JP2014074788A - 低反射構造成型用原版およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】低反射構造体の微細構造の配置の規則性を意図的に崩し、不規則構造とすることで、反射率の波長依存性を低減する低反射構造体の原版である。更に、この不規則構造を実現するために、光学特性上問題の生じない、波長より十分に大きい繰り返し周期を設定し、その範囲内で不規則な構造を設計することで、擬似的な不規則構造としたパターンを設計し、これによって従来製造工程を大きく変えることなく低反射構造体原版を製造できる製造方法である。
【選択図】なし
Description
また、本発明にかかる低反射構造成型用原版の製造方法は、物質表面での光の反射率を低減させるため当該物質表面に微細構造を形成する低反射構造成型用原版の製造方法であって、原版基材の表面上にレジストを塗布する工程と、電子線描画またはレーザー描画によって前記レジスト上に不規則配列を描画する工程と、前記原版基材をエッチングして前記原版基材の表面に多数の微細突起が不規則に配列された微細突起構造を形成する工程と、を含むことを特徴とする。
また、本発明にかかる低反射構造成型用原版の製造方法は、物質表面での光の反射率を低減させるため当該物質表面に微細構造を形成する低反射構造成型用原版の製造方法であって、電子線描画またはレーザー描画を用いて不規則配列を有するフォトマスクを製作する工程と、原版基材の表面上にレジストを塗布する工程と、前記フォトマスクを用いてフォトリソグラフィー法によって前記原版基材表面上のレジストに前記不規則配列を転写する工程と、前記原版基材をエッチングして前記原版基材の表面に多数の微細突起が不規則に配列された微細突起構造を形成する工程と、を含むことを特徴とする。
図4,5を参照して、本発明の実施の形態にかかる低反射構造成型用原版およびその製造方法を説明する。
<描画パターンの設計>
<原版の作製>
12,13,14・・・一般的な微細構造パターン
52・・・レジスト
53・・・擬似不規則格子レジストパターン
54・・・擬似不規則格子表面構造
55・・・低反射構造原版
31・・・平坦シリコン表面の分光反射率
32,72・・・規則格子構造シリコン表面の分光反射率
71・・・擬似不規則構造シリコン表面の分光反射率
Claims (9)
- 物質表面での光の反射率を低減させるため当該物質表面に微細構造を形成する低反射構造成型用原版であって、
前記微細構造は、原版基材の表面に多数の微細突起が不規則に配列された微細突起構造で構成されていることを特徴とする低反射構造成型用原版。 - 前記微細突起構造は、所定の幅および長さを有する有限領域内に多数の微細突起が不規則に配置された単位不規則配列が、当該所定の幅および長さを配列周期として繰り返して配列された配列構造で構成されていることを特徴とする請求項1に記載の低反射構造成型用原版。
- 前記微細突起構造は、所定の幅および長さを有する有限領域内に多数の微細突起が不規則に配置された単位不規則配列が当該所定の幅および長さを配列周期として繰り返して配列された配列構造の複数が、それらの幅方向または長さ方向を交差させ重ね合わせて構成されていることを特徴とする請求項1に記載の低反射構造成型用原版。
- 前記所定の幅および長さは、3.8μm以上10mm以下であることを特徴とする請求項2または3に記載の低反射構造成型用原版。
- 物質表面での光の反射率を低減させるため当該物質表面に微細構造を形成する低反射構造成型用原版の製造方法であって、
原版基材の表面上にレジストを塗布する工程と、
電子線描画またはレーザー描画によって前記レジスト上に不規則配列を描画する工程と、
前記原版基材をエッチングして前記原版基材の表面に多数の微細突起が不規則に配列された微細突起構造を形成する工程と、
を含むことを特徴とする低反射構造成型用原版の製造方法。 - 物質表面での光の反射率を低減させるため当該物質表面に微細構造を形成する低反射構造成型用原版の製造方法であって、
電子線描画またはレーザー描画を用いて不規則配列を有するフォトマスクを製作する工程と、
原版基材の表面上にレジストを塗布する工程と、
前記フォトマスクを用いてフォトリソグラフィー法によって前記原版基材表面上のレジストに前記不規則配列を転写する工程と、
前記原版基材をエッチングして前記原版基材の表面に多数の微細突起が不規則に配列された微細突起構造を形成する工程と、
を含むことを特徴とする低反射構造成型用原版の製造方法。 - 前記不規則配列を描画する工程または前記不規則配列を有するフォトマスクを製作する工程では、前記微細突起構造として、所定の幅および長さを有する有限領域内に多数の微細突起が不規則に配置された単位不規則配列を、当該所定の幅および長さを配列周期として繰り返して配列した配列構造を描画または制作することを特徴とする請求項5または6に記載の低反射構造成型用原版の製造方法。
- 前記不規則配列を描画する工程または前記不規則配列を有するフォトマスクを製作する工程では、前記微細突起構造として、所定の幅および長さを有する有限領域内に多数の微細突起が不規則に配置された単位不規則配列が当該所定の幅および長さを配列周期として繰り返して配列された配列構造の複数を、それらの幅方向または長さ方向を交差させ重ね合わせて描画または制作することを特徴とする請求項5または6に記載の低反射構造成型用原版の製造方法。
- 前記不規則配列を描画する工程または前記不規則配列を有するフォトマスクを製作する工程では、前記所定の幅および長さを3.8μm以上10mm以下とすることを特徴とする請求項7または8に記載の低反射構造成型用原版の製造方法。
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JP2006038928A (ja) * | 2004-07-22 | 2006-02-09 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 無反射周期構造体及びその製造方法 |
JP2009210730A (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-17 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止構造体製造方法、反射防止構造体及び光学部材 |
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