JP2014067898A - 半導体デバイスおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体素子3の上面には、機能領域3および電極32が設けられ、電極32は回路基板2の接続端子22とワイヤ6により接続されている。半導体素子3上には透光性部材4が接着され、周囲は封止部材5により封止されている。透光性部材4は、機能領域3と電極32との間に周縁部4aSが配置された下部透光部4aと、周縁領域4bS部がワイヤ6の最大高さ部6a近傍を覆う上部透光部4bとを有する。
【選択図】図1
Description
この発明の半導体デバイスの製造方法は、接続端子が形成された基板上に、機能領域と機能領域の外周側に配置された電極が上面に形成された半導体素子を搭載する工程と、半導体素子の電極と基板の接続端子をワイヤにより接続する工程と、半導体素子上に透光性部材を接着する工程と、半導体素子上に透光性部材を接着した後、半導体素子と透光性部材間に封止部材を形成する工程と、を備え、透光性部材は、電極と機能領域との間に周縁部を有する下部透光部と、半導体素子の外周部の外側に周縁部を有する上部透光部を備え、下部透光部の下面を半導体素子の上面に接着することを特徴とする。
また、本発明の半導体デバイスの製造方法は、接続端子が形成された基板上に、機能領域と機能領域の外周側に配置された電極が上面に形成された半導体素子を搭載する工程と、半導体素子の電極と基板の接続端子をワイヤにより接続する工程と、半導体素子上に透光性部材を接着する工程と、半導体素子上に透光性部材を接着した後、半導体素子と透光性部材間に封止部材を形成する工程と、封止部材および透光性部材を半導体素子の外周で切断する工程と、を備え、透光性部材は、電極と機能領域との間に周縁部を有する下部透光部と、半導体素子の外周部の外側に周縁部を有する上部透光部を備え、下部透光部の下面を半導体素子の上面に接着することを特徴とする。
[半導体デバイスの構造]
以下、この発明の半導体デバイスの一実施の形態を図面と共に説明する。
図1は、この発明の半導体デバイスの一実施の形態の断面図である。
半導体デバイス1は、回路基板(基板)2と、半導体素子3と、透光性部材4と、封止部材5とを備えている。
半導体デバイス1は、その上面形状が矩形形状であり、半導体素子3透光性部材4の上面も同様に矩形形状である。
半導体素子3は上面に、例えば、受光領域などの機能領域31等を有し、回路基板2の上面(一面)21上に不図示のダイボンド材によりダイボンディングされている。半導体素子3の機能領域31の周囲には、複数の電極32が配列されている。
透光性部材4は、光透過可能な面積が小さい下部透光部4aと、下部透光部4aの外周に張り出す周縁領域4bSを有し、下部透光部4aよりも光透過可能な面積の大きい上部透光部4bが一体化された段付き構造を有する。
ワイヤ6は、半導体素子の上面に形成された電極32から、上方に向かって漸次上昇し、最大高さ部6aから回路基板2に形成された接続端子22向かって漸次下降する曲線状に形成されている。従って、ワイヤ6は最大高さ部6aにおいて上部透光部4bの周縁領域4bSの下面4bLに最も接近している。
上部透光部4bは、下部透光部4aと周縁部4bEまでの間の領域である周縁領域4bSが、ワイヤ6における電極32との接続部から最大高さ部6aより少し外側までの領域の上部を覆って配置されている。
また、ワイヤ6における電極32との接続部から最大高さ部6aより少し外側の上部までは、上部透光部4bの周縁領域4bSにより覆われている。このため、外部からの衝撃や振動に対してワイヤ6を保護することができる。
このような、半導体デバイス1の製造方法の一例を以下に示す。
回路基板2上に半導体素子3をダイボンディングする。半導体素子3の電極32と回路基板2の接続端子22を、ワイヤボンディング法を用いてワイヤ6により接続する。ワイヤの一例としては金ワイヤを挙げることができる。
透光性部材4を透明接着剤層7により接着して半導体素子3の機能領域31上に積層する。透明接着剤層7としては、例えば、透明なエポキシ樹脂またはシリコーン樹脂を用いることができる。
そして、回路基板2上に、液状の封止材を、ポッティング法等により塗布する。封止材の塗布は、下部透光部4aの周囲の外周における半導体素子3の上面と、上部透光部4bの周縁領域4bSの下面4bLとの間にも十分充填されるように行う。液状の封止材の充填は、真空雰囲気中で行うようにしてもよい。
封止樹脂を、加熱・硬化することにより、図1に図示されるような封止部材5が形成された半導体デバイス1が形成される。封止樹脂材料として紫外線硬化型を用い、紫外線を照射して硬化するようにしてもよい。
なお、半導体デバイス1を製造する場合、1枚の回路基板から、多数の半導体デバイス1を同時に得るようにすることもできる。その場合には、1枚の回路基板に複数の半導体素子3を配列し、半導体素子3が搭載された各領域に上記工程処理を行い、封止材を硬化する前、または硬化した後、回路基板および封止部材を各領域の境界で切断して、図1に示す回路基板2および封止部材5を有する複数の半導体デバイス1を得るようにすればよい。
本発明に係る半導体デバイスは、以下に示すように、種々の実施形態を採用することが可能である。
図2は、本発明に係る半導体デバイスの実施形態2の断面図である。
実施形態2の半導体デバイス1Aは、透光性部材4Aが、回路基板2および封止部材5の外周と同一の大きさに形成されている構造としている点で、実施形態1と相違している。
すなわち、透光性部材4Aの上部透光部4b1は、その周縁部4b1Eが回路基板2および封止部材5の外周部と同一平面にある。換言すれば、透光性部材4Aの上部透光部4b1の周縁領域4b1Sは回路基板2上に形成された封止部材5の全体を覆っており、封止部材5の上面は、外部に露出していない。
図2におけるその他の構成は、実施形態1と同様であり、対応する部材に同一の符号を付して説明を省略する。
実施形態2においては、下部透光部4a1の外側に張り出す上部透光部4b1の周縁領域4b1Sの長さが大きく形成されている。下部透光部4a1の外側に張り出す上部透光部4b1の周縁領域4b1Sは厚さが薄いため、下部透光部4a1の領域に比して、強度が弱い。このため、衝撃や負荷による透光性部材4の破損や損傷は、下部透光部4a1の外側に張り出す上部透光部4b1の周縁領域4b1Sに生じ易くなる。
このため、実施形態2では、衝撃や負荷により透光性部材4Aに破損や損傷が生じるとしても、その破損や損傷は、半導体素子3の機能領域31に対応する領域では、起こり難くなっている。その結果、半導体デバイスの機能を維持することができるという効果を奏する。
多数の半導体デバイス1Aを形成することができる大きな面積を有する回路基板2’(図示せず)を準備する。
回路基板2’の各半導体デバイス形成領域上に半導体素子3を、それぞれ、ダイボンディングし、次いで、半導体素子3の電極32と回路基板2の接続端子22を、ワイヤボンディングによりワイヤ6で接続する。
透光性部材4’には、各半導体デバイス形成領域に対応して、下部透光部4a1と、上部透光部4b1とが形成されている。
透光性部材4’の各下部透光部4a1を透明接着剤層7により半導体素子3の機能領域31上に接着する。
なお、透光性部材4’の半導体デバイス形成領域の境界部に、封止材を注入するためのスリットを設けてもよい。透光性部材4’を、封止部材5’および回路基板2’と共に各半導体デバイス形成領域の間で切断することにより、スリットに対応する領域の封止部材5が外部に露出するが、このような半導体デバイス1Aは、回路基板2と透光性部材4の上部透光部4b1が平面視でほぼ等しい大きさであるとし、本発明に含まれるものである。
図3は、本発明に係る半導体デバイスの実施形態3の断面図である。
実施形態3の半導体デバイス1Bは、透光性部材4Bの上面に溝部41有している点で、実施形態2と相違している。
すなわち、上部透光部4b1の周縁領域4b1Sの上面における下部透光部4a1の少し外周側に、下部透光部4a1の周縁部4a1Sに沿って、溝部41が形成されている。溝部41は、上部透光部4b1の厚さの中間部に達する深さを有する。
このため、透光性部材4Bが、半導体素子3の機能領域31に対応する領域で破損や損傷を起こす可能性が一層小さくなり、半導体デバイス1Bの機能の維持をさらに増大させることができる。
実施形態1におけるその他の構成は、実施形態2と同様であり、対応する部材に同一の符号を付して説明を省略する。
つまり、半導体素子3の機能領域31上に接着する透光性部材4’を、溝部41が形成されたものとすればよい。なお、半導体素子3上に、溝部41が形成されていない透光性部材4’を接着し、各半導体デバイス1Bに分離する前、または各半導体デバイス1Bに分離した後に、透光性部材4’を切断して溝部41を形成するようにしてもよい。
2 回路基板(基板)
3 半導体素子
4、4A、4B 透光性部材
4a、4a1 下部透光部
4aS、4a1S 周縁部
4b、4b1 上部透光部
4bS、4b1S 周縁領域
4bE、4b1E 外周部
5、5A 封止部材
6 ワイヤ
6a 最大高さ部
7 透明接着剤層
22 接続端子
31 機能領域
32 電極
41 溝部
Claims (9)
- 接続端子を有する基板と、
前記基板の一面上に搭載され、上面に機能領域と、前記機能領域の周囲に形成され、ワイヤにより前記接続端子に接続された電極とを有する半導体素子と、
前記半導体素子の機能領域上に接着された透光性部材と、
前記基板の一面上に形成され、前記半導体素子の周囲、前記ワイヤおよび前記透光性部材の周囲を覆って封止する封止部材と、を備え、
前記透光性部材は、前記電極と前記機能領域との間に周縁部を有する下部透光部と、前記半導体素子の外周部の外側に周縁部を有する上部透光部を備えていることを特徴とする半導体デバイス。 - 請求項1に記載の半導体デバイスにおいて、前記ワイヤは前記半導体素子の前記上面から前記上部透光部の下面側に向かって延出された最大高さ部を有し、前記最大高さ部は、前記上部透光部により上部を覆われていることを特徴とする半導体デバイス。
- 請求項1または2に記載の半導体デバイスにおいて、前記半導体素子は前記基板の一面にボンディングされ、前記透光性部材は、前記下部透光部の下面が前記半導体素子に接着されていることを特徴とする半導体デバイス。
- 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体デバイスにおいて、前記封止部材は、前記上部透光部の前記外周部の外側において外部に露出されていることを特徴とする半導体デバイス。
- 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体デバイスにおいて、前記上部透光部は、平面視で前記基板とほぼ等しい大きさを有することを特徴とする半導体デバイス。
- 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の半導体デバイスにおいて、前記透光性部材は、前記上部透光部における前記下部透光部の周縁部よりも外側の上面に形成された溝部を有することを特徴とする半導体デバイス。
- 接続端子が形成された基板上に、機能領域と前記機能領域の外周側に配置された電極が上面に形成された半導体素子を搭載する工程と、
前記半導体素子の前記電極と前記基板の前記接続端子をワイヤにより接続する工程と、
前記半導体素子上に透光性部材を接着する工程と、
前記半導体素子上に透光性部材を接着した後、前記半導体素子と前記透光性部材間に封止部材を形成する工程と、を備え、
前記透光性部材は、前記電極と前記機能領域との間に周縁部を有する下部透光部と、前記半導体素子の外周部の外側に周縁部を有する上部透光部を備え、前記下部透光部の下面を前記半導体素子の上面に接着することを特徴とする半導体デバイスの製造方法。 - 請求項7に記載の半導体デバイスの製造方法において、前記半導体素子と前記透光性部材間に封止部材を形成する工程は、前記封止部材を、前記上部透光部の前記外周部の外側において外部に露出するように形成することを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
- 接続端子が形成された基板上に、機能領域と前記機能領域の外周側に配置された電極が上面に形成された半導体素子を搭載する工程と、
前記半導体素子の前記電極と前記基板の前記接続端子をワイヤにより接続する工程と、
前記半導体素子上に透光性部材を接着する工程と、
前記半導体素子上に透光性部材を接着した後、前記半導体素子と前記透光性部材間に封止部材を形成する工程と、
前記封止部材および前記透光性部材を前記半導体素子の外周で切断する工程と、を備え、
前記透光性部材は、前記電極と前記機能領域との間に周縁部を有する下部透光部と、前記半導体素子の外周部の外側に周縁部を有する上部透光部を備え、前記下部透光部の下面を前記半導体素子の上面に接着することを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6365783A (ja) * | 1986-09-05 | 1988-03-24 | Olympus Optical Co Ltd | 固体撮像装置 |
JP2010175341A (ja) * | 2009-01-28 | 2010-08-12 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 赤外線センサ素子のパッケージ |
JP2010273087A (ja) * | 2009-05-21 | 2010-12-02 | Panasonic Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2011054925A (ja) * | 2009-01-14 | 2011-03-17 | Panasonic Corp | 光学デバイス、固体撮像装置、及び方法 |
JP2011529205A (ja) * | 2008-07-22 | 2011-12-01 | ナショナル セミコンダクタ コーポレイション | ファイバーカップリングを有するモールドオプチカルパッケージ |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6365783A (ja) * | 1986-09-05 | 1988-03-24 | Olympus Optical Co Ltd | 固体撮像装置 |
JP2011529205A (ja) * | 2008-07-22 | 2011-12-01 | ナショナル セミコンダクタ コーポレイション | ファイバーカップリングを有するモールドオプチカルパッケージ |
JP2011054925A (ja) * | 2009-01-14 | 2011-03-17 | Panasonic Corp | 光学デバイス、固体撮像装置、及び方法 |
JP2010175341A (ja) * | 2009-01-28 | 2010-08-12 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 赤外線センサ素子のパッケージ |
JP2010273087A (ja) * | 2009-05-21 | 2010-12-02 | Panasonic Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
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