JP2006175848A - Protection film for optical use - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a protection film for optical uses, having antistatic properties, scratch resistance, ready cleanability for pollutant, printability, good adhesion to a substrate film, transparency, a moderate slippage, etc. <P>SOLUTION: The protection film for optical uses consists of the substrate film, an adhesive layer arranged on one side of the substrate film, and an antistatic surface protective layer arranged on the other side of the substrate film, and the above surface protective layer is formed in such a manner that a resin (A) having an active hydrogen group and a polysiloxane group in the molecule, an antistatic agent (B), and a polyisocyanate (C) serve as a film forming component. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、液晶ディスプレーに使用される偏光板などの製造時に使用される光学用保護フィルムに関する。さらに詳しくは、帯電防止機能、汚染物易洗浄機能および傷付き防止機能などが具備された光学用保護フィルムに関する。   The present invention relates to an optical protective film used in manufacturing a polarizing plate used for a liquid crystal display. More specifically, the present invention relates to an optical protective film provided with an antistatic function, a contaminant easy cleaning function, a scratch preventing function, and the like.

一般的な光学用保護フィルムは、表面保護層/耐水層/帯電防止層/基材フィルム/帯電防止層/粘着層/セパレートフィルム層の構成であり、基材フィルムの一方の面(セパレートフィルム層側)は偏光板に貼り合わせる側であって、セパレートフィルム層、粘着層および帯電防止層からなっている。上記粘着層は糊残りの少ない粘着剤から形成され、帯電防止層には帯電防止機能が付与されている。光学用保護フィルムの他方の面には、帯電防止層、耐水層および表面保護層が形成されている。帯電防止層の機能は前記の通りであり、耐水層の機能は、帯電防止層に対する外部環境(湿度)の影響を最小限にすることであり、表面保護層には多くの機能が付与されている。   A general optical protective film has a structure of surface protective layer / water resistant layer / antistatic layer / base film / antistatic layer / adhesive layer / separate film layer, and one side of the base film (separate film layer) Side) is a side to be bonded to the polarizing plate, and is composed of a separate film layer, an adhesive layer and an antistatic layer. The pressure-sensitive adhesive layer is formed from a pressure-sensitive adhesive with little adhesive residue, and the antistatic layer has an antistatic function. An antistatic layer, a water resistant layer and a surface protective layer are formed on the other surface of the optical protective film. The function of the antistatic layer is as described above, and the function of the water resistant layer is to minimize the influence of the external environment (humidity) on the antistatic layer, and the surface protective layer has many functions. Yes.

液晶ディスプレーなどに使用される偏光板の製造時には、偏光板の表面に光学用保護フィルムを貼り合わせて、偏光板に汚れや傷が付かないようにし、使用時には光学用保護フィルムを偏光板から剥離する。   When manufacturing polarizing plates used for liquid crystal displays, etc., an optical protective film is bonded to the surface of the polarizing plate so that the polarizing plate is not soiled or scratched, and when used, the optical protective film is peeled off from the polarizing plate. To do.

光学用保護フィルムの粘着層側に帯電防止機能を付与させる理由は、偏光板を製造する過程で発生する静電気による偏光板へのごみの付着や、偏光板から光学用保護フィルムを剥離する際に発生する静電気で偏光板に不良品が生起することがあるので、それを防止するためである。   The reason for imparting an antistatic function to the adhesive layer side of the optical protective film is that when dust is attached to the polarizing plate due to static electricity generated in the process of manufacturing the polarizing plate, or when the optical protective film is peeled off from the polarizing plate. This is to prevent a defective product from occurring in the polarizing plate due to the generated static electricity.

また、光学用保護フィルムの粘着層と反対側の外側の表面保護層には、帯電防止機能、傷付き防止機能および汚染物易洗浄機能などが付与されている。それぞれを付与する必要性は次の通りである。帯電防止機能については前記の通りであり、傷付き防止機能については、偏光板を製造する過程で発生する傷付きを防止させることを目的とし、特に、偏光板と光学用保護フィルムをロールで貼り合わせる時、偏光板としての必要スペックに合わせ裁断し、積層して保管している時、或いは保管中に抜き取りをする時などに偏光板に傷付きが発生し易いので、これらに対応するためのものである。   Further, the outer surface protective layer opposite to the adhesive layer of the optical protective film is provided with an antistatic function, an anti-scratch function, an easily-cleaning function for contaminants, and the like. The necessity to give each is as follows. The antistatic function is as described above, and the scratch prevention function is intended to prevent scratches that occur during the manufacturing process of the polarizing plate, and in particular, the polarizing plate and the optical protective film are attached with a roll. When aligning, cut according to the required specifications as a polarizing plate, and when laminated and stored, or when removing it during storage, etc., the polarizing plate is likely to be damaged. Is.

汚染物易洗浄機能は、偏光板と光学用保護フィルムとを貼り合わせる際に保護層に付着する粘着剤、或いは偏光板としての必要スペックに合わせ裁断し、積層して保管している時に付着する粘着剤などが光学用保護フィルムの表面を汚染して外観検査で不良品扱いとなって問題化するので、容易に拭きとれるようにするためである。光学用保護フィルムに付着した粘着剤の除去法としては、例えば、乾拭き或いはアルコールや酢酸エチルなどの有機溶剤をしみ込ませた布などによる拭取りを行う方法などがある。このような拭き取り時に光学用保護フィルムには汚染物易洗浄機能が求められている。   Contaminant easy-cleaning function adheres when adhesive is attached to the protective layer when the polarizing plate and optical protective film are bonded together, or is cut according to the required specifications as a polarizing plate, and stacked and stored. This is because an adhesive or the like contaminates the surface of the optical protective film and becomes a problem as a defective product in appearance inspection, so that it can be easily wiped off. As a method for removing the adhesive attached to the optical protective film, for example, there is a method of performing dry wiping or wiping with a cloth soaked with an organic solvent such as alcohol or ethyl acetate. During such wiping, the protective film for optics is required to have a function of easily cleaning contaminants.

前記機能を付与した光学用保護フィルムの製造例としては、基材フィルムの一方の面にアクリル粘着剤を、帯電防止処理が施された基材フィルムの他方の面にシリコーンアクリレートを塗布し、光学用保護フィルムの粘着剤のはみだしによる積み重ね時のフィルムのくっつき防止と汚染物易洗浄機能を付与した例(特許文献1参照)や、表面保護層に、ポリビニルアルコールやポリエチレンイミンを長鎖アルキル化した共重合体などを塗布し、裁断面からはみ出した粘着剤が光学用保護フィルムの表面に付着するのを防止する機能を付与した例(特許文献2および3参照)が提案されている。   As an example of production of an optical protective film having the above functions, an acrylic pressure-sensitive adhesive is applied to one side of a base film, and a silicone acrylate is applied to the other side of the base film that has been subjected to an antistatic treatment. Examples of the protective film adhesive sticking prevention by sticking out of the film and the function of easily cleaning contaminants (see Patent Document 1), and the surface protective layer was long-chain alkylated with polyvinyl alcohol or polyethyleneimine Examples have been proposed (see Patent Documents 2 and 3) in which a copolymer or the like is applied to prevent adhesion of the pressure-sensitive adhesive protruding from the cut surface to the surface of the optical protective film.

光学用保護フィルムの表面保護層には、前記した帯電防止性、傷付き防止性および汚染物易洗浄性の他に、印刷適性(工程管理する際に使用するプリンターインキ適性)、基材フィルムとの密着性、耐スクラッチ性および適度な滑り性なども求められている。
特開2001−305346公報 特開平11−256115号公報 特開平11−256116号公報
In addition to the above-mentioned antistatic properties, scratch resistance and easy cleaning of contaminants, the surface protective layer of the optical protective film has printing suitability (printer ink suitability for process control), base film and There are also demands for adhesion, scratch resistance and moderate slipperiness.
JP 2001-305346 A JP 11-256115 A JP 11-256116 A

しかしながら、前記提案された光学用保護フィルムでは、前記した全ての機能を満足しているわけではない。その上、従来よりもさらに高性能である光学用保護フィルムの表面保護層形成材料が要望されている。また、現行の表面保護層の構成システムである3コートシステム(表面保護層/耐水層/帯電防止層/基材フィルム)から2コートシステム(表面保護層/帯電防止層/基材フィルム)へ、さらには、製法の簡略化を目的として(帯電防止性表面保護層/基材フィルム)という1コートシステムへの構成システム変更についても要望されている。   However, the proposed protective film for optics does not satisfy all the functions described above. In addition, there is a demand for a material for forming a surface protective layer for an optical protective film that has higher performance than before. In addition, from the 3 coat system (surface protective layer / water resistant layer / antistatic layer / base film), which is the construction system of the current surface protective layer, to the 2 coat system (surface protective layer / antistatic layer / base film), Furthermore, for the purpose of simplifying the manufacturing method, there is a demand for a change in the configuration system to a one-coat system (antistatic surface protective layer / base film).

従って、本発明の目的は、帯電防止性、傷付き防止性、汚染物易洗浄性(有機溶剤で洗浄することもあるため耐溶剤性も必要となる)、印刷適性(工程管理する際に使用するプリンターインキ適性)、基材フィルムとの密着性、透明性および適度な滑り性などを有する光学用保護フィルムを提供することである。
さらに、本発明の目的は、表面保護層の構成として帯電防止機能を兼ね備えた表面保護層/基材フィルムという1コートシステムが可能な光学用保護フィルムを提供することである。
Therefore, the object of the present invention is to provide antistatic properties, scratch resistance, easy cleaning of contaminants (solvent resistance is also required because it may be washed with an organic solvent), printability (used for process control) To provide an optical protective film having adhesiveness with a substrate film, transparency, moderate slipperiness, and the like.
Furthermore, the objective of this invention is providing the protective film for optics in which 1 coat system called the surface protective layer / base film which also has the antistatic function as a structure of a surface protective layer is possible.

本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に設けた粘着層と、該基材フィルムの他方の面に設けた帯電防止性表面保護層とからなる光学用保護フィルムにおいて、上記表面保護層を、分子内に活性水素基およびポリシロキサン基を有する樹脂と帯電防止剤とポリイソシアネートとを被膜形成成分として形成することで、優れた機能を有する光学用保護フィルムが得られることを見出し、本発明に至った。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the inventors have made a base film, an adhesive layer provided on one side of the base film, and a charging provided on the other side of the base film. In the optical protective film comprising the protective surface protective layer, the surface protective layer is formed by forming a resin having an active hydrogen group and a polysiloxane group in the molecule, an antistatic agent, and a polyisocyanate as a film forming component. The present inventors have found that an optical protective film having an excellent function can be obtained, and have reached the present invention.

すなわち、本発明は下記の構成からなる。
1.基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に設けた粘着層と、該基材フィルムの他方の面に設けた帯電防止性表面保護層(以下単に「表面保護層」という場合がある)とからなる光学用保護フィルムにおいて、上記表面保護層が、分子内に活性水素基およびポリシロキサン基を有する樹脂(A)と帯電防止剤(B)とポリイソシアネート(C)とを被膜形成成分として形成されていることを特徴とする光学用保護フィルム。
That is, the present invention has the following configuration.
1. A base film, an adhesive layer provided on one side of the base film, and an antistatic surface protective layer provided on the other side of the base film (hereinafter sometimes referred to simply as “surface protective layer”) In the optical protective film, the surface protective layer comprises a resin (A) having an active hydrogen group and a polysiloxane group in the molecule, an antistatic agent (B), and a polyisocyanate (C) as a film forming component. An optical protective film characterized by being formed.

2.前記樹脂(A)が、分子内に活性水素基を有する樹脂と、分子内に少なくとも1個の活性水素基を有するポリシロキサン化合物と、ポリイソシアネートとを反応させて得られた樹脂である前記1に記載の光学用保護フィルム。
3.前記樹脂(A)が、該樹脂中にポリシロキサン基成分を0.0001〜30質量%含有している前記1に記載の光学用保護フィルム。
2. The resin (A) is a resin obtained by reacting a resin having an active hydrogen group in the molecule, a polysiloxane compound having at least one active hydrogen group in the molecule, and a polyisocyanate. The protective film for optics as described in 2.
3. 2. The optical protective film as described in 1 above, wherein the resin (A) contains 0.0001 to 30% by mass of a polysiloxane group component in the resin.

4.前記樹脂(A)が、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、チオール基および/またはエポキシ基を主鎖および/または側鎖に有する樹脂と、分子内にアミノ基または水酸基を有しているポリシロキサン化合物と、ポリイソシアネートとの反応生成物である前記1に記載の光学用保護フィルム。
5.帯電防止剤(B)が、導電性ポリマー、イオン伝導ポリマー、金属酸化物、金属アルコキシドおよび導電性フィラー含有高分子物質から選ばれた少なくとも1種である前記1に記載の光学用保護フィルム。
4). A resin in which the resin (A) has a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, a thiol group and / or an epoxy group in the main chain and / or side chain, and a polysiloxane compound having an amino group or a hydroxyl group in the molecule 2. The optical protective film as described in 1 above, which is a reaction product of polyisocyanate.
5. 2. The optical protective film as described in 1 above, wherein the antistatic agent (B) is at least one selected from a conductive polymer, an ion conductive polymer, a metal oxide, a metal alkoxide, and a conductive filler-containing polymer substance.

6.表面抵抗値が、105〜1012Ω/cm2である前記1に記載の光学用保護フィルム。
7.表面保護層のヘイズ値が、0〜1.2%である前記1に記載の光学用保護フィルム。
8.表面保護層の動摩擦係数が、0.15〜0.30である前記1に記載の光学用保護フィルム。
6). 2. The optical protective film as described in 1 above, wherein the surface resistance value is 10 5 to 10 12 Ω / cm 2 .
7). 2. The optical protective film as described in 1 above, wherein the surface protective layer has a haze value of 0 to 1.2%.
8). 2. The optical protective film as described in 1 above, wherein the surface protective layer has a dynamic friction coefficient of 0.15 to 0.30.

9.分子内に活性水素基およびポリシロキサン基を有する樹脂(A)と帯電防止剤(B)とポリイソシアネート(C)とを有機溶剤に溶解してなることを特徴とする表面保護層形成用塗料。
10.樹脂(A)が、樹脂(A)と帯電防止剤(B)の合計量(100質量%)のうちの20〜98質量%であり、帯電防止剤(B)が80〜2質量%である前記9に記載の塗料。
11.さらに使用前にポリイソシアネートを添加するか、或いは安定化ポリイソシアネートを含有している前記9に記載の塗料。
9. A coating material for forming a surface protective layer, comprising a resin (A) having an active hydrogen group and a polysiloxane group in the molecule, an antistatic agent (B), and a polyisocyanate (C) dissolved in an organic solvent.
10. The resin (A) is 20 to 98% by mass of the total amount (100% by mass) of the resin (A) and the antistatic agent (B), and the antistatic agent (B) is 80 to 2% by mass. 10. The paint according to 9 above.
11. Furthermore, the coating material of said 9 which adds polyisocyanate before use or contains stabilized polyisocyanate.

本発明によれば、光学用保護フィルムの表面保護層の構成システムが、表面保護層/基材フィルムといった1コートシステムからなり、帯電防止性、傷付き防止性、汚染物易洗浄性、印刷適性、基材フィルムとの密着性、透明性および適度な滑り性などに優れた光学用保護フィルムが提供される。   According to the present invention, the construction system of the surface protective layer of the optical protective film comprises a one-coat system such as a surface protective layer / base film, and is antistatic, scratch resistant, easily washed out of contaminants, and printable. An optical protective film excellent in adhesion to a substrate film, transparency, moderate slipperiness, and the like is provided.

次に好ましい実施の形態を挙げて本発明をさらに詳細に述べる。
本発明の光学用保護フィルムは、基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に設けた粘着層と、該基材フィルムの他方の面に設けた表面保護層とからなっている。すなわち、光学用保護フィルムの表面保護層側の構成は、表面保護層/基材フィルムといった1コートシステムの構成からなることを特徴としており、従来の3コートシステムの構成(表面保護層/耐水層/帯電防止層/基材フィルム)或いは2コートシステムの構成(表面保護層/帯電防止層/基材フィルム)の製法をより簡略化したものである。すなわち、本発明の光学用保護フィルムの表面保護層は、製造時のコート回数が削減されコストパフォーマンスに優れた表面保護層となっている。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to preferred embodiments.
The optical protective film of the present invention comprises a base film, an adhesive layer provided on one surface of the base film, and a surface protective layer provided on the other surface of the base film. That is, the structure of the optical protective film on the surface protective layer side is characterized by comprising a structure of one coat system such as a surface protective layer / base film, and the structure of the conventional three coat system (surface protective layer / water resistant layer). / Antistatic layer / base film) or a two-coat system construction (surface protective layer / antistatic layer / base film). That is, the surface protective layer of the protective film for optics of the present invention is a surface protective layer that is excellent in cost performance by reducing the number of coatings during production.

次に本発明における表面保護層について詳しく説明する。
表面保護層は、分子内に活性水素基およびポリシロキサン基を有する樹脂(A)と帯電防止剤(B)とポリイソシアネート(C)とを被膜形成成分として形成されているものであり、これらの成分を溶剤などに溶解・分散させて或いは無溶剤で表面保護層形成用塗料として基材フィルムの上に塗布および乾燥して表面保護層とするのが好ましい。この場合の表面保護層形成用塗料は、前記樹脂(A)と帯電防止剤(B)とポリイソシアネート(C)とからなる組成物である。
Next, the surface protective layer in the present invention will be described in detail.
The surface protective layer is formed using a resin (A) having an active hydrogen group and a polysiloxane group in the molecule, an antistatic agent (B), and a polyisocyanate (C) as a film forming component. It is preferable to dissolve and disperse the components in a solvent or the like, or to apply and dry as a surface protective layer-forming coating material on a base film without using a solvent to form a surface protective layer. The coating material for forming the surface protective layer in this case is a composition comprising the resin (A), the antistatic agent (B) and the polyisocyanate (C).

樹脂(A)としては、分子内に活性水素基を有する樹脂と、分子内に少なくとも1個の活性水素基を有するポリシロキサン化合物と、ポリイソシアネートとの反応生成物を使用するのが好ましい。これらの成分を反応させるに当ってはこれらの成分を全部を一括で反応させてもよいし、分子内に少なくとも1個の活性水素基を有するポリシロキサン化合物とポリイソシアネートとを先に反応させて得られた反応生成物に、分子内に活性水素基を有する樹脂を反応させてもよいが、後者の反応方法によって得られた樹脂(A)がより好ましい。   As the resin (A), it is preferable to use a reaction product of a resin having an active hydrogen group in the molecule, a polysiloxane compound having at least one active hydrogen group in the molecule, and a polyisocyanate. In reacting these components, all of these components may be reacted together, or a polysiloxane compound having at least one active hydrogen group in the molecule and a polyisocyanate are reacted first. The obtained reaction product may be reacted with a resin having an active hydrogen group in the molecule, but the resin (A) obtained by the latter reaction method is more preferred.

前記分子内に活性水素基を有する樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、部分けん化ポリビニルアルコール、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール、アセタール基変性ポリビニルアルコール、ブチラール基変性ポリビニルアルコール、シラノール基変性ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、エチレン−ビニルアルコール−酢酸ビニル共重合樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、フェノキシエーテル樹脂、フェノキシエステル樹脂、フッ素系樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、ポリエーテル、ポリエステル、セルロース類、キトサンおよびウレタン樹脂などが挙げられる。これらの中で特に好ましいのは、エチレン−ビニルアルコール共重合体、部分けん化ポリビニルアルコールおよびフェノキシ樹脂である。   Examples of the resin having an active hydrogen group in the molecule include polyvinyl alcohol, partially saponified polyvinyl alcohol, acetoacetyl group-modified polyvinyl alcohol, acetal group-modified polyvinyl alcohol, butyral group-modified polyvinyl alcohol, silanol group-modified polyvinyl alcohol, ethylene- Vinyl alcohol copolymer, ethylene-vinyl alcohol-vinyl acetate copolymer resin, acrylic resin, epoxy resin, phenoxy resin, phenoxy ether resin, phenoxy ester resin, fluorine resin, melamine resin, alkyd resin, phenol resin, polyether , Polyesters, celluloses, chitosan and urethane resins. Of these, ethylene-vinyl alcohol copolymer, partially saponified polyvinyl alcohol and phenoxy resin are particularly preferable.

前記分子内に活性水素基を有する樹脂中の活性水素基としては、例えば、水酸基(−OH)、カルボキシル基(−COOH)、アミノ基(−NRH(Rは2価の有機基)、−NH2など)、チオール基(−SH)および/またはエポキシ基などが挙げられ、これらの中では水酸基およびアミノ基が好ましく使用される。前記分子内に活性水素基を有している樹脂においては、そのまま活性水素基を前記反応に使用できるが、前記樹脂分子内に活性水素基を有していない場合は変性などの処理を行って活性水素基を付与して使用することができる。 Examples of the active hydrogen group in the resin having an active hydrogen group in the molecule include a hydroxyl group (—OH), a carboxyl group (—COOH), an amino group (—NRH (R is a divalent organic group), —NH. 2 ), a thiol group (-SH) and / or an epoxy group, among which a hydroxyl group and an amino group are preferably used. In the resin having an active hydrogen group in the molecule, the active hydrogen group can be used for the reaction as it is, but when the resin molecule does not have an active hydrogen group, a treatment such as modification is performed. It can be used with an active hydrogen group.

前記樹脂(A)中のポリシロキサン基について説明する。樹脂(A)を得るには、分子内に活性水素基を少なくとも1個有するポリシロキサン化合物を用いて、ポリイソシアネートを介して分子内に活性水素基を有する前記樹脂と反応させるのが好ましい形態であるので、ポリシロキサン化合物について説明する。本発明において使用される分子内に活性水素基を少なくとも1個有するポリシロキサン化合物としては、例えば、以下のような化合物を用いることが好ましい(この中には活性水素基を利用して変性されたエポキシ変性ポリシロキサン化合物も含んでいるが、イソシアネート基と反応してポリウレタン樹脂中に含有されることとなるので含めている)。   The polysiloxane group in the resin (A) will be described. In order to obtain the resin (A), it is preferable to use a polysiloxane compound having at least one active hydrogen group in the molecule and react with the resin having an active hydrogen group in the molecule via polyisocyanate. Therefore, the polysiloxane compound will be described. As the polysiloxane compound having at least one active hydrogen group in the molecule used in the present invention, for example, the following compounds are preferably used (in this, modified using active hydrogen groups) An epoxy-modified polysiloxane compound is also included, but it is included because it reacts with an isocyanate group and is contained in a polyurethane resin).

(1)アミノ変性ポリシロキサン化合物

Figure 2006175848
(1) Amino-modified polysiloxane compound
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(2)エポキシ変性ポリシロキサン化合物

Figure 2006175848
(2) Epoxy-modified polysiloxane compound
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(3)アルコール変性ポリシロキサン化合物

Figure 2006175848
(3) Alcohol-modified polysiloxane compound
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(4)メルカプト変性ポリシロキサン化合物

Figure 2006175848
(4) Mercapto-modified polysiloxane compound
Figure 2006175848

Figure 2006175848
Figure 2006175848

以上列記した分子内に活性水素基を有するポリシロキサン化合物は本発明において使用する好ましい化合物であるが、本発明はこれらの例示の化合物に限定されるものではない。従って上述の例示の化合物のみならず、その他現在市販されており、市場から容易に入手し得る化合物はいずれも本発明において好ましく使用することができる。本発明において特に好ましい化合物は2個の水酸基またはアミノ基を有するポリシロキサン化合物である。   The polysiloxane compounds having an active hydrogen group in the molecule listed above are preferred compounds used in the present invention, but the present invention is not limited to these exemplified compounds. Accordingly, not only the above-exemplified compounds but also other compounds that are currently commercially available and can be easily obtained from the market can be preferably used in the present invention. Particularly preferred compounds in the present invention are polysiloxane compounds having two hydroxyl groups or amino groups.

前記ポリシロキサン化合物と反応可能な前記ポリイソシアネート化合物としては、従来公知のポリウレタンの製造に使用されているものがいずれも使用でき特に限定されない。ポリイソシアネート化合物として好ましいものは、例えば、トルエン−2,4−ジイソシアネート、4−メトキシ−1,3−フェニレンジイソシアネート、4−イソプロピル−1,3−フェニレンジイソシアネート、4−クロル−1,3−フェニレンジイソシアネート、4−ブトキシ−1,3−フェニレンジイソシアネート、2,4−ジイソシアネートジフェニルエーテル、4,4’−メチレンビス(フェニレンイソシアネート)(MDI)、ジュリレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート(XDI)、1,5−ナフタレンジイソシアネート、ベンジジンジイソシアネート、o−ニトロベンジジンジイソシアネートおよび4,4’−ジイソシアネートジベンジルなどの芳香族ジイソシアネート、メチレンジイソシアネート、1,4−テトラメチレンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネートおよび1,10−デカメチレンジイソシアネートなどの脂肪族ジイソシアネート、1,4−シクロヘキシレンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、1,5−テトラヒドロナフタレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水添MDIおよび水添XDIなどの脂環式ジイソシアネートなど、或いはこれらのジイソシアネート化合物と低分子量のポリオールやポリアミンを末端がイソシアネートとなるように反応させて得られるポリウレタンプレポリマーなども当然使用することができる。   As said polyisocyanate compound which can react with the said polysiloxane compound, what is used for manufacture of a conventionally well-known polyurethane can be used, and it does not specifically limit. Preferred examples of the polyisocyanate compound include toluene-2,4-diisocyanate, 4-methoxy-1,3-phenylene diisocyanate, 4-isopropyl-1,3-phenylene diisocyanate, and 4-chloro-1,3-phenylene diisocyanate. 4-butoxy-1,3-phenylene diisocyanate, 2,4-diisocyanate diphenyl ether, 4,4′-methylenebis (phenylene isocyanate) (MDI), durylene diisocyanate, tolidine diisocyanate, xylylene diisocyanate (XDI), 1,5 Aromatic diisocyanates such as naphthalene diisocyanate, benzidine diisocyanate, o-nitrobenzidine diisocyanate and 4,4′-diisocyanate dibenzyl, methyl Diisocyanate, 1,4-tetramethylene diisocyanate, aliphatic diisocyanates such as 1,6-hexamethylene diisocyanate and 1,10-decamethylene diisocyanate, 1,4-cyclohexylene diisocyanate, 4,4'-methylenebis (cyclohexyl isocyanate) 1,5-tetrahydronaphthalene diisocyanate, isophorone diisocyanate, alicyclic diisocyanates such as hydrogenated MDI and hydrogenated XDI, etc., or these diisocyanate compounds and low molecular weight polyols or polyamines are reacted so that the terminal is isocyanate. Naturally, the obtained polyurethane prepolymer can also be used.

特に、ジイソシアネートにおいて1次反応および2次反応においてそれぞれの反応速度に差があるジイソシアネート化合物が好ましい。このような化合物としては、例えば、イソホロンジイソシアネートなどを例示できる。さらには、反応触媒効果により、1次反応と2次反応との反応差が顕著に示される触媒との組み合わせがより好ましい。   In particular, diisocyanate compounds having a difference in reaction rate between primary reaction and secondary reaction in diisocyanate are preferable. Examples of such a compound include isophorone diisocyanate. Furthermore, a combination with a catalyst in which a reaction difference between the primary reaction and the secondary reaction is remarkably shown by the reaction catalyst effect is more preferable.

上記の分子内に活性水素基を有する樹脂と分子内に少なくとも1個の活性水素基を有するポリシロキサン化合物とポリイソシアネート化合物とを反応させて樹脂(A)を製造する方法は特に限定されず、従来公知のポリウレタンの製造方法と類似の方法を用いることができる。例えば、分子内に活性水素基を含まない有機溶剤の存在下、または不存在下に、まず最初に、分子内に少なくとも1個の活性水素基を有するポリシロキサン化合物と2官能のジイソシアネート化合物とを等モルで反応させ、同一分子内にポリシロキサン基と末端イソシアネート基を有する化合物を製造する。次いで、この化合物と分子内に活性水素基を有する樹脂中の活性水素基とを反応させることにより、前記樹脂(A)が製造される。上記樹脂(A)の製造における反応温度は、通常、20〜150℃、好ましくは60〜110℃で行い、最終的に、イソシアネート基が殆どなくなるまで反応させることで完結する。   The method for producing the resin (A) by reacting the resin having an active hydrogen group in the molecule with a polysiloxane compound having at least one active hydrogen group in the molecule and a polyisocyanate compound is not particularly limited, A method similar to a conventionally known method for producing polyurethane can be used. For example, in the presence or absence of an organic solvent that does not contain an active hydrogen group in the molecule, first, a polysiloxane compound having at least one active hydrogen group in the molecule and a bifunctional diisocyanate compound are added. Reaction is carried out in an equimolar amount to produce a compound having a polysiloxane group and a terminal isocyanate group in the same molecule. Next, the resin (A) is produced by reacting this compound with an active hydrogen group in a resin having an active hydrogen group in the molecule. The reaction temperature in the production of the resin (A) is usually 20 to 150 ° C., preferably 60 to 110 ° C., and finally the reaction is completed until almost no isocyanate groups are present.

なお、樹脂(A)の合成は、無溶剤で行なってもよいし、有機溶剤を用いて行なってもよい。ここで使用する有機溶剤として好ましいのは、例えば、メチルエチルケトン、メチル−n−プロピルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどが挙げられる。また、アセトン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、トルエン、キシレン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、パークロルエチレン、トリクロルエチレン、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテートなどである。   The synthesis of the resin (A) may be performed without a solvent, or may be performed using an organic solvent. Preferable examples of the organic solvent used here include methyl ethyl ketone, methyl-n-propyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, and butyl acetate. . Acetone, cyclohexane, tetrahydrofuran, dioxane, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, toluene, xylene, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, perchlorethylene, trichloroethylene, methyl cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate, and the like.

前記樹脂(A)を製造する場合には、前記樹脂(A)中のポリシロキサン基は、樹脂(A)全体の0.0001〜30質量%、好ましくは0.01〜20質量%含有させるのが望ましい。ポリシロキサン基が多いと(30質量%を超えると)、最終的に得られる光学用保護フィルムが滑りすぎて、裁断保管時に光学用保護フィルムの積上げが不可能であることや、未反応のポリシロキサン化合物が表面保護層中に存在することにより、光学用保護フィルム(または偏光板)の品質工程管理に使用するインキをはじく現象が起きたりするので好ましくない。一方、ポリシロキサン基が少なすぎると(0.0001質量%未満)、光学用保護フィルムの滑り不足、表面保護層の汚染物易洗浄機能の不備、表面保護層の耐溶剤性および/または外気の湿度制御が不可能となり好ましくない。   When the resin (A) is produced, the polysiloxane group in the resin (A) is contained in an amount of 0.0001 to 30% by mass, preferably 0.01 to 20% by mass, based on the entire resin (A). Is desirable. If there are many polysiloxane groups (exceeding 30% by mass), the optical protective film finally obtained is too slippery, and it is impossible to stack the optical protective film during cutting and storage. The presence of the siloxane compound in the surface protective layer is not preferable because a phenomenon of repelling ink used for quality process control of the optical protective film (or polarizing plate) may occur. On the other hand, if there are too few polysiloxane groups (less than 0.0001% by mass), the optical protective film is insufficiently slipped, the surface protective layer is not easily cleaned of contaminants, the solvent resistance of the surface protective layer and / or the outside air Humidity control is impossible, which is not preferable.

表面保護層を形成する成分である帯電防止剤(B)として好ましい材料としては、導電性ポリマー、イオン伝導ポリマー、金属酸化物、金属アルコキシドおよび導電性フィラー含有高分子物質から選ばれた少なくとも1種が挙げられる。例えば、ポリビニルアルコール、カチオン変性ポリビニルアルコール、アルカリ金属塩含有ポリエーテル(例えば、ポリエチレンオキサイドのLi塩など)、アルカリ金属塩含有エーテル系ポリウレタン、ポリアミン、4級カチオン塩含有アクリル系樹脂、特殊変性ポリエステル、特殊カチオン系樹脂、セルロース誘導体、ポリアセチレン、ポリパラフェニレン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリンおよびスルホン化ポリアニリンなどの有機導電性材料、カーボンブラック、酸化スズ、酸化亜鉛および酸化チタンなどの金属酸化物、各種金属アルコキシド、アンチモン酸亜鉛ゾルおよびITO粉末などの導電性フィラー含有高分子などから選ばれた1種以上のものが挙げられる。   A preferable material as the antistatic agent (B) which is a component forming the surface protective layer is at least one selected from a conductive polymer, an ion conductive polymer, a metal oxide, a metal alkoxide, and a conductive filler-containing polymer substance. Is mentioned. For example, polyvinyl alcohol, cation-modified polyvinyl alcohol, alkali metal salt-containing polyether (eg, Li salt of polyethylene oxide), alkali metal salt-containing ether polyurethane, polyamine, quaternary cation salt-containing acrylic resin, specially modified polyester, Special cationic resins, cellulose derivatives, polyacetylene, polyparaphenylene, polythiophene, polypyrrole, polyaniline, sulfonated polyaniline and other organic conductive materials, carbon black, tin oxide, zinc oxide, titanium oxide and other metal oxides, various metal alkoxides And one or more selected from conductive filler-containing polymers such as zinc antimonate sol and ITO powder.

前記化合物のうち、アルカリ金属塩含有ポリエーテルおよびアルカリ金属塩含有エーテル系ポリウレタン中のアルカリ金属塩としては、例えば、過塩素酸リチウム、リチウムビストリフルオロメタンスルホンイミド、ホウフッ化リチウム、六フッ化リン酸リチウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、ペンタフルオロエタンスルホン酸リチウム、リチウムビスペンタフルオロエタンスルホンイミド、ホウフッ化テトラエチルアンモニウム、六フッ化リン酸テトラエチルアンモニウムおよびカリウムビストリフルオロメタンスルホンイミドなどが挙げられる。   Among the above-mentioned compounds, examples of the alkali metal salt in the alkali metal salt-containing polyether and the alkali metal salt-containing ether polyurethane include lithium perchlorate, lithium bistrifluoromethanesulfonimide, lithium borofluoride, and hexafluorophosphoric acid. Examples include lithium, lithium trifluoromethanesulfonate, lithium pentafluoroethanesulfonate, lithium bispentafluoroethanesulfonimide, tetraethylammonium borofluoride, tetraethylammonium hexafluorophosphate, and potassium bistrifluoromethanesulfonimide.

前記化合物のうち、アルカリ金属塩含有ポリエーテルおよびアルカリ金属塩含有エーテル系ポリウレタン中のイオン性液体化合物としては、例えば、イオン性液体を構成するカチオン成分では、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム(EMI)に代表されるアルキルイミダゾリウムカチオン、アルキルピリジニウムカチオン、アルキルアンモニウムカチオン、アルキルホスホニウムカチオン、アルキルスルホニウムカチオンなどの化合物が使用できる。また、イオン性液体を構成するアニオン成分としては、AlCl4 -アニオン、含フッ素アニオンおよび硝酸アニオンや酢酸アニオンのようなアニオン化合物が使用できる。 Among the above compounds, examples of the ionic liquid compound in the alkali metal salt-containing polyether and the alkali metal salt-containing ether polyurethane include 1-ethyl-3-methylimidazolium ( Compounds such as alkyl imidazolium cation, alkyl pyridinium cation, alkyl ammonium cation, alkyl phosphonium cation and alkyl sulfonium cation represented by EMI) can be used. As the anionic component constituting the ionic liquid, AlCl 4 - anion, the anion compounds such as fluorine-containing anions and nitric anion and acetate anion can be used.

本発明で使用するイオン性液体は特に限定されるものではなく、公知のいかなるイオン性液体でもよいが、通常、複雑な合成による不純物の精製が困難なため、アニオン化合物、カチオン化合物のいずれもが有機性のものを選定することが望ましい。   The ionic liquid used in the present invention is not particularly limited, and any known ionic liquid may be used. However, since it is difficult to purify impurities by complicated synthesis, both anionic compounds and cationic compounds are usually used. It is desirable to select organic ones.

前記化合物のうち、例えば、ポリアミンでは、エポミン(日本触媒社製)、ポリアリルアミン(日東紡績社製)などが、4級カチオン系ポリマーでは、例えば、エレコンド(綜研化学社製)、ジュリマー(日本純薬社製)、TKカチオンB(高松油脂社製)、テクスノール(日本乳化剤社製)、NKポリマー(新中村化学社製)、エフコール(松本油脂社製)およびシャロール(第一工業製薬社製)などが、金属アルコキシ系では、例えば、各種アルコキシシラン、各種アルミナゾル、コルコート(コルコート社製)およびセルナックス(アンチモン酸亜鉛ゾル、日産化学社製)などの使用が好ましい。   Among the compounds, for example, for polyamines, epomin (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.), polyallylamine (manufactured by Nitto Boseki Co., Ltd.), etc., for quaternary cationic polymers, for example, Elecondo (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.), Jurimer (Nippon Pure) Yakuhin Co., Ltd.), TK cation B (manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd.), Texnol (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.), NK polymer (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), Efcol (manufactured by Matsumoto Yushi Co., Ltd.) and Sharol (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) However, in the metal alkoxy system, for example, various alkoxysilanes, various alumina sols, Colcoat (manufactured by Colcoat) and Cellnax (zinc antimonate sol, Nissan Chemical) are preferably used.

前記樹脂(A)および前記帯電防止剤(B)の使用量は、両者を併せて100質量%とした場合、樹脂(A)が20〜98質量%、好ましくは50〜95質量%であり、帯電防止剤(B)が80〜2質量%であり、好ましくは50〜5質量%である。樹脂(A)の使用量が98質量%を超えると表面保護層に十分な帯電防止機能が得られないので好ましくなく、また、樹脂(A)が20質量%未満では、最終的に得られる表面保護層の耐溶剤性および耐スクラッチ性が低下するので好ましくない。   The amount of the resin (A) and the antistatic agent (B) used is 20 to 98% by mass, preferably 50 to 95% by mass, when both are combined to 100% by mass, An antistatic agent (B) is 80-2 mass%, Preferably it is 50-5 mass%. When the amount of the resin (A) used exceeds 98% by mass, it is not preferable because a sufficient antistatic function cannot be obtained for the surface protective layer, and when the resin (A) is less than 20% by mass, the finally obtained surface It is not preferable because the solvent resistance and scratch resistance of the protective layer are lowered.

表面保護層を形成するポリイソシアネート(C)としては、従来から使用されている公知のものが使用でき特に限定されない。例えば、2,4−トルイレンジイソシアネートの二量体、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス−(p−イソシアネートフェニル)チオフォスファイト、多官能芳香族イソシアネート、多官能芳香族脂肪族イソシアネート、多官能脂肪族イソシアネート、脂肪酸変性多官能脂肪族イソシアネート、ブロック化多官能脂肪族イソシアネートなどのブロック型ポリイソシアネート、ポリイソシアネートプレポリマーなどが挙げられる。これらのうち、芳香族系或いは脂肪族系のどちらでも使用可能であり、好ましくは芳香族系ではジフェニルメタンジイソシアネートおよびトリレンジイソシアネート、脂肪族系ではヘキサメチレンジイソシアネートおよびイソホロンジイソシアネートなどの変性体であり、分子中にイソシアネート基を3個以上含むものが好ましく、前記ポリイソシアネートの多量体や他の化合物との付加体、さらには低分子量のポリオールやポリアミンとを末端イソシアネートになるように反応させたウレタンプレポリマーなども好ましく使用される。それらを下記に構造式を挙げて例示するが、これらに限定されるものではない。   As polyisocyanate (C) which forms a surface protective layer, the conventionally well-known thing can be used and it does not specifically limit. For example, dimer of 2,4-toluylene diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tris- (p-isocyanatephenyl) thiophosphite, polyfunctional aromatic isocyanate, polyfunctional aromatic aliphatic isocyanate, polyfunctional aliphatic Examples thereof include blocked polyisocyanates such as isocyanate, fatty acid-modified polyfunctional aliphatic isocyanate, and blocked polyfunctional aliphatic isocyanate, and polyisocyanate prepolymers. Of these, it is possible to use either an aromatic or aliphatic type, preferably a modified product such as diphenylmethane diisocyanate and tolylene diisocyanate for an aromatic type, hexamethylene diisocyanate and isophorone diisocyanate for an aliphatic type, and a molecule. A urethane prepolymer obtained by reacting a polyisocyanate multimer or an adduct with another compound, or a low molecular weight polyol or polyamine so as to be a terminal isocyanate is preferable. Etc. are also preferably used. These are exemplified below with structural formulas, but are not limited thereto.

Figure 2006175848
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これらのポリイソシアネート(C)の使用量は、前記樹脂(A)と前記帯電防止剤(B)とを合わせて100質量部に対し、5〜100質量部、好ましくは5〜55質量部である。ポリイソシアネート(C)の使用量が100質量部を超えると、表面保護層の形成に使用する塗料の可使時間が低下するので好ましくなく、ポリイソシアネート(C)の使用量が5質量部未満では形成される表面保護層の架橋密度が低下するので好ましくない。上記ポリイソシアネート(C)がフリーのイソシアネート基を有する場合には、樹脂(A)および帯電防止剤(B)を含む塗料に、該塗料の使用直前に添加することが好ましく、上記ポリイソシアネート(C)が安定化ポリイソシアネートある場合には、塗料の使用前から塗料に加えておいてもよい。   The amount of the polyisocyanate (C) used is 5 to 100 parts by mass, preferably 5 to 55 parts by mass, based on 100 parts by mass of the resin (A) and the antistatic agent (B). . When the amount of the polyisocyanate (C) used exceeds 100 parts by mass, it is not preferable because the usable time of the coating material used for forming the surface protective layer is decreased, and when the amount of the polyisocyanate (C) used is less than 5 parts by mass. Since the crosslink density of the surface protective layer to be formed is lowered, it is not preferable. When the polyisocyanate (C) has a free isocyanate group, the polyisocyanate (C) is preferably added to the paint containing the resin (A) and the antistatic agent (B) immediately before use of the paint. ) Is a stabilized polyisocyanate, it may be added to the paint before use.

表面保護層形成用塗料には、必要に応じて、さらに硬化触媒、反応抑制剤やその他の添加剤を適宜使用することができる。硬化触媒としては、例えば、ジブチルチンラウレート、ジオクチルチンラウレート、スタナスオクトエート、オクチル酸鉛、テトラ−n−ブチルチタネートおよびビスマスなどの金属と有機または無機酸の塩および有機金属誘導体、トリエチルアミンなどの有機アミンおよびジアザビシクロウンデセン系触媒などが挙げられる。反応抑制剤としては、例えば、燐酸、酢酸、酒石酸、フタル酸およびギ酸エステルなどが挙げられる。   In the coating material for forming the surface protective layer, if necessary, a curing catalyst, a reaction inhibitor and other additives can be appropriately used. Examples of the curing catalyst include dibutyltin laurate, dioctyltin laurate, stannous octoate, lead octylate, tetra-n-butyl titanate, and salts of organic or inorganic acids and organometallic derivatives such as triethylamine. And organic amines such as diazabicycloundecene catalysts. Examples of the reaction inhibitor include phosphoric acid, acetic acid, tartaric acid, phthalic acid, and formic acid ester.

さらに表面保護層の滑り性付与や耐水化を目的として、例えば、シリコーンオイルおよび/または変性シリコーンオイル(例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性ポリジメチルシロキサンおよびアラルキル変性ポリジメチルシロキサンなど)、各種ワックス、長鎖アルキル変性ポリマー、フッ素変性ポリマーおよびシロキサン変性ポリマーなどの添加剤を加えることができる。   Further, for the purpose of imparting slipperiness and water resistance of the surface protective layer, for example, silicone oil and / or modified silicone oil (for example, polydimethylsiloxane, polyether-modified polydimethylsiloxane, polyester-modified polydimethylsiloxane, and aralkyl-modified polydimethylsiloxane). Etc.), additives such as various waxes, long chain alkyl-modified polymers, fluorine-modified polymers and siloxane-modified polymers can be added.

なお、基材フィルムに表面保護層を形成する場合には、前記樹脂(A)と帯電防止剤(B)とポリイソシアネート(C)とからなる表面保護層形成用塗料を使用する。該塗料は、無溶剤で調製したものでもよいし、有機溶剤を用いて調製したものでもよい。有機溶剤として好ましいのは、例えば、メチルエチルケトン、メチル−n−プロピルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、シクロヘキサノン、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、酢酸メチル、酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどが挙げられる。また、アセトン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン、N−メチル−2−ピロリドン、ジオキサン、トルエン、キシレン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、パークロルエチレン、トリクロルエチレン、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブおよびセロソルブアセテートなども使用することができる。有機溶剤を用いて調製した塗料の固形分は、特に限定されないが、3〜95質量%程度が好ましい。   In addition, when forming a surface protective layer in a base film, the coating material for surface protective layer formation which consists of said resin (A), antistatic agent (B), and polyisocyanate (C) is used. The paint may be prepared without a solvent or may be prepared using an organic solvent. Preferable examples of the organic solvent include methyl ethyl ketone, methyl-n-propyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, cyclohexanone, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate. Acetone, cyclohexane, tetrahydrofuran, N-methyl-2-pyrrolidone, dioxane, toluene, xylene, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, perchlorethylene, trichloroethylene, methyl cellosolve, butyl cellosolve and cellosolve acetate can also be used. Although the solid content of the coating material prepared using the organic solvent is not particularly limited, it is preferably about 3 to 95% by mass.

本発明の光学用保護フィルムに用いる基材フィルムとしては、例えば、ポリエステル、ポリイミド、ポリエチレン、ポリプロピレンなどを成分とするフィルムが用いられる。特に好ましいのは、二軸延伸したポリエチレンテレフタレートフィルムであり、光学用保護フィルムに適合した適正かつ必要な強度を有している。基材フィルムの厚さは、好ましくは20〜100μmであり、より好ましくは、25〜40μmである。これらの基材フィルムは、必要に応じて、コロナ処理、帯電防止処理、易接着処理などを施してもよい。   As a base film used for the optical protective film of the present invention, for example, a film containing polyester, polyimide, polyethylene, polypropylene or the like as a component is used. Particularly preferred is a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having an appropriate and necessary strength suitable for an optical protective film. The thickness of a base film becomes like this. Preferably it is 20-100 micrometers, More preferably, it is 25-40 micrometers. These base films may be subjected to corona treatment, antistatic treatment, easy adhesion treatment, and the like as necessary.

本発明の光学用保護フィルムは、上記の表面保護層形成用塗料を用い、従来公知の方法で製造することができ、製造方法自体は特に限定されない。また、基材フィルム、粘着層形成材料などの表面保護層形成用材料以外の材料は、いずれも公知の材料が使用でき、特に限定されない。本発明の光学用保護フィルムの表面保護層は、前記本発明の表面保護層形成用塗料を、従来公知の方法によって、基材フィルムの表面(裏面は粘着層)に、乾燥厚さが0.01〜1μm程度となるように塗布して形成する。   The optical protective film of the present invention can be produced by a conventionally known method using the above-mentioned coating material for forming the surface protective layer, and the production method itself is not particularly limited. Moreover, as for materials other than surface protective layer forming materials, such as a base film and an adhesion layer forming material, all can use a well-known material and are not specifically limited. The surface protective layer of the optical protective film of the present invention is prepared by applying the surface protective layer-forming coating composition of the present invention to the surface of the base film (back surface is an adhesive layer) by a conventionally known method. It is formed by coating so as to be about 01 to 1 μm.

このようにして得られた表面保護層は、樹脂(A)と帯電防止剤(B)との表面エネルギーの相違により、樹脂(A)中の活性水素基は親水性のため基材フィルム表面に多く配向して表面保護層の基材フィルムに対する密着性を向上させる。一方、表面エネルギーの低いポリシロキサン基の多くと帯電防止剤は基材フィルムの反対側(空気側)に配向することで、帯電防止性、汚染防止性および適度な滑り性が表面保護層に付与される。   In the surface protective layer thus obtained, the active hydrogen group in the resin (A) is hydrophilic on the surface of the base film due to the difference in surface energy between the resin (A) and the antistatic agent (B). Many are oriented to improve the adhesion of the surface protective layer to the substrate film. On the other hand, many of the polysiloxane groups with low surface energy and the antistatic agent are oriented on the opposite side (air side) of the base film, giving the surface protective layer antistatic properties, antifouling properties and moderate slipperiness. Is done.

表面保護層を形成する前記ポリイソシアネート(C)は、表面保護層形成用材料内の成分を架橋するので、表面保護層の汚染除去に耐え得る耐溶剤性および耐スクラッチ性(表面硬度アップ)をさらに向上させることができる。帯電防止機能については、表面保護層形成用塗料中に帯電防止剤を含有させることでその機能は保たれている。   The polyisocyanate (C) forming the surface protective layer crosslinks the components in the material for forming the surface protective layer, so that it has solvent resistance and scratch resistance (up to surface hardness) that can withstand contamination removal of the surface protective layer. Further improvement can be achieved. With respect to the antistatic function, the function is maintained by incorporating an antistatic agent into the coating material for forming the surface protective layer.

以下に合成例、実施例および比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。また、以下の文中の「部」は質量部、「%」は質量%を示す。
[合成例1〜2]
攪拌機、温度計、窒素ガス導入管および還流冷却器を具備した反応器に、窒素ガスで置換した後、ポリイソシアネート化合物、反応触媒および有機溶剤(固形分が30%になる量)を所定量投入し、60℃に加温する。続いて所定のポリシロキサン化合物を所定の濃度まで投入し窒素気流下80℃にて均一になるまで攪拌した。得られたポリシロキサン基とイソシアネート基を有するオリゴマーの組成および性状を表1に示した。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to synthesis examples, examples and comparative examples, but the present invention is not limited thereto. Moreover, in the following sentence, “part” indicates mass part, and “%” indicates mass%.
[Synthesis Examples 1-2]
A reactor equipped with a stirrer, thermometer, nitrogen gas inlet tube and reflux condenser is replaced with nitrogen gas, and then a predetermined amount of polyisocyanate compound, reaction catalyst, and organic solvent (solid content is 30%) are added. And warm to 60 ° C. Subsequently, a predetermined polysiloxane compound was added to a predetermined concentration and stirred at 80 ° C. in a nitrogen stream until uniform. Table 1 shows the composition and properties of the obtained oligomer having a polysiloxane group and an isocyanate group.

Figure 2006175848
Figure 2006175848

表1中のポリシロキサン化合物(a)は下記の構造を有する。

Figure 2006175848
The polysiloxane compound (a) in Table 1 has the following structure.
Figure 2006175848

Figure 2006175848
Figure 2006175848

[合成例3〜6]
攪拌機、還流冷却管、温度計、窒素吹き込み管およびマンホールを備えた反応容器を窒素ガスで置換した後、分子内に活性水素基を有する樹脂(ベース樹脂)および溶剤を所定量投入し、60℃に加温してこの樹脂を溶解させる。引き続き前記で製造したポリシロキサン基とイソシアネート基を有するオリゴマー(Si−NCO)を所定量投入し、90℃にて反応を行い、赤外吸収スペクトルで2,270cm-1の遊離イソシアネート基による吸収が認められなくなるまで反応を行った。このようにして得られた樹脂(A)の原料組成および性状を表2に示す。
[Synthesis Examples 3 to 6]
A reaction vessel equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer, nitrogen blowing tube and manhole was replaced with nitrogen gas, and then a predetermined amount of a resin (base resin) having an active hydrogen group in the molecule and a solvent were added, and 60 ° C. To dissolve the resin. Subsequently a predetermined amount charged oligomers having a polysiloxane group and an isocyanate group prepared (Si-NCO) in the conducting reactions at 90 ° C., absorption by free isocyanate groups 2,270Cm -1 in the infrared absorption spectrum The reaction was continued until it was not observed. Table 2 shows the raw material composition and properties of the resin (A) thus obtained.

Figure 2006175848
Figure 2006175848

・Si−NCO(H);ポリシロキサン基とイソシアネート基を有するオリゴマー
・EVOH;エチレンビニルアルコール(商品名:F104、エチレン共重合比率=32mol%、メルトインデックス=4.5g/min.;190℃、2,160g、(株)クラレ製)
・PVA;部分けん化ポリビニルアルコール(商品名:PVA−217、けん化度=87〜89、重合度=1,700、(株)クラレ製)
・YP−50S;フェノキシ樹脂(商品名:フェノトートYP−50S、重量平均分子量=40,000、東都化成工業(株)製)
・BL−1;ブチラール基・アセチル基含有ポリビニルアルコール共重合体(商品名:BL−1、水酸基=36mol%、アセチル基=3mol%以下、ブチラール化度=63mol%、積水化学工業(株)製)
・MEK;メチルエチルケトン
・DMF;ジメチルホルムアミド
Si-NCO (H); oligomer having polysiloxane group and isocyanate group EVOH; ethylene vinyl alcohol (trade name: F104, ethylene copolymerization ratio = 32 mol%, melt index = 4.5 g / min .; 190 ° C. 2,160g, manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
-PVA; partially saponified polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217, degree of saponification = 87-89, degree of polymerization = 1,700, manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
YP-50S; phenoxy resin (trade name: phenototo YP-50S, weight average molecular weight = 40,000, manufactured by Toto Kasei Kogyo Co., Ltd.)
BL-1; butyral group / acetyl group-containing polyvinyl alcohol copolymer (trade name: BL-1, hydroxyl group = 36 mol%, acetyl group = 3 mol% or less, degree of butyral = 63 mol%, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. )
・ MEK; Methyl ethyl ketone ・ DMF; Dimethylformamide

[実施例1〜4、比較例1〜2]
実施例1〜4と比較例1〜2の表面保護層用塗料(固形分5%)を表3および表4の組成により作製した。

Figure 2006175848
[Examples 1-4, Comparative Examples 1-2]
The surface protective layer paints (solid content 5%) of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 2 were prepared according to the compositions shown in Tables 3 and 4.
Figure 2006175848

Figure 2006175848
Figure 2006175848

・熟成条件;40℃、2日
・PHDI;HDIのビウレット型(商品名:デュラネート24A−100、旭化成ケミカルズ(株)製)
・B−1;カチオン型(4級アンモニウム塩)ポリアクリル酸エステル(商品名:ジュリマーSP−50TF、日本純薬(株)製)をDMFに溶媒置換した化合物)
・B−2;カチオン型(4級アンモニウム塩)ポリアクリル酸エステル(商品名:エレコンドPQ−50B、綜研化学(株)製)をDMFに溶媒置換した化合物)
・B−3;カチオン型ポリマー(商品名:テクスノールCP−81、日本乳化剤(株)製)をDMFに溶媒置換した化合物)
・B−4;カチオン型アクリル系ポリマー(商品名:TKカチオンB、高松油脂(株)製)をDMFに溶媒置換した化合物)
・MEK;メチルエチルケトン
・DMF;ジメチルホルムアミド
・変性ポリマー(S);樹脂(A)
Aging condition: 40 ° C., 2 days PHDI: HDI biuret type (trade name: Duranate 24A-100, manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation)
B-1; a compound obtained by subjecting a cationic type (quaternary ammonium salt) polyacrylate (trade name: Jurimer SP-50TF, manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd.) to DMF as a solvent)
B-2; a compound obtained by subjecting a cationic type (quaternary ammonium salt) polyacrylate (trade name: Electon PQ-50B, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) to DMF as a solvent)
B-3; a compound obtained by subjecting a cationic polymer (trade name: Texnol CP-81, manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.) to DMF as a solvent)
B-4; a compound obtained by subjecting a cationic acrylic polymer (trade name: TK cation B, manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd.) to DMF as a solvent)
MEK; methyl ethyl ketone, DMF, dimethylformamide, modified polymer (S), resin (A)

各実施例および比較例で得られた各塗料を用い、グラビア印刷により、厚さ38μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東レ製)の表面に、乾燥後の厚みが1.0μmになるように塗布した後、乾燥機中で溶剤を乾燥させた。実施例1〜4および比較例1の塗料を用いた場合は、塗布および乾燥後40℃のオーブンにて48時間熟成させて表面保護層を形成させた。比較例2は熟成せずに110℃、90秒にて乾燥させたもので評価した。   Using each paint obtained in each Example and Comparative Example, it was applied to the surface of a 38 μm thick polyethylene terephthalate (PET) film (manufactured by Toray) by gravure printing so that the thickness after drying would be 1.0 μm. After that, the solvent was dried in a dryer. When the paints of Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 were used, the surface protective layer was formed by aging in an oven at 40 ° C. for 48 hours after application and drying. Comparative Example 2 was evaluated by drying at 110 ° C. for 90 seconds without aging.

次に、下記の配合処方で粘着剤組成物を作製した。上記の表面保護層を形成した各PETフィルムの裏面にグラビアロールにより乾燥後の厚みが25μmとなるように塗布して粘着層を形成し、実施例および比較例の光学用保護フィルムを得た。   Next, an adhesive composition was prepared according to the following formulation. An adhesive layer was formed on the back surface of each PET film on which the surface protective layer had been formed by applying a gravure roll so that the thickness after drying was 25 μm, and optical protective films of Examples and Comparative Examples were obtained.

〔粘着剤組成物〕
・SKセイカダイン1491H(綜研化学(株)製) 100部
・硬化剤L−45(綜研化学(株)製) 0.9部
[Adhesive composition]
・ SK Seikadyne 1491H (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 100 parts ・ Curing agent L-45 (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 0.9 parts

[試験例]
上記で得られた実施例および比較例の表面保護層の塗膜および光学用保護フィルムの性能を以下の項目について試験し、表5の結果を得た。
<表面抵抗値>
三菱化学(株)製のMCP−HT450を使用して光学用保護フィルムの帯電防止性の測定を行う。測定条件は、温度23℃、湿度65%RH、印加電圧100V、30秒で行った。帯電防止効果を発揮するには、105〜1012Ω/cm2が好ましく、1×1011Ω/cm2以下が望ましい。
[Test example]
The performances of the coating films of the surface protective layers and the protective films for optics of the Examples and Comparative Examples obtained above were tested for the following items, and the results shown in Table 5 were obtained.
<Surface resistance value>
The antistatic property of the optical protective film is measured using MCP-HT450 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. The measurement conditions were a temperature of 23 ° C., a humidity of 65% RH, an applied voltage of 100 V, and 30 seconds. In order to exhibit the antistatic effect, 10 5 to 10 12 Ω / cm 2 is preferable, and 1 × 10 11 Ω / cm 2 or less is desirable.

<透明性>
スガ試験機(株)製直読ヘーズコンピューターHGM−2DPを使用し、光学用保護フィルムのヘイズ値を測定した。
ヘイズ値=測定値−基材のヘイズ値
ヘイズ値は1.2%以下であれば透過性が高く、光学用保護フィルムに適する。
<Transparency>
Using a direct reading haze computer HGM-2DP manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., the haze value of the protective film for optics was measured.
Haze value = Measured value−Haze value of base material If the haze value is 1.2% or less, the transparency is high and it is suitable for an optical protective film.

<耐酢酸エチル性>
光学用保護フィルム表面に1gの酢酸エチルを垂らし、荷重50g/cm2でラビングした際の表面保護層の塗膜の外観を観察した。
○:表面保護塗膜外観の変化がない
△:表面保護塗膜外観がやや変化している
×:表面保護塗膜外観が変化している
<Ethyl acetate resistance>
1 g of ethyl acetate was hung on the surface of the optical protective film, and the appearance of the coating film of the surface protective layer when rubbed with a load of 50 g / cm 2 was observed.
○: There is no change in the appearance of the surface protective coating film △: The appearance of the surface protective coating film is slightly changed ×: The appearance of the surface protective coating film is changed

<汚染易洗浄性>
1gの粘着剤組成物(SKセイカダイン1491H(綜研化学(株)製)/硬化剤L−45(綜研化学(株)製)=100/0.9)を表面保護層の塗膜に擦り付け、キムワイプ(登録商標)にて拭取り時の易洗浄性を確認した。
○:粘着剤付着物が容易に洗浄できる
△:粘着剤付着物がやや残る
×:粘着剤付着物が洗浄できない
<Easy to clean>
1 g of the pressure-sensitive adhesive composition (SK Seikadyne 1491H (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) / Curing agent L-45 (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) = 100 / 0.9) was rubbed against the coating film of the surface protective layer, and Kimwipe (Registered trademark) The ease of cleaning at the time of wiping was confirmed.
○: Adhesive deposits can be easily washed △: Adhesive deposits remain a little ×: Adhesive deposits cannot be washed

<耐傷付き性>
光学用保護フィルムの表面保護層の塗膜を約10g/cm2の荷重にてスコッチブライト(住友スリーエム(株)製)で擦り、表面の傷付きを目視にて確認した。
○:確認できる傷が0本以上5本未満
△:確認できる傷が5本以上10本未満
×:確認できる傷が10本以上
<Scratch resistance>
The coating film of the surface protective layer of the optical protective film was rubbed with Scotch Bright (manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.) under a load of about 10 g / cm 2 , and the surface was visually checked for scratches.
○: 0 or more and less than 5 scratches that can be confirmed Δ: 5 or more and less than 10 scratches that can be confirmed ×: 10 or more scratches that can be confirmed

<密着性>
光学用保護フィルムの表面保護層の塗膜と基材PETフィルムとの接着性を碁盤目試験(セロハンテープ剥離クロスカット法)にて行った。
<Adhesion>
The adhesion between the coating film of the surface protective layer of the protective film for optics and the substrate PET film was measured by a cross cut test (cellophane tape peeling cross-cut method).

<滑り性>
新東科学(株)製のHEIDON−14DRを使用して光学用保護フィルムの動摩擦係数の測定を行う。測定条件は、温度23℃、湿度65%RH、測定数5回の平均値で行った。動摩擦係数は好ましくは0.15〜0.30であり、0.18〜0.28の範囲が望ましい。
<Slipperiness>
The dynamic friction coefficient of the optical protective film is measured using HEIDON-14DR manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd. The measurement conditions were a temperature of 23 ° C., a humidity of 65% RH, and an average value of 5 measurements. The dynamic friction coefficient is preferably 0.15 to 0.30, and is preferably in the range of 0.18 to 0.28.

<印刷適性>
寺西化学工業(株)製マジックインキNo.500を使用して表面保護層の塗膜面に記載し、インキの筆記状況を観察した。
○:マジックインキの筆記状況が良好である
△:ややインキのハジキがあるが問題ないレベルである
×:インキがはじき筆記できない
<Printability>
Magic Ink No. manufactured by Teranishi Chemical Industry Co., Ltd. 500 was written on the coating surface of the surface protective layer, and the ink writing situation was observed.
○: The writing status of magic ink is good. △: There is a slight ink repellency, but there is no problem. ×: The ink cannot be repelled and written.

Figure 2006175848
Figure 2006175848

以上のように、本発明によれば、帯電防止性、傷付き防止性(耐スクラッチ性)および汚染物易洗浄性(有機溶剤で洗浄するため耐溶剤性が必要となる)の他、印刷適性(工程管理する際に使用するプリンターインキ)、基材との密着性、透明性および適度な滑り性などを有する光学用保護フィルムの提供が可能であり、表面保護機能と帯電防止機能を兼ね備えた1コートシステムが可能な光学用保護フィルムが提供される。   As described above, according to the present invention, in addition to antistatic properties, scratch resistance (scratch resistance), and easy cleaning of contaminants (solvent resistance is required because it is washed with an organic solvent), printability is also achieved. (Printer ink used for process control), providing an optical protective film with adhesion to the substrate, transparency, and moderate slipperiness, and has both surface protection and antistatic functions An optical protective film capable of a one-coat system is provided.

Claims (11)

基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に設けた粘着層と、該基材フィルムの他方の面に設けた帯電防止性表面保護層とからなる光学用保護フィルムにおいて、上記表面保護層が、分子内に活性水素基およびポリシロキサン基を有する樹脂(A)と帯電防止剤(B)とポリイソシアネート(C)とを被膜形成成分として形成されていることを特徴とする光学用保護フィルム。   In the optical protective film comprising a base film, an adhesive layer provided on one surface of the base film, and an antistatic surface protective layer provided on the other surface of the base film, the surface protective layer Is formed using a resin (A) having an active hydrogen group and a polysiloxane group in the molecule, an antistatic agent (B), and a polyisocyanate (C) as a film-forming component. . 前記樹脂(A)が、分子内に活性水素基を有する樹脂と、分子内に少なくとも1個の活性水素基を有するポリシロキサン化合物と、ポリイソシアネートとを反応させて得られた樹脂である請求項1に記載の光学用保護フィルム。   The resin (A) is a resin obtained by reacting a resin having an active hydrogen group in a molecule, a polysiloxane compound having at least one active hydrogen group in the molecule, and a polyisocyanate. The protective film for optics according to 1. 前記樹脂(A)が、該樹脂中にポリシロキサン基成分を0.0001〜30質量%含有している請求項1に記載の光学用保護フィルム。   The optical protective film according to claim 1, wherein the resin (A) contains 0.0001 to 30% by mass of a polysiloxane group component in the resin. 前記樹脂(A)が、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、チオール基および/またはエポキシ基を主鎖および/または側鎖に有する樹脂と、分子内にアミノ基または水酸基を有しているポリシロキサン化合物と、ポリイソシアネートとの反応生成物である請求項1に記載の光学用保護フィルム。   A resin in which the resin (A) has a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, a thiol group and / or an epoxy group in the main chain and / or side chain, and a polysiloxane compound having an amino group or a hydroxyl group in the molecule The protective film for optics according to claim 1, which is a reaction product of polyisocyanate. 帯電防止剤(B)が、導電性ポリマー、イオン伝導ポリマー、金属酸化物、金属アルコキシドおよび導電性フィラー含有高分子物質から選ばれた少なくとも1種である請求項1に記載の光学用保護フィルム。   The optical protective film according to claim 1, wherein the antistatic agent (B) is at least one selected from a conductive polymer, an ion conductive polymer, a metal oxide, a metal alkoxide, and a conductive filler-containing polymer substance. 表面抵抗値が、105〜1012Ω/cm2である請求項1に記載の光学用保護フィルム。 The optical protective film according to claim 1, wherein the surface resistance value is 10 5 to 10 12 Ω / cm 2 . 表面保護層のヘイズ値が、0〜1.2%である請求項1に記載の光学用保護フィルム。   The optical protective film according to claim 1, wherein the surface protective layer has a haze value of 0 to 1.2%. 表面保護層の動摩擦係数が、0.15〜0.30である請求項1に記載の光学用保護フィルム。   The optical protective film according to claim 1, wherein the surface protective layer has a dynamic friction coefficient of 0.15 to 0.30. 分子内に活性水素基およびポリシロキサン基を有する樹脂(A)と帯電防止剤(B)とポリイソシアネート(C)とを有機溶剤に溶解してなることを特徴とする表面保護層形成用塗料。   A coating material for forming a surface protective layer, comprising a resin (A) having an active hydrogen group and a polysiloxane group in the molecule, an antistatic agent (B), and a polyisocyanate (C) dissolved in an organic solvent. 樹脂(A)が、樹脂(A)と帯電防止剤(B)の合計量(100質量%)のうちの20〜98質量%であり、帯電防止剤(B)が80〜2質量%である請求項9に記載の塗料。   The resin (A) is 20 to 98% by mass of the total amount (100% by mass) of the resin (A) and the antistatic agent (B), and the antistatic agent (B) is 80 to 2% by mass. The paint according to claim 9. さらに使用前にポリイソシアネートを添加するか、或いは安定化ポリイソシアネートを含有している請求項9に記載の塗料。   Furthermore, the polyisocyanate is added before use, or the coating material of Claim 9 containing the stabilized polyisocyanate.
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