building materials such as bathroom materials, toilet materials, kitchen materials such as ventilation fans, toilet materials, piping materials, etc .; construction materials such as sound insulation boards installed on highways, etc .; clothes, cloth, fibers, etc. Materials for clothing; optical materials such as window materials, mirrors, optical films, optical disks, glasses, contact lenses, goggles, reflective films, and reflectors; lighting materials such as lamp materials and light materials; industrial materials such as cooling fins; Product materials, wiring materials, display materials such as touch panel flat panels, and electrical and electronic materials such as photoresists; ink jet recording plates, printing and printing plastics Printing materials such as Ma; can be used in applications such as daily necessities timber, such as cosmetic containers.

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明がこれら実施例のみに限定されるものではない。なお、本発明において被膜の物性評価は下記のようにして行った。
<外観>
単層膜表面を水道水にて水を流しながらキムワイプ(ワイパー S-200、株式会社クレシア製)で擦り洗いし、エアブローで膜表面を乾燥した後の外観を目視で評価した。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited only to these Examples. In the present invention, the physical properties of the coating were evaluated as follows.
<Appearance>
The surface of the single-layer membrane was scrubbed with Kimwipe (Wiper S-200, manufactured by Crecia Co., Ltd.) while flowing tap water, and the appearance after the membrane surface was dried by air blow was visually evaluated.

<水接触角の測定>
単層膜表面を水道水にて水を流しながらキムワイプ(ワイパー S-200、株式会社クレシア製)で擦り洗いし、エアブローで膜表面を乾燥した後、協和界面科学社製の水接触角測定装置CA−V型を用いて、室温(25℃)において3箇所測定し、平均値を記載した。
<Measurement of water contact angle>
The surface of the monolayer membrane is washed with Kimwipe (Wiper S-200, manufactured by Crecia Co., Ltd.) while flowing water with tap water, and the membrane surface is dried by air blow, and then a water contact angle measuring device manufactured by Kyowa Interface Science Three places were measured at room temperature (25 ° C.) using a CA-V type, and the average value was described.

<スチールウール擦傷性試験>
スチールウール#0000を用い、1Kgfの荷重をかけて10往復擦り、傷が入らなかった場合を○、入った場合を×とした。
<Steel Wool Abrasion Test>
Steel wool # 0000 was used and rubbed back and forth 10 times with a load of 1 Kgf.

<アニオン及びカチオン濃度比の測定>
図1に示す試料調製の通りサンプルを斜めに切断し、飛行時間型2次イオン質量分析装置(TOF−SIMS)を用いて、単層膜表面のアニオン濃度(Sa)と単層膜内部(膜の内表面と外表面との中間地点)のアニオン濃度(Da)とを測定し、その値からアニオン濃度比(Sa/Da)を求めた。
<Measurement of anion and cation concentration ratio>
The sample is cut obliquely as shown in the sample preparation shown in FIG. 1, and using a time-of-flight secondary ion mass spectrometer (TOF-SIMS), the anion concentration (Sa) on the surface of the single layer film and the inside of the single layer film (membrane) The anion concentration (Da) at the intermediate point between the inner surface and the outer surface was measured, and the anion concentration ratio (Sa / Da) was determined from the value.

(分析装置と測定条件)
TOF−SIMS;ION・TOF社製 TOF−SIMS5
1次イオン;Bi3 2+(加速電圧25kV)
測定面積;400μm2
測定には帯電補正用電子銃を使用
(Analyzer and measurement conditions)
TOF-SIMS; TOF-SIMS 5 manufactured by ION-TOF
Primary ion; Bi 3 2+ (acceleration voltage 25 kV)
Measurement area: 400 μm 2
Measurement uses an electron gun for charge correction

(試料調製等)
図1に示す通りに、基材10の表面に単層膜20が設けられたサンプルを、切削方向30に向かって精密斜め切削を行った後、10×10mm2程度の大きさに切り出し、測定面にメッシュを当て、サンプルホルダーに固定し、外気と接する単層膜表面40及び単層膜内部50(膜厚1/2の地点、基材10に接する単層膜の内表面と単層膜表面との中間)で、飛行時間型2次イオン質量分析装置(TOF−SIMS)を用いてアニオン濃度を測定した。
(Sample preparation etc.)
As shown in FIG. 1, a sample having a single-layer film 20 provided on the surface of a base material 10 is subjected to precision oblique cutting in the cutting direction 30 and then cut into a size of about 10 × 10 mm 2 and measured. A single-layer film surface 40 and a single-layer film inside 50 that are in contact with the outside air and a single-layer film inside 50 (a point at a thickness of 1/2, an inner surface of the single-layer film that contacts the base material 10 and a single-layer film) In the middle of the surface), the anion concentration was measured using a time-of-flight secondary ion mass spectrometer (TOF-SIMS).

(評価)
評価は以下の計算式で行った。なお、各測定点のイオン濃度は、相対強度(トータル検出イオンに対する)を用いた。
Sa/Da(アニオン濃度比,傾斜度)=単層膜表面40でのアニオン濃度/単層膜内部50でのアニオン濃度
(Evaluation)
Evaluation was performed by the following calculation formula. The relative intensity (relative to the total detected ions) was used as the ion concentration at each measurement point.
Sa / Da (anion concentration ratio, gradient) = anion concentration at the monolayer film surface 40 / anion concentration within the monolayer film 50

[製造例1] 混合液1の調製
下記表1の配合比に従い、固形分50wt%の均一な混合液1を調製した。
[Production Example 1] Preparation of liquid mixture 1 A uniform liquid mixture 1 having a solid content of 50 wt% was prepared according to the mixing ratio shown in Table 1 below.

Figure 2014080471
Figure 2014080471

なお、記号で示した化合物は以下のとおりである。
SPA−K;3−スルホプロピルアクリレートカリウム塩
P−2M;2-メタクロイロキシエチルアシッドホスフェート(ライトエステル P−2M;共栄社化学(株)製)
A−GLY−9E;エトキシ化グリセリントリアクリレート(NKエステル A−GLY−9E;新中村化学工業(株)製)
A9300−1CL;ε−カプロラクトン変性トリス−(2−アクリロキシエチル)イソシアヌレート(NKエステル A9300−1CL;新中村化学工業(株)製)
U−15HA;多官能ウレタンアクリレート(NKエステル U−15HA;新中村化学工業(株))
S−EED;1,3−ベンゼンジカルボキサミド−N,N'−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)(ナイロスタッブ S−EED;クラリアント・ジャパン(株)製)
The compounds indicated by symbols are as follows.
SPA-K; 3-sulfopropyl acrylate potassium salt P-2M; 2-methacryloxyethyl acid phosphate (light ester P-2M; manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
A-GLY-9E; ethoxylated glycerin triacrylate (NK ester A-GLY-9E; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
A9300-1CL; ε-caprolactone-modified tris- (2-acryloxyethyl) isocyanurate (NK ester A9300-1CL; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
U-15HA; polyfunctional urethane acrylate (NK ester U-15HA; Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
S-EED; 1,3-benzenedicarboxamide-N, N′-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) (Nyrostub S-EED; manufactured by Clariant Japan KK)

Figure 2014080471
Figure 2014080471

[実施例1−1]
ガラス製スクリュー管に、製造例1で調製した混合液1(10.0g)、及び重合開始剤としてジ(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート(パーロイル TCP;日油(株)製)0.075gを加え、マグネチックスターラーを用いて室温で1時間撹拌し、均一なコーティング液を調製した。このコーティング液を、低湿度条件下(26℃−20%RH)、基材となるポリカーボネートシート(以下、PC板と略記)に、バーコーター#10を用いて塗布し、オーブン中、窒素ガス雰囲気下、炉内温度30−35℃で30分間乾燥させた。次いで100℃に昇温し(昇温時間5分)、100℃で2時間熱硬化させ、PC板上に膜厚約6.8μmのコーティング膜を形成させた。結果を下記表2に示す。
[Example 1-1]
In a glass screw tube, mixed solution 1 (10.0 g) prepared in Production Example 1 and di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate (Perroyl TCP; manufactured by NOF Corporation) as a polymerization initiator 0.075g was added and it stirred at room temperature for 1 hour using the magnetic stirrer, and prepared the uniform coating liquid. This coating solution was applied to a polycarbonate sheet (hereinafter abbreviated as PC board) as a base material under a low humidity condition (26 ° C.-20% RH) using a bar coater # 10, and a nitrogen gas atmosphere in an oven. Then, it was dried at a furnace temperature of 30-35 ° C. for 30 minutes. Next, the temperature was raised to 100 ° C. (temperature raising time: 5 minutes), followed by thermosetting at 100 ° C. for 2 hours to form a coating film having a thickness of about 6.8 μm on the PC plate. The results are shown in Table 2 below.

[実施例1−2]
実施例1−1において、重合開始剤としてパーロイル TCP 0.075gを使用する代わりに、ジラウロイルパーオキサイド(パーロイルL;日油(株)製)0.075gを使用した以外は、実施例1−1と同様の操作を行い、PC板上に膜厚約6.8μmのコーティング膜を形成させた。結果を下記表2に示す。
[Example 1-2]
In Example 1-1, Example 1 was used except that 0.075 g of dilauroyl peroxide (Perroyl L; manufactured by NOF Corporation) was used instead of 0.075 g of Perloyl TCP as a polymerization initiator. The same operation as 1 was performed, and a coating film having a film thickness of about 6.8 μm was formed on the PC plate. The results are shown in Table 2 below.

[実施例1−3]
実施例1−1において、重合開始剤としてパーロイル TCP 0.075gを使用する代わりにジベンゾイルパーオキシド(ナイパーBW;日油(株)製)0.075gを使用した以外は、実施例1−1と同様の操作を行い、PC板上に膜厚約6.8μmのコーティング膜を形成させた。結果を下記表2に示す。
[Example 1-3]
In Example 1-1, Example 1-1 was used except that 0.075 g of dibenzoyl peroxide (Niper BW; manufactured by NOF Corporation) was used instead of 0.075 g of perloyl TCP as a polymerization initiator. The same operation was performed to form a coating film having a film thickness of about 6.8 μm on the PC plate. The results are shown in Table 2 below.

[実施例1−4]
実施例1−1において、重合開始剤としてパーロイル TCP 0.075gを使用する代わりに、パーロイル TCP 0.025g及びt−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート(パーブチルO;日油(株)製)0.025gを使用した以外は、実施例1−1と同様の操作を行い、PC板上に膜厚約6.8μmのコーティング膜を形成させた。結果を下記表2に示す。
[Example 1-4]
In Example 1-1, instead of using 0.075 g of Parroyl TCP as a polymerization initiator, 0.025 g of Parroyl TCP and t-butylperoxy-2-ethylhexanoate (Perbutyl O; manufactured by NOF Corporation) ) The same operation as in Example 1-1 was performed except that 0.025 g was used, and a coating film having a thickness of about 6.8 μm was formed on the PC plate. The results are shown in Table 2 below.

[比較例1−1]
実施例1−1において、重合開始剤としてパーロイル TCP 0.075gを使用する代わりに、t−ブチルパーオキシラウレート(パーブチル L;日油(株)製;T1/2=118℃)0.075gを使用した以外は、実施例1−1と同様の操作を行い、PC板上に膜厚約6.8μmのコーティング膜を形成させた。結果を下記表2に示す。
[Comparative Example 1-1]
In Example 1-1, instead of using 0.075 g of perloyl TCP as a polymerization initiator, t-butyl peroxylaurate (Perbutyl L; manufactured by NOF Corporation; T 1/2 = 118 ° C.) Except that 075 g was used, the same operation as in Example 1-1 was performed to form a coating film having a thickness of about 6.8 μm on the PC plate. The results are shown in Table 2 below.

Figure 2014080471
Figure 2014080471

[実施例1−5]
実施例1−1において、重合開始剤としてパーロイル TCP 0.075gを使用する代わりにパーロイル TCP 0.025gを使用した以外は、実施例1−1と同様の操作を行い、PC板上に膜厚約6.8μmのコーティング膜を形成させた。結果を下記表3に示す。
[Example 1-5]
In Example 1-1, the same operation as in Example 1-1 was performed except that 0.025 g of Parroyl TCP was used instead of 0.075 g of Perloyl TCP as a polymerization initiator, and the film thickness was formed on the PC plate. A coating film of about 6.8 μm was formed. The results are shown in Table 3 below.

[実施例1−6]
実施例1−1において、重合開始剤としてパーロイル TCP 0.075gを使用する代わりにパーロイル TCP 0.050gを使用した以外は、実施例1−1と同様の操作を行い、PC板上に膜厚約6.8μmのコーティング膜を形成させた。結果を下記表3に示す。
[Example 1-6]
In Example 1-1, the same operation as in Example 1-1 was carried out except that 0.050 g of Parroyl TCP was used instead of 0.075 g of Peroyl TCP as a polymerization initiator, and the film thickness was formed on the PC plate. A coating film of about 6.8 μm was formed. The results are shown in Table 3 below.

[実施例1−7]
実施例1−1において、重合開始剤としてパーロイル TCP 0.075gを使用する代わりにパーロイル TCP 0.150gを使用した以外は、実施例1−1と同様の操作を行い、PC板上に膜厚約6.8μmのコーティング膜を形成させた。結果を下記表3に示す。
[Example 1-7]
In Example 1-1, except that perloyl TCP 0.150 g was used instead of 0.075 g as a polymerization initiator, the same operation as in Example 1-1 was performed, and the film thickness was formed on the PC plate. A coating film of about 6.8 μm was formed. The results are shown in Table 3 below.

[実施例1−8]
実施例1−1において、100℃で2時間熱硬化させる代わりに、100℃で0.5時間熱硬化させた以外は、実施例1−1と同様の操作を行い、PC板上に膜厚約6.8μmのコーティング膜を形成させた。結果を下記表3に示す。
[Example 1-8]
In Example 1-1, the same operation as in Example 1-1 was performed, except that the film was thermally cured at 100 ° C. for 0.5 hour instead of being thermally cured at 100 ° C. for 2 hours. A coating film of about 6.8 μm was formed. The results are shown in Table 3 below.

[実施例1−9]
実施例1−1において、100℃で2時間熱硬化させる代わりに、100℃で1時間熱硬化させた以外は、実施例1−1と同様の操作を行い、PC板上に膜厚約6.8μmのコーティング膜を形成させた。結果を下記表3に示す。
[Example 1-9]
In Example 1-1, the same operation as in Example 1-1 was performed except that heat curing was performed at 100 ° C. for 1 hour instead of heat curing at 100 ° C. for 2 hours. A coating film of 8 μm was formed. The results are shown in Table 3 below.

Figure 2014080471
Figure 2014080471

[実施例1−10]
実施例1−1において、重合開始剤としてパーロイル TCP 0.075gを使用する代わりにパーロイル TCP 0.150gを使用し、バーコーター#10の代わりにバーコーター#2を用いて塗布した以外は、実施例1−1と同様の操作を行い、PC板上に膜厚約1.4μmのコーティング膜を形成させた。結果を下記表4に示す。なお、下記表4には実施例1−1の結果も併記する。
[Example 1-10]
In Example 1-1, except that Perloyl TCP 0.150 g was used instead of Perloyl TCP 0.075 g as a polymerization initiator, and coating was performed using Bar Coater # 2 instead of Bar Coater # 10. The same operation as in Example 1-1 was performed to form a coating film having a thickness of about 1.4 μm on the PC plate. The results are shown in Table 4 below. In Table 4 below, the results of Example 1-1 are also shown.

[実施例1−11]
実施例1−1において、バーコーター#10の代わりにバーコーター#5を用いて塗布した以外は、実施例1−1と同様の操作を行い、PC板上に膜厚約3.4μmのコーティング膜を形成させた。結果を下記表4に示す。
[Example 1-11]
In Example 1-1, the same operation as in Example 1-1 was performed, except that bar coater # 5 was used instead of bar coater # 10, and a coating having a thickness of about 3.4 μm was formed on the PC plate. A film was formed. The results are shown in Table 4 below.

[実施例1−12]
実施例1−1において、バーコーター#10の代わりにバーコーター#30を用いて塗布した以外は、実施例1−1と同様の操作を行い、PC板上に膜厚約20μmのコーティング膜を形成させた。結果を下記表4に示す。
[Example 1-12]
In Example 1-1, a coating film having a film thickness of about 20 μm was formed on the PC plate by performing the same operation as in Example 1-1 except that bar coater # 30 was used instead of bar coater # 10. Formed. The results are shown in Table 4 below.

Figure 2014080471
Figure 2014080471

[製造例2] 混合液2の調製
下記表5の配合比に従い、固形分50wt%の均一な混合液2を調製した。なお記号で示した化合物は、製造例1と同様の化合物である。
[Production Example 2] Preparation of Mixed Liquid 2 A uniform mixed liquid 2 having a solid content of 50 wt% was prepared according to the blending ratio shown in Table 5 below. The compounds indicated by symbols are the same as those in Production Example 1.

Figure 2014080471
Figure 2014080471

[実施例2−1]
ガラス製スクリュー管に、製造例2で調製した混合液2(10.0g)、及び重合開始剤としてパーロイル TCP 0.075gを加え、マグネチックスターラーを用いて室温で1時間撹拌し、均一なコーティング液を調製した。このコーティング液を、低湿度条件下(26℃−20%RH)、PC板に、バーコーター#10を用いて塗布し、オーブン中、窒素ガス雰囲気下、炉内温度30−35℃で30分間乾燥させた。次いで100℃に昇温し(昇温時間5分)、100℃で2時間熱硬化させ、PC板上に膜厚約6.8μmのコーティング膜を形成させた。結果を下記表6に示す。
[Example 2-1]
Mixing solution 2 (10.0 g) prepared in Production Example 2 and 0.075 g of Parroyl TCP as a polymerization initiator were added to a glass screw tube, and stirred at room temperature for 1 hour using a magnetic stirrer to form a uniform coating A liquid was prepared. This coating solution was applied to a PC plate under low humidity conditions (26 ° C.-20% RH) using a bar coater # 10, and the oven temperature was 30 to 35 ° C. in a nitrogen gas atmosphere for 30 minutes. Dried. Next, the temperature was raised to 100 ° C. (temperature raising time: 5 minutes), and thermosetting was performed at 100 ° C. for 2 hours to form a coating film having a thickness of about 6.8 μm on the PC plate. The results are shown in Table 6 below.

[実施例2−2]
実施例2−1において、重合開始剤としてパーロイル TCP 0.075gを使用する代わりにナイパー BW 0.075gを使用した以外は、実施例2−1と同様の操作を行い、PC板上に膜厚約6.8μmのコーティング膜を形成させた。結果を記表6に示す。
[Example 2-2]
In Example 2-1, the same operation as in Example 2-1 was performed, except that 0.075 g of Nyper BW was used instead of 0.075 g of Parroyl TCP as the polymerization initiator, and the film thickness was formed on the PC plate. A coating film of about 6.8 μm was formed. The results are shown in Table 6.

Figure 2014080471
Figure 2014080471

[製造例3] 混合液3の調製
下記表7の配合比に従い、固形分50wt%の均一な混合液3を調製した。なお記号で示した化合物は、以下の通りである。
PE−3A;ペトールトリアクリレート(NKエステル A−TMM−3L;新中村化学工業(株)製)
[Production Example 3] Preparation of liquid mixture 3 A uniform liquid mixture 3 having a solid content of 50 wt% was prepared according to the blending ratio shown in Table 7 below. The compounds indicated by symbols are as follows.
PE-3A; Petol triacrylate (NK ester A-TMM-3L; Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)

Figure 2014080471
Figure 2014080471

Figure 2014080471
Figure 2014080471

[実施例3−1]
ガラス製スクリュー管に、製造例1で調製した混合液1(5.0g)、製造例3で調製した混合液3(5.0g)、および重合開始剤としてパーロイル TCP 0.075gを加え、マグネチックスターラーを用いて室温で1時間撹拌し、均一なコーティング液を調製した。このコーティング液を、低湿度条件下(26℃−20%RH)、PC板に、バーコーター#10を用いて塗布し、オーブン中、窒素ガス雰囲気下、炉内温度30−35℃で30分間乾燥させた。次いで100℃に昇温し(昇温時間5分)、100℃で2時間熱硬化させ、PC板上に膜厚約6.8μmのコーティング膜を形成させた。結果を下記表8に示す。
[Example 3-1]
To the glass screw tube, add the mixed solution 1 (5.0 g) prepared in Production Example 1, the mixed solution 3 (5.0 g) prepared in Production Example 3, and 0.075 g of Parroyl TCP as a polymerization initiator. The mixture was stirred for 1 hour at room temperature using a tic stirrer to prepare a uniform coating solution. This coating solution was applied to a PC plate under low humidity conditions (26 ° C.-20% RH) using a bar coater # 10, and the oven temperature was 30 to 35 ° C. in a nitrogen gas atmosphere for 30 minutes. Dried. Next, the temperature was raised to 100 ° C. (temperature raising time: 5 minutes), followed by thermosetting at 100 ° C. for 2 hours to form a coating film having a thickness of about 6.8 μm on the PC plate. The results are shown in Table 8 below.

[実施例3−2]
実施例3−1において、混合液1(5.0g)および混合液3(5.0g)を使用する代わりに、混合液1(3.3g)および混合液3(6.7g)を使用した以外は、実施例3−1と同様の操作を行い、PC板上に膜厚約6.8μmのコーティング膜を形成させた。結果を下記表8に示す。
[Example 3-2]
In Example 3-1, instead of using liquid mixture 1 (5.0 g) and liquid mixture 3 (5.0 g), liquid mixture 1 (3.3 g) and liquid mixture 3 (6.7 g) were used. Otherwise, the same operation as in Example 3-1 was performed to form a coating film having a thickness of about 6.8 μm on the PC plate. The results are shown in Table 8 below.

[実施例3−3]
実施例3−1において、混合液1(5.0g)および混合液3(5.0g)を使用する代わりに、混合液1(2.8g)および混合液3(7.2g)を使用した以外は、実施例3−1と同様の操作を行い、PC板上に膜厚約6.8μmのコーティング膜を形成させた。結果を下記表8に示す。
[Example 3-3]
In Example 3-1, instead of using the mixed solution 1 (5.0 g) and the mixed solution 3 (5.0 g), the mixed solution 1 (2.8 g) and the mixed solution 3 (7.2 g) were used. Otherwise, the same operation as in Example 3-1 was performed to form a coating film having a thickness of about 6.8 μm on the PC plate. The results are shown in Table 8 below.

Figure 2014080471
Figure 2014080471

[製造例4] 混合液4の調製
下記表9の配合比に従い、固形分50wt%の均一な混合液4を調製した。なお記号で示した化合物は、製造例1〜3と同様の化合物である。
[Production Example 4] Preparation of mixed solution 4 According to the blending ratio shown in Table 9 below, a uniform mixed solution 4 having a solid content of 50 wt% was prepared. The compounds indicated by symbols are the same as those in Production Examples 1 to 3.

Figure 2014080471
Figure 2014080471

[実施例4−1]
ガラス製スクリュー管に、製造例4で調製した混合液4(5.0g)、製造例3で調製した混合液3(5.0g)、および重合開始剤としてパーロイル TCP 0.075gを加え、マグネチックスターラーを用いて室温で1時間撹拌し、均一なコーティング液を調製した。このコーティング液を、低湿度条件下(26℃−20%RH)、PC板に、バーコーター#10を用いて塗布し、オーブン中、窒素ガス雰囲気下、炉内温度30−35℃で30分間乾燥させた。次いで100℃に昇温し(昇温時間5分)、100℃で2時間熱硬化させ、PC板上に膜厚約6.8μmのコーティング膜を形成させた。結果を下記表10に示す。
[Example 4-1]
To a glass screw tube, add the mixed solution 4 (5.0 g) prepared in Production Example 4, the mixed solution 3 (5.0 g) prepared in Production Example 3, and 0.075 g of Parroyl TCP as a polymerization initiator. The mixture was stirred for 1 hour at room temperature using a tic stirrer to prepare a uniform coating solution. This coating solution was applied to a PC plate under low humidity conditions (26 ° C.-20% RH) using a bar coater # 10, and the oven temperature was 30 to 35 ° C. in a nitrogen gas atmosphere for 30 minutes. Dried. Next, the temperature was raised to 100 ° C. (temperature raising time: 5 minutes), followed by thermosetting at 100 ° C. for 2 hours to form a coating film having a thickness of about 6.8 μm on the PC plate. The results are shown in Table 10 below.

[実施例4−2]
実施例4−1において、混合液4(5.0g)および混合液3(5.0g)を使用する代わりに、混合液4(2.5g)および混合液3(7.5g)を使用した以外は、実施例4−1と同様の操作を行い、PC板上に膜厚約6.8μmのコーティング膜を形成させた。結果を下記表10に示す。
[Example 4-2]
In Example 4-1, instead of using the mixed solution 4 (5.0 g) and the mixed solution 3 (5.0 g), the mixed solution 4 (2.5 g) and the mixed solution 3 (7.5 g) were used. Except for the above, the same operation as in Example 4-1 was performed to form a coating film having a thickness of about 6.8 μm on the PC plate. The results are shown in Table 10 below.

[実施例4−3]
実施例4−1において、混合液4(5.0g)および混合液3(5.0g)を使用する代わりに、混合液4(1.7g)および混合液3(8.3g)を使用した以外は、実施例4−1と同様の操作を行い、PC板上に膜厚約6.8μmのコーティング膜を形成させた。結果を下記表10に示す。
[Example 4-3]
In Example 4-1, instead of using the mixed solution 4 (5.0 g) and the mixed solution 3 (5.0 g), the mixed solution 4 (1.7 g) and the mixed solution 3 (8.3 g) were used. Except for the above, the same operation as in Example 4-1 was performed to form a coating film having a thickness of about 6.8 μm on the PC plate. The results are shown in Table 10 below.

[実施例4−4]
実施例4−1において、混合液4(5.0g)および混合液3(5.0g)を使用する代わりに、混合液4(1.3g)および混合液3(8.7g)を使用した以外は、実施例4−1と同様の操作を行い、PC板上に膜厚約6.8μmのコーティング膜を形成させた。結果を下記表10に示す。
[Example 4-4]
In Example 4-1, instead of using the mixed solution 4 (5.0 g) and the mixed solution 3 (5.0 g), the mixed solution 4 (1.3 g) and the mixed solution 3 (8.7 g) were used. Except for the above, the same operation as in Example 4-1 was performed to form a coating film having a thickness of about 6.8 μm on the PC plate. The results are shown in Table 10 below.

Figure 2014080471
以下、実施例1−1で得られた単層膜について、膜切削面の相対イオン強度比(アニオン及びカチオン濃度の分布)を、TOF−SIMSにより分析した。結果を表9に示す。
Figure 2014080471
Hereinafter, for the monolayer film obtained in Example 1-1, the relative ionic strength ratio (anion and cation concentration distribution) of the membrane cutting surface was analyzed by TOF-SIMS. The results are shown in Table 9.

Figure 2014080471
Figure 2014080471

本発明により得られる単層膜は、高親水性と高い硬度を有するため、防曇性、防汚性、及び帯電防止性を有する被膜及び該被膜が基材表面に被覆された積層体を得るのに有用である。   Since the monolayer film obtained by the present invention has high hydrophilicity and high hardness, a film having antifogging property, antifouling property, and antistatic property and a laminate in which the surface of the substrate is coated are obtained. Useful for.

10:基材,20:単層膜,30:切削方向,40:単層膜表面,50:単層膜内部 10: base material, 20: single layer film, 30: cutting direction, 40: single layer film surface, 50: single layer film inside

Claims (4)

下記一般式(1)で表される化合物(I)と2以上の(メタ)アクリロイル基を有する(但し、スルホン酸基、カルボキシル基及びリン酸基を有さない)化合物(II)とを化合物(II)に対する化合物(I)のモル比(I)/(II)が1/0.05〜1/1000の範囲となるように含み、かつ1時間半減温度T1/2が40〜100℃の範囲にある過酸化物(III)と溶剤(IV)とを含む組成物を作製する第一工程、
該組成物からなる塗膜を基材の少なくとも片面に形成する第二工程、
該塗膜を熱により共重合させて、スルホン酸基、カルボキシル基及びリン酸基から選ばれる少なくとも1種のアニオン性親水基が、外表面のアニオン濃度(Sa)と基材に接する内表面と外表面との中間地点のアニオン濃度(Da)とのアニオン濃度比(Sa/Da)が1.1以上となるように分布する単層膜を形成する第三工程を含む、積層体の製造方法。
[X]s[M1]l[M2]m (1)
(上記式(1)中、sは1又は2を表し、l及びmはs=l+2mを満たす整数を表す。M1は、水素イオン、アンモニウムイオン、及びアルカリ金属イオンから選ばれる少なくとも1つの1価カチオンであり、M2はアルカリ土類金属イオンから選ばれる少なくとも1つの2価カチオンである。Xは、下記一般式(1−1)〜(1−4)で示される基から選ばれる少なくとも1つの1価アニオンである。)
Figure 2014080471
Figure 2014080471
Figure 2014080471
Figure 2014080471
(上記式(1−1)〜(1−4)中、J及びJ'はそれぞれ独立にH又はCH3であり、nは0又は1を表し、Rはそれぞれ独立に、炭素数1〜600の脂肪族炭化水素基であり、該脂肪族炭化水素基に含まれる任意のメチレン基は、2価の芳香族基、2価の脂肪族環状炭化水素基、−O−、−COO−、又は−OCO−で置換されていてもよい。)
Compound (I) represented by the following general formula (1) and compound (II) having two or more (meth) acryloyl groups (however, having no sulfonic acid group, carboxyl group and phosphoric acid group) The molar ratio (I) / (II) of compound (I) to (II) is in the range of 1 / 0.05 to 1/1000, and the one-hour half-life temperature T 1/2 is 40 to 100 ° C. A first step of preparing a composition comprising peroxide (III) and solvent (IV) in the range of
A second step of forming a coating film comprising the composition on at least one side of the substrate;
The coating film is copolymerized by heat so that at least one anionic hydrophilic group selected from a sulfonic acid group, a carboxyl group and a phosphoric acid group has an anion concentration (Sa) on the outer surface and an inner surface in contact with the substrate. A method for producing a laminate comprising a third step of forming a monolayer film distributed so that an anion concentration ratio (Sa / Da) with an anion concentration (Da) at an intermediate point with the outer surface is 1.1 or more .
[X] s [M1] l [M2] m (1)
(In the above formula (1), s represents 1 or 2, and l and m represent integers satisfying s = 1 + 2m. M1 represents at least one monovalent selected from a hydrogen ion, an ammonium ion, and an alkali metal ion. M2 is at least one divalent cation selected from alkaline earth metal ions, and X is at least one selected from groups represented by the following general formulas (1-1) to (1-4). It is a monovalent anion.)
Figure 2014080471
Figure 2014080471
Figure 2014080471
Figure 2014080471
(In the above formulas (1-1) to (1-4), J and J ′ each independently represent H or CH 3 , n represents 0 or 1, and R each independently represents 1 to 600 carbon atoms. Any methylene group contained in the aliphatic hydrocarbon group is a divalent aromatic group, a divalent aliphatic cyclic hydrocarbon group, -O-, -COO-, or (It may be substituted with -OCO-.)
前記過酸化物(III)が、パーオキシカーボネート、及びジアシルパーオキサイドから選ばれる少なくとも1種である請求項1に記載の積層体の製造方法。   The method for producing a laminate according to claim 1, wherein the peroxide (III) is at least one selected from peroxycarbonate and diacyl peroxide. 前記第二工程において塗膜を基材に形成した後、塗膜を形成する組成物に含まれる溶剤(IV)の含有量が30重量%以下となるように乾燥し、その後前記第三工程において塗膜の熱による共重合を行う、請求項1又は2に記載の積層体の製造方法。   After the coating film is formed on the substrate in the second step, the solvent (IV) contained in the composition for forming the coating film is dried so that the content is 30% by weight or less, and then in the third step. The manufacturing method of the laminated body of Claim 1 or 2 which performs copolymerization with the heat | fever of a coating film. 前記第一工程で作製される組成物に更に紫外線吸収剤が含まれている、請求項1〜3のいずれか1項に記載の積層体の製造方法。   The manufacturing method of the laminated body of any one of Claims 1-3 in which the ultraviolet absorber is further contained in the composition produced at said 1st process.
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