JP2014064966A - Film manufacturing method, and film manufacturing apparatus - Google Patents

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耕司 池上
Yukitaka Shigetomo
雪隆 繁友
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method capable of manufacturing a thickness irregularity suppressed film by a spray coating method.SOLUTION: At a coating step and in a region not having a film deposition member 10, a nozzle 11 is scanned such that at least one of a scanning rate in a second direction of the nozzle 11 before the scanning direction of the nozzle 11 is reversed and a scanning rate in the second direction of the nozzle 11 after the scanning direction of the nozzle 11 has been reversed is lower than the scanning rate in the second direction of the nozzle 11 in the region having the film deposition member 10.

Description

本発明は、膜の製造方法及び膜の製造装置に関する。   The present invention relates to a film manufacturing method and a film manufacturing apparatus.

従来、膜の製造方法の一種として、スプレーコート法が知られている。スプレーコート法では、例えば特許文献1に記載のように、一の方向に沿って移動する被成膜部材に対して、ノズルを他の方向に沿って往復走査させながら、ノズルから被成膜部材に対して塗布液を供給することにより、被成膜部材の上に塗膜を形成する。その後、塗膜を乾燥させることによって膜を得ることができる。   Conventionally, a spray coating method is known as a kind of film manufacturing method. In the spray coating method, for example, as described in Patent Document 1, a film-forming member is moved from a nozzle to a film-forming member that moves along one direction while reciprocating the nozzle along another direction. By supplying the coating liquid to the film, a coating film is formed on the film forming member. Thereafter, the film can be obtained by drying the coating film.

特開2012−71266号公報JP 2012-71266 A

本発明者らが鋭意研究した結果、スプレーコート法により膜を形成した場合、ノズルの走査方向の両端部における膜の厚みが、走査方向の中央部における膜の厚みよりも小さくなることが見出された。   As a result of intensive studies by the present inventors, it has been found that when a film is formed by the spray coating method, the film thickness at both ends in the scanning direction of the nozzle is smaller than the film thickness at the center in the scanning direction. It was done.

本発明の主な目的は、厚みむらの抑制された膜をスプレーコート法により製造し得る方法を提供することにある。   A main object of the present invention is to provide a method capable of producing a film with reduced thickness unevenness by a spray coating method.

本発明に係る第1の膜の製造方法は、移動工程と、塗布工程とを備える。移動工程では、ノズルに対して被成膜部材を第1の方向に沿って相対的に移動させる。塗布工程では、第1の方向に対して傾斜した第2の方向に沿って被成膜部材を横切るようにノズルを往復走査させることにより、ノズルから塗布液を被成膜部材の上に供給する。移動工程と塗布工程とを、交互又は同時に行うことによって、被成膜部材上に膜を製造する。塗布工程において、被成膜部材が設けられていない領域において、ノズルの走査方向が反転する前のノズルの第2の方向に沿った走査速度及びノズルの走査方向が反転した後のノズルの第2の方向に沿った走査速度のうちの少なくとも一方が、被成膜部材が設けられた領域におけるノズルの第2の方向に沿った走査速度よりも低くなるようにノズルを走査する。   The manufacturing method of the 1st film | membrane which concerns on this invention is equipped with a movement process and an application | coating process. In the moving step, the film forming member is moved relative to the nozzle along the first direction. In the coating process, the nozzle is reciprocally scanned across the film forming member along the second direction inclined with respect to the first direction, thereby supplying the coating liquid from the nozzle onto the film forming member. . A film is manufactured on the deposition target member by alternately or simultaneously performing the moving process and the coating process. In the coating step, in the region where the film forming member is not provided, the scanning speed along the second direction of the nozzle before the nozzle scanning direction is reversed and the second nozzle after the nozzle scanning direction is reversed. The nozzles are scanned so that at least one of the scanning speeds along the direction of the nozzle is lower than the scanning speed along the second direction of the nozzles in the region where the film forming member is provided.

本発明に係る第1の膜の製造方法では、塗布工程において、被成膜部材が設けられていない領域において、ノズルの走査方向が反転する前のノズルの第2の方向に沿った走査速度が、被成膜部材が設けられた領域におけるノズルの第2の方向に沿った走査速度よりも低くなるようにノズルを走査することが好ましい。   In the first film manufacturing method according to the present invention, in the coating step, in the region where the film forming member is not provided, the scanning speed along the second direction of the nozzle before the scanning direction of the nozzle is reversed. The nozzle is preferably scanned so as to be lower than the scanning speed along the second direction of the nozzle in the region where the film forming member is provided.

本発明に係る第1の膜の製造方法では、塗布工程において、ノズルの走査方向が反転する際にノズルを一旦停止させることが好ましい。   In the first film manufacturing method according to the present invention, it is preferable to temporarily stop the nozzle when the scanning direction of the nozzle is reversed in the coating step.

本発明に係る第2の膜の製造方法は、移動工程と、塗布工程とを備える。移動工程では、ノズルに対して被成膜部材を第1の方向に沿って相対的に移動させる。塗布工程では、第1の方向に対して傾斜した第2の方向に沿って被成膜部材を横切るようにノズルを往復走査させることにより、ノズルから塗布液を被成膜部材の上に供給する。移動工程と塗布工程とを、交互又は同時に行うことによって、被成膜部材上に膜を製造する。塗布工程において、ノズルの走査方向が反転する際にノズルを一旦停止させる。   The manufacturing method of the 2nd film | membrane which concerns on this invention is equipped with a movement process and an application | coating process. In the moving step, the film forming member is moved relative to the nozzle along the first direction. In the coating process, the nozzle is reciprocally scanned across the film forming member along the second direction inclined with respect to the first direction, thereby supplying the coating liquid from the nozzle onto the film forming member. . A film is manufactured on the deposition target member by alternately or simultaneously performing the moving process and the coating process. In the coating process, the nozzle is temporarily stopped when the scanning direction of the nozzle is reversed.

本発明に係る第1及び第2の膜の製造方法のそれぞれでは、ノズルは、塗布液を霧化し、霧化した塗布液を被成膜部材の上に供給するものであってもよい。   In each of the first and second film manufacturing methods according to the present invention, the nozzle may atomize the coating liquid and supply the atomized coating liquid onto the film forming member.

本発明に係る第1の膜の製造装置は、ノズルと、移動機構と、走査機構と、制御部とを備える。ノズルは、塗布液を被成膜部材上に供給する。移動機構は、ノズルに対して被成膜部材を第1の方向に沿って相対的に移動させる。走査機構とは、第1の方向に対して傾斜した第2の方向に沿って被成膜部材を横切るようにノズルを往復走査させる。制御部は、走査機構を制御する。制御部は、被成膜部材が設けられていない領域において、ノズルの走査方向が反転する前のノズルの第2の方向に沿った走査速度及びノズルの走査方向が反転した後のノズルの第2の方向に沿った走査速度のうちの少なくとも一方が、被成膜部材が設けられた領域におけるノズルの第2の方向に沿った走査速度よりも低くなるように走査機構にノズルを走査させる。   The first film manufacturing apparatus according to the present invention includes a nozzle, a moving mechanism, a scanning mechanism, and a control unit. The nozzle supplies the coating liquid onto the film forming member. The moving mechanism moves the film forming member relative to the nozzle along the first direction. The scanning mechanism reciprocally scans the nozzle so as to cross the film forming member along a second direction inclined with respect to the first direction. The control unit controls the scanning mechanism. In the region where the deposition target member is not provided, the control unit performs the scanning speed along the second direction of the nozzle before the nozzle scanning direction is reversed and the second nozzle after the nozzle scanning direction is reversed. The scanning mechanism is caused to scan the nozzle so that at least one of the scanning speeds along the direction is lower than the scanning speed along the second direction of the nozzles in the region where the film forming member is provided.

本発明に係る第1の膜の製造装置では、制御部は、ノズルの走査方向が反転する際にノズルを一旦停止させるものであってもよい。   In the first film manufacturing apparatus according to the present invention, the control unit may temporarily stop the nozzle when the scanning direction of the nozzle is reversed.

本発明に係る第2の膜の製造装置は、ノズルと、移動機構と、走査機構と、制御部とを備える。ノズルは、塗布液を被成膜部材上に供給する。移動機構は、ノズルに対して被成膜部材を第1の方向に沿って相対的に移動させる。走査機構とは、第1の方向に対して傾斜した第2の方向に沿って被成膜部材を横切るようにノズルを往復走査させる。制御部は、走査機構を制御する。制御部は、走査機構に、ノズルの走査方向が反転する際にノズルを一旦停止させる。   The second film manufacturing apparatus according to the present invention includes a nozzle, a moving mechanism, a scanning mechanism, and a control unit. The nozzle supplies the coating liquid onto the film forming member. The moving mechanism moves the film forming member relative to the nozzle along the first direction. The scanning mechanism reciprocally scans the nozzle so as to cross the film forming member along a second direction inclined with respect to the first direction. The control unit controls the scanning mechanism. The control unit causes the scanning mechanism to temporarily stop the nozzle when the nozzle scanning direction is reversed.

本発明に係る第1及び第2の膜の製造装置では、それぞれ、ノズルは、塗布液を霧化し、霧化した塗布液を被成膜部材の上に供給するものであってもよい。   In the first and second film manufacturing apparatuses according to the present invention, the nozzles may each atomize the coating liquid and supply the atomized coating liquid onto the film forming member.

本発明によれば、厚みむらの抑制された膜をスプレーコート法により製造し得る方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the method which can manufacture the film | membrane with which thickness nonuniformity was suppressed by the spray coat method can be provided.

本発明の一実施形態に係る膜の製造装置の模式的側面図である。It is a typical side view of the manufacturing apparatus of the film | membrane which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る膜の製造装置の模式的平面図である。It is a typical top view of the manufacturing apparatus of the film concerning one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係る膜の製造装置の模式的ブロック図である。It is a typical block diagram of the manufacturing apparatus of the film | membrane which concerns on one Embodiment of this invention. y軸方向におけるノズルの位置の経時変化を表すグラフの一例である。It is an example of the graph showing the time-dependent change of the position of the nozzle in a y-axis direction. y軸方向におけるノズルの位置の経時変化を表すグラフの一例である。It is an example of the graph showing the time-dependent change of the position of the nozzle in a y-axis direction. y軸方向におけるノズルの位置の経時変化を表すグラフの一例である。It is an example of the graph showing the time-dependent change of the position of the nozzle in a y-axis direction. y軸方向におけるノズルの位置の経時変化を表すグラフの一例である。It is an example of the graph showing the time-dependent change of the position of the nozzle in a y-axis direction. y軸方向におけるノズルの位置の経時変化を表すグラフの一例である。It is an example of the graph showing the time-dependent change of the position of the nozzle in a y-axis direction. y軸方向におけるノズルの位置の経時変化を表すグラフの一例である。It is an example of the graph showing the time-dependent change of the position of the nozzle in a y-axis direction. y軸方向におけるノズルの位置の経時変化を表すグラフの一例である。It is an example of the graph showing the time-dependent change of the position of the nozzle in a y-axis direction.

以下、本発明を実施した好ましい形態の一例について説明する。但し、下記の実施形態は、単なる例示である。本発明は、下記の実施形態に何ら限定されない。   Hereinafter, an example of the preferable form which implemented this invention is demonstrated. However, the following embodiment is merely an example. The present invention is not limited to the following embodiments.

また、実施形態等において参照する各図面において、実質的に同一の機能を有する部材は同一の符号で参照することとする。また、実施形態等において参照する図面は、模式的に記載されたものである。図面に描画された物体の寸法の比率などは、現実の物体の寸法の比率などとは異なる場合がある。図面相互間においても、物体の寸法比率等が異なる場合がある。具体的な物体の寸法比率等は、以下の説明を参酌して判断されるべきである。   Moreover, in each drawing referred in embodiment etc., the member which has a substantially the same function shall be referred with the same code | symbol. The drawings referred to in the embodiments and the like are schematically described. A ratio of dimensions of an object drawn in a drawing may be different from a ratio of dimensions of an actual object. The dimensional ratio of the object may be different between the drawings. The specific dimensional ratio of the object should be determined in consideration of the following description.

図1は、本実施形態に係る膜の製造装置の模式的側面図である。図2は、本実施形態に係る膜の製造装置の模式的平面図である。   FIG. 1 is a schematic side view of a film manufacturing apparatus according to this embodiment. FIG. 2 is a schematic plan view of the film manufacturing apparatus according to this embodiment.

図1及び図2に示される膜の製造装置1は、被成膜部材10の上にスプレーコート法により膜を製造するための成膜装置である。なお、被成膜部材10の形状は特に限定されないが、被成膜部材10は、一般的には、板状である。被成膜部材10は、例えば、ガラス板、セラミック板、樹脂板等であってもよい。   A film manufacturing apparatus 1 shown in FIGS. 1 and 2 is a film forming apparatus for manufacturing a film on a film forming member 10 by a spray coating method. The shape of the film forming member 10 is not particularly limited, but the film forming member 10 is generally plate-shaped. The film forming member 10 may be, for example, a glass plate, a ceramic plate, a resin plate, or the like.

製造装置1は、ノズル11を備える。ノズル11には、図1に示される塗布液供給機構12が接続されている。この塗布液供給機構12には、膜を形成するための塗布液が溜められている。塗布液供給機構12からノズル11に塗布液が供給される。塗布液は、ノズル11から被成膜部材10に向けて吐出される。ノズル11は、塗布液を霧化し、霧化した塗布液を被成膜部材10の上に供給するものであることが好ましい。   The manufacturing apparatus 1 includes a nozzle 11. A coating liquid supply mechanism 12 shown in FIG. 1 is connected to the nozzle 11. The coating liquid supply mechanism 12 stores a coating liquid for forming a film. The coating liquid is supplied from the coating liquid supply mechanism 12 to the nozzle 11. The coating liquid is discharged from the nozzle 11 toward the film forming member 10. It is preferable that the nozzle 11 atomizes the coating liquid and supplies the atomized coating liquid onto the film forming member 10.

製造装置1は、ノズル11に対して被成膜部材10をy軸方向に沿って相対的に移動させる移動機構を備えている。例えば、移動機構13は、図1に示すように、被成膜部材10をy軸方向に沿って移動できるように、複数の搬送ロールにより構成されている。もしくは移動機構は、ノズル11をy軸方向に沿って移動できるように、ノズル11を接続したノズル移動機構(図示なし)により構成されている。この移動機構13は、被成膜部材10をノズル11に対してx軸方向に相対的に移動させる。具体的には、移動機構13は、被成膜部材10をノズル11に対してx軸方向のx1側からx2側に向けて一定速度で相対的に移動させる。   The manufacturing apparatus 1 includes a moving mechanism that moves the film forming member 10 relative to the nozzle 11 along the y-axis direction. For example, as shown in FIG. 1, the moving mechanism 13 includes a plurality of transport rolls so that the film forming member 10 can be moved along the y-axis direction. Alternatively, the moving mechanism is configured by a nozzle moving mechanism (not shown) connected to the nozzle 11 so that the nozzle 11 can be moved along the y-axis direction. The moving mechanism 13 moves the film forming member 10 relative to the nozzle 11 in the x-axis direction. Specifically, the moving mechanism 13 moves the film forming member 10 relative to the nozzle 11 at a constant speed from the x1 side in the x-axis direction toward the x2 side.

ノズル11は、図2に示される走査機構14に接続されている。この走査機構14は、x軸方向に対して傾斜した方向(典型的には、垂直な方向)に沿って被成膜部材10を横切るようにノズル11を往復走査させる。具体的には、走査機構14は、被成膜部材10のy1側端部よりもy1側の位置と、被成膜部材10のy2側端部よりもy2側の位置との間を、ノズル11を往復走査させる。すなわち、走査機構14は、被成膜部材10よりもy1側にまでノズル11を走査した後に、ノズル11の走査方向を反転させ、被成膜部材10よりもy2側にまでノズルを走査させ、ノズル11の走査方向を再度反転させることを繰り返し行う。   The nozzle 11 is connected to the scanning mechanism 14 shown in FIG. The scanning mechanism 14 causes the nozzle 11 to reciprocately scan across the film forming member 10 along a direction (typically a vertical direction) inclined with respect to the x-axis direction. Specifically, the scanning mechanism 14 has a nozzle between a position on the y1 side from the y1 side end of the film forming member 10 and a position on the y2 side from the y2 side end of the film forming member 10. 11 is reciprocally scanned. That is, the scanning mechanism 14 scans the nozzle 11 to the y1 side from the film forming member 10 and then reverses the scanning direction of the nozzle 11 to scan the nozzle to the y2 side from the film forming member 10. The reversing of the scanning direction of the nozzle 11 is repeated.

図3に示されるように、この走査機構14と、上述の移動機構13及び塗布液供給機構12とは、制御部15に接続されており、制御部15によって制御される。具体的には、制御部15は、塗布液供給機構12からノズル11に供給される塗布液の流量を調整する。制御部15による塗布液の流量調整により、被成膜部材10に塗布される塗布液の量が制御される。制御部15は、移動機構13による被成膜部材10の移動速度を制御する。制御部15は、走査機構14によるノズル11の走査方向及び走査速度を制御する。   As shown in FIG. 3, the scanning mechanism 14, the moving mechanism 13 and the coating liquid supply mechanism 12 described above are connected to a control unit 15 and controlled by the control unit 15. Specifically, the control unit 15 adjusts the flow rate of the coating liquid supplied from the coating liquid supply mechanism 12 to the nozzle 11. By adjusting the flow rate of the coating liquid by the control unit 15, the amount of the coating liquid applied to the film forming member 10 is controlled. The control unit 15 controls the moving speed of the film forming member 10 by the moving mechanism 13. The control unit 15 controls the scanning direction and scanning speed of the nozzle 11 by the scanning mechanism 14.

次に、製造装置1を用いた膜の製造方法について説明する。   Next, the manufacturing method of the film | membrane using the manufacturing apparatus 1 is demonstrated.

概略的には、まず、被成膜部材10の上にノズル11から塗布液を供給して塗膜を形成する(塗布工程)。また、ノズル11に対して被成膜部材10をx軸方向に沿って相対的に移動させる移動工程を行う。例えば、この移動工程と塗布工程とを交互に行ってもよい。また、移動工程を行いながら塗布工程を行ってもよい。塗布工程及び移動工程を行った後に、形成された塗膜を乾燥させることにより、被成膜部材10の上に膜を製造することができる。   Schematically, first, a coating liquid is supplied onto the film forming member 10 from a nozzle 11 to form a coating film (application process). Further, a moving process is performed in which the film forming member 10 is moved relative to the nozzle 11 along the x-axis direction. For example, the moving process and the applying process may be performed alternately. Moreover, you may perform an application | coating process, performing a moving process. After performing the coating process and the moving process, a film can be manufactured on the film forming member 10 by drying the formed coating film.

具体的には、制御部15は、移動機構13により、ノズル11に対して被成膜部材10をx軸方向に沿って相対的に移動させる。走査機構14により、y軸方向に沿って被成膜部材10を横切るようにノズル11を複数回にわたって往復走査させる。このようにすることにより、ノズル11から被成膜部材10の上に塗布液を供給し、塗布液を被成膜部材10に塗布する塗布工程を行う。   Specifically, the control unit 15 causes the moving mechanism 13 to move the film forming member 10 relative to the nozzle 11 along the x-axis direction. By the scanning mechanism 14, the nozzle 11 is reciprocally scanned a plurality of times so as to cross the film forming member 10 along the y-axis direction. By doing in this way, the coating liquid is supplied onto the film forming member 10 from the nozzle 11 and the coating process of applying the coating liquid to the film forming member 10 is performed.

図4〜図10は、y軸方向におけるノズルの位置の経時変化を表すグラフであり、横軸が時間、縦軸がy軸方向におけるノズルの位置を示している。従って、グラフの直線部分の傾きは、ノズルの走査速度を表している。   4 to 10 are graphs showing changes with time in the position of the nozzles in the y-axis direction, where the horizontal axis indicates time and the vertical axis indicates the position of the nozzles in the y-axis direction. Therefore, the slope of the straight line portion of the graph represents the nozzle scanning speed.

図4〜図7、図9及び図10に示されるように、本実施形態では、制御部15は、この塗布工程において、被成膜部材10が設けられていない領域において、ノズル11の走査方向が反転する前のノズル11のy軸方向に沿った走査速度、及びノズル11の走査方向が反転した後のノズル11のy軸方向に沿った走査速度のうちの少なくとも一方が、被成膜部材10が設けられた領域におけるノズルのy軸方向に沿った走査速度よりも低くなるようにノズルを走査させる。具体的に図4では、制御部15は、この塗布工程において、被成膜部材10が設けられていない領域において、ノズル11の走査方向が反転する前のノズル11のy軸方向に沿った走査速度が、被成膜部材10が設けられた領域におけるノズルのy軸方向に沿った走査速度よりも低くなるようにノズルを走査させる。   As shown in FIG. 4 to FIG. 7, FIG. 9 and FIG. 10, in this embodiment, the controller 15 scans the nozzle 11 in the region where the film forming member 10 is not provided in this coating process. At least one of the scanning speed along the y-axis direction of the nozzle 11 before the reversal of the nozzle 11 and the scanning speed along the y-axis direction of the nozzle 11 after the scanning direction of the nozzle 11 is reversed The nozzle is scanned so as to be lower than the scanning speed along the y-axis direction of the nozzle in the region where 10 is provided. Specifically, in FIG. 4, the control unit 15 scans along the y-axis direction of the nozzle 11 before the scanning direction of the nozzle 11 is reversed in the region where the film forming member 10 is not provided in this coating step. The nozzle is scanned so that the speed is lower than the scanning speed along the y-axis direction of the nozzle in the region where the film forming member 10 is provided.

より具体的には、被成膜部材10が設けられた領域においては、ノズル11は、一定の第1の速度で走査される。第1の速度は、それぞれ特に限定されない。第1の速度は、例えば、20m/分〜40m/分程度であることが好ましい。ノズル11が、被成膜部材10が設けられた領域を通過し、被成膜部材10が設けられていない領域に至ると、ノズル11は、第1の速度よりも低い第2の速度で走査される。その後、ノズル11の走査方向が反転される。例えば、ノズル11の走査方向がy1側からy2側へと切り替えられる。ノズル11の走査方向が反転された後は、被成膜部材10が設けられた領域を通過するまでは、ノズル11は第1の速度で走査される。ノズル11が、被成膜部材10が設けられた領域を通過し、被成膜部材10が設けられていない領域に至ると、ノズル11の走査方向が再び反転されるまで、ノズル11は、第2の速度で走査される。このように、本実施形態では、ノズル11が、被成膜部材10が設けられた領域を通過してから、ノズル11の走査方向が反転されるまでの間においては、被成膜部材10が設けられた領域におけるノズル11の走査速度である第1の速度よりも低い第2の速度でノズル11が走査される。   More specifically, in the region where the film forming member 10 is provided, the nozzle 11 is scanned at a constant first speed. The first speed is not particularly limited. The first speed is preferably about 20 m / min to 40 m / min, for example. When the nozzle 11 passes through the region where the film forming member 10 is provided and reaches the region where the film forming member 10 is not provided, the nozzle 11 scans at a second speed lower than the first speed. Is done. Thereafter, the scanning direction of the nozzle 11 is reversed. For example, the scanning direction of the nozzle 11 is switched from the y1 side to the y2 side. After the scanning direction of the nozzle 11 is reversed, the nozzle 11 is scanned at the first speed until it passes through the region where the film forming member 10 is provided. When the nozzle 11 passes through the region where the film-forming member 10 is provided and reaches the region where the film-forming member 10 is not provided, the nozzle 11 is moved until the scanning direction of the nozzle 11 is reversed again. Scanned at a speed of 2. As described above, in the present embodiment, the deposition target member 10 remains in the period from when the nozzle 11 passes through the region where the deposition target member 10 is provided until the scanning direction of the nozzle 11 is reversed. The nozzle 11 is scanned at a second speed lower than the first speed that is the scanning speed of the nozzle 11 in the provided region.

ところで、一般的に、スプレーコート法では、ノズルは、常に一定の速度で走査される。しかしながら、本発明者らが鋭意研究した結果、ノズルを一定の速度で走査させた場合は、ノズルの走査方向において、膜の両端部における厚みが、中央部における厚みよりも薄くなることが見出された。また、膜の両端部における厚みが薄くなるのは、以下の原因によるものであることが見出された。すなわち、ノズルの走査方向が反転する際の減速、加速又は衝撃により、ノズル内に位置する塗布液に慣性力が加わる。これにより、ノズルの走査方向の反転時に、ノズル内に位置していた塗布液が過剰に吐出される。すなわち、ノズルの走査方向が反転した直後における吐出量が、ノズルへの塗布液の供給量を上回る。その結果、ノズルの走査方向が反転した直後においては、ノズルに設けられた吐出孔内に塗布液が満たされていない状態となる。よって、ノズルの走査方向が反転した後の一定期間においては、ノズルからの塗布液の吐出量が少なくなる。これに起因して、膜の走査方向両端部における厚みが薄くなる。   By the way, in general, in the spray coating method, the nozzle is always scanned at a constant speed. However, as a result of intensive studies by the present inventors, it has been found that when the nozzle is scanned at a constant speed, the thickness at both ends of the film is thinner than the thickness at the center in the scanning direction of the nozzle. It was done. Further, it has been found that the decrease in thickness at both ends of the film is due to the following causes. That is, inertia force is applied to the coating liquid located in the nozzle by deceleration, acceleration, or impact when the scanning direction of the nozzle is reversed. As a result, when the nozzle is reversed in the scanning direction, the coating liquid located in the nozzle is excessively discharged. That is, the discharge amount immediately after the nozzle scanning direction is reversed exceeds the supply amount of the coating liquid to the nozzle. As a result, immediately after the scanning direction of the nozzle is reversed, the discharge liquid provided in the nozzle is not filled with the coating liquid. Therefore, the discharge amount of the coating liquid from the nozzle is reduced in a certain period after the scanning direction of the nozzle is reversed. As a result, the thickness at both ends in the scanning direction of the film is reduced.

ここで、本実施形態では、塗布工程において、被成膜部材10が設けられていない領域において、ノズル11の走査方向が反転する前のノズル11のy軸方向に沿った走査速度が、被成膜部材10が設けられた領域におけるノズルのy軸方向に沿った走査速度よりも低い。このため、ノズル11の走査方向が反転する際のノズル11の走査速度が低い。よって、ノズル11の走査方向が反転する際に、ノズル11の内部に位置する塗布液に加わる慣性力が小さい。このため、ノズル11の走査方向反転時における塗布液の過剰な吐出が抑制される。従って、ノズル11からの塗布液の吐出量のむらが小さい。その結果、厚みむらが抑制された膜を得ることができる。   Here, in the present embodiment, in the coating process, in the region where the deposition target member 10 is not provided, the scanning speed along the y-axis direction of the nozzle 11 before the scanning direction of the nozzle 11 is reversed is the deposition speed. It is lower than the scanning speed along the y-axis direction of the nozzle in the area where the film member 10 is provided. For this reason, the scanning speed of the nozzle 11 when the scanning direction of the nozzle 11 is reversed is low. Therefore, when the scanning direction of the nozzle 11 is reversed, the inertial force applied to the coating liquid located inside the nozzle 11 is small. For this reason, excessive discharge of the coating liquid when the scanning direction of the nozzle 11 is reversed is suppressed. Therefore, the unevenness of the discharge amount of the coating liquid from the nozzle 11 is small. As a result, a film in which uneven thickness is suppressed can be obtained.

膜の厚みむらを抑制する観点からは、第2の速度は、第1の速度の1/4倍以下であることが好ましく、1/5倍以下であることがより好ましい。但し、第2の速度が低すぎると、膜の成膜効率が低下するといった問題や、ノズル11の走査速度が第1の速度から第2の速度に低下する際にノズル11内の塗布液に付加する慣性力が大きくなりすぎる場合がある。従って、第2の速度は、第1の速度の1/10倍以上であることが好ましく、1/8倍以上であることがより好ましい。   From the viewpoint of suppressing the film thickness unevenness, the second speed is preferably 1/4 times or less, more preferably 1/5 times or less of the first speed. However, if the second speed is too low, there is a problem that the film formation efficiency is reduced, and the coating liquid in the nozzle 11 is reduced when the scanning speed of the nozzle 11 is reduced from the first speed to the second speed. The added inertial force may become too large. Therefore, the second speed is preferably 1/10 times or more of the first speed, and more preferably 1/8 times or more.

膜の厚みむらをより抑制する観点から、図5に示されるように、塗布工程において、ノズル11の走査方向が反転する前にノズル11を一旦停止させてもよい。この場合は、ノズル11から塗布液の過剰な吐出が生じた場合であっても、ノズル11が、被成膜部材10が設けられた領域に再び達する前にノズル11からの吐出量が安定しやすい。よって、塗布液の塗布量をより均一にすることができる。従って、膜の厚みむらをより抑制し得る。ノズル11の一旦停止する時間は、0.3秒以上であることが好ましく、0.5秒以上であることがより好ましい。但し、ノズル11の一旦停止時間が長すぎると、成膜効率が低くなり過ぎる場合がある。従って、ノズル11の一旦停止する時間は、1秒以下であることが好ましく、0.8秒以下であることがより好ましい。   From the viewpoint of further suppressing film thickness unevenness, as shown in FIG. 5, in the coating process, the nozzle 11 may be temporarily stopped before the scanning direction of the nozzle 11 is reversed. In this case, even if the coating liquid is excessively discharged from the nozzle 11, the discharge amount from the nozzle 11 is stabilized before the nozzle 11 reaches the region where the film forming member 10 is provided again. Cheap. Therefore, the coating amount of the coating liquid can be made more uniform. Therefore, the uneven thickness of the film can be further suppressed. The time for which the nozzle 11 is temporarily stopped is preferably 0.3 seconds or more, and more preferably 0.5 seconds or more. However, if the stop time of the nozzle 11 is too long, the film formation efficiency may be too low. Accordingly, the time for which the nozzle 11 is temporarily stopped is preferably 1 second or less, and more preferably 0.8 seconds or less.

膜の厚みむらをより抑制する観点から、図6や図7に示されるように、塗布工程において、被成膜部材10が設けられていない領域における、ノズル11の走査方向が反転する前のノズル11のy軸方向に沿った走査速度を被成膜部材10が設けられた領域におけるノズルのy軸方向に沿った走査速度よりも低くすると共に、被成膜部材10が設けられていない領域における、ノズル11の走査方向が反転した後のノズル11のy軸方向に沿った走査速度を被成膜部材10が設けられた領域におけるノズルのy軸方向に沿った走査速度よりも低くしてもよい。この場合も、ノズル11から塗布液の過剰な吐出が生じた場合であっても、ノズル11が、被成膜部材10が設けられた領域に再び達する前にノズル11からの吐出量が安定しやすい。従って、図5に示す場合と同様に、膜の厚みむらをより抑制し得る。被成膜部材10が設けられていない領域における、ノズル11の走査方向が反転する前のノズル11のy軸方向に沿った走査速度と、被成膜部材10が設けられていない領域における、ノズル11の走査方向が反転した後のノズル11のy軸方向に沿った走査速度とは異なっていてもよいが、実質的に同じであることが好ましい。すなわち、第1の速度で被成膜部材10上を走査させた後に、第2の速度でノズル11を走査させ、走査方向を反転させたのちに、被成膜部材10上に達するまでは第2の速度でノズル11を走査させ、その後、被成膜部材10上に達した後は第1の速度でノズル11を走査させることが好ましい。   From the viewpoint of further suppressing the film thickness unevenness, as shown in FIGS. 6 and 7, the nozzle before the scanning direction of the nozzle 11 is reversed in the region where the film forming member 10 is not provided in the coating process. The scanning speed along the y-axis direction of 11 is lower than the scanning speed along the y-axis direction of the nozzle in the area where the film forming member 10 is provided, and in the area where the film forming member 10 is not provided. Even if the scanning speed along the y-axis direction of the nozzle 11 after the scanning direction of the nozzle 11 is reversed is lower than the scanning speed along the y-axis direction of the nozzle in the region where the film forming member 10 is provided. Good. Also in this case, even when excessive discharge of the coating liquid occurs from the nozzle 11, the discharge amount from the nozzle 11 is stabilized before the nozzle 11 reaches the region where the film forming member 10 is provided again. Cheap. Therefore, as in the case shown in FIG. 5, the thickness unevenness of the film can be further suppressed. The scanning speed along the y-axis direction of the nozzle 11 before the scanning direction of the nozzle 11 is reversed in the region where the film forming member 10 is not provided, and the nozzle in the region where the film forming member 10 is not provided Although the scanning speed along the y-axis direction of the nozzle 11 after the 11 scanning directions are reversed may be different, it is preferable that they are substantially the same. That is, after scanning the film forming member 10 at the first speed, the nozzle 11 is scanned at the second speed, the scanning direction is reversed, and then the film forming member 10 is scanned until reaching the film forming member 10. It is preferable to scan the nozzle 11 at a speed of 2 and then scan the nozzle 11 at a first speed after reaching the film forming member 10.

また、図7に示される例では、ノズル11の走査方向の反転時に、ノズル11が一旦停止される。従って、膜の厚みむらをさらに効果的に抑制することができる。   In the example shown in FIG. 7, the nozzle 11 is temporarily stopped when the nozzle 11 is reversed in the scanning direction. Therefore, the uneven thickness of the film can be more effectively suppressed.

また、図8に示されるように、ノズル11を一定の速度で走査させ、ノズル11の反転時にノズル11を一旦停止させてもよい。この場合であっても、ノズル11が被成膜部材10上に再び達する前にノズル11からの塗布液の流量が安定しやすい。従って、膜の厚みむらを抑制することができる。   Further, as shown in FIG. 8, the nozzle 11 may be scanned at a constant speed, and the nozzle 11 may be temporarily stopped when the nozzle 11 is reversed. Even in this case, the flow rate of the coating liquid from the nozzle 11 tends to be stabilized before the nozzle 11 reaches the film forming member 10 again. Therefore, uneven thickness of the film can be suppressed.

図4,図5,図6及び図7に示す例では、被成膜部材10が設けられていない領域においてノズル11を一定の速度で操作させる例について説明した。但し、本発明は、この構成に限定されない。例えば、図9に示すように、被成膜部材10が設けられていない領域において、ノズル11の走査方向反転前の走査速度を被成膜部材10が設けられた領域におけるノズルのy軸方向に沿った走査速度から漸減させる、又はノズル11の走査方向反転後の走査速度を被成膜部材10が設けられた領域におけるノズルのy軸方向に沿った走査速度まで漸増させてもよい。このようにすることにより、ノズル11内の塗布液に加わる慣性力をより小さくできる。従って、膜の厚みむらをより効果的に抑制することができる。   In the example shown in FIGS. 4, 5, 6, and 7, the example in which the nozzle 11 is operated at a constant speed in the region where the deposition target member 10 is not provided has been described. However, the present invention is not limited to this configuration. For example, as shown in FIG. 9, in a region where the film forming member 10 is not provided, the scanning speed before reversing the scanning direction of the nozzle 11 is set in the y-axis direction of the nozzle in the region where the film forming member 10 is provided. The scanning speed may be gradually decreased from the scanning speed along the scanning direction, or the scanning speed after reversing the scanning direction of the nozzle 11 may be gradually increased to the scanning speed along the y-axis direction of the nozzle in the region where the film forming member 10 is provided. By doing in this way, the inertia force added to the coating liquid in the nozzle 11 can be made smaller. Therefore, the uneven thickness of the film can be more effectively suppressed.

同様に、ノズル11の走査方向反転前及び反転後の少なくとも一方において、複数回にわたってノズル11の走査速度を変更してもよい。   Similarly, the scanning speed of the nozzle 11 may be changed a plurality of times before and after the scanning direction of the nozzle 11 is reversed.

図10に示されるように、ノズル11の走査方向の反転前においては、ノズル11の走査速度を一定にし、ノズル11の走査方向の反転後、被成膜部材10上にノズル11が達する前のノズル11の走査速度を、被成膜部材10上におけるノズル11の走査速度よりも低くしてもよい。この場合であっても、ノズル11が被成膜部材10上に再び達する前にノズル11からの塗布液の流量が安定しやすい。従って、膜の厚みむらを抑制することができる。   As shown in FIG. 10, before the nozzle 11 is reversed in the scanning direction, the scanning speed of the nozzle 11 is made constant, and after the nozzle 11 is reversed in the scanning direction, before the nozzle 11 reaches the film forming member 10. The scanning speed of the nozzle 11 may be lower than the scanning speed of the nozzle 11 on the film forming member 10. Even in this case, the flow rate of the coating liquid from the nozzle 11 tends to be stabilized before the nozzle 11 reaches the film forming member 10 again. Therefore, uneven thickness of the film can be suppressed.

1…膜の製造装置
10…被成膜部材
11…ノズル
12…塗布液供給機構
13…移動機構
14…走査機構
15…制御部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Film manufacturing apparatus 10 ... Film-forming member 11 ... Nozzle 12 ... Coating liquid supply mechanism 13 ... Moving mechanism 14 ... Scanning mechanism 15 ... Control part

Claims (9)

ノズルに対して被成膜部材を第1の方向に沿って相対的に移動させる移動工程と、
前記第1の方向に対して傾斜した第2の方向に沿って前記被成膜部材を横切るように前記ノズルを往復走査させることにより、前記ノズルから前記塗布液を前記被成膜部材の上に供給する塗布工程と、
を備え、
前記移動工程と前記塗布工程とを交互又は同時に行うことにより前記被成膜部材上に膜を製造する方法であって、
前記塗布工程において、前記被成膜部材が設けられていない領域において、前記ノズルの走査方向が反転する前の前記ノズルの前記第2の方向に沿った走査速度及び前記ノズルの走査方向が反転した後の前記ノズルの前記第2の方向に沿った走査速度のうちの少なくとも一方が、前記被成膜部材が設けられた領域における前記ノズルの前記第2の方向に沿った走査速度よりも低くなるように前記ノズルを走査する、膜の製造方法。
A moving step of moving the film forming member relative to the nozzle along the first direction;
By reciprocatingly scanning the nozzle so as to cross the film forming member along a second direction inclined with respect to the first direction, the coating liquid is applied onto the film forming member from the nozzle. Supplying coating process;
With
A method for producing a film on the film-forming member by alternately or simultaneously performing the moving step and the applying step,
In the coating step, in a region where the film forming member is not provided, the scanning speed along the second direction of the nozzle and the scanning direction of the nozzle are reversed before the nozzle scanning direction is reversed. At least one of the subsequent scanning speeds of the nozzles along the second direction is lower than the scanning speed of the nozzles along the second direction in the region where the film forming member is provided. A method for manufacturing a film, wherein the nozzle is scanned as described above.
前記塗布工程において、前記被成膜部材が設けられていない領域において、前記ノズルの走査方向が反転する前の前記ノズルの前記第2の方向に沿った走査速度が、前記被成膜部材が設けられた領域における前記ノズルの前記第2の方向に沿った走査速度よりも低くなるように前記ノズルを走査する、請求項1に記載の膜の製造方法。   In the coating step, in the region where the film forming member is not provided, the scanning speed along the second direction of the nozzle before the nozzle scanning direction is reversed is provided by the film forming member. The film manufacturing method according to claim 1, wherein the nozzle is scanned so as to be lower than a scanning speed along the second direction of the nozzle in a defined region. 前記塗布工程において、前記ノズルの走査方向が反転する際に前記ノズルを一旦停止させる、請求項1または2に記載の膜の製造方法。   The method for producing a film according to claim 1 or 2, wherein, in the coating step, the nozzle is temporarily stopped when the scanning direction of the nozzle is reversed. ノズルに対して被成膜部材を第1の方向に沿って相対的に移動させる移動工程と、
前記第1の方向に対して傾斜した第2の方向に沿って前記被成膜部材を横切るように前記ノズルを往復走査させることにより、前記ノズルから前記塗布液を前記被成膜部材の上に供給する塗布工程と、
を備え、
前記移動工程と前記塗布工程とを交互又は同時に行うことにより前記被成膜部材上に膜を製造する方法であって、
前記塗布工程において、前記ノズルの走査方向が反転する際に前記ノズルを一旦停止させる、膜の製造方法。
A moving step of moving the film forming member relative to the nozzle along the first direction;
By reciprocatingly scanning the nozzle so as to cross the film forming member along a second direction inclined with respect to the first direction, the coating liquid is applied onto the film forming member from the nozzle. Supplying coating process;
With
A method for producing a film on the film-forming member by alternately or simultaneously performing the moving step and the applying step,
In the coating process, the nozzle is temporarily stopped when the scanning direction of the nozzle is reversed.
前記ノズルは、前記塗布液を霧化し、前記霧化した塗布液を前記被成膜部材の上に供給する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の膜の製造方法。   5. The film manufacturing method according to claim 1, wherein the nozzle atomizes the coating liquid and supplies the atomized coating liquid onto the film forming member. 塗布液を被成膜部材上に供給するノズルと、
前記ノズルに対して前記被成膜部材を第1の方向に沿って相対的に移動させる移動機構と、
前記第1の方向に対して傾斜した第2の方向に沿って前記被成膜部材を横切るように前記ノズルを往復走査させる走査機構と、
前記走査機構を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記被成膜部材が設けられていない領域において、前記ノズルの走査方向が反転する前の前記ノズルの前記第2の方向に沿った走査速度及び前記ノズルの走査方向が反転した後の前記ノズルの前記第2の方向に沿った走査速度のうちの少なくとも一方が、前記被成膜部材が設けられた領域における前記ノズルの前記第2の方向に沿った走査速度よりも低くなるように前記走査機構に前記ノズルを走査させる、膜の製造装置。
A nozzle for supplying a coating solution onto the film forming member;
A moving mechanism for moving the film forming member relative to the nozzle along the first direction;
A scanning mechanism for reciprocally scanning the nozzle so as to cross the film-forming member along a second direction inclined with respect to the first direction;
A control unit for controlling the scanning mechanism;
With
The control unit reverses the scanning speed along the second direction of the nozzle and the scanning direction of the nozzle before the scanning direction of the nozzle is reversed in an area where the deposition target member is not provided. At least one of the subsequent scanning speeds of the nozzles along the second direction is lower than the scanning speed of the nozzles along the second direction in the region where the film forming member is provided. In this way, the film manufacturing apparatus causes the scanning mechanism to scan the nozzle.
前記制御部は、前記ノズルの走査方向が反転する際に前記ノズルを一旦停止させる、請求項6に記載の膜の製造装置。   The film manufacturing apparatus according to claim 6, wherein the control unit temporarily stops the nozzle when the scanning direction of the nozzle is reversed. 塗布液を被成膜部材上に供給するノズルと、
前記ノズルに対して前記被成膜部材を第1の方向に沿って相対的に移動させる移動機構と、
前記第1の方向に対して傾斜した第2の方向に沿って前記被成膜部材を横切るように前記ノズルを往復走査させる走査機構と、
前記走査機構を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記走査機構に、前記ノズルの走査方向が反転する際に前記ノズルを一旦停止させる、膜の製造装置。
A nozzle for supplying a coating solution onto the film forming member;
A moving mechanism for moving the film forming member relative to the nozzle along the first direction;
A scanning mechanism for reciprocally scanning the nozzle so as to cross the film-forming member along a second direction inclined with respect to the first direction;
A control unit for controlling the scanning mechanism;
With
The control unit causes the scanning mechanism to temporarily stop the nozzle when the scanning direction of the nozzle is reversed.
前記ノズルは、前記塗布液を霧化し、前記霧化した塗布液を前記被成膜部材の上に供給する、請求項6〜8のいずれか一項に記載の膜の製造装置。   9. The film manufacturing apparatus according to claim 6, wherein the nozzle atomizes the coating liquid and supplies the atomized coating liquid onto the film forming member.
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