JP2014060353A - 搬送装置及び搬送方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】金属コンタミの問題を解消し、基板の帯電を除電しつつ当該基板を搬送する。
【解決手段】接地された導電体を含むベース部材と、前記ベース部材に固定され半導体基板と接触する絶縁体の吸着部材と、前記吸着部材に接触した前記半導体基板を前記吸着部材を介して吸着する吸着機構部と、前記吸着部材に開口部が設けられ、前記半導体基板の接触面の反対側に前記開口部の空間を挟んで前記導電体が配置された除電機構部とを備え、前記空間が負圧にされている。
【選択図】図2
【解決手段】接地された導電体を含むベース部材と、前記ベース部材に固定され半導体基板と接触する絶縁体の吸着部材と、前記吸着部材に接触した前記半導体基板を前記吸着部材を介して吸着する吸着機構部と、前記吸着部材に開口部が設けられ、前記半導体基板の接触面の反対側に前記開口部の空間を挟んで前記導電体が配置された除電機構部とを備え、前記空間が負圧にされている。
【選択図】図2
Description
本発明は、例えば多段に積み重ねられた基板を1枚ずつ吸着して次工程に搬送する搬送装置及び搬送方法に関する。
従来、シリコンウェハ等の基板を搬送する搬送装置の搬送アームには、アルミ合金やセラミックス、ステンレス等からなるものが用いられている(例えば、特許文献1参照)。
図9は、従来技術の搬送アームの概略構成を示す図であり、(a)は上面図、(b)は(a)のH−H線断面図である。
図9に示す搬送アーム101は、図示しない駆動部に連係されたベース部材102と、ベース部材102の一面(図9(b)では下面)に支持固定された吸着部材103とで構成されている。吸着部材103には、真空引きのための吸着穴103aが設けられており、基板104は、吸着部材103の表面(図9(b)では下面)に接触させた状態で、吸着穴103aを真空引きすることで、吸着部材103に吸着保持されて、搬送される。
このとき、吸着部材103がプラスチックや樹脂などの絶縁性の非金属材料で形成されていると、吸着部材103と基板104との接触による摩擦によって基板104が帯電することがある。その結果、基板104と吸着部材103との間で引き合う力が働き、真空引きを停止しても基板104が吸着部材103から離れにくくなるといった課題があった。
ここで、基板104に接する吸着部材103が金属であれば、ベース部材102を通じて帯電電荷を逃がすことができるので、上記の引き合う力は発生しない。しかし、その場合は、基板に金属が直接接触することから、基板が金属で汚染されるいわゆる金属コンタミ(金属コンタミネーション)の問題が発生する。
本発明はかかる問題点を解決すべく創案されたもので、その目的は、いわゆる金属コンタミの問題を解消し、基板の帯電を除電しつつ当該基板を搬送することのできる搬送装置及び搬送方法を提供することにある。
上記課題を解決するため、本発明の搬送装置は、接地された導電体を含むベース部材と、前記ベース部材に固定され半導体基板と接触する絶縁体の吸着部材と、前記吸着部材に接触した前記半導体基板を前記吸着部材を介して吸着する吸着機構部と、前記吸着部材に開口部が設けられ、前記半導体基板の接触面の反対側に前記開口部の空間を挟んで前記導電体が配置された除電機構部とを備え、前記空間が負圧にされていることを特徴としている。
また、本発明の搬送方法は、上記構成の搬送装置を用いた搬送方法であっで、半導体基板を吸着機構部によって吸着する工程と、吸着された半導体基板を除電機構部によって除電する工程と、を含むことを特徴としている。
本発明によれば、吸着部材に開口部を設け、半導体基板の接触面の反対側に、開口部の空間を挟んで導電体を配置している。そして、この状態で空間(すなわち、導電体と半導体基板の接触面との間の隙間)を負圧状態にして、半導体基板に帯電している電荷を、半導体基板と導電体との間で放電させている。放電(火花放電)が起こる電位差は、対象物間の気圧に反比例するため、導電体と半導体基板との間の隙間を負圧にすることで、放電を助長させることができる。
また、本発明の搬送装置では、前記ベース部材が前記導電体で構成されていてもよい。
また、本発明の搬送装置では、前記空間を負圧にする真空経路が前記導電体に設けられた構成としてもよい。
また、本発明の搬送装置では、前記開口部は前記半導体基板を吸着する吸着穴を兼ねた構成としてもよい。
また、本発明の搬送装置では、前記吸着機構部は、前記吸着部材に形成された吸着用の真空経路を負圧にして前記半導体基板を吸着する構成とすることが好ましい。
また、本発明の搬送装置では、前記空間を負圧にする真空経路が前記吸着機構部の前記真空経路とは別経路として又は一部共通して設けられた構成とすることが好ましい。
また、本発明の搬送装置では、前記導電体は螺子部材であることが好ましい。また(6)、前記螺子部材は、前記吸着部材を前記ベース部材に固定する固定螺子であることが好ましい。
また、本発明の搬送装置では、前記空間を負圧にする真空経路が前記螺子部材に設けられている構成とすることが好ましい。
本発明は上記のように構成したので、いわゆる金属コンタミの発生を抑制しつつ基板の除電を行うことができるため、搬送時のトラブルを低減することができる。
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。
<搬送装置の全体構成の説明>
図1は、本発明に係る搬送装置の全体構成を概略的に示した説明図である。
図1は、本発明に係る搬送装置の全体構成を概略的に示した説明図である。
本発明の係る搬送装置1は、大別すると、搬送アーム2、真空ポンプ3、駆動部4、ベルトコンベヤ5から構成されている。
水平方向に配置れている搬送アーム2の基端部は、垂直方向に支持固定されている駆動部4の駆動軸4aに連結されており、駆動軸4aに支持されて上下方向に往復移動自在、及び、駆動軸4aを中心に水平方向に180度若しくは360度回転自在に設けられている。
なお、この図では駆動部4による搬送アーム2の駆動形態として、上下方向の往復移動と、駆動軸を中心とした回転駆動とを示しているが、駆動部21はこのような上下移動と回転駆動のみに限定されるものでなく、構成が許す限りにおいて、任意の方向へ搬送アーム11を駆動させるように構成されていてもよい。
また、搬送アーム2は、ベース部材21と、ベース部材21の先端部に取り付けられた吸着部材22とを備えているが、これらの詳細については後述する。
この搬送装置1によって搬送される半導体基板(以下、単に基板という。)6は、水平状態で多段に積載されており、この積載状態で、搬送装置1の吸着位置(図1に示す位置)まで搬送される。搬送された基板6は、搬送アーム2によってベルトコンベア5に1枚ずつ搬送される。なお、搬送方法については後述する。
<実施の形態1に係る搬送アーム2Aの説明>
図2(a),(b)は、本発明の実施の形態1に係る搬送アーム2Aの概略構成を示す図であり、(a)は上面図、(b)は(a)のA−A線断面図である。
図2(a),(b)は、本発明の実施の形態1に係る搬送アーム2Aの概略構成を示す図であり、(a)は上面図、(b)は(a)のA−A線断面図である。
上記したように、搬送アーム2Aは、ベース部材21と、絶縁体である吸着部材22とを備えている。吸着部材22は、接地された導電体である4本の金属螺子23によってベース部材21に固定されている。金属螺子23は、図2(a)に示す平面視において、吸着部材22の中央部に形成された貫通穴である吸着穴22aの周囲4箇所に形成された螺子穴(開口部)22bに螺子込み固定されている。
螺子穴22bに螺子込まれた金属螺子23の頭部23aと、基板6を吸着する吸着面22cとの間には空間24が形成されている。すなわち、基板6の接触面の反対側に螺子穴22bの空間24を挟んで金属螺子23が配置された構成としている。この空間24は、金属螺子23の頭部23aと吸着面22cに吸着された基板6との距離が除電に適した所定距離Lに設定されている。ここで、所定距離Lは、例えば0.1mm〜1.0mm程度が好適である。また、金属螺子23の頭部23aの面積(すなわち、基板6との対向面積)は、設計の許す範囲でより広くすることが、基板6を除電する除電性能を向上させる上で好ましい。
実施の形態1では、基板6の搬送時、この空間24を負圧とする。すなわち、負圧状態とすることで、基板6に帯電している電荷を、基板6と導電体である金属螺子23との間で放電させることができる。放電(火花放電)が起こる電位差は、対象物間の気圧に反比例するため、金属螺子23と基板6との間の空間(隙間)24を負圧にすることで、放電を助長させることができる。
そのため、この空間24には、真空ポンプ3に接続するための除電用の真空経路25が設けられている。
この真空経路25は、空間24の横方向から吸着部材22内を横方向に延設され、次にベース部材21に向かって縦方向に延設され、ベース部材21内で再度横方向に延設されて、吸着穴22aを真空引きするための吸着用の真空経路29に接続されている。
すなわち、実施の形態1では、吸着機構部は、吸着用の真空経路29及び真空ポンプ3を含む概念であり、除電機構部は、除電用の真空経路25、吸着用の真空経路29及び真空ポンプ3を含む概念である。すなわち、除電用の真空経路は、吸着用の真空経路と一部共通する構成としている。
また、図2では、除電用の各真空経路25は、前後両側の空間24同士を連結して一つにまとめてからベース部材21内に導入し、ベース部材21内の左右2箇所で吸着用の真空経路29に連結する構造としているが、真空経路25の配置経路はこのような経路に限定されるものではなく、任意の配置とすることが可能である。例えば、4つの空間24から延設される各真空経路25を個別に吸着用の真空経路29に連結してもよく、各真空経路25を一つにまとめてから吸着用の真空経路29に連結してもよい。
また、実施の形態1では、接地された導電体として金属螺子23を用いているが、螺子に限定されるものではなく、金属棒のようなものでもよい。また、導電体は、ベース部材21に円柱状の突起部を一体形成することで、ベース部材21に直接形成されていてもよい。この場合、吸着部材22とベース部材21とは例えば接着材等によって接着固定すればよい。
<実施の形態1の効果>
上記構成の搬送アーム2Aによれば、ベース部材21は、その素材を変更することなく、形状のみの変更で対応できる。また、金属螺子23と基板6とは空間24を介して非接触であるため、金属汚染の影響を無視できる。そのため、金属螺子23は金属製であれば何でもよく、螺子の材質を考慮する必要がない。また、除電対策として、例えばイオナイザーのような高価なシステムを構築する必要がなく、安価に除電を行うことができる。
上記構成の搬送アーム2Aによれば、ベース部材21は、その素材を変更することなく、形状のみの変更で対応できる。また、金属螺子23と基板6とは空間24を介して非接触であるため、金属汚染の影響を無視できる。そのため、金属螺子23は金属製であれば何でもよく、螺子の材質を考慮する必要がない。また、除電対策として、例えばイオナイザーのような高価なシステムを構築する必要がなく、安価に除電を行うことができる。
<変形例1の説明>
図3(a),(b)は、実施の形態1に係る搬送アーム2Aの変形例1を示す図であり、(a)は上面図、(b)は(a)のB−B線断面図である。
図3(a),(b)は、実施の形態1に係る搬送アーム2Aの変形例1を示す図であり、(a)は上面図、(b)は(a)のB−B線断面図である。
変形例1に係る搬送アーム2A′と上記搬送アーム2Aとの違いは、螺子穴22bの形状を搬送アーム2Aより大きくした点のみであり、その他の構成は上記搬送アーム2Aと同じであるので、ここでは同部材に同符号を付して詳細な説明を省略する。
<変形例1の効果>
変形例1の搬送アーム2A′によれば、導電体である金属螺子23と基板6との空間24を挟んだ対向面積をより大きくできるので、その分、除電性能を高めることができる。
変形例1の搬送アーム2A′によれば、導電体である金属螺子23と基板6との空間24を挟んだ対向面積をより大きくできるので、その分、除電性能を高めることができる。
<変形例2の説明>
図4(a),(b)は、実施の形態1に係る搬送アーム2Aの変形例2を示す図であり、(a)は上面図、(b)は(a)のC−C線断面図である。
図4(a),(b)は、実施の形態1に係る搬送アーム2Aの変形例2を示す図であり、(a)は上面図、(b)は(a)のC−C線断面図である。
変形例2に係る搬送アーム2A″と上記搬送アーム2Aとの違いは、螺子穴22bをさらに2箇所増やして6箇所とした点、及び除電用の真空経路を6箇所に対応するように若干変形した点のみであり、その他の構成は上記搬送アーム2Aと同じであるので、ここでは同部材に同符号を付して詳細な説明を省略する。
すなわち、真空経路25は、図4(a),(b)中、左側の3つの空間24から導出された3つの真空経路25aを一つにまとめて真空経路25として、吸着用の真空経路29に左側から連結し、右側の3つの空間24から導出された3つの真空経路25bを一つにまとめて真空経路25として、吸着用の真空経路29に右側から連結した構成としている。ただし、上記したように、真空経路25a,25bの配置経路はこのような経路に限定されるものではなく、任意の配置とすることが可能である。
<変形例2の効果>
変形例2の搬送アーム2A′によれば、上記変形例1と同様、導電体である金属螺子23と基板6との空間24を挟んだ対向面積をより大きくできるので、その分、除電性能を高めることができる。
変形例2の搬送アーム2A′によれば、上記変形例1と同様、導電体である金属螺子23と基板6との空間24を挟んだ対向面積をより大きくできるので、その分、除電性能を高めることができる。
<実施の形態2に係る搬送アーム2Bの説明>
図5(a),(b)は、本発明の実施の形態2に係る搬送アーム2Bの概略構成を示す図であり、(a)は上面図、(b)は(a)のD−D線断面図である。
図5(a),(b)は、本発明の実施の形態2に係る搬送アーム2Bの概略構成を示す図であり、(a)は上面図、(b)は(a)のD−D線断面図である。
実施の形態2と実施の形態1との違いは、実施の形態1では、除電用の真空経路25を空間24の側面から導出しているが、実施の形態2では、金属螺子23に軸芯を通る真空経路25cを形成し、金属螺子23の先端部(図5(b)では下端部)からベース部材21内に導出した後、横方向に延設して吸着用の真空経路29に連結した構造としたものである。
その他の構成は実施の形態1に係る搬送アーム2A及び変形例1,2に係る搬送アーム2A′,2A″と同じであるので、ここでは同部材に同符号を付して詳細な説明を省略する。
<実施の形態2の効果>
実施の形態1に係る搬送アーム2Aの効果、及び変形例1,2に係る搬送アーム2A′,2A″の効果に加え、実施の形態2に係る搬送アーム2Bでは、吸着部材22に除電用の真空経路を形成する必要がないので、吸着部材22を従来構造のまま使用することができる。
実施の形態1に係る搬送アーム2Aの効果、及び変形例1,2に係る搬送アーム2A′,2A″の効果に加え、実施の形態2に係る搬送アーム2Bでは、吸着部材22に除電用の真空経路を形成する必要がないので、吸着部材22を従来構造のまま使用することができる。
<実施の形態3に係る搬送アーム2Cの説明>
図6(a),(b)は、本発明の実施の形態3に係る搬送アーム2Cの概略構成を示す図であり、(a)は上面図、(b)は(a)のE−E線断面図である。
図6(a),(b)は、本発明の実施の形態3に係る搬送アーム2Cの概略構成を示す図であり、(a)は上面図、(b)は(a)のE−E線断面図である。
実施の形態3と実施の形態1との違いは、実施の形態1の搬送アーム2Aから導電体である金属螺子23を削除し、ベース部材21自体を導電体として使用した点である。そのため、実施の形態3では、吸着部材22′が薄型に形成されている。すなわち、吸着部材22′の厚みは、吸着部材22′に吸着された基板6の吸着面とベース部材21との空間24を介した距離が、除電できる距離以内となる厚みとされている。具体的には、吸着部材22′の厚みは、0.1mmから1.0mmの範囲内とするのが良い。
その他の構成は、実施の形態1に係る搬送アーム2A及び変形例1,2に係る搬送アーム2A′,2A″と同じであるので、ここでは同部材に同符号を付して詳細な説明を省略する。
<実施の形態3の効果>
実施の形態1に係る搬送アーム2Aの効果、及び変形例1,2に係る搬送アーム2A′,2A″の効果に加え、実施の形態3に係る搬送アーム2Cでは、別部材の導電体が不要となることから、搬送アームの構造を簡単にすることができる。
実施の形態1に係る搬送アーム2Aの効果、及び変形例1,2に係る搬送アーム2A′,2A″の効果に加え、実施の形態3に係る搬送アーム2Cでは、別部材の導電体が不要となることから、搬送アームの構造を簡単にすることができる。
<実施の形態4に係る搬送アーム2Dの説明>
図7(a),(b)は、本発明の実施の形態4に係る搬送アーム2Dの概略構成を示す図であり、(a)は上面図、(b)は(a)のF−F線断面図である。
図7(a),(b)は、本発明の実施の形態4に係る搬送アーム2Dの概略構成を示す図であり、(a)は上面図、(b)は(a)のF−F線断面図である。
実施の形態4に係る搬送アーム2Dは、空間24から導出された真空経路25cを、吸着用の真空経路29に連結することなくベース部材21から外部に導出し、真空ポンプ3の近傍で真空経路29と真空経路25cとを連結させたものである。また、実施の形態4では、このような構成としたことから、真空経路25cの連結部より上流側(すなわち、搬送アーム2側)に開閉弁26を備える構成としてもよい。開閉弁26を備えることで、除電用の真空度を吸着用の真空度とは別に調整することができる。
また、吸着用の真空経路29にも、連結部より上流側(すなわち、搬送アーム2側)に開閉弁26を備える構成としてもよい。両方の真空経路に開閉弁を設けることで、吸着用の真空度と除電用の真空度とを完全に切り離して個別に調整することができる。
さらに、除電用の真空経路25cに別の真空ポンプを接続して、それぞれの真空経路を別々の真空ポンプで制御するようにしてもよい。
その他の構成は、実施の形態2に係る搬送アーム2Bと同じであるので、ここでは同部材に同符号を付して詳細な説明を省略する。
なお、実施の形態4は、実施の形態2に係る搬送アーム2Bに適用した場合について例示しているが、吸着用の真空経路と除電用の真空経路とを別経路とすることについては、実施の形態1(変形例含む),2についても同様に適用することができる。
<実施の形態4の効果>
実施の形態2に係る搬送アーム2Bの効果に加え、実施の形態4に係る搬送アーム2Dでは、吸着用の真空経路と除電用の真空経路とを別経路としたので、吸着用及び除電用の真空度を個別に設定することができる。すなわち、吸着用の真空経路を吸着に適した真空度に設定し、除電用の真空経路を除電に適した真空度に設定することができる。
実施の形態2に係る搬送アーム2Bの効果に加え、実施の形態4に係る搬送アーム2Dでは、吸着用の真空経路と除電用の真空経路とを別経路としたので、吸着用及び除電用の真空度を個別に設定することができる。すなわち、吸着用の真空経路を吸着に適した真空度に設定し、除電用の真空経路を除電に適した真空度に設定することができる。
<実施の形態5に係る搬送アーム2Eの説明>
図8(a),(b)は、本発明の実施の形態5に係る搬送アーム2Eの概略構成を示す図であり、(a)は上面図、(b)は(a)のG−G線断面図である。
図8(a),(b)は、本発明の実施の形態5に係る搬送アーム2Eの概略構成を示す図であり、(a)は上面図、(b)は(a)のG−G線断面図である。
実施の形態5に係る搬送アーム2Eは、上記各実施の形態1〜4では存在していた吸着穴22aを無くして除電用の空間24のみを残し、この除電用の空間24を利用して基板6の吸着も行う構成としたものである。すなわち、除電用の空間24での吸着力で基板6を十分に吸着可能であれば、除電用の空間24を吸着用の吸着穴として兼用することが可能である。
吸着穴22aを無くした以外の構成は、実施の形態1に係る搬送アーム2Aと同じであるので、ここでは同部材に同符号を付して詳細な説明を省略する。
なお、実施の形態5は、実施の形態1に係る搬送アーム2Aに適用した場合について例示しているが、実施の形態1の変形例1,2、及び実施の形態2,3についても同様に適用することができる。
<本発明に係る搬送方法の説明>
次に、上記実施の形態1〜5に係る搬送アームを備えた搬送装置1による基板6の搬送方法について説明する。
次に、上記実施の形態1〜5に係る搬送アームを備えた搬送装置1による基板6の搬送方法について説明する。
図1に示す状態において、駆動部4を用いて搬送アーム2を駆動し、最上段の基板6に搬送アーム2の吸着部材22の吸着面22c(図1では下面)を接触させる。
次に、真空ポンプ3を用いて、吸着部材22の吸着穴22a及び除電用の空間24を低圧又は真空にする。ただし、実施の形態5では、空間24が吸着穴22aを兼ねている。
これにより、最上段の基板6が吸着される(吸着工程)。このとき、上記したように、吸着部材22が絶縁性の非金属材料で形成されていると、吸着部材22と基板6との接触による摩擦によって基板6が帯電することがあるが、本発明では、低圧又は真空状態である空間24を挟んで、導電体である金属螺子(又は金属棒等)23と基板6とが対向配置されているので、基板6から導電体への放電が助長され、基板6が確実に除電されることになる(除電工程)。
そして、この低圧又は真空を保持した状態で、駆動部4により搬送アーム2を上昇させ、その後水平方向に180度回転(旋回)させて、ベルトコンベア5上まで基板6を移動させる。
最後に、低圧又は真空を所定の速度で解除し、所定の速度でベルトコンベヤ5上に基板6を降ろす。この後、除電された基板6は、図示しない次の工程へ、ベルトコンベヤ5により搬送されていく。
ここで、上記「所定の速度」とは、基板6を損傷させずに吸着・搬送・吸着解除し、その間に除電が十分に行われる速度ということであって、基板6を損傷させず搬送等し、かつ、除電も十分に行うことができるのであれば、より速い速度であることが好ましい。
<搬送方法の効果>
上記搬送方法によれば、基板と、接地されている導電体とを非接触に保った状態で、真空放電により除電できるため、基板と導電体とが接触することによって生じるいわゆる金属コンタミの発生を抑制しつつ、確実に除電を行うことができる。
上記搬送方法によれば、基板と、接地されている導電体とを非接触に保った状態で、真空放電により除電できるため、基板と導電体とが接触することによって生じるいわゆる金属コンタミの発生を抑制しつつ、確実に除電を行うことができる。
なお、今回開示した実施形態はすべての点で例示であって、限定的な解釈の根拠となるものではない。従って、本発明の技術的範囲は、上記した実施形態のみによって解釈されるものではなく、特許請求の範囲の記載に基づいて画定される。また、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれる。
本発明に係る搬送装置及び搬送方法は、接地されている導電体と帯電している基板とを低圧又は真空を保持した状態で対向配置することで、基板を除電できることから、いわゆる金属コンタミを抑制した上で除電しつつ基板を搬送する種々の用途に利用することができる。
1 搬送装置
2(2A,2A′,2A″,2B,2C,2D,2E) 搬送アーム
3 真空ポンプ
4 駆動部
4a 駆動軸
5 ベルトコンベア
6 基板(半導体基板)
21 ベース部材
22 吸着部材
22a 吸着穴
22b 螺子穴(開口部)
22c 吸着面
23 金属螺子(金属棒,導電体)
23a 頭部
24 空間
25,25a,25b,25c,29 真空経路
2(2A,2A′,2A″,2B,2C,2D,2E) 搬送アーム
3 真空ポンプ
4 駆動部
4a 駆動軸
5 ベルトコンベア
6 基板(半導体基板)
21 ベース部材
22 吸着部材
22a 吸着穴
22b 螺子穴(開口部)
22c 吸着面
23 金属螺子(金属棒,導電体)
23a 頭部
24 空間
25,25a,25b,25c,29 真空経路
Claims (5)
- 接地された導電体を含むベース部材と、
前記ベース部材に固定され半導体基板と接触する絶縁体の吸着部材と、
前記吸着部材に接触した前記半導体基板を前記吸着部材を介して吸着する吸着機構部と、
前記吸着部材に開口部が設けられ、前記半導体基板の接触面の反対側に前記開口部の空間を挟んで前記導電体が配置された除電機構部とを備え、
前記空間が負圧にされていることを特徴とする半導体基板の搬送装置。 - 請求項1に記載の搬送装置であって、
前記ベース部材は前記導電体で構成されていることを特徴とする搬送装置。 - 請求項1または請求項2に記載の搬送装置であって、
前記空間を負圧にする真空経路が前記導電体に設けられていることを特徴とする搬送装置。 - 請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載の搬送装置であって、
前記開口部は前記半導体基板を吸着する吸着穴を兼ねていることを特徴とする搬送装置。 - 請求項1から請求項4までのいずれか1項に記載の搬送装置を用いた搬送方法であって、
前記半導体基板を前記吸着機構部によって吸着する工程と、
吸着された前記半導体基板を前記除電機構部によって除電する工程と、を含むことを特徴とする搬送方法。
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