JP2014048129A - 物体検出装置および情報取得装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】装置の簡素化および小型化を図りつつ、ドットパターンのレーザ光を安定的に目標領域に照射することが可能な情報取得装置およびこれを搭載する物体検出装置を提供する。
【解決手段】発光装置10と、受光装置20とが、ベースプレート300に並べて設置される。発光装置10は、レーザ光源110と、コリメータレンズ120と、レーザ光を反射させる反射ミラー130と、反射されたレーザ光をドットパターンを有するレーザ光に変換するDOE140と、レーザ光源110に供給される電流を所定レベルに維持するACC制御回路とを備える。レーザ光源110、コリメータレンズ120および反射ミラー130が、ベースプレート300の表面に沿って直線状に並び、且つ、DOE140が目標領域に対向する。
【選択図】図10
【解決手段】発光装置10と、受光装置20とが、ベースプレート300に並べて設置される。発光装置10は、レーザ光源110と、コリメータレンズ120と、レーザ光を反射させる反射ミラー130と、反射されたレーザ光をドットパターンを有するレーザ光に変換するDOE140と、レーザ光源110に供給される電流を所定レベルに維持するACC制御回路とを備える。レーザ光源110、コリメータレンズ120および反射ミラー130が、ベースプレート300の表面に沿って直線状に並び、且つ、DOE140が目標領域に対向する。
【選択図】図10
Description
本発明は、目標領域に光を投射したときの反射光の状態に基づいて目標領域内の物体を検出する物体検出装置および当該物体検出装置に用いて好適な情報取得装置に関する。
従来、光を用いた物体検出装置が種々の分野で開発されている。いわゆる距離画像センサを用いた物体検出装置では、2次元平面上の平面的な画像のみならず、検出対象物体の奥行き方向の形状や動きを検出することができる。かかる物体検出装置では、レーザ光源やLED(Light Emitting Diode)から、予め決められた波長帯域の光が目標領域に投射され、その反射光がCMOSイメージセンサ等の受光素子により受光される。距離画像センサとして、種々のタイプのものが知られている。
所定のドットパターンを持つレーザ光を目標領域に照射するタイプの距離画像センサでは、ドットパターンを持つレーザ光の目標領域からの反射光が受光素子によって受光される。そして、ドットの受光素子上の受光位置に基づいて、三角測量法を用いて、検出対象物体の各部(検出対象物体上の各ドットの照射位置)までの距離が検出される(たとえば、非特許文献1)。
第19回日本ロボット学会学術講演会(2001年9月18−20日)予稿集、P1279−1280
上記構成の距離画像センサでは、ドットパターンのレーザ光を投射するための光学系として、レーザ光源と、コリメータレンズと、回折光学素子が用いられる。このうち、レーザ光源は、前記ドットパターンのレーザ光を安定的に目標領域に照射するよう制御される必要がある。
たとえば、出射光量をモニタして光出力レベルを調整するAPC(Auto PowerControl
)制御が、レーザ光源に適用され得る。APC制御には、たとえば、レーザ光源から出射されたレーザ光の一部を分岐させ、分岐されたレーザ光を光検出器で受光する構成が用いられ得る。しかしながら、この構成では、レーザ光を分岐させる構成が必要となるため、部品点数が増加し、構成の複雑化とコストの上昇を招く。また、光学系にレーザ光を分岐させる構成が必要となるため、装置の大型化も懸念される。
)制御が、レーザ光源に適用され得る。APC制御には、たとえば、レーザ光源から出射されたレーザ光の一部を分岐させ、分岐されたレーザ光を光検出器で受光する構成が用いられ得る。しかしながら、この構成では、レーザ光を分岐させる構成が必要となるため、部品点数が増加し、構成の複雑化とコストの上昇を招く。また、光学系にレーザ光を分岐させる構成が必要となるため、装置の大型化も懸念される。
本発明は、このような問題を解消するためになされたものであり、装置の簡素化および小型化を図りつつ、ドットパターンのレーザ光を安定的に目標領域に照射することが可能な情報取得装置およびこれを搭載する物体検出装置を提供することを目的とする。
本発明の第1の態様は、情報取得装置に関する。本態様に係る情報取得装置は、目標領域にドットパターンのレーザ光を照射する発光装置と、前記目標領域を撮像する受光装置と、前記発光装置と前記受光装置が並べて設置される支持部と、を備える。前記発光装置は、レーザ光源と、前記レーザ光源から出射されたレーザ光が入射するコリメータレンズと、前記コリメータレンズを透過した前記レーザ光を反射させるミラー部と、前記ミラー
部によって反射された前記レーザ光を前記ドットパターンを有するレーザ光に変換して前記目標領域に投射する回折光学素子と、前記レーザ光源に供給される電流を所定レベルに維持する定電流回路と、を備える。前記発光装置は、前記レーザ光源、前記コリメータレンズおよび前記ミラー部が、前記発光装置と前記受光装置が設置される前記支持部の設置面に沿って直線状に並び、且つ、前記回折光学素子が前記目標領域に対向するように、前記レーザ光源、前記コリメータレンズ、前記ミラー部および前記回折光学素子が前記支持部上に配置される。
部によって反射された前記レーザ光を前記ドットパターンを有するレーザ光に変換して前記目標領域に投射する回折光学素子と、前記レーザ光源に供給される電流を所定レベルに維持する定電流回路と、を備える。前記発光装置は、前記レーザ光源、前記コリメータレンズおよび前記ミラー部が、前記発光装置と前記受光装置が設置される前記支持部の設置面に沿って直線状に並び、且つ、前記回折光学素子が前記目標領域に対向するように、前記レーザ光源、前記コリメータレンズ、前記ミラー部および前記回折光学素子が前記支持部上に配置される。
本発明の第2の態様は、物体検出装置に関する。本態様に係る物体検出装置は、上記第1の態様に係る情報取得装置を有する。
本発明によれば、装置の小型化および簡素化を図りつつ、ドットパターンのレーザ光を安定的に目標領域に照射することが可能な情報取得装置およびこれを搭載する物体検出装置を提供することができる。
本発明の効果ないし意義は、以下に示す実施の形態の説明により更に明らかとなろう。ただし、以下に示す実施の形態は、あくまでも、本発明を実施化する際の一つの例示であって、本発明は、以下の実施の形態により何ら制限されるものではない。
以下、本発明の実施の形態につき図面を参照して説明する。本実施の形態には、所定のドットパターンを持つレーザ光を目標領域に照射するタイプの情報取得装置が例示されている。
まず、図1に本実施の形態に係る物体検出装置の概略構成を示す。図示の如く、物体検出装置は、情報取得装置1と、情報処理装置2とを備えている。テレビ3は、情報処理装置2からの信号によって制御される。
情報取得装置1は、目標領域全体に赤外光を投射し、その反射光をCMOSイメージセンサにて受光することにより、目標領域にある物体各部の距離(以下、「3次元距離情報」という)を取得する。取得された3次元距離情報は、ケーブル4を介して情報処理装置2に送られる。
情報処理装置2は、たとえば、テレビ制御用のコントローラやゲーム機、パーソナルコンピュータ等である。情報処理装置2は、情報取得装置1から受信した3次元距離情報に基づき、目標領域における物体を検出し、検出結果に基づきテレビ3を制御する。
たとえば、情報処理装置2は、受信した3次元距離情報に基づき人を検出するとともに、3次元距離情報の変化から、その人の動きを検出する。たとえば、情報処理装置2がテレビ制御用のコントローラである場合、情報処理装置2には、受信した3次元距離情報からその人のジェスチャを検出するとともに、ジェスチャに応じてテレビ3に制御信号を出力するアプリケーションプログラムがインストールされている。この場合、ユーザは、テレビ3を見ながら所定のジェスチャをすることにより、チャンネル切り替えやボリュームのUp/Down等、所定の機能をテレビ3に実行させることができる。
また、たとえば、情報処理装置2がゲーム機である場合、情報処理装置2には、受信した3次元距離情報からその人の動きを検出するとともに、検出した動きに応じてテレビ画面上のキャラクタを動作させ、ゲームの対戦状況を変化させるアプリケーションプログラムがインストールされている。この場合、ユーザは、テレビ3を見ながら所定の動きをすることにより、自身がテレビ画面上のキャラクタとしてゲームの対戦を行う臨場感を味わうことができる。
図2は、情報取得装置1と情報処理装置2の構成を示す図である。図2には、便宜上、投射光学系100と受光光学系200に関する方向を示すために、互いに直交するX−Y−Z軸が付されている。
情報取得装置1は、光学部の構成として、投射光学系100と受光光学系200とを備えている。投射光学系100と受光光学系200は、Z軸方向に並ぶように、情報取得装置1に配置される。
投射光学系100は、レーザ光源110と、コリメータレンズ120と、反射ミラー130と、回折光学素子(DOE:Diffractive Optical Element)140とを備えている
。また、受光光学系200は、フィルタ210と、アパーチャ220と、撮像レンズ230と、CMOSイメージセンサ240とを備えている。この他、情報取得装置1は、回路部の構成として、CPU(Central Processing Unit)21と、ACC制御回路22と、
撮像信号処理回路23と、入出力回路24と、メモリ25を備えている。
。また、受光光学系200は、フィルタ210と、アパーチャ220と、撮像レンズ230と、CMOSイメージセンサ240とを備えている。この他、情報取得装置1は、回路部の構成として、CPU(Central Processing Unit)21と、ACC制御回路22と、
撮像信号処理回路23と、入出力回路24と、メモリ25を備えている。
レーザ光源110は、いわゆるCANタイプの半導体レーザであり、受光光学系200から離れる方向(Z軸正方向)に波長830nm程度の狭波長帯域のレーザ光を出力する。コリメータレンズ120は、レーザ光源110から出射されたレーザ光を平行光から僅かに広がった光(以下、単に「平行光」という)に変換する。
反射ミラー130は、コリメータレンズ120側から入射されたレーザ光をDOE140に向かう方向(Y軸方向)に反射する。反射ミラー130は、入射したレーザ光の略全てを反射する、いわゆる全反射ミラーである。
DOE140は、入射面に回折パターンを有する。この回折パターンによる回折作用により、DOE140に入射したレーザ光は、ドットパターンのレーザ光に変換されて、目標領域に照射される。回折パターンは、たとえば、ステップ型の回折格子が所定のパターンで形成された構造とされる。回折格子は、コリメータレンズ120により平行光とされたレーザ光をドットパターンのレーザ光に変換するよう、パターンとピッチが調整されている。
DOE140は、反射ミラー130から入射されたレーザ光を、放射状に広がるドットパターンのレーザ光として、目標領域に照射する。ドットパターンの各ドットの大きさは、DOE140に入射する際のレーザ光のビームサイズに応じたものとなる。DOE140にて回折されないレーザ光(0次光)は、DOE140を透過してそのまま直進する。
なお、投射光学系100の詳細な構成は、追って図4ないし図9を参照して、説明する。
目標領域から反射されたレーザ光は、フィルタ210とアパーチャ220を介して撮像レンズ230に入射する。
フィルタ210は、レーザ光源110の出射波長(830nm程度)を含む波長帯域の光を透過し、可視光の波長帯域をカットするバンドパスフィルタである。アパーチャ220は、撮像レンズ230のFナンバーに合うように、外部からの光に絞りを掛ける。撮像レンズ230は、アパーチャ220を介して入射された光をCMOSイメージセンサ240上に集光する。
CMOSイメージセンサ240は、撮像レンズ230にて集光された光を受光して、画素毎に、受光量に応じた信号(電荷)を撮像信号処理回路23に出力する。ここで、CMOSイメージセンサ240は、各画素における受光から高レスポンスでその画素の信号(電荷)を撮像信号処理回路23に出力できるよう、信号の出力速度が高速化されている。
CPU21は、メモリ25に格納された制御プログラムに従って各部を制御する。かかる制御プログラムによって、CPU21には、レーザ光源110を制御するためのレーザ制御部21aと、3次元距離情報を生成するための距離演算部21bの機能が付与される。
ACC制御回路22は、CPU21(レーザ制御部21a)からの制御信号に応じてレーザ光源110を駆動する。ACC制御回路22は、電流検出部22aと電流調整部22bとを含み、いわゆるACC(Auto Current Control)制御を行う。電流検出部22aは、レーザ光源110に流れる電流の大きさを検出して、電流調整部22bへ出力する。電流調整部22bは、電流検出部22aで検出された電流の大きさに基づいて、レーザ光源110に流れる電流の大きさを、当該電流の大きさが予め定められた電流レベルとなるように調整する。
なお、予め定められる電流レベルは、所定の幅を有していてもよい。即ち、上限レベルと下限レベルとが規定され、レーザ光源110に流れる電流の大きさがこれら上限レベルと下限レベルとの間の値となるよう、電流が調整されてもよい。
撮像信号処理回路23は、CMOSイメージセンサ240を制御して、CMOSイメージセンサ240で生成された各画素の信号(電荷)をライン毎に順次取り込む。そして、取り込んだ信号を順次CPU21に出力する。CPU21は、撮像信号処理回路23から供給される信号(撮像信号)をもとに、情報取得装置1から検出対象物の各部までの距離を、距離演算部21bによる処理によって算出する。入出力回路24は、情報処理装置2とのデータ通信を制御する。
情報処理装置2は、CPU31と、入出力回路32と、メモリ33を備えている。なお、情報処理装置2には、同図に示す構成の他、テレビ3との通信を行うための構成や、CD−ROM等の外部メモリに格納された情報を読み取ってメモリ33にインストールするためのドライブ装置等が配されるが、便宜上、これら周辺回路の構成は図示省略されてい
る。
る。
CPU31は、メモリ33に格納された制御プログラム(アプリケーションプログラム)に従って各部を制御する。かかる制御プログラムによって、CPU31には、画像中の物体を検出するための物体検出部31aの機能が付与される。かかる制御プログラムは、たとえば、図示しないドライブ装置によってCD−ROMから読み取られ、メモリ33にインストールされる。
たとえば、制御プログラムがゲームプログラムである場合、物体検出部31aは、情報取得装置1から供給される3次元距離情報から画像中の人およびその動きを検出する。そして、検出された動きに応じてテレビ画面上のキャラクタを動作させるための処理が制御プログラムにより実行される。
また、制御プログラムがテレビ3の機能を制御するためのプログラムである場合、物体検出部31aは、情報取得装置1から供給される3次元距離情報から画像中の人およびその動き(ジェスチャ)を検出する。そして、検出された動き(ジェスチャ)に応じて、テレビ3の機能(チャンネル切り替えやボリューム調整、等)を制御するための処理が制御プログラムにより実行される。
入出力回路32は、情報取得装置1とのデータ通信を制御する。
図3(a)は、目標領域に対するレーザ光の照射状態を模式的に示す図、図3(b)は、CMOSイメージセンサ240におけるレーザ光の受光状態を模式的に示す図である。なお、同図(b)には、便宜上、目標領域に平坦な面(スクリーン)が存在するときの受光状態が示されている。
投射光学系100からは、ドットパターンを持ったレーザ光(以下、このパターンを持つレーザ光の全体を「DP光」という)が、目標領域に照射される。同図(a)には、DP光の光束領域が実線の枠によって示されている。DP光の光束中には、DOE140による回折作用によってレーザ光の強度が高められたドット領域(以下、単に「ドット」という)が、DOE140による回折作用によるドットパターンに従って点在している。
なお、図3(a)では、便宜上、DP光の光束が、マトリックス状に並ぶ複数のセグメント領域に区分されている。各セグメント領域には、ドットが固有のパターンで点在している。一つのセグメント領域におけるドットの点在パターンは、他のセグメント領域におけるドットの点在パターンと相違する。これにより、各セグメント領域は、ドットの点在パターンをもって、他のセグメント領域から区別可能となっている。
目標領域に平坦な面(スクリーン)が存在すると、これにより反射されたDP光の各セグメント領域は、同図(b)のように、CMOSイメージセンサ240上においてマトリックス状に分布する。たとえば、同図(a)に示す目標領域上におけるセグメント領域S0の光は、CMOSイメージセンサ240上では、同図(b)に示すセグメント領域Spに入射する。なお、図3(b)においても、DP光の光束領域が実線の枠によって示され、便宜上、DP光の光束が、マトリックス状に並ぶ複数のセグメント領域に区分されている。
上記距離演算部21bでは、CMOSイメージセンサ240上における各セグメント領域の位置が検出され、検出された各セグメント領域の位置から、三角測量法に基づいて、検出対象物体の各セグメント領域に対応する位置までの距離が検出される。かかる検出手法の詳細は、たとえば、上記非特許文献1(第19回日本ロボット学会学術講演会(20
01年9月18−20日)予稿集、P1279−1280)に示されている。
01年9月18−20日)予稿集、P1279−1280)に示されている。
図4は、本実施の形態に係る発光装置10の構成例を示す分解斜視図である。図5は、本実施の形態に係る発光装置10の組み立てが完了した状態を示す図である。発光装置10は、図2中の投射光学系100が他の部品とともにユニット化された装置である。なお、図4には、図2で示したX−Y−Z軸とともに、前後左右上下の方向が示されている。上下方向はY軸方向に平行、左右方向はX軸方向に平行、前後方向はZ軸方向に平行である。
図4を参照して、発光装置10は、上述のレーザ光源110と、コリメータレンズ120と、反射ミラー130と、DOE140の他に、レーザホルダ111と、レンズホルダ121と、DOEホルダ141と、ハウジング150と、押さえバネ160を備えている。
図示の如く、レーザ光源110は、ベース110aとCAN110bとを有する。ベース110aは、正面視において、外周が一部切り欠かれた円形の輪郭を有する。図6に示すように、CAN110bの内部には、ベース110aから前方に突出した基板110cの先端にレーザ素子110dが設置されている。レーザ素子110dの正面側から出射されたレーザ光は、CAN110bの正面に形成された出射口110eを通じてレーザ光源110の前方へ出射され、コリメータレンズ120に入射する。
図4に戻り、レーザホルダ111は、正面視において正方形の輪郭を有し、中央に円形の開口111aが形成された枠部材からなっている。開口111aは、レーザホルダ111を前後方向に貫通しており、径が異なる円柱状の2つの穴が同軸上に並んだ構成となっている。開口111aの前方の穴の径は後方の穴の径よりも大きくなっており、径が変化する境界には、リング状の段差が形成されている。開口111aの前方の穴の径は、レーザ光源110のベース110aの径よりも僅かに大きい。レーザ光源110のベース110aの後面が開口111a内の段差に当接するまで、前側からベース110aを開口111aに嵌め込むことにより、レーザ光源110がレーザホルダ111に対して位置決めされる。この状態で、ベース110aの外周の切り欠きに接着材が注入され、レーザ光源110がレーザホルダ111に接着固定される。
なお、レーザホルダ111は、亜鉛等の熱伝導率が高い物質により形成され、一般的なダイカスト鋳造によって製造される。
コリメータレンズ120は、円柱状の外周面を有する大径部120aと、大径部120aよりも径が小さい小径部120bを有する。
レンズホルダ121は、正面視において略円形の輪郭を有し、中央に開口121aが形成された枠部材からなっている。開口121aは、レンズホルダ121を前後方向に貫通しており、径が異なる円柱状の2つの穴が同軸上に並んだ構成となっている。開口121aの前方の穴の径は後方の穴の径よりも大きくなっており、径が変化する境界には、リング状の段差が形成されている。開口121aの前方の穴の径は、コリメータレンズ120の大径部120aの径よりも僅かに大きい。コリメータレンズ120の大径部120aの後面が開口121a内の段差に当接するまで、前側から大径部120aを開口121aに嵌め込むことにより、コリメータレンズ120がレンズホルダ121に対して位置決めされる。この状態で、コリメータレンズ120がレンズホルダ121に接着固定される。
レンズホルダ121の上面には、前後に延びる凹部121cが形成されている。凹部121cには、前後に延びる凸部121dが形成されている。レンズホルダ121の側面に
は、それぞれ、コリメータレンズ120とレンズホルダ121を接着固定する際に接着剤を流入させるための2つの溝121bが形成されている。
は、それぞれ、コリメータレンズ120とレンズホルダ121を接着固定する際に接着剤を流入させるための2つの溝121bが形成されている。
レンズホルダ121の下側面には、左右方向(X軸方向)に直線状に延びる矩形状の溝(図示せず)が形成されている。この溝は、レンズホルダ121の位置を前後方向(Z軸方向)に調整する際に用いられる。なお、この溝の中心とレンズホルダ121の周方向における凸部121dの中心は、互いに180度ずれた状態にある。したがって、凸部121dが真上を向くと、溝は真下を向く。
DOEホルダ141は、下面に、DOE140を装着するための段部(図示せず)が形成されている。また、DOEホルダ141の中央には、レーザ光を目標領域に導くための開口141aが形成されている。DOE140は、DOEホルダ141の下方向から、DOEホルダ141に嵌め込まれ、接着固定される。また、DOEホルダ141の左右の端部には、DOEホルダ141をハウジング150に固定するための段部141bが形成されている。
ハウジング150は、上面視において長方形の輪郭の、有底の枠部材からなっている。ハウジング150は、ネジ孔150hの形状を除いて、Y−Z平面に平行な面に対して左右対称な形状となっている。ハウジング150は、亜鉛等の熱伝導性の高い物質により形成され、一般的なダイカスト鋳造によって製造される。
ハウジング150の内部後側には、図示のごとく、YZ平面の面内方向に45°傾いたミラー装着部150aが形成されている。反射ミラー130は、ミラー装着部150aに装着され、接着固定される。また、ハウジング150の前方の側面には、U字型の開口150bが形成されている。開口150bの左右方向の幅は、レーザ光源110のCAN110bの径よりも大きい。
ハウジング150の底面には、Z軸調整用治具(図示せず)をレンズホルダ121の溝に案内するための孔(図示せず)が形成されている。この孔の径は、レンズホルダ121の溝のZ軸方向の幅よりも大きくなっている。ハウジング150の左右方向にならぶ2つの側面には、それぞれ、ハウジング150の内部にUV接着剤を流入させるための2つの孔150cが形成されている。
また、ハウジング150の左右方向にならぶ2つの内側面の下端には、互いに向き合う一対の傾斜面150dが形成されている。2つの傾斜面150dは、それぞれ、X−Z平面に平行な面に対して下方向に同じ角度だけ傾いている。2つの傾斜面150dにレンズホルダ121を載せると、レンズホルダ121は、X軸方向(左右方向)において、変位が規制される。
ハウジング150の上面には、DOEホルダ141を装着するための段部150eと、4つのネジ穴150fが形成されている。Z軸方向における段部150eの幅は、DOEホルダ141の左右の段部141bの幅よりも僅かに大きい。ハウジング150の左右方向に並ぶ2つの外側面の下端には、ハウジング150の外側方向に突出した2つの鍔部150gが形成されている。2つの鍔部150gには、それぞれ、後述するベースプレート300にハウジング150を固定するためのネジ孔150hが形成されている。
押さえバネ160は、バネ性のある板ばねであり、中央に、一段低い段部160aを有する。押さえバネ160は、左右対称な形状を有する。押さえバネ160には、押さえバネ160をハウジング150に上部から固定するための4つのネジ孔160bが形成されている。
発光装置10の組立時には、まず、図4において、反射ミラー130が、ハウジング150内のミラー装着部150aに装着される。これにより、反射ミラー130が、X−Z平面に対してY−Z平面の面内方向に45度の傾きを持つように、ハウジング150内に設置される。
次に、コリメータレンズ120が装着されたレンズホルダ121が、コリメータレンズ120側の溝とレンズホルダ121側の孔とが合うように、一対の傾斜面150d上に載せられ、ハウジング150の内部に収容される。このとき、凸部121dが真上を向くようにレンズホルダ121を傾斜面150d上に載せることで、溝121bと孔150cとを整合させることができる。
そして、押さえバネ160の4つのネジ孔160bがハウジング150の4つのネジ穴150fに合うように、押さえバネ160がハウジング150の上部に当てられる。この状態で、上方から、4つのネジ孔160bを介して、4つの金属製のネジ161が4つのネジ穴150fに螺着される。このとき、レンズホルダ121の凸部121dが、押さえバネ160の段部160aによって、下方向に押し付けられる。これにより、レンズホルダ121は、押さえバネ160の付勢によって、ハウジング150の傾斜面150dに押し付けられ、X軸方向(左右方向)、Y軸方向(上下方向)に動かないように仮固定される。
こうしてレンズホルダ121がハウジング150に仮固定されると、レンズホルダ121と、ハウジング150の内側面の間には、レンズホルダ121がZ軸方向(前後方向)に移動可能なように、所定の隙間が存在する。
次に、レーザ光源110のCAN110bがハウジング150のU字型の開口150bに挿入されるよう、レーザホルダ111の後面がハウジング150の外側面に当てられる。レーザ光源110のCAN110bとハウジング150の開口150bとの間には、レーザ光源110がXY軸方向(上下左右方向)に移動可能なように、所定の隙間が存在する。
この状態で、XY軸調整用治具(図示せず)により、レーザホルダ111をハウジング150に押し付けつつ、レーザ光源110がXY軸方向(上下左右方向)に変位され、XY軸方向(上下左右方向)の位置調整が行われる。これにより、レーザ光源110の光軸とコリメータレンズ120の光軸が整合する。また、ハウジング150の下部に形成された孔(図示せず)を介して、レンズホルダ121の溝にZ軸調整用治具(図示せず)が係合され、レンズホルダ121のZ軸方向(前後方向)の位置調整が行われる。これにより、コリメータレンズ120の焦点位置がレーザ光源110の発光点に対して適正に位置付けられる。
以上の位置調整によって、目標領域において所望のドットパターンが得られるようになる。
こうして位置調整がなされた後、レーザホルダ111の左右の2つの側面とハウジング150の側面との境界に、左右均等にUV接着剤が添着される。UV接着剤が添着された後、再度、レーザ光の光軸のずれが確認され、問題なければ、UV接着剤に紫外線が照射されて、レーザホルダ111がハウジング150に接着固定される。なお、レーザ光の光軸のずれの確認において問題があった場合には、再度、レーザホルダ111が微調整された後に、UV接着剤に紫外線が照射され、レーザホルダ111がハウジング150に接着固定される。
さらに、ハウジング150の左右の側面に形成された孔150cを介して、レンズホルダ121とハウジング150内部の傾斜面150dとが互いに当接する位置に、左右均等にUV接着剤が添着される。UV接着剤が添着された後、再度、レーザ光源110とコリメータレンズ120の位置関係が確認され、問題なければ、UV接着剤に紫外線が照射されて、レンズホルダ121がハウジング150に接着固定される。なお、レーザ光源110とコリメータレンズ120の位置関係の確認において問題があった場合には、再度、レンズホルダ121が微調整された後に、UV接着剤に紫外線が照射され、レンズホルダ121がハウジング150に接着固定される。
こうして、ハウジング150に対するレーザ光源110とコリメータレンズ120の設置が完了した後、DOE140が装着されたDOEホルダ141の段部141bがハウジング150の段部150eが嵌め込まれ、DOEホルダ141がハウジング150に固着される。こうして、図5に示すように、発光装置10の組み立てが完了する。
本実施の形態では、上記のように、レーザ光源110から出射されたレーザ光の光路が折り曲げられるよう投射光学系100が構成されているため、Y軸方向において、発光装置10を薄くすることができる。
図7ないし図9は、情報取得装置1の組立過程を示す斜視図である。なお、便宜上、受光装置20の組立過程と受光装置20のベースプレート300への装着過程は図示を省略する。受光装置20は、図2中の受光光学系200が他の部品とともにユニット化された装置である。
図7において、300は、発光装置10と受光装置20を支持するベースプレートである。
ベースプレート300には、発光装置10と受光装置20が配置される。ベースプレート300は、図示の如く、長方形の板状の形状を有している。また、ベースプレート300は、熱伝導性を有し、かつ、耐可撓性に優れるステンレス等からなる。
ベースプレート300には、発光装置10をベースプレート300に固定するための2つのネジ穴300aが形成されている。また、ベースプレート300には、発光装置10の設置位置を決める段部301が形成されている。発光装置10の設置位置は、あらかじめ、発光装置10の発光中心と受光装置20の受光中心が、互いにZ軸方向に並ぶように設定される。
また、発光装置10と受光装置20の設置間隔は、情報取得装置1と目標領域の基準面との距離に応じて、設定される。基準面は、どの程度離れた目標物を検出対象とするかによって、情報取得装置1との距離が変わる。検出対象の目標物までの距離が近くなるほど、発光装置10と受光装置20の設置間隔は狭くなる。逆に、検出対象の目標物までの距離が遠くなるほど、発光装置10と受光装置20の設置間隔は広くなる。
このように、ベースプレート300の大きさは、発光装置10と受光装置20の並び方向において広くなる。本実施の形態では、このように広い面積のベースプレート300が、発光装置10から発生する熱を放熱するためのヒートシンクとして用いられ、レーザ光源110の温度上昇が抑制される。また、ベースプレート300のハウジング150の底面が接触する部分(図中点線部)には、ハウジング150とベースプレート300の密着性を向上させるために、放熱樹脂300bが塗布される。
ベースプレート300の中央下部には、レーザ光源110の配線をベースプレート300の背部に取り出すための孔302が形成されている。また、ベースプレート300の受光装置20の設置位置の下部には、受光装置20のコネクタ202をベースプレート300の背部に露出させるための開口303が形成されている。さらに、ベースプレート300には、図示のごとく、鍔部304が形成されており、鍔部304には、後述するカバー400をベースプレート300に固定するためのネジ穴304aが形成されている。
受光装置20は、図2で示したように、フィルタ210と、アパーチャ220と、撮像レンズ230と、CMOSイメージセンサ240とを備えている。受光装置20は、基板固定部201により、ベースプレート300に固定されている。ベースプレート300の背面には、ベースプレート300に形成された開口303を介して、受光装置20のコネクタ202が露出している。
発光装置10は、ハウジング150の側面がベースプレート300の段部301に当接するように、配置される。発光装置10は、ベースプレート300の表面に塗布された放熱樹脂300bにより、ハウジング150の底面がベースプレート300に密着させられる。この状態で、2つのネジ穴300aと2つのネジ孔150hとが合わされ、2つの金属製のネジ305がそれぞれネジ孔150hとネジ穴300aに螺着される。なお、ネジ305は、ステンレス等の熱伝導率の高い金属からなる。これにより、発光装置10が、ベースプレート300に固着される。
こうして、図8に示す構成体が組み立てられる。その後、この構成体にカバー400が装着される(図9)。このとき、ベースプレート300のネジ穴304aと、カバー400のネジ孔400aが合わされ、カバー400がベースプレート300にネジ止めされる。これにより、図9に示す構成体の組立が完了する。図9(a)は、この構成体を前面から見た斜視図であり、図9(b)は、この構成体を背面から見た斜視図である。
カバー400の前面には、発光装置10から出射された光を目標物に導くための投射窓401と、目標物からの反射光を受光装置20に導くための受光窓402が形成されている。ベースプレート300の背面には、さらに、回路基板500(図10(a)参照)が設置される(図9には図示せず)。この回路基板500に対し、ベースプレート300の背部に形成された孔302を介して、レーザ光源110が接続される。また、回路基板500は、ベースプレート300の背部に形成された開口303を介して、受光装置20のコネクタ202と接続される。回路基板500には、図2に示すCPU21やACC制御回路22等の情報取得装置1の回路部が実装されている。
図10は、本実施の形態に係る発光装置10の構成と比較例における発光装置の構成を示す模式図である。
図10(a)を参照して、前述のとおり、本実施の形態におけるレーザ光源110は、出射光軸がZ軸に平行となるように設置される。レーザ光源110から出射されたレーザ光は、コリメータレンズ120により、略平行光に変換される。そして、コリメータレンズ120を透過したレーザ光が、反射ミラー130によりY軸正方向に反射されてDOE140に入射する。このように、本実施の形態では、投射光学系100のうち、レーザ光源110と、コリメータレンズ120と、反射ミラー130が、ベースプレート300の表面に沿って並ぶため、ハウジング150の目標領域に向かう方向(Y軸正方向)の高さHを非常に小さくすることができる。
これに対し、同図(b)に示す比較例1のように、投射光学系100を目標領域に向かう方向に並べた場合、投射光学系100のすべてが、目標領域に向かう方向に並ぶため、
ハウジング150の高さH0は、本実施の形態のハウジング150の高さHよりもかなり高くなる。
ハウジング150の高さH0は、本実施の形態のハウジング150の高さHよりもかなり高くなる。
また、レーザ光源110は、目標領域に安定的にDP光を照射するよう制御される必要がある。たとえば、レーザ光源110の発光量をフォトダイオードによりモニタし、発光量を調整するAPC(Auto Power Control)制御が、レーザ光源110に適用され得る。このようにAPC制御を行う場合、たとえば、同図(b)のような投射光学系100に、さらに、フロントモニタ方式の構成が適用され得る。しかしながら、このような場合、同図(c)に示す比較例2にように、フォトダイオード195にレーザ光を導くために、投射光路中にハーフミラー196等の分光素子を新たに配置する必要がある。この場合、ハウジング150の高さH’0は、比較例1に比べてさらに高いものとなる。
同図(a)に戻り、本実施の形態では、ACC制御回路22により、ACC制御を行うことにより、レーザ光源110に流れる電流を一定レベルに維持し、所望の発光量を維持するような構成とされている。よって、同図(c)に示す比較例2のように、新たに分光素子を用意する必要はないため、発光装置10の簡素化および薄型化を図ることができる。
以上、本実施の形態によれば、レーザ光源110から反射ミラー130までの光学系が、ベースプレート300の表面と平行に並んで設置され、反射ミラー130にて光軸が折り曲げられたレーザ光がDOE140に入射するため、投射光学系100を収容するハウジング150は、目標領域に向かう方向の高さが低くなる。よって、情報取得装置1の薄型化を図ることができる。
また、本実施の形態によれば、ACC制御回路22により、レーザ光源110に流れる電流の大きさが一定レベルに維持される。より具体的には、レーザ光源110に流れる電流がモニタされ、レーザ光源110に流れる電流の大きさが一定レベルとなるよう、ACC制御が行われる。よって、目標領域に対して安定的にDP光を照射することができる。
さらに、本実施の形態によれば、フォトダイオードを用いてレーザ光源110から出射されたレーザ光を検出するような構成ではないため、レーザ光を分岐させる構成は不要である。よって、部品点数の増加による構成の複雑化とコストの上昇を抑制できる。また、装置の大型化を抑制できる。
なお、レーザ光源110にフォトダイオードを内蔵し、バックモニタ方式のACC制御を行う構成とした場合には、フロントモニタ方式と異なり、分光素子等は不要となる。しかしながら、レーザ光源110にフォトダイオードが内蔵されている分、レーザ光源110の小型化が難しくなり、結果、発光装置10の更なる小型化が難しくなる。
本実施の形態では、レーザ光源110にフォトダイオードが内蔵されないので、レーザ光源110の小型化が図り易く、発光装置10の更なる小型化が容易となる。これにより、情報取得装置1の小型化を図ることができる。
以上、本発明の実施の形態について説明したが、本発明は、上記実施の形態に何ら制限されるものではなく、また、本発明の実施の形態も上記の他に種々の変更が可能である。
たとえば、上記実施の形態では、CANタイプのレーザ光源110が用いられたが、これに限らず、たとえば、フレームタイプのレーザ光源(以下、「フレームレーザ」という)が用いられてもよい。
図11は、フレームレーザ170の構成を示す図である。
フレームレーザ170は、半導体レーザであり、フレーム171と、レーザ素子172と、3つの端子173とを備える。
フレーム171は、上下方向に扁平な形状を有する。フレーム171には、収容部171aが形成されており、収容部171aにレーザ素子172が配置されている。収容部171aの前面は、出射口171bとして開口している。なお、上下方向が、フレームレーザ170の厚み方向となり、左右方向が、フレームレーザ170の幅方向となる。
また、フレーム171は、前部171cが後述するレーザホルダの開口部に嵌め込まれる。前部171cの上部の両側面171dは、前部171cに続く後部171eの両側面171fより内側に窪んでいる。
3つの端子173は、レーザ素子172と電気的に接続されている。各端子173は、回路基板500に搭載されたACC制御回路22に電気的に接続される。
レーザ素子172の正面側から出射されたレーザ光は、出射口171bを通じてフレームレーザ170の前方へ出射される。
図12は、レーザホルダ180に対するフレームレーザ170の取付構造について説明するための図である。図12(a)は、フレームレーザ170がレーザホルダ180に装着される前の状態を示す。図12(b)は、フレームレーザ170がレーザホルダ180に装着された状態を示す。図12(c)は、フレームレーザ170がレーザホルダ180に装着された状態を示す水平断面図である。
レーザホルダ180には、中央に開口部181が形成されている。開口部181は、図12(a)に示す如く、フレームレーザ170におけるフレーム171の前部171cに対応した形状を有する。図12(c)に示すように、フレームレーザ170の傾斜面171gが開口部181の傾斜面181aに当接するまで、フレームレーザ170の前部171cを開口部181に嵌め込むことにより、フレームレーザ170がレーザホルダ180に対して位置決めされる。この状態で、フレームレーザ170がレーザホルダ180に接着固定される。
フレームレーザ170が装着されたレーザホルダ180が、レーザホルダ111と同様(図8参照)、ハウジング150に装着される。レーザホルダ180がハウジング150に装着された状態において、フレームレーザ170の厚み方向(図12(a)のY軸方向)が、反射ミラー130によるレーザ光の反射方向と平行となる。
このように、フレームレーザ170を用いるとともに、フレームレーザ170の厚み方向が、反射ミラー130によるレーザ光の反射方向と平行となるように、フレームレーザ170をハウジング150内に配置するような構成とすれば、ハウジング150(発光装置10)のY軸方向の高さを一層小さくすることが可能となり、情報取得装置1を一層薄型化することが可能となる。
また、上記実施の形態では、レーザ光源110を収容するレーザホルダ111を設けたが、ハウジング150内に直接、レーザ光源110が収容されるようにしてもよい。フレームレーザ170が用いられた場合も同様に、ハウジング150内に直接、フレームレーザ170が収容されるようにしてもよい。
また、上記実施の形態では、定電流回路として、ACC制御回路22が用いられ、ACC制御回路22により、レーザ光源110に流れる電流の大きさをフィードバックしてレーザ光源110に流れる電流の大きさを一定レベルに維持するACC制御が実行される。しかしながら、レーザ光源110に流れる電流をフィードバックせずに、レーザ光源110に一定レベルの電流を供給する定電流回路が用いられてもよい。ただし、ACC制御回路22を用いることにより、より高精度に、レーザ光源110に流れる電流を一定レベルに維持することが可能となる。
また、上記実施の形態では、反射ミラー130がYZ平面の面内方向に45°傾くように、ミラー装着部150aが形成されたが、目標領域の方向に応じて、ミラーの傾きは、どの方向に傾かせても良く、また、傾き角度も任意に変更可能である。
また、ドットパターンのレーザ光を用いる手法であれば、種々の距離検出原理の情報取得装置に本発明を適用可能である。
また、上記実施の形態では、受光素子として、CMOSイメージセンサ240を用いたが、これに替えて、CCDイメージセンサを用いることもできる。さらに、受光光学系200の構成も、適宜変更可能である。また、情報取得装置1と情報処理装置2は一体化されても良いし、情報取得装置1と情報処理装置2がテレビやゲーム機、パーソナルコンピュータと一体化されても良い。
本発明の実施の形態は、特許請求の範囲に示された技術的思想の範囲内において、適宜、種々の変更が可能である。
1 … 情報取得装置
10 … 発光装置
20 … 受光装置
22 … ACC制御回路(定電流回路)
22a … 電流検出部
22b … 電流調整部
110 … レーザ光源
120 … コリメータレンズ
130 … 反射ミラー(ミラー部)
140 … DOE(回折光学素子)
150 … ハウジング
300 … ベースプレート(支持部)
170 … フレームレーザ(レーザ光源)
10 … 発光装置
20 … 受光装置
22 … ACC制御回路(定電流回路)
22a … 電流検出部
22b … 電流調整部
110 … レーザ光源
120 … コリメータレンズ
130 … 反射ミラー(ミラー部)
140 … DOE(回折光学素子)
150 … ハウジング
300 … ベースプレート(支持部)
170 … フレームレーザ(レーザ光源)
Claims (5)
- 目標領域にドットパターンのレーザ光を照射する発光装置と、
前記目標領域を撮像する受光装置と、
前記発光装置と前記受光装置が並べて設置される支持部と、を備え、
前記発光装置は;
レーザ光源と、
前記レーザ光源から出射されたレーザ光が入射するコリメータレンズと、
前記コリメータレンズを透過した前記レーザ光を反射させるミラー部と、
前記ミラー部によって反射された前記レーザ光を前記ドットパターンを有するレーザ光に変換して前記目標領域に投射する回折光学素子と、
前記レーザ光源に供給される電流を所定レベルに維持する定電流回路と、を備え、
前記レーザ光源、前記コリメータレンズおよび前記ミラー部が、前記発光装置と前記受光装置が設置される前記支持部の設置面に沿って直線状に並び、且つ、前記回折光学素子が前記目標領域に対向するように、前記レーザ光源、前記コリメータレンズ、前記ミラー部および前記回折光学素子が前記支持部上に配置される、
ことを特徴とする情報取得装置。 - 請求項1に記載の情報取得装置において、
前記定電流回路は;
前記レーザ光源に流れる電流の大きさを検出する電流検出部と、
前記電流検出部により検出された電流の大きさに基づいて、前記レーザ光源に流れる電流を調整する電流調整部と、を含む、
ことを特徴とする情報取得装置。 - 請求項1または2に記載の情報取得装置において、
前記レーザ光源、前記コリメータレンズ、前記ミラー部および前記回折光学素子を保持するハウジングを備え、前記ハウジングが、前記支持部上に設置される、
ことを特徴とする情報取得装置。 - 請求項1ないし3の何れか一項に記載の情報取得装置において、
前記レーザ光源は、フレームタイプの半導体レーザであり、当該半導体レーザの厚み方向が、前記ミラー部による前記レーザ光の反射方向に平行となるよう、前記半導体レーザが前記支持部に配置される、
ことを特徴とする情報取得装置。 - 請求項1ないし4の何れか一項に記載の情報取得装置を有する物体検出装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012190651A JP2014048129A (ja) | 2012-08-30 | 2012-08-30 | 物体検出装置および情報取得装置 |
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JP (1) | JP2014048129A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022043988A1 (en) * | 2020-08-31 | 2022-03-03 | Arc-Y-Tec Ltd. | A multi-directional pattern projector and a hyper-resolution pattern projector |
-
2012
- 2012-08-30 JP JP2012190651A patent/JP2014048129A/ja active Pending
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WO2022043988A1 (en) * | 2020-08-31 | 2022-03-03 | Arc-Y-Tec Ltd. | A multi-directional pattern projector and a hyper-resolution pattern projector |
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