JP2014059552A - 立体画像表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】重合性液晶化合物と、剥離防止剤を含む混合物を調製する。ここで、剥離防止剤は極性基として、ヒドロキシル基、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、アミノ基、メルカプト基、イソシアネート基のいずれかを有し、かつ重合性基を有する。そして、透明支持基材上に配向層を設け、パターン化処理し、前記の混合物を塗工、乾燥、硬化させることでパターン化位相差板を形成することで密着性等の信頼性に優れた立体画像表示装置が得られる。
【選択図】図3
Description
透明支持基材上に、同一平面内の隣接する領域において液晶分子の配向方向が異なる状態となるように処理を行った配向膜を設け、この配向膜上に重合性液晶化合物と剥離防止剤を含む重合性液晶層を設け、続いて、前記配向膜の配向処理方向に重合性液晶化合物を配向させ、光を照射して重合性液晶化合物の配向を固定化したパターン化位相差板を含む立体画像表示装置。
透明支持基材上に、液晶分子の配向方向が単一となるように処理を行った配向膜を設け、その配向膜上に重合性液晶化合物と剥離防止剤を含む第1の重合性液晶層を設け、続いて、前記配向膜の配向処理方向に重合性液晶化合物を配向させ、光を照射して重合性液晶化合物の配向を固定化し、続いて重合性液晶化合物と剥離防止剤を含む第2の重合性液晶層を第1の重合性液晶層上に第1の重合性液晶層の厚みを基準として0.4倍〜10.0倍となるように設け、第1の重合性液晶層と同一の方向に第2の重合性液晶化合物を配向させ、フォトマスクを用いて光を照射して重合性液晶化合物の配向を固定化させ、光が未照射の第2の重合性液晶層の部分を溶剤により除去あるいは加熱により等方相の状態で固定化したパターン化位相差板を含む立体画像表示装置。
102:出射光の偏光方向
103:パターン化位相差板(パターン化処理された1/4λ板)
104:パターン化位相差板における液晶の配向方向
105:パターン化位相差板を通過することで得られる円偏光の状態の模式図
106:円偏光メガネ
107:偏光メガネにより右目用と左目用に分離された画像
201:パターン化位相差板(第2の重合性液晶層を用いてパターン化処理された1/2λ板)
202:パターン化位相差板における液晶の配向方向
203:パターン化位相差板を通過することで得られる直線偏光の状態
204:第1の重合性液晶層
205:第1の重合性液晶層の液晶の配向方向
206:第2の重合性液晶層を等方相で硬化あるいは溶剤で除去した領域
301:透明支持基材
302:パターン配向処理した配向膜
303:重合性液晶層
401:単一配向処理した配向膜
402:第1の重合性液晶層
403:第1の重合性液晶層の配向方向
404:第2の重合性液晶層
405:第2の重合性液晶層の配向方向
406:第2の重合性液晶層を等方相で硬化あるいは溶剤で除去した領域
透明支持基材301は、ガラスまたは光学用プラスティックフィルムの総称である。
液晶化合物は、液晶相を有する化合物、および液晶相を有しないが液晶組成物の成分として有用な化合物の総称である。液晶相はネマチック相、スメクチック相、コレステリック相などであり、多くの場合ネマチック相を意味する。液晶相はその温度範囲より高い温度になると液晶状態(異方性)が消失し、液体状態となる。この液体状態が等方相の状態である。重合性は、光、熱、触媒などの手段により単量体が重合し、重合体を与える能力を意味する。式(M1)、式(M2)で表される化合物を化合物(M1)、化合物(M2)と表記することがある。その他の式で表される化合物についても同様である。(メタ)アクリレート[(meth)acrylate]は、アクリレート(acrylate)およびメタクリレート(methacrylate)の一方または両方を表す。化学式において、結合手がベンゼン環を構成する炭素原子のどれとも結合していないように表示されているベンゼン環の置換基は、その結合位置が任意であることを示す。
剥離防止剤が重合性基を有し、かつ極性基として、ヒドロキシル基、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、アミノ基、メルカプト基、およびイソシアネート基のいずれか1つ以上を有している重合性化合物であるか、または剥離防止剤が極性基として、ヒドロキシル基、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、アミノ基、メルカプト基、およびイソシアネート基のいずれか1つ以上を有しているポリマーである[1]または[2]項のいずれか一項に記載の立体画像表示装置。
1種または2種以上の剥離防止剤を重合性液晶化合物の全重量に対して、0.1〜20重量%含む[1]〜[3]項のいずれか一項に記載の立体画像表示装置。
液晶分子の配向方向の制御方法がラビング法、光配向処理法、ナノインプリンティング法、および延伸法のいずれかを用いた方法である[1]〜[4]項のいずれか一項に記載の立体画像表示装置。
剥離防止剤が重合性基としてアクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基のいずれかを有する重合性化合物である[1]〜[5]項のいずれか一項に記載の立体画像表示装置。
液晶表示素子を用いた[1]〜[6]項のいずれか一項に記載の立体画像表示装置。
剥離防止剤が重合性基を有し、かつ極性基として、ヒドロキシル基、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、アミノ基、メルカプト基、およびイソシアネート基のいずれかを有している重合性化合物であるか、または剥離防止剤が極性基として、ヒドロキシル基、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、アミノ基、メルカプト基、およびイソシアネート基のいずれか1つ以上を有しているポリマーである立体画像表示装置用パターン化位相差板への剥離防止剤としての使用。
[8]項に記載の剥離防止剤の使用による立体画像表示装置用パターン化位相差板の剥離防止の方法。
図3で示されるパターン化位相差板103は、以下のように配向膜302を事前に処理することで得ることができる。隣接する領域において重合性液晶層303の厚みが同一で、配向方向が互いに異なる状態を作る方法としては、例えばラビング法、光配向法、ナノインプリンティング法が挙げられる。ラビング法では、ポリイミドやポリビニルアルコール等の配向膜302を透明支持基材301上に形成後、まず全領域をラビング処理し、次にマスクを配向膜302上に設置した状態で1回目のラビング方向と異なる方向にラビングを行う。あるいは、国際公開2011/049326号に記載の方法等が例示される。 光配向法を用いる場合は、紫外線に反応する部位を有する光配向膜302を透明支持基材301上に形成し、フォトマスクを用いて偏光紫外線を光配向膜に照射する。次にフォトマスクをずらし、偏光紫外線が未照射の部分に1回目の偏光紫外線の偏光軸方向とは異なる偏光軸の偏光紫外線を照射する。あるいは、特開2012−14064号公報記載の方法等が例示される。このような事前処理をした配向膜に重合性液晶化合物を塗布し、加熱、光硬化させると図1におけるパターン化位相差板103が得られる。
あるいは、ナノインプリンティング法では、重合性液晶層に直接モールドを押し付ける方法が挙げられる。例えば、Journal of Nanoscience and Nanotechnology Vol.8 p.4775-4778 (2008)に記載の方法のように配向した重合性液晶層へモールドを押し付ける方法等が例示される。
また、特開2012−198325号公報記載の方法等も例示される。
ポリエチレングリコ−ルのモノアクリル酸エステルとしては下記式(A−2)に例示されるように、日油製ブレンマー AE−90(n=2)、AE−200(n=4.5)、AE−400(n=10)が挙げられる。ここで、ポリエチレングリコ−ル鎖の繰り返し単位数は、2〜10であることがより好ましい。
ポリプロピレングリコ−ルのモノメタアクリル酸エステルとしては、下記式(A−3)に例示されるように、日油製ブレンマー PP−1000(n=4〜6)、PP−500(n=9)、PP−800(n=13)が挙げられる。ここで、ポリプロピレングリコ−ル鎖の繰り返し単位数は、3〜13であることがより好ましい。
ポリプロピレングリコ−ルのモノアクリル酸エステルとしては、下記式(A−4)に例示されるように、日油製ブレンマー AP−150(n=3)、AP−400(n=6)、AP−550(n=9)、AP−800(n=13)が挙げられる。ここで、ポリプロピレングリコ−ル鎖の繰り返し単位数は、3〜13であることがより好ましい。
ポリ(エチレングリコール−プロピレングリコール)モノメタアクリル酸エステルとしては、下記式(A−5)で例示されるように、日油製ブレンマー 50PEP−300が挙げられる。ここで、Rを意味するエチレンオキシまたはプロピレンオキシは、ランダム共重合等から成る。エチレンオキシとプロピレンオキシの平均構成単位数(m)は、それぞれ、2.5及び3.5である。
ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコールモノメタアクリル酸エステルとしては、下記式(A−6)で例示されるように、日油製ブレンマー 70PEP−350B(m=5、n=2)が挙げられる。
ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコールモノアクリル酸エステルとしては、ブレンマーAEPシリーズが挙げられる。
ポリ(エチレングリコール−テトラメチレングリコール)モノメタアクリル酸エステルとしては、下記式(A−7)で例示されるように、日油製ブレンマー 55PET−400、30PET−800、55PET−800が挙げられる。ここで、ポリ(エチレングリコール−テトラメチレングリコール)の繰り返し単位数は、2〜10であることがより好ましい。式中で、Rを意味するエチレンオキシまたはブチレンオキシは、ランダム共重合等から成る。エチレンオキシとブチレンオキシの平均構成単位数(m)は、それぞれ、55PET−400では5と2であり、30PET−800では6と10であり、55PET−800では10と5である。
ポリ(エチレングリコール−テトラメチレングリコール)モノアクリル酸エステルとしては、日油製ブレンマーAETシリーズが挙げられる。
ポリ(プロピレングリコール−テトラメチレングリコール)モノメタアクリル酸エステルとしては、下記式(A−8)で例示されるように、日油製ブレンマー 30PPT−800、50PPT−800、70PPT−800が挙げられる。ここで、ポリ(プロピレングリコール−テトラメチレングリコール)鎖の繰り返し単位数は、3〜10であることがより好ましい。式中で、Rを意味するプロピレンオキシまたはブチレンオキシは、ランダム共重合等から成る。プロピレンオキシとブチレンオキシの平均構成単位数(m)は、それぞれ、30PPT−800では4と8であり、50PPT−800では7と6であり、70PPT−800では10と3である。
ポリ(プロピレングリコール−テトラメチレングリコール)モノアクリル酸エステルとしては、日油製ブレンマー APTシリーズが挙げられる。
プロピレングリコールポリブチレングリコールモノ((メタ)アクリル酸エステル)としては、日油製ブレンマー10PPB−500B(n=6)が下記式(A−9)で例示され、10APB−500B(n=6)が下記式(A−10)で例示される。ここで、プロピレングリコールポリブチレングリコール鎖の繰り返し単位数は6であることが、より好ましい。
2−メタクリロイロキシエチルコハク酸(共栄社化学製ライトエステルHO−MS(N)、2−メタクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸(共栄社化学製ライトエステルHO−HH(N)、2−アクリロイロキシエチルコハク酸(共栄社化学製ライトアクリレートHOA−MS(N)、2−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸(共栄社化学製ライトアクリレートHOA−HH(N)、2−アクリロイロキシエチルフタル酸(共栄社化学製ライトアクリレートHOA−MPL(N)、2−アクリロイロキシエチル−2−ヒドロキシエチル−フタル酸(共栄社化学製ライトアクリレートHOA−MPE(N)、
4−(2−アクリロイロキシエチ−1−イロキシ)ベンゾイックアシッド(Synthon Chemicals製ST01630)、
4−(3−アクリロイロキシ−n−プロプ−1−イロキシ)ベンゾイックアシッド(Synthon Chemicals製ST02453)、
4−(2−メタクリロイロキシエチ−1−イロキシ)ベンゾイックアシッド(Synthon Chemicals製ST01889)、
4−(4−アクリロイロキシ−n−ブチ−1−イロキシ)ベンゾイックアシッド(Synthon Chemicals製ST01680)、
4−(6−アクリロイロキシ−n−ヘキシ−1−イロキシ)ベンゾイックアシッド(Synthon Chemicals製ST00902)、
4−(6−アクリロイロキシ−n−ヘキシ−1−イロキシ)−2−メチルベンゾイックアシッド(Synthon Chemicals製ST03606)、
4−(6−メタクリロイロキシ−n−ヘキシ−1−イロキシ)ベンゾイックアシッド(Synthon Chemicals製ST01618)、
4−(10−アクリロイロキシ−n−デシ−1−イロキシ)ベンゾイックアシッド(Synthon Chemicals製ST03604)等が挙げられる。
2-アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート(共栄社化学製ライトアクリレートP−1A(N))、2-メタクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート(共栄社化学製ライトエステルP−1M)、共栄社化学製ライトエステルP−2M、日本化薬製KAYAMER(登録商標) PM−2)等が挙げられる。
2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(昭和電工製カレンズ(登録商標)MOI)、2−アクリロイルオキシエチルイソシアナート(昭和電工製カレンズAOI)、1,1−(ビスアクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート(昭和電工製カレンズBEI)、昭和電工製カレンズMOI−EG等が挙げられる。
アミノエチル化アクリルポリマー(日本触媒製ポリメント(登録商標)NK−350、NK−380、NK−100PM、NK−200PM)等が挙げられる。
式(M1)および式(M2)において、
P1は独立して重合性基であり、好ましくはアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、プロペニルエーテル基、グリシジル基、グリシジルエーテル基、オキセタニル基、オキセタニルエーテル基、マレイミド基、マレイミドカルボキシル基、チオール基、またはスチリル基である。
R1は独立して、水素、フッ素、塩素、−CNまたは炭素数1〜20のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも一つの−CH2−は、−O−、−COO−、または−OCO−で置き換えられてもよく、少なくとも一つの水素はハロゲンで置き換えられてもよい。
A1は独立して1,4−シクロへキシレン、1,4−フェニレン、ピリジン−2,5−ジイル、ピリミジン−2,5−ジイル、ナフタレン−2,6−ジイル、またはフルオレン−2,7−ジイルであるが、
少なくとも一つの水素はハロゲン、炭素数1〜7のアルキル、炭素数1〜7のハロゲン化アルキル、炭素数1〜7の分岐アルキル、エステル(−COORa;Raは炭素数1〜7の直鎖アルキル)、またはアシル(−CORb;Rbは炭素数1〜15の直鎖アルキル)で置き換えられてもよい。
X1は独立して単結合または炭素数1〜20のアルキレンであり、このアルキレン中の少なくとも一つの−CH2−は、−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよい。
Z1は独立して単結合、−COO−、−OCO−、−CH2CH2−、−CH=CH−、−C≡C−、−CH2O−、−OCH2−、−CF2O−、−OCF2−、−CH2CH2COO−、−OCOCH2CH2−、−CH=CHCOO−、または−OCOCH=CH−である。
sは独立して1〜5の整数である。
式(M1a)〜(M2c)において、P1は独立して重合性基であり、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、プロペニルエーテル基、グリシジル基、グリシジルエーテル基、オキセタニル基、オキセタニルエーテル基、マレイミド基、マレイミドカルボキシル基、チオール基、またはスチリル基である。好ましくはアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、グリシジル基、グリシジルエーテル基、オキセタニル基、オキセタニルエーテル基である。
R1は独立して水素、フッ素、塩素、−CNまたは炭素数1〜20のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも一つの−CH2−は、−O−、−COO−、または−OCO−で置き換えられてもよく、少なくとも一つの水素はハロゲンで置き換えられてもよい。
環A3は独立して、1,4−シクロへキシレン、または1,4−フェニレンである。
W1は独立してハロゲン、炭素数1〜7の直鎖アルキル、炭素数1〜7の直鎖アルコキシ、炭素数1〜7のハロゲン化アルキル、炭素数1〜7の分岐アルキル、エステル(−COORa;Raは炭素数1〜7の直鎖アルキル)、またはアシル(−CORb;Rbは炭素数1〜15の直鎖アルキル)である。
X1は独立して単結合または炭素数1〜20のアルキレンであり、このアルキレン中の少なくとも一つの−CH2−は、−O−、−COO−または−OCO−で置き換えられてもよい。
Z1は独立して−COO−、−OCO−、−CH2CH2−、−CH2O−、−OCH2−、−CH2CH2COO−、−OCOCH2CH2−、−CH=CHCOO−、または−OCOCH=CH−である。
pおよびqは独立して0または1である。
nは独立して0〜20の整数である。
(メタ)アクリル酸のアルキルエステル(アルキルの炭素数が、1〜18)、(メタ)アクリル酸のヒドロキシアルキルエステル(ヒドロキシアルキルの炭素数が、1〜18)、(メタ)アクリル酸のアミノアルキルエステル(アミノアルキルの炭素数が、1〜18)、(メタ)アクリル酸のエーテル酸素含有アルキルエステル(エーテル酸素含有アルキルの炭素数が、3〜18、例:メトキシエチルエステル、エトキシエチルエステル、メトキシプロピルエステル、メチルカルビルエステル、エチルカルビルエステル、およびブチルカルビルエステル)、N−ビニルアセトアミド、p−t−ブチル安息香酸ビニル、N,N−ジメチルアミノ安息香酸ビニル、安息香酸ビニル、ピバリン酸ビニル、2,2−ジメチルブタン酸ビニル、2,2−ジメチルペンタン酸ビニル、2−メチル−2−ブタン酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、2−エチル−2−メチルブタン酸ビニル、ジシクロペンタニルオキシルエチル(メタ)アクリレート、イソボルニルオキシルエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、ジメチルアダマンチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレートが挙げられる。
形成の第1の方法は、透明支持基材上に形成された配向層をパターン処理し、重合性液晶化合物と剥離防止剤の混合物またはその混合物の溶液を塗布、乾燥させて塗膜を形成させる。次に、その塗膜に光照射して重合させて、塗膜中の組成物が液晶状態で形成するネマチック配向を固定化する。
形成の第2の方法は、透明支持基材上に形成された配向層を均一配向処理し、重合性液晶化合物と剥離防止剤の混合物またはその混合物の溶液を塗布、乾燥させて塗膜を形成させ、同一方向に配向処理した重合性液晶層にフォトマスクを介し光照射で重合させ、ネマチック配向を固定化する。ここで未照射領域を溶剤で除去する。
形成の第3の方法は、透明支持基材上に形成された配向層を均一配向処理し、重合性液晶化合物と剥離防止剤の混合物またはその混合物の溶液を塗布、乾燥させて塗膜を形成させ、同一方向に配向処理した重合性液晶層にフォトマスクを介し光照射で重合させ、ネマチック配向を固定化する。ここで未照射領域を加熱により液晶相を発現しない等方相に変化させた状態で光もしくは熱で重合させる。
使用できる透明支持基材は、ガラスおよびプラスチックフィルムである。プラスチックフィルムの例は、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、セルロース、トリアセチルセルロースおよびその部分鹸化物、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、およびシクロオレフィン系樹脂などのフィルムが挙げられる。
重合性液晶化合物と剥離防止剤、添加剤、溶剤、その他の重合性化合物の組み合わせ。
重合性液晶化合物と剥離防止剤、添加剤、溶剤の組み合わせ。
重合性液晶化合物と剥離防止剤、添加剤、その他の重合性化合物の組み合わせ。
なお、重合性液晶化合物と剥離防止剤、添加剤の組み合わせや、重合性液晶化合物と剥離防止剤、添加剤、その他の重合性化合物の組み合わせとなる場合は重合性液晶組成物と表記される。
なお、透明支持基材を直接ラビング処理する方法や、延伸処理したフィルムを透明支持基材として適用することでも重合性液晶化合物が水平配向となる場合がある。
垂直配向剤を透明支持基材上に形成する場合は、オクタデシルトリエトキシシランなどのシランカップリング剤、レシチン、クロム錯体、垂直配向用のポリイミド系配向膜、ポリアミック酸配向膜の低温(180℃未満)焼成膜、ポリアミック酸配向膜の高温(180℃以上)焼成膜あるいは水溶性シルセスキオキサン膜などの利用が挙げられる。さらに電場や磁場などを用いてチルト角を制御することも可能である。
ここで、剥離防止剤を重合性液晶化合物の全重量に対して10重量%、重合開始剤としてイルガキュア(登録商標)907(BASFジャパン製)を重合性液晶化合物の全重量に対して5重量%、界面活性剤としてBYK−361N(ビッグケミー製)を、重合性液晶化合物の全重量に対して0.2重量%添加した。
その後、60℃で1分乾燥することで液晶分子を配向膜の各方向に配列させ、空気中において、室温で250Wの超高圧水銀灯を用い30mW/cm2(365nm)の強度の光を30秒間試料に照射することでパターン化された波長板のサンプルを得た。このサンプルをシンテック(株)製のOPTIPRO偏光解析装置を用い、基板上の液晶フィルムに波長が550nmの光を照射した。この光の入射角度をフィルム面に対して90度から減少させながらレタデーションを測定した。レタデーション(retardation;位相遅れ)は、Δn×dで表される。記号Δnは光学異方性であり、記号dは重合体フィルムの厚さである。入射角度がフィルム面に対して90度のときのレタデーションは約140nmであり、左右対称であったことから、チルト角は0度の1/4λ波長板であった。
[比較例1]
[比較例2]
Claims (9)
- 透明支持基材上に、同一平面内の隣接する領域において液晶分子の配向方向が異なる状態となるように処理を行った配向膜を設け、この配向膜上に重合性液晶化合物と剥離防止剤を含む重合性液晶層を設け、続いて、前記配向膜の配向処理方向に重合性液晶化合物を配向させ、光を照射して重合性液晶化合物の配向を固定化したパターン化位相差板を含む立体画像表示装置。
- 透明支持基材上に、液晶分子の配向方向が単一となるように処理を行った配向膜を設け、その配向膜上に第1の重合性液晶化合物と剥離防止剤を含む第1の重合性液晶層を設け、続いて、前記配向膜の配向処理方向に重合性液晶化合物を配向させ、光を照射して重合性液晶化合物の配向を固定化し、続いて重合性液晶化合物と剥離防止剤を含む第2の重合性液晶層を第1の重合性液晶層上に第1の重合性液晶層の厚みを基準として0.4倍〜10.0倍となるように設け、第1の重合性液晶層と同一の方向に第2の重合性液晶化合物を配向させ、フォトマスクを用いて光を照射して重合性液晶化合物の配向を固定化させ、光が未照射の第2の重合性液晶層の部分を溶剤により除去あるいは加熱により等方相の状態で固定化したパターン化位相差板を含む立体画像表示装置。
- 剥離防止剤が重合性基を有し、かつ極性基として、ヒドロキシル基、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、アミノ基、メルカプト基、およびイソシアネート基のいずれか1つ以上を有している重合性化合物であるか、または剥離防止剤が極性基として、ヒドロキシル基、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、アミノ基、メルカプト基、およびイソシアネート基のいずれか1つ以上を有しているポリマーである請求項1または2に記載の立体画像表示装置。
- 1種または2種以上の剥離防止剤を重合性液晶化合物の全重量に対して、0.1〜20重量%含む請求項1〜3のいずれか一項に記載の立体画像表示装置。
- 液晶分子の配向方向の制御方法がラビング法、光配向処理法、ナノインプリンティング法、および延伸法のいずれかを用いた方法である請求項1〜4のいずれか一項に記載の立体画像表示装置。
- 剥離防止剤が重合性基としてアクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基のいずれか1つ以上を有する重合性化合物である請求項1〜5のいずれか一項に記載の立体画像表示装置。
- 液晶表示素子を用いた請求項1〜6のいずれか一項に記載の立体画像表示装置。
- 剥離防止剤が重合性基を有し、かつ極性基として、ヒドロキシル基、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、アミノ基、メルカプト基、およびイソシアネート基のいずれかを有している重合性化合物であるか、または剥離防止剤が極性基として、ヒドロキシル基、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、アミノ基、メルカプト基、およびイソシアネート基のいずれか1つ以上を有しているポリマーである立体画像表示装置用パターン化位相差板への剥離防止剤としての使用。
- 請求項8に記載の剥離防止剤の使用による立体画像表示装置用パターン化位相差板の剥離防止の方法。
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