JP4866027B2 - Protective film for optics - Google Patents

Protective film for optics Download PDF

Info

Publication number
JP4866027B2
JP4866027B2 JP2005194968A JP2005194968A JP4866027B2 JP 4866027 B2 JP4866027 B2 JP 4866027B2 JP 2005194968 A JP2005194968 A JP 2005194968A JP 2005194968 A JP2005194968 A JP 2005194968A JP 4866027 B2 JP4866027 B2 JP 4866027B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
group
film
polyisocyanate
molecule
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2005194968A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2007009135A (en
Inventor
浩正 佐藤
明弘 渡辺
賢一 高橋
裕明 小林
和行 花田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainichiseika Color and Chemicals Mfg Co Ltd
Ukima Chemicals and Color Mfg Co Ltd
Original Assignee
Dainichiseika Color and Chemicals Mfg Co Ltd
Ukima Chemicals and Color Mfg Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainichiseika Color and Chemicals Mfg Co Ltd, Ukima Chemicals and Color Mfg Co Ltd filed Critical Dainichiseika Color and Chemicals Mfg Co Ltd
Priority to JP2005194968A priority Critical patent/JP4866027B2/en
Publication of JP2007009135A publication Critical patent/JP2007009135A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4866027B2 publication Critical patent/JP4866027B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明は、液晶ディスプレーに使用される偏光板などの製造時に使用される光学用保護フィルムに関する。さらに詳しくは、帯電防止、汚染物易洗浄性および傷付き防止機能などが具備された光学用保護フィルムに関する。   The present invention relates to an optical protective film used in manufacturing a polarizing plate used for a liquid crystal display. More specifically, the present invention relates to an optical protective film provided with antistatic, easy-to-clean contaminants, and a scratch prevention function.

一般的な光学用保護フィルムは、表面保護層/耐水層/帯電防止層/基材フィルム/帯電防止層/粘着層/セパレートフィルム層の構成を有しており、基材フィルムの一方の面(セパレートフィルム層側)は偏光板に貼り合わせる側であり、セパレートフィルム層、粘着層および帯電防止層からなっていて、粘着層には糊残りの少ない粘着剤が使用され、帯電防止層は帯電防止機能が付与されている。光学用保護フィルムの他方の面は、帯電防止層、耐水層および表面保護層からなっていて、帯電防止層は前記の通りであり、耐水層は帯電防止層を外部環境(湿度)からの影響を最小限にする機能があり、表面保護層には多くの機能が付与されている。   A general optical protective film has a structure of surface protective layer / water resistant layer / antistatic layer / base film / antistatic layer / adhesive layer / separate film layer, and one side of the base film ( (Separate film layer side) is the side to be bonded to the polarizing plate, and consists of a separate film layer, an adhesive layer and an antistatic layer. The adhesive layer uses an adhesive with little adhesive residue, and the antistatic layer is antistatic. Functions are granted. The other surface of the optical protective film is composed of an antistatic layer, a water-resistant layer and a surface protective layer, and the antistatic layer is as described above, and the water-resistant layer affects the antistatic layer from the external environment (humidity). The surface protective layer has many functions.

液晶ディスプレーなどに使用される偏光板の製造時には、偏光板表面に光学用保護フィルムを貼り合わせて、偏光板に汚れや傷が付かないようにし、使用時には光学用保護フィルムを偏光板から剥離するものである。   At the time of manufacturing a polarizing plate used for liquid crystal displays, an optical protective film is bonded to the surface of the polarizing plate so that the polarizing plate is not soiled or scratched, and the optical protective film is peeled off from the polarizing plate at the time of use. Is.

光学用保護フィルムの粘着層側に帯電防止機能を付与させる理由は、偏光板を製造する過程で発生する静電気によるごみや偏光板から剥離する際に発生する静電気で不良品が生起することがあるので、それを防止するためである。   The reason for imparting an antistatic function to the adhesive layer side of the protective film for optics is that defective products may occur due to dust generated by the process of manufacturing a polarizing plate or static electricity generated when peeling from the polarizing plate. So to prevent it.

また、光学用保護フィルムの粘着層とは異なる他の面の外側の表面保護層には、帯電防止、傷付き防止および汚染物易洗浄性などが付与されている。それぞれを付与する必要性は次の通りである。帯電防止機能については前記の通りであり、傷付き防止機能は、特に偏光板と光学用保護フィルムをロールで貼り合わせる時、偏光板としての必要スペックに合わせ裁断し、積層して保管している時、あるいは、保管中に抜き取りをする時などに偏光板に傷付きが発生し易いので、これらに対応するためのものである。   Further, the surface protective layer on the outer side of the other surface different from the adhesive layer of the optical protective film is provided with antistatic, scratch prevention, easy cleaning of contaminants, and the like. The necessity to give each is as follows. The antistatic function is as described above, and the scratch preventing function is cut and laminated according to the necessary specifications as a polarizing plate, especially when the polarizing plate and the optical protective film are bonded together with a roll. This is to cope with the problem that the polarizing plate is easily damaged when it is removed during storage or during storage.

汚染物易洗浄性については、偏光板と光学用保護フィルムとを貼り合わせる際に保護層に付着する粘着剤、あるいは偏光板としての必要スペックに合わせ裁断し、積層して保管している時に付着する粘着剤などが光学用保護フィルムの表面を汚染して外観検査で不良品扱いとなって問題化するので、容易に拭きとれるようにするためである。   Contaminant easy-cleaning properties: Adhesive that adheres to the protective layer when the polarizing plate and optical protective film are bonded together, or adheres to the required specifications as a polarizing plate, and adheres when laminated and stored This is because the pressure-sensitive adhesive or the like contaminates the surface of the optical protective film and becomes a problem as a defective product in appearance inspection, so that it can be easily wiped off.

光学用保護フィルムに付着した粘着剤の除去法としては、例えば、アルコールや酢酸エチルなどの有機溶剤をしみ込ませた布などによる拭取りを行う方法などがある。このような拭き取り時に易洗浄性が求められるのである。さらには、このような作業において、保護層側をアルコールや酢酸エチルなどの溶剤でふき取るため、保護側を構成する層(保護層や帯電防止層)では耐溶剤性(イソプロピルアルコール、酢酸エチル、メチルエチルケトン、トルエンなど)で保護層の外観変化が無いことが求められる。   Examples of the method for removing the adhesive attached to the optical protective film include a method of wiping with a cloth soaked with an organic solvent such as alcohol or ethyl acetate. Easy cleaning is required at the time of such wiping. Furthermore, in such operations, the protective layer side is wiped off with a solvent such as alcohol or ethyl acetate, so that the layers constituting the protective side (protective layer or antistatic layer) are solvent resistant (isopropyl alcohol, ethyl acetate, methyl ethyl ketone). , Toluene, etc.) are required to have no change in the appearance of the protective layer.

前記機能を付与した光学用保護フィルムの製造例としては、基材フィルムの一方の面にアクリル粘着剤を、他方の面には、帯電防止処理が施された基材フィルムの上にシリコーンアクリレートを塗布し、光学用保護フィルムの粘着剤のはみ出しによる積み重ね時のフィルムのブロッキング防止と汚染物易洗浄性の機能を付与した例(特許文献1参照)や、表面保護層にポリビニルアルコールやポリエチレンイミンを長鎖アルキル化した共重合体などを塗布し、裁断面からはみ出した粘着剤が光学用保護フィルムの表面に付着するのを防止する機能を付与した例(特許文献2および3参照)が提案されている。   As an example of the production of an optical protective film having the above functions, an acrylic pressure-sensitive adhesive is applied to one side of the base film, and a silicone acrylate is applied to the other side of the base film that has been subjected to antistatic treatment. Example of coating (see Patent Document 1) that prevents film blocking during stacking by sticking out the adhesive of the protective film for optical use and easy cleaning of contaminants, and polyvinyl alcohol or polyethyleneimine on the surface protective layer Examples have been proposed in which a long-chain alkylated copolymer or the like is applied and a function that prevents the adhesive protruding from the cut surface from adhering to the surface of the optical protective film is given (see Patent Documents 2 and 3). ing.

光学用保護フィルムの表面保護層には、前記した帯電防止性、傷付き防止および汚染物易洗浄性の他に、印刷適性(工程管理する際に使用するプリンターインキ適性)、フィルム基材との密着性、耐スクラッチ性および適度な滑り性なども求められている。   In addition to the antistatic properties, scratch prevention, and easy cleaning of contaminants, the surface protective layer of the optical protective film has printing suitability (printer ink suitability for process control), film substrate Adhesion, scratch resistance, and moderate slipperiness are also required.

特開2001−305346公報JP 2001-305346 A 特開平11−256115号公報JP 11-256115 A 特開平11−256116号公報JP 11-256116 A

しかしながら、前記の提案技術では、前記した全ての機能を満足しているわけではない。その上、従来よりもさらに高性能である光学用保護フィルムの表面保護層形成材料が要望されている。さらには、現行の表面保護層の構成システムである3コートシステム(表面保護層/耐水層/帯電防止層/基材フィルム)を、製法の簡略化を目的として、2コートシステム(表面保護層/帯電防止層/基材フィルム)への構成システムの変更、あるいは薄膜化についても要望もあり、必要スペックの向上が望まれている。   However, the proposed technique does not satisfy all the functions described above. In addition, there is a demand for a material for forming a surface protective layer for an optical protective film that has higher performance than before. Furthermore, the 3-coat system (surface protective layer / water resistant layer / antistatic layer / base film), which is a construction system of the current surface protective layer, is applied to the 2-coat system (surface protective layer / There is also a demand for a change in the configuration system to an antistatic layer / base film) or a reduction in thickness, and an improvement in necessary specifications is desired.

従って、本発明の目的は、帯電防止性、傷付き防止性、汚染物易洗浄性(有機溶剤で洗浄することもあるため耐溶剤性も必要となる)、印刷適性(工程管理する際に使用するプリンターインキ適性)、基材フィルムとの密着性、透明性および適度な滑り性などを有する光学用保護フィルムを提供することである。
さらに、本発明の目的は、表面保護層の構成として表面保護層/帯電防止層/基材フィルムという2コートシステム、薄膜化のためにさらに耐溶剤性の機能が付与された光学用保護フィルムを提供することである。
Therefore, the object of the present invention is to provide antistatic properties, scratch resistance, easy cleaning of contaminants (solvent resistance is also required because it may be washed with an organic solvent), printability (used for process control) To provide an optical protective film having adhesiveness with a substrate film, transparency, moderate slipperiness, and the like.
Furthermore, the object of the present invention is to provide a two-coat system of surface protective layer / antistatic layer / base film as the structure of the surface protective layer, and an optical protective film further provided with a solvent resistance function for thinning. Is to provide.

上記目的は以下の構成の本発明の構成によって達成される。
1.基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に設けた粘着層と、該基材フィルムの他の面に帯電防止層を介して設けた表面保護層とからなる光学用保護フィルムにおいて、上記表面保護層が、分子内に活性水素基を有する樹脂(A)とポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂(B)とポリイソシアネート(C)とを被膜形成成分として形成されており、かつ上記帯電防止層が、分子内に活性水素基を有する樹脂(A)とポリイソシアネート(C)と帯電防止剤(D)とを被膜形成成分として形成されていることを特徴とする光学用保護フィルム。
The above object is achieved by the present invention having the following structure.
1. In the optical protective film comprising a base film, an adhesive layer provided on one side of the base film, and a surface protective layer provided on the other side of the base film via an antistatic layer, The surface protective layer is formed using a resin (A) having an active hydrogen group in the molecule, a polyurethane resin (B) containing a polysiloxane group, and a polyisocyanate (C) as a film-forming component, and the above antistatic An optical protective film, wherein the layer is formed using a resin (A) having an active hydrogen group in the molecule, a polyisocyanate (C), and an antistatic agent (D) as a film-forming component.

2.分子内に活性水素基を有する樹脂(A)が、ポリビニルアルコール、部分けん化ポリビニルアルコール、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール、アセタール基変性ポリビニルアルコール、ブチラール基変性ポリビニルアルコール、シラノール基変性ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、エチレン−ビニルアルコール−酢酸ビニル共重合樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、変性エポキシ系樹脂、フェノキシ樹脂、変性フェノキシ系樹脂、フェノキシエーテル樹脂、フェノキシエステル樹脂、フッ素系樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、ポリエーテル、ポリエステル、セルロース類、キトサンおよびウレタン樹脂から選ばれた少なくとも1種である前記1に記載の光学用保護フィルム。 2. Resin (A) having an active hydrogen group in the molecule is polyvinyl alcohol, partially saponified polyvinyl alcohol, acetoacetyl group-modified polyvinyl alcohol, acetal group-modified polyvinyl alcohol, butyral group-modified polyvinyl alcohol, silanol group-modified polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl Alcohol copolymer, ethylene-vinyl alcohol-vinyl acetate copolymer resin, acrylic resin, epoxy resin, modified epoxy resin, phenoxy resin, modified phenoxy resin, phenoxy ether resin, phenoxy ester resin, fluorine resin, melamine resin 2. The optical protective film as described in 1 above, which is at least one selected from alkyd resins, phenol resins, polyethers, polyesters, celluloses, chitosan and urethane resins.

3.ポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂(B)が、分子内に少なくとも1個の活性水素基を有するポリシロキサン化合物および/または該ポリシロキサン化合物とラクトンとを共重合した化合物と、ポリイソシアネートと、ポリオールまたはポリアミンとを反応させて得られるポリウレタン樹脂であって、その重量平均分子量が5,000〜500,000である前記1に記載の光学用保護フィルム。 3. The polyurethane resin (B) containing a polysiloxane group is a polysiloxane compound having at least one active hydrogen group in the molecule and / or a compound obtained by copolymerizing the polysiloxane compound and a lactone, a polyisocyanate, and a polyol. Or the protective film for optics of said 1 which is a polyurethane resin obtained by making polyamine react, Comprising: The weight average molecular weight is 5,000-500,000.

4.帯電防止剤が、導電性フィラーである前記1に記載の光学用保護フィルム。
5.表面抵抗値が、1010Ω/cm2以下である前記1に記載の光学用保護フィルム。
4). 2. The optical protective film as described in 1 above, wherein the antistatic agent is a conductive filler.
5. 2. The optical protective film as described in 1 above, wherein the surface resistance value is 10 10 Ω / cm 2 or less.

6.上記1〜5のいずれかに記載の光学用保護フィルムにおける、分子内に活性水素基を有する樹脂(A)とポリイソシアネート(C)と帯電防止剤(D)とを被膜形成成分として形成されている帯電防止層を介して設ける表面保護層を形成するための塗料であって、分子内に活性水素基を有する樹脂(A)と、ポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂(B)とを有機溶剤に溶解してなり、更に使用前にポリイソシアネート(C)が添加されるか、或いは安定化ポリイソシアネート(C)が含有されており(但し、帯電防止剤を含む場合を除く)、上記樹脂(A)と上記樹脂(B)とポリイソシアネート(C)とを被膜形成成分としていることを特徴とする表面保護層形成用塗料。
7.前記樹脂(A)が、エチレン−ビニルアルコール共重合体、部分けん化ポリビニルアルコールまたはフェノキシ樹脂であり、前記樹脂(B)が、分子内にアミノ基または水酸基を含有しているポリシロキサン化合物とラクトンとの共重合体と、ポリイソシアネートと、ポリオールとの反応生成物である前記6に記載の表面保護層形成用塗料。
6). The optical protective film according to any one of 1 to 5 above, wherein the resin (A) having an active hydrogen group in the molecule, the polyisocyanate (C), and the antistatic agent (D) are formed as a film forming component. An organic solvent comprising a resin (A) having an active hydrogen group in the molecule and a polyurethane resin (B) containing a polysiloxane group , which is a coating for forming a surface protective layer provided via an antistatic layer. In addition, the polyisocyanate (C) is added before use, or a stabilized polyisocyanate (C) is contained (except when an antistatic agent is included) . A coating material for forming a surface protective layer, comprising A), the resin (B), and the polyisocyanate (C) as film-forming components.
7). The resin (A) is an ethylene-vinyl alcohol copolymer, a partially saponified polyvinyl alcohol or a phenoxy resin, and the resin (B) contains a polysiloxane compound containing an amino group or a hydroxyl group in the molecule, and a lactone. The coating material for forming a surface protective layer as described in 6 above, which is a reaction product of a copolymer of the above, a polyisocyanate and a polyol.

8.樹脂(A)が、樹脂(A)と樹脂(B)との合計量(100質量%)のうちの20〜80質量%であり、樹脂(B)が80〜20質量%である前記6に記載の表面保護層形成用塗料 8). The resin (A) is 20 to 80% by mass of the total amount (100% by mass) of the resin (A) and the resin (B), and the resin (B) is 80 to 20% by mass. The coating material for forming a surface protective layer according to the description .

本発明によれば、光学用保護フィルムの表面保護層の構成システムが、表面保護層/帯電防止層/基材フィルムといった2コートシステムからなり、帯電防止性、傷付き防止性、汚染物易洗浄性(耐溶剤性)、印刷適性、基材フィルムとの密着性、透明性および適度な滑り性などに優れた光学用保護フィルムが提供される。   According to the present invention, the construction system of the surface protective layer of the optical protective film is a two-coat system such as surface protective layer / antistatic layer / base film, and has antistatic properties, scratch resistance, and easy cleaning of contaminants. Provided is an optical protective film having excellent properties (solvent resistance), printability, adhesion to a substrate film, transparency, and moderate slipperiness.

次に好ましい実施の形態を挙げて本発明をさらに詳細に述べる。
本発明の光学用保護フィルムは、基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に設けた粘着層と、該基材フィルムの他の面に帯電防止層を介して設けた表面保護層とからなっている。すなわち、光学用保護フィルムの表面保護層側の構成は、表面保護層/帯電防止層/基材フィルムといった2コートシステムの構成からなることを特徴としており、従来の3コートシステムの構成(表面保護層/耐水層/帯電防止層/基材フィルム)の製法をより簡略化したものである。すなわち、製造時のコート回数が削減され、コストパフォーマンスに優れた表面保護層となっている。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to preferred embodiments.
The protective film for optics of the present invention includes a base film, an adhesive layer provided on one side of the base film, and a surface protective layer provided on the other side of the base film via an antistatic layer. It is made up of. In other words, the structure of the optical protective film on the surface protective layer side is characterized by the structure of a two-coat system such as a surface protective layer / an antistatic layer / a substrate film. Layer / water resistant layer / antistatic layer / base film). That is, the number of coatings during production is reduced, and the surface protective layer has excellent cost performance.

次に表面保護層と帯電防止層について詳しく説明する。
表面保護層は分子内に活性水素基を有する樹脂(A)とポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂(B)とポリイソシアネート(C)とを被膜形成成分として形成されているものであり、これらを溶剤などに溶解させてあるいは無溶剤で表面保護層形成用塗料として帯電防止層の上に塗布および乾燥して表面保護層とするのが好ましい。この場合の表面保護層形成用塗料は、分子内に活性水素基を有する樹脂(A)と、ポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂(B)とを含有しており、さらに使用前にポリイソシアネートを添加するか、あるいは安定化ポリイソシアネートを含有していることが好ましい。
Next, the surface protective layer and the antistatic layer will be described in detail.
The surface protective layer is formed using a resin (A) having an active hydrogen group in the molecule, a polyurethane resin (B) containing a polysiloxane group, and a polyisocyanate (C) as a film forming component. It is preferable to dissolve in a solvent or the like, or to apply a coating on the antistatic layer as a coating material for forming a surface protective layer without solvent and dry it to form a surface protective layer. The coating material for forming the surface protective layer in this case contains a resin (A) having an active hydrogen group in the molecule and a polyurethane resin (B) containing a polysiloxane group. Preferably it is added or contains a stabilized polyisocyanate.

分子内に活性水素基を有する樹脂(A)としては、下記の樹脂を使用するのが好ましい。ポリビニルアルコール、部分けん化ポリビニルアルコール、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール、アセタール基変性ポリビニルアルコール、ブチラール基変性ポリビニルアルコール、シラノール基変性ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、エチレン−ビニルアルコール−酢酸ビニル共重合樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、変性エポキシ系樹脂、フェノキシ樹脂、変性フェノキシ系樹脂、フェノキシエーテル樹脂、フェノキシエステル樹脂、フッ素系樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、ポリエーテル、ポリエステル、セルロース類、キトサンおよびウレタン樹脂などが使用できる。さらには、これらの中から選ばれた少なくとも1種が好適に使用される。この中で特に好ましいのは、エチレン−ビニルアルコール共重合体、部分けん化ポリビニルアルコールおよびフェノキシ樹脂である。   As the resin (A) having an active hydrogen group in the molecule, the following resins are preferably used. Polyvinyl alcohol, partially saponified polyvinyl alcohol, acetoacetyl group-modified polyvinyl alcohol, acetal group-modified polyvinyl alcohol, butyral group-modified polyvinyl alcohol, silanol group-modified polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymer, ethylene-vinyl alcohol-vinyl acetate copolymer Resin, acrylic resin, epoxy resin, modified epoxy resin, phenoxy resin, modified phenoxy resin, phenoxy ether resin, phenoxy ester resin, fluorine resin, melamine resin, alkyd resin, phenol resin, polyether, polyester, celluloses Chitosan and urethane resin can be used. Furthermore, at least one selected from these is preferably used. Of these, ethylene-vinyl alcohol copolymer, partially saponified polyvinyl alcohol and phenoxy resin are particularly preferable.

分子内に活性水素基を有する樹脂(A)中の活性水素基は、例えば、水酸基(−OH)、カルボキシル基(−COOH)、アミノ基(−NRH(Rは炭化水素基)、−NH2など)およびチオール基(−SH)などであり、これらの中では水酸基が好ましく使用される。前記樹脂の分子内に活性水素基を有している場合は、そのまま前記樹脂(A)として使用できるが、前記樹脂分子内に活性水素基を有していない場合は変性などの処理を行って活性水素基を付与して使用することができる。 The active hydrogen group in the resin (A) having an active hydrogen group in the molecule is, for example, a hydroxyl group (—OH), a carboxyl group (—COOH), an amino group (—NRH (R is a hydrocarbon group), —NH 2. Etc.) and a thiol group (-SH). Among these, a hydroxyl group is preferably used. When the resin has an active hydrogen group in the molecule, it can be used as the resin (A) as it is, but when the resin molecule does not have an active hydrogen group, a treatment such as modification is performed. It can be used with an active hydrogen group.

ポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂(B)について以下に説明する。ポリシロキサン基は、ポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂(B)中にポリシロキサンセグメントとして含有されているものであり、ポリウレタン樹脂の主鎖中に含有あるいは分岐した状態で含有されている。すなわち、原料となるポリシロキサンが両末端反応型であればポリウレタン樹脂の主鎖である幹部分に、片末端あるいは分岐反応型であればポリウレタン樹脂の主鎖から分岐した状態で含有されることとなる。   The polyurethane resin (B) containing a polysiloxane group will be described below. The polysiloxane group is contained as a polysiloxane segment in the polyurethane resin (B) containing the polysiloxane group, and is contained in the main chain of the polyurethane resin or in a branched state. That is, if the polysiloxane used as a raw material is a double-end reactive type, it is contained in the trunk portion which is the main chain of the polyurethane resin, and if it is a single-end or branched reaction type, it is contained in a state branched from the main chain of the polyurethane resin. Become.

ポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂(B)としては、次のものが好ましく使用される。分子内に少なくとも1個以上の活性水素基を有するポリシロキサン化合物および/または該ポリシロキサン化合物とラクトンとを共重合した化合物と、ポリイソシアネートと、ポリオールまたはポリアミンとを反応させて得られるポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂であり、その好ましい重量平均分子量は5,000〜500,000である。   As the polyurethane resin (B) containing a polysiloxane group, the following are preferably used. A polysiloxane compound having at least one active hydrogen group in the molecule and / or a polysiloxane group obtained by reacting a compound obtained by copolymerizing the polysiloxane compound and a lactone with a polyisocyanate and a polyol or polyamine. The preferred weight average molecular weight is 5,000 to 500,000.

本発明で使用する前記ポリシロキサン基の原料成分となるポリシロキサン化合物について説明する。本発明において使用される活性水素基を少なくとも1個有するポリシロキサン化合物としては、例えば、以下のような化合物を用いることが好ましい(この中には活性水素基を利用して変性されたエポキシ変性ポリシロキサン化合物も含んでいるが、イソシアネート基と反応してポリウレタン樹脂中に含有されることとなるので含めている)。   The polysiloxane compound used as a raw material component of the polysiloxane group used in the present invention will be described. As the polysiloxane compound having at least one active hydrogen group used in the present invention, for example, the following compounds are preferably used (in this, an epoxy-modified polysiloxane modified by using active hydrogen groups). A siloxane compound is also included, but it is included because it reacts with an isocyanate group and is contained in a polyurethane resin).

(1)アミノ変性ポリシロキサン化合物

Figure 0004866027
Figure 0004866027
Figure 0004866027
Figure 0004866027
(1) Amino-modified polysiloxane compound
Figure 0004866027
Figure 0004866027
Figure 0004866027
Figure 0004866027

(2)エポキシ変性ポリシロキサン化合物

Figure 0004866027
Figure 0004866027
Figure 0004866027
(2) Epoxy-modified polysiloxane compound
Figure 0004866027
Figure 0004866027
Figure 0004866027

(3)アルコール変性ポリシロキサン化合物

Figure 0004866027
Figure 0004866027
Figure 0004866027

Figure 0004866027
Figure 0004866027
Figure 0004866027
Figure 0004866027
(3) Alcohol-modified polysiloxane compound
Figure 0004866027
Figure 0004866027
Figure 0004866027

Figure 0004866027
Figure 0004866027
Figure 0004866027
Figure 0004866027

(4)メルカプト変性ポリシロキサン化合物

Figure 0004866027
Figure 0004866027
(4) Mercapto-modified polysiloxane compound
Figure 0004866027
Figure 0004866027

以上列記した活性水素基を有するポリシロキサン化合物は本発明において使用する好ましい化合物であるが、本発明はこれらの例示の化合物に限定されるものではない。従って上述の例示の化合物のみならず、その他現在市販されており、市場から容易に入手し得る化合物はいずれも本発明において好ましく使用することができる。   The polysiloxane compounds having active hydrogen groups listed above are preferred compounds used in the present invention, but the present invention is not limited to these exemplified compounds. Accordingly, not only the above-exemplified compounds but also other compounds that are currently commercially available and can be easily obtained from the market can be preferably used in the present invention.

本発明において特に好ましい化合物は2個の水酸基またはアミノ基を有するポリシロキサン化合物である。これらの他にもポリシロキサン化合物をラクトンで変性したポリラクトン(ポリエステル)−ポリシロキサン化合物およびエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドで変性したポリエチレンオキサイド−ポリシロキサン化合物やポリプロピレンオキサイド−ポリシロキサン化合物なども好ましく使用される。   Particularly preferred compounds in the present invention are polysiloxane compounds having two hydroxyl groups or amino groups. In addition to these, a polylactone (polyester) -polysiloxane compound obtained by modifying a polysiloxane compound with a lactone, a polyethylene oxide-polysiloxane compound modified with ethylene oxide or propylene oxide, a polypropylene oxide-polysiloxane compound, and the like are also preferably used.

特に好ましくはポリシロキサン化合物をラクトンで変性した化合物であり、さらに好ましくは分子内に1個以上の活性水素基を有するポリシロキサン化合物をラクトンで変性したポリラクトン−ポリシロキサン化合物である。ここで使用する好ましいラクトンは、β−プロピオラクトン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン、7−ヘプタノリド、8−オクタノリド、γ−バレロラクトン、γ−カプロラクトンおよびδ−カプロラクトンなどである。   Particularly preferred are compounds obtained by modifying polysiloxane compounds with lactones, and more preferred are polylactone-polysiloxane compounds obtained by modifying polysiloxane compounds having one or more active hydrogen groups in the molecule with lactones. Preferred lactones used here are β-propiolactone, γ-butyrolactone, δ-valerolactone, ε-caprolactone, 7-heptanolide, 8-octanolide, γ-valerolactone, γ-caprolactone and δ-caprolactone. .

また、本発明において前記ポリラクトン−ポリシロキサンを構成に使用する化合物、すなわち、分子内に少なくとも1個以上の活性水素基を有するポリシロキサン化合物をラクトンで変性したポリラクトン−ポリシロキサン化合物は、分子中に1個または2個以上の活性水素基、例えば、アミノ基、水酸基、カルボキシル基などを有するシロキサン化合物の活性水素原子団がラクトンを開環重合させた後、減圧処理することによって得られる。   Further, in the present invention, a compound using the polylactone-polysiloxane as a constituent, that is, a polylactone-polysiloxane compound obtained by modifying a polysiloxane compound having at least one active hydrogen group in the molecule with a lactone, An active hydrogen atom group of a siloxane compound having one or two or more active hydrogen groups, for example, an amino group, a hydroxyl group, a carboxyl group, and the like is obtained by subjecting the lactone to ring-opening polymerization and then subjecting it to a reduced pressure treatment.

ポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂(B)に使用されるポリオールとしては、好ましくはポリウレタンの製造に従来から使用されている短鎖ジオール、多価アルコール系化合物および高分子ポリオールなどの従来公知のものが、また、ポリアミンとしてはポリウレタンの製造に従来から使用されている短鎖ジアミンなどが使用できるが、これらは特に限定されない。以下に使用するそれぞれの化合物について説明する。   The polyol used in the polyurethane resin (B) containing a polysiloxane group is preferably a conventionally known one such as a short-chain diol, a polyhydric alcohol compound and a polymer polyol conventionally used in the production of polyurethane. However, as the polyamine, a short-chain diamine conventionally used in the production of polyurethane can be used, but these are not particularly limited. Each compound used below is described.

前記短鎖ジオールとしては、例えば、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,4−ブチレングリコール、1,6−ヘキサメチレングリコールおよびネオペンチルグリコールなどの脂肪族グリコール類およびそのアルキレンオキシド低モル付加物(数平均分子量500未満)、1,4−ビスヒドロキシメチルシクロヘキサンおよび2−メチル−1,1−シクロヘキサンジメタノールなどの脂環式系グリコール類およびそのアルキレンオキシド低モル付加物(数平均分子量500未満)、キシリレングリコールなどの芳香族グリコール類およびそのアルキレンオキシド低モル付加物(数平均分子量500未満)、ビスフェノールA、チオビスフェノールおよびスルホンビスフェノールなどのビスフェノール類およびそのアルキレンオキシド低モル付加物(数平均分子量500未満)、およびC1〜C18のアルキルジエタノールアミンなどのアルキルジアルカノールアミン類などの化合物が挙げられる。また、多価アルコール系化合物としては、例えば、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリトリトール、トリス−(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、1,1,1−トリメチロールエタンおよび1,1,1−トリメチロールプロパンなどが挙げられる。これらは単独あるいは2種類以上を組み合わせて使用することができる。   Examples of the short-chain diol include aliphatic glycols such as ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,4-butylene glycol, 1,6-hexamethylene glycol, and neopentyl glycol. And its alkylene oxide low mole adduct (number average molecular weight less than 500), alicyclic glycols such as 1,4-bishydroxymethylcyclohexane and 2-methyl-1,1-cyclohexanedimethanol, and its alkylene oxide low mole Adducts (number average molecular weight less than 500), aromatic glycols such as xylylene glycol and their alkylene oxide low molar adducts (number average molecular weight less than 500), bisphenol A, thiobisphenol and sulfone bisphenol Phenols and alkylene oxide low mol adduct (number average molecular weight of less than 500), and compounds such as alkyl dialkanolamines, such as alkyl diethanolamine of C1~C18 thereof. Examples of the polyhydric alcohol compound include glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, pentaerythritol, tris- (2-hydroxyethyl) isocyanurate, 1,1,1-trimethylolethane, and 1,1, Examples thereof include 1-trimethylolpropane. These can be used alone or in combination of two or more.

前記高分子ポリオールとしては、例えば、以下のものが例示される。
(1)ポリエーテルポリオール、例えば、アルキレンオキシド(エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシドなど)および/または、複素環式エーテル(テトラヒドロフランなど)を重合または共重合して得られるものが例示され、具体的にはポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール−ポリテトラメチレングリコール(ブロックまたはランダム)、ポリテトラメチレンエーテルグリコールおよびポリヘキサメチレングリコールなど、
Examples of the polymer polyol include the following.
(1) Polyether polyols such as those obtained by polymerizing or copolymerizing alkylene oxides (ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, etc.) and / or heterocyclic ethers (tetrahydrofuran, etc.) are specifically exemplified. Are polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyethylene glycol-polytetramethylene glycol (block or random), polytetramethylene ether glycol and polyhexamethylene glycol,

(2)ポリエステルポリオール、例えば、脂肪族系ジカルボン酸類(例えば、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、グルタル酸およびアゼライン酸など)および/または芳香族系ジカルボン酸(例えば、イソフタル酸およびテレフタル酸など)と低分子量グリコール類(例えば、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,4−ブチレングリコール、1,6−ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコールおよび1,4−ビスヒドロキシメチルシクロヘキサンなど)とを縮重合したものが例示され、具体的にはポリエチレンアジペートジオール、ポリブチレンアジペートジオール、ポリヘキサメチレンアジペートジオール、ポリネオペンチルアジペートジオール、ポリエチレン/ブチレンアジペートジオール、ポリネオペンチル/ヘキシルアジペートジオール、ポリ−3−メチルペンタンアジペートジオールおよびポリブチレンイソフタレートジオールなど、 (2) Polyester polyols such as aliphatic dicarboxylic acids (eg succinic acid, adipic acid, sebacic acid, glutaric acid and azelaic acid) and / or aromatic dicarboxylic acids (eg isophthalic acid and terephthalic acid) And low molecular weight glycols (for example, ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,4-butylene glycol, 1,6-hexamethylene glycol, neopentyl glycol and 1,4-bishydroxy For example, polyethylene adipate diol, polybutylene adipate diol, polyhexamethylene adipate diol, polyneopentyl adipate diol, polyethylene / butyle. Adipate diol, polyneopentyl / hexyl adipate diol, poly-3-methylpentane adipate diol, and polybutylene isophthalate diol, etc.,

(3)ポリラクトンポリオール、例えば、ポリカプロラクトンジオールまたはトリオールおよびポリ−3−メチルバレロラクトンジオールなど、
(4)ポリカーボネートジオール、例えば、ポリヘキサメチレンカーボネートジオールなど、
(5)ポリオレフィンポリオール、例えば、ポリブタジエングリコールおよびポリイソプレングリコール、または、その水素化物など、
(6)ポリメタクリレートジオール、例えば、α,ω−ポリメチルメタクリレートジオールおよびα,ω−ポリブチルメタクリレートジオールなどが挙げられる。
(3) Polylactone polyols such as polycaprolactone diol or triol and poly-3-methylvalerolactone diol,
(4) Polycarbonate diol, such as polyhexamethylene carbonate diol,
(5) Polyolefin polyol, such as polybutadiene glycol and polyisoprene glycol, or a hydride thereof,
(6) Polymethacrylate diols such as α, ω-polymethylmethacrylate diol and α, ω-polybutylmethacrylate diol are exemplified.

これらのポリオールの分子量は特に限定されないが、通常数平均分子量は500〜2,000程度が好ましい。また、これらのポリオールは単独あるいは2種類以上を組み合わせて使用することができる。   Although the molecular weight of these polyols is not particularly limited, the number average molecular weight is usually preferably about 500 to 2,000. Moreover, these polyols can be used individually or in combination of 2 or more types.

前記ポリアミンとして好ましいポリアミンは、例えば、短鎖ジアミン、脂肪族系、芳香族系ジアミン類およびヒドラジン類などが挙げられる。短鎖ジアミンとしては、例えばメチレンジアミン、エチレンジアミン、トリメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミンおよびオクタメチレンジアミンなどの脂肪族ジアミン化合物、フェニレンジアミン、3,3’−ジクロロ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−メチレンビス(フェニルアミン)、4,4’−ジアミノジフェニルエーテルおよび4,4’−ジアミノジフェニルスルホンなどの芳香族ジアミン化合物、シクロペンタンジアミン、シクロヘキシルジアミン、4,4−ジアミノジシクロヘキシルメタン、1,4−ジアミノシクロヘキサンおよびイソホロンジアミンなどの脂環式ジアミン化合物などが挙げられる。また、ヒドラジン、カルボヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジドおよびフタル酸ジヒドラジドなどのヒドラジン類が挙げられる。これらは単独であるいは2種類以上を組み合わせて使用することができる。ポリオールおよびポリアミンとしては、ジオール化合物およびジアミン化合物が好ましい。   Examples of preferred polyamines as the polyamine include short-chain diamines, aliphatic, aromatic diamines, and hydrazines. Examples of the short-chain diamine include aliphatic diamine compounds such as methylene diamine, ethylene diamine, trimethylene diamine, hexamethylene diamine and octamethylene diamine, phenylene diamine, 3,3′-dichloro-4,4′-diaminodiphenylmethane, 4, Aromatic diamine compounds such as 4′-methylenebis (phenylamine), 4,4′-diaminodiphenyl ether and 4,4′-diaminodiphenylsulfone, cyclopentanediamine, cyclohexyldiamine, 4,4-diaminodicyclohexylmethane, 1,4 -Alicyclic diamine compounds such as diaminocyclohexane and isophoronediamine are listed. Further, hydrazines such as hydrazine, carbohydrazide, adipic acid dihydrazide, sebacic acid dihydrazide and phthalic acid dihydrazide can be mentioned. These can be used alone or in combination of two or more. As the polyol and polyamine, a diol compound and a diamine compound are preferable.

前記ポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂(B)の合成に使用するポリイソシアネート化合物としては、従来公知のポリウレタンの製造に使用されているものがいずれも使用でき特に限定されない。ポリイソシアネート化合物として好ましいものは、例えば、トルエン−2,4−ジイソシアネート、4−メトキシ−1,3−フェニレンジイソシアネート、4−イソプロピル−1,3−フェニレンジイソシアネート、4−クロル−1,3−フェニレンジイソシアネート、4−ブトキシ−1,3−フェニレンジイソシアネート、2,4−ジイソシアネートジフェニルエーテル、4,4’−メチレンビス(フェニレンイソシアネート)(MDI)、ジュリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート(XDI)、1,5−ナフタレンジイソシアネート、ベンジジンジイソシアネート、o−ニトロベンジジンジイソシアネートおよび4,4’−ジイソシアネートジベンジルなどの芳香族ジイソシアネート、メチレンジイソシアネート、1,4−テトラメチレンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネートおよび1,10−デカメチレンジイソシアネートなどの脂肪族ジイソシアネート、1,4−シクロヘキシレンジイソシアネート、4,4−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、1,5−テトラヒドロナフタレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水添MDIおよび水添XDIなどの脂環式ジイソシアネートなど、あるいはこれらのジイソシアネート化合物と低分子量のポリオールやポリアミンを末端がイソシアネートとなるように反応させて得られるポリウレタンプレポリマーなども当然使用することができる。   As the polyisocyanate compound used for the synthesis of the polyurethane resin (B) containing the polysiloxane group, any of those conventionally used for producing a polyurethane can be used and is not particularly limited. Preferred examples of the polyisocyanate compound include toluene-2,4-diisocyanate, 4-methoxy-1,3-phenylene diisocyanate, 4-isopropyl-1,3-phenylene diisocyanate, and 4-chloro-1,3-phenylene diisocyanate. 4-butoxy-1,3-phenylene diisocyanate, 2,4-diisocyanate diphenyl ether, 4,4′-methylenebis (phenylene isocyanate) (MDI), jurylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate (XDI), 1, Aromatic diisocyanates such as 5-naphthalene diisocyanate, benzidine diisocyanate, o-nitrobenzidine diisocyanate and 4,4′-diisocyanate dibenzyl, methyl Diisocyanate, 1,4-tetramethylene diisocyanate, aliphatic diisocyanates such as 1,6-hexamethylene diisocyanate and 1,10-decamethylene diisocyanate, 1,4-cyclohexylene diisocyanate, 4,4-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), Obtained by reacting 1,5-tetrahydronaphthalene diisocyanate, isophorone diisocyanate, alicyclic diisocyanates such as hydrogenated MDI and hydrogenated XDI, or these diisocyanate compounds with low molecular weight polyols and polyamines so that the ends are isocyanates. Naturally, polyurethane prepolymers and the like can also be used.

ポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂(B)において、上記の原料を用いたポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂の製造方法については特に限定されず、従来公知のポリウレタンの製造方法を用いることができる。例えば、分子内に活性水素を含まない有機溶剤の存在下、または不存在下に、少なくとも1個の活性水素基とポリシロキサン基が同一分子内に共存する化合物と、ポリオールおよび/またはポリアミンと、ポリイソシアネートと、必要に応じて低分子ジオールもしくは低分子ジアミンを鎖伸長剤とし、イソシアネート基と活性水素含有官能基との当量比が、通常、1.0となる配合で、ワンショット法、または多段法により、通常、20〜150℃、好ましくは60〜110℃で、イソシアネート基が殆どなくなるまで反応させることで本発明のポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂を得ることができる。   In the polyurethane resin (B) containing a polysiloxane group, the method for producing a polyurethane resin containing a polysiloxane group using the above raw materials is not particularly limited, and a conventionally known method for producing a polyurethane can be used. For example, a compound in which at least one active hydrogen group and a polysiloxane group coexist in the same molecule in the presence or absence of an organic solvent containing no active hydrogen in the molecule, a polyol and / or a polyamine, A polyisocyanate and optionally a low molecular diol or low molecular diamine as a chain extender, and the equivalent ratio of isocyanate group to active hydrogen-containing functional group is usually 1.0, a one-shot method, or The polyurethane resin containing the polysiloxane group of the present invention can be obtained by a multistage process, usually by reaction at 20 to 150 ° C., preferably 60 to 110 ° C., until almost no isocyanate groups are present.

なお、ポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂については、無溶剤で合成しても、有機溶剤を用いて合成してもよい。有機溶剤として好ましいのは、例えば、メチルエチルケトン、メチル−n−プロピルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、酢酸メチル、酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどが挙げられる。また、アセトン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、トルエン、キシレン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、パークロルエチレン、トリクロルエチレン、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテートおよびN−メチル−2−ピロリドンなども使用することができる。   In addition, about the polyurethane resin containing a polysiloxane group, you may synthesize | combine without a solvent or may synthesize | combine using an organic solvent. Preferable examples of the organic solvent include methyl ethyl ketone, methyl-n-propyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate. Also, acetone, cyclohexane, tetrahydrofuran, dioxane, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, toluene, xylene, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, perchlorethylene, trichloroethylene, methyl cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate and N-methyl-2- Pyrrolidone and the like can also be used.

ポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂を製造する場合には、それぞれ前記の、同一分子内に少なくとも1個の活性水素基を含有するポリシロキサン化合物を0.01〜30質量%、好ましくは0.5〜20質量%、ポリオールおよび/またはポリアミン20〜90質量%、好ましくは30〜80質量%、鎖伸長剤は40〜1質量%、好ましくは20〜2質量%(これらの成分の合計は100質量%である。)の割合で使用し、ポリイソシアネートの比は、NCO/OH≒1.0で合成される。なお、ポリシロキサン化合物が多いと(30質量%を超えると)光学用保護フィルム同士が滑りすぎて裁断保管時に積上げが不可能であることや未反応ポリシロキサン成分により品質工程管理に使用するインキをはじく現象が起きたりするので好ましくない。一方、ポリシロキサン化合物が少ない(0.01質量%未満であると)と光学用保護フィルム同士の滑り不足、汚染性能の不備、耐溶剤性および外気の湿度制御が不可能となり好ましくない。   In the case of producing a polyurethane resin containing a polysiloxane group, the above-mentioned polysiloxane compound containing at least one active hydrogen group in the same molecule is 0.01 to 30% by mass, preferably 0.5%. -20% by weight, polyol and / or polyamine 20-90% by weight, preferably 30-80% by weight, chain extender 40-1% by weight, preferably 20-2% by weight (the total of these components is 100% by weight) The ratio of polyisocyanate is synthesized with NCO / OH≈1.0. In addition, when there are many polysiloxane compounds (when it exceeds 30 mass%), the protective films for optics will slip too much and it is impossible to pile up at the time of cutting storage, and the ink used for quality process management by an unreacted polysiloxane component is used. It is not preferable because a repelling phenomenon occurs. On the other hand, when the amount of the polysiloxane compound is small (less than 0.01% by mass), slippage between the protective films for optical use, inadequate contamination performance, solvent resistance, and control of humidity of the outside air are not preferable.

本発明で使用するポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂(B)の分子量は、重量平均分子量(GPCで測定、標準ポリスチレン換算)で5,000〜500,000の範囲が好ましい。   The molecular weight of the polyurethane resin (B) containing a polysiloxane group used in the present invention is preferably in the range of 5,000 to 500,000 in terms of weight average molecular weight (measured by GPC, converted to standard polystyrene).

分子内に活性水素基を有する樹脂(A)およびポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂(B)の使用量は、前記樹脂(A)と前記樹脂(B)合わせて100質量%に対して、前記樹脂(A)が20〜80質量%、好ましくは30〜60質量%である。一方、前記樹脂(B)は80〜20質量%、好ましくは70〜40質量%である。前記樹脂(A)の使用量が80質量%を超えるとポリイソシアネート(C)との反応が速くなり、可使時間の低下や密着性の低下などを引き起こすので好ましくない。20質量%未満では表面保護層の架橋密度が低下するため、汚染物除去の際に使用する溶剤への耐溶剤性の低下や耐スクラッチ性の低下を生じるので好ましくない。   The amount of the resin (A) having an active hydrogen group in the molecule and the polyurethane resin (B) containing a polysiloxane group is 100% by mass with respect to 100% by mass of the resin (A) and the resin (B). Resin (A) is 20-80 mass%, Preferably it is 30-60 mass%. On the other hand, the resin (B) is 80 to 20% by mass, preferably 70 to 40% by mass. If the amount of the resin (A) used exceeds 80% by mass, the reaction with the polyisocyanate (C) is accelerated, which causes a decrease in usable time and a decrease in adhesion, which is not preferable. If it is less than 20% by mass, the crosslinking density of the surface protective layer is lowered, and therefore, the solvent resistance to the solvent used for removing the contaminants and the scratch resistance are lowered, which is not preferable.

表面保護層を形成する成分であるポリイソシアネート(C)は、芳香族系あるいは脂肪族系のどちらでも使用可能であり、好ましくは芳香族系ではメタキシリレンジイソシアネート(MDI)、トルイレンジイソシアネート(TDI)、脂肪族系ではヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)などの変性体であり、分子中にイソシアネート基を3個以上含むものが好ましく、前記ポリイソシアネートの多量体や他の化合物との付加体、さらには低分子量のポリオールやポリアミンとを末端イソシアネートになるように反応させたウレタンプレポリマーなども好ましく使用される。それらを下記に構造式を挙げて例示するが、これらに限定されるものではない。   The polyisocyanate (C), which is a component for forming the surface protective layer, can be either aromatic or aliphatic. Preferably, in the aromatic system, metaxylylene diisocyanate (MDI), toluylene diisocyanate (TDI). ), In the aliphatic system, it is a modified product such as hexamethylene diisocyanate (HDI), isophorone diisocyanate (IPDI), and preferably contains three or more isocyanate groups in the molecule. Adducts of the above, and urethane prepolymers obtained by reacting low molecular weight polyols and polyamines to form terminal isocyanates are also preferably used. These are exemplified below with structural formulas, but are not limited thereto.

Figure 0004866027
Figure 0004866027

Figure 0004866027
Figure 0004866027

Figure 0004866027
Figure 0004866027

Figure 0004866027
Figure 0004866027

Figure 0004866027
Figure 0004866027

Figure 0004866027
Figure 0004866027

Figure 0004866027
Figure 0004866027

ポリイソシアネート(C)の使用量は分子内に活性水素基を有する樹脂(A)とポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂(B)合わせて100質量部に対して5〜60質量部であり、好ましくは10〜40質量部である。ポリイソシアネート(C)の使用量が60質量部を超えると可使時間の低下および未反応のポリイソシアネートの増加による表面保護層の塗膜物性の低下などが起きるので好ましくなく、5質量部未満では架橋密度が低下するため、耐溶剤性、耐スクラッチ性および基材フィルムへの密着性などが低下するので好ましくない。   The amount of polyisocyanate (C) used is 5 to 60 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin (A) having an active hydrogen group in the molecule and the polyurethane resin (B) containing a polysiloxane group. Is 10-40 parts by mass. If the amount of the polyisocyanate (C) used exceeds 60 parts by mass, it is not preferable because the use time decreases and the physical properties of the surface protective layer decrease due to the increase of unreacted polyisocyanate. Since the crosslinking density is lowered, the solvent resistance, scratch resistance, adhesion to the substrate film and the like are lowered, which is not preferable.

帯電防止層は分子内に活性水素基を有する樹脂(A)とポリイソシアネート(C)と帯電防止剤(D)とを被膜形成成分として形成されているものであり、これらを溶剤などに溶解させてあるいは無溶剤で帯電防止層形成用塗料として基材フィルムの上に塗布および乾燥して帯電防止層とするのが好ましい。この場合の帯電防止層形成用塗料は、分子内に活性水素基を有する樹脂(A)と、帯電防止剤(D)とを含有しており、さらに使用前にポリイソシアネートを添加するか、あるいは安定化ポリイソシアネートを含有していることが好ましい。   The antistatic layer is formed of a resin (A) having an active hydrogen group in the molecule, a polyisocyanate (C), and an antistatic agent (D) as a film-forming component, and these are dissolved in a solvent or the like. The antistatic layer is preferably formed by coating and drying on a base film as a coating material for forming an antistatic layer without solvent. In this case, the antistatic layer-forming coating material contains a resin (A) having an active hydrogen group in the molecule and an antistatic agent (D), and a polyisocyanate is added before use, or It preferably contains a stabilized polyisocyanate.

分子内に活性水素基を有する樹脂(A)は、前記に示した通り、下記の樹脂を使用するのが好ましい。ポリビニルアルコール、部分けん化ポリビニルアルコール、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール、アセタール基変性ポリビニルアルコール、ブチラール基変性ポリビニルアルコール、シラノール基変性ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、エチレン−ビニルアルコール−酢酸ビニル共重合樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、変性エポキシ系樹脂、フェノキシ樹脂、変性フェノキシ系樹脂、フェノキシエーテル樹脂、フェノキシエステル樹脂、フッ素系樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、ポリエーテル、ポリエステル、セルロース類、キトサンおよびウレタン樹脂などが使用できる。さらには、これらの中から選ばれた少なくとも1種が好適に使用される。この中で特に好ましいのは、エチレン−ビニルアルコール共重合体、部分けん化ポリビニルアルコールおよびフェノキシ樹脂である。   As described above, the resin (A) having an active hydrogen group in the molecule is preferably the following resin. Polyvinyl alcohol, partially saponified polyvinyl alcohol, acetoacetyl group-modified polyvinyl alcohol, acetal group-modified polyvinyl alcohol, butyral group-modified polyvinyl alcohol, silanol group-modified polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymer, ethylene-vinyl alcohol-vinyl acetate copolymer Resin, acrylic resin, epoxy resin, modified epoxy resin, phenoxy resin, modified phenoxy resin, phenoxy ether resin, phenoxy ester resin, fluorine resin, melamine resin, alkyd resin, phenol resin, polyether, polyester, celluloses Chitosan and urethane resin can be used. Furthermore, at least one selected from these is preferably used. Of these, ethylene-vinyl alcohol copolymer, partially saponified polyvinyl alcohol and phenoxy resin are particularly preferable.

分子内に活性水素基を有する樹脂(A)中の活性水素基は、例えば、水酸基(−OH)、カルボキシル基(−COOH)、アミノ基(−NRH、−NH2など)およびチオール基(−SH)などであり、これらの中では水酸基が好ましく使用される。前記樹脂の分子内に活性水素基を有している場合は、そのまま前記樹脂(A)として使用できるが、前記樹脂分子内に活性水素基を有していない場合は変性などの処理を行って活性水素基を付与することができる。 The active hydrogen group in the resin (A) having an active hydrogen group in the molecule includes, for example, a hydroxyl group (—OH), a carboxyl group (—COOH), an amino group (—NRH, —NH 2 etc.) and a thiol group (— SH) and the like, and among these, a hydroxyl group is preferably used. When the resin has an active hydrogen group in the molecule, it can be used as the resin (A) as it is, but when the resin molecule does not have an active hydrogen group, a treatment such as modification is performed. An active hydrogen group can be added.

基材フィルムの粘着層と異なる他の面に設けた帯電防止層に使用する好ましい帯電防止剤(D)としては、ポリビニルアルコール、カチオン変性ポリビニルアルコール、アルカリ金属塩含有ポリエーテル(例えば、ポリエチレンオキサイドのアルカリ金属塩)、アルカリ金属塩含有エーテル系ポリウレタン、ポリアミン、4級カチオン塩含有アクリル系樹脂、特殊変性ポリエステル、特殊カチオン系樹脂、セルロース誘導体、ポリアセチレン、ポリパラフェニレン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリンおよびスルホン化ポリアニリンなどの有機導電性材料、カーボンブラック、酸化スズ、酸化亜鉛および酸化チタンなどの金属酸化物、各種金属アルコキシド、アンチモン酸亜鉛ゾルおよびITO粉末などの導電性フィラー含有高分子などから選ばれた1種以上のものである。この中で特に好ましいのは、導電性フィラーである。これらを薄膜コーティングして被膜形成することで帯電防止機能が付与される。   As a preferable antistatic agent (D) used for the antistatic layer provided on the other surface different from the adhesive layer of the base film, polyvinyl alcohol, cation-modified polyvinyl alcohol, alkali metal salt-containing polyether (for example, polyethylene oxide) Alkali metal salt), alkali metal salt-containing ether polyurethane, polyamine, quaternary cation salt-containing acrylic resin, specially modified polyester, special cationic resin, cellulose derivative, polyacetylene, polyparaphenylene, polythiophene, polypyrrole, polyaniline and sulfonation Containing organic conductive materials such as polyaniline, metal oxides such as carbon black, tin oxide, zinc oxide and titanium oxide, various metal alkoxides, zinc antimonate sol and ITO powder. It is from the one or more selected such. Among these, a conductive filler is particularly preferable. An antistatic function is imparted by coating these with a thin film to form a film.

前記帯電防止剤のうち、アルカリ金属塩含有ポリエーテルおよびアルカリ金属塩含有エーテル系ポリウレタン中のアルカリ金属塩としては、例えば、過塩素酸リチウム、リチウムビストリフルオロメタンスルホンイミド、ホウフッ化リチウム、六フッ化リン酸リチウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、ペンタフルオロエタンスルホン酸リチウム、リチウムビスペンタフルオロエタンスルホンイミド、ホウフッ化テトラエチルアンモニウム、六フッ化リン酸テトラエチルアンモニウムおよびカリウムビストリフルオロメタンスルホンイミドなどを挙げることができる。   Among the antistatic agents, examples of the alkali metal salt in the alkali metal salt-containing polyether and the alkali metal salt-containing ether polyurethane include lithium perchlorate, lithium bistrifluoromethanesulfonimide, lithium borofluoride, and hexafluoride. Examples include lithium phosphate, lithium trifluoromethanesulfonate, lithium pentafluoroethanesulfonate, lithium bispentafluoroethanesulfonimide, tetraethylammonium borofluoride, tetraethylammonium hexafluorophosphate, and potassium bistrifluoromethanesulfonimide. .

前記帯電防止剤のうち、例えば、ポリアミンでは、エポミン(日本触媒社製)、ポリアリルアミン(日東紡績社製)などが、4級カチオン系ポリマーでは、例えば、エレコンド(綜研化学社製)、ジュリマー(日本純薬社製)、TKカチオンB(高松油脂社製)、テクスノール(日本乳化剤社製)、NKポリマー(新中村化学社製)、エフコール(松本油脂社製)およびシャロール(第一工業製薬社製)などが、金属アルコキシド系では、例えば、各種アルコキシシラン、各種アルミナゾル、コルコート(コルコート社製)およびセルナックス(アンチモン酸亜鉛ゾル、日産化学社製)などの使用が好ましい。   Among the antistatic agents, for example, polyamines include epomin (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.), polyallylamine (manufactured by Nitto Boseki Co., Ltd.), etc., and quaternary cationic polymers include, for example, elecondo (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.), dirimer ( Nippon Pure Chemical Co., Ltd.), TK cation B (manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd.), texnol (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.), NK polymer (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), Fcol (manufactured by Matsumoto Yushi Co., Ltd.) In the metal alkoxide system, for example, use of various alkoxysilanes, various alumina sols, Colcoat (manufactured by Colcoat Co.), Cellax (zinc antimonate sol, Nissan Chemical Co., Ltd.) and the like is preferable.

帯電防止層を形成する成分であるポリイソシアネート(C)は、芳香族系あるいは脂肪族系のどちらでも使用可能であり、好ましくは芳香族系ではメタキシリレンジイソシアネート(MDI)、トルイレンジイソシアネート(TDI)、脂肪族系ではヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)などの変性体であり、分子中にイソシアネート基を3個以上含むものが好ましく、前記ポリイソシアネートの多量体や他の化合物との付加体、さらには低分子量のポリオールやポリアミンとを末端イソシアネートになるように反応させたウレタンプレポリマーなども好ましく使用される。   The polyisocyanate (C), which is a component for forming the antistatic layer, can be either aromatic or aliphatic. Preferably, in the aromatic system, metaxylylene diisocyanate (MDI), toluylene diisocyanate (TDI). ), In the aliphatic system, it is a modified product such as hexamethylene diisocyanate (HDI), isophorone diisocyanate (IPDI), and preferably contains three or more isocyanate groups in the molecule. Adducts of the above, and urethane prepolymers obtained by reacting low molecular weight polyols and polyamines to form terminal isocyanates are also preferably used.

ポリイソシアネート(C)の使用量は分子内に活性水素基を有する樹脂(A)と帯電防止剤(D)合わせて100質量部に対して5〜60質量部であり、好ましくは10〜40質量部である。ポリイソシアネート(C)の使用量が60質量部を超えると可使時間の低下、未反応のポリイソシアネートの増加による帯電防止層の塗膜物性の低下などが起きるので好ましくなく、5質量部未満では架橋密度が低下するため、耐溶剤性、耐スクラッチ性および基材フィルムへの密着性などが低下するので好ましくない。   The amount of the polyisocyanate (C) used is 5 to 60 parts by mass, preferably 10 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin (A) having an active hydrogen group in the molecule and the antistatic agent (D). Part. If the amount of the polyisocyanate (C) used exceeds 60 parts by mass, it is not preferable because the use time decreases, and the physical properties of the antistatic layer deteriorate due to the increase of unreacted polyisocyanate. Since the crosslinking density is lowered, the solvent resistance, scratch resistance, adhesion to the substrate film and the like are lowered, which is not preferable.

表面保護層形成用材料には、必要に応じて、さらに硬化触媒、反応抑制剤やその他の添加剤を適宜使用することができる。硬化触媒としては、例えば、ジブチルチンラウレート、ジオクチルチンラウレート、スタナスオクトエート、オクチル酸鉛、テトラ−n−ブチルチタネートおよびビスマスなどの金属と有機または無機酸の塩および有機金属誘導体、トリエチルアミンなどの有機アミンおよびジアザビシクロウンデセン系触媒などが挙げられる。反応抑制剤としては、例えば、燐酸、酢酸、酒石酸、フタル酸およびギ酸エステルなどが挙げられる。   If necessary, a curing catalyst, a reaction inhibitor and other additives can be used as appropriate for the surface protective layer forming material. Examples of the curing catalyst include dibutyltin laurate, dioctyltin laurate, stannous octoate, lead octylate, tetra-n-butyl titanate, and salts of organic or inorganic acids and organometallic derivatives such as triethylamine. And organic amines such as diazabicycloundecene catalysts. Examples of the reaction inhibitor include phosphoric acid, acetic acid, tartaric acid, phthalic acid, and formic acid ester.

さらに滑り性付与や耐水化の目的として、例えば、シリコーンオイルおよび/または変性シリコーンオイル(例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性ポリジメチルシロキサンおよびアラルキル変性ポリジメチルシロキサンなど)、各種ワックス、長鎖アルキル変性ポリマー、フッ素変性ポリマーおよびシロキサン変性ポリマーなどの添加剤を加えることができる。   Further, for the purpose of imparting slipperiness and water resistance, for example, silicone oil and / or modified silicone oil (for example, polydimethylsiloxane, polyether-modified polydimethylsiloxane, polyester-modified polydimethylsiloxane and aralkyl-modified polydimethylsiloxane), various types Additives such as waxes, long chain alkyl modified polymers, fluorine modified polymers and siloxane modified polymers can be added.

なお、本発明の表面保護層を形成する場合には、前記の分子内に活性水素基を有する樹脂(A)とポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂(B)とポリイソシアネート(C)とを含有する表面保護層形成用塗料を使用する。また、本発明の帯電防止層を形成する場合には、前記の分子内に活性水素基を有する樹脂(A)と帯電防止剤(D)とポリイソシアネート(C)とを含有する帯電防止層形成用塗料を使用する。該塗料は、無溶剤で調製したものでもよいし、有機溶剤を用いて調製したものでもよい。有機溶剤として好ましいのは、例えば、メチルエチルケトン、メチル−n−プロピルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、シクロヘキサノン、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、酢酸メチル、酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどが挙げられる。また、アセトン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン、N−メチル−2−ピロリドン、ジオキサン、トルエン、キシレン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、パークロルエチレン、トリクロルエチレン、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブおよびセロソルブアセテートなども使用することができる。有機溶剤を用いて調製した塗料の固形分は、特に限定されないが、3〜95質量%程度が好ましい。   In addition, when forming the surface protective layer of this invention, the resin (A) which has an active hydrogen group in the said molecule | numerator, the polyurethane resin (B) containing a polysiloxane group, and polyisocyanate (C) are contained. Use a coating for forming the surface protective layer. When the antistatic layer of the present invention is formed, the antistatic layer is formed containing the resin (A) having an active hydrogen group in the molecule, the antistatic agent (D), and the polyisocyanate (C). Use paint. The paint may be prepared without a solvent or may be prepared using an organic solvent. Preferable examples of the organic solvent include methyl ethyl ketone, methyl-n-propyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, cyclohexanone, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate. Acetone, cyclohexane, tetrahydrofuran, N-methyl-2-pyrrolidone, dioxane, toluene, xylene, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, perchlorethylene, trichloroethylene, methyl cellosolve, butyl cellosolve and cellosolve acetate can also be used. Although the solid content of the coating material prepared using the organic solvent is not particularly limited, it is preferably about 3 to 95% by mass.

基材フィルムは、例えば、ポリエステル、ポリイミド、ポリエチレン、ポリプロピレンなどを成分とするフィルムが用いられる。特に好ましいのは、二軸延伸したポリエチレンテレフタレートフィルムであり、光学用保護フィルムに適合した適正かつ必要な強度を有している。基材フィルムの膜厚は、好ましくは20〜100μmであり、より好ましくは、25〜40μmである。これらの基材フィルムは、必要に応じて、コロナ処理、帯電防止処理、易接着処理、イトロ処理などを施してもよい。   As the base film, for example, a film containing polyester, polyimide, polyethylene, polypropylene or the like as a component is used. Particularly preferred is a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having an appropriate and necessary strength suitable for an optical protective film. The film thickness of the base film is preferably 20 to 100 μm, more preferably 25 to 40 μm. These base films may be subjected to corona treatment, antistatic treatment, easy adhesion treatment, itro treatment, and the like, if necessary.

本発明の光学用保護フィルムは、前記の帯電防止層形成用塗料および上記の表面保護層形成用塗料を用い、従来公知の方法で製造することができ、製造方法自体は特に限定されない。また、基材フィルム、粘着層形成材料などの表面保護層形成用材料と帯電防止層形成材料以外の材料は、いずれも公知の材料が使用でき、特に限定されない。本発明の光学用保護フィルムの表面保護層と帯電防止層の形成に際しては、本発明の表面保護層形成用塗料、帯電防止層形成用塗料を、従来公知の方法によって、基材フィルムの表面(裏面は粘着層)に、乾燥厚さが0.01〜0.5μm程度となるよう塗布して被膜を形成させる。   The optical protective film of the present invention can be manufactured by a conventionally known method using the antistatic layer-forming coating material and the surface protective layer-forming coating material, and the manufacturing method itself is not particularly limited. In addition, the materials other than the surface protective layer forming material such as the base film and the adhesive layer forming material and the antistatic layer forming material can be known materials, and are not particularly limited. In the formation of the surface protective layer and the antistatic layer of the optical protective film of the present invention, the surface protective layer-forming coating material and the antistatic layer-forming coating material of the present invention are coated on the surface of the substrate film by a conventionally known method ( The back surface is coated on the pressure-sensitive adhesive layer) so that the dry thickness is about 0.01 to 0.5 μm to form a film.

このようにして得られた表面保護層は、分子内に活性水素基を有する樹脂(A)とポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂(B)中のポリシロキサンセグメントとの表面エネルギーの相違により、分子内に活性水素基を有する樹脂(A)の活性水素基は親水性のため基材フィルム表面に配向して表面保護層の基材フィルムに対する密着性を向上させる。一方、表面エネルギーの低いポリシロキサン基を含有する成分は基材フィルムの反対側(空気側)に配向することで、汚染防止性および適度な滑り性が付与される。   The surface protective layer thus obtained has a molecular structure due to the difference in surface energy between the resin (A) having an active hydrogen group in the molecule and the polysiloxane segment in the polyurethane resin (B) containing a polysiloxane group. The active hydrogen group of the resin (A) having an active hydrogen group therein is hydrophilic and therefore is oriented on the surface of the base film to improve the adhesion of the surface protective layer to the base film. On the other hand, the component containing a polysiloxane group having a low surface energy is oriented on the opposite side (air side) of the base film, thereby imparting antifouling properties and moderate slipperiness.

表面保護層と帯電防止層を形成する前記ポリイソシアネート(C)は、表面保護層形成用材料内の成分および帯電防止形成用材料内の成分を架橋するので、薄膜化した際に、表面保護層の汚染除去に耐え得る耐溶剤性および耐スクラッチ性(表面硬度アップ)をさらに向上させることができる。帯電防止機能については、基材フィルムに帯電処理を行っているのでその機能は保たれているが、表面保護層形成用塗料を薄膜コーティングすることでアンカー層としての機能が保持され、帯電防止機能が低下することはない。   The polyisocyanate (C) that forms the surface protective layer and the antistatic layer crosslinks the components in the surface protective layer forming material and the components in the antistatic forming material. It is possible to further improve the solvent resistance and scratch resistance (up to surface hardness) that can withstand contamination removal. The antistatic function is maintained because the base film is charged, but the function as an anchor layer is maintained by coating the surface protective layer forming coating with a thin film. Will not drop.

以下に合成例、実施例および比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。また、以下の文中の「部」は質量部を、「%」は質量%を示す。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to synthesis examples, examples and comparative examples, but the present invention is not limited thereto. Further, “parts” in the following text indicate mass parts, and “%” indicates mass%.

[合成例1〜3]
攪拌機、温度計、窒素ガス導入管および還流冷却器を具備した反応器に、窒素ガスで置換した後、表1に記載したラクトン化合物、シロキサン化合物を所定の濃度まで投入し窒素気流下、100℃にて均一になるまで攪拌した。続いて所定のテトラ−n−ブチルチタネートを投入し、窒素気流下180℃の温度下で10時間反応させた。反応の進行とともに反応物の粘度が上昇してくる。その後、180℃で5mmHgの減圧下で1時間反応を続け、反応を完了させるとともに、原料のシロキサン化合物に含まれていた非反応性シロキサン化合物および未反応物を完全に除去した。得られたシロキサン変性ポリエステル系オリゴマーの組成および性状を表1に示す。
[Synthesis Examples 1 to 3]
A reactor equipped with a stirrer, a thermometer, a nitrogen gas inlet tube and a reflux condenser was substituted with nitrogen gas, and then the lactone compound and siloxane compound described in Table 1 were added to predetermined concentrations, and 100 ° C. under a nitrogen stream. The mixture was stirred until uniform. Subsequently, predetermined tetra-n-butyl titanate was added and reacted for 10 hours at a temperature of 180 ° C. under a nitrogen stream. As the reaction proceeds, the viscosity of the reactant increases. Thereafter, the reaction was continued at 180 ° C. under a reduced pressure of 5 mmHg for 1 hour to complete the reaction, and the non-reactive siloxane compound and unreacted substances contained in the starting siloxane compound were completely removed. The composition and properties of the resulting siloxane-modified polyester oligomer are shown in Table 1.

Figure 0004866027
Figure 0004866027

表1中のシロキサン化合物(a)は下記の構造を有する。

Figure 0004866027
The siloxane compound (a) in Table 1 has the following structure.
Figure 0004866027

Figure 0004866027
Figure 0004866027

Figure 0004866027
Figure 0004866027

[合成例4〜7]
攪拌機、還流冷却管、温度計、窒素吹き込み管およびマンホールを備えた反応容器を窒素ガスで置換した後、水酸基を有するポリカプロラクトン変性ポリシロキサン化合物、ポリオール化合物、鎖伸長剤化合物および溶剤を所定量加え、均一に溶解させ、溶液濃度を30%に調節した。続いてジイソシアネート化合物を所定量(活性水素基1モルに対して等モル)加えて80℃で反応を行い、赤外吸収スペクトルで2,270cm-1の遊離イソシアネート基による吸収が認められなくなるまで反応を行った。得られたシロキサン含有ポリウレタン樹脂の原料組成、性状および物性を表2に示す。
[Synthesis Examples 4 to 7]
A reaction vessel equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer, nitrogen blowing tube and manhole is replaced with nitrogen gas, and then a predetermined amount of polycaprolactone-modified polysiloxane compound having a hydroxyl group, a polyol compound, a chain extender compound and a solvent are added. The solution concentration was adjusted to 30%. Subsequently, a predetermined amount of diisocyanate compound (equal mole to 1 mole of active hydrogen groups) is added and the reaction is carried out at 80 ° C., and the reaction is continued until no absorption due to 2,270 cm −1 free isocyanate groups is observed in the infrared absorption spectrum. Went. Table 2 shows the raw material composition, properties and physical properties of the resulting siloxane-containing polyurethane resin.

Figure 0004866027
Figure 0004866027

PCD:ポリカーボネートジオール(ダイセル化学工業社製、商品名CD−220、平均分子量2,000)
1,3−BD:1,3−ブタンジオール
HDI:ヘキサメチレンジイソシアネート
MEK:メチルエチルケトン
PCD: polycarbonate diol (manufactured by Daicel Chemical Industries, trade name CD-220, average molecular weight 2,000)
1,3-BD: 1,3-butanediol HDI: hexamethylene diisocyanate MEK: methyl ethyl ketone

[実施例1〜4、比較例1〜3]
本発明および比較例の帯電防止層形成用塗料および表面保護層形成用塗料(固形分5%)を表3および表4の組成により作成した。
[Examples 1-4, Comparative Examples 1-3]
The antistatic layer-forming paint and surface protective layer-forming paint (solid content 5%) of the present invention and comparative examples were prepared according to the compositions in Tables 3 and 4.

Figure 0004866027
Figure 0004866027

Figure 0004866027
Figure 0004866027

・熟成条件;40℃、2日
・EVOH;エチレンビニルアルコール、商品名;F104(エチレン共重合比率=32mol%、メルトインデックス=4.5g/min.;190℃、2,160g、(株)クラレ製)
・PVA;部分けん化ポリビニルアルコール、商品名;PVA−217(けん化度=87〜89、重合度=1,700、(株)クラレ製)
・YP−50S;フェノキシ樹脂、商品名;フェノトートYP−50S、(重量平均分子量=40,000、東都化成工業(株)製)
・BL−S;ブチラール基・アセチル基含有ポリビニルアルコール共重合体、商品名:BL−S(水酸基=22mol%、アセチル基=3〜5mol%、ブチラール化度=70mol%以下、積水化学工業(株)製)
・PHDI;HDIのビウレット型ポリイソシアネート、商品名;デュラネート24A−100(旭化成ケミカルズ(株)製)
・D−1;カチオン型(4級アンモニウム塩)ポリアクリル酸エステル、商品名;ジュリマーSP−50TF(日本純薬(株)製)
・D−2;ポリエステル/シロキサンハイブリッド、商品名;コルコートSP−2014S(コルコート社製)
・DMF:ジメチルホルムアミド
Aging condition: 40 ° C., 2 days EVOH; ethylene vinyl alcohol, trade name; F104 (ethylene copolymerization ratio = 32 mol%, melt index = 4.5 g / min .; 190 ° C., 2,160 g, Kuraray Co., Ltd.) Made)
-PVA; Partially saponified polyvinyl alcohol, trade name: PVA-217 (degree of saponification = 87 to 89, degree of polymerization = 1,700, manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
YP-50S; phenoxy resin, trade name: phenotote YP-50S, (weight average molecular weight = 40,000, manufactured by Toto Kasei Kogyo Co., Ltd.)
BL-S; butyral group / acetyl group-containing polyvinyl alcohol copolymer, trade name: BL-S (hydroxyl group = 22 mol%, acetyl group = 3-5 mol%, butyral degree = 70 mol% or less, Sekisui Chemical Co., Ltd. ) Made)
-PHDI; HDI biuret type polyisocyanate, trade name: Duranate 24A-100 (manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation)
D-1; cationic (quaternary ammonium salt) polyacrylic ester, trade name: Jurimer SP-50TF (manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd.)
D-2; polyester / siloxane hybrid, trade name: Colcoat SP-2014S (manufactured by Colcoat)
DMF: dimethylformamide

上記各実施例および比較例で得られた各塗料を用い、グラビア印刷により、厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ製)の表面に、帯電防止層形成用塗料を乾燥後の厚みが0.3μmになるように塗布した後、乾燥機中で110℃、60秒にて水を乾燥した後、各実施例および比較例で得られた各表面保護層形成用塗料を、乾燥後の厚みが0.2μmになるように塗布した後、乾燥機中で110℃、90秒にて乾燥し溶剤を乾燥させた。実施例1〜4および比較例1、3の塗料を用いた場合は、塗布および乾燥後40℃のオーブンにて48時間熟成させて表面保護層と帯電防止層を形成させた。比較例2はPHDIを使用していないので熟成を行わずに溶剤を乾燥したもので試験した。   Using the paints obtained in the above Examples and Comparative Examples, the thickness after drying the antistatic layer-forming paint on the surface of a 38 μm thick polyethylene terephthalate film (manufactured by Toray) by gravure printing is 0.3 μm. Then, after drying the water in a dryer at 110 ° C. for 60 seconds, each of the surface protective layer-forming paints obtained in each of the Examples and Comparative Examples has a thickness after drying of 0. After coating to a thickness of 2 μm, the solvent was dried in a dryer at 110 ° C. for 90 seconds. When the paints of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 3 were used, they were aged in an oven at 40 ° C. for 48 hours after application and drying to form a surface protective layer and an antistatic layer. Since Comparative Example 2 did not use PHDI, it was tested with the solvent dried without aging.

次に、下記の配合処方で粘着剤組成物を作製した。上記の表面保護層を形成した各PETフィルムの裏面にロールコーターにより乾燥後の厚みが25μmとなるように塗布して粘着層を形成し、実施例および比較例の光学用保護フィルムを得た。   Next, an adhesive composition was prepared according to the following formulation. An adhesive layer was formed by coating the back surface of each PET film on which the surface protective layer had been formed with a roll coater so that the thickness after drying was 25 μm, and optical protective films of Examples and Comparative Examples were obtained.

〔粘着剤組成物〕
・SKセイカダイン1491H(綜研化学(株)製) 100部
・硬化剤L−45(綜研化学(株)製) 0.9部
[Adhesive composition]
・ SK Seikadyne 1491H (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 100 parts ・ Curing agent L-45 (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 0.9 parts

[試験例]
上記で得られた実施例および比較例の表面保護層の塗膜および光学用保護フィルムの性能を以下の項目について試験し、表5の結果を得た。
<表面抵抗値>
三菱化学(株)製のMCP−HT450を使用して光学用保護フィルムの帯電防止性の測定を行う。測定条件は、温度23℃、湿度65%RH、印加電圧100V、30秒で行った。帯電防止効果を発揮するには、1×1010Ω/cm2以下が望ましい。
[Test example]
The performances of the coating films of the surface protective layers and the protective films for optics of the Examples and Comparative Examples obtained above were tested for the following items, and the results shown in Table 5 were obtained.
<Surface resistance value>
The antistatic property of the optical protective film is measured using MCP-HT450 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. The measurement conditions were a temperature of 23 ° C., a humidity of 65% RH, an applied voltage of 100 V, and 30 seconds. In order to exhibit the antistatic effect, 1 × 10 10 Ω / cm 2 or less is desirable.

<透明性>
スガ試験機(株)製直読ヘーズコンピューターHGM−2DPを使用し、光学用保護フィルムのヘイズ値を測定した。
ヘイズ値=測定値−基材のヘイズ値
○:ヘイズ値が1.0未満
△:ヘイズ値が1.0以上5.0未満
×:ヘイズ値が5.0以上
<Transparency>
Using a direct reading haze computer HGM-2DP manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., the haze value of the protective film for optics was measured.
Haze value = Measured value−Haze value of substrate ○: Haze value is less than 1.0 Δ: Haze value is 1.0 or more and less than 5.0 ×: Haze value is 5.0 or more

<耐溶剤性>
光学用保護フィルム表面に1gの溶剤を垂らし、荷重50g/cm2でラビングした際の表面保護層の塗膜の外観を観察した。評価は、メチルエチルケトン(MEK)、トルエン、イソプロピルアルコール(IPA)、酢酸エチル(EA)の4種類の溶剤について行った。
○:表面保護層の塗膜外観の変化がない
△:表面保護層の塗膜外観がやや変化している
×:表面保護層の塗膜外観が変化している
<Solvent resistance>
1 g of a solvent was hung on the surface of the optical protective film, and the appearance of the coating film on the surface protective layer when rubbed with a load of 50 g / cm 2 was observed. The evaluation was performed on four types of solvents, methyl ethyl ketone (MEK), toluene, isopropyl alcohol (IPA), and ethyl acetate (EA).
○: There is no change in the coating film appearance of the surface protection layer △: The coating film appearance of the surface protection layer is slightly changed ×: The coating film appearance of the surface protection layer is changed

<汚染易洗浄性>
1gの粘着剤組成物(SKセイカダイン1491H(綜研化学(株)製)/硬化剤L−45(綜研化学(株)製)=100/0.9)を表面保護層の塗膜に擦り付け、キムワイプ(乾拭きまたは酢酸エチルを用いて)にて拭取り時の易洗浄性を確認した。
○:粘着剤付着物が容易に洗浄できる(乾拭き)
△:粘着剤付着物が洗浄できる(酢酸エチル使用)
×:粘着剤付着物が洗浄できない
<Easy to clean>
1 g of the pressure-sensitive adhesive composition (SK Seikadyne 1491H (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) / Curing agent L-45 (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) = 100 / 0.9) was rubbed against the coating film of the surface protective layer, and Kimwipe The ease of cleaning at the time of wiping was confirmed with dry wiping or using ethyl acetate.
○: Adhesive deposits can be easily washed (dry wipe)
Δ: Adhesive deposits can be washed (using ethyl acetate)
×: Adhesive deposits cannot be washed

<耐傷付き性>
光学用保護フィルムの表面保護層の塗膜を約10g/cm2の荷重にてスコッチブライト(住友スリーエム(株)製)で擦り、表面の傷付きを目視にて確認した。
○:確認できる傷が0本以上5本未満
△:確認できる傷が5本以上10本未満
×:確認できる傷が10本以上
<Scratch resistance>
The coating film of the surface protective layer of the optical protective film was rubbed with Scotch Bright (manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.) under a load of about 10 g / cm 2 , and the surface was visually checked for scratches.
○: 0 or more and less than 5 scratches that can be confirmed Δ: 5 or more and less than 10 scratches that can be confirmed ×: 10 or more scratches that can be confirmed

<密着性>
光学用保護フィルムの表面保護層の塗膜と基材PETフィルムとの接着性を碁盤目試験(セロハンテープ剥離クロスカット法)にて行った。
◎:剥離していない升目が95%以上
○:剥離していない升目が95%未満70%以上
△:剥離していない升目が70%未満40%以上
×:剥離していない升目が40%未満
<Adhesion>
The adhesion between the coating film of the surface protective layer of the protective film for optics and the substrate PET film was measured by a cross cut test (cellophane tape peeling cross-cut method).
◎: Unpeeled squares are 95% or more ○: Unpeeled squares are less than 95% 70% or more Δ: Unpeeled squares are less than 70% 40% or more X: Unpeeled squares are less than 40%

<滑り性>
新東科学(株)製のHEIDON−14DRを使用して光学用保護フィルムの動摩擦係数の測定を行う。測定条件は、温度:23℃、湿度:65%RH、測定数5回の平均値で行った。動摩擦係数は、0.18〜0.28の範囲が望ましい。
<Slipperiness>
The dynamic friction coefficient of the optical protective film is measured using HEIDON-14DR manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd. The measurement conditions were temperature: 23 ° C., humidity: 65% RH, and an average value of 5 measurements. The dynamic friction coefficient is preferably in the range of 0.18 to 0.28.

<印刷適性>
寺西化学工業(株)製マジックインキNo.500を使用して表面保護層の塗膜面に記載し、インキの筆記状況を観察した。
○:マジックインキの筆記状況が良好である
△:ややインキのハジキがあるが問題ないレベルである
×:インキがはじき筆記できない
<Printability>
Magic Ink No. manufactured by Teranishi Chemical Industry Co., Ltd. 500 was written on the coating surface of the surface protective layer, and the ink writing situation was observed.
○: The writing status of magic ink is good. △: There is a slight ink repellency, but there is no problem. ×: The ink cannot repel

Figure 0004866027
Figure 0004866027

Figure 0004866027
Figure 0004866027

本発明によれば、帯電防止性、傷付き防止(スクラッチ性)および汚染物易洗浄性(有機溶剤で洗浄するため耐溶剤性が必要となる)の他、印刷適性(工程管理する際に使用するプリンターインキの適性)、フィルム基材との密着性、透明性および適度な滑り性などに優れた光学用保護フィルムが得られる。さらに、表面保護機能と帯電防止機能が備わった2コートシステムが可能な光学用保護フィルムが提供される。
According to the present invention, in addition to antistatic properties, scratch prevention (scratch properties), and easy cleaning of contaminants (solvent resistance is required because they are washed with an organic solvent), printing suitability (used for process control) An optical protective film excellent in the suitability of the printer ink), adhesion to the film substrate, transparency, and moderate slipperiness. Furthermore, an optical protective film capable of a two-coat system having a surface protection function and an antistatic function is provided.

Claims (8)

基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に設けた粘着層と、該基材フィルムの他の面に帯電防止層を介して設けた表面保護層とからなる光学用保護フィルムにおいて、上記表面保護層が、分子内に活性水素基を有する樹脂(A)とポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂(B)とポリイソシアネート(C)とを被膜形成成分として形成されており、かつ上記帯電防止層が、分子内に活性水素基を有する樹脂(A)とポリイソシアネート(C)と帯電防止剤(D)とを被膜形成成分として形成されていることを特徴とする光学用保護フィルム。   In the optical protective film comprising a base film, an adhesive layer provided on one side of the base film, and a surface protective layer provided on the other side of the base film via an antistatic layer, The surface protective layer is formed using a resin (A) having an active hydrogen group in the molecule, a polyurethane resin (B) containing a polysiloxane group, and a polyisocyanate (C) as a film-forming component, and the above antistatic An optical protective film, wherein the layer is formed using a resin (A) having an active hydrogen group in the molecule, a polyisocyanate (C), and an antistatic agent (D) as a film-forming component. 分子内に活性水素基を有する樹脂(A)が、ポリビニルアルコール、部分けん化ポリビニルアルコール、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール、アセタール基変性ポリビニルアルコール、ブチラール基変性ポリビニルアルコール、シラノール基変性ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、エチレン−ビニルアルコール−酢酸ビニル共重合樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、変性エポキシ系樹脂、フェノキシ樹脂、変性フェノキシ系樹脂、フェノキシエーテル樹脂、フェノキシエステル樹脂、フッ素系樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、ポリエーテル、ポリエステル、セルロース類、キトサンおよびウレタン樹脂から選ばれた少なくとも1種である請求項1に記載の光学用保護フィルム。   Resin (A) having an active hydrogen group in the molecule is polyvinyl alcohol, partially saponified polyvinyl alcohol, acetoacetyl group-modified polyvinyl alcohol, acetal group-modified polyvinyl alcohol, butyral group-modified polyvinyl alcohol, silanol group-modified polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl Alcohol copolymer, ethylene-vinyl alcohol-vinyl acetate copolymer resin, acrylic resin, epoxy resin, modified epoxy resin, phenoxy resin, modified phenoxy resin, phenoxy ether resin, phenoxy ester resin, fluorine resin, melamine resin The optical protective film according to claim 1, which is at least one selected from alkyd resins, phenol resins, polyethers, polyesters, celluloses, chitosan, and urethane resins. ポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂(B)が、分子内に少なくとも1個の活性水素基を有するポリシロキサン化合物および/または該ポリシロキサン化合物とラクトンとを共重合した化合物と、ポリイソシアネートと、ポリオールまたはポリアミンとを反応させて得られるポリウレタン樹脂であって、その重量平均分子量が5,000〜500,000である請求項1に記載の光学用保護フィルム。   The polyurethane resin (B) containing a polysiloxane group is a polysiloxane compound having at least one active hydrogen group in the molecule and / or a compound obtained by copolymerizing the polysiloxane compound and a lactone, a polyisocyanate, and a polyol. The protective film for optical use according to claim 1, which is a polyurethane resin obtained by reacting with a polyamine and having a weight average molecular weight of 5,000 to 500,000. 帯電防止剤が、導電性フィラーである請求項1に記載の光学用保護フィルム。   The optical protective film according to claim 1, wherein the antistatic agent is a conductive filler. 表面抵抗値が、1010Ω/cm2以下である請求項1に記載の光学用保護フィルム。 The optical protective film according to claim 1, wherein the surface resistance value is 10 10 Ω / cm 2 or less. 請求項1〜5のいずれか1項に記載の光学用保護フィルムにおける、分子内に活性水素基を有する樹脂(A)とポリイソシアネート(C)と帯電防止剤(D)とを被膜形成成分として形成されている帯電防止層を介して設ける表面保護層を形成するための塗料であって、分子内に活性水素基を有する樹脂(A)と、ポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂(B)とを有機溶剤に溶解してなり、更に使用前にポリイソシアネート(C)が添加されるか、或いは安定化ポリイソシアネート(C)が含有されており(但し、帯電防止剤を含む場合を除く)、上記樹脂(A)と上記樹脂(B)とポリイソシアネート(C)とを被膜形成成分としていることを特徴とする表面保護層形成用塗料。 In the optical protective film according to any one of claims 1 to 5, a resin (A) having an active hydrogen group in the molecule, a polyisocyanate (C), and an antistatic agent (D) are used as a film forming component. A paint for forming a surface protective layer provided via a formed antistatic layer, comprising a resin (A) having an active hydrogen group in the molecule, and a polyurethane resin (B) containing a polysiloxane group Is dissolved in an organic solvent, and polyisocyanate (C) is added before use, or stabilized polyisocyanate (C) is contained (except when an antistatic agent is included) . A paint for forming a surface protective layer, wherein the resin (A), the resin (B), and the polyisocyanate (C) are used as film-forming components. 前記樹脂(A)が、エチレン−ビニルアルコール共重合体、部分けん化ポリビニルアルコールまたはフェノキシ樹脂であり、前記樹脂(B)が、分子内にアミノ基または水酸基を含有しているポリシロキサン化合物とラクトンとの共重合体と、ポリイソシアネートと、ポリオールとの反応生成物である請求項6に記載の表面保護層形成用塗料。   The resin (A) is an ethylene-vinyl alcohol copolymer, a partially saponified polyvinyl alcohol or a phenoxy resin, and the resin (B) contains a polysiloxane compound containing an amino group or a hydroxyl group in the molecule, and a lactone. The coating material for forming a surface protective layer according to claim 6, which is a reaction product of a copolymer of the above, a polyisocyanate, and a polyol. 樹脂(A)が、樹脂(A)と樹脂(B)との合計量(100質量%)のうちの20〜80質量%であり、樹脂(B)が80〜20質量%である請求項6に記載の表面保護層形成用塗料。   The resin (A) is 20 to 80% by mass of the total amount (100% by mass) of the resin (A) and the resin (B), and the resin (B) is 80 to 20% by mass. The coating material for forming a surface protective layer according to 1.
JP2005194968A 2005-07-04 2005-07-04 Protective film for optics Active JP4866027B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005194968A JP4866027B2 (en) 2005-07-04 2005-07-04 Protective film for optics

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005194968A JP4866027B2 (en) 2005-07-04 2005-07-04 Protective film for optics

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007009135A JP2007009135A (en) 2007-01-18
JP4866027B2 true JP4866027B2 (en) 2012-02-01

Family

ID=37748039

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005194968A Active JP4866027B2 (en) 2005-07-04 2005-07-04 Protective film for optics

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4866027B2 (en)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4818134B2 (en) 2007-01-18 2011-11-16 矢崎総業株式会社 Terminal crimping device
US20100028684A1 (en) * 2008-07-31 2010-02-04 Jose Mariscal Conductive multilayer stack
JP2010248466A (en) * 2009-03-25 2010-11-04 Toyo Ink Mfg Co Ltd Printing ink composition for laminate
JP5563386B2 (en) * 2010-06-23 2014-07-30 富士フイルム株式会社 Polarizing plate and display device with touch panel function
JP5883582B2 (en) 2011-06-17 2016-03-15 日東電工株式会社 Adhesive sheet
JP5883583B2 (en) 2011-06-17 2016-03-15 日東電工株式会社 Adhesive sheet
JP5883584B2 (en) 2011-06-17 2016-03-15 日東電工株式会社 Adhesive sheet
US9309589B2 (en) 2011-06-21 2016-04-12 Ppg Industries Ohio, Inc. Outboard durable transparent conductive coating on aircraft canopy
CN103589318A (en) * 2013-10-24 2014-02-19 惠州市长润发涂料有限公司 Polyurethane paint with ultrastrong adhesive force
TWI535563B (en) * 2015-03-31 2016-06-01 長興材料工業股份有限公司 Laminated structure
KR102175717B1 (en) 2017-12-14 2020-11-06 주식회사 엘지화학 Dicing die-bonding film
CN108641607A (en) * 2018-05-07 2018-10-12 安吉祥力胶粘剂有限公司 A kind of macromolecule composite adhesive and preparation method thereof
US20210222028A1 (en) * 2018-05-31 2021-07-22 Toyobo Co., Ltd. Laminated polypropylene film
CA3117812A1 (en) * 2018-11-16 2020-05-22 Henkel IP & Holding GmbH Dual curable silicone-organic hybrid polymer compositions for liquid optically clear adhesive applications
JP6735892B2 (en) * 2018-12-13 2020-08-05 住友化学株式会社 Package
CN112356548B (en) * 2020-11-11 2023-06-02 享贺实业发展(上海)有限公司 High-temperature-resistant electrostatic protection film and preparation process thereof
CN115558405B (en) * 2022-09-29 2023-09-26 湖南松井新材料股份有限公司 Water-based finish paint and preparation method and application thereof

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0699672B2 (en) * 1988-10-21 1994-12-07 大日精化工業株式会社 Peeling treatment agent
JPH07165925A (en) * 1993-12-14 1995-06-27 Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd One-pack curable polysiloxane resin compound
JPH10330650A (en) * 1996-09-06 1998-12-15 Dainippon Printing Co Ltd Antistatic coating material and destaticization using the same
JPH11256115A (en) * 1998-03-13 1999-09-21 Teijin Ltd Surface-protective film
JP4071918B2 (en) * 2000-05-18 2008-04-02 大日精化工業株式会社 UV curable paint
JP4684082B2 (en) * 2004-11-24 2011-05-18 大日精化工業株式会社 Protective film for optics
JP4578950B2 (en) * 2004-11-24 2010-11-10 大日精化工業株式会社 Protective film for optics

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007009135A (en) 2007-01-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4866027B2 (en) Protective film for optics
JP4672600B2 (en) Antistatic film and coating material for forming antistatic layer
JP4578950B2 (en) Protective film for optics
JP4684082B2 (en) Protective film for optics
USRE46761E1 (en) Flexible polyurethane material
JP3889437B2 (en) Reactive two-part polyurethane composition and optionally self-healing scratch-resistant coating formed therefrom
JP4611868B2 (en) Protective film for optics
JP5345277B2 (en) Antistatic film and coating material for forming antistatic layer
JP4611858B2 (en) Protective film for optics
JP4642572B2 (en) Protective film for optics
JP4634271B2 (en) Protective film for optics
JP5249657B2 (en) Thermosensitive recording material, polyurethane and method for producing the same
JP4634272B2 (en) Protective film for optics
JP4705836B2 (en) Protective film for optics
JP4851292B2 (en) Surface protection film
JP5102657B2 (en) Thermosensitive recording material and water-based paint for back layer formation
JP4623580B2 (en) Optical protective film and surface protective layer forming coating
JP5478223B2 (en) Thermal recording material
JP2022094807A (en) Laminate film, method for manufacturing laminate film, method for manufacturing article with film, and resin composition
JP7022233B1 (en) Resin composition for back layer and thermal transfer recording material
TWI804063B (en) Adhesive film for surface protection and optical member comprising the same
KR102258167B1 (en) Adhesive composition and protective sheet prepared from the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070710

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100729

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100817

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100917

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132

Effective date: 20110816

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111013

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20111108

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20111111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141118

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4866027

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250