JP2014043108A - Transparent film and surface protective film using the transparent film - Google Patents

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PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent film excellent in the scratch resistance of the back and a surface protective film having the transparent film.SOLUTION: A transparent film 10 includes a base material layer 12 made of a transparent resin material and a back layer 14 which is formed on a first surface 12A of the base material layer 12 and has a thickness of 1 μm or below. In the transparent film 10, the break starting load of the back layer 14 in a scratch test is at least 50 mN, and the friction coefficient of the back layer 14 is 0.4 or below.

Description

本発明は、背面に擦過傷のつきにくい透明フィルムおよび該フィルムを備えた表面保護フィルムに関する。   The present invention relates to a transparent film that is less likely to be scratched on the back surface and a surface protective film including the film.

表面保護フィルム(表面保護シートともいう。)は、一般に、フィルム状の支持体上に粘着剤が設けられた構成を有する。かかる保護フィルムは、上記粘着剤を介して被着体に貼り合わされ、これにより該被着体を加工、搬送時等の傷や汚れから保護する目的で用いられる。例えば、液晶ディスプレイパネルの製造において液晶セルに貼り合わされる偏光板は、いったんロール形態に製造された後、このロールから巻き出して液晶セルの形状に応じた所望のサイズにカットして用いられる。ここで、偏光板が中間工程(例えば、ロール形態の偏光板の製造時、該偏光板の使用時等における搬送工程)において搬送ロール等と擦れて傷つくことを防止するために、該偏光板の片面または両面(典型的には片面)に表面保護フィルムを貼り合わせる対策がとられている。表面保護フィルムに関する技術文献として特許文献1および2が挙げられる。   A surface protective film (also referred to as a surface protective sheet) generally has a configuration in which an adhesive is provided on a film-like support. Such a protective film is attached to an adherend via the pressure-sensitive adhesive, and is used for the purpose of protecting the adherend from scratches and dirt during processing and transportation. For example, a polarizing plate to be bonded to a liquid crystal cell in the production of a liquid crystal display panel is once manufactured in a roll form, and then unwound from the roll and cut into a desired size according to the shape of the liquid crystal cell. Here, in order to prevent the polarizing plate from being rubbed and damaged by a transport roll or the like in an intermediate step (for example, a transport step in the production of a roll-shaped polarizing plate or when the polarizing plate is used) Measures are taken to attach a surface protective film to one side or both sides (typically one side). Patent documents 1 and 2 are mentioned as technical literature about a surface protection film.

特開2003−320631号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2003-320631 特開2005−314563号公報JP 2005-314563 A

このような表面保護フィルムとしては、該フィルムを貼り付けたまま被着体(例えば偏光板)の外観検査を行い得ることから、透明性を有するものが好ましく用いられる。近年、上記外観検査のしやすさ等の観点から、表面保護フィルムの外観品位に対する要求レベルが高くなってきている。特に、表面保護フィルムの背面(被着体に貼り付けられる面とは反対側の面)に擦過傷がつきにくい性質が求められている。表面保護フィルムに擦過傷が存在すると、その傷が被着体の傷なのか、あるいは表面保護フィルムの傷なのかが、表面保護フィルムを貼り付けた状態のままでは判断できないためである。   As such a surface protective film, a transparent one is preferably used since the appearance inspection of an adherend (for example, a polarizing plate) can be performed with the film attached. In recent years, the required level for the appearance quality of the surface protection film has been increased from the viewpoint of the ease of appearance inspection. In particular, there is a demand for the property that the back surface of the surface protective film (the surface opposite to the surface attached to the adherend) is not easily scratched. This is because if the surface protective film has scratches, it cannot be determined whether the surface protective film is attached to the adherend or the surface protective film.

そこで本発明は、背面に擦過傷がつきにくく(すなわち、耐スクラッチ性に優れ)、したがって表面保護フィルムの支持体等の用途に好適な透明フィルムを提供することを目的とする。本発明の他の目的は、かかる透明フィルムの片面に粘着剤層を有する構成の表面保護フィルムを提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a transparent film that is less likely to be scratched on the back surface (that is, excellent in scratch resistance) and is therefore suitable for uses such as a support for a surface protective film. Another object of the present invention is to provide a surface protective film having a structure having an adhesive layer on one side of the transparent film.

本発明により提供される透明フィルムは、透明な樹脂材料からなる基材層と、該基材層の第一面上に設けられた背面層と、を有する。前記背面層の厚みは1μm以下である。前記透明フィルムは、スクラッチ試験における前記背面層の破壊開始荷重が50mN以上であり、かつ、前記背面層の摩擦係数が0.4以下である。   The transparent film provided by the present invention has a base material layer made of a transparent resin material, and a back layer provided on the first surface of the base material layer. The back layer has a thickness of 1 μm or less. In the transparent film, the fracture start load of the back layer in the scratch test is 50 mN or more, and the friction coefficient of the back layer is 0.4 or less.

かかる構成の透明フィルムによると、上記背面層を利用して、上記基材層に良好な耐スクラッチ性を付与することができる。このように耐スクラッチ性に優れた透明フィルムは、該フィルム越しに製品の外観検査を精度よく行い得ることから、表面保護フィルムの支持体として好適である。また、上記背面層は厚みが小さいので、基材層の特性(光学特性、寸法安定性等)に及ぼす影響が少なく好ましい。また、背面層の厚みが1μmよりも大きすぎると、該背面層が着色しやすい成分を含む場合に透明フィルム全体の着色が目立つようになったり、背面層の形成に伴って硬化収縮が生じる場合に該収縮により透明フィルムがカールしやすくなったりすることがあり得る。所望の性能(例えば耐スクラッチ性)が実現される範囲で背面層の厚みを小さくすることは、上記着色やカールを防止または軽減し得るという点からも好ましい。前記基材層を構成する樹脂材料としては、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂等のポリエステル樹脂をベース樹脂とするものを好ましく採用し得る。   According to the transparent film having such a configuration, it is possible to impart good scratch resistance to the base material layer using the back layer. Thus, the transparent film excellent in scratch resistance is suitable as a support for the surface protective film because it can accurately inspect the appearance of the product through the film. Moreover, since the said back layer is small in thickness, there is little influence on the characteristics (optical characteristics, dimensional stability, etc.) of a base material layer, and it is preferable. In addition, when the thickness of the back layer is more than 1 μm, when the back layer contains components that are easily colored, the coloring of the entire transparent film becomes conspicuous, or curing shrinkage occurs with the formation of the back layer Further, the shrinkage may cause the transparent film to be easily curled. It is also preferable to reduce the thickness of the back layer within a range in which desired performance (for example, scratch resistance) is achieved, from the viewpoint that the above-described coloring and curling can be prevented or reduced. As the resin material constituting the base material layer, a material using a polyester resin such as polyethylene terephthalate resin or polyethylene naphthalate resin as a base resin can be preferably used.

ここに開示される技術の好ましい一態様では、該透明フィルムの背面層の塑性指数Psと基材層の塑性指数Pbとの比(Ps/Pb;以下、これを「塑性指数比」ともいう。)が1.5以上である。ここで、上記背面層の塑性指数Psは、上記透明フィルムを構成する背面層に、先端曲率半径0.1μmのバーコピッチ型ダイヤモンド製圧子を垂直に押し込んで深さ10nmにおける押し込み弾性率および硬度を測定し、該弾性率を硬度で除して求められる。また、上記基材層の塑性指数比は、背面層を有しない基材層に上記圧子を垂直に押し込んで深さ10nmにおける押し込み弾性率および硬度を測定し、該弾性率を硬度で除して求められる。   In a preferred embodiment of the technology disclosed herein, the ratio (Ps / Pb; hereinafter referred to as “plastic index ratio”) of the plastic index Ps of the back surface layer of the transparent film and the plastic index Pb of the base material layer. ) Is 1.5 or more. Here, the plastic index Ps of the back layer was measured by indenting elastic modulus and hardness at a depth of 10 nm by vertically pushing a barco pitch type diamond indenter having a radius of curvature of 0.1 μm into the back layer constituting the transparent film. The modulus of elasticity is obtained by dividing by the hardness. The plastic index ratio of the base material layer is determined by measuring the indentation elastic modulus and hardness at a depth of 10 nm by pressing the indenter vertically into the base material layer having no back layer, and dividing the elastic modulus by the hardness. Desired.

上記塑性指数比を満たす透明フィルムは、背面層の上から加えられた擦過応力が基材層に及んで該基材層が変形する場合、背面層が基材層よりも大きな塑性指数を有するので、該基材層の変形によく追随して変形することができる。このことによって、上記擦過応力による背面層の破損が防止される(すなわち、破壊開始荷重が高くなる)ので、上記破壊開始荷重を満たし耐スクラッチ性に優れた透明フィルムが適切に実現され得る。   A transparent film satisfying the above plastic index ratio has a plastic index larger than that of the base layer when the base layer is deformed when the scratch stress applied from above the back layer is applied to the base layer. The substrate layer can be deformed by following the deformation of the base material layer. This prevents the back layer from being damaged by the fretting stress (that is, the breaking start load becomes high), so that a transparent film satisfying the breaking start load and excellent in scratch resistance can be appropriately realized.

ここに開示される透明フィルムは、前記背面層に粘着テープを貼り付け、該粘着テープを前記背面層から剥離速度0.3m/分、剥離角度180度の条件で剥離して測定される剥離力(背面剥離力)が2N/19mm以上であることが好ましい。かかる剥離力を示す透明フィルムは、表面保護フィルムの支持体として好適である。すなわち、保護の役目を終えた表面保護フィルムは、被着体(例えば、偏光板等の光学部材)から引き剥がして除去される。このとき、表面保護フィルムの背面(背面層の表面)に粘着テープを貼り付けて該粘着テープを引っ張ることで表面保護フィルムの端部を被着体から分離することにより、表面保護フィルムを除去する際の作業性を向上させるとともに、被着体にかかる負担を軽減することができる。上記透明フィルムを支持体とする表面保護フィルムは、背面層が適度な剥離力を有するので、上記粘着テープを利用した剥離作業に適している。   The transparent film disclosed herein has a peeling force measured by applying an adhesive tape to the back layer, and peeling the adhesive tape from the back layer at a peeling speed of 0.3 m / min and a peeling angle of 180 degrees. It is preferable that (back surface peeling force) is 2 N / 19 mm or more. A transparent film exhibiting such peeling force is suitable as a support for the surface protective film. That is, the surface protective film that has finished its protective function is removed by peeling off from the adherend (for example, an optical member such as a polarizing plate). At this time, the surface protective film is removed by separating the end of the surface protective film from the adherend by applying the adhesive tape to the back surface (surface of the back layer) of the surface protective film and pulling the adhesive tape. The workability at the time can be improved and the burden on the adherend can be reduced. The surface protective film using the transparent film as a support is suitable for a peeling operation using the pressure-sensitive adhesive tape because the back layer has an appropriate peeling force.

前記背面層の構造としては、強度および生産性等の観点から、単層構造が好ましい。また、前記背面層は、前記基材層の第一面上に直接設けられていることが好ましい。背面層と基材層との間に一または二以上の中間層が介在された構成では、上記中間層と基材層および背面層との密着性が不足して、背面層の破壊開始荷重が低下しやすくなる(耐スクラッチ性が低下する)場合がある。したがって、ここに開示される破壊開始荷重を実現するためには、基材層上に背面層が直接設けられた構成を採用することが有利である。   The structure of the back layer is preferably a single layer structure from the viewpoint of strength and productivity. Moreover, it is preferable that the said back surface layer is provided directly on the 1st surface of the said base material layer. In the configuration in which one or more intermediate layers are interposed between the back layer and the base material layer, the adhesion between the intermediate layer, the base material layer and the back surface layer is insufficient, and the fracture start load of the back layer is reduced. It tends to decrease (scratch resistance decreases). Therefore, in order to realize the fracture initiation load disclosed herein, it is advantageous to adopt a configuration in which the back layer is directly provided on the base material layer.

好ましい一態様では、前記背面層が滑剤を含む樹脂材料からなる。ここで滑剤とは、樹脂材料に配合されることでその摩擦係数を低下させる作用を有する成分をいう。このように滑剤を含む樹脂材料からなる背面層によると、ここに開示される好ましい摩擦係数が実現されやすく、したがって耐スクラッチ性に優れた透明フィルムが実現されやすいので好ましい。   In a preferred embodiment, the back layer is made of a resin material containing a lubricant. Here, the term “lubricant” refers to a component having an action of reducing the coefficient of friction when blended with a resin material. Thus, the back layer made of a resin material containing a lubricant is preferable because the preferable friction coefficient disclosed herein is easily realized, and thus a transparent film excellent in scratch resistance is easily realized.

好ましい一態様では、前記背面層が、帯電防止成分を含む樹脂材料からなる。かかる構成の透明フィルムでは、背面層を利用して耐スクラッチ性および帯電防止性を付与することができる。したがって、背面層とは別に帯電防止層を設けた構成に比べて透明フィルムの生産性がよい。また、背面層と基材層との間に帯電防止層を介在させる構成に比べて背面層と基材層との密着性を高めることができるので、上記破壊開始荷重を満たし耐スクラッチ性に優れた透明フィルムが実現されやすい。前記帯電防止成分としては、良好な帯電防止性と高い耐スクラッチ性とを両立させやすいことから、導電性ポリマーを好ましく採用することができる。   In a preferred embodiment, the back layer is made of a resin material containing an antistatic component. In the transparent film having such a configuration, scratch resistance and antistatic properties can be imparted using the back layer. Therefore, the productivity of the transparent film is better than the configuration in which the antistatic layer is provided separately from the back layer. In addition, since the adhesion between the back surface layer and the base material layer can be improved as compared with the configuration in which the antistatic layer is interposed between the back surface layer and the base material layer, the above fracture start load is satisfied and the scratch resistance is excellent. Transparent film is easy to realize. As the antistatic component, a conductive polymer can be preferably employed because it is easy to achieve both good antistatic properties and high scratch resistance.

本発明によると、また、ここに開示されるいずれかの透明フィルムを支持体として備える表面保護フィルムが提供される。該表面保護フィルムは、典型的には、前記透明フィルムと、該透明フィルムの前記背面層とは反対側の表面に設けられた粘着剤層とを備える。かかる表面保護フィルムは、特に光学部品用の表面保護フィルムとして好適である。   According to the present invention, there is also provided a surface protective film provided with any transparent film disclosed herein as a support. The surface protective film typically includes the transparent film and an adhesive layer provided on the surface of the transparent film opposite to the back layer. Such a surface protective film is particularly suitable as a surface protective film for optical parts.

本発明に係る表面保護フィルムの一構成例を示す模式的断面図である。It is typical sectional drawing which shows one structural example of the surface protection film which concerns on this invention. 本発明に係る表面保護フィルムの他の構成例を示す模式的断面図である。It is typical sectional drawing which shows the other structural example of the surface protection film which concerns on this invention. スクラッチ痕の一例を示す光学顕微鏡像である。It is an optical microscope image which shows an example of a scratch mark. 破壊開始荷重の測定方法を示す模式的説明図である。It is typical explanatory drawing which shows the measuring method of a fracture start load.

以下、本発明の好適な実施形態を説明する。なお、本明細書において特に言及している事項以外の事柄であって本発明の実施に必要な事柄は、当該分野における従来技術に基づく当業者の設計事項として把握され得る。本発明は、本明細書に開示されている内容と当該分野における技術常識とに基づいて実施することができる。
また、図面に記載の実施形態は、本発明を明瞭に説明するために模式化されており、製品として実際に提供される本発明の透明フィルムまたは表面保護フィルムのサイズや縮尺を正確に表したものではない。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. Note that matters other than matters specifically mentioned in the present specification and necessary for the implementation of the present invention can be grasped as design matters of those skilled in the art based on the prior art in this field. The present invention can be carried out based on the contents disclosed in this specification and common technical knowledge in the field.
Further, the embodiment described in the drawings is schematically illustrated for clearly explaining the present invention, and accurately represents the size and scale of the transparent film or the surface protective film of the present invention actually provided as a product. It is not a thing.

ここに開示される透明フィルムは、耐スクラッチ性に優れることから、粘着シートの支持体その他の用途に好ましく利用され得る。かかる粘着シートは、一般に、粘着テープ、粘着ラベル、粘着フィルム等と称される形態のものであり得る。なかでも表面保護フィルムの支持体として適しており、該フィルム越しに製品の外観検査を精度よく行い得ることから、特に光学部品(例えば、偏光板、波長板等の液晶ディスプレイパネル構成要素として用いられる光学部品)の加工時や搬送時に該光学部品の表面を保護する表面保護フィルム用の支持体として好適である。ここに開示される表面保護フィルムは、上記透明フィルムの片面に粘着剤層を有することによって特徴付けられる。上記粘着剤層は、典型的には連続的に形成されるが、かかる形態に限定されるものではなく、例えば点状、ストライプ状等の規則的あるいはランダムなパターンに形成された粘着剤層であってもよい。また、ここに開示される表面保護フィルムは、ロール状であってもよく、枚葉状であってもよい。   Since the transparent film disclosed here is excellent in scratch resistance, it can be preferably used for the support of the pressure-sensitive adhesive sheet and other uses. Such a pressure-sensitive adhesive sheet may generally have a form called a pressure-sensitive adhesive tape, a pressure-sensitive adhesive label, a pressure-sensitive adhesive film, or the like. Among them, it is suitable as a support for a surface protective film, and since it can accurately inspect the appearance of products through the film, it is particularly used as an optical component (for example, a liquid crystal display panel component such as a polarizing plate or a wave plate). It is suitable as a support for a surface protective film that protects the surface of the optical component during processing or transportation of the optical component. The surface protective film disclosed herein is characterized by having an adhesive layer on one side of the transparent film. The pressure-sensitive adhesive layer is typically formed continuously, but is not limited to such a form. For example, the pressure-sensitive adhesive layer is a pressure-sensitive adhesive layer formed in a regular or random pattern such as a spot or stripe. There may be. In addition, the surface protective film disclosed herein may be in the form of a roll or a single sheet.

ここに開示される透明フィルムを支持体として有する表面保護フィルムの典型的な構成例を図1に模式的に示す。この表面保護フィルム1は、透明フィルム(支持体)10と粘着剤層20とを備える。透明フィルム10は、透明な樹脂フィルムからなる基材層12と、その第一面12A上に直接設けられた厚さ1μm以下の背面層14とからなる。粘着剤層20は、反対側の透明フィルム10のうち背面層14とは反対側の表面に設けられている。表面保護フィルム1は、この粘着剤層20を被着体(保護対象、例えば偏光板等の光学部品の表面)に貼り付けて使用される。使用前(すなわち、被着体への貼付前)の保護フィルム1は、典型的には図2に示すように、粘着剤層20の表面(被着体への貼付面)が、少なくとも粘着剤層20側が剥離面となっている剥離ライナー30によって保護された形態であり得る。あるいは、表面保護フィルム1がロール状に巻回されることにより透明フィルム10の背面(背面層14の表面)に粘着剤層20が当接してその表面が保護された形態であってもよい。   A typical configuration example of a surface protective film having the transparent film disclosed herein as a support is schematically shown in FIG. The surface protective film 1 includes a transparent film (support) 10 and an adhesive layer 20. The transparent film 10 includes a base material layer 12 made of a transparent resin film and a back layer 14 having a thickness of 1 μm or less provided directly on the first surface 12A. The pressure-sensitive adhesive layer 20 is provided on the opposite surface of the transparent film 10 on the opposite side to the back layer 14. The surface protective film 1 is used by sticking the pressure-sensitive adhesive layer 20 to an adherend (a surface to be protected, for example, the surface of an optical component such as a polarizing plate). As shown in FIG. 2, the protective film 1 before use (that is, before sticking to the adherend) typically has at least the pressure-sensitive adhesive on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 20 (sticking surface to the adherend). It may be in a form protected by a release liner 30 having a release surface on the layer 20 side. Or the form by which the adhesive layer 20 contact | abutted on the back surface (surface of the back surface layer 14) of the transparent film 10 and the surface was protected by winding the surface protection film 1 in roll shape may be sufficient.

ここに開示される透明フィルムの基材層は、各種の樹脂材料を透明なフィルム状に成形してなる樹脂フィルム(基材フィルム)であり得る。上記樹脂材料としては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性、などのうち一または二以上の特性に優れた基材フィルムを構成し得るものが好ましい。例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等の、ポリエステル系ポリマー;ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等の、セルロース系ポリマー;ポリカーボネート系ポリマー;ポリメチルメタクリレート等の、アクリル系ポリマー;等をベース樹脂(樹脂成分のなかの主成分、すなわち50質量%以上を占める成分)とする樹脂材料から構成された樹脂フィルムを、上記基材層として好ましく用いることができる。上記樹脂材料の他の例としては、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体等の、スチレン系ポリマー;ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン−プロピレン共重合体等の、オレフィン系ポリマー;塩化ビニル系ポリマー;ナイロン6、ナイロン6,6、芳香族ポリアミド等の、アミド系ポリマー;等をベース樹脂とするものが挙げられる。ベース樹脂の他の例として、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー等が挙げられる。上述したポリマーの二種以上のブレンド物からなる基材層であってもよい。上記基材層は、光学特性(位相差等)の異方性が少ないほど好ましい。特に、光学部品用表面保護フィルムの支持体として用いられる透明フィルムでは、基材層の光学的異法性を少なくすることが有益である。基材層は、単層構造であってもよく、組成の異なる複数の層が積層された構造であってもよい。典型的には単層構造である。   The base material layer of the transparent film disclosed here may be a resin film (base material film) formed by molding various resin materials into a transparent film shape. As the resin material, those capable of constituting a base film excellent in one or more properties among transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding property, isotropy, and the like are preferable. For example, polyester polymers such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate; cellulose polymers such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose; polycarbonate polymers; acrylic polymers such as polymethyl methacrylate; etc. A resin film composed of a resin material having a base resin (a main component of the resin component, that is, a component occupying 50% by mass or more) can be preferably used as the base material layer. Other examples of the resin material include styrene polymers such as polystyrene and acrylonitrile-styrene copolymers; olefin polymers such as polyethylene, polypropylene, polyolefins having a cyclic or norbornene structure, and ethylene-propylene copolymers; Examples thereof include vinyl chloride polymers; amide polymers such as nylon 6, nylon 6, 6, and aromatic polyamide; Other examples of base resins include imide polymers, sulfone polymers, polyether sulfone polymers, polyether ether ketone polymers, polyphenylene sulfide polymers, vinyl alcohol polymers, vinylidene chloride polymers, vinyl butyral polymers, arylates. Examples thereof include a polymer, a polyoxymethylene polymer, and an epoxy polymer. The base material layer may be composed of a blend of two or more of the above-described polymers. The said base material layer is so preferable that there is little anisotropy of an optical characteristic (phase difference etc.). In particular, in a transparent film used as a support for a surface protective film for optical components, it is beneficial to reduce the optical illegality of the base material layer. The base material layer may have a single layer structure or a structure in which a plurality of layers having different compositions are laminated. Typically a single layer structure.

基材層の厚さは目的に応じて適宜選択できるが、強度や取扱性等の作業性と、コストや外観検査性等との兼ね合いから、通常は10μm〜200μm程度とすることが適当であり、15μm〜100μm程度とすることが好ましく、20μm〜70μmとすることがより好ましい。
基材層の屈折率は、通常は1.43〜1.6程度とすることが適当であり、1.45〜1.5程度とすることが好ましい。また、基材の透明性の観点から、基材層は70%〜99%の光線透過率を有することが好ましく、該透過率が80%〜97%(例えば85%〜95%)であることがより好ましい。
The thickness of the base material layer can be appropriately selected according to the purpose, but it is usually appropriate to be about 10 μm to 200 μm from the viewpoint of workability such as strength and handleability and cost and appearance inspection properties. The thickness is preferably about 15 μm to 100 μm, and more preferably 20 μm to 70 μm.
The refractive index of the base material layer is usually suitably about 1.43 to 1.6, preferably about 1.45 to 1.5. From the viewpoint of the transparency of the substrate, the substrate layer preferably has a light transmittance of 70% to 99%, and the transmittance is 80% to 97% (for example, 85% to 95%). Is more preferable.

上記基材層を構成する樹脂材料には、必要に応じて、酸化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止成分、可塑剤、着色剤(顔料、染料等)等の各種添加剤が配合されていてもよい。基材層の第一面(背面層が設けられる側の表面)には、例えば、コロナ放電処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、酸処理、アルカリ処理、下塗り剤の塗布等の、公知または慣用の表面処理が施されていてもよい。このような表面処理は、例えば、基材層と背面層との密着性を高めるための処理であり得る。基材層の表面にヒドロキシル基(−OH基)等の極性基が導入されるような表面処理を好ましく採用し得る。また、ここに開示される表面保護フィルムにおいて、該表面保護フィルムを構成する透明フィルムは、その基材層の第二面(粘着剤層が形成される側の表面)に上記と同様の表面処理が施されていてもよい。かかる表面処理は、透明フィルム(支持体)と粘着剤層との密着性(粘着剤層の投錨性)を高めるための処理であり得る。   Various additives such as antioxidants, ultraviolet absorbers, antistatic components, plasticizers, colorants (pigments, dyes, etc.) are blended in the resin material constituting the base material layer as necessary. Also good. For example, corona discharge treatment, plasma treatment, ultraviolet irradiation treatment, acid treatment, alkali treatment, and application of a primer are applied to the first surface of the base material layer (the surface on the side where the back layer is provided). Surface treatment may be performed. Such a surface treatment can be, for example, a treatment for improving the adhesion between the base material layer and the back surface layer. A surface treatment in which a polar group such as a hydroxyl group (—OH group) is introduced on the surface of the substrate layer can be preferably employed. Moreover, in the surface protective film disclosed herein, the transparent film constituting the surface protective film is the same surface treatment as described above on the second surface of the base material layer (the surface on the side where the pressure-sensitive adhesive layer is formed). May be given. Such a surface treatment may be a treatment for improving the adhesion between the transparent film (support) and the pressure-sensitive adhesive layer (the anchoring property of the pressure-sensitive adhesive layer).

ここに開示される透明フィルムは、上記基材層の片面(第一面)に、厚さ1μm以下(典型的には0.02μm〜1μm)の背面層を有する。該透明フィルムは、後述するスクラッチ試験により測定される上記背面層の破壊開始荷重が50mN以上である。かかる破壊開始荷重を満たす透明フィルムは耐スクラッチ性に優れる。例えば、後述する耐スクラッチ性評価において、目視で背面層の脱落屑が認められない。したがって、表面保護フィルム(特に、偏光板その他の光学部品の製造や搬送の際に用いられる表面保護フィルム)の支持体として好適である。破壊開始荷重の上限は特に限定されないが、他の特性(印字性、背面剥離力、光線透過率等)とのバランスを考慮して、通常は破壊開始荷重を300mN以下(例えば150mN以下)とすることが適当である。ここに開示される透明フィルムの好ましい一態様では、上記破壊開始荷重が50mN〜300mN(例えば50mN〜150mN)である。
上記破壊開始荷重は、例えば、23℃、50%RHの測定環境下において、先端曲率半径10μmの円錐型ダイヤモンド製圧子を用いて0〜300mNまで荷重を増加させつつ透明フィルムの背面(すなわち背面層の表面)を一方向に擦過(スクラッチ)し、そのスクラッチ痕上の破壊開始点の長さが2μmより大きくなった箇所に対応する荷重として求められる(より具体的な測定方法については、後述する実験例参照)。上記条件で得られたスクラッチ痕の一例を図3に示す。
The transparent film disclosed here has a back layer having a thickness of 1 μm or less (typically 0.02 μm to 1 μm) on one surface (first surface) of the base material layer. The transparent film has a fracture start load of the back layer measured by a scratch test described later of 50 mN or more. A transparent film satisfying such a fracture initiation load is excellent in scratch resistance. For example, in the scratch resistance evaluation to be described later, the back layer is not visually removed. Therefore, it is suitable as a support for a surface protective film (particularly, a surface protective film used in the production and transportation of polarizing plates and other optical components). The upper limit of the fracture start load is not particularly limited, but usually the fracture start load is set to 300 mN or less (for example, 150 mN or less) in consideration of balance with other characteristics (printability, back surface peeling force, light transmittance, etc.). Is appropriate. In a preferred embodiment of the transparent film disclosed herein, the fracture start load is 50 mN to 300 mN (for example, 50 mN to 150 mN).
For example, in the measurement environment of 23 ° C. and 50% RH, the fracture start load is increased to 0 to 300 mN using a conical diamond indenter having a tip curvature radius of 10 μm, and the back surface of the transparent film (that is, the back layer) Is obtained as a load corresponding to a location where the length of the fracture start point on the scratch mark is greater than 2 μm (more specific measurement method will be described later). See experimental example). An example of scratch marks obtained under the above conditions is shown in FIG.

上記透明フィルムを構成する背面層の摩擦係数は0.4以下である。このことによって、背面層に荷重(スクラッチ傷を生じさせるような荷重)が加わった場合に、その荷重を背面層の表面に沿って受け流し、該荷重による摩擦力を軽減することができる。したがって、上記摩擦力によって背面層が凝集破壊したり、背面層が基材層から剥がれたり(界面破壊)してスクラッチ傷を生じる事象を防止することができる。摩擦係数の下限は特に限定されないが、他の特性(印字性、背面剥離力、光線透過率等)とのバランスを考慮して、通常は摩擦係数を0.1以上(典型的には0.1以上0.4以下)とすることが適当であり、0.15以上(典型的には0.15以上0.4以下)とすることが好ましい。
上記摩擦係数としては、例えば、23℃、50%RHの測定環境下において、透明フィルムの背面(すなわち背面層の表面)を垂直荷重40mNで擦過して求められる値を採用することができる(より具体的な測定方法については、後述する実験例参照)。上記摩擦係数が実現されるように摩擦係数を低下させる(調整する)手法としては、背面層に各種滑剤(レベリング剤等)を含有させる方法、架橋剤の添加や成膜条件の調整により背面層の架橋密度を高める方法、等を適宜採用することができる。
The friction coefficient of the back layer constituting the transparent film is 0.4 or less. As a result, when a load (a load that causes scratching) is applied to the back surface layer, the load can be received along the surface of the back surface layer, and the frictional force due to the load can be reduced. Accordingly, it is possible to prevent an event in which the back layer is agglomerated and broken due to the frictional force, or the back layer is peeled off from the base material layer (interface breakage) to cause scratches. The lower limit of the friction coefficient is not particularly limited. However, considering the balance with other characteristics (printability, back surface peeling force, light transmittance, etc.), the friction coefficient is usually 0.1 or more (typically 0. 0). 1 to 0.4) is appropriate, and 0.15 or more (typically 0.15 to 0.4) is preferable.
As the friction coefficient, for example, a value obtained by rubbing the back surface of the transparent film (that is, the surface of the back layer) with a vertical load of 40 mN in a measurement environment of 23 ° C. and 50% RH can be adopted (more For specific measurement methods, see the experimental examples described later). As a method of reducing (adjusting) the friction coefficient so that the above friction coefficient is realized, a method of including various lubricants (leveling agents, etc.) in the back layer, addition of a cross-linking agent and adjustment of film forming conditions can be used. A method of increasing the cross-linking density can be appropriately employed.

ここに開示される技術の好ましい一態様では、透明フィルムを構成する背面層の厚さが1μm以下であるという構造上の特徴から、このように薄い背面層を備える透明フィルムにおいて特に効果的な耐スクラッチ性向上手法を採用する。すなわち、背面層がある程度(例えば5μm以上)の厚さを有する場合には、該背面層の硬度を高くすることにより上記破壊開始荷重を向上させ(換言すれば、荷重に耐えうる強度の層を形成し)、耐スクラッチ性を高めることができる。ところが本発明者は、背面層の厚さが1μm以下の透明フィルムでは、上記技術思想をそのまま適用したのでは耐スクラッチ性の向上が的確に達成されないことを見出した。これは、背面層が薄い構造の透明フィルムでは、該背面層に加わった荷重が基材層に及んで該基材層を変形させやすいためと考えられる。   In a preferred embodiment of the technology disclosed herein, the structural characteristics that the thickness of the back layer constituting the transparent film is 1 μm or less, and this is particularly effective in a transparent film having such a thin back layer. Adopt a scratch improvement technique. That is, when the back layer has a certain thickness (for example, 5 μm or more), the fracture start load is improved by increasing the hardness of the back layer (in other words, a layer having a strength that can withstand the load). Forming) and improving scratch resistance. However, the present inventor has found that in the case of a transparent film having a back layer thickness of 1 μm or less, improvement in scratch resistance cannot be achieved accurately if the above technical idea is applied as it is. This is considered to be because, in a transparent film having a thin back layer structure, the load applied to the back layer easily reaches the base layer and deforms the base layer.

本発明者は、薄い背面層を備える透明フィルムについて、該背面層の破壊挙動を詳細に検討した結果、かかる構造において基材層を変えずに薄い背面層の硬度だけを高くすると、上記荷重に対する基材層の変形に背面層の変形が追従できず、このため基材層と背面層との間で密着不良が生じて破壊開始荷重が低下することを見出した。そして、かかる事象を防止して耐スクラッチ性を向上させるためには、背面層の塑性指数Psと基材層の塑性指数Pbとの比として定義される塑性指数比(Ps/Pb)を1.5以上とすることが有効であることを見出したのである。ここで、上記塑性指数Ps,Pbは、例えば、23℃、50%RHの測定環境下において、先端曲率半径0.1μmのバーコピッチ(三角錐)型ダイヤモンド製圧子を垂直に押し込んで深さ10nm付近の押込み弾性率および硬度を測定し、上記弾性率の測定値を硬度の測定値で除すことにより算出することができる(より具体的な測定例については、後述する実験例参照)。この塑性指数が高いほど、荷重に対して変形しやすいといえる。すなわち、Ps/Pbが1.5以上であるということは、背面層が基材層の変形に十分追従し得る変形性を備えていることを意味する。Ps/Pbを2以上とすることにより、より良好な耐スクラッチ性が実現され得る。Ps/Pbの上限は特に限定されないが、他の特性(摩擦係数等)とのバランスを考慮して、通常は50以下とすることが適当である。好ましい一態様では、Ps/Pbが1.5以上3以下である。他の好ましい一態様として、Ps/Pbが1.5以上50以下(例えば10以上50以下、より好ましくは20以上50以下)であってもよい。これら好ましいPs/Pbの値は、例えば、基材層がポリエステル系樹脂材料(典型的には、PET系樹脂材料)からなる透明フィルムに好ましく適用され得る。なお、一般的なPETフィルムの塑性指数は概ね10〜20程度である。   As a result of examining in detail the fracture behavior of the back layer of the transparent film having a thin back layer, the present inventor found that when only the hardness of the thin back layer was increased without changing the base material layer in such a structure, It has been found that the deformation of the back surface layer cannot follow the deformation of the base material layer, and therefore, an adhesion failure occurs between the base material layer and the back surface layer, and the fracture start load is reduced. In order to prevent such an event and improve the scratch resistance, the plastic index ratio (Ps / Pb) defined as the ratio between the plastic index Ps of the back layer and the plastic index Pb of the base material layer is set to 1. It has been found that it is effective to set it to 5 or more. Here, the plastic indexes Ps and Pb are, for example, in a measurement environment of 23 ° C. and 50% RH, a barco pitch (triangular pyramid) diamond indenter having a radius of curvature of 0.1 μm is vertically pushed, and a depth of about 10 nm. It can be calculated by measuring the indentation elastic modulus and hardness and dividing the measured value of the elastic modulus by the measured value of hardness (for more specific measurement examples, see the experimental examples described later). It can be said that the higher the plasticity index, the easier it is to deform with respect to the load. That is, that Ps / Pb is 1.5 or more means that the back layer has a deformability that can sufficiently follow the deformation of the base material layer. By setting Ps / Pb to 2 or more, better scratch resistance can be realized. The upper limit of Ps / Pb is not particularly limited, but it is usually appropriate to set it to 50 or less in consideration of balance with other characteristics (friction coefficient and the like). In a preferred embodiment, Ps / Pb is 1.5 or more and 3 or less. As another preferable embodiment, Ps / Pb may be 1.5 or more and 50 or less (for example, 10 or more and 50 or less, more preferably 20 or more and 50 or less). These preferable values of Ps / Pb can be preferably applied to, for example, a transparent film in which the base material layer is made of a polyester resin material (typically, a PET resin material). In addition, the plastic index of a general PET film is about 10-20.

ここに開示される好ましい塑性指数比(Ps/Pb)および摩擦係数をいずれも満たすように構成された透明フィルムによると、上述した好ましい破壊開始荷重が容易に達成され得る。このような透明フィルムは、その背面に受けた摩擦力に対し、上記摩擦係数を有することにより該摩擦力を効率よく軽減し得ることと、上記塑性指数比を有することにより上記摩擦力による基材層の変形に背面層が十分追従し得ることとが相俟って、特に高い耐スクラッチ性を示すものとなり得る。したがって、かかる透明フィルムは、表面保護フィルムの支持体として好適である。   According to the transparent film configured to satisfy both the preferable plastic index ratio (Ps / Pb) and the friction coefficient disclosed herein, the above-described preferable fracture initiation load can be easily achieved. Such a transparent film can efficiently reduce the frictional force by having the friction coefficient with respect to the frictional force received on the back surface thereof, and the base material by the frictional force by having the plastic index ratio. Combined with the fact that the back layer can sufficiently follow the deformation of the layer, it can exhibit particularly high scratch resistance. Therefore, such a transparent film is suitable as a support for the surface protective film.

上記背面層は、該背面層に粘着テープを貼り付けて剥離速度0.3m/分、剥離角度180度の条件で剥離して測定される剥離力(背面剥離力)が2N/19mm以上であることが好ましく、3N/19mm以上であることがより好ましい。ここに開示される技術を表面保護フィルムに適用する場合には、上記剥離力を有することが特に有意義である。剥離力が低すぎると、上記剥離層に粘着テープを貼り付けて被着体から表面保護フィルムを除去する際の作業性が低下しがちとなる場合がある。剥離力の上限は特に限定されないが、他の特性(摩擦係数等)とのバランスを考慮し、またロール状に巻き取った後に巻き戻す場合に自背面に粘着剤が付着する(糊残り)事象を防止するために、通常は10N/19mm以下とすることが好ましく、例えば6N/19mm以下とするとよい。ここに開示される技術の好ましい一態様では、上記背面剥離力が2〜10N/19mm(より好ましくは3〜6N/19mm)である。なお、上記剥離力は、例えば日東電工社製の片面粘着テープ、商品名「No.31B」を用いて、23℃、50%RHの環境下において測定することにより得られる(より具体的な測定方法については、後述する実験例参照)。   The back layer has a peel force (back peel force) of 2 N / 19 mm or more measured by peeling off under the conditions of a peel speed of 0.3 m / min and a peel angle of 180 degrees by sticking an adhesive tape to the back layer. It is preferably 3N / 19 mm or more. When the technique disclosed herein is applied to a surface protective film, it is particularly meaningful to have the above-described peeling force. If the peeling force is too low, the workability at the time of removing the surface protective film from the adherend by attaching an adhesive tape to the release layer may tend to be reduced. The upper limit of the peeling force is not particularly limited, but in consideration of the balance with other characteristics (coefficient of friction, etc.), and when the roll is rewound after being rolled up, the adhesive adheres to the back surface (glue residue) In order to prevent this, it is usually preferably 10 N / 19 mm or less, for example, 6 N / 19 mm or less. In a preferable aspect of the technology disclosed herein, the back surface peeling force is 2 to 10 N / 19 mm (more preferably 3 to 6 N / 19 mm). In addition, the said peeling force is obtained by measuring in the environment of 23 degreeC and 50% RH using the single-sided adhesive tape by the Nitto Denko Corporation, brand name "No. 31B", for example (more specific measurement). For the method, refer to the experimental examples described later).

ここに開示される技術における印字性とは、油性インキにより(例えば、油性マーキングペンを用いて)容易に印字できる性質を指す。表面保護フィルムを利用した被着体(例えば光学部品)の加工や搬送等の過程においては、保護対象たる被着体の識別番号等を表面保護フィルムに記載して表示したいとの要請がある。したがって、耐スクラッチ性に加えて印字性にも優れた透明フィルムおよび該透明フィルムを備えた表面保護フィルムが好ましい。例えば、溶剤がアルコール系であって顔料を含むタイプの油性インキに対して高い印字性を有することが好ましい。また、印字されたインキが擦れや転着により取れにくい(すなわち、印字密着性に優れる)ことが好ましい。上記印字性の程度は、例えば、後述する印字性評価により把握することができる。   The printability in the technology disclosed herein refers to a property that can be easily printed with oil-based ink (for example, using an oil-based marking pen). In the process of processing and transporting an adherend (for example, an optical component) using a surface protective film, there is a demand for displaying the identification number of the adherend to be protected on the surface protective film. Therefore, a transparent film excellent in printability in addition to scratch resistance and a surface protective film provided with the transparent film are preferable. For example, it is preferable that the solvent is alcohol-based and has high printability for oil-based inks containing pigments. Moreover, it is preferable that the printed ink is difficult to be removed by rubbing or transfer (that is, excellent in print adhesion). The degree of the printability can be grasped by, for example, printability evaluation described later.

背面層を構成する樹脂の材質は、ここに開示される好ましい破壊開始荷重および摩擦係数(より好ましくは、さらに塑性指数比)を実現し得るように適宜選択することができる。耐スクラッチ性に優れ、十分な強度を有する層を形成可能であり、且つ光線透過性に優れた樹脂を選択することが好ましい。かかる樹脂は、熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、二液混合型樹脂等の、各種のタイプの樹脂であり得る。   The material of the resin constituting the back layer can be appropriately selected so as to realize the preferable fracture initiation load and friction coefficient (more preferably, the plastic index ratio) disclosed herein. It is preferable to select a resin that is excellent in scratch resistance, can form a layer having sufficient strength, and has excellent light transmittance. Such resin may be various types of resins such as thermosetting resin, ultraviolet curable resin, electron beam curable resin, and two-component mixed resin.

熱硬化型樹脂の具体例としては、ポリシロキサン系、ポリシラザン系、ポリウレタン系、アクリル−ウレタン系、アクリル−スチレン系、フッ素樹脂系、アクリルシリコン系、アクリル系、ポリエステル系、ポリオレフィン系等をベース樹脂とするものが挙げられる。これらのうち、ポリウレタン系、アクリル−ウレタン系、アクリル−スチレン系等の熱硬化型樹脂は、高い弾性を有し、ここに開示される好ましい塑性指数比を有する層を形成しやすいという点で好ましい。また、ポリシロキサン系、ポリシラザン系等の熱硬化型樹脂は、高硬度の層を形成しやすいという点で好ましい。また、フッ素樹脂系の熱硬化型樹脂は、分子構造中に滑り成分を含有し、ここに開示される好ましい摩擦係数を有する層を形成しやすいという点で好ましい。ソフトセグメントとハードセグメントとを有する樹脂が好ましい。ここで、ソフトセグメントとは柔軟な主鎖構造ないし特性を有する樹脂成分をいい、ハードセグメントとは剛直な(少なくとも上記ソフトセグメントよりも剛直な)主鎖構造ないし特性を有する樹脂成分をいう。後述するサンプルA−4〜A−10において背面層の形成に使用した熱硬化型樹脂は、いずれも、ソフトセグメントとハードセグメントとを有する樹脂に該当する。また、樹脂成分が水系溶媒に分散したエマルション形態の樹脂を好ましく使用し得る。上記エマルション形態によれば、分子量が大きく主鎖が長い樹脂成分であっても、エマルション粒子として水系媒体に分散させることにより、容易に粘度や濃度を調節することができる。かかる樹脂成分は、塑性変形性に優れた塗膜を形成するのに適している。したがって、エマルション形態の樹脂(例えば熱硬化型樹脂)によると、上述した好ましい塑性指数比を示す(塑性指数比の高い)背面層が好適に実現され得る。   Specific examples of thermosetting resins include polysiloxanes, polysilazanes, polyurethanes, acrylic-urethanes, acrylic-styrenes, fluororesins, acrylic silicones, acrylics, polyesters, polyolefins, etc. Are listed. Of these, polyurethane-based, acrylic-urethane-based, acrylic-styrene-based thermosetting resins are preferable in that they have high elasticity and can easily form a layer having a preferable plastic index ratio disclosed herein. . In addition, a thermosetting resin such as polysiloxane or polysilazane is preferable in that a high-hardness layer can be easily formed. Further, the fluororesin-based thermosetting resin is preferable in that it contains a slip component in the molecular structure and can easily form a layer having a preferable coefficient of friction disclosed herein. A resin having a soft segment and a hard segment is preferred. Here, the soft segment refers to a resin component having a flexible main chain structure or characteristics, and the hard segment refers to a resin component having a rigid main chain structure or characteristics (at least stiffer than the soft segment). Any of the thermosetting resins used for forming the back layer in Samples A-4 to A-10 described later corresponds to a resin having a soft segment and a hard segment. Moreover, the resin of the emulsion form which the resin component disperse | distributed to the aqueous solvent can be used preferably. According to the above-mentioned emulsion form, even if it is a resin component having a large molecular weight and a long main chain, the viscosity and concentration can be easily adjusted by dispersing it in an aqueous medium as emulsion particles. Such a resin component is suitable for forming a coating film excellent in plastic deformability. Therefore, according to the resin in emulsion form (for example, thermosetting resin), the above-described back layer exhibiting the preferable plastic index ratio (high plastic index ratio) can be suitably realized.

紫外線硬化型樹脂の具体例としては、ポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アミド系、シリコーン系、エポキシ系等の各種の樹脂の、モノマー、オリゴマー、ポリマーおよびこれらの混合物が挙げられる。紫外線硬化性がよく高硬度の層を形成しやすいことから、紫外線重合性の官能基を一分子中に2個以上(より好ましくは3個以上、例えば3〜6個程度)有する多官能モノマーおよび/またはそのオリゴマーを含む紫外線硬化型樹脂を好ましく採用し得る。上記多官能モノマーとしては、多官能アクリレート、多官能メタアクリレート等のアクリル系モノマーを好ましく用いることができる。なお、基材層との密着性の観点からは、紫外線硬化型樹脂よりも熱硬化型樹脂を用いることが有利である。   Specific examples of the ultraviolet curable resin include monomers, oligomers, polymers, and mixtures of various resins such as polyester, acrylic, urethane, amide, silicone, and epoxy. A polyfunctional monomer having two or more (more preferably three or more, for example, about 3 to 6) UV-polymerizable functional groups in one molecule, since it is easy to form a high-hardness layer having a high UV-curing property and An ultraviolet curable resin containing / or an oligomer thereof can be preferably used. As the polyfunctional monomer, acrylic monomers such as polyfunctional acrylates and polyfunctional methacrylates can be preferably used. From the viewpoint of adhesion to the base material layer, it is advantageous to use a thermosetting resin rather than an ultraviolet curable resin.

背面層の厚さは、例えば凡そ0.02μm〜1μmとすることができ、好ましくは凡そ0.05〜0.5μm(例えば0.05〜0.2μm)である。背面層の厚さが大きすぎると、該背面層に起因して着色やカール等の外観品位が低下しやすくなる場合がある。背面層の厚さが小さすぎると、所望の耐スクラッチ性を実現することが困難となる。なお、ここに開示される透明フィルムまたは表面フィルムを構成する層(例えば背面層)の厚さは、あらかじめ背面層に重金属染色を施した後に、その透明フィルムを断面方向に切削して面出しをしたサンプルを透過型電子顕微鏡(TEM)等により高分解能観察する手法で把握することができる。この手法は、厚さが凡そ0.01μm以上の層に対して好ましく適用され得る。さらに薄い層に対しては、各種の厚み検出装置(たとえば、表面粗さ計、干渉厚み計、赤外分光測定機、各種X線回折装置等)と、電子顕微鏡観察により把握される厚みとの相関につき、検量線を作成して計算を行うことにより、その凡その厚みを算出することができる。また、TEMを用いることにより、断面方向の層構成(積層構造における層数および各層の厚み)を観察できる場合もある。また、各層がいずれも凡そ0.1μm以上の厚みを有する場合には、干渉厚み計により層構成を調べることもできる。   The thickness of the back layer can be, for example, about 0.02 μm to 1 μm, and preferably about 0.05 to 0.5 μm (for example, 0.05 to 0.2 μm). When the thickness of the back layer is too large, appearance quality such as coloring and curling may be easily deteriorated due to the back layer. If the thickness of the back layer is too small, it becomes difficult to achieve desired scratch resistance. The thickness of the layer constituting the transparent film or the surface film (for example, the back layer) disclosed herein is determined by subjecting the back layer to heavy metal dyeing in advance and then cutting the transparent film in the cross-sectional direction. The obtained sample can be grasped by a high-resolution observation technique using a transmission electron microscope (TEM) or the like. This technique can be preferably applied to a layer having a thickness of about 0.01 μm or more. For thinner layers, various thickness detectors (for example, surface roughness meters, interference thickness meters, infrared spectrometers, various X-ray diffractometers, etc.) and thicknesses obtained by electron microscope observation By creating a calibration curve for the correlation, the approximate thickness can be calculated. In some cases, the TEM can be used to observe the layer configuration in the cross-sectional direction (the number of layers in the stacked structure and the thickness of each layer). Further, when each layer has a thickness of about 0.1 μm or more, the layer configuration can be examined by an interference thickness meter.

ここに開示される技術における背面層には、必要に応じて、滑剤(レベリング剤等)、帯電防止成分、架橋剤、酸化防止剤、着色剤(顔料、染料等)、流動性調整剤(チクソトロピー剤、増粘剤等)、造膜助剤、触媒(例えば、紫外線硬化型樹脂を含む組成における紫外線重合開始剤)、等の添加剤を含有させることができる。架橋剤としては、一般的な樹脂の架橋に用いられるイソシアネート系、エポキシ系、メラミン系等の架橋剤を適宜選択して用いることができる。基材層の表面に存在し得るヒドロキシル基と結合して密着性を向上させ得ることから、例えばイソシアネート系の架橋剤を好ましく採用し得る。特に、ヒドロキシル基が導入されるような表面処理(例えばコロナ処理)が施された基材層上に背面層を形成する場合には、イソシアネート系架橋剤の使用が効果的である。
上記背面層は、上記樹脂成分および必要に応じて使用される添加剤が適当な溶媒に分散または溶解した液状組成物を上記基材層に付与することを含む手法によって好適に形成され得る。例えば、上記液状組成物(背面層形成用組成物)を基材層に塗布して乾燥させ、必要に応じて硬化処理(熱処理、紫外線処理など)を行う手法を好ましく採用し得る。上記組成物の固形分は、例えば0.1〜10質量%程度とすることができ、通常は0.5〜5%程度とすることが適当である。固形分が高すぎると、薄く均一な背面層を形成し難くなる場合がある。
The back layer in the technology disclosed herein includes, if necessary, a lubricant (leveling agent, etc.), an antistatic component, a crosslinking agent, an antioxidant, a colorant (pigment, dye, etc.), a fluidity modifier (thixotropy). Agents, thickeners, etc.), film-forming aids, catalysts (for example, an ultraviolet polymerization initiator in a composition containing an ultraviolet curable resin), and the like can be added. As the crosslinking agent, an isocyanate-based, epoxy-based, or melamine-based crosslinking agent used for crosslinking of general resins can be appropriately selected and used. For example, an isocyanate-based cross-linking agent can be preferably employed because it can be bonded to a hydroxyl group that may be present on the surface of the base material layer to improve adhesion. In particular, when a back surface layer is formed on a base material layer that has been subjected to a surface treatment (for example, corona treatment) in which a hydroxyl group is introduced, the use of an isocyanate-based crosslinking agent is effective.
The back layer can be suitably formed by a technique including applying to the base layer a liquid composition in which the resin component and additives used as necessary are dispersed or dissolved in a suitable solvent. For example, a method of applying the liquid composition (the composition for forming the back layer) to the base material layer and drying it, and performing a curing treatment (heat treatment, ultraviolet treatment, etc.) as necessary can be preferably employed. The solid content of the composition can be, for example, about 0.1 to 10% by mass, and is usually about 0.5 to 5%. If the solid content is too high, it may be difficult to form a thin and uniform back layer.

上記背面層形成用組成物を構成する溶媒は、有機溶剤、水、またはこれらの混合溶媒であり得る。上記有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサン、シクロヘキサノン、n−ヘキサン、トルエン、キシレン、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール等から選択される一種または二種以上を用いることができる。ここに開示される技術では、環境負荷軽減等の観点から、上記背面層形成用組成物を構成する溶媒が水系溶媒であることが好ましい。ここで「水系溶媒」とは、水、または水を主成分(50体積%以上を占める成分)とする混合溶媒をいう。かかる水系混合溶媒を構成する水以外の成分としては、親水性溶媒が好ましく用いられる。例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノール、n−アミルアルコール、イソアミルアルコール、sec−アミルアルコール、tert−アミルアルコール、1−エチル1−プロパノール、2−メチル1−ブタノール、n−ヘキサノール、シクロヘキサノール等のアルコール類から選択される一種または二種以上を好ましく採用することができる。   The solvent constituting the back layer forming composition may be an organic solvent, water, or a mixed solvent thereof. Examples of the organic solvent include one or two selected from methyl ethyl ketone, acetone, ethyl acetate, tetrahydrofuran (THF), dioxane, cyclohexanone, n-hexane, toluene, xylene, methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, and the like. The above can be used. In the technique disclosed herein, the solvent constituting the back layer forming composition is preferably an aqueous solvent from the viewpoint of reducing environmental burden. Here, the “aqueous solvent” refers to water or a mixed solvent containing water as a main component (a component occupying 50% by volume or more). As components other than water constituting such an aqueous mixed solvent, a hydrophilic solvent is preferably used. For example, methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, sec-butanol, tert-butanol, n-amyl alcohol, isoamyl alcohol, sec-amyl alcohol, tert-amyl alcohol, 1-ethyl 1- One or more selected from alcohols such as propanol, 2-methyl 1-butanol, n-hexanol, and cyclohexanol can be preferably used.

背面層に滑剤を含有させる場合、その滑剤としては、一般的なフッ素系またはシリコーン系の滑剤を好ましく用いることができる。シリコーン系滑剤の使用が特に好ましい。シリコーン系滑剤の具体例としては、ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリメチルアルキルシロキサン等が挙げられる。アリール基やアラルキル基を有するフッ素化合物またはシリコーン化合物を含む滑剤(印字性のよい樹脂フィルムを与え得ることから、印字性滑剤と呼ばれることもある。)を用いてもよい。また、架橋性反応基を有するフッ素化合物またはシリコーン化合物を含む滑剤(反応性滑剤)を用いてもよい。   When the back layer contains a lubricant, a general fluorine-based or silicone-based lubricant can be preferably used as the lubricant. The use of silicone-based lubricants is particularly preferred. Specific examples of the silicone lubricant include polydimethylsiloxane, polyether-modified polydimethylsiloxane, and polymethylalkylsiloxane. A lubricant containing a fluorine compound or a silicone compound having an aryl group or an aralkyl group (sometimes called a printable lubricant because it can give a resin film with good printability) may be used. Moreover, you may use the lubricant (reactive lubricant) containing the fluorine compound or silicone compound which has a crosslinkable reactive group.

滑剤の添加量は、背面層を構成する樹脂成分100質量部当たり凡そ25質量部以下(典型的には0.01〜25質量部)とすることができ、通常は凡そ15質量部以下(典型的には0.02〜15質量部)とすることが好ましく、例えば凡そ0.5〜15質量部とすることができ、凡そ1〜10質量部とすることがより好ましい。滑剤の添加量が多すぎると、印字性が不足しがちとなったり、背面層の光線透過性が低下傾向となったりすることがあり得る。   The addition amount of the lubricant can be about 25 parts by mass or less (typically 0.01 to 25 parts by mass) per 100 parts by mass of the resin component constituting the back layer, and usually about 15 parts by mass or less (typically In particular, it is preferably 0.02 to 15 parts by mass, for example, about 0.5 to 15 parts by mass, and more preferably about 1 to 10 parts by mass. If the amount of the lubricant added is too large, the printability tends to be insufficient, or the light transmittance of the back layer tends to be lowered.

このような滑剤は、背面層の表面にブリードして該表面に滑り性を付与し、これにより摩擦係数を低下させるものと推察される。したがって、滑剤の適切な使用により、摩擦係数の低下を通じて耐スクラッチ性を向上させることができる。上記滑剤は、背面層の表面張力を均一化し、厚さむらの低減や干渉縞の軽減にも寄与し得る。このことは、光学部材用の表面保護フィルムにおいて特に有意義である。また、背面層を構成する樹脂成分が紫外線硬化型樹脂である場合、これにフッ素系またはシリコーン系の滑剤を添加すると、背面層形成用組成物を基材に塗布して乾燥させる際に該滑剤が塗膜表面(空気との界面)にブリードし、これにより紫外線照射時に酸素による硬化阻害が抑制されて、背面層の最表面においても紫外線硬化型樹脂を十分に硬化させることができる。   It is inferred that such a lubricant bleeds on the surface of the back layer and imparts slipperiness to the surface, thereby reducing the coefficient of friction. Therefore, the scratch resistance can be improved through the reduction of the friction coefficient by appropriate use of the lubricant. The lubricant can make the surface tension of the back layer uniform and contribute to the reduction of thickness unevenness and interference fringes. This is particularly significant in the surface protective film for optical members. Further, when the resin component constituting the back layer is an ultraviolet curable resin, when a fluorine-based or silicone-based lubricant is added thereto, the lubricant is applied when the back layer forming composition is applied to a substrate and dried. Bleeds to the surface of the coating film (interface with the air), whereby the inhibition of curing by oxygen during ultraviolet irradiation is suppressed, and the ultraviolet curable resin can be sufficiently cured even on the outermost surface of the back layer.

上記帯電防止成分は、透明フィルムまたは該フィルムを用いてなる表面保護フィルムの帯電を防止する作用を有する成分である。背面層に帯電防止成分を含有させる場合、その帯電防止成分としては、例えば、有機または無機の導電性物質、各種の帯電防止剤、等を用いることができる。なかでも有機導電性物質の使用が好ましい。かかる帯電防止成分を含有することにより帯電防止性が付与された背面層を備える透明フィルムは、液晶セルや半導体装置等のように静電気を嫌う物品の加工または搬送過程等において使用される表面保護フィルムとして好適である。   The antistatic component is a component having an action of preventing charging of a transparent film or a surface protective film using the film. When an antistatic component is contained in the back layer, as the antistatic component, for example, an organic or inorganic conductive substance, various antistatic agents, and the like can be used. Of these, the use of an organic conductive material is preferable. A transparent film having a back layer provided with an antistatic property by containing such an antistatic component is a surface protective film used in the processing or transporting process of articles that dislike static electricity such as liquid crystal cells and semiconductor devices. It is suitable as.

上記有機導電性物質としては、各種の導電性ポリマーを好ましく用いることができる。かかる導電性ポリマーの例としては、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリエチレンイミン、アリルアミン系重合体等が挙げられる。このような導電性ポリマーは、一種を単独で使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。また、他の帯電防止成分(無機導電性物質、帯電防止剤等)と組み合わせて用いてもよい。有機導電性物質(典型的には導電性ポリマー)の使用量は、背面層を構成する樹脂成分100質量部に対して例えば0.2〜20質量部程度とすることができ、通常は1〜10質量部程度とすることが適当である。   As the organic conductive material, various conductive polymers can be preferably used. Examples of such conductive polymers include polyaniline, polypyrrole, polythiophene, polyethyleneimine, and allylamine polymers. Such a conductive polymer may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. Moreover, you may use in combination with another antistatic component (an inorganic electroconductive substance, an antistatic agent, etc.). The amount of the organic conductive substance (typically conductive polymer) used can be, for example, about 0.2 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component constituting the back layer. It is appropriate that the amount is about 10 parts by mass.

かかる導電性ポリマーとしては、水溶液または水分散液の形態のものを好ましく使用し得る。例えば、親水性官能基を有する導電性ポリマー(分子内に親水性官能基を有するモノマーを共重合させる等の手法により合成され得る。)を水に溶解または分散させることにより、該導電性ポリマーの水溶液または水分散液を調製することができる。上記親水性官能基としては、スルホ基、アミノ基、アミド基、イミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、ヒドラジノ基、カルボキシル基、四級アンモニウム基、硫酸エステル基(−O−SOH)、リン酸エステル基(例えば−O−PO(OH))等が例示される。かかる親水性官能基は塩を形成していてもよい。水溶液または水分散液形態のポリアニリンスルホン酸の市販品の例としては、三菱レイヨン社製の商品名「aqua−PASS」が挙げられる。また、水溶液または水分散液形態のポリチオフェンの市販品の例としては、ナガセケムテック社製の商品名「デナトロン」シリーズが挙げられる。 As such a conductive polymer, those in the form of an aqueous solution or an aqueous dispersion can be preferably used. For example, by dissolving or dispersing a conductive polymer having a hydrophilic functional group (which can be synthesized by a technique such as copolymerizing a monomer having a hydrophilic functional group in the molecule) in water, Aqueous solutions or dispersions can be prepared. Examples of the hydrophilic functional group include sulfo group, amino group, amide group, imino group, hydroxyl group, mercapto group, hydrazino group, carboxyl group, quaternary ammonium group, sulfate ester group (—O—SO 3 H), phosphorus An acid ester group (for example, —O—PO (OH) 2 ) and the like are exemplified. Such hydrophilic functional groups may form a salt. An example of a commercially available product of polyaniline sulfonic acid in the form of an aqueous solution or water dispersion is “Aqua-PASS” manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Examples of commercially available products of polythiophene in the form of an aqueous solution or an aqueous dispersion include “Denatron” series manufactured by Nagase Chemtech.

ここに開示される技術において好ましく採用し得る導電性ポリマーとして、ポリアニリンおよびポリチオフェンが例示される。ポリアニリンとしては、ポリスチレン換算の重量平均分子量(以下、「Mw」と表記する。)が50×10以下であるものが好ましく、30×10以下がより好ましい。ポリチオフェンとしては、Mwが40×10以下であるものが好ましく、30×10以下がより好ましい。また、これら導電性ポリマーのMwは、通常は0.1×10以上であることが好ましく、より好ましくは0.5×10以上である。かかるMwを有する導電性ポリマーは、水溶液または水分散液の形態に調製しやすいという点からも好ましい。 Examples of the conductive polymer that can be preferably used in the technology disclosed herein include polyaniline and polythiophene. The polyaniline preferably has a polystyrene-equivalent weight average molecular weight (hereinafter referred to as “Mw”) of 50 × 10 4 or less, more preferably 30 × 10 4 or less. As polythiophene, what Mw is 40x10 < 4 > or less is preferable, and 30x10 < 4 > or less is more preferable. Further, the Mw of these conductive polymers is usually preferably 0.1 × 10 4 or more, more preferably 0.5 × 10 4 or more. Such a conductive polymer having Mw is also preferable because it can be easily prepared in the form of an aqueous solution or an aqueous dispersion.

上記無機導電性物質としては、例えば、酸化錫、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化チタン、酸化亜鉛、インジウム、錫、アンチモン、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、チタン、鉄、コバルト、ヨウ化銅、およびそれらの合金または混合物からなる微粒子を用いることができる。ITO(酸化インジウム/酸化スズ)、ATO(酸化アンチモン/酸化スズ)等の微粒子を用いてもよい。該微粒子の平均粒子径は、通常、概ね0.1μm以下(典型的には0.01μm〜0.1μm)であることが好ましい。このような無機導電性物質(無機導電材)は、一種を単独で使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。また、他の帯電防止成分と組み合わせて用いてもよい。無機導電性物質の使用量は、背面層を構成する樹脂成分100質量部に対して例えば5〜500質量部程度とすることができ、通常は10〜500質量部(例えば100〜500質量部)程度とすることが適当である。   Examples of the inorganic conductive material include tin oxide, antimony oxide, indium oxide, cadmium oxide, titanium oxide, zinc oxide, indium, tin, antimony, gold, silver, copper, aluminum, nickel, chromium, titanium, iron, Fine particles composed of cobalt, copper iodide, and alloys or mixtures thereof can be used. Fine particles such as ITO (indium oxide / tin oxide) and ATO (antimony oxide / tin oxide) may be used. The average particle diameter of the fine particles is usually preferably about 0.1 μm or less (typically 0.01 μm to 0.1 μm). Such inorganic conductive materials (inorganic conductive materials) may be used alone or in combination of two or more. Moreover, you may use in combination with another antistatic component. The usage-amount of an inorganic electroconductive substance can be about 5-500 mass parts with respect to 100 mass parts of resin components which comprise a back layer, and is normally 10-500 mass parts (for example, 100-500 mass parts). It is appropriate to set the degree.

上記帯電防止剤の例としては、カチオン型帯電防止剤、アニオン型帯電防止剤、両性イオン型帯電防止剤、ノニオン型帯電防止剤、上記カチオン型、アニオン型、両性イオン型のイオン導電性基を有する単量体を重合もしくは共重合して得られたイオン導電性重合体、等が挙げられる。このような帯電防止剤は、一種を単独で使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。また、他の帯電防止成分と組み合わせて用いてもよい。帯電防止剤の使用量は、背面層を構成する樹脂成分100質量部に対して例えば凡そ0.5〜50質量部とすることができ、通常は1〜30質量部とすることが適当である。   Examples of the antistatic agent include a cationic antistatic agent, an anionic antistatic agent, an amphoteric ion antistatic agent, a nonionic antistatic agent, and the above cationic, anionic and zwitterionic ion conductive groups. Examples thereof include an ion conductive polymer obtained by polymerizing or copolymerizing a monomer having the same. Such an antistatic agent may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. Moreover, you may use in combination with another antistatic component. The amount of the antistatic agent used can be, for example, about 0.5 to 50 parts by mass, and usually 1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component constituting the back layer. .

カチオン型帯電防止剤の例としては、第4級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第1、第2または第3級アミノ基等のカチオン性官能基を有するものが挙げられる。より具体的には:アルキルトリメチルアンモニウム塩、アシロイルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメトサルフェート、アルキルベンジルメチルアンモニウム塩、アシル塩化コリン、ポリジメチルアミノエチルメタクリレート等の4級アンモニウム基を有するアクリル系共重合体;ポリビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライド等の、4級アンモニウム基を有するスチレン共重合体;ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド等の、4級アンモニウム基を有するジアリルアミン共重合体;等が例示される。   Examples of the cationic antistatic agent include those having a cationic functional group such as a quaternary ammonium salt, a pyridinium salt, a primary, secondary, or tertiary amino group. More specifically: an acrylic copolymer having a quaternary ammonium group such as alkyltrimethylammonium salt, acyloylamidopropyltrimethylammonium methosulfate, alkylbenzylmethylammonium salt, acylcholine chloride, polydimethylaminoethyl methacrylate; polyvinyl Examples thereof include styrene copolymers having a quaternary ammonium group such as benzyltrimethylammonium chloride; diallylamine copolymers having a quaternary ammonium group such as polydiallyldimethylammonium chloride;

アニオン型帯電防止剤の例としては、スルホン酸塩、硫酸エステル塩、ホスホン酸塩、リン酸エステル塩等のアニオン性官能基を有するものが挙げられる。より具体的には、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルエトキシ硫酸エステル塩、アルキルリン酸エステル塩、スルホン酸基含有スチレン共重合体、等が例示される。   Examples of the anionic antistatic agent include those having an anionic functional group such as sulfonate, sulfate ester salt, phosphonate salt, and phosphate ester salt. More specifically, alkyl sulfonate, alkyl benzene sulfonate, alkyl sulfate ester salt, alkyl ethoxy sulfate ester salt, alkyl phosphate ester salt, sulfonic acid group-containing styrene copolymer and the like are exemplified.

両性イオン型帯電防止剤の例としては、アルキルベタインおよびその誘導体、イミダゾリンおよびその誘導体、アラニンおよびその誘導体が挙げられる。より具体的には、アルキルベタイン、アルキルイミダゾリウムベタイン、カルボベタイングラフト共重合体、等が例示される。   Examples of zwitterionic antistatic agents include alkylbetaines and their derivatives, imidazolines and their derivatives, alanine and their derivatives. More specifically, alkyl betaines, alkyl imidazolium betaines, carbobetaine graft copolymers, and the like are exemplified.

ノニオン型帯電防止剤の例としては、アミノアルコールおよびその誘導体、グリセリンおよびその誘導体、ポリエチレングリコールおよびその誘導体が挙げられる。より具体的には、脂肪酸アルキロールアミド、ジ(2−ヒドロキシエチル)アルキルアミン、ポリオキシエチレンアルキルアミン、脂肪酸グリセリンエステル、ポリオキシエチレングリコール脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリエチレングリコール、ポリオキシエチレンジアミン、ポリエーテルとポリエステルとポリアミドからなる共重合体、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート等が例示される。   Examples of nonionic antistatic agents include amino alcohol and derivatives thereof, glycerin and derivatives thereof, polyethylene glycol and derivatives thereof. More specifically, fatty acid alkylolamide, di (2-hydroxyethyl) alkylamine, polyoxyethylene alkylamine, fatty acid glycerin ester, polyoxyethylene glycol fatty acid ester, sorbitan fatty acid ester, polyoxysorbitan fatty acid ester, polyoxy Examples thereof include ethylene alkyl phenyl ether, polyoxyethylene alkyl ether, polyethylene glycol, polyoxyethylene diamine, a copolymer comprising polyether, polyester and polyamide, and methoxy polyethylene glycol (meth) acrylate.

なお、透明フィルムに帯電防止性を付与する方法としては、上述のように背面層に帯電防止成分を含有させる方法に代えて、あるいは該方法に加えて、基材層に帯電防止成分を含有させる方法、基材層の第一面および/または第二面に帯電防止層を設ける方法、等を採用することができる。   In addition, as a method for imparting antistatic properties to the transparent film, instead of or in addition to the method of adding an antistatic component to the back layer as described above, the base layer contains an antistatic component. A method, a method of providing an antistatic layer on the first surface and / or the second surface of the base material layer, and the like can be employed.

基材層に帯電防止成分を含有させる方法は、例えば、帯電防止成分が配合された(練り込まれた)樹脂材料をフィルム状に成形して基材層を構成することにより好ましく行われ得る。かかる方法に使用する帯電防止成分としては、背面層に含有させる帯電防止成分として上記で例示した材料と同様のもの等を採用することができる。かかる帯電防止成分の配合量は、例えば、基材層の総質量に対して凡そ20質量%以下(典型的には0.05〜20質量%)とすることができ、通常は、0.05〜10質量%の範囲とすることが適当である。帯電防止成分の練り込み方法としては、基材層形成用の樹脂材料に該帯電防止剤を均一に混合できる方法であれば特に限定されず、例えば、加熱ロール、バンバリーミキサー、加圧ニーダー、二軸混練機等を用いて混練する方法が挙げられる。   The method of incorporating the antistatic component into the base material layer can be preferably performed by, for example, forming the base material layer by forming a resin material containing the antistatic component (kneaded) into a film shape. As the antistatic component used in such a method, the same materials as those exemplified above as the antistatic component contained in the back layer can be employed. The blending amount of the antistatic component can be, for example, about 20% by mass or less (typically 0.05 to 20% by mass) with respect to the total mass of the base material layer. It is suitable to set it as the range of -10 mass%. The method of kneading the antistatic component is not particularly limited as long as the antistatic agent can be uniformly mixed with the resin material for forming the base layer. For example, a heating roll, a Banbury mixer, a pressure kneader, two A method of kneading using a shaft kneader or the like can be mentioned.

基材層の第一面(背面側、すなわち基材層と背面層との間)および/または第二面(粘着剤層側)に帯電防止層を設ける方法は、帯電防止成分と必要に応じて使用される樹脂成分とを含む帯電防止用コート剤を基材層(好ましくは、予め成形された樹脂フィルム)に塗布することにより好ましく行われ得る。帯電防止成分としては、背面層に含有させる帯電防止成分として上記で例示した材料と同様のもの等を採用することができる。導電性ポリマーまたは帯電防止剤の使用が好ましい。帯電防止用コート剤に用いられる樹脂成分としては、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂等の汎用樹脂を用いることができる。また、帯電防止用コート剤には、上記樹脂成分の架橋剤として、メチロール化あるいはアルキロール化したメラミン系、尿素系、グリオキザール系、アクリルアミド系等の化合物、エポキシ化合物、イソシアネート系化合物等を含有させてもよい。なお、高分子型の帯電防止成分(典型的には導電性ポリマー)の場合には、樹脂成分の使用を省略してもよい。   The method of providing an antistatic layer on the first side (back side, that is, between the base layer and the back layer) and / or the second side (adhesive layer side) of the base layer is the antistatic component and, if necessary, It can be preferably carried out by applying an antistatic coating agent containing a resin component used in the step to a base material layer (preferably a pre-molded resin film). As the antistatic component, the same materials as those exemplified above as the antistatic component contained in the back layer can be employed. The use of conductive polymers or antistatic agents is preferred. As the resin component used for the antistatic coating agent, for example, a general-purpose resin such as a polyester resin, an acrylic resin, a polyvinyl resin, a urethane resin, a melamine resin, and an epoxy resin can be used. In addition, the antistatic coating agent contains a methylol- or alkylol-containing melamine-based, urea-based, glyoxal-based, acrylamide-based compound, epoxy compound, isocyanate-based compound, etc. as a crosslinking agent for the resin component. May be. In the case of a polymer type antistatic component (typically a conductive polymer), the use of a resin component may be omitted.

帯電防止用コート剤を塗布する方法としては、公知の塗布方法を適宜用いることができる。具体例としては、ロールコート法、グラビアコート法、リバースコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法およびカーテンコート法が挙げられる。帯電防止層の厚みは、通常、凡そ0.01μm〜1μmとすることが適当であり、凡そ0.015μm〜0.1μm程度が好ましい。   As a method of applying the antistatic coating agent, a known coating method can be appropriately used. Specific examples include a roll coating method, a gravure coating method, a reverse coating method, a roll brush method, a spray coating method, an air knife coating method, an impregnation method, and a curtain coating method. The thickness of the antistatic layer is usually suitably about 0.01 μm to 1 μm, preferably about 0.015 μm to 0.1 μm.

ここに開示される技術の好ましい一態様では、上記背面層が基材層の第一面上に直接設けられている。かかる構成の透明フィルムは、基材層と背面層との密着性に優れることから、上述した好ましい破壊開始荷重を満たすものとなりやすいので好ましい。したがって、基材層の表面に上記帯電防止層を設ける場合には、該帯電防止層を基材層の第二面のみに設けることが好ましい。   In a preferred embodiment of the technology disclosed herein, the back layer is provided directly on the first surface of the base material layer. The transparent film having such a configuration is preferable because it has excellent adhesion between the base material layer and the back layer, and thus easily satisfies the above-described preferable fracture start load. Therefore, when the antistatic layer is provided on the surface of the base material layer, the antistatic layer is preferably provided only on the second surface of the base material layer.

ここに開示される表面保護フィルムを構成する粘着剤層としては、表面保護フィルムに適した性質(被着体表面に対する剥離力、非汚染性等)を備える粘着剤層を形成可能な粘着剤組成物を用いて好適に形成することができる。例えば、かかる粘着剤組成物を基材層に直接付与して乾燥または硬化させることで粘着剤層を形成する方法(直接法);剥離ライナーの表面(剥離面)に粘着剤組成物を付与して乾燥または硬化させることで該表面上に粘着剤層を形成し、この粘着剤層を基材層に貼り合わせて該粘着剤層を基材層に転写する方法(転写法);等を採用することができる。粘着剤層の投錨性の観点から、通常は上記直接法を好ましく採用し得る。粘着剤組成物の付与(典型的には塗布)に際しては、ロールコート法、グラビアコート法、リバースコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、ダイコーターによるコート法等の、粘着シートの分野において従来公知の各種方法を適宜採用することができる。特に限定するものではないが、粘着剤層の厚みは、例えば凡そ3μm〜100μm程度とすることができ、通常は凡そ5μm〜50μm程度が好ましい。なお、ここに開示される表面保護フィルムを得る方法としては、予め背面層が設けられた基材層(すなわち透明フィルム)に上記粘着剤層を形成する方法、および基材層上に粘着剤層を設けた後に背面層を形成する方法、のいずれも採用可能である。通常は、透明フィルムに粘着剤層を設ける方法が好ましい。   As the pressure-sensitive adhesive layer constituting the surface protective film disclosed herein, a pressure-sensitive adhesive composition capable of forming a pressure-sensitive adhesive layer having properties suitable for the surface protective film (peeling power to the adherend surface, non-contamination, etc.) It can form suitably using a thing. For example, a method of forming the pressure-sensitive adhesive layer by directly applying the pressure-sensitive adhesive composition to the base material layer and drying or curing (direct method); and applying the pressure-sensitive adhesive composition to the surface (release surface) of the release liner Adhesive layer is formed on the surface by drying and curing, and this adhesive layer is bonded to the base material layer and transferred to the base material layer (transfer method); etc. can do. From the viewpoint of anchoring property of the pressure-sensitive adhesive layer, usually, the above direct method can be preferably employed. For the application (typically coating) of the pressure-sensitive adhesive composition, a pressure-sensitive adhesive such as a roll coating method, a gravure coating method, a reverse coating method, a roll brush method, a spray coating method, an air knife coating method, a coating method using a die coater, etc. Various conventionally known methods can be appropriately employed in the field of sheets. Although not particularly limited, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer can be, for example, about 3 μm to 100 μm, and usually about 5 μm to 50 μm is preferable. In addition, as a method of obtaining the surface protection film disclosed here, the method of forming the said adhesive layer in the base material layer (namely, transparent film) in which the back layer was provided previously, and an adhesive layer on a base material layer Any of the methods of forming the back layer after providing the film can be employed. Usually, a method of providing an adhesive layer on a transparent film is preferred.

ここに開示される表面保護フィルムは、必要に応じて、粘着面(粘着剤層のうち被着体に貼り付けられる側の面)を保護する目的で、該粘着面に剥離ライナーを貼り合わせた形態(剥離ライナー付き表面保護フィルムの形態)で提供され得る。剥離ライナーを構成する基材としては、紙、合成樹脂フィルム等を使用することができ、表面平滑性に優れる点から合成樹脂フィルムが好適に用いられる。例えば、基材層と同様の樹脂材料からなる樹脂フィルムを、剥離ライナーの基材として好ましく用いることができる。剥離ライナーの厚みは、例えば凡そ5μm〜200μmとすることができ、通常は凡そ10μm〜100μm程度が好ましい。剥離ライナーのうち粘着剤層に貼り合わされる面には、従来公知の離型剤(例えば、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系、脂肪酸アミド系等)あるいはシリカ粉等を用いて、離型または防汚処理が施されていてもよい。   The surface protective film disclosed herein has a release liner bonded to the pressure-sensitive adhesive surface for the purpose of protecting the pressure-sensitive adhesive surface (the surface of the pressure-sensitive adhesive layer that is attached to the adherend), if necessary. It can be provided in the form (in the form of a surface protective film with a release liner). As the base material constituting the release liner, paper, a synthetic resin film or the like can be used, and a synthetic resin film is suitably used from the viewpoint of excellent surface smoothness. For example, a resin film made of the same resin material as the base material layer can be preferably used as the base material of the release liner. The thickness of the release liner can be, for example, about 5 μm to 200 μm, and usually about 10 μm to 100 μm is preferable. The surface of the release liner to be bonded to the pressure-sensitive adhesive layer is released using a conventionally known release agent (eg, silicone, fluorine, long chain alkyl, fatty acid amide, etc.) or silica powder. Or antifouling processing may be given.

以下、本発明に関連するいくつかの実験例を説明するが、本発明をかかる具体例に示すものに限定することを意図したものではない。なお、以下の説明中の「部」および「%」は、特に断りがない限り質量基準である。また、以下の説明中の各特性は、それぞれ次のようにして測定または評価した。   Hereinafter, some experimental examples related to the present invention will be described, but the present invention is not intended to be limited to those shown in the specific examples. In the following description, “part” and “%” are based on mass unless otherwise specified. Each characteristic in the following description was measured or evaluated as follows.

1.破壊開始荷重
破壊開始荷重の測定装置としては、CSM InstrumentsSA社製のナノスクラッチテスターを使用した。各表面保護フィルムサンプルの粘着面をスライドガラスに貼り付け、背面層を上向きにして、上記測定装置のステージに固定した。そして、23℃、50%RHの測定環境下、円錐型のダイヤモンド製圧子(先端の曲率半径 10μm)を備えたカンチレバーST−150を用いて、上記装置の連続荷重モードで、0〜300mNまで荷重(スクラッチ荷重)を増加させつつ一方向に擦過するスクラッチ試験を行った。
上記スクラッチ試験を実施したサンプルを、装置付属の光学顕微鏡(ニコン社製)を用いて、対物レンズ20倍でスクラッチ痕を表面観察した。そして、図4に示すように、スクラッチ痕上において背面層がスクラッチ方向に2μmよりも長く剥離した最初の箇所を破壊開始点とし、その破壊開始点のスクラッチ方向に対する長さ(破壊長さ)の中心に対応するスクラッチ荷重を破壊開始荷重とした。
1. Fracture starting load A nano scratch tester manufactured by CSM Instruments SA was used as a measuring device for the fracture starting load. The adhesive surface of each surface protective film sample was affixed to a slide glass, and the back layer was faced up and fixed to the stage of the measuring apparatus. Then, using a cantilever ST-150 equipped with a conical diamond indenter (tip radius of curvature 10 μm) in a measurement environment of 23 ° C. and 50% RH, a load of 0 to 300 mN was applied in the continuous load mode of the above apparatus. A scratch test was carried out by rubbing in one direction while increasing (scratch load).
Using the optical microscope (manufactured by Nikon Corporation) attached to the apparatus, the scratch marks were observed on the surface of the sample subjected to the scratch test with an objective lens 20 times. Then, as shown in FIG. 4, the first location where the back layer is peeled longer than 2 μm in the scratch direction on the scratch mark is taken as the fracture start point, and the length of the fracture start point with respect to the scratch direction (destruction length) The scratch load corresponding to the center was taken as the fracture start load.

2.摩擦係数
23℃、50%RHの測定環境下、上記ナノスクラッチテスターの定荷重モード(垂直荷重40mN±3mN)にて、上記同様にしてスライドガラスに貼り付けた各サンプルの表面(背面層側)を5mmの長さで擦過し、このときの摩擦係数の平均値を背面層の摩擦係数とした。なお、摩擦係数は、摩擦力と、サンプル表面に垂直な方向への荷重の比として算出される(すなわち、摩擦係数=摩擦力/荷重)。
2. Friction coefficient 23 ° C, 50% RH in the measurement environment of the nano scratch tester (vertical load 40mN ± 3mN), the surface of each sample attached to the slide glass in the same manner as above (back layer side) Was abraded at a length of 5 mm, and the average value of the friction coefficient at this time was defined as the friction coefficient of the back layer. The friction coefficient is calculated as a ratio of the friction force and the load in the direction perpendicular to the sample surface (that is, friction coefficient = friction force / load).

3.塑性指数
MTSシステムズ社製のナノインテンダー、型式「DCM SA2」を用いて塑性指数を評価した。すなわち、上記と同様にして各サンプルをスライトガラスに貼り付け、その背面層が上向きとなるようにステージ上に固定した。測定は、23℃、50%RHの測定環境下において、バーコピッチ(三角錐)型のダイヤモンド製圧子(先端の曲率半径 0.1μm)を用いて、最大深さ500nmまで垂直に押し込み、深さ10nm付近の押込み弾性率(Indentation Modulus)および硬度(Hardness)を測定した。そして、上記弾性率の測定値を硬度の測定値で除して塑性指数を算出した(すなわち、塑性指数=弾性率/硬度)。
3. Plasticity Index The plasticity index was evaluated using a nano-intender, model “DCM SA2” manufactured by MTS Systems. That is, each sample was affixed to slite glass in the same manner as described above, and fixed on the stage so that the back layer faced upward. The measurement was performed by using a barco pitch (triangular pyramid) diamond indenter (tip radius of curvature 0.1 μm) in a measurement environment of 23 ° C. and 50% RH, and vertically pushing to a maximum depth of 500 nm, and a depth of 10 nm. The indentation modulus (Indentation Modulus) and hardness (Hardness) in the vicinity were measured. Then, the plasticity index was calculated by dividing the measured value of the elastic modulus by the measured value of hardness (that is, plastic index = elastic modulus / hardness).

4.塑性指数比
上記3.により求めた各サンプル(基材上に背面層が設けられている。)の塑性指数Psを、当該サンプルを構成する基材(背面層を有しない基材)の塑性指数Pbで除して塑性指数比を算出した(すなわち、塑性指数比=Ps/Pb)。
4). Plasticity index ratio 3. The plasticity index Ps of each sample (a back layer is provided on the base material) obtained by the above is divided by the plastic index Pb of the base material (base material not having the back layer) constituting the sample. The index ratio was calculated (ie, plastic index ratio = Ps / Pb).

5.剥離力測定
各表面保護フィルムサンプルを幅70mm、長さ100mmのサイズにカットしたものを被着体とした。片面粘着テープ(日東電工社製No.31B)を幅19mm、長さ100mmのサイズにカットし、該粘着テープの粘着面を上記被着体の背面層上に、0.25MPaの圧力、0.3m/分の速度で圧着した。これを23℃、50%RHの環境下に30分間放置した後、同環境下で万能引張試験機を用いて上記被着体から上記粘着テープを剥離速度0.3m/分、剥離角度180度の条件で剥離し、このときの剥離力を測定した。
5. Peeling force measurement Each surface protection film sample was cut into a size of 70 mm width and 100 mm length to make an adherend. A single-sided adhesive tape (No. 31B manufactured by Nitto Denko Corporation) was cut into a size of 19 mm in width and 100 mm in length, and the adhesive surface of the adhesive tape was placed on the back layer of the adherend at a pressure of 0.25 MPa, 0. Crimping was performed at a speed of 3 m / min. This was left in an environment of 23 ° C. and 50% RH for 30 minutes, and then the adhesive tape was peeled from the adherend using the universal tensile tester in the same environment at a peeling speed of 0.3 m / min and a peeling angle of 180 degrees. The peeling force at this time was measured.

6.耐スクラッチ性評価
上記同様にして各サンプルをスライドガラスに貼り付け、23℃、50%RHの測定環境下において、コイン(新品の10円玉を使用した。)を用いて精密天秤上で各サンプルを荷重300gで擦過した。そのスクラッチ痕を光学顕微鏡にて観察し、背面層の脱落屑の存在が確認された場合を×、該脱落屑の存在が確認されなかった場合を○評価とした。
6). Scratch resistance evaluation Each sample was affixed to a slide glass in the same manner as described above, and each sample was placed on a precision balance using a coin (a new 10-yen coin was used) in a measurement environment of 23 ° C. and 50% RH. Was abraded with a load of 300 g. The scratch marks were observed with an optical microscope, and the case where the presence of falling debris in the back layer was confirmed was evaluated as x, and the case where the presence of the falling debris was not confirmed was evaluated as o.

7.基材密着性
背面層形成用の組成物に少量の青色顔料を混ぜて各サンプルを作製した。23℃、50%RHの測定環境下において、それらのサンプルの背面層形成側表面に、縦横各1mmの間隔で10マス×10マス(合計100マス)の切りキズをつけ、その上から片面粘着テープ(日東電工社製No.31B、幅19mm)を上記剥離力測定と同条件で圧着した後、該片面粘着テープを手で剥離する碁盤目剥離試験を実施した。その碁盤目試験において、50マス以上の脱落が見られた場合を1点、脱落が11マス以上49マス以下の場合を2点、脱落が10マス以下の場合を3点評価とした。
7). Substrate adhesion Each sample was prepared by mixing a small amount of blue pigment into the composition for forming the back layer. Under a measurement environment of 23 ° C. and 50% RH, the back layer forming side surface of each sample was cut into 10 squares × 10 squares (total of 100 squares) at intervals of 1 mm in length and breadth, and single-sided adhesive was applied from above. A tape (No. 31B manufactured by Nitto Denko Corporation, width 19 mm) was pressure-bonded under the same conditions as in the above-mentioned peeling force measurement, and then a cross-cut peel test was performed to peel the single-sided adhesive tape by hand. In the cross cut test, 1 point was given when the dropout was 50 squares or more, 2 points were given when the dropout was 11 squares or more and 49 squares or less, and 3 points were given when the dropout was 10 squares or less.

8.印字性(印字密着性)評価
23℃、50%RHの測定環境下で、シャチハタ社製Xスタンパーを用いて背面層上に印字を施した後、その印字の上からニチバン社製のセロハン粘着テープ(品番No.405、幅19mm)を貼り付け、次いで剥離速度30m/分、剥離角度180度の条件で剥離した。目視評価により、印字面積の50%以上が剥離された場合を×、印字面積の25%を超えて50%未満が剥離された場合を△、印字面積の75%以上が剥離されずに残った場合を○評価とした。
8). Evaluation of printability (print adhesion) After printing on the back layer using an X stamper manufactured by Shachihata Co., Ltd. under a measurement environment of 23 ° C. and 50% RH, cellophane adhesive tape manufactured by Nichiban Co., Ltd. (Product No. 405, width 19 mm) was attached, and then peeled off under the conditions of a peeling speed of 30 m / min and a peeling angle of 180 degrees. By visual evaluation, x indicates that 50% or more of the printed area is peeled, Δ indicates that 25% of the printed area is peeled off and less than 50% is peeled, and 75% or more of the printed area remains without being peeled. The case was rated as ○.

9.白化、ムラ評価
白化評価:ヘイズメーター(村上色彩技術研究所製、型式「HM−150」)にて各サンプルのヘイズ値を測定し、ヘイズ値5以下を合格とした。
ムラ評価:明室にてサンプルの外観を目視評価し、スジなどの外観異常が認められない場合を合格とした。
上記白化、ムラの両評価ともに合格であったサンプルは白化・ムラを○とし、いずれか一方の評価が不合格であった場合は△、両方とも不合格であった場合は×評価とした。
9. Whitening and unevenness evaluation Whitening evaluation: The haze value of each sample was measured with a haze meter (manufactured by Murakami Color Research Laboratory, model “HM-150”), and a haze value of 5 or less was accepted.
Evaluation of unevenness: The appearance of the sample was visually evaluated in a bright room, and a case where no appearance abnormality such as a streak was observed was regarded as acceptable.
Samples that passed both the whitening and unevenness evaluations were rated as whitening / unevenness as ◯, Δ when either evaluation was unacceptable, and X evaluation when both were unacceptable.

10.カール評価
各サンプルを100mm四方のサイズにカットし、40℃、90%RHの環境下に1日保管した。これを水平な平面上に背面層が上面になる向きで静置し、上記平面からサンプルの端部がカールして浮いた高さを計測した。最も大きく浮いた部分の高さ(最大浮き高さ)が3mm以下の場合を○、最大浮き高さが3mmを超える場合を×評価とした。
10. Curl evaluation Each sample was cut into a 100 mm square and stored for one day in an environment of 40 ° C. and 90% RH. This was left on a horizontal plane with the back layer facing up, and the height at which the end of the sample curled and floated from the plane was measured. The case where the height of the largest floating portion (maximum floating height) was 3 mm or less was rated as “◯”, and the case where the maximum floating height exceeded 3 mm was evaluated as “x”.

<実験例1>
(サンプルA−1)
ウレタンアクリレート系紫外線硬化型樹脂(日本合成化学社製、商品名「紫光UV−1700B」;以下、「樹脂R1」と表記することもある。)と、ラジカル重合開始剤(チバガイギー社製、商品名「ダロキュア1173」)とを、固形分の質量比が100:4となるように混合し、トルエンを主成分とする溶媒に溶解して、固形分濃度30%のコート液B−1を調製した。
<Experimental example 1>
(Sample A-1)
Urethane acrylate ultraviolet curable resin (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name “purple light UV-1700B”; hereinafter also referred to as “resin R1”) and radical polymerization initiator (trade name, manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd.) "Darocur 1173") was mixed so that the mass ratio of the solid content was 100: 4, and dissolved in a solvent containing toluene as a main component to prepare a coating liquid B-1 having a solid content concentration of 30%. .

基材としては、片面にコロナ処理が施された厚さ38μmの透明なポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(以下、「基材F1」と表記することもある。)を使用した。この基材F1の片面(コロナ処理面)に上記コート液B−1を、乾燥後の厚みが8μm(TEM観察による。以下同じ。)となるように塗布し、紫外線を照射する硬化処理を行って背面層を形成した。上記紫外線の照射は、メタルハライドランプを用いて450mJ/cmの条件で行った。このようにして、基材F1の片面(コロナ処理面)に背面層が設けられた透明フィルムC−1を得た。 As the base material, a transparent polyethylene terephthalate (PET) film (hereinafter also referred to as “base material F1”) having a thickness of 38 μm and subjected to corona treatment on one side was used. The coating liquid B-1 is applied to one surface (corona-treated surface) of the substrate F1 so that the thickness after drying is 8 μm (according to TEM observation; the same applies hereinafter), and a curing treatment is performed by irradiating with ultraviolet rays. A back layer was formed. The irradiation of the ultraviolet rays was performed under the condition of 450 mJ / cm 2 using a metal halide lamp. Thus, the transparent film C-1 with which the back layer was provided in the single side | surface (corona treatment surface) of the base material F1 was obtained.

PETフィルムの片面にシリコーン系剥離処理剤による剥離処理が施された離型シートを用意し、該離型シートの剥離面(剥離処理が施された面)上に厚さ25μmのアクリル系粘着剤層を形成した。その粘着剤層を透明フィルムC−1の他方の面(背面層が設けられていない面)に転写して、表面保護フィルムサンプルA−1を作製した。このサンプルA−1の塑性指数を上記方法により求めたところ、22.6であった(弾性率6.6GPa、硬度0.29GPa)。なお、ここで使用したPETフィルムの塑性指数Pbは13.6(弾性率4.8GPa、硬度0.35GPa)であった。また、上記PETフィルムの屈折率は1.63であり、光線透過率は89%であった。   A release sheet having a release treatment with a silicone release treatment agent is prepared on one side of a PET film, and an acrylic pressure-sensitive adhesive having a thickness of 25 μm is provided on the release surface (the release treatment surface) of the release sheet. A layer was formed. The pressure-sensitive adhesive layer was transferred to the other surface of the transparent film C-1 (the surface on which the back layer was not provided) to prepare a surface protective film sample A-1. The plastic index of Sample A-1 was determined by the above method and found to be 22.6 (elastic modulus 6.6 GPa, hardness 0.29 GPa). In addition, the plastic index Pb of the PET film used here was 13.6 (elastic modulus 4.8 GPa, hardness 0.35 GPa). The PET film had a refractive index of 1.63 and a light transmittance of 89%.

(サンプルA−2)
コート液B−1を上記溶媒でさらに希釈して、固形分濃度1%のコート液B−2を調製した。このコート液B−2を乾燥後の厚みが0.1μmとなるように塗布した点以外はサンプルA−1の作製と同様にして透明フィルムC−2を得、同様に粘着剤層を転写して表面保護フィルムサンプルA−2を作製した。このサンプルA−2の塑性指数は14.4であった(弾性率4.8GPa、硬度0.33GPa)。
(Sample A-2)
The coating liquid B-1 was further diluted with the above solvent to prepare a coating liquid B-2 having a solid content concentration of 1%. A transparent film C-2 was obtained in the same manner as in the preparation of Sample A-1, except that this coating liquid B-2 was applied so that the thickness after drying was 0.1 μm, and the adhesive layer was transferred in the same manner. A surface protective film sample A-2 was prepared. The plastic index of this sample A-2 was 14.4 (elastic modulus 4.8 GPa, hardness 0.33 GPa).

(サンプルA−3)
樹脂R1の固形分100部当たり5部(固形分換算)の滑剤を配合した点以外はコート液B−2の調製と同様にして、コート液B−3を調製した。ここで、滑剤としては、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン系レベリング剤(BYK Chemie社製、商品名「BYK−333」;以下、「滑剤L1」と標記することもある。)を使用した。このコート液B−3を乾燥後の厚みが0.1μmとなるように塗布した点以外はサンプルA−1の作製と同様にして透明フィルムC−3を得、同様に粘着剤層を転写して表面保護フィルムサンプルA−3を作製した。このサンプルA−3の塑性指数は13.2であった(弾性率4.4GPa、硬度0.34GPa)。
(Sample A-3)
A coating liquid B-3 was prepared in the same manner as the coating liquid B-2 except that 5 parts (solid content conversion) of a lubricant was blended per 100 parts of the solid content of the resin R1. Here, a polyether-modified polydimethylsiloxane leveling agent (manufactured by BYK Chemie, trade name “BYK-333”; hereinafter sometimes referred to as “lubricant L1”) was used as the lubricant. A transparent film C-3 was obtained in the same manner as in the preparation of Sample A-1, except that the coating liquid B-3 was applied so that the thickness after drying was 0.1 μm, and the adhesive layer was transferred in the same manner. A surface protective film sample A-3 was prepared. The plastic index of Sample A-3 was 13.2 (elastic modulus 4.4 GPa, hardness 0.34 GPa).

以上のサンプルにつき、背面層の概略構成を表1に、上述した各種測定および評価の結果を表2に示す。   Table 1 shows the schematic configuration of the back layer and Table 2 shows the results of the various measurements and evaluations described above.

これらの表に示されるように、背面層が8μmの厚さを有するサンプルA−1は良好な耐スクラッチ性を示したが、同じ組成で背面層の厚さを0.1μmとしたサンプルA−2では耐スクラッチ性が不十分であった。これは、背面層の厚みが小さい構成では、基材層に比べて背面層の硬度が高すぎる(したがって塑性指数比が小さすぎる)と、外力(摩擦力)を受けたときに基材層の変形に追従できないことにより破損しやすくなるためと考えられる。また、サンプルA−1に比べてA−2の摩擦係数が高くなっているのは、摩擦係数の測定において背面層の破損に係る荷重が検出されたためと推察される。滑剤5部を配合したサンプルA−3では、A−2に比べて摩擦係数の低下および破壊開始荷重の向上はみられたものの、所望の耐スクラッチ性を実現するには至らなかった。また、滑剤の配合量を増すと白化・ムラが著しくなるため、5部以上の配合は不適当と判断した。   As shown in these tables, Sample A-1 having a back layer thickness of 8 μm showed good scratch resistance, but Sample A- having the same composition and a back layer thickness of 0.1 μm was used. In No. 2, scratch resistance was insufficient. This is because, in a configuration in which the thickness of the back surface layer is small, the hardness of the back surface layer is too high compared to the base material layer (therefore, the plastic index ratio is too small), and when the external force (friction force) is applied, It is thought that it becomes easy to break because it cannot follow the deformation. Moreover, it is surmised that the friction coefficient of A-2 is higher than that of sample A-1 because the load related to the breakage of the back layer was detected in the measurement of the friction coefficient. In sample A-3 containing 5 parts of the lubricant, although the friction coefficient was reduced and the fracture initiation load was improved as compared with A-2, the desired scratch resistance was not achieved. Further, when the amount of the lubricant is increased, whitening / unevenness becomes remarkable, so that it is determined that 5 parts or more is inappropriate.

<実験例2>
(サンプルA−4)
水分散型のポリウレタン系熱硬化型樹脂(日本ポリウレタン社製、商品名「タケラック WS−4100」;以下、「樹脂R2」と表記することもある。)を蒸留水で希釈して、固形分濃度20%のコート液B−4を調製した。このコート液B−4を基材F1の片面(コロナ処理面)に、乾燥後の厚さが8μmとなるように塗布して熱硬化処理することにより、基材F1の片面に背面層が設けられた透明フィルムC−4を得た。この透明フィルムC−4の他方の面に、上記と同様に粘着剤層を転写して、表面保護フィルムサンプルA−4を作製した。このサンプルA−4の塑性指数は21.8であった(弾性率3.4GPa、硬度0.16GPa)。
<Experimental example 2>
(Sample A-4)
A water-dispersible polyurethane thermosetting resin (manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd., trade name “Takelac WS-4100”; hereinafter sometimes referred to as “resin R2”) is diluted with distilled water to obtain a solid content concentration. A 20% coating solution B-4 was prepared. The coating liquid B-4 is applied to one surface (corona-treated surface) of the substrate F1 so that the thickness after drying is 8 μm, and is subjected to thermosetting treatment, thereby providing a back layer on one surface of the substrate F1. Thus obtained transparent film C-4 was obtained. The pressure-sensitive adhesive layer was transferred to the other surface of the transparent film C-4 in the same manner as described above to prepare a surface protective film sample A-4. The plastic index of this sample A-4 was 21.8 (elastic modulus 3.4 GPa, hardness 0.16 GPa).

(サンプルA−5)
コート液B−4を蒸留水でさらに希釈して、固形分濃度1%のコート液B−5を調製した。このコート液B−5を乾燥後の厚みが0.1μmとなるように塗布した点以外はサンプルA−4の作製と同様にして透明フィルムC−5を得、同様に粘着剤層を転写して表面保護フィルムサンプルA−5を作製した。塑性指数は17.6であった(弾性率4.9GPa、硬度0.28GPa)。
(Sample A-5)
The coating liquid B-4 was further diluted with distilled water to prepare a coating liquid B-5 having a solid content concentration of 1%. A transparent film C-5 was obtained in the same manner as in the preparation of Sample A-4, except that this coating liquid B-5 was applied so that the thickness after drying was 0.1 μm, and the adhesive layer was transferred in the same manner. Thus, a surface protective film sample A-5 was produced. The plasticity index was 17.6 (elastic modulus 4.9 GPa, hardness 0.28 GPa).

(サンプルA−6)
樹脂R2の固形分100部当たり5部(固形分換算)の滑剤L1を配合した点以外はコート液B−5の調製と同様にして、コート液B−6を調製した。このコート液B−6を乾燥後の厚みが0.1μmとなるように塗布した点以外はサンプルA−4の作製と同様にして透明フィルムC−6を得、同様に粘着剤層を転写して表面保護フィルムサンプルA−6を作製した。塑性指数は29.5であった(弾性率2.5GPa、硬度0.09GPa)。
(Sample A-6)
A coating liquid B-6 was prepared in the same manner as the coating liquid B-5 except that 5 parts (in terms of solid content) of the lubricant L1 was blended per 100 parts of the solid content of the resin R2. A transparent film C-6 was obtained in the same manner as in the preparation of Sample A-4 except that the coating liquid B-6 was applied so that the thickness after drying was 0.1 μm, and the adhesive layer was transferred in the same manner. Thus, a surface protective film sample A-6 was produced. The plasticity index was 29.5 (elastic modulus 2.5 GPa, hardness 0.09 GPa).

(サンプルA−7)
滑剤L1の配合量を樹脂R2の固形分100部当たり10部(固形分換算)とした点以外はサンプルA−6の作製と同様にして透明フィルムC−7を得、同様に粘着剤層を転写して表面保護フィルムサンプルA−7を作製した。塑性指数は37.7であった(弾性率2.1GPa、硬度0.05GPa)。
(Sample A-7)
A transparent film C-7 was obtained in the same manner as in the preparation of Sample A-6, except that the blending amount of the lubricant L1 was 10 parts per 100 parts of the solid content of the resin R2 (in terms of solid content). The surface protective film sample A-7 was produced by transfer. The plasticity index was 37.7 (elastic modulus 2.1 GPa, hardness 0.05 GPa).

(サンプルA−8)
水分散型のアクリル−スチレン系熱硬化型樹脂(DIC社製、商品名「ボンコート(VONCOAT)CG−8490」;以下、「樹脂R3」と表記することもある。)を蒸留水で希釈して、固形分濃度3%のコート液B−8を調製した。このコート液B−8を基材F1の片面(コロナ処理面)に、乾燥後の厚さが0.1μmとなるように塗布して熱硬化処理することにより、基材F1の片面に背面層が設けられた透明フィルムC−8を得た。この透明フィルムC−8の他方の面に、上記と同様に粘着剤層を転写して、表面保護フィルムサンプルA−8を作製した。このサンプルA−8の塑性指数は361.7であった(弾性率3.61GPa、硬度0.01GPa)。
(Sample A-8)
A water-dispersible acrylic-styrene thermosetting resin (manufactured by DIC, trade name “VONCOAT CG-8490”; hereinafter sometimes referred to as “resin R3”) is diluted with distilled water. A coating liquid B-8 having a solid content concentration of 3% was prepared. The coating liquid B-8 is applied to one surface (corona-treated surface) of the base material F1 so that the thickness after drying is 0.1 μm, and is subjected to thermosetting treatment, whereby a back layer is formed on one surface of the base material F1. A transparent film C-8 provided with was obtained. The pressure-sensitive adhesive layer was transferred to the other surface of the transparent film C-8 in the same manner as described above to prepare a surface protective film sample A-8. The plastic index of Sample A-8 was 361.7 (elastic modulus 3.61 GPa, hardness 0.01 GPa).

(サンプルA−9)
樹脂R3と、滑剤L1と、帯電防止成分としての導電性ポリマー(三菱レイヨン社製、重量平均分子量約15×10のポリアニリンスルホン酸の水分散液、商品名「aqua−PASS」;以下、「AS1」と表記することもある。)とを、固形分の質量比が100:2:6となるように混合し、蒸留水で希釈して、固形分濃度3%のコート液B−9を調製した。このコート液B−9を乾燥後の厚さが0.1μmとなるように塗布した点以外はサンプルA−8の作製と同様にして透明フィルムC−9を得、同様に粘着剤層を転写して表面保護フィルムサンプルA−9を作製した。このサンプルA−9の塑性指数は298であった(弾性率2.7GPa、硬度0.009GPa)。
(Sample A-9)
Resin R3, lubricant L1, and conductive polymer as an antistatic component (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., an aqueous dispersion of polyaniline sulfonic acid having a weight average molecular weight of about 15 × 10 4 , trade name “aqua-PASS”; AS1 ”) is mixed so that the mass ratio of the solid content is 100: 2: 6, diluted with distilled water, and the coating liquid B-9 having a solid content concentration of 3% is obtained. Prepared. A transparent film C-9 was obtained in the same manner as in the preparation of Sample A-8, except that the coating liquid B-9 was applied so that the thickness after drying was 0.1 μm, and the adhesive layer was transferred in the same manner. Thus, a surface protective film sample A-9 was produced. The plastic index of this sample A-9 was 298 (elastic modulus 2.7 GPa, hardness 0.009 GPa).

(サンプルA−10)
樹脂R3と、滑剤L1と、帯電防止成分としての導電性フィラー(多木化学社製の酸化スズゾル、商品名「セラメース S−8」;以下、「AS2」と表記することもある。)とを、固形分の質量比が100:2:300となるように混合し、蒸留水で希釈して、固形分濃度3%のコート液B−10を調製した。このコート液B−10を乾燥後の厚みが0.1μmとなるように塗布した点以外はサンプルA−8の作製と同様にして透明フィルムC−10を得、同様に粘着剤層を転写して表面保護フィルムサンプルA−10を作製した。塑性指数は15.4であった(弾性率6.1GPa、硬度0.40GPa)。
(Sample A-10)
Resin R3, lubricant L1, and conductive filler as an antistatic component (tin oxide sol manufactured by Taki Chemical Co., Ltd., trade name “Cerames S-8”; hereinafter sometimes referred to as “AS2”). The mixture was mixed so that the mass ratio of the solid content was 100: 2: 300, and diluted with distilled water to prepare a coating liquid B-10 having a solid content concentration of 3%. A transparent film C-10 was obtained in the same manner as in the preparation of Sample A-8, except that this coating liquid B-10 was applied so that the thickness after drying was 0.1 μm, and the adhesive layer was transferred in the same manner. Thus, a surface protective film sample A-10 was produced. The plasticity index was 15.4 (elastic modulus 6.1 GPa, hardness 0.40 GPa).

これらのサンプルにつき、背面層の概略構成を表3に、上述した各種測定および評価の結果を表4に示す。   Table 3 shows the schematic configuration of the back layer and Table 4 shows the results of the various measurements and evaluations described above.

これらの表に示されるように、A−5の背面層組成に滑剤を配合することで摩擦係数を0.4以下に調整し、且つ塑性指数比が2以上のサンプルA−6,A−7によると、0.1μmという薄い背面層でありながら、50mN以上という高い破壊開始荷重が達成され、優れた耐スクラッチ性が実現された。また、A−6,A−7とは背面層の樹脂組成が異なるサンプルA−9においても、同様に0.4以下の摩擦係数および2以上の塑性指数比を示すことにより、高い破壊開始荷重および優れた耐スクラッチ性が実現された。これらのサンプルA−6,7,9は、いずれも3〜6N/19mmという適度な剥離力を有し、良好な基材密着性および印字性を示した。さらに、白化・ムラは認められず、カールの程度も少なかった。塑性指数比が10〜50(より具体的には20〜50)の範囲にあるサンプルA−9は、特に良好な基材密着性を示すものであった。   As shown in these tables, samples A-6 and A-7 in which the friction coefficient is adjusted to 0.4 or less by adding a lubricant to the back layer composition of A-5 and the plastic index ratio is 2 or more. According to the results, a high fracture start load of 50 mN or more was achieved despite the thin back layer of 0.1 μm, and excellent scratch resistance was realized. Similarly, Sample A-9, which has a different back layer resin composition from A-6 and A-7, also exhibits a high fracture initiation load by exhibiting a friction coefficient of 0.4 or less and a plastic index ratio of 2 or more. And excellent scratch resistance was realized. These samples A-6, 7, and 9 all had an appropriate peeling force of 3 to 6 N / 19 mm, and exhibited good substrate adhesion and printability. Further, no whitening or unevenness was observed, and the degree of curling was small. Sample A-9 having a plastic index ratio in the range of 10 to 50 (more specifically 20 to 50) exhibited particularly good substrate adhesion.

一方、サンプルA−6から滑剤を省いたサンプルA−5は、おそらく塑性指数比が小さすぎること等により、摩擦係数が高く破壊開始荷重は低く、耐スクラッチ性に欠けるものであった。このサンプルA−5に係る背面層組成では、厚みの大きいサンプルA−4においても耐スクラッチ性が不足していた。また、サンプルA−9とは帯電防止成分の種類を異ならせたサンプルA−10では、おそらく塑性指数比が小さすぎること等により、摩擦係数が高く破壊開始荷重は低く、耐スクラッチ性に欠けるものであった。   On the other hand, Sample A-5, in which the lubricant was omitted from Sample A-6, had a high friction coefficient, a low fracture initiation load, and lacked scratch resistance, probably due to the plastic index ratio being too small. In the back layer composition according to Sample A-5, scratch resistance was insufficient even in Sample A-4 having a large thickness. Sample A-10, which has a different antistatic component from sample A-9, has a high friction coefficient, a low fracture initiation load, and lacks scratch resistance, possibly because the plastic index ratio is too small. Met.

ここに開示される透明フィルムは、各種表面保護フィルムの支持体等の用途に好ましく利用され得る。また、ここに開示される表面保護フィルムは、液晶ディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネル(PDP)、有機エレクトロルミネッセンス(EL)ディスプレイ等の構成要素として用いられる光学部材の製造時、搬送時等に該光学部材を保護する用途に好適である。特に、液晶ディスプレイパネル用の偏光板(偏光フィルム)、波長板、位相差板、光学補償フィルム、輝度向上フィルム、光拡散シート、反射シート等の光学部材に適用される表面保護フィルムとして有用である。   The transparent film disclosed herein can be preferably used for applications such as a support for various surface protective films. Further, the surface protective film disclosed herein is an optical member used in the production or transportation of an optical member used as a component of a liquid crystal display panel, a plasma display panel (PDP), an organic electroluminescence (EL) display, or the like. It is suitable for the use which protects. In particular, it is useful as a surface protective film applied to optical members such as polarizing plates (polarizing films) for liquid crystal display panels, wave plates, retardation plates, optical compensation films, brightness enhancement films, light diffusion sheets, and reflective sheets. .

1:表面保護フィルム
10:透明フィルム
12:基材層
14:背面層
20:粘着剤層
30:剥離ライナー
1: Surface protective film 10: Transparent film 12: Base material layer 14: Back layer 20: Adhesive layer 30: Release liner

Claims (9)

透明な樹脂材料からなる基材層と、該基材層の第一面上に設けられた背面層と、を有する透明フィルムであって、
前記背面層の厚みが1μm以下であり、
スクラッチ試験における前記背面層の破壊開始荷重が50mN以上であり、かつ
前記背面層の摩擦係数が0.4以下である、
透明フィルム。
A transparent film having a base material layer made of a transparent resin material and a back layer provided on the first surface of the base material layer,
The thickness of the back layer is 1 μm or less,
The fracture start load of the back layer in the scratch test is 50 mN or more, and the friction coefficient of the back layer is 0.4 or less,
Transparent film.
先端曲率半径0.1μmのバーコピッチ型ダイヤモンド製圧子を前記背面層に垂直に押し込んで深さ10nmにおける押し込み弾性率および硬度を測定し、該弾性率を硬度で除して求められる塑性指数Psと、前記基材層について同様に求められる塑性指数Pbとの比(Ps/Pb)が1.5以上である、請求項1に記載の透明フィルム。   A barcopitch diamond indenter having a tip radius of curvature of 0.1 μm was pressed vertically into the back layer to measure the indentation elastic modulus and hardness at a depth of 10 nm, and the plasticity index Ps obtained by dividing the elastic modulus by the hardness; The transparent film of Claim 1 whose ratio (Ps / Pb) with the plastic index Pb calculated | required similarly about the said base material layer is 1.5 or more. 前記背面層に粘着テープを貼り付け、該粘着テープを前記背面層から剥離速度0.3m/分、剥離角度180度の条件で剥離して測定される剥離力が2N/19mm以上である、請求項1または2に記載の透明フィルム。   A peeling force measured by attaching an adhesive tape to the back layer and peeling the adhesive tape from the back layer at a peeling speed of 0.3 m / min and a peeling angle of 180 degrees is 2 N / 19 mm or more. Item 3. The transparent film according to Item 1 or 2. 前記背面層は単層構造であって前記基材層上に直接設けられている、請求項1から3のいずれか一項に記載の透明フィルム。   The transparent film according to any one of claims 1 to 3, wherein the back layer has a single-layer structure and is provided directly on the base material layer. 前記背面層は、滑剤を含む樹脂材料からなる、請求項1から4のいずれか一項に記載の透明フィルム。   The said back layer is a transparent film as described in any one of Claim 1 to 4 which consists of a resin material containing a lubricant. 前記背面層は、帯電防止成分を含む樹脂材料からなる、請求項1から5のいずれか一項に記載の透明フィルム。   The said back layer is a transparent film as described in any one of Claim 1 to 5 which consists of a resin material containing an antistatic component. 前記帯電防止成分が導電性ポリマーである、請求項6に記載の透明フィルム。   The transparent film according to claim 6, wherein the antistatic component is a conductive polymer. 前記基材層を構成するベース樹脂は、ポリエチレンテレフタレート樹脂またはポリエチレンナフタレート樹脂である、請求項1から7のいずれか一項に記載の透明フィルム。   The base film which comprises the said base material layer is a transparent film as described in any one of Claim 1 to 7 which is a polyethylene terephthalate resin or a polyethylene naphthalate resin. 請求項1から8のいずれか一項に記載の透明フィルムと、
該透明フィルムの、前記背面層とは反対側の表面に設けられた粘着剤層と、
を備える、表面保護フィルム。
The transparent film according to any one of claims 1 to 8,
An adhesive layer provided on the surface of the transparent film opposite to the back layer;
A surface protective film.
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