JP2014065924A - ポリアミン系スケール防止剤組成物および工程流れの中のスケールを処理する方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 ポリアミンと窒素反応性化合物との重合反応生成物、例えば、ポリエチレンイミン、グリシドキシプロピルトリメトキシシランおよびクロロオクタンの重合反応生成物、を含有して成る組成物が提供される。
【選択図】 なし
Description
TおよびEは、各々独立して、炭素を約2から約40個含有する1番目の場合により置換されていてもよいヒドロカルビル基であり、
Qは、H、または炭素を約1から約20個含有する2番目の場合により置換されていてもよいヒドロカルビル基であり、
A1およびA2は、各々独立して、直接結合または炭素を約1から約20個含有する有機連結基であり、
R”=H、場合により置換されていてもよいC1−C20アルキル、場合により置換されていてもよいC6−C12アリール、場合により置換されていてもよいC7−C20アラルキル、場合により置換されていてもよいC2−C20アルケニル、I族金属のイオン、II族金属のイオンまたはNR1 4であり、かつ各R1は独立してH、場合により置換されていてもよいC1−C20アルキル、場合により置換されていてもよいC6−C12ア
リール、場合により置換されていてもよいC7−C20アラルキルおよび場合により置換されていてもよいC2−C20アルケニルから選択される]
を含有して成る重量平均分子量が少なくとも約500の重合体を提供するが、但し
A2−QがHの時にはTおよびEの中の少なくとも一方が炭素原子を4個以上含有することを1番目の条件とし、
A2−QがHでない時にはTおよびEの中の少なくとも一方が炭素原子を2個以上含有することを2番目の条件とし、
QがSi(OR”)3基を含有しないことを3番目の条件とし、
A2が非置換−C(=O)−アルキルではないことを4番目の条件とし、かつ
QがOHまたはNH2の時にはA1とA2の両方ともがアルキレンであることはないことを5番目の条件とする。
前記重合反応生成物は少なくとも約500の重量平均分子量を有し、
前記1番目の窒素反応性化合物は−Si(OR”)3基および窒素反応性基を含有して成りかつR”=H、場合により置換されていてもよいC1−C20アルキル、場合により置換されていてもよいC6−C12アリール、場合により置換されていてもよいC7−C20アラルキル、場合により置換されていてもよいC2−C20アルケニル、I族金属のイオン、II族金属のイオンまたはNR1 4でありかつ各R1は独立してH、場合により置換されていてもよいC1−C20アルキル、場合により置換されていてもよいC6−C12アリール、場合により置換されていてもよいC7−C20アラルキルおよび場合により置換されていてもよいC2−C20アルケニルから選択され、
前記2番目の窒素反応性化合物は窒素反応性基を含有しかつSi(OR”)3基を含有せず、そして
前記ポリアミンおよび前記2番目の窒素反応性化合物の中の少なくとも一方は炭素数が約2から約40の場合により置換されていてもよいヒドロカルビル基を含有する。
前記工程流れは少なくとも約1g/Lの硫酸塩濃度、少なくとも約20mg/Lの微分散酸化鉄濃度、少なくとも約20mg/Lの微分散方ソーダ石濃度および少なくとも約0.5モル濃度の組み合わせ硝酸塩/亜硝酸塩濃度から選択される少なくとも1つを含んで成り、かつ
前記重合体は式(I)で表される繰り返し単位と式(II)で表される繰り返し単位:
TおよびEは、各々独立して、炭素を約2から約40個含有する1番目の場合により置換されていてもよいヒドロカルビル基であり、
Qは、H、または炭素を約1から約20個含有する2番目の場合により置換されていてもよいヒドロカルビル基であり、
A1およびA2は、各々独立して、直接結合または炭素を約1から約20個含有する有機連結基であり、そして
R”=H、場合により置換されていてもよいC1−C20アルキル、場合により置換されていてもよいC6−C12アリール、場合により置換されていてもよいC7−C20アラルキル、場合により置換されていてもよいC2−C20アルケニル、I族金属のイオン、II族金属のイオンまたはNR1 4であり、かつ各R1は独立してH、場合により置換されていてもよいC1−C20アルキル、場合により置換されていてもよいC6−C12アリール、場合により置換されていてもよいC7−C20アラルキルおよび場合により置換されていてもよいC2−C20アルケニルから選択される]
を含有して成る。
スケールを処理する方法を記述する文脈における「処理」および「処理する」の如き用語は、当業者が理解する如き通常の意味で本明細書で用いる幅広い用語であり、従って、それには、結果としてスケール生成の抑制および/または予防をもたらすばかりでなく現存するスケールの減少、除去および/または排除をもたらす方法が含まれる。
また、他の脂肪もしくは環式炭化水素基で置換されているアルキル、アルケニル、アルキニルおよびアリール部分、例えばアルカリール、アルケンアリールおよびアルキンアリールなども含まれる。特に明記しない限り、そのような部分の炭素原子数は好適には1から40である。ヒドロカルビル基は、元素である炭素と水素で排他的に構成されてはいない様々な基で置換されていてもよく、このように、置換されているヒドロカルビル基はヘテロ原子、例えば酸素および/または窒素などを1個以上含有していてもよい。
1つの態様では、式(I)で表される繰り返し単位と式(II)で表される繰り返し単位:
TおよびEは、各々独立して、炭素を約2から約40個含有する1番目の場合により置換されていてもよいヒドロカルビル基であり、
Qは、H、または炭素を約1から約20個含有する2番目の場合により置換されていてもよいヒドロカルビル基であり、
A1およびA2は、各々独立して、直接結合または炭素を約1から約20個含有する有機連結基であり、そして
R”=H、場合により置換されていてもよいC1−C20アルキル、場合により置換されていてもよいC6−C12アリール、場合により置換されていてもよいC7−C20アラルキル、場合により置換されていてもよいC2−C20アルケニル、I族金属のイオン、II族金属のイオンまたはNR1 4であり、かつ各R1は独立してH、場合により置換されていてもよいC1−C20アルキル、場合により置換されていてもよいC6−C12アリール、場合により置換されていてもよいC7−C20アラルキルおよび場合により置換されていてもよいC2−C20アルケニルから選択される]
を含有して成る重合体を提供する。
A3=直接結合、NR’またはOでありかつR’がHまたはC1−3アルキルであり、
A4=直接結合、C=O、場合により置換されていてもよいC1−C10アルキレンまたは場合により置換されていてもよいC6−C12アリールであり、
A5=直接結合、O、NR”’、アミド、ウレタンまたは尿素でありかつR”’がHまたはC1−3アルキルであり、そして
A6=直接結合、O、場合により置換されていてもよいC1−C20アルキル、場合により置換されていてもよいC2−C20アルケニルまたは場合により置換されていてもよいC7−C20アラルキルである、
有機連結基が含まれる。
、MはH、金属カチオン、例えばNaなど、アンモニウムカチオン、例えばテトラアルキルアンモニウムまたはNH4など、または有機基、例えば場合により置換されていてもよいC1−C20アルキル、場合により置換されていてもよいC6−C12アリール、場合により置換されていてもよいC7−C20アラルキルまたは場合により置換されていてもよいC2−C20アルケニルなどである。好適な態様では、前記有機連結基A1およびA2の中の少なくとも一方が−CH2−CH(OH)−CH2−O−である。
前記重合反応生成物は少なくとも約500の重量平均分子量を有し、
前記1番目の窒素反応性化合物は−Si(OR”)3基および窒素反応性基を含有して成りかつR”=H、場合により置換されていてもよいC1−C20アルキル、場合により置換されていてもよいC6−C12アリール、場合により置換されていてもよいC7−C20アラルキル、場合により置換されていてもよいC2−C20アルケニル、I族金属のイオン、II族金属のイオンまたはNR1 4でありかつ各R1は独立してH、場合により置換されていてもよいC1−C20アルキル、場合により置換されていてもよいC6−C12アリール、場合により置換されていてもよいC7−C20アラルキルおよび場合により置換されていてもよいC2−C20アルケニルから選択され、
前記2番目の窒素反応性化合物は窒素反応性基を含有しかつSi(OR”)3基を含有せず、そして
前記ポリアミンおよび前記2番目の窒素反応性化合物の中の少なくとも一方は炭素数が約2から約40の場合により置換されていてもよいヒドロカルビル基を含有する。
キル、場合により置換されていてもよいC3−C20アルケニル基または場合により置換されていてもよいC3−C20アリールである。そのようなポリアミンは、好適にはC6−C20脂肪族ジアミンである。適切なポリアミンの例には、ポリエチレンイミン、トリエチレンテトラアミン、1,2−ジアミノエタン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタン、1,5−ジアミノペンタン、1,5−ジアミノヘキサン、1,8−ジアミノオクタン、ジアミノイソホロン、アミノアニリンおよびアミノメチルベンジルアミンが含まれる。
本明細書に記述する重合体および組成物(例えば、本明細書に記述する態様の全部を包含するPRP1および重合体P1)は、いろいろな産業工程流れ、例えばバイエルの工程流れ、ボイラー水、核廃棄工程流れ、製紙工程流れなどに入っているスケール(例えばアルミノケイ酸塩スケール)の処理で用いるに有用である。スケール処理方法は、当該工程流れに本重合体をスケールを減少させるか或は除去するに有効な量で混合することで実施可能である。好適な態様では、そのような方法を用いると予想外にスケール減少が有意に向上する。1つの態様では、産業工程におけるスケールを減少させるか或は除去する方法を提供し、この方法は、前記工程に本明細書に記述する如き重合体および/または組成物を好適にはスケールを減少させるか或は除去するに有効な量で添加することを含んで成る。そのような工程流れに入っているスケール(例えばアルミノケイ酸塩スケール)を減少させるか或は除去するに有効な本重合体および/または組成物の量は典型的に当該工程流れを基準にした重量で表して約1ppmから約500ppmの範囲内であるが、ある場合には、量を少なくするか或は多くする方が有効であり得る。当業者は、本明細書に示す指針を情報として用いて常規実験を行うことで個々の工程流れに有効な重合体および/または組成物量を識別することができるであろう。
処理が困難な液体を調製しそしてそれを用いて以下の実施例に記述する重合体に試験を受けさせた。アルミン酸ナトリウム、過剰量の水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウムおよび硫酸ナトリウムが入っているアルミン酸ナトリウム溶液(108ml)にケイ酸ナトリウム溶液を12ml(SiO2が28.9%のケイ酸ナトリウム溶液を27.7g/L)添加することで、処理が困難な液体を生じさせる。その溶液は混合後にSiO2を0.8g/L、Al2O3を45g/L、NaOHを150g/L、Na2CO3を60g/LおよびNa2SO4を20g/L含有する。この溶液を一定分量に分けて125mlのポリエチレン製ボトルに入れる。また、以下の実施例に記述する重合体も前記ボトルに加え(この重合体を一般に有効成分含有量が0.1−10%の溶液の形態で添加する)、また、当該重合体が入っていないブランク(対照)サンプルの調製も行う。前記ボトルを密封して撹拌しながら100℃に18±2時間加熱する。この18時間が終了した時点で前記ボトルを開けた後、その溶液を濾過する。その系に重合体を全く添加しない(ブランク試験)とアルミノケイ酸塩がかなりの量で生じ、それを濾紙で回収する。そのブランク試験の時に沈澱したアルミノケイ酸塩の総量は典型的に約200mgである。その沈澱したアルミノケイ酸塩の量が以下の実施例における抗スケール活性の尺度であり、それを、同じ組の試験の一部である相当するブランク実験の時に生じたアルミノケイ酸塩に対するパーセントとして表す。比較重合体を用いた時に得た結果を以下の表の中に「*」を付けて示す。
この手順では、前記試験液体に「赤泥」固体を150mg/L添加する以外は試験手順Aの様式と同じ様式で手順を実施する。そのような赤泥固体は、バイエルのアルミナプラントから得た実際の赤泥廃棄物を洗浄、乾燥および粉砕することで得た固体である。
この手順では、前記試験液体に方ソーダ石固体を50mg/L添加しかつ試験時間を18時間ではなく4時間のみにする以外は試験手順Aの様式と同じ様式で手順を実施する。そのような方ソーダ石固体は、カオリンを水酸化ナトリウムと反応させることで生じさせ
た固体である。
高い方の生成物K−Rを用いると沈澱する方ソーダ石の量の減少度合が有意により良好になることが分かる。
脱イオン水が50mlで50%の水酸化ナトリウムが2.0gの混合物に20.0gのトリエチレンテトラアミン(TETA)を溶解させる。撹拌を行いながら7.8gのグリシジルオキシプロピルトリメトキシシランを滴下した後、その結果として得た混合物を1時間撹拌する。次に、10.1gのエピクロロヒドリン(Epi)を滴下する。氷浴で冷却することで温度を30℃未満に維持する。発熱が完了した後、冷却を行って温度を30℃未満に維持しながら50%の水酸化ナトリウムを14.6g滴下することで重合反応生成物を生じさせる(実施例7)。
試験手順Aに従う実施例7−15の重合体生成物を比較する試験を行った結果(表8)、疎水性が比較的高い方の実施例7−15を用いると一般に沈澱する方ソーダ石の量の減少度合が有意により良好になることが分かる。この試験用のブランクには重合体を含有させない。
処理が困難な合成液体(高レベルの核廃棄流れの代表例)の調製を表9に示す組成をもたらす適切な塩を水に溶解させることで実施する。
ソーダ石の量を減少させるに有用であることを例証している。表10では、スケール%をスケール防止剤を用いていないブランクに対するパーセントとして報告する。
重合体#1の製造をグリシジル4−ノニルフェニルエーテルを2倍多く(PEI単位の重量を基準にして2モル%)用いる以外は実施例2に示した生成物Cと同じ様式で実施する。
以下の表12および13に示す生成物の製造をノニルフェニル基をオクチル/デシル(PEIに対して10モル%)または2−エチルヘキシル(PEIに対して5モル%)に置き換えかつPEIに対するグリシドキシプロピルトリメトキシシランのモル%を示すように変える以外は実施例3に示した生成物Fと同じPEIおよび同じ様式で実施する。試験手順A、BおよびCに従う前記重合体に対して実施した試験の結果から、疎水性が比較的高い方の重合体を用いると一般に対照重合体に比べて前記3種類の処理が困難な液体の全部に関するスケール減少度合が有意により良好になることが分かる。
重合体生成物の製造および試験を水酸化カリウムを水酸化ナトリウムの代わりに用いて加水分解を起こさせて重合体のカリウム塩を生じさせる以外は前記実施例1−52に記述したようにして実施する。達成した結果は同様である。
重合体生成物の製造および試験を水酸化アンモニウムを水酸化ナトリウムの代わりに用いて加水分解を起こさせて重合体のアンモニウム塩を生じさせる以外は前記実施例1−52に記述したようにして実施する。達成した結果は同様である。
Claims (18)
- ポリアミン、1番目の窒素反応性化合物および2番目の窒素反応性化合物の重合反応生成物を含有して成る組成物であって、
前記1番目の窒素反応性化合物が−Si(OR”)3基および窒素反応性基を含有して成りかつR”=H、場合により置換されていてもよいC1−C20アルキル、場合により置換されていてもよいC6−C12アリール、場合により置換されていてもよいC7−C20アラルキル、場合により置換されていてもよいC2−C20アルケニル、I族金属のイオン、II族金属のイオンまたはNR1 4でありかつ各R1が独立してH、場合により置換されていてもよいC1−C20アルキル、場合により置換されていてもよいC6−C12アリール、場合により置換されていてもよいC7−C20アラルキルおよび場合により置換されていてもよいC2−C20アルケニルから選択され、
前記2番目の窒素反応性化合物が窒素反応性基を含有しかつ−Si(OR”)3基を含有せず、そして
前記ポリアミンおよび前記2番目の窒素反応性化合物の中の少なくとも一方が炭素数が約2から約40の場合により置換されていてもよいヒドロカルビル基を含有する、
ただし、
ポリアミンがジエチレントリアミンで1番目の窒素反応性化合物がグリシドキシプロピルトリメトキシシランである場合には2番目の窒素反応性化合物はエピクロロヒドリンではなく、また、
ポリアミンがテトラエチレンペンタミンで1番目の窒素反応性化合物がグリシドキシプロピルトリメトキシシランである場合には2番目の窒素反応性化合物はオクタン酸またはこはく酸ジエチルではない、
ことを特徴とする組成物。 - 前記重合反応生成物が少なくとも約500の重量平均分子量を有する請求項1記載の組成物。
- 前記ポリアミンが(NR4 2)−J−(NR4 2)部分を含有し、
Jが炭素を2から40個含有する場合により置換されていてもよいヒドロカルビルフラグメントであり、そして
各R4が独立してH、場合により置換されていてもよいC1−8アルキルまたは場合により置換されていてもよいC6−10アリールである、
請求項1または2記載の組成物。 - 前記2番目の窒素反応性化合物が窒素反応性部分を少なくとも2個含有して成る請求項1、2または3記載の組成物。
- 前記ポリアミンが式−(CH2)r−NR2)−で表される単位を含有して成りかつrが1から20の範囲内の整数でありそしてR2がH、場合により置換されていてもよいC1−C20アルキル、場合により置換されていてもよいC6−C12アリール、場合により置換されていてもよいC7−C20アラルキルまたは場合により置換されていてもよいC2−C20アルケニルである請求項1または2記載の組成物。
- 前記重合反応生成物が式(I)で表される単位と式(II)で表される単位:
TおよびEは、各々独立して、炭素を約2から約40個含有する1番目の場合により置換されていてもよいヒドロカルビル基であり、
Qは炭素を1から40個含有する2番目の場合により置換されていてもよいヒドロカルビル基であり、
A1およびA2は、各々独立して、直接結合または炭素を1から20個含有する有機連結基であり、
R”はH、場合により置換されていてもよいC1−C20アルキル、場合により置換されていてもよいC6−C12アリール、場合により置換されていてもよいC7−C20アラルキル、場合により置換されていてもよいC2−C20アルケニル、I族金属のイオン、II族金属のイオンまたはNR1 4であり、かつ各R1は独立してH、場合により置換されていてもよいC1−C20アルキル、場合により置換されていてもよいC6−C12アリール、場合により置換されていてもよいC7−C20アラルキルおよび場合により置換されていてもよいC2−C20アルケニルから選択される]
を含有して成る請求項5記載の組成物。 - 1番目の窒素反応性化合物がグリシドキシプロピルトリメトキシシランである請求項1〜6のいずれか1項記載の組成物。
- 2番目の窒素反応性化合物がC1−C20アルキルハライド、アルケニルハライド、アラルキルハライド、アルキルサルフェート、グリシジルアルコール、グリシジルフェノール、グリシジルアミンおよび無水基含有化合物から選択される請求項1〜6のいずれか1項記載の組成物。
- 2番目の窒素反応性化合物がジメチルサルフェート、クロロオクタン、クロロヘキサン、ベンジルクロライド、エピクロロヒドリン、グリシジル4−ノニルフェニルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、C12−C14アルキルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、オクテニルこはく酸無水物およびオクタデセニルこはく酸無水物から選択される請求項8記載の組成物。
- 2番目の窒素反応性化合物が2−エチルヘキシルグリシジルエーテルである請求項9記載の組成物。
- 2番目の窒素反応性化合物がエチレンオキシド、ジグリシジルエーテルまたはポリイソシアネートではない請求項1〜6のいずれか1項記載の組成物。
- 産業工程におけるスケールを減少させるか或は除去する方法であって、前記産業工程に請求項1から6のいずれか1項記載の組成物を添加することを含んで成る方法。
- 工程流れの中のスケールを処理する方法であって、ポリアミン、1番目の窒素反応性化
合物および2番目の窒素反応性化合物の重合反応生成物を工程流れと混合することからなり、ただし、前記組成物は前記工程流れの中にスケールを減少または除去するのに有効な量で存在し、前記1番目の窒素反応性化合物は−Si(OR”)3基および窒素反応性基を含み、ここでRはH、場合により置換されていてもよいC1−C20アルキル、場合により置換されていてもよいC6−C12アリール、場合により置換されていてもよいC7−C20アラルキル、場合により置換されていてもよいC2−C20アルケニル、I族金属のイオン、II族金属のイオンまたはNR1 4であり、かつ各R1が独立してH、場合により置換されていてもよいC1−C20アルキル、場合により置換されていてもよいC6−C12アリール、場合により置換されていてもよいC7−C20アラルキルおよび場合により置換されていてもよいC2−C20アルケニルから選択され、前記2番目の窒素反応性化合物は窒素反応性基を含有しかつ−Si(OR”)3基を含有せず、そして、前記ポリアミンおよび前記2番目の窒素反応性化合物の少なくとも一方は炭素数が2から40の場合により置換されていてもよいヒドロカルビル基を含有しており、前記工程流れは少なくとも約1g/Lの硫酸塩濃度、少なくとも約20mg/Lの酸化鉄濃度、少なくとも約20mg/Lのソーダ石濃度および少なくとも約0.5モル濃度の組み合わせ硝酸塩/亜硝酸塩濃度の少なくとも1つを含んでなる、ことを特徴とする方法。 - 前記重合反応生成物が式(I)で表される単位と式(II)で表される単位:
TおよびEは、各々独立して、炭素を約2から約40個含有する1番目の場合により置換されていてもよいヒドロカルビル基であり、
Qは、H、または炭素を1から40個含有する2番目の場合により置換されていてもよいヒドロカルビル基であり、
A1およびA2は、各々独立して、直接結合または炭素を約1から約20個含有する有機連結基であり、そして
R”はH、場合により置換されていてもよいC1−C20アルキル、場合により置換されていてもよいC6−C12アリール、場合により置換されていてもよいC7−C20アラルキル、場合により置換されていてもよいC2−C20アルケニル、I族金属のイオン、II族金属のイオンまたはNR1 4であり、かつ各R1は独立してH、場合により置換されていてもよいC1−C20アルキル、場合により置換されていてもよいC6−C12アリール、場合により置換されていてもよいC7−C20アラルキルおよび場合により置換されていてもよいC2−C20アルケニルから選択される]
を含有して成る、
請求項13記載の方法。 - 式(II)に関連して、Qが−Si(OR”)3基を含有しないという1番目の条件およびA2が非置換−C(=O)−アルキルではないという2番目の条件の少なくとも1つを適用する請求項14記載の方法。
- 工程流れがバイエル工程流れである請求項13から15のいずれか1項記載の方法。
- 工程流れ中のアルミノケイ酸塩スケールを減少させるか或は除去するに有効な重合体量が工程流れを基準にした重量で表して約1ppmから約500ppmの範囲内である請求項13から16のいずれか1項記載の方法。
- R”がI族金属のイオン、II族金属のイオンまたはNR1 4である請求項13から17のいずれか1項記載の方法。
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BR112014016795B1 (pt) * | 2012-02-23 | 2020-11-17 | Nalco Company | método para redução de incrustação contendo aliminosilicato em um processo bayer |
WO2015100196A1 (en) | 2013-12-24 | 2015-07-02 | Cytec Industries Inc. | Method of reducing scale in the bayer process |
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CA2967922C (en) * | 2014-10-21 | 2022-08-30 | Cytec Industries Inc. | Degradation-resistant scale inhibitors |
HUE044559T2 (hu) | 2014-12-17 | 2019-11-28 | Cytec Ind Inc | Lerakódást gátló készítmények és alkalmazási eljárásaik |
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BR112023019597A2 (pt) * | 2022-02-07 | 2023-11-14 | Its Water Group Sa | Composição para redução da quantidade de depósitos de hidroaluminossilicato de sódio nas superfícies de equipamentos e método para obtenção de uma composição |
CN114806022B (zh) * | 2022-06-08 | 2023-06-23 | 中国科学院青岛生物能源与过程研究所 | 一种带正电的生物填料及其制备方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006514877A (ja) * | 2002-07-22 | 2006-05-18 | サイテク・テクノロジー・コーポレーシヨン | バイヤー法におけるアルミノ珪酸塩スケールの防止または減少方法 |
JP2008529774A (ja) * | 2005-02-09 | 2008-08-07 | サイテク・テクノロジー・コーポレーシヨン | 工業的な過程においてアルミノ珪酸塩のスケールを防止または減少させる方法 |
JP2010506973A (ja) * | 2006-10-13 | 2010-03-04 | サイテク・テクノロジー・コーポレーシヨン | 疎水修飾ポリアミン系スケール防止剤 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3251852A (en) * | 1959-06-15 | 1966-05-17 | Petrolite Corp | Amino polymers |
US3560543A (en) | 1968-02-19 | 1971-02-02 | Dow Corning | Polyimino organosilicon compounds |
US5354829A (en) | 1992-06-30 | 1994-10-11 | Ppg Industries, Inc. | Silylated polyamine polymers and a method of treating fibers |
US5415782A (en) * | 1993-11-22 | 1995-05-16 | Nalco Chemical Company | Method for the alteration of siliceous materials from bayer process liquors |
AU5761496A (en) * | 1995-04-26 | 1996-11-18 | Albright & Wilson Uk Limited | Stain corrosion and scale inhibitors |
JPH09169817A (ja) | 1995-12-19 | 1997-06-30 | Sumitomo Chem Co Ltd | ケイ素含有水溶性高分子化合物、その製法および用途 |
US6262216B1 (en) | 1998-10-13 | 2001-07-17 | Affymetrix, Inc. | Functionalized silicon compounds and methods for their synthesis and use |
US7390415B2 (en) | 2002-07-22 | 2008-06-24 | Cytec Technology Corp. | Method and compositions for preventing or reducing aluminosilicate scale in alkaline industrial processes |
US20060124553A1 (en) | 2002-07-22 | 2006-06-15 | Taylor Matthew L | Method of preventing or reducing aluminosilicate scale in high level nuclear wastes |
CN1239506C (zh) * | 2003-02-28 | 2006-02-01 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种含醚有机硅酸盐、其制备方法及应用 |
US7622220B2 (en) | 2005-01-18 | 2009-11-24 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Polymer electrolyte and fuel cell using the same |
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Patent Citations (4)
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---|---|---|---|---|
JP2006514877A (ja) * | 2002-07-22 | 2006-05-18 | サイテク・テクノロジー・コーポレーシヨン | バイヤー法におけるアルミノ珪酸塩スケールの防止または減少方法 |
JP2008529774A (ja) * | 2005-02-09 | 2008-08-07 | サイテク・テクノロジー・コーポレーシヨン | 工業的な過程においてアルミノ珪酸塩のスケールを防止または減少させる方法 |
JP2010506973A (ja) * | 2006-10-13 | 2010-03-04 | サイテク・テクノロジー・コーポレーシヨン | 疎水修飾ポリアミン系スケール防止剤 |
JP5543208B2 (ja) * | 2006-10-13 | 2014-07-09 | サイテク・テクノロジー・コーポレーシヨン | 疎水修飾ポリアミン系スケール防止剤 |
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