JP2014029502A - Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and electrophotographic device - Google Patents

Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and electrophotographic device Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrophotographic photoreceptor in which generation of positive memory is suppressed, and potential variation during long-term repeated use is suppressed, and to provide an electrophotographic device and a process cartridge, having the electrophotographic photoreceptor.SOLUTION: An electron transport layer is a hardened film containing a carbon atom, a nitrogen atom, and an oxygen atom; and when a ratio of the carbon atoms, a ratio of the nitrogen atoms, and a ratio of the oxygen atoms are analyzed by using an X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA) at 10 points, standard deviations σ(C), σ(N), and σ(O) of the ratio of the carbon atoms, the ratio of the nitrogen atoms, and the ratio of the oxygen atoms, respectively satisfy following formulas (1) to (3). σ(C)≤1.5 (1), σ(N)≤1.5 (2), and σ(O)≤1.5 (3)

Description

本発明は、電子写真感光体、電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置に関する。   The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member, a process cartridge having an electrophotographic photosensitive member, and an electrophotographic apparatus.

現在、プロセスカートリッジや電子写真装置に用いられる電子写真感光体としては、有機光導電性物質を含有する電子写真感光体が広く市場で用いられるようになっている。電子写真感光体は、一般的に、支持体および支持体上に形成された感光層を有する。そして、支持体側から感光層(電荷発生層)側への電荷注入を抑制し、カブリなどの画像欠陥の発生を抑えることを目的として、支持体と感光層との間には下引き層が設けられている。   At present, as an electrophotographic photosensitive member used in a process cartridge or an electrophotographic apparatus, an electrophotographic photosensitive member containing an organic photoconductive substance is widely used in the market. An electrophotographic photoreceptor generally has a support and a photosensitive layer formed on the support. An undercoat layer is provided between the support and the photosensitive layer for the purpose of suppressing charge injection from the support side to the photosensitive layer (charge generation layer) side and suppressing the occurrence of image defects such as fog. It has been.

一方で、下引き層を設けることによって、下引き層の抵抗変動により、繰り返し使用時の電位変動が発生しやすい。そこで、電位変動を抑制する技術として、下引き層に電子輸送物質を含有させて、下引き層を電子輸送能を有する層(以下、電子輸送層とも称する)とする技術が開示されている。同時に、下引き層上に形成する感光層の形成時に電子輸送物質が溶出してしまわないようにするため、下引き層に電子輸送物質を含有させる場合は、下引き層が感光層用塗布液の溶剤に対して難溶である硬化性材料を用いる技術が提案されている。   On the other hand, by providing the undercoat layer, a potential change during repeated use is likely to occur due to a resistance change in the undercoat layer. Thus, as a technique for suppressing potential fluctuation, a technique is disclosed in which an electron transport substance is contained in the undercoat layer, and the undercoat layer is a layer having an electron transport ability (hereinafter also referred to as an electron transport layer). At the same time, in order to prevent the electron transport material from eluting during formation of the photosensitive layer formed on the undercoat layer, when the undercoat layer contains an electron transport material, the undercoat layer is a photosensitive layer coating solution. A technique using a curable material that is hardly soluble in these solvents has been proposed.

特許文献1には、芳香族テトラカルボニルビスイミド骨格と架橋部位を持つ縮合ポリマー(電子輸送物質)と、架橋剤との重合物を含有する電子輸送層が開示されている。特許文献2には、下引き層に非加水分解性重合性官能基を有する電子輸送性物質の重合物を含有させることが開示されている。   Patent Document 1 discloses an electron transport layer containing a polymer of a condensation polymer (electron transport material) having an aromatic tetracarbonylbisimide skeleton and a crosslinking site and a crosslinking agent. Patent Document 2 discloses that the undercoat layer contains a polymer of an electron transporting substance having a non-hydrolyzable polymerizable functional group.

特表2009−505156号公報Special table 2009-505156 特開2003−330209号公報JP 2003-330209 A

しかしながら、本発明者らの検討の結果、下引き層を電子輸送層とすることによって、電子写真感光体にプラス電荷を印加した場合、プラス電荷が電子輸送層中に残留することによって発生するプラスメモリー画像が発生する場合があることが分かった。プラスメモリー画像とは、電子写真装置では転写や、クリーニング手段による電子写真感光体の摺擦時に電子写真感光体にプラス電荷が印加され、印加をしていない部分との電位差が生じることで、画像の濃度が濃くなるという現象が発生する画像である。   However, as a result of the study by the present inventors, when a positive charge is applied to the electrophotographic photosensitive member by using the undercoat layer as an electron transport layer, a positive charge is generated due to the positive charge remaining in the electron transport layer. It was found that memory images may occur. A positive memory image means that a positive charge is applied to the electrophotographic photosensitive member during transfer or rubbing of the electrophotographic photosensitive member by a cleaning means in an electrophotographic apparatus, and a potential difference from an unapplied portion is generated. This is an image in which the phenomenon that the density of the image becomes deeper occurs.

特許文献1および2に開示された技術は、電子輸送層に硬化性材料を用いているため、電子輸送層中の電荷輸送構造の均一性が低下して、プラスメモリー画像が発生しやすい場合があり、改良の余地があるものであった。   In the techniques disclosed in Patent Documents 1 and 2, since a curable material is used for the electron transport layer, the uniformity of the charge transport structure in the electron transport layer is lowered, and a plus memory image is likely to be generated. There was room for improvement.

本発明の目的は、プラスメモリーの発生が抑制され、長期間の繰り返し使用時の電位変動が抑制された電子写真感光体、ならびに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member in which the occurrence of plus memory is suppressed and the potential fluctuation during repeated long-term use is suppressed, and a process cartridge and an electrophotographic apparatus having the electrophotographic photosensitive member. There is.

本発明は、支持体、該支持体上に形成された電子輸送層、該電子輸送層上に形成された感光層を有する電子写真感光体であって、
該電子輸送層は、炭素原子、窒素原子および酸素原子を含有する硬化膜であり、
該電子輸送層が下記式(1)〜(3)を満たすことを特徴とする電子写真感光体に関する。
σ(C)≦1.5 (1)
σ(N)≦1.5 (2)
σ(O)≦1.5 (3)
(式(1)〜(3)中、
σ(C)は、10点における該電子輸送層の水素原子を除く全原子に対する該炭素原子の比率(atoms %)をX線光電子分光法(ESCA)によって分析したときの、得られた10点の値の標準偏差を示す。
σ(N)は、10点における該電子輸送層の水素原子を除く全原子に対する該窒素原子の比率(atoms %)をX線光電子分光法(ESCA)によって分析したときの、得られた10点の値の標準偏差を示す。
σ(O)は、10点における該電子輸送層の水素原子を除く全原子に対する該酸素原子の比率(atoms %)をX線光電子分光法(ESCA)によって分析したときの、得られた10点の値の標準偏差を示す。
該10点は、該電子輸送層の上端の点と下端の点、および電子輸送層の膜厚を深さ方向に9等分する8個の点からなる。)
The present invention is an electrophotographic photosensitive member having a support, an electron transport layer formed on the support, and a photosensitive layer formed on the electron transport layer,
The electron transport layer is a cured film containing carbon atoms, nitrogen atoms and oxygen atoms,
The electrophotographic photosensitive member is characterized in that the electron transport layer satisfies the following formulas (1) to (3).
σ (C) ≦ 1.5 (1)
σ (N) ≦ 1.5 (2)
σ (O) ≦ 1.5 (3)
(In the formulas (1) to (3),
σ (C) is 10 points obtained when the ratio (atoms%) of the carbon atoms to all atoms excluding hydrogen atoms in the electron transport layer at 10 points was analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA). Indicates the standard deviation of the values.
σ (N) is 10 points obtained when the ratio (atoms%) of the nitrogen atoms to all atoms excluding hydrogen atoms in the electron transport layer at 10 points was analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA). Indicates the standard deviation of the values.
σ (O) is 10 points obtained when the ratio (atoms%) of the oxygen atoms to all atoms excluding hydrogen atoms in the electron transport layer at 10 points is analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA). Indicates the standard deviation of the values.
The ten points consist of the upper and lower points of the electron transport layer and eight points that divide the thickness of the electron transport layer into nine equal parts in the depth direction. )

また、本発明は、上記電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも1つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジに関する。   Further, the present invention integrally supports the electrophotographic photosensitive member and at least one means selected from the group consisting of a charging means, a developing means, a transfer means, and a cleaning means, and is detachable from the main body of the electrophotographic apparatus. The present invention relates to a process cartridge.

また、本発明は、上記電子写真感光体、ならびに、帯電手段、露光手段、現像手段および転写手段を有する電子写真装置に関する。   The present invention also relates to the electrophotographic photosensitive member, and an electrophotographic apparatus having a charging unit, an exposure unit, a developing unit, and a transfer unit.

本発明によれば、プラスメモリーの発生が抑制され、長期間の繰り返し使用時の電位変動が抑制された電子写真感光体、ならびに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することができる。   According to the present invention, there are provided an electrophotographic photosensitive member in which the occurrence of plus memory is suppressed and the potential fluctuation at the time of repeated use for a long period is suppressed, and a process cartridge and an electrophotographic apparatus having the electrophotographic photosensitive member. be able to.

電子写真感光体の層構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the layer structure of an electrophotographic photoreceptor. 電子輸送層の炭素原子の比率、窒素原子の比率、酸素原子の比率をX線光電子分光法(ESCA)によって10点測定するときの該10点の位置関係を示す図である。It is a figure which shows the positional relationship of these 10 points | pieces when measuring the ratio of the carbon atom of the electron carrying layer, the ratio of a nitrogen atom, and the ratio of an oxygen atom by X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA). 電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジを有する電子写真装置の概略構成を示す図である。1 is a diagram illustrating a schematic configuration of an electrophotographic apparatus having a process cartridge including an electrophotographic photosensitive member. 1ドット桂馬パターン画像を説明する図である。It is a figure explaining a 1 dot Keima pattern image.

まず、電子写真感光体が、本発明の上記式(1)を満たすか否かを評価する測定方法(以下「本発明の評価法」と称する)、および本発明の評価法に用いる電子写真感光体(以下「判定用電子写真感光体」とも称する)について説明する。   First, a measurement method for evaluating whether or not the electrophotographic photosensitive member satisfies the above formula (1) of the present invention (hereinafter referred to as “the evaluation method of the present invention”), and the electrophotographic photosensitive member used in the evaluation method of the present invention. The body (hereinafter also referred to as “determination electrophotographic photoreceptor”) will be described.

本発明は、10点における電子輸送層の炭素元素(炭素原子)の比率、酸素元素(酸素原子)の比率および窒素元素(窒素原子)の比率をそれぞれX線光電子分光法(ESCA)によって分析する。その時の、該10点における炭素原子の比率(atoms %)、窒素原子の比率(atoms %)、および酸素原子の比率(atoms %)のそれぞれの標準偏差σ(C)、σ(N)、およびσ(O)を算出したものである。該10点は、該電子輸送層の上端の点と下端の点、および電子輸送層の膜厚を深さ方向に9等分する8個の点からなる。   In the present invention, the ratio of carbon element (carbon atom), oxygen element (oxygen atom) and nitrogen element (nitrogen atom) in the electron transport layer at 10 points are analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA), respectively. . At that time, the standard deviations σ (C), σ (N) of the carbon atom ratio (atoms%), the nitrogen atom ratio (atoms%), and the oxygen atom ratio (atoms%) at the 10 points, respectively, σ (O) is calculated. The ten points consist of the upper and lower points of the electron transport layer and eight points that divide the thickness of the electron transport layer into nine equal parts in the depth direction.

電子輸送層の膜厚を感光層側から深さ方法に9等分するために、以下の方法が挙げられる。感光層を剥離し、ESCAを用いて深さ方向に電子輸送層の各原子の比率の分析をする方法、感光層を積層したままで、ESCAを用いて深さ方向に電子輸送層の各原子の比率の分析をする方法が挙げられる。感光層を剥離してから分析する方が、ESCAを用いて深さ方向にエッチングする時間が大幅に短縮できるので、簡易的である。感光層上からESCAを用いて深さ方向にエッチングして各原子の比率の分析をしていく場合は、感光層が含有する特有の原子(例えば、電荷発生物質が有する金属原子)が測定されなくなった時点で、電子輸送層の表面と判断する。支持体または後述の導電層と、電子輸送層との界面は以下のように判断する。すなわち、支持体または導電層が含有する特有の原子(例えば、支持体がアルミニウム製であればAl、導電層であれば導電性粒子が有する金属原子)が測定される直前の測定ポイントまでを電子輸送層と判断する。   In order to divide the film thickness of the electron transport layer into 9 depths from the photosensitive layer side, the following method can be mentioned. A method of peeling the photosensitive layer and analyzing the ratio of each atom of the electron transport layer in the depth direction using ESCA, and each atom of the electron transport layer in the depth direction using ESCA while the photosensitive layer is laminated. There is a method of analyzing the ratio. The analysis after peeling off the photosensitive layer is simple because the time for etching in the depth direction using ESCA can be greatly shortened. When analyzing the ratio of each atom by etching in the depth direction using ESCA from above the photosensitive layer, the specific atoms contained in the photosensitive layer (for example, metal atoms contained in the charge generation material) are measured. When it disappears, it is determined as the surface of the electron transport layer. The interface between the support or the conductive layer described later and the electron transport layer is determined as follows. That is, the electrons up to the measurement point immediately before the measurement of the specific atoms contained in the support or the conductive layer (for example, Al if the support is made of aluminum, or the metal atom of the conductive particles if the support is made of a conductive layer). Judge as the transport layer.

感光層は、単層型感光層でも、電荷発生物質を含有する電荷発生層と正孔輸送物質を含有する正孔輸送層とに分離した積層型(機能分離型)感光層でもよい。   The photosensitive layer may be a single-layer type photosensitive layer or a stacked type (functional separation type) photosensitive layer separated into a charge generation layer containing a charge generation material and a hole transport layer containing a hole transport material.

感光層を剥離する方法としては、感光層を溶解し、かつ電子輸送層に難溶な溶剤に電子写真感光体を浸漬して感光層を剥離する方法、感光層を研磨する方法などが挙げられる。また、電荷発生層と正孔輸送層を有する積層型感光層の場合は、電荷発生層と正孔輸送層のそれぞれに最適な溶剤で剥離することが好ましく、電荷発生用塗布液、正孔輸送層用塗布液に用いられる溶剤を用いることが好ましい。その溶剤の種類は後述する。この溶剤中に電子写真感光体を浸漬させて感光層を溶解させ、その後乾燥させることにより判定用電子写真感光体を得ることができる。感光層が剥離できていることは、例えば、FTIR測定方法の中のATR法(全反射法)によって感光層の樹脂成分が観測されないことにより確認できる。   Examples of the method for peeling the photosensitive layer include a method for dissolving the photosensitive layer and immersing the electrophotographic photosensitive member in a solvent that is hardly soluble in the electron transport layer to peel the photosensitive layer, and a method for polishing the photosensitive layer. . In addition, in the case of a laminated photosensitive layer having a charge generation layer and a hole transport layer, it is preferable to peel off with an optimum solvent for each of the charge generation layer and the hole transport layer. It is preferable to use a solvent used in the layer coating solution. The kind of the solvent is mentioned later. The electrophotographic photosensitive member for determination can be obtained by immersing the electrophotographic photosensitive member in this solvent to dissolve the photosensitive layer and then drying it. The fact that the photosensitive layer has been peeled can be confirmed by, for example, the fact that the resin component of the photosensitive layer is not observed by the ATR method (total reflection method) in the FTIR measurement method.

また、感光層を研磨する方法としては、例えば、キヤノン(株)製ドラム・テープ研磨装置にてラッピングテープ(C2000:富士写真フィルム(株)製)を用いておこなう。その際、感光層を研磨しすぎて電子輸送層まで研磨しないように膜厚を順次測定し、電子写真感光体の表面を観察しながら感光層がすべてなくなるところで測定するのが好ましい。   As a method for polishing the photosensitive layer, for example, a drum tape polishing apparatus manufactured by Canon Inc. is used with a wrapping tape (C2000: manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.). At that time, it is preferable that the film thickness is sequentially measured so that the photosensitive layer is excessively polished and does not polish to the electron transport layer, and is measured at the place where the photosensitive layer is completely removed while observing the surface of the electrophotographic photosensitive member.

次に、X線光電子分光法(ESCA)を用いて深さ方向に各原子の比率の分析をする方法について説明する。以下に、使用する装置、条件の一例を示す。
使用装置:PHI社(Physical Electronics Industries, INC.)製
Quantum 2000 Scanning ESCA Microprobe
最表面及びエッチング後内部測定条件:
X線源 Al Ka1486.6eV(25W15kV)、測定エリア100μm
分光領域1500×300μm、Angle45°、
Pass Energy117.40eV
エッチング条件:
Ion gun C60(10kV 2mm×2mm)、Angle70°。
Next, a method for analyzing the ratio of each atom in the depth direction using X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA) will be described. Below, an example of the apparatus and conditions to be used is shown.
Device used: Quantum 2000 Scanning ESCA Microprobe manufactured by PHI (Physical Electronics Industries, Inc.)
Top surface and internal measurement conditions after etching:
X-ray source Al Ka1486.6eV (25W15kV), measurement area 100μm
Spectral region 1500 × 300 μm, Angle 45 °,
Pass Energy 117.40eV
Etching conditions:
Ion gun C60 (10 kV 2 mm × 2 mm), Angle 70 °.

なお、エッチングする時間としては、電子輸送層の0.5μmの深さを得るのに要した時間は、30min(0.5μm/30min)であった。なお、電子輸送層のエッチング後、断面FIB−SEM(日立ハイテク社製 FB−2000C)断面観察により深さを同定した。本発明は、電子輸送層の上端の点と下端の点、および電子輸送層の膜厚を深さ方向に9等分する8個の点からなる合計10点における各原子の比率を分析する。図2に示すように、矢印が示す黒点の合計10点について、各原子の比率を分析する。エッチングする時間は、測定する電子輸送層の膜厚を事前にFIB−SEM断面観察により、電子輸送層の膜厚を測定し、それに応じたエッチング時間を決める方法がある。また、エッチング時間を30秒毎に、各原子の比率の分析を行い、支持体または導電層が含有する特有の原子が測定される直前の測定ポイント迄を電子輸送層と判断して、得られたすべての測定点を9等分し、10点を選出してもよい。このエッチング時間を30秒毎に行えば、約0.1μm以上の膜厚を有する電子輸送層において、深さ方向に均等に10点の各原子の比率の分析をすることができる。   The etching time was 30 min (0.5 μm / 30 min) to obtain a depth of 0.5 μm of the electron transport layer. In addition, the depth was identified by cross-sectional FIB-SEM (Hitachi High-Tech FB-2000C) cross-sectional observation after the etching of the electron carrying layer. The present invention analyzes the ratio of each atom at a total of 10 points consisting of 8 points that divide the thickness of the electron transport layer into 9 parts in the depth direction, and the upper and lower points of the electron transport layer. As shown in FIG. 2, the ratio of each atom is analyzed for a total of 10 black spots indicated by arrows. As for the etching time, there is a method in which the film thickness of the electron transport layer to be measured is measured in advance by observing the FIB-SEM cross section, and the film thickness of the electron transport layer is measured and the etching time is determined accordingly. In addition, it is obtained by analyzing the ratio of each atom every 30 seconds and determining the electron transport layer up to the measurement point immediately before the specific atom contained in the support or conductive layer is measured. All the measurement points may be divided into 9 equal parts and 10 points may be selected. If this etching time is performed every 30 seconds, in the electron transport layer having a film thickness of about 0.1 μm or more, it is possible to analyze the ratio of 10 atoms in the depth direction evenly.

以上の条件により測定された炭素原子、窒素原子、および酸素原子のピーク強度から、PHI社が提供する相対感度因子を用いて表面原子濃度(原子%)を算出する。炭素原子、窒素原子、および酸素原子の測定ピークトップ範囲は以下の通りである。
C1s:278〜298eV
O1s:525〜545eV
N1s:390〜410eV。
From the peak intensities of carbon atoms, nitrogen atoms, and oxygen atoms measured under the above conditions, the surface atomic concentration (atomic%) is calculated using a relative sensitivity factor provided by PHI. The measurement peak top ranges of carbon atoms, nitrogen atoms, and oxygen atoms are as follows.
C1s: 278 to 298 eV
O1s: 525-545eV
N1s: 390 to 410 eV.

電子輸送層は、炭素原子、窒素原子、および酸素原子を含有するが、これ以外の原子を含有していてもよい。電子吸引性を高める目的で、電子輸送層(電子輸送物質)の構造に、フッ素、塩素、臭素などのハロゲン原子、ケイ素原子、リン原子、硫黄原子などの原子を有させることもあるが、電子輸送物質の構造中に占めるこれらの原子の含有量は非常に少ない。従い、ESCAにより各原子の比率の分析を行っても比率が非常に少ないため、標準偏差を求めるには適切ではない。なお、水素原子はESCAにおいて測定感度がない。よって、電子輸送層を構成する原子として、炭素原子、酸素原子、および窒素原子を選び、炭素原子の比率、酸素原子の比率、および窒素原子の比率それぞれの10点の値から導出される標準偏差(σ(C)、σ(N)、σ(O))を算出する。上記標準偏差(σ(C)、σ(N)、σ(O))がすべて下記式(1)〜(3)を満たせば、電子輸送層中の炭素原子、窒素原子、および酸素原子が均一に存在していることを意味し、電子輸送層の均一性が高いことを意味する。
σ(C)≦1.5 (1)
σ(N)≦1.5 (2)
σ(O)≦1.5 (3)
(式(1)〜(3)中、σ(C)は、10点における該電子輸送層の水素原子を除く全原子に対する該炭素原子の比率(atoms %)をX線光電子分光法(ESCA)によって分析したときの、得られた10点の値の標準偏差を示す。σ(N)は、10点における該電子輸送層の水素原子を除く全原子に対する該窒素原子の比率(atoms %)をX線光電子分光法(ESCA)によって分析したときの、得られた10点の値の標準偏差を示す。σ(O)は、10点における該電子輸送層の水素原子を除く全原子に対する該酸素原子の比率(atoms %)をX線光電子分光法(ESCA)によって分析したときの、得られた10点の値の標準偏差を示す。
The electron transport layer contains carbon atoms, nitrogen atoms, and oxygen atoms, but may contain other atoms. For the purpose of enhancing electron withdrawing properties, the structure of the electron transport layer (electron transport material) may have halogen atoms such as fluorine, chlorine and bromine, atoms such as silicon atoms, phosphorus atoms and sulfur atoms. The content of these atoms in the transport material structure is very low. Therefore, even if the ratio of each atom is analyzed by ESCA, the ratio is very small and is not appropriate for obtaining the standard deviation. Note that hydrogen atoms have no measurement sensitivity in ESCA. Therefore, carbon atoms, oxygen atoms, and nitrogen atoms are selected as the atoms constituting the electron transport layer, and the standard deviation derived from the values of 10 points of the carbon atom ratio, oxygen atom ratio, and nitrogen atom ratio, respectively. (Σ (C), σ (N), σ (O)) is calculated. If the standard deviations (σ (C), σ (N), σ (O)) all satisfy the following formulas (1) to (3), carbon atoms, nitrogen atoms, and oxygen atoms in the electron transport layer are uniform. It means that the electron transport layer is highly uniform.
σ (C) ≦ 1.5 (1)
σ (N) ≦ 1.5 (2)
σ (O) ≦ 1.5 (3)
(In the formulas (1) to (3), σ (C) is the ratio (atoms%) of the carbon atoms to all atoms excluding hydrogen atoms in the electron transport layer at 10 points. X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA) Indicates the standard deviation of the obtained 10 points when analyzed by the following equation: σ (N) is the ratio of the nitrogen atoms to all atoms excluding hydrogen atoms in the electron transport layer at 10 points (atoms%). The standard deviation of the obtained 10 points when analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA) is shown, where σ (O) is the oxygen relative to all atoms except the hydrogen atoms of the electron transport layer at 10 points. When the atomic ratio (atoms%) is analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA), the standard deviation of the obtained 10-point value is shown.

本発明者らは、上記炭素原子の比率、窒素原子の比率、および酸素原子の比率の標準偏差(σ(C)、σ(N)、σ(O))が式(1)〜(3)を満たすことにより、プラスメモリーの発生が抑制させる理由を以下のように推測している。   The present inventors have found that the standard deviations (σ (C), σ (N), σ (O)) of the carbon atom ratio, nitrogen atom ratio, and oxygen atom ratio are the formulas (1) to (3). The reason why the occurrence of plus memory is suppressed by satisfying the above is estimated as follows.

電子輸送層が、硬化膜ではなく、感光層の溶剤によって電子輸送層が溶解するような膜であると、感光層を形成する際に電子輸送物質が上層である感光層に溶出しやすく、感光層側から電子輸送層側への電子の注入が抑制されやすい。これにより、感度の低下や、感光層中に大量の電荷が滞留し、メモリーが生じやすい。したがって、電子輸送層を硬化膜とすることが適切である。   If the electron transport layer is not a cured film but a film in which the electron transport layer is dissolved by the solvent of the photosensitive layer, when the photosensitive layer is formed, the electron transport material is easily eluted into the upper photosensitive layer, Injection of electrons from the layer side to the electron transport layer side is likely to be suppressed. As a result, the sensitivity is lowered and a large amount of charges stay in the photosensitive layer, so that memory tends to occur. Therefore, it is appropriate that the electron transport layer is a cured film.

しかしながら、電子輸送層を硬化膜にすると、電子輸送層を形成するときに用いる同一の構造を有する物質同士が凝集し、電子輸送層中の成分ムラが発生しやすい。その結果、プラス電荷を印加した場合に、電荷が電子輸送層中に滞留しやすく、プラスメモリー画像が発生しやすい。   However, when the electron transport layer is a cured film, substances having the same structure used when forming the electron transport layer are aggregated and component unevenness in the electron transport layer is likely to occur. As a result, when a positive charge is applied, the charge tends to stay in the electron transport layer, and a positive memory image is likely to be generated.

また、硬化膜である電子輸送層は、感光層で発生した電子のみを支持体側に移動させ、支持体側から感光層側へのプラス電荷の注入を抑制する特徴を有している。しかし、プラス電荷の印加により感光層側からプラス電荷が注入してしまうと、電子輸送能を有さない下引き層と比較して、支持体側へ電子が移動しにくく、プラスメモリー画像が発生しやすくなると考えられる。   In addition, the electron transport layer, which is a cured film, has a feature that moves only electrons generated in the photosensitive layer to the support side and suppresses the injection of positive charges from the support side to the photosensitive layer side. However, if a positive charge is injected from the photosensitive layer side due to the application of a positive charge, electrons are less likely to move to the support side compared to an undercoat layer that does not have an electron transport capability, and a positive memory image is generated. It will be easier.

そこで、上記式(1)〜(3)を満たすことにより、電子輸送層の炭素原子、窒素原子、および酸素原子のそれぞれが均一に存在していることが示されていると考えられる。この炭素原子、窒素原子、および酸素原子は、電子輸送層の全ての構成原子の中でも、主要な構成原子であり、これら3つの構成原子が均一に存在していれば、均一性の高い電子輸送層が形成されていると考えられる。そして、電子輸送層が均一であることによって、プラス電荷を印加して感光層側からプラス電荷が注入しても、支持体側への電子の移動の低下を抑制し、電子の移動をスムーズにしている。これによって、プラスメモリーの発生を抑制していると推測している。   Then, it is thought that satisfy | filling said Formula (1)-(3) has shown that each of the carbon atom of a electron carrying layer, a nitrogen atom, and an oxygen atom exists uniformly. The carbon atom, nitrogen atom, and oxygen atom are the main constituent atoms among all the constituent atoms of the electron transport layer. If these three constituent atoms are present uniformly, highly uniform electron transport is possible. It is considered that a layer is formed. And since the electron transport layer is uniform, even if a positive charge is applied and a positive charge is injected from the photosensitive layer side, the decrease in the movement of electrons to the support side is suppressed, and the movement of electrons is made smooth. Yes. It is speculated that this suppresses the occurrence of positive memory.

電荷輸送層には、炭素原子の比率(atoms %)、窒素原子の比率(atoms %)、および酸素原子の比率(atoms %)の合計(atoms %)は、50%以上100%以下であることが好ましい。なお、ESCAにおいて測定感度のない水素原子を除く。より好ましくは、90%以上100%以下である。   In the charge transport layer, the total (atoms%) of the carbon atom ratio (atoms%), the nitrogen atom ratio (atoms%), and the oxygen atom ratio (atoms%) must be 50% or more and 100% or less. Is preferred. Note that hydrogen atoms having no measurement sensitivity in ESCA are excluded. More preferably, it is 90% or more and 100% or less.

本発明の電子写真感光体は、支持体、該支持体上に形成された電子輸送層、該電子輸送層上に形成された電荷発生層、および電荷発生層上に形成された正孔輸送層を有する電子写真感光体である。または、支持体、該支持体上に形成された電子輸送層、該電子輸送層上に形成された感光層を有する電子写真感光体である。該感光層は、電荷発生物質を含有する電荷発生層と正孔輸送物質を含有する正孔輸送層とに分離した積層型(機能分離型)感光層であることが好ましい。   The electrophotographic photoreceptor of the present invention includes a support, an electron transport layer formed on the support, a charge generation layer formed on the electron transport layer, and a hole transport layer formed on the charge generation layer An electrophotographic photosensitive member having Alternatively, the electrophotographic photosensitive member includes a support, an electron transport layer formed on the support, and a photosensitive layer formed on the electron transport layer. The photosensitive layer is preferably a stacked type (functional separation type) photosensitive layer separated into a charge generation layer containing a charge generation material and a hole transport layer containing a hole transport material.

図1の(a)および(b)は、本発明の電子写真感光体の層構成の一例を示す図である。図1の(a)および(b)中、101は支持体であり、102は電子輸送層であり、103は感光層であり、104は電荷発生層、105は正孔輸送層である。   FIGS. 1A and 1B are diagrams showing an example of the layer structure of the electrophotographic photosensitive member of the present invention. In FIGS. 1A and 1B, 101 is a support, 102 is an electron transport layer, 103 is a photosensitive layer, 104 is a charge generation layer, and 105 is a hole transport layer.

一般的な電子写真感光体として、円筒状支持体上に感光層(電荷発生層、正孔輸送層)を形成してなる円筒状の電子写真感光体が広く用いられるが、ベルト状、シート状などの形状とすることも可能である。   As a general electrophotographic photosensitive member, a cylindrical electrophotographic photosensitive member in which a photosensitive layer (charge generation layer, hole transport layer) is formed on a cylindrical support is widely used. It is also possible to adopt a shape such as

〔電子輸送層〕
本発明の電子輸送層は、構成原子として、炭素原子、窒素原子および酸素原子を含有する硬化膜である。電子輸送層の均一性の観点から、電子輸送層が重合性官能基を有する電子輸送物質、重合性官能基を有する熱可塑性樹脂、および架橋剤を含む組成物を重合させて得られる重合物を含有することが好ましい。
(Electron transport layer)
The electron transport layer of the present invention is a cured film containing carbon atoms, nitrogen atoms and oxygen atoms as constituent atoms. From the viewpoint of uniformity of the electron transport layer, a polymer obtained by polymerizing a composition containing an electron transport material having a polymerizable functional group, a thermoplastic resin having a polymerizable functional group, and a crosslinking agent is provided. It is preferable to contain.

上記標準偏差σ(C)、σ(N)、およびσ(O)が下記式(4)〜(6)を満たすと、電子輸送層中の電子輸送構造の均一性が向上し、よりプラスメモリーの発生を低減する効果が得られるため、好ましい。
σ(C)≦1.0 (4)
σ(N)≦1.0 (5)
σ(O)≦1.0 (6)
When the standard deviations σ (C), σ (N), and σ (O) satisfy the following formulas (4) to (6), the uniformity of the electron transport structure in the electron transport layer is improved, and more positive memory is obtained. Since the effect which reduces generation | occurrence | production of this is acquired, it is preferable.
σ (C) ≦ 1.0 (4)
σ (N) ≦ 1.0 (5)
σ (O) ≦ 1.0 (6)

〔電子輸送物質〕
電子輸送物質としては、例えば、キノン化合物、イミド化合物、ベンズイミダゾール化合物、シクロペンタジエニリデン化合物などが挙げられる。
電子輸送物質は、重合性官能基を有する電子輸送物質であることが好ましい。重合性官能基としては、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基、メトキシ基などが挙げられる。
[Electron transport material]
Examples of the electron transport material include a quinone compound, an imide compound, a benzimidazole compound, a cyclopentadienylidene compound, and the like.
The electron transport material is preferably an electron transport material having a polymerizable functional group. Examples of the polymerizable functional group include a hydroxy group, a thiol group, an amino group, a carboxyl group, and a methoxy group.

重合性官能基を有する電子輸送物質の分子量は、架橋剤の分子量に近い方が、電子輸送層の均一性が高まるため好ましい。電子輸送物質の分子量と架橋剤の分子量の比は、0.5〜1.5の範囲が好ましく、0.8〜1.2の範囲がより好ましい。また、電子輸送物質の分子量(Mw)は1000以下である方が、重合性官能基を有する熱可塑性樹脂に均一に結合し、よりプラスメモリー画像の低減効果が得られるので好ましい。より好ましくは、200以上840以下である。   The molecular weight of the electron transport material having a polymerizable functional group is preferably closer to the molecular weight of the crosslinking agent because the uniformity of the electron transport layer is increased. The ratio between the molecular weight of the electron transport material and the molecular weight of the crosslinking agent is preferably in the range of 0.5 to 1.5, and more preferably in the range of 0.8 to 1.2. In addition, the molecular weight (Mw) of the electron transport material is preferably 1000 or less because it can be uniformly bonded to a thermoplastic resin having a polymerizable functional group and the effect of reducing a plus memory image can be obtained. More preferably, it is 200 or more and 840 or less.

以下に、電子輸送物質の具体例を示す。下記式(A1)〜(A9)のいずれかで示される化合物が挙げられる。

Figure 2014029502
式(A1)〜(A9)中、R101〜R106、R201〜R210、R301〜R308、R401〜R408、R501〜R510、R601〜R606、R701〜R708、R801〜R810、R901〜R908は、それぞれ独立に、下記式(A)で示される1価の基、水素原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基または置換もしくは無置換の複素環を示す。該アルキル基の主鎖中の炭素原子の1つは、O、S、NH、NR1001(R1001はアルキル基)で置き換わっても良い。該置換のアルキル基の置換基は、アルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、またはハロゲン原子である。該置換のアリール基または該置換の複素環基の置換基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、ハロゲン置換アルキル基である。Z201、Z301、Z401およびZ501は、それぞれ独立に、炭素原子、窒素原子、または酸素原子を示す。Z201が酸素原子である場合はR209およびR210は存在せず、Z201が窒素原子である場合はR210は存在しない。Z301が酸素原子である場合はR307およびR308は存在せず、Z301が窒素原子である場合はR308は存在しない。Z401が酸素原子である場合はR407およびR408は存在せず、Z401が窒素原子である場合はR408は存在しない。Z501が酸素原子である場合はR509およびR510は存在せず、Z501が窒素原子である場合はR510は存在しない。
Figure 2014029502
式(A)中、α、β、およびγの少なくとも1つは置換基を有する基であり、該置換基は、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基、およびメトキシ基からなる群より選択される少なくとも1種の基である。lおよびmは、それぞれ独立に、0または1であり、lとmの和は、0以上2以下である。 Specific examples of the electron transport material are shown below. The compound shown by either of following formula (A1)-(A9) is mentioned.
Figure 2014029502
In formulas (A1) to (A9), R 101 to R 106 , R 201 to R 210 , R 301 to R 308 , R 401 to R 408 , R 501 to R 510 , R 601 to R 606 , R 701 to R 708 , R 801 to R 810 , R 901 to R 908 are each independently a monovalent group represented by the following formula (A), a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a halogen atom, an alkoxycarbonyl group, a substituted or An unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted heterocyclic ring is shown. One of the carbon atoms in the main chain of the alkyl group may be replaced with O, S, NH, or NR 1001 (R 1001 is an alkyl group). The substituent of the substituted alkyl group is an alkyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group, or a halogen atom. The substituent of the substituted aryl group or the substituted heterocyclic group is a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an alkyl group, or a halogen-substituted alkyl group. Z 201 , Z 301 , Z 401 and Z 501 each independently represent a carbon atom, a nitrogen atom or an oxygen atom. When Z 201 is an oxygen atom, R 209 and R 210 are not present, and when Z 201 is a nitrogen atom, R 210 is not present. When Z 301 is an oxygen atom, R 307 and R 308 are not present, and when Z 301 is a nitrogen atom, R 308 is not present. When Z 401 is an oxygen atom, R 407 and R 408 are not present, and when Z 401 is a nitrogen atom, R 408 is not present. If Z 501 is an oxygen atom absent R 509 and R 510, when Z 501 is a nitrogen atom R 510 is absent.
Figure 2014029502
In formula (A), at least one of α, β, and γ is a group having a substituent, and the substituent is selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, a carboxyl group, and a methoxy group. Is at least one group. l and m are each independently 0 or 1, and the sum of l and m is 0 or more and 2 or less.

αは、主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基、炭素数1〜6のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基、ベンジル基で置換された主鎖の原子数1〜6のアルキレン基、アルコシキカルボニル基で置換された主鎖の原子数1〜6のアルキレン基、またはフェニル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基およびメトキシ基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。該アルキレン基の主鎖中の炭素原子の1つは、OまたはSまたはNHまたはNR19(R19はアルキル基である。)で置き換わっていても良い。 α is an alkylene group having 1-6 atoms in the main chain, an alkylene group having 1-6 atoms in the main chain substituted with an alkyl group having 1-6 carbon atoms, or a main chain substituted with a benzyl group. An alkylene group having 1 to 6 atoms, an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkoxycarbonyl group, or an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with a phenyl group . These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, a carboxyl group, and a methoxy group as a substituent. One of the carbon atoms in the main chain of the alkylene group may be replaced by O or S or NH or NR 19 (R 19 is an alkyl group).

βは、フェニレン基、炭素数1〜6のアルキル置換フェニレン基、ニトロ置換フェニレン基、ハロゲン置換フェニレン基、またはアルコキシ基置換フェニレン基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基、およびメトキシ基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。   β represents a phenylene group, an alkyl-substituted phenylene group having 1 to 6 carbon atoms, a nitro-substituted phenylene group, a halogen-substituted phenylene group, or an alkoxy group-substituted phenylene group. These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, a carboxyl group, and a methoxy group as a substituent.

γは、水素原子、主鎖の原子数が1〜6のアルキル基、または炭素数1〜6のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキル基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基、およびメトキシ基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。該アルキル基の主鎖中の炭素原子の1つは、OまたはSまたはNHまたはNR1003(R1003はアルキル基である。)で置き換わっていても良い。 γ represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 atoms in the main chain, or an alkyl group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, a carboxyl group, and a methoxy group as a substituent. One of the carbon atoms in the main chain of the alkyl group may be replaced with O or S or NH or NR 1003 (R 1003 is an alkyl group).

上記式(A1)〜(A9)のいずれかで示される電子輸送物質の中でも、R101〜R106の少なくとも1つ、R201〜R210の少なくとも1つ、R301〜R308の少なくとも1つ、R401〜R408の少なくとも1つ、R501〜R510の少なくとも1つ、R601〜R606の少なくとも1つ、R701〜R708の少なくとも1つ、R801〜R810の少なくとも1つ、R901〜R908の少なくとも1つは、上記式(A)で示される1価の基である重合性官能基を有する電子輸送物質がより好ましい。 Among the electron transport materials represented by any of the above formulas (A1) to (A9), at least one of R 101 to R 106 , at least one of R 201 to R 210 , and at least one of R 301 to R 308 , At least one of R 401 to R 408 , at least one of R 501 to R 510 , at least one of R 601 to R 606 , at least one of R 701 to R 708 , at least one of R 801 to R 810 , R 901 to R 908 are more preferably an electron transport material having a polymerizable functional group which is a monovalent group represented by the above formula (A).

電子輸送層は、以下のようにして形成される。重合性官能基を有する電子輸送物質、重合性官能基を有する熱可塑性樹脂、および架橋剤を含む組成物を含有する電子輸送層用塗布液の塗膜を形成する。そして、この塗膜を加熱乾燥させることによって、組成物を重合させ、電子輸送層を形成する。塗膜形成後、架橋剤と、熱可塑性樹脂および電子輸送物質の重合性官能基が化学反応により重合するが、その際に加熱することで化学反応が促進され、重合が促進される。電子輸送層用塗布液の塗膜を加熱乾燥させるときの加熱温度は、100〜200℃の温度であることが好ましい。   The electron transport layer is formed as follows. A coating film of an electron transport layer coating solution containing a composition containing an electron transport material having a polymerizable functional group, a thermoplastic resin having a polymerizable functional group, and a crosslinking agent is formed. And by heating-drying this coating film, a composition is polymerized and an electron carrying layer is formed. After the formation of the coating film, the crosslinking agent, the thermoplastic resin and the polymerizable functional group of the electron transport material are polymerized by a chemical reaction. By heating at that time, the chemical reaction is promoted and the polymerization is promoted. The heating temperature for heating and drying the coating film of the electron transport layer coating solution is preferably 100 to 200 ° C.

表中、A´は、Aと同様な構造式で表され、その1価の基の具体例をAおよびA´の欄に示す。   In the table, A ′ is represented by the same structural formula as A, and specific examples of the monovalent group are shown in the columns A and A ′.

以下に、重合性官能基を有する電子輸送物質の具体例を示す。   Specific examples of the electron transport material having a polymerizable functional group are shown below.

表1−1、表1−2、表1−3、表1−4、表1−5、表1−6に、上記式(A1)で示される化合物の具体例を示す。表中、γが「−」である場合は、水素原子を示し、そのγの水素原子は、αまたはβの欄に示す構造に含めて表示する。   Table 1-1, Table 1-2, Table 1-3, Table 1-4, Table 1-5, and Table 1-6 show specific examples of the compound represented by the above formula (A1). In the table, when γ is “−”, it indicates a hydrogen atom, and the hydrogen atom of γ is included in the structure shown in the column of α or β.

Figure 2014029502
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Figure 2014029502
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表2−1、表2−2、表2−3に、上記式(A2)で示される化合物の具体例を示す。表中、γが「−」である場合は、水素原子を示し、そのγの水素原子は、αまたはβの欄に示す構造に含めて表示する。   Specific examples of the compound represented by the above formula (A2) are shown in Table 2-1, Table 2-2, and Table 2-3. In the table, when γ is “−”, it indicates a hydrogen atom, and the hydrogen atom of γ is included in the structure shown in the column of α or β.

Figure 2014029502
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表3−1、表3−2に、上記式(A3)で示される化合物の具体例を示す。表中、γが「−」である場合は、水素原子を示し、そのγの水素原子は、αまたはβの欄に示す構造に含めて表示する。   Specific examples of the compound represented by the above formula (A3) are shown in Tables 3-1 and 3-2. In the table, when γ is “−”, it indicates a hydrogen atom, and the hydrogen atom of γ is included in the structure shown in the column of α or β.

Figure 2014029502
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表4−1、表4−2に、上記式(A4)で示される化合物の具体例を示す。表中、γが「−」である場合は、水素原子を示し、そのγの水素原子は、αまたはβの欄に示す構造に含めて表示する。   Specific examples of the compound represented by the above formula (A4) are shown in Tables 4-1 and 4-2. In the table, when γ is “−”, it indicates a hydrogen atom, and the hydrogen atom of γ is included in the structure shown in the column of α or β.

Figure 2014029502
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Figure 2014029502
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表5−1、表5−2に、上記式(A5)で示される化合物の具体例を示す。表中、γが「−」である場合は、水素原子を示し、そのγの水素原子は、αまたはβの欄に示す構造に含めて表示する。   Tables 5-1 and 5-2 show specific examples of the compound represented by the above formula (A5). In the table, when γ is “−”, it indicates a hydrogen atom, and the hydrogen atom of γ is included in the structure shown in the column of α or β.

Figure 2014029502
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Figure 2014029502
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表6に、上記式(A6)で示される化合物の具体例を示す。表中、γが「−」である場合は、水素原子を示し、そのγの水素原子は、αまたはβの欄に示す構造に含めて表示する。   Table 6 shows specific examples of the compound represented by the above formula (A6). In the table, when γ is “−”, it indicates a hydrogen atom, and the hydrogen atom of γ is included in the structure shown in the column of α or β.

Figure 2014029502
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表7−1、表7−2、表7−3に、上記式(A7)で示される化合物の具体例を示す。表中、γが「−」である場合は、水素原子を示し、そのγの水素原子は、αまたはβの欄に示す構造に含めて表示する。   Specific examples of the compound represented by the above formula (A7) are shown in Table 7-1, Table 7-2, and Table 7-3. In the table, when γ is “−”, it indicates a hydrogen atom, and the hydrogen atom of γ is included in the structure shown in the column of α or β.

Figure 2014029502
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表8−1、表8−2、表8−3に、上記式(A8)で示される化合物の具体例を示す。表中、γが「−」である場合は、水素原子を示し、そのγの水素原子は、αまたはβの欄に示す構造に含めて表示する。   Specific examples of the compound represented by the formula (A8) are shown in Table 8-1, Table 8-2, and Table 8-3. In the table, when γ is “−”, it indicates a hydrogen atom, and the hydrogen atom of γ is included in the structure shown in the column of α or β.

Figure 2014029502
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表9−1、表9−2に、上記式(A9)で示される化合物の具体例を示す。表中、γが「−」である場合は、水素原子を示し、そのγの水素原子は、αまたはβの欄に示す構造に含めて表示する。   Tables 9-1 and 9-2 show specific examples of the compound represented by the formula (A9). In the table, when γ is “−”, it indicates a hydrogen atom, and the hydrogen atom of γ is included in the structure shown in the column of α or β.

Figure 2014029502
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Figure 2014029502
Figure 2014029502

(A1)の構造を有する誘導体(電子輸送物質の誘導体)は、例えば、米国特許第4442193号公報、米国特許第4992349号公報、米国特許第5468583号公報、Chemistry of materials,Vol.19,No.11,2703−2705(2007)に記載の公知の合成方法を用いて合成することが可能である。また、東京化成工業(株)やシグマアルドリッチジャパン(株)やジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能なナフタレンテトラカルボン酸二無水物とモノアミン誘導体との反応で合成する事が出来る。   Derivatives having the structure of (A1) (derivatives of electron transport materials) are disclosed in, for example, US Pat. No. 4,442,193, US Pat. No. 4,992,349, US Pat. No. 5,468,583, Chemistry of materials, Vol. 19, no. It is possible to synthesize using a known synthesis method described in 11, 2703-2705 (2007). Moreover, it can synthesize | combine by reaction with the naphthalene tetracarboxylic dianhydride and monoamine derivative which can be purchased from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd., and Johnson Matthey Japan Incorporated.

(A1)で示される化合物には、架橋剤と重合することが可能な重合性官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基)を有する。(A1)の構造を有する誘導体にこれらの重合性官能基を導入する方法としては、(A1)の構造を有する誘導体に直接重合性官能基を導入する方法、前記重合性官能基または、重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、以下の方法が挙げられる。ナフチルイミド誘導体のハロゲン化物を元に、例えばパラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法。ナフチルイミド誘導体のハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法る方法。ナフチルイミド誘導体のハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCOを作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法がある。ナフチルイミド誘導体を合成する際の原料として、前記重合性官能基または、重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有するナフタレンテトラカルボン酸二無水物誘導体又はモノアミン誘導体を用いる方法がある。 The compound represented by (A1) has a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group, and methoxy group) that can be polymerized with a crosslinking agent. As a method of introducing these polymerizable functional groups into the derivative having the structure of (A1), a method of directly introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure of (A1), the polymerizable functional group, or the polymerizable There is a method of introducing a structure having a functional group that can be a precursor of a functional group. Examples of the method described later include the following methods. A method of introducing a functional group-containing aryl group based on a halide of a naphthylimide derivative using, for example, a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base. A method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a halide of a naphthylimide derivative. There is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group based on a halide of a naphthylimide derivative by allowing an epoxy compound or CO 2 to act after lithiation. As a raw material for synthesizing a naphthylimide derivative, there is a method using the naphthalenetetracarboxylic dianhydride derivative or monoamine derivative having the polymerizable functional group or a functional group that can be a precursor of the polymerizable functional group.

(A2)の構造を有する誘導体(電子輸送物質の誘導体)は、例えば、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)またはジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能である。また、フェナントレン誘導体またはフェナントロリン誘導体を基に、Chem.Educator No.6,227−234(2001)、有機合成化学協会誌,vol.15,29−32(1957)、有機合成化学協会誌,vol.15,32−34(1957)に記載の合成方法で合成することもできる。マロノニトリルとの反応によりジシアノメチレン基を導入することもできる。   Derivatives having a structure of (A2) (electron transport material derivatives) can be purchased from, for example, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc. Further, based on phenanthrene derivatives or phenanthroline derivatives, Chem. Educator No. 6, 227-234 (2001), Journal of Synthetic Organic Chemistry, vol. 15, 29-32 (1957), Journal of Synthetic Organic Chemistry, vol. 15, 32-34 (1957). A dicyanomethylene group can also be introduced by reaction with malononitrile.

(A2)で示される化合物は、架橋剤と重合可能な重合性官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基)を有する。(A2)の構造を有する誘導体にこれらの重合性官能基を導入する方法としては、(A2)の構造を有する誘導体に直接重合性官能基を導入する方法、重合性官能基もしくは重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、以下の方法が挙げられる。フェナントレンキノンのハロゲン化物を元に、パラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法。フェナントレンキノンのハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法る方法。フェナントレンキノンのハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCOを作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法がある。 The compound represented by (A2) has a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group, and methoxy group) that can be polymerized with a crosslinking agent. As a method for introducing these polymerizable functional groups into the derivative having the structure (A2), a method for directly introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure (A2), a polymerizable functional group or a polymerizable functional group. There is a method of introducing a structure having a functional group that can be a precursor of the above. Examples of the method described later include the following methods. A method of introducing a functional group-containing aryl group using a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base based on a halide of phenanthrenequinone. A method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a halide of phenanthrenequinone. Based on the halide of phenanthrenequinone, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by allowing an epoxy compound or CO 2 to act after lithiation.

(A3)の構造を有する誘導体(電子輸送物質の誘導体)は、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)またはジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能である。また、フェナントレン誘導体またはフェナントロリン誘導体を基に、Bull.Chem.Soc.Jpn.,Vol.65,1006−1011(1992)に記載の合成方法で合成することもできる。マロノニトリルとの反応によりジシアノメチレン基を導入することもできる。   Derivatives having a structure of (A3) (electron transport material derivatives) can be purchased from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc. Also, based on phenanthrene derivatives or phenanthroline derivatives, Bull. Chem. Soc. Jpn. , Vol. 65, 1006-1011 (1992). A dicyanomethylene group can also be introduced by reaction with malononitrile.

(A3)で示される化合物は、架橋剤と重合可能な重合性官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基)を有する。上記式(A3)の構造を有する誘導体にこれらの重合性官能基を導入する方法としては、式(A3)の構造を有する誘導体に直接重合性官能基を導入する方法、重合性官能基もしくは重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、以下の方法が挙げられる。フェナントロリンキノンのハロゲン化物を元に、例えばパラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法。フェナントロリンキノンのハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法。フェナントロリンキノンのハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCOを作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法がある。 The compound represented by (A3) has a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group, and methoxy group) that can be polymerized with a crosslinking agent. As a method of introducing these polymerizable functional groups into the derivative having the structure of the above formula (A3), a method of directly introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure of the formula (A3), a polymerizable functional group or a polymerization There is a method of introducing a structure having a functional group that can be a precursor of a functional functional group. Examples of the method described later include the following methods. A method of introducing a functional group-containing aryl group based on a halide of phenanthroline quinone using, for example, a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base. A method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a halide of phenanthroline quinone. Based on the halide of phenanthroline quinone, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by allowing an epoxy compound or CO 2 to act after lithiation.

(A4)の構造を有する誘導体(電子輸送物質の誘導体)は、例えば、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)またはジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能である。また、アセナフテンキノン誘導体を基にTetrahedron Letters,43(16),2991−2994(2002)、Tetrahedron Letters,44(10),2087−2091(2003)に記載の合成方法で合成することもできる。マロノニトリルとの反応により、ジシアノメチレン基を導入することもできる。   A derivative having a structure of (A4) (a derivative of an electron transport material) can be purchased from, for example, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc. Moreover, based on an acenaphthenequinone derivative | guide_body, it can also synthesize | combine with the synthesis | combining method of Tetrahedron Letters, 43 (16), 2991-2994 (2002), Tetrahedron Letters, 44 (10), 2087-2091 (2003). A dicyanomethylene group can also be introduced by reaction with malononitrile.

(A4)で示される化合物は、架橋剤と重合可能な重合性官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基)を有する。(A4)の構造を有する誘導体にこれらの重合性官能基を導入する方法としては、(A4)の構造を有する誘導体に直接重合性官能基を導入する方法、重合性官能基もしくは重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、以下の方法が挙げられる。アセナフテンキノンのハロゲン化物を元に、例えばパラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法。アセナフテンキノンのハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法。アセナフテンキノンのハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCOを作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法がある。 The compound represented by (A4) has a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group, and methoxy group) that can be polymerized with a crosslinking agent. As a method for introducing these polymerizable functional groups into the derivative having the structure (A4), a method for directly introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure (A4), a polymerizable functional group or a polymerizable functional group. There is a method of introducing a structure having a functional group that can be a precursor of the above. Examples of the method described later include the following methods. A method of introducing a functional group-containing aryl group based on a halide of acenaphthenequinone, for example, using a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base. A method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a halide of acenaphthenequinone. Based on the halide of acenaphthenequinone, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by allowing an epoxy compound or CO 2 to act after lithiation.

(A5)の構造を有する誘導体(電子輸送物質の誘導体)は、例えば、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)またはジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能である。また、フルオレノン誘導体とマロノニトリルを用い、米国特許第4562132号公報に記載の合成方法を用いて合成することができる。また、フルオレノン誘導体およびアニリン誘導体を用い、特開平5−279582号公報、特開平7−70038号公報に記載の合成方法を用いて合成することもできる。   A derivative having a structure of (A5) (a derivative of an electron transport material) can be purchased from, for example, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Incorporated. Further, it can be synthesized using a fluorenone derivative and malononitrile by the synthesis method described in US Pat. No. 4,562,132. Moreover, it can also synthesize | combine using the synthesis method as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 5-279582 and Unexamined-Japanese-Patent No. 7-70038 using a fluorenone derivative and an aniline derivative.

(A5)で示される化合物は、架橋剤と重合可能な重合性官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基)を有する。(A5)の構造を有する誘導体にこれらの重合性官能基を導入する方法としては、(A5)の構造を有する誘導体に直接重合性官能基を導入する方法、重合性官能基もしくは重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、以下の方法が挙げあれる。フルオレノンのハロゲン化物を元に、例えばパラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法。フルオレノンのハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法。フルオレノンのハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCOを作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法がある。 The compound represented by (A5) has a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group, and methoxy group) that can be polymerized with a crosslinking agent. As a method of introducing these polymerizable functional groups into the derivative having the structure of (A5), a method of directly introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure of (A5), a polymerizable functional group or a polymerizable functional group There is a method of introducing a structure having a functional group that can be a precursor of the above. Examples of the method described later include the following methods. A method of introducing a functional group-containing aryl group based on a halide of fluorenone, for example, using a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base. A method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a halide of fluorenone. There is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group based on a halide of fluorenone by allowing an epoxy compound or CO 2 to act after lithiation.

(A6)の構造を有する誘導体(電子輸送物質の誘導体)は、例えばChemistry Letters,37(3),360−361(2008)、特開平9−151157号公報に記載の合成方法を用いて合成することが出来る。また、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)またはジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能である。   Derivatives having a structure of (A6) (electron transport material derivatives) are synthesized using, for example, a synthesis method described in Chemistry Letters, 37 (3), 360-361 (2008), JP-A-9-151157. I can do it. Moreover, it can be purchased from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc.

(A6)で示される化合物は、架橋剤と重合することが可能な重合性官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基)を有する。(A6)の構造を有する誘導体にこれらの重合性官能基を導入する方法としては、(A6)の構造を有する誘導体に直接重合性官能基を導入する方法、重合性官能基もしくは重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、以下の方法が挙げられる。ナフトキノンのハロゲン化物を元に、例えばパラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法。ナフトキノンのハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法る方法。ナフトキノンのハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCOを作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法がある。 The compound represented by (A6) has a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group, and methoxy group) that can be polymerized with a crosslinking agent. As a method for introducing these polymerizable functional groups into the derivative having the structure (A6), a method for directly introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure (A6), a polymerizable functional group or a polymerizable functional group. There is a method of introducing a structure having a functional group that can be a precursor of the above. Examples of the method described later include the following methods. A method of introducing a functional group-containing aryl group based on a naphthoquinone halide using, for example, a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base. A method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a naphthoquinone halide. There is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group based on a naphthoquinone halide after lithiation and then allowing an epoxy compound or CO 2 to act.

(A7)の構造を有する誘導体(電子輸送物質の誘導体)は、特開平1−206349号公報、PPCI/Japan Hard Copy’98 予稿集p.207(1998)に記載の合成方法を用いて合成することができる。例えば、東京化成工業(株)またはシグマアルドリッチジャパン(株)から購入可能なフェノール誘導体を原料として合成することができる。   Derivatives having a structure of (A7) (electron transport material derivatives) are disclosed in JP-A-1-206349, PPCI / Japan Hard Copy '98 Preliminary Collection p. 207 (1998). For example, a phenol derivative that can be purchased from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. or Sigma Aldrich Japan Co., Ltd. can be used as a raw material.

(A7)で示される化合物は、架橋剤と重合することが可能な重合性官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基)を有する。(A7)の構造を有する誘導体にこれらの重合性官能基を導入する方法としては、重合性官能基もしくは重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有する構造を導入する方法がある。この方法としては、以下の方法が挙げられる。ジフェノキノンのハロゲン化物を元に、例えばパラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法。ジフェノキノンのハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法。リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCOを作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法がある。 The compound represented by (A7) has a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group, and methoxy group) that can be polymerized with a crosslinking agent. As a method of introducing these polymerizable functional groups into the derivative having the structure of (A7), there is a method of introducing a structure having a functional group that can be a polymerizable functional group or a precursor of the polymerizable functional group. Examples of this method include the following methods. A method of introducing a functional group-containing aryl group based on a diphenoquinone halide using, for example, a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base. A method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a diphenoquinone halide. There is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by allowing an epoxy compound or CO 2 to act after lithiation.

(A8)の構造を有する誘導体(電子輸送物質の誘導体)は、例えば、Journal of the American chemical society,Vol.129,No.49,15259−78(2007)に記載の公知の合成方法を用いて合成することができる。また、東京化成工業(株)やシグマアルドリッチジャパン(株)やジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能なペリレンテトラカルボン酸二無水物とモノアミン誘導体との反応で合成する事が出来る。   Derivatives having a structure of (A8) (electron transport material derivatives) are described in, for example, Journal of the American chemical society, Vol. 129, no. 49, 15259-78 (2007). Moreover, it can synthesize | combine by reaction with the perylene tetracarboxylic dianhydride and monoamine derivative which can be purchased from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd., and Johnson Matthey Japan Incorporated.

(A8)で示される化合物は、架橋剤と重合可能な重合性官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基)を有する。(A8)の構造を有する誘導体にこれらの重合性官能基を導入する方法としては、(A8)の構造を有する誘導体に直接重合性官能基を導入する方法、前記重合性官能基または、重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、以下の方法が挙げられる。ペリレンイミド誘導体のハロゲン化物を元に、例えばパラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用いる方法。ペリレンイミド誘導体のハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用いる方法がある。ペリレンイミド誘導体を合成する際の原料として、前記重合性官能基または、重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有するペリレンテトラカルボン酸二無水物誘導体又はモノアミン誘導体を用いる方法がある。 The compound represented by (A8) has a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group, and methoxy group) that can be polymerized with a crosslinking agent. As a method of introducing these polymerizable functional groups into the derivative having the structure of (A8), a method of directly introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure of (A8), the polymerizable functional group, or the polymerizable There is a method of introducing a structure having a functional group that can be a precursor of a functional group. Examples of the method described later include the following methods. A method using a cross-coupling reaction using, for example, a palladium catalyst and a base based on a halide of a perylene imide derivative. There is a method of using a cross coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a halide of a perylene imide derivative. As a raw material for synthesizing a perylene imide derivative, there is a method using the above-mentioned polymerizable functional group or a perylene tetracarboxylic dianhydride derivative or a monoamine derivative having a functional group that can be a precursor of the polymerizable functional group.

(A9)の構造を有する誘導体(電子輸送物質の誘導体)は、例えば、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)またはジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能である。   A derivative having a structure of (A9) (a derivative of an electron transport material) can be purchased from, for example, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc.

(A9)で示される化合物は、架橋剤と重合可能な重合性官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基)を有する。(A9)の構造を有する誘導体にこれらの重合性官能基を導入する方法としては、購入可能な(A9)の構造を有する誘導体に重合性官能基もしくは重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有する構造を導入する方法がある。この方法としては、以下の方法が挙げられる。アントラキノンのハロゲン化物を元に、例えばパラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法。アントラキノンのハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法。リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCOを作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法がある。 The compound represented by (A9) has a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group, and methoxy group) that can be polymerized with a crosslinking agent. As a method for introducing these polymerizable functional groups into the derivative having the structure (A9), a functional group that can be a polymerizable functional group or a precursor of the polymerizable functional group is added to the commercially available derivative having the structure (A9). There is a method of introducing a structure having a group. Examples of this method include the following methods. A method of introducing a functional group-containing aryl group based on an anthraquinone halide using, for example, a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base. A method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using an FeCl 3 catalyst and a base based on an anthraquinone halide. There is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by allowing an epoxy compound or CO 2 to act after lithiation.

更には、本発明の電子輸送層では上記重合性官能基を有する電子輸送物質および架橋剤に加え、重合性官能基を有する熱可塑性樹脂を有する3次元硬化膜である事がより好ましい。重合性官能基を有する熱可塑性樹脂と、重合性官能基を有する電子輸送物質および架橋剤が官能基により結合することで、電子輸送が可能で、上層(感光層)の溶剤に不溶で電子写真感光体の電子輸送層として適切な硬化膜を形成できる。更に、重合性官能基を有する熱可塑性樹脂が存在する事で、より成分の均一な硬化膜となる。その理由としては、架橋剤同士が隣接せずに、嵩高く大きな体積を有するため、架橋剤の官能基と樹脂の官能基が重合、架橋する際に、樹脂鎖を押し退け、樹脂鎖同士の凝集が抑えられる。このように偏在する事無く樹脂鎖に結合している架橋剤に、重合性官能基を有する電子輸送物質が結合している形であるため、電子輸送物質も偏在することなく膜内に均一に存在することになる。そのため、電子が留まる部分が無く、電子輸送膜においてもより高い水準のプラスメモリーの抑制効果が生じると考えている。   Furthermore, the electron transport layer of the present invention is more preferably a three-dimensional cured film having a thermoplastic resin having a polymerizable functional group in addition to the electron transport material having a polymerizable functional group and a crosslinking agent. A thermoplastic resin having a polymerizable functional group, an electron transport material having a polymerizable functional group, and a cross-linking agent are bonded to each other by a functional group, so that electron transport is possible, and it is insoluble in the solvent of the upper layer (photosensitive layer) and is electrophotographic A cured film suitable as an electron transport layer of the photoreceptor can be formed. Furthermore, the presence of the thermoplastic resin having a polymerizable functional group makes a cured film having more uniform components. The reason is that the cross-linking agents are not adjacent to each other, and are bulky and have a large volume. Therefore, when the functional group of the cross-linking agent and the functional group of the resin are polymerized and cross-linked, the resin chains are pushed away, and the resin chains are aggregated. Is suppressed. Since the electron transport material having a polymerizable functional group is bonded to the cross-linking agent bonded to the resin chain without being unevenly distributed, the electron transport material is uniformly distributed in the film without being unevenly distributed. Will exist. For this reason, there is no portion where electrons stay, and it is considered that a higher level of positive memory suppression effect also occurs in the electron transport film.

この場合、重合性官能基を有する熱可塑性樹脂はある程度の樹脂鎖の長さがある方が好ましく、重量平均分子量(Mw)は5000以上300000以下であることがより好ましい。5000以上300000以下であると、架橋剤及び電子輸送物質由来の構造の均一性が高まり、より高いプラスメモリーの低減効果が得られる。   In this case, the thermoplastic resin having a polymerizable functional group preferably has a certain length of resin chain, and the weight average molecular weight (Mw) is more preferably 5000 or more and 300000 or less. If it is 5,000 or more and 300,000 or less, the uniformity of the structure derived from the crosslinking agent and the electron transport material is increased, and a higher effect of reducing positive memory can be obtained.

〔架橋剤〕
次に架橋剤について説明する。
架橋剤としては、重合性官能基を有する電子輸送物質、および重合性官能基を有する熱可塑性樹脂と重合または架橋する化合物を用いることができる。具体的には、山下晋三,金子東助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊(1981年)等に記載されている化合物等を用いることができる。
[Crosslinking agent]
Next, the crosslinking agent will be described.
As the crosslinking agent, an electron transport material having a polymerizable functional group, and a compound that polymerizes or crosslinks with a thermoplastic resin having a polymerizable functional group can be used. Specifically, compounds described in Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko “Crosslinking Agent Handbook” published by Taiseisha (1981) and the like can be used.

電子輸送層に用いる架橋剤は、好ましくは、イソシアネート化合物、アミン化合物である。均一な重合物の膜を得る観点から、より好ましくは、イソシアネート基、ブロック化イソシアネート基、または−CH−ORを示される1価の基を3〜6個有する架橋剤(イソシアネート化合物、アミン化合物)である。
電子輸送層の均一性を向上させる観点から、架橋剤の分子量が200〜1300の範囲が好ましい。より好ましくは、1000以下である。
The crosslinking agent used for the electron transport layer is preferably an isocyanate compound or an amine compound. From the viewpoint of obtaining a film having a uniform polymer, and more preferably, an isocyanate group, blocked isocyanate group, or -CH 2 -OR 1 a monovalent group three to six with crosslinking agent represented (isocyanate compounds, amine Compound).
From the viewpoint of improving the uniformity of the electron transport layer, the molecular weight of the crosslinking agent is preferably in the range of 200 to 1300. More preferably, it is 1000 or less.

イソシアネート化合物は、イソシアネート基またはブロックイソシアネート基が3〜6個有しているイソシアネート化合物が好ましい。例えば、トリイソシアネートベンゼン、トリイソシアネートメチルベンゼン、トリフェニルメタントリイソシアネート、リジントリイソシアネートの他、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、メチル−2,6−ジイソシアネートヘキサノエート、ノルボルナンジイソシアネート等のジイソシアネートのイソシアヌレート変性体、ビウレット変性体、アロファネート変性体、トリメチロールプロパンやペンタエリストールとのアダクト変性体等が挙げられる。これらの中でもイソシアヌレート変性体とアダクト変性体がより好ましい。   The isocyanate compound is preferably an isocyanate compound having 3 to 6 isocyanate groups or blocked isocyanate groups. For example, triisocyanatebenzene, triisocyanatemethylbenzene, triphenylmethane triisocyanate, lysine triisocyanate, tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, naphthalene diisocyanate diphenylmethane diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, 2,2 , 4-trimethylhexamethylene diisocyanate, methyl-2,6-diisocyanatohexanoate, norbornane diisocyanate modified isocyanurate modified, biuret modified, allophanate modified, adduct modified with trimethylolpropane or pentaerythritol Etc. Among these, an isocyanurate modified body and an adduct modified body are more preferable.

ブロックイソシアネート基は、−NHCOX(Xは保護基)という構造を有する基である。Xは、イソシアネート基に導入可能な保護基であれば何れでも良いが、下記式(H1)〜(H7)で示される基がより好ましい。

Figure 2014029502
The blocked isocyanate group is a group having a structure of —NHCOX 1 (X 1 is a protecting group). X 1 may be any protecting group that can be introduced into an isocyanate group, but groups represented by the following formulas (H1) to (H7) are more preferable.
Figure 2014029502

以下に、イソシアネート化合物の具体例を示す。

Figure 2014029502
Figure 2014029502
Below, the specific example of an isocyanate compound is shown.
Figure 2014029502
Figure 2014029502

アミン化合物としては、記式(C1)〜(C5)のいずれかで示される化合物、および、下記式(C1)〜(C5)のいずれかで示される化合物のオリゴマーからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。

Figure 2014029502
式(C1)〜(C5)中、R11〜R16、R22〜R25、R31〜R34、R41〜R44、およびR51〜R54は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基、アシル基または−CH−ORを示される1価の基を示し、R11〜R16の少なくとも1つ、R22〜R25の少なくとも1つ、R31〜R34の少なくとも1つ、R41〜R44の少なくとも1つ、およびR51〜R54の少なくとも1つは、−CH−ORを示される1価の基である。Rは、水素原子または炭素数1以上10以下のアルキル基を示す。アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基(n−プロピル基、iso−プロピル基)、ブチル基(n−ブチル基、iso−ブチル基、tert−ブチル基)などが、重合性の観点から好ましい。R21は、アリール基、アルキル基置換のアリール基、シクロアルキル基、またはアルキル基置換のシクロアルキル基を示す。 The amine compound is at least selected from the group consisting of compounds represented by any of the formulas (C1) to (C5) and oligomers of compounds represented by any of the following formulas (C1) to (C5). One type is preferable.
Figure 2014029502
In formulas (C1) to (C5), R 11 to R 16 , R 22 to R 25 , R 31 to R 34 , R 41 to R 44 , and R 51 to R 54 are each independently a hydrogen atom, hydroxy A monovalent group represented by a group, an acyl group or —CH 2 —OR 1 ; at least one of R 11 to R 16 ; at least one of R 22 to R 25 ; and at least one of R 31 to R 34. , R 41 to R 44 , and at least one of R 51 to R 54 are a monovalent group represented by —CH 2 —OR 1 . R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group (n-propyl group, iso-propyl group), a butyl group (n-butyl group, iso-butyl group, tert-butyl group), and the like from the viewpoint of polymerization. preferable. R 21 represents an aryl group, an alkyl group-substituted aryl group, a cycloalkyl group, or an alkyl group-substituted cycloalkyl group.

以下に、式(C1)〜(C5)のいずれかで示される化合物の具体例を示す。また、式(C1)〜(C5)のいずれかで示される化合物のオリゴマー(多量体)を含有していても良い。均一な重合物の膜を得る観点から、アミン化合物の全質量中、式(C1)〜(C5)のいずれかで示される化合物(単量体)を10質量%以上含有していることが好ましい。   Specific examples of the compound represented by any one of formulas (C1) to (C5) are shown below. Moreover, you may contain the oligomer (multimer) of the compound shown by either of Formula (C1)-(C5). From the viewpoint of obtaining a uniform polymer film, the compound (monomer) represented by any one of formulas (C1) to (C5) is preferably contained in an amount of 10% by mass or more in the total mass of the amine compound. .

上述の多量体の重合度は、2以上100以下である事が好ましい。また、上述の多量体及び単量体は、2種以上混合して用いることもできる。   The degree of polymerization of the above-mentioned multimer is preferably 2 or more and 100 or less. Moreover, the above-mentioned multimer and monomer can be used in combination of two or more.

上記式(C1)で示される化合物の一般的に購入可能なものをしては、例えば、スーパーメラミNo.90(日本油脂社製)、スーパーベッカミン(R)TD−139−60、L−105−60、L127−60、L110−60、J−820−60、G−821−60(DIC社製)、ユーバン2020(三井化学)、スミテックスレジンM−3(住友化学工業)、ニカラックMW−30、MW−390、MX−750LM(日本カーバイド社製)、などが挙げられる。上記式(C2)で示される化合物の一般的に購入可能なものをしては、例えば、”スーパーベッカミン(R)L−148−55、13−535、L−145−60、TD−126(DIC社製)、ニカラックBL−60、BX−4000(日本カーバイド社製)、などが挙げられる。上記式(C3)で示される化合物の一般的に購入可能なものをしては、例えば、ニカラックMX−280(日本カーバイド社製)、などが挙げられる。上記式(C4)で示される化合物の一般的に購入可能なものをしては、例えば、ニカラックMX−270(日本カーバイド社製)、などが挙げられる。上記式(C5)で示される化合物の一般的に購入可能なものをしては、例えば、ニカラックMX−290(日本カーバイド社製)、などが挙げられる。   As a generally commercially available compound represented by the above formula (C1), for example, Super Melami No. 90 (manufactured by NOF Corporation), Super Becamine (R) TD-139-60, L-105-60, L127-60, L110-60, J-820-60, G-821-60 (manufactured by DIC) , Uban 2020 (Mitsui Chemicals), Sumitex Resin M-3 (Sumitomo Chemical Industries), Nicalak MW-30, MW-390, MX-750LM (manufactured by Nippon Carbide), and the like. Examples of generally commercially available compounds represented by the above formula (C2) include, for example, “Superbecamine (R) L-148-55, 13-535, L-145-60, TD-126. (Manufactured by DIC Corporation), Nicarak BL-60, BX-4000 (manufactured by Nippon Carbide Corporation), etc. Examples of generally commercially available compounds represented by the above formula (C3) include: Nicarac MX-280 (manufactured by Nippon Carbide Co., Ltd.), etc. Examples of generally commercially available compounds represented by the above formula (C4) include Nicarak MX-270 (manufactured by Nippon Carbide Co., Ltd.). Examples of generally commercially available compounds represented by the above formula (C5) include Nicalac MX-290 (manufactured by Nippon Carbide).

以下に、式(C1)〜(C5)のいずれかで示される化合物の具体例を示す。

Figure 2014029502
Figure 2014029502
Figure 2014029502
Figure 2014029502
Figure 2014029502
Figure 2014029502
Specific examples of the compound represented by any one of formulas (C1) to (C5) are shown below.
Figure 2014029502
Figure 2014029502
Figure 2014029502
Figure 2014029502
Figure 2014029502
Figure 2014029502

〔樹脂〕
次に、重合性官能基を有する熱可塑性樹脂について説明する。重合性官能基を有する熱可塑性樹脂としては、下記式(D)に示される構造単位を有する熱可塑性樹脂(以下樹脂Dとも称する)が好ましい。

Figure 2014029502
式(D)中、R61は、水素原子またはアルキル基を示す。Yは、単結合、アルキレン基またはフェニレン基を示す。Wは、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基、またはメトキシ基を示す。) 〔resin〕
Next, a thermoplastic resin having a polymerizable functional group will be described. As the thermoplastic resin having a polymerizable functional group, a thermoplastic resin having a structural unit represented by the following formula (D) (hereinafter also referred to as resin D) is preferable.
Figure 2014029502
In the formula (D), R 61 represents a hydrogen atom or an alkyl group. Y 1 represents a single bond, an alkylene group or a phenylene group. W 1 represents a hydroxy group, a thiol group, an amino group, a carboxyl group, or a methoxy group. )

樹脂Dは、例えば、シグマアルドリッチジャパン(株)や東京化成工業(株)から購入可能な、重合性官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基またはメトキシ基)を有するモノマーを重合させることで得られる。   Resin D polymerizes a monomer having a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group, or methoxy group) that can be purchased from, for example, Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd. or Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. Can be obtained.

また、樹脂として、一般的に購入することも可能である。購入可能な樹脂としては、例えば、日本ポリウレタン工業(株)製AQD−457、AQD−473、三洋化成工業(株)製サンニックスGP−400、GP−700などのポリエーテルポリオール系樹脂、日立化成工業(株)製フタルキッドW2343、DIC(株)製ウォーターゾールS−118、CD−520、ベッコライトM−6402−50、M−6201−40IM、ハリマ化成(株)製ハリディップWH−1188、日本ユピカ社製ES3604、ES6538などのポリエステルポリオール系樹脂、DIC(株)製、バーノックWE−300、WE−304などのポリアクリルポリオール系樹脂、(株)クラレ製クラレポバールPVA−203などのポリビニルアルコール系樹脂、積水化学工業(株)製BX−1、BM−1、KS−1、KS−5などのポリビニルアセタール系樹脂、ナガセケムテックス(株)製トレジンFS−350などのポリアミド系樹脂、日本触媒(株)製アクアリック、鉛市(株)製ファインレックスSG2000などのカルボキシル基含有樹脂、DIC(株)製、ラッカマイドなどのポリアミン樹脂、東レ(株)製QE−340Mなどのポリチオール樹脂などが挙げられる。これらの中でもポリビニルアセタール系樹脂、ポリエステルポリオール系樹脂などが重合性、電子輸送層の均一性の観点からより好ましい。   Moreover, it is also possible to generally purchase as resin. Examples of the resin that can be purchased include polyether polyol resins such as AQD-457 and AQD-473 manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., Sannics GP-400 and GP-700 manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., and Hitachi Chemical. Industrial Co., Ltd., Phthalkid W2343, DIC Corporation, Watersol S-118, CD-520, Beckolite M-6402-50, M-6201-40IM, Harima Chemicals Co., Ltd., Hollidip WH-1188, Japan Polyester polyol resins such as Eupica ES3604 and ES6538, Polyacrylic polyol resins such as DIC Corporation, Bernock WE-300 and WE-304, and polyvinyl alcohols such as Kuraray Kuraraypoval PVA-203 Resin, BX-1, BM-1 manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. Polyvinyl acetal resins such as KS-1 and KS-5, polyamide resins such as Toraysin FS-350 manufactured by Nagase ChemteX Corporation, Aqualic manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., Finelex SG2000 manufactured by Lead City Corporation, etc. Carboxyl group-containing resins, DIC Corporation, polyamine resins such as racamide, and Toray Industries Inc. QE-340M polythiol resins. Among these, polyvinyl acetal resins, polyester polyol resins and the like are more preferable from the viewpoints of polymerizability and uniformity of the electron transport layer.

樹脂Dの重量平均分子量(Mw)は5000以上400000以下の範囲であることが好ましく、5000以上300000以下の範囲である事がより好ましい。その理由としては、上述の架橋剤が樹脂Dと重合(架橋)した際に、樹脂Dの分子鎖同士の凝集が抑えられる。そして、樹脂の分子鎖同士の凝集が抑えられ、さらに上述の架橋剤の偏在が抑制されるため、電子輸送物質部位も偏在することなく下引き層内に均一に存在することができるためであると考えられる。   The weight average molecular weight (Mw) of the resin D is preferably in the range of 5,000 to 400,000, more preferably in the range of 5,000 to 300,000. The reason is that aggregation of the molecular chains of the resin D is suppressed when the above-mentioned crosslinking agent is polymerized (crosslinked) with the resin D. And since aggregation of the resin molecular chains is suppressed and the above-mentioned uneven distribution of the cross-linking agent is suppressed, the electron transport material site can be uniformly present in the undercoat layer without being unevenly distributed. it is conceivable that.

樹脂中の重合性官能基の定量法としては、以下の方法が挙げられる。水酸化カリウムを用いたカルボキシル基の滴定、亜硝酸ナトリウムを用いたアミノ基の滴定、無水酢酸と水酸化カリウムを用いたヒドロキシ基の滴定、5,5’−ジチオビス(2−ニトロ安息香酸)を用いたチオール基の滴定などがある。また、重合性官能基導入比率を変化させた試料のIRスペクトルから得られる検量線法が挙げられる。   Examples of the quantitative method for the polymerizable functional group in the resin include the following methods. Titration of carboxyl group using potassium hydroxide, titration of amino group using sodium nitrite, titration of hydroxy group using acetic anhydride and potassium hydroxide, 5,5′-dithiobis (2-nitrobenzoic acid) Titration of the thiol group used. Moreover, the calibration curve method obtained from the IR spectrum of the sample which changed the polymeric functional group introduction ratio is mentioned.

以下表10に、樹脂Dの具体例を示す。   Table 10 below shows specific examples of the resin D.

Figure 2014029502
Figure 2014029502

重合性官能基を有する電子輸送物質は、重合性官能基を有する電子輸送物質、架橋剤および重合性官能基を有する樹脂を含む組成物の全質量に対して30質量%以上70%質量以下であることが好ましい。   The electron transport material having a polymerizable functional group is 30% by mass or more and 70% by mass or less based on the total mass of the composition including the electron transport material having a polymerizable functional group, a crosslinking agent, and a resin having a polymerizable functional group. Preferably there is.

架橋剤の官能基(イソシアネート基または−CH−ORを示される1価の基)と、樹脂の重合性官能基及び電子輸送物質の重合性官能基を合計した官能基との比率が、1:0.5〜1:3.0であると、反応する官能基の割合が高くなるため好ましい。この場合、電子輸送層は、ESCAによる深さ方向の各原子の比率の分析により、炭素原子の比率、窒素原子の比率および酸素原子の比率それぞれの標準偏差は、上記式(1)〜(3)を満たす。そして、電子輸送構造が電子輸送層中で凝集することなく、均一に存在するので好ましい。 The ratio of the functional group of the crosslinking agent (isocyanate group or monovalent group represented by —CH 2 —OR 1 ) to the total of the polymerizable functional group of the resin and the polymerizable functional group of the electron transport material is The ratio of 1: 0.5 to 1: 3.0 is preferable because the ratio of the functional group to be reacted is increased. In this case, the electron transport layer is obtained by analyzing the ratio of each atom in the depth direction by ESCA, and the standard deviations of the carbon atom ratio, the nitrogen atom ratio, and the oxygen atom ratio are expressed by the above formulas (1) to (3). Is satisfied. And since an electron transport structure exists uniformly, without aggregating in an electron carrying layer, it is preferable.

また、電子輸送層には、上記式(1)〜(3)を満たす範囲で、粗し粒子を含有してもよい。粗し粒子としては、硬化性ゴム、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アルキド樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、アクリル−メラミン樹脂などの硬化性樹脂の粒子などが挙げられる。また、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウムの粒子などの金属酸化物粒子などが挙げられるが、導電層と、電子輸送層との界面と判断するため、導電層に含有させる導電性粒子と同じ金属原子を有する金属酸化物粒子でないことが好ましい。また、レベリング効果や密着性向上の目的で、上記式(1)〜(3)を満たす範囲で、シリコーンオイル、界面活性剤、シラン化合物などを含有してもよい。これらの添加物の含有量は、電子輸送層の全質量に対して、5質量%以下であることが、電子輸送層の均一性の観点から好ましい。また、本発明の電子輸送層の膜厚は0.1μm以上5.0μm以下が好ましい。   Further, the electron transport layer may contain roughened particles as long as the above formulas (1) to (3) are satisfied. Examples of the roughened particles include curable resin particles such as curable rubber, polyurethane resin, epoxy resin, alkyd resin, phenol resin, polyester resin, silicone resin, and acrylic-melamine resin. In addition, metal oxide particles such as titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, and zirconium oxide particles may be mentioned. In order to determine the interface between the conductive layer and the electron transport layer, the conductive particles included in the conductive layer It is preferable that it is not the metal oxide particle which has the same metal atom. Further, for the purpose of improving the leveling effect and adhesion, silicone oil, surfactant, silane compound and the like may be contained in a range satisfying the above formulas (1) to (3). The content of these additives is preferably 5% by mass or less with respect to the total mass of the electron transport layer from the viewpoint of the uniformity of the electron transport layer. The film thickness of the electron transport layer of the present invention is preferably 0.1 μm or more and 5.0 μm or less.

電子輸送層に含有する化合物、重合物の確認は、以下の方法によって行った。
・質量分析
質量分析計(MALDI−TOF MS:ブルカー・ダルトニクス(株)製 ultraflex)を用い、加速電圧:20kV、モード:Reflector、分子量標準品:フラーレンC60の条件で、分子量を測定した。得られたピークトップ値で確認した。
・NMR分析
1,1,2,2−テトラクロロエタン(d2)もしくは、ジメチルスルホキシド(d6)中、120℃にてH−NMR、13C−NMR分析(FT−NMR:日本電子(株)製JNM−EX400型)により構造を確認した。
・GPC分析
東ソー(株)製のゲルパーミエーションクロマトグラフィー「HLC−8120」で測定し、ポリスチレン換算で計算した。
The compound and polymer contained in the electron transport layer were confirmed by the following method.
-Mass spectrometry The molecular weight was measured using a mass spectrometer (MALDI-TOF MS: ultraflex manufactured by Bruker Daltonics Co., Ltd.) under the conditions of acceleration voltage: 20 kV, mode: Reflector, molecular weight standard product: fullerene C60. It confirmed with the obtained peak top value.
-NMR analysis In 1,1,2,2-tetrachloroethane (d2) or dimethyl sulfoxide (d6), 1 H-NMR, 13 C-NMR analysis (FT-NMR: manufactured by JEOL Ltd.) at 120 ° C The structure was confirmed by JNM-EX400 type).
-GPC analysis It measured with the gel permeation chromatography "HLC-8120" by Tosoh Corporation, and computed in polystyrene conversion.

〔支持体〕
支持体としては、導電性を有するもの(導電性支持体)であることが好ましく、例えば、アルミニウム、ニッケル、銅、金、鉄などの金属または合金製の支持体を用いることができる。ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、ガラスなどの絶縁性支持体上にアルミニウム、銀、金などの金属の薄膜を形成した支持体、または酸化インジウム、酸化スズなどの導電性材料の薄膜を形成した支持体が挙げられる。
[Support]
The support is preferably a conductive one (conductive support). For example, a support made of a metal such as aluminum, nickel, copper, gold, iron, or an alloy can be used. A support in which a thin film of metal such as aluminum, silver, or gold is formed on an insulating support such as polyester resin, polycarbonate resin, polyimide resin, or glass, or a thin film of conductive material such as indium oxide or tin oxide is formed. A support is mentioned.

支持体の表面には、電気的特性の改善や干渉縞の抑制のため、陽極酸化などの電気化学的な処理や、湿式ホーニング処理、ブラスト処理、切削処理などの処理を施してもよい。   The surface of the support may be subjected to electrochemical treatment such as anodization, wet honing treatment, blast treatment, cutting treatment, etc. in order to improve electrical characteristics and suppress interference fringes.

支持体と、電子輸送層との間には、導電層を設けてもよい。導電層は、導電性粒子を樹脂に分散させた導電層用塗布液の塗膜を支持体上に形成し、乾燥させることで得られる。導電性粒子としては、たとえば、カーボンブラック、アセチレンブラックや、アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀のような金属粉や、導電性酸化スズ、ITOのような金属酸化物粉体が挙げられる。また、導電層は電子輸送層、導電層の順に設けてもよい。   A conductive layer may be provided between the support and the electron transport layer. The conductive layer can be obtained by forming a coating film of a coating liquid for conductive layer in which conductive particles are dispersed in a resin on a support and drying it. Examples of the conductive particles include carbon black, acetylene black, metal powder such as aluminum, nickel, iron, nichrome, copper, zinc, and silver, and metal oxide powder such as conductive tin oxide and ITO. Can be mentioned. The conductive layer may be provided in the order of the electron transport layer and the conductive layer.

また、樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂およびアルキッド樹脂が挙げられる。   Examples of the resin include polyester resin, polycarbonate resin, polyvinyl butyral resin, acrylic resin, silicone resin, epoxy resin, melamine resin, urethane resin, phenol resin, and alkyd resin.

導電層用塗布液の溶剤としては、例えば、エーテル系溶剤、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤および芳香族炭化水素溶剤が挙げられる。導電層の膜厚は、0.2μm以上40μm以下であることが好ましく、1μm以上35μm以下であることがより好ましく、さらには5μm以上30μm以下であることがより好ましい。   Examples of the solvent for the conductive layer coating solution include ether solvents, alcohol solvents, ketone solvents, and aromatic hydrocarbon solvents. The thickness of the conductive layer is preferably 0.2 μm or more and 40 μm or less, more preferably 1 μm or more and 35 μm or less, and even more preferably 5 μm or more and 30 μm or less.

〔感光層〕
電子輸送層上には、電荷発生層が設けられる。
電荷発生物質としては、アゾ顔料、ペリレン顔料、アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体、ジベンズピレンキノン誘導体、ピラントロン誘導体、ビオラントロン誘導体、イソビオラントロン誘導体、インジゴ誘導体、チオインジゴ誘導体、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどのフタロシアニン顔料や、ビスベンズイミダゾール誘導体などが挙げられる。これらの中でも、アゾ顔料、およびフタロシアニン顔料の少なくとも一方が好ましい。フタロシアニン顔料の中でも、オキシチタニウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニンが好ましい。
(Photosensitive layer)
A charge generation layer is provided on the electron transport layer.
Charge generation materials include azo pigments, perylene pigments, anthraquinone derivatives, anthanthrone derivatives, dibenzpyrenequinone derivatives, pyranthrone derivatives, violanthrone derivatives, isoviolanthrone derivatives, indigo derivatives, thioindigo derivatives, metal phthalocyanines, metal-free phthalocyanines, etc. Phthalocyanine pigments and bisbenzimidazole derivatives. Among these, at least one of an azo pigment and a phthalocyanine pigment is preferable. Among the phthalocyanine pigments, oxytitanium phthalocyanine, chlorogallium phthalocyanine, and hydroxygallium phthalocyanine are preferable.

感光層が積層型感光層である場合、電荷発生層に用いられる結着樹脂としては、例えば、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレンなどのビニル化合物の重合体および共重合体や、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂が好ましく、ポリビニルアセタールがより好ましい。   When the photosensitive layer is a laminated photosensitive layer, examples of the binder resin used for the charge generation layer include styrene, vinyl acetate, vinyl chloride, acrylic ester, methacrylic ester, vinylidene fluoride, and trifluoroethylene. Polymers and copolymers of vinyl compounds, polyvinyl alcohol resins, polyvinyl acetal resins, polycarbonate resins, polyester resins, polysulfone resins, polyphenylene oxide resins, polyurethane resins, cellulose resins, phenol resins, melamine resins, silicon resins, epoxy resins, etc. Is mentioned. Among these, polyester resin, polycarbonate resin, and polyvinyl acetal resin are preferable, and polyvinyl acetal is more preferable.

電荷発生層において、電荷発生物質と結着樹脂との比率(電荷発生物質/結着樹脂)は、10/1〜1/10の範囲であることが好ましく、5/1〜1/5の範囲であることがより好ましい。電荷発生層用塗布液に用いられる溶剤は、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤または芳香族炭化水素溶剤などが挙げられる。
電荷発生層の膜厚は、0.05μm以上5μm以下であることが好ましい。
In the charge generation layer, the ratio of the charge generation material to the binder resin (charge generation material / binder resin) is preferably in the range of 10/1 to 1/10, and in the range of 5/1 to 1/5. It is more preferable that Examples of the solvent used in the charge generation layer coating solution include alcohol solvents, sulfoxide solvents, ketone solvents, ether solvents, ester solvents, and aromatic hydrocarbon solvents.
The thickness of the charge generation layer is preferably 0.05 μm or more and 5 μm or less.

感光層が積層型感光層である場合、電荷発生層上には正孔輸送層が形成される。
正孔輸送物質としては、例えば、多環芳香族化合物、複素環化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、ベンジジン化合物、トリアリールアミン化合物、トリフェニルアミンが挙げられる。または、これらの化合物から誘導される基を主鎖または側鎖に有するポリマーが挙げられる。これらの中でもトリアリールアミン化合物、ベンジジン化合物、またはスチリル化合物が好ましい。
When the photosensitive layer is a laminated photosensitive layer, a hole transport layer is formed on the charge generation layer.
Examples of the hole transport material include polycyclic aromatic compounds, heterocyclic compounds, hydrazone compounds, styryl compounds, benzidine compounds, triarylamine compounds, and triphenylamine. Or the polymer which has group derived from these compounds in a principal chain or a side chain is mentioned. Among these, a triarylamine compound, a benzidine compound, or a styryl compound is preferable.

正孔輸送層に用いられる結着樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリスチレン樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリカーボネート樹脂およびポリアリレート樹脂が好ましい。また、これらの分子量としては、重量平均分子量(Mw)=10,000〜300,000の範囲が好ましい。   Examples of the binder resin used for the hole transport layer include a polyester resin, a polycarbonate resin, a polymethacrylate resin, a polyarylate resin, a polysulfone resin, and a polystyrene resin. Among these, polycarbonate resin and polyarylate resin are preferable. Moreover, as these molecular weight, the range of a weight average molecular weight (Mw) = 10,000-300,000 is preferable.

正孔輸送層において、正孔輸送物質と結着樹脂との比率(正孔輸送物質/結着樹脂)は、10/5〜5/10が好ましく、10/8〜6/10がより好ましい。   In the hole transport layer, the ratio of the hole transport material to the binder resin (hole transport material / binder resin) is preferably 10/5 to 5/10, and more preferably 10/8 to 6/10.

正孔輸送層の膜厚は、3μm以上40μm以下であることが好ましい。電子輸送層との膜厚との観点から、より好ましくは5μm以上16μm以下である。正孔輸送層用塗布液に用いられる溶剤は、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤または芳香族炭化水素溶剤などが挙げられる。   The thickness of the hole transport layer is preferably 3 μm or more and 40 μm or less. From the viewpoint of the film thickness with the electron transport layer, it is more preferably 5 μm or more and 16 μm or less. Examples of the solvent used in the coating liquid for the hole transport layer include alcohol solvents, sulfoxide solvents, ketone solvents, ether solvents, ester solvents, and aromatic hydrocarbon solvents.

なお、支持体と上記電子輸送層との間や上記電子輸送層と電荷発生層との間に、本発明に係る重合体を含有しない第2の下引き層などの別の層を設けてもよい。   Note that another layer such as a second undercoat layer not containing the polymer according to the present invention may be provided between the support and the electron transport layer or between the electron transport layer and the charge generation layer. Good.

また、正孔輸送層上に表面保護層を形成してもよい。表面保護層は、導電性粒子または電荷輸送物質と結着樹脂とを含有する。また、表面保護層は、潤滑剤などの添加剤をさらに含有してもよい。また、保護層の結着樹脂自体に導電性や電荷輸送性を有させてもよく、その場合、保護層には、当該樹脂以外の導電性粒子や電荷輸送物質を含有させなくてもよい。また、保護層の結着樹脂は、熱可塑性樹脂でもよいし、熱、光、放射線(電子線など)などにより重合させてなる硬化性樹脂であってもよい。   A surface protective layer may be formed on the hole transport layer. The surface protective layer contains conductive particles or a charge transport material and a binder resin. The surface protective layer may further contain an additive such as a lubricant. Further, the binder resin itself of the protective layer may have conductivity and charge transport property. In that case, the protective layer may not contain conductive particles other than the resin or a charge transport material. Further, the binder resin of the protective layer may be a thermoplastic resin or a curable resin that is polymerized by heat, light, radiation (electron beam, etc.), or the like.

上記各層を形成する方法としては、各層を構成する材料を溶剤に溶解および/または分散させて得られた塗布液を塗布し、得られた塗膜を乾燥および/または硬化させることによって形成する方法が好ましい。塗布液を塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法(浸漬コーティング法)、スプレーコーティング法、カーテンコーティング法、スピンコーティング法などが挙げられる。これらの中でも、効率性および生産性の観点から、浸漬塗布法が好ましい。   As a method of forming each of the above layers, a method of forming by coating a coating solution obtained by dissolving and / or dispersing materials constituting each layer in a solvent, and drying and / or curing the obtained coating film. Is preferred. Examples of the method for applying the coating liquid include a dip coating method (dip coating method), a spray coating method, a curtain coating method, and a spin coating method. Among these, the dip coating method is preferable from the viewpoints of efficiency and productivity.

〔プロセスカートリッジおよび電子写真装置〕
図3に、電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジを有する電子写真装置の概略構成を示す。
図3において、1は円筒状の電子写真感光体であり、軸2を中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。回転駆動される電子写真感光体1の表面(周面)は、帯電手段3(一次帯電手段:帯電ローラーなど)により、正または負の所定電位に均一に帯電される。次いで、スリット露光やレーザービーム走査露光などの露光手段(不図示)からの露光光(画像露光光)4を受ける。こうして電子写真感光体1の表面に、目的の画像に対応した静電潜像が順次形成されていく。
[Process cartridge and electrophotographic apparatus]
FIG. 3 shows a schematic configuration of an electrophotographic apparatus having a process cartridge provided with an electrophotographic photosensitive member.
In FIG. 3, reference numeral 1 denotes a cylindrical electrophotographic photosensitive member, which is driven to rotate at a predetermined peripheral speed in the direction of the arrow about the shaft 2. The surface (circumferential surface) of the electrophotographic photosensitive member 1 that is rotationally driven is uniformly charged to a predetermined positive or negative potential by a charging unit 3 (primary charging unit: charging roller or the like). Next, it receives exposure light (image exposure light) 4 from exposure means (not shown) such as slit exposure or laser beam scanning exposure. In this way, electrostatic latent images corresponding to the target image are sequentially formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member 1.

電子写真感光体1の表面に形成された静電潜像は、次いで現像手段5の現像剤に含まれるトナーにより現像されてトナー像となる。次いで、電子写真感光体1の表面に形成担持されているトナー像が、転写手段(転写ローラーなど)6からの転写バイアスによって、転写材(紙など)Pに順次転写されていく。なお、転写材Pは、転写材供給手段(不図示)から電子写真感光体1と転写手段6との間(当接部)に電子写真感光体1の回転と同期して取り出されて給送される。   The electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photoreceptor 1 is then developed with toner contained in the developer of the developing means 5 to become a toner image. Next, the toner image formed and supported on the surface of the electrophotographic photosensitive member 1 is sequentially transferred onto a transfer material (such as paper) P by a transfer bias from a transfer unit (such as a transfer roller) 6. The transfer material P is taken out from the transfer material supply means (not shown) between the electrophotographic photoreceptor 1 and the transfer means 6 (contact portion) in synchronization with the rotation of the electrophotographic photoreceptor 1 and fed. Is done.

トナー像の転写を受けた転写材Pは、電子写真感光体1の表面から分離されて定着手段8へ導入されて像定着を受けることにより画像形成物(プリント、コピー)として装置外へプリントアウトされる。   The transfer material P that has received the transfer of the toner image is separated from the surface of the electrophotographic photosensitive member 1 and introduced into the fixing means 8 to receive the image fixing, and is printed out as an image formed product (print, copy). Is done.

トナー像転写後の電子写真感光体1の表面は、クリーニング手段(クリーニングブレードなど)7によって転写残りの現像剤(トナー)の除去を受けて清浄面化される。次いで、前露光手段(不図示)からの前露光光(不図示)により除電処理された後、繰り返し画像形成に使用される。なお、図3に示すように、帯電手段3が帯電ローラーなどを用いた接触帯電手段である場合は、前露光は必ずしも必要ではない。   The surface of the electrophotographic photosensitive member 1 after the transfer of the toner image is cleaned by receiving a developer (toner) remaining after transfer by a cleaning means (cleaning blade or the like) 7. Next, after being subjected to charge removal processing by pre-exposure light (not shown) from pre-exposure means (not shown), it is repeatedly used for image formation. As shown in FIG. 3, when the charging unit 3 is a contact charging unit using a charging roller or the like, pre-exposure is not necessarily required.

上記の電子写真感光体1、帯電手段3、現像手段5、転写手段6およびクリーニング手段7などの構成要素のうち、複数のものを選択して容器に納めてプロセスカートリッジとして一体に結合して構成する。そして、このプロセスカートリッジを複写機やレーザービームプリンターなどの電子写真装置本体に対して着脱自在に構成してもよい。図3では、電子写真感光体1と、帯電手段3、現像手段5およびクリーニング手段7とを一体に支持してカートリッジ化して、電子写真装置本体のレールなどの案内手段10を用いて電子写真装置本体に着脱自在なプロセスカートリッジ9としている。   Among the electrophotographic photosensitive member 1, charging unit 3, developing unit 5, transfer unit 6, and cleaning unit 7, a plurality of components are selected and placed in a container and integrally combined as a process cartridge. To do. The process cartridge may be configured to be detachable from an electrophotographic apparatus main body such as a copying machine or a laser beam printer. In FIG. 3, the electrophotographic photosensitive member 1, the charging unit 3, the developing unit 5 and the cleaning unit 7 are integrally supported to form a cartridge, and the electrophotographic apparatus is used by using a guide unit 10 such as a rail of the electrophotographic apparatus main body. The process cartridge 9 is detachable from the main body.

以下、実施例により、本発明をより詳細に説明する。なお、実施例中の「部」は「質量部」を意味する。
まず、本発明に係る電子輸送性化合物の合成例を示す。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. In the examples, “part” means “part by mass”.
First, synthesis examples of the electron transporting compound according to the present invention will be shown.

(合成例1)
ジメチルアセトアミド200部に、窒素雰囲気下で、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物(東京化成工業(株)製)5.4部および2−メチル6−エチルアニリン(東京化成工業(株)製)4部、2−アミノ1−ブタノール3部を加え、室温で1時間撹拌し、溶液を調製した。溶液を調製後、8時間還流を行い、析出物を濾別し、酢酸エチルで再結晶を行い、化合物A101を1.0部得た。
(Synthesis Example 1)
200 parts of dimethylacetamide, 5.4 parts of naphthalenetetracarboxylic dianhydride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 4 parts of 2-methyl 6-ethylaniline (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) under a nitrogen atmosphere Then, 3 parts of 2-amino 1-butanol was added and stirred at room temperature for 1 hour to prepare a solution. After preparing the solution, the mixture was refluxed for 8 hours. The precipitate was filtered off and recrystallized from ethyl acetate to obtain 1.0 part of Compound A101.

(合成例2)
ジメチルアセトアミド200部に、窒素雰囲気下で、東京化成工業(株)製ナフタレンテトラカルボン酸二無水物(東京化成工業(株))製5.4部、および2−アミノ酪酸(東京化成工業(株))5部を加え、室温で1時間撹拌し、溶液を調製した。溶液を調製後、8時間還流を行い、析出物を濾別し、酢酸エチルで再結晶を行い、化合物A129を4.6部得た。
(Synthesis Example 2)
In a nitrogen atmosphere, 5.4 parts of naphthalenetetracarboxylic dianhydride (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 2-aminobutyric acid (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were added to 200 parts of dimethylacetamide. )) 5 parts were added and stirred at room temperature for 1 hour to prepare a solution. After preparing the solution, the mixture was refluxed for 8 hours. The precipitate was filtered off and recrystallized from ethyl acetate to obtain 4.6 parts of Compound A129.

(合成例3)
ジメチルアセトアミド200部に、窒素雰囲気下で、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物5.4部および2,6ジエチルアニリン(東京化成工業(株)製)4.5部、4−アミノベンゼンチオール4部を加え、室温で1時間撹拌し、溶液を調製した。溶液を調製後、8時間還流を行い、析出物を濾別し、酢酸エチルで再結晶を行い、化合物A114を1.3部得た。
(Synthesis Example 3)
In a nitrogen atmosphere, 200 parts of dimethylacetamide, 5.4 parts of naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 4.5 parts of 2,6 diethylaniline (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 4 parts of 4-aminobenzenethiol The mixture was stirred at room temperature for 1 hour to prepare a solution. After preparing the solution, the mixture was refluxed for 8 hours. The precipitate was filtered off and recrystallized from ethyl acetate to obtain 1.3 parts of Compound A114.

(合成例4)
トルエン100部およびエタノール50部の混合溶媒へ、アルドリッチ社製4−(ヒドロキシメチル)フェニルボロン酸2.8部およびシグマアルドリッチジャパン(株)社製フェナントレンキノンから窒素雰囲気下でChem. Educator No.6, 227−234 (2001)に記載の合成方法で合成した3,6−ジブロモ−9,10−フェナントレンジオン7.4部を加え、20%炭酸ナトリウム水溶液100部を滴下した後、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)を0.55部添加した後、2時間還流させた。反応後有機相をクロロホルムで抽出し、水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥を行った。溶媒を減圧下で除去した後、残留物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製を行い、化合物A216を3.2部得た。
(Synthesis Example 4)
To a mixed solvent of 100 parts of toluene and 50 parts of ethanol, 2.8 parts of 4- (hydroxymethyl) phenylboronic acid manufactured by Aldrich and phenanthrenequinone manufactured by Sigma-Aldrich Japan Co., under a nitrogen atmosphere, Chem. Educator No. After adding 7.4 parts of 3,6-dibromo-9,10-phenanthrene dione synthesized by the synthesis method described in US Pat. No. 6,227-234 (2001) and adding 100 parts of a 20% aqueous sodium carbonate solution dropwise, tetrakis (tri After adding 0.55 part of phenylphosphine) palladium (0), the mixture was refluxed for 2 hours. After the reaction, the organic phase was extracted with chloroform, washed with water, and dried over anhydrous sodium sulfate. After removing the solvent under reduced pressure, the residue was purified by silica gel chromatography to obtain 3.2 parts of Compound A216.

(合成例5)
3−アミノフェニルボロン酸1水和物2.8部およびフェナントロリンキノン(シグマアルドリッチジャパン(株)社製)を窒素雰囲気下で、合成例4と同様に2,7−ジブロモ−9,10−フェナントロリンキノン7.4部を合成した。トルエン100部およびエタノール50部の混合溶媒に、2,7−ジブロモ−9,10−フェナントロリンキノン7.4部を加え、20%炭酸ナトリウム水溶液100部を滴下した後、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)を0.55部添加した後、2時間還流させた。反応後、有機相をクロロホルムで抽出し、水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥を行った。溶媒を減圧下で除去した後、残留物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製を行い、化合物A316を2.2部得た。
(Synthesis Example 5)
2,7-Dibromo-9,10-phenanthroline was prepared in the same manner as in Synthesis Example 4 except that 2.8 parts of 3-aminophenylboronic acid monohydrate and phenanthroline quinone (manufactured by Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd.) were used. 7.4 parts of quinone were synthesized. 7.4 parts of 2,7-dibromo-9,10-phenanthrolinequinone is added to a mixed solvent of 100 parts of toluene and 50 parts of ethanol, and 100 parts of 20% aqueous sodium carbonate solution is added dropwise, followed by tetrakis (triphenylphosphine) palladium. After adding 0.55 parts of (0), the mixture was refluxed for 2 hours. After the reaction, the organic phase was extracted with chloroform, washed with water, and dried over anhydrous sodium sulfate. After removing the solvent under reduced pressure, the residue was purified by silica gel chromatography to obtain 2.2 parts of Compound A316.

(合成例6)
ジメチルアセトアミド200部に、窒素雰囲気下で、ペリレンテトラカルボン酸二無水物(東京化成工業(株)製)7.4部および2,6ジエチルアニリン(東京化成工業(株)製)4部、2−アミノフェニルエタノール4部を加え、室温で1時間撹拌し、溶液を調製した。溶液を調製後、8時間還流を行い、析出物を濾別し、酢酸エチルで再結晶を行い、化合物A803を5.0部得た。
(Synthesis Example 6)
200 parts of dimethylacetamide, 7.4 parts of perylenetetracarboxylic dianhydride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 4 parts of 2,6 diethylaniline (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) under a nitrogen atmosphere, 2 parts -4 parts of aminophenylethanol was added and stirred at room temperature for 1 hour to prepare a solution. After preparing the solution, the mixture was refluxed for 8 hours, and the precipitate was filtered off and recrystallized from ethyl acetate to obtain 5.0 parts of Compound A803.

(合成例7)
ジメチルアセトアミド200部に、窒素雰囲気下で、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物5.4部およびロイシノール5.2部を加え、室温で1時間撹拌後、7時間還流を行った。ジメチルアセトアミドを減圧蒸留で除いた後、酢酸エチルで再結晶を行い、化合物A168を5.0部得た。
(Synthesis Example 7)
To 200 parts of dimethylacetamide, 5.4 parts of naphthalenetetracarboxylic dianhydride and 5.2 parts of leucinol were added under a nitrogen atmosphere, stirred at room temperature for 1 hour, and then refluxed for 7 hours. Dimethylacetamide was removed by distillation under reduced pressure, and then recrystallization was performed with ethyl acetate to obtain 5.0 parts of Compound A168.

(合成例8)
ジメチルアセトアミド200部に、窒素雰囲気下で、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物5.4部およびロイシノール2.6部、2−(2−アミノエチルチオ)エタノール2.7部を加え、室温で1時間撹拌後、7時間還流を行った。得られた黒褐色溶液からジメチルアセトアミドを減圧蒸留で除いた後、酢酸エチル/トルエン混合溶液に溶解した。
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒酢酸エチル/トルエン)で分離後、目的物を含有するフラクションを濃縮し、得られた結晶をトルエン/ヘキサン混合溶液で再結晶を行い、化合物A163を2.5部得た。
次に、電子写真感光体の製造および評価について示す。
(Synthesis Example 8)
Under a nitrogen atmosphere, 5.4 parts of naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2.6 parts of leucinol and 2.7 parts of 2- (2-aminoethylthio) ethanol are added to 200 parts of dimethylacetamide at room temperature for 1 hour. After stirring, the mixture was refluxed for 7 hours. Dimethylacetamide was removed from the resulting black brown solution by distillation under reduced pressure, and then dissolved in a mixed solution of ethyl acetate / toluene.
After separation by silica gel column chromatography (developing solvent: ethyl acetate / toluene), the fraction containing the target compound is concentrated, and the resulting crystals are recrystallized with a toluene / hexane mixed solution to obtain 2.5 parts of compound A163. It was.
Next, production and evaluation of an electrophotographic photoreceptor will be described.

(実施例1)
長さ260.5mmおよび直径30mmのアルミニウムシリンダー(JIS−A3003、アルミニウム合金)を支持体(導電性支持体)とした。
Example 1
An aluminum cylinder (JIS-A3003, aluminum alloy) having a length of 260.5 mm and a diameter of 30 mm was used as a support (conductive support).

次に、酸素欠損型酸化スズが被覆されている酸化チタン粒子(粉体抵抗率:120Ω・cm、酸化スズの被覆率:40%。)50部、フェノール樹脂(プライオーフェンJ−325、大日本インキ化学工業(株)製、樹脂固形分:60%。)40部、メトキシプロパノール50部を、直径1mmのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、3時間分散処理することによって、導電層用塗布液(分散液)を調製した。この導電層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間150℃で乾燥・熱重合させることによって、膜厚が16μmの導電層を形成した。   Next, 50 parts of titanium oxide particles coated with oxygen-deficient tin oxide (powder resistivity: 120 Ω · cm, tin oxide coverage: 40%), phenol resin (Pryofen J-325, Dainippon) Ink Chemical Industry Co., Ltd., resin solid content: 60%.) 40 parts and 50 parts of methoxypropanol were placed in a sand mill using glass beads with a diameter of 1 mm, and subjected to a dispersion treatment for 3 hours. (Dispersion) was prepared. The conductive layer coating solution was dip-coated on a support, and the resulting coating film was dried and thermally polymerized at 150 ° C. for 30 minutes to form a conductive layer having a thickness of 16 μm.

この導電層用塗布液における酸素欠損型酸化スズが被覆されている酸化チタン粒子の平均粒径を、(株)堀場製作所製の粒度分布計(商品名:CAPA700)を用い、テトラヒドロフランを分散媒とし、回転数5000rpmにて遠心沈降法で測定した。その結果、平均粒径は0.31μmであった。   The average particle diameter of the titanium oxide particles coated with oxygen-deficient tin oxide in the coating liquid for the conductive layer was measured using a particle size distribution meter (trade name: CAPA700) manufactured by Horiba, Ltd., and tetrahydrofuran as a dispersion medium. , And measured by centrifugal sedimentation at a rotational speed of 5000 rpm. As a result, the average particle size was 0.31 μm.

次に、化合物(A101)4部、架橋剤(B1:保護基(H1)=5.1:2.2(質量比))7.3部、樹脂(D1)0.9部、触媒としてのジオクチルスズラウリレート0.05部を、ジメチルアセトアミド100部とメチルエチルケトン100部の混合溶媒に溶解し、電子輸送層用塗布液を調製した。この電子輸送層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を40分間160℃で加熱し、重合させることによって、膜厚が0.53μmの硬化膜である電子輸送層(下引き層)を形成した。   Next, 4 parts of compound (A101), 7.3 parts of crosslinking agent (B1: protecting group (H1) = 5.1: 2.2 (mass ratio)), 0.9 part of resin (D1), 0.05 parts of dioctyltin laurate was dissolved in a mixed solvent of 100 parts of dimethylacetamide and 100 parts of methyl ethyl ketone to prepare a coating solution for an electron transport layer. This electron transport layer coating solution is applied onto the conductive layer by dip coating, and the resulting coating film is heated at 160 ° C. for 40 minutes to polymerize, thereby forming an electron transport layer (0.53 μm thick cured film). Undercoat layer) was formed.

電子輸送層用塗布液の電子輸送物質、架橋剤および樹脂の全質量に対する電子輸送物質の含有量は33質量%であった。   The content of the electron transport material with respect to the total mass of the electron transport material, the crosslinking agent, and the resin in the coating solution for the electron transport layer was 33% by mass.

次に、CuKα特性X線回折におけるブラッグ角(2θ±0.2°)の7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°および28.3°に強いピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶(電荷発生物質)10部、ポリビニルブチラール樹脂(商品名:エスレックBX−1、積水化学工業(株)製)5部およびシクロヘキサノン250部を、直径1mmのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、1.5時間分散処理した。次に、これに酢酸エチル250部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。   Next, Bragg angles (2θ ± 0.2 °) in CuKα characteristic X-ray diffraction of 7.5 °, 9.9 °, 12.5 °, 16.3 °, 18.6 °, 25.1 ° and 10 parts of crystalline hydroxygallium phthalocyanine crystal (charge generating material) having a strong peak at 28.3 °, 5 parts of polyvinyl butyral resin (trade name: S-REC BX-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) and 250 parts of cyclohexanone Was placed in a sand mill using glass beads having a diameter of 1 mm and dispersed for 1.5 hours. Next, 250 parts of ethyl acetate was added thereto to prepare a charge generation layer coating solution.

この電荷発生層用塗布液を、電子輸送層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を10分間100℃で乾燥させることによって、膜厚が0.15μmの電荷発生層を形成した。   This charge generation layer coating solution was dip-coated on the electron transport layer, and the resulting coating film was dried at 100 ° C. for 10 minutes to form a charge generation layer having a thickness of 0.15 μm.

次に、下記構造式(9)で示されるアミン化合物(正孔輸送物質)8部、および、下記式(10−1)で示される繰り返し構造単位、および下記式(10−2)で示される繰り返し構造単位を5/5の割合で有し、重量平均分子量(Mw)が100000であるポリエステル樹脂(I)10部を、ジメトキシメタン40部およびo−キシレン60部の混合溶剤に溶解させることによって、正孔輸送層用塗布液を調製した。この正孔輸送層用塗布液を、電荷発生層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を40分間120℃で乾燥させることによって、膜厚が15μmの正孔輸送層を形成した。

Figure 2014029502
Figure 2014029502
Next, 8 parts of an amine compound (hole transport material) represented by the following structural formula (9), a repeating structural unit represented by the following formula (10-1), and a following formula (10-2) By dissolving 10 parts of a polyester resin (I) having a repeating structural unit at a ratio of 5/5 and having a weight average molecular weight (Mw) of 100,000 in a mixed solvent of 40 parts of dimethoxymethane and 60 parts of o-xylene. Then, a coating solution for a hole transport layer was prepared. This hole transport layer coating solution was dip-coated on the charge generation layer, and the resulting coating film was dried at 120 ° C. for 40 minutes to form a hole transport layer having a thickness of 15 μm.
Figure 2014029502
Figure 2014029502

このようにして、プラスメモリーおよび電位変動評価用の電子写真感光体を製造した。また、上記と同様にして、もう1つの電子写真感光体を製造し、判定用電子写真感光体とした。   Thus, a positive memory and an electrophotographic photosensitive member for potential fluctuation evaluation were manufactured. Further, another electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as described above, and used as an electrophotographic photosensitive member for determination.

(判定試験)
上記判定用電子写真感光体を、ジメトキシメタン40部およびo−キシレン60部の混合溶剤に5分間浸漬させ、正孔輸送層を剥離させた後、さらにシクロヘキサノン溶剤に5分間浸漬させ、電荷発生層も剥離させた。その後、10分100℃で乾燥させた。FTIR−ATR法を用いて電子輸送層表面に正孔輸送層及び電荷発生層の成分が残っていないことを確認した。この電子写真感光体を温度25℃、湿度50%RH環境下に24時間放置した後、電子写真感光体の中央部分(端から130mmの位置)を1cm角に切り出し、ESCA測定用サンプルを作製した。
(Judgment test)
The electrophotographic photoreceptor for determination is immersed in a mixed solvent of 40 parts of dimethoxymethane and 60 parts of o-xylene for 5 minutes to peel off the hole transport layer, and further immersed in a cyclohexanone solvent for 5 minutes to form a charge generation layer. Was also peeled off. Then, it was dried at 100 ° C. for 10 minutes. Using the FTIR-ATR method, it was confirmed that the components of the hole transport layer and the charge generation layer did not remain on the surface of the electron transport layer. This electrophotographic photosensitive member was allowed to stand in an environment of temperature 25 ° C. and humidity 50% RH for 24 hours, and then the central portion (position 130 mm from the end) of the electrophotographic photosensitive member was cut into a 1 cm square to prepare a sample for ESCA measurement. .

ESCA測定は上述のとおり、電子輸送層の表面の測定から3分毎のIon gun C60(以下C60)とも称する)によるエッチングを行った。その後、各原子の比率の測定を繰り返し、導電層に到達する(酸化チタン粒子が含有するTiが検出させる)まで、C60による深さ方向の各原子の比率の分析を行った。30分までのエッチング時間から、電子輸送層の上端の点と下端の点、および電子輸送層の膜厚を深さ方向に9等分する8個の点からなる合計10点を選出した。10点の各測定点で得られた炭素原子の比率(atoms %)、窒素原子の比率(atoms %)、および酸素原子の比率(atoms %)、それらから算出した各原子の比率の標準偏差σ(C)、σ(N)、およびσ(O)を表11に示す。また、電子輸送層(硬化膜)を構成する原子として、炭素原子、窒素原子、酸素原子の他に、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ケイ素原子、リン原子、硫黄原子などの原子の測定も行った。そして、水素原子を除く全原子の比率に対する、炭素原子の比率、窒素原子の比率、および酸素原子の比率の合計(構成割合)を合計含有比率(atoms %)として測定した。その結果を表12に示す。   As described above, the ESCA measurement was performed by etching with Ion gun C60 (hereinafter also referred to as C60) from the measurement of the surface of the electron transport layer. Thereafter, the measurement of the ratio of each atom was repeated, and analysis of the ratio of each atom in the depth direction by C60 was performed until the conductive layer was reached (Ti contained in the titanium oxide particles was detected). From the etching time up to 30 minutes, a total of 10 points consisting of 8 points that divide the thickness of the electron transport layer into 9 parts in the depth direction were selected. The carbon atom ratio (atoms%), the nitrogen atom ratio (atoms%), and the oxygen atom ratio (atoms%) obtained at each of the 10 measurement points, and the standard deviation σ of the ratio of each atom calculated from them Table 11 shows (C), σ (N), and σ (O). In addition to carbon atoms, nitrogen atoms and oxygen atoms, atoms constituting the electron transport layer (cured film) include halogen atoms such as fluorine atoms, chlorine atoms and bromine atoms, silicon atoms, phosphorus atoms and sulfur atoms. Atomic measurements were also performed. Then, the total of the ratio of carbon atoms, the ratio of nitrogen atoms, and the ratio of oxygen atoms (composition ratio) to the ratio of all atoms excluding hydrogen atoms was measured as the total content ratio (atoms%). The results are shown in Table 12.

なお、判定用電子写真感光体の正孔輸送層および電荷発生層を溶剤で剥離せず、電子写真感光体の中央部分(端から130mmの位置)を1cm角に切り出し、ESCA測定用サンプルを作製した。このサンプルを電荷輸送層上から同様にして、ESCAによる深さ方向の各原子の比率の分析を行ったところ、電荷発生層および正孔輸送層を剥離した場合と同様の結果が得られた。なお、この場合、電子輸送層表面としたのは、電荷発生物質のガリウム原子の検出がなくなった時点とした。   In addition, the hole transport layer and the charge generation layer of the electrophotographic photosensitive member for judgment were not peeled off with a solvent, and the central portion (position 130 mm from the end) of the electrophotographic photosensitive member was cut into a 1 cm square to prepare an ESCA measurement sample. did. When this sample was similarly analyzed from the top of the charge transport layer and the ratio of each atom in the depth direction was analyzed by ESCA, the same results as those obtained when the charge generation layer and the hole transport layer were peeled off were obtained. In this case, the surface of the electron transport layer was used when the detection of gallium atoms in the charge generation material was stopped.

Figure 2014029502
Figure 2014029502

(プラスメモリーおよび電位変動の評価)
製造したプラスメモリーおよび電位変動評価用の電子写真感光体を、キヤノン(株)製のレーザービームプリンター(商品名:LBP−2510)の改造機(前露光OFF、一次帯電:ローラ接触DC帯電、プロセススピード120mm/秒、レーザー露光。)に装着して、電位変動および出力画像(プラスメモリー)の評価を行った。詳しくは以下のとおりである。
(Plus memory and potential fluctuation evaluation)
The manufactured positive memory and electrophotographic photosensitive member for potential fluctuation evaluation are converted into a laser beam printer (trade name: LBP-2510) manufactured by Canon Inc. (pre-exposure OFF, primary charging: roller contact DC charging, process (Evaluation of potential fluctuation and output image (plus memory)). Details are as follows.

1.プラスメモリー
温度23℃、湿度50%RHの環境下にて、上記レーザービームプリンターのシアン色用のプロセスカートリッジを改造し、現像位置に電位プローブ(model6000B−8:トレック・ジャパン(株)製)を装着した。製造した電子写真感光体をシアン色用のプロセスカートリッジに装着して、電子写真感光体の中央部の電位を表面電位計(model344:トレック・ジャパン(株)製)を使用して測定した。また、電子写真感光体の表面電位は、暗部電位(Vd)が−600V、明部電位(Vl)が−200Vになるよう、帯電電圧と露光光量を設定した。次に、外部電源(トレック社製高圧電源、Model 610C)により、DC帯電として+300Vを5分間、レーザービームプリンターの中で電子写真感光体を回転させながら帯電ローラより印加した。5分後にプラス電荷(+300V)印加前の暗部電位(Vd)、明部電位(Vl)を設定した帯電電圧と露光光量で、5分後にプラス電荷(+300V)印加後の暗部電位、明部電位測定を行った。そして、プラス電荷印加前後の明部電位差をプラスメモリー△Vlとして測定した。結果を表12に示す。
次いで、上記レーザービームプリンターのシアン色用のプロセスカートリッジに、上述の電子写真感光体を装着して、そのプロセスカートリッジをシアンのプロセスカートリッジのステーションに装着し、プラス電荷印加前後で画像を出力した。プラス電荷印加前後でハーフトーン画像を1枚ずつ画像出力した。
ハーフトーン画像は図4に示すように、1ドット桂馬パターンのハーフトーン画像を作成したものである。
プラスメモリー画像の評価は、プラス電荷印加前の1ドット桂馬パターンのハーフトーン画像の画像濃度と、プラス電荷印加後の1ドット桂馬パターンのハーフトーン画像の画像濃度との濃度差を測定することで行った。分光濃度計(商品名:X−Rite504/508、X−Rite(株)製)で、1枚のドット桂馬パターンのハーフトーン画像中で濃度差を10点測定した。合計10点の平均を算出した。同様にしてプラス電荷印加を行っていないときのハーフトーン画像においても同様に、合計10点の濃度の平均値を算出した。両者の画像濃度差を表12に示す。ハーフトーン画像の濃度が大きいほど、プラスメモリーが強く生じていることになる。上記濃度差(マクベス濃度差)が小さいほど、プラスメモリーが抑制されたことを意味する。プラスメモリー画像濃度差が0.10以上であると見た目に明らかな差があるレベルであり、0.10未満であれば見た目に明らかな差はないレベルであった。
1. Plus Memory Under the environment of temperature 23 ° C and humidity 50% RH, the cyan process cartridge for the laser beam printer was modified and a potential probe (model6000B-8: manufactured by Trek Japan Co., Ltd.) was developed. Installed. The manufactured electrophotographic photosensitive member was mounted on a cyan process cartridge, and the electric potential at the center of the electrophotographic photosensitive member was measured using a surface potentiometer (model 344: manufactured by Trek Japan Co., Ltd.). Further, the surface voltage of the electrophotographic photosensitive member was set such that the charging voltage and the amount of exposure light were such that the dark part potential (Vd) was −600 V and the light part potential (Vl) was −200 V. Next, +300 V was applied as DC charging from an external power source (Trek High Voltage Power Supply, Model 610C) for 5 minutes from the charging roller while rotating the electrophotographic photosensitive member in the laser beam printer. After 5 minutes, the dark portion potential (Vd) and the light portion potential (Vl) before applying the positive charge (+300 V) are set to the charging voltage and the exposure light amount. After 5 minutes, the dark portion potential and the light portion potential after applying the positive charge (+300 V). Measurements were made. Then, the bright portion potential difference before and after the application of the positive charge was measured as a positive memory ΔVl. The results are shown in Table 12.
Next, the above-described electrophotographic photosensitive member was attached to the cyan process cartridge of the laser beam printer, the process cartridge was attached to the cyan process cartridge station, and images were output before and after applying the positive charge. Halftone images were output one by one before and after applying a positive charge.
As shown in FIG. 4, the halftone image is a halftone image having a 1-dot Keima pattern.
The positive memory image is evaluated by measuring the density difference between the image density of the halftone image of the 1-dot Keima pattern before applying the positive charge and the image density of the halftone image of the 1-dot Keima pattern after applying the positive charge. went. Using a spectral densitometer (trade name: X-Rite 504/508, manufactured by X-Rite Co., Ltd.), a density difference was measured at 10 points in a halftone image of one dot Keima pattern. The average of a total of 10 points was calculated. Similarly, the average value of the density of a total of 10 points was also calculated in the halftone image when no plus charge was applied. Table 12 shows the difference in image density between the two. The higher the density of the halftone image, the stronger the positive memory. The smaller the density difference (Macbeth density difference), the more positive memory is suppressed. When the plus-memory image density difference is 0.10 or more, there is a clear difference, and when it is less than 0.10, there is no apparent difference.

2.電位変動
温度23℃、湿度5%RHの環境下にて、上記レーザービームプリンターのシアン色用のプロセスカートリッジを改造し、現像位置に電位プローブ(model6000B−8:トレック・ジャパン(株)製)を装着した。電子写真感光体の中央部の電位を表面電位計(model344:トレック・ジャパン(株)製)を使用して測定した。また、暗部電位(Vd)が−600V、明部電位(Vl)が−200Vになるよう、帯電電圧と露光光量を設定した。
その状態(現像機の部分に電位プローブがある状態)で設定した露光量において、連続2000枚の繰り返し使用を行った。2000枚後のVd、Vlを表12に示す。
2. Electric potential fluctuation Under the environment of temperature 23 ° C and humidity 5% RH, the cyan process cartridge of the laser beam printer was modified, and the electric potential probe (model6000B-8: manufactured by Trek Japan Co., Ltd.) was installed at the development position. Installed. The potential at the center of the electrophotographic photosensitive member was measured using a surface potentiometer (model 344: manufactured by Trek Japan Co., Ltd.). Further, the charging voltage and the amount of exposure light were set so that the dark portion potential (Vd) was −600 V and the light portion potential (Vl) was −200 V.
With the exposure amount set in that state (the state where the potential probe is in the developing unit), 2000 continuous sheets were repeatedly used. Table 12 shows Vd and Vl after 2000 sheets.

(実施例2〜5)
電子輸送層の膜厚を0.53μmから0.38μm(実施例2)、0.25μm(実施例3)、0.20μm(実施例4)、0.15μm(実施例5)に変更した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表12に示す。
(Examples 2 to 5)
The thickness of the electron transport layer was changed from 0.53 μm to 0.38 μm (Example 2), 0.25 μm (Example 3), 0.20 μm (Example 4), and 0.15 μm (Example 5). Produced an electrophotographic photoreceptor in the same manner as in Example 1 and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 12.

(実施例6)
電子輸送層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表12に示す。
電子輸送物質(A101)4部、イソシアネート化合物(B1:保護基(H1)=5.1:2.2(質量比))5.5部、樹脂(D1)0.3部、触媒としてのジオクチルスズラウリレート0.05部を、ジメチルアセトアミド100部とメチルエチルケトン100部の混合溶媒に溶解し、電子輸送層用塗布液を調製した。この電子輸送層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を40分間160℃で加熱し、重合させることによって、膜厚が0.61μmの硬化膜である電子輸送層を形成した。
(Example 6)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron transport layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 12.
4 parts of electron transport material (A101), 5.5 parts of isocyanate compound (B1: protecting group (H1) = 5.1: 2.2 (mass ratio)), 0.3 part of resin (D1), dioctyl as catalyst 0.05 part of tin laurate was dissolved in a mixed solvent of 100 parts of dimethylacetamide and 100 parts of methyl ethyl ketone to prepare a coating solution for an electron transport layer. The electron transport layer coating solution is dip-coated on the conductive layer, and the resulting coating film is heated for 40 minutes at 160 ° C. to polymerize the electron transport layer, which is a cured film having a thickness of 0.61 μm. Formed.

(実施例7〜9)
電子輸送層の膜厚を0.61μmから0.52μm(実施例7)、0.40μm(実施例8)、0.26μm(実施例9)に変更した以外は実施例6と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表12に示す。
(Examples 7 to 9)
Electrons were transported in the same manner as in Example 6 except that the thickness of the electron transport layer was changed from 0.61 μm to 0.52 μm (Example 7), 0.40 μm (Example 8), and 0.26 μm (Example 9). Photoconductors were produced and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 12.

(実施例10)
電子輸送層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表12に示す。
電子輸送物質(A101)5部、アミン化合物(C1−3)2.3部、樹脂(D1)3.3部、触媒としてのドデシルベンゼンスルホン酸0.1部を、ジメチルアセトアミド100部とメチルエチルケトン100部の混合溶媒に溶解し、電子輸送層用塗布液を調製した。この電子輸送層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を40分間160℃で加熱し、硬化させることによって、膜厚が0.51μmの硬化膜である電子輸送層を形成した。
(Example 10)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron transport layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 12.
5 parts of an electron transport material (A101), 2.3 parts of an amine compound (C1-3), 3.3 parts of a resin (D1), 0.1 part of dodecylbenzenesulfonic acid as a catalyst, 100 parts of dimethylacetamide and 100 parts of methyl ethyl ketone Part of the mixed solvent was dissolved to prepare an electron transport layer coating solution. This electron transport layer coating solution is dip-coated on the conductive layer, and the resulting coating film is heated at 160 ° C. for 40 minutes to be cured, whereby an electron transport layer that is a cured film having a thickness of 0.51 μm is obtained. Formed.

(実施例11、12)
電子輸送層の膜厚を0.51μmから0.45μm(実施例11)、0.34μm(実施例12)に変更した以外は実施例10と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表12に示す。
(Examples 11 and 12)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 10 except that the thickness of the electron transport layer was changed from 0.51 μm to 0.45 μm (Example 11) and 0.34 μm (Example 12). evaluated. The results are shown in Table 12.

(実施例13)
電子輸送層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表12に示す。
(Example 13)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron transport layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 12.

(電子輸送層)
電子輸送物質(A101)5部、アミン化合物(C1−3)1.75部、樹脂(D1)2部、触媒としてのドデシルベンゼンスルホン酸0.1部を、ジメチルアセトアミド100部とメチルエチルケトン100部の混合溶媒に溶解し、電子輸送層用塗布液を調製した。この電子輸送層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を40分間160℃で加熱し、重合させることによって、膜厚が0.70μmの硬化膜である電子輸送層を形成した。
(Electron transport layer)
5 parts of an electron transport material (A101), 1.75 parts of an amine compound (C1-3), 2 parts of a resin (D1), 0.1 part of dodecylbenzenesulfonic acid as a catalyst, 100 parts of dimethylacetamide and 100 parts of methyl ethyl ketone. It melt | dissolved in the mixed solvent and prepared the coating liquid for electron carrying layers. This electron transport layer coating solution is applied onto the conductive layer by dip coating, and the resulting coating film is heated at 160 ° C. for 40 minutes to polymerize the electron transport layer, which is a cured film having a thickness of 0.70 μm. Formed.

(実施例14〜16)
電子輸送層の膜厚を0.70μmから0.58μm(実施例14)、0.50μm(実施例15)、0.35μm(実施例16)に変更した以外は実施例13と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表12に示す。
(Examples 14 to 16)
Electrons were transferred in the same manner as in Example 13 except that the thickness of the electron transport layer was changed from 0.70 μm to 0.58 μm (Example 14), 0.50 μm (Example 15), and 0.35 μm (Example 16). Photoconductors were produced and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 12.

(実施例17〜32)
実施例9の電子輸送物質(A101)から表12に示すように変更した以外は実施例9と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表12に示す。
(Examples 17 to 32)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 9 except that the electron transport material (A101) in Example 9 was changed as shown in Table 12, and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 12.

(実施例33〜47)
実施例16の電子輸送物質を(A101)から表12、13に示すように変更した以外は実施例16と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表12、13に示す。
(Examples 33 to 47)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 16 except that the electron transport material of Example 16 was changed from (A101) as shown in Tables 12 and 13, and evaluated in the same manner. The results are shown in Tables 12 and 13.

(実施例48〜53)
実施例8の架橋剤、電子輸送層の膜厚を表13に示すように変更した以外は実施例8と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表13に示す。
(Examples 48 to 53)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 8 except that the thickness of the crosslinking agent and the electron transport layer in Example 8 was changed as shown in Table 13, and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 13.

(実施例54、55)
実施例16の架橋剤を表13に示すように変更した以外は実施例16と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表13に示す。
(Examples 54 and 55)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 16 except that the crosslinking agent in Example 16 was changed as shown in Table 13, and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 13.

(実施例56)
電子輸送層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表13に示す。
電子輸送物質(A101)4部、アミン化合物(C1−9)4部、樹脂(D1)1.5部、触媒としてのドデシルベンゼンスルホン酸0.2部を、ジメチルアセトアミド100部とメチルエチルケトン100部の混合溶媒に溶解し、電子輸送層用塗布液を調製した。この電子輸送層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を40分間160℃で加熱し、重合させることによって、膜厚が0.35μmの硬化膜である電子輸送層を形成した。
(Example 56)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron transport layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 13.
4 parts of an electron transport material (A101), 4 parts of an amine compound (C1-9), 1.5 parts of a resin (D1), 0.2 part of dodecylbenzenesulfonic acid as a catalyst, 100 parts of dimethylacetamide and 100 parts of methyl ethyl ketone. It melt | dissolved in the mixed solvent and prepared the coating liquid for electron carrying layers. The electron transport layer coating solution is dip-coated on the conductive layer, and the resulting coating film is heated at 160 ° C. for 40 minutes to polymerize the electron transport layer, which is a cured film having a thickness of 0.35 μm. Formed.

(実施例57、58)
実施例56の架橋剤を表13に示すように変更した以外は実施例56と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表13に示す。
(Examples 57 and 58)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 56 except that the crosslinking agent in Example 56 was changed as shown in Table 13, and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 13.

(実施例59〜62)
実施例9の樹脂を表13に示すように変更した以外は実施例9同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表13に示す。
(Examples 59-62)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 9 except that the resin of Example 9 was changed as shown in Table 13, and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 13.

(実施例63)
電子輸送層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表13に示す。
電子輸送物質(A124)6部、アミン化合物(C1−3)2.1部、樹脂(D21)1.2部、触媒としてのドデシルベンゼンスルホン酸0.1部を、ジメチルアセトアミド100部とメチルエチルケトン100部の混合溶媒に溶解し、電子輸送層用塗布液を調製した。この電子輸送層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を40分間160℃で加熱し、重合させることによって、膜厚が0.80μmの硬化膜である電子輸送層を形成した。
(Example 63)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron transport layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 13.
6 parts of electron transport material (A124), 2.1 parts of amine compound (C1-3), 1.2 parts of resin (D21), 0.1 part of dodecylbenzenesulfonic acid as a catalyst, 100 parts of dimethylacetamide and 100 of methyl ethyl ketone Part of the mixed solvent was dissolved to prepare an electron transport layer coating solution. This electron transport layer coating solution is dip coated on the conductive layer, and the resulting coating film is heated for 40 minutes at 160 ° C. to polymerize the electron transport layer, which is a cured film having a thickness of 0.80 μm. Formed.

(実施例64、65)
実施例63の電子輸送物質を(A124)から表13に示すように変更した以外は実施例63と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表13に示す。
(Examples 64 and 65)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 63 except that the electron transport material of Example 63 was changed from (A124) as shown in Table 13, and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 13.

(実施例66)
電子輸送層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表13に示す。
電子輸送物質(A125)6部、アミン化合物(C1−3)2.1部、樹脂(D21)0.5部、触媒としてのドデシルベンゼンスルホン酸0.1部を、ジメチルアセトアミド100部とメチルエチルケトン100部の混合溶媒に溶解し、電子輸送層用塗布液を調製した。この電子輸送層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を40分間160℃で加熱し、重合させることによって、膜厚が2.10μmの硬化膜である電子輸送層を形成した。
Example 66
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron transport layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 13.
6 parts of electron transport material (A125), 2.1 parts of amine compound (C1-3), 0.5 part of resin (D21), 0.1 part of dodecylbenzenesulfonic acid as a catalyst, 100 parts of dimethylacetamide and 100 of methyl ethyl ketone Part of the mixed solvent was dissolved to prepare an electron transport layer coating solution. This electron transport layer coating solution is applied onto the conductive layer by dip coating, and the resulting coating film is heated at 160 ° C. for 40 minutes to polymerize the electron transport layer, which is a cured film having a thickness of 2.10 μm. Formed.

(実施例67)
電子輸送層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表13に示す。
電子輸送物質(A125)6.5部、アミン化合物(C1−3)2.1部、樹脂(D21)0.4部、触媒としてのドデシルベンゼンスルホン酸0.1部を、ジメチルアセトアミド100部とメチルエチルケトン100部の混合溶媒に溶解し、電子輸送層用塗布液を調製した。この電子輸送層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を40分間160℃で加熱し、重合させることによって、膜厚が2.10μmの硬化膜である電子輸送層を形成した。
(Example 67)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron transport layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 13.
6.5 parts of electron transport material (A125), 2.1 parts of amine compound (C1-3), 0.4 part of resin (D21), 0.1 part of dodecylbenzenesulfonic acid as a catalyst, and 100 parts of dimethylacetamide It melt | dissolved in the mixed solvent of 100 parts of methyl ethyl ketone, and prepared the coating liquid for electron carrying layers. This electron transport layer coating solution is applied onto the conductive layer by dip coating, and the resulting coating film is heated at 160 ° C. for 40 minutes to polymerize the electron transport layer, which is a cured film having a thickness of 2.10 μm. Formed.

(実施例68)
電子輸送層の膜厚を2.10μmから1.55μmに変更した以外は実施例66と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表13に示す。
Example 68
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 66 except that the thickness of the electron transport layer was changed from 2.10 μm to 1.55 μm, and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 13.

(実施例69)
電子輸送層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表13に示す。
電子輸送物質(A404)3.6部、イソシアネート化合物(B1:保護基(H1)=5.1:2.2(質量比))7.0部、樹脂(D11)1.3部、触媒としてのジオクチルスズラウリレート0.05部を、ジメチルアセトアミド100部とメチルエチルケトン100部の混合溶媒に溶解し、電子輸送層用塗布液を調製した。この電子輸送層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を40分間160℃で加熱し、重合させることによって、膜厚が0.53μmの硬化膜である電子輸送層を形成した。
(Example 69)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron transport layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 13.
3.6 parts of an electron transport material (A404), 7.0 parts of an isocyanate compound (B1: protecting group (H1) = 5.1: 2.2 (mass ratio)), 1.3 parts of a resin (D11), as a catalyst Was dissolved in a mixed solvent of 100 parts of dimethylacetamide and 100 parts of methyl ethyl ketone to prepare a coating solution for an electron transport layer. The electron transport layer coating solution is dip-coated on the conductive layer, and the resulting coating film is heated at 160 ° C. for 40 minutes to polymerize the electron transport layer, which is a cured film having a thickness of 0.53 μm. Formed.

(実施例70〜77)
実施例69の電子輸送物質、架橋剤、樹脂の種類を表13に示すように変更した以外は、実施例69と同様にして電子写真感光体を形成し、同様に評価した。結果を表13に示す。
(Examples 70 to 77)
An electrophotographic photosensitive member was formed in the same manner as in Example 69 except that the types of the electron transporting material, the crosslinking agent, and the resin in Example 69 were changed as shown in Table 13, and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 13.

(実施例78、79)
実施例69の電子輸送物質、架橋剤、樹脂の種類を表13に示すように変更し、電子輸送層の膜厚を1.20μmに変更した以外は、実施例69と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表13に示す。
(Examples 78 and 79)
The electrophotographic photosensitive material of Example 69 was changed in the same manner as in Example 69 except that the types of the electron transport material, the crosslinking agent, and the resin were changed as shown in Table 13 and the film thickness of the electron transport layer was changed to 1.20 μm. A body was prepared and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 13.

(実施例80)
電子輸送層の膜厚を0.80μmから3.30μmに変更した以外は実施例63と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表13に示す。
(Example 80)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 63 except that the thickness of the electrotransport layer was changed from 0.80 μm to 3.30 μm, and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 13.

(実施例81)
電子輸送層の膜厚を0.80μmから3.80μmに変更した以外は実施例64と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表13に示す。
(Example 81)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 64 except that the thickness of the electrotransport layer was changed from 0.80 μm to 3.80 μm, and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 13.

(実施例82)
電子輸送層の膜厚を2.10μmから4.50μmに変更した以外は実施例66と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表13に示す。
(Example 82)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 66 except that the thickness of the electron transport layer was changed from 2.10 μm to 4.50 μm, and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 13.

(実施例83〜85)
実施例69の電子輸送物質、架橋剤、樹脂の種類を表13に示すように変更した以外は、実施例69と同様にして電子写真感光体を形成し、同様に評価した。結果を表13に示す。
(Examples 83-85)
An electrophotographic photosensitive member was formed in the same manner as in Example 69 except that the types of the electron transporting material, the crosslinking agent, and the resin in Example 69 were changed as shown in Table 13, and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 13.

(実施例86)
実施例1において、導電層用塗布液、下引き層用塗布液および正孔輸送層用塗布液の調整を以下のように変更した以外は、実施例1と同様に電子写真感光体を製造し、同様にプラスメモリーの評価を行った。結果を表14に示す。
(Example 86)
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the adjustment of the conductive layer coating solution, the undercoat layer coating solution, and the hole transport layer coating solution was changed as follows. In the same way, we evaluated positive memory. The results are shown in Table 14.

導電層用塗布液の調製を以下のように変更した。金属酸化物粒子としての酸素欠損型酸化スズ(SnO)が被覆されている酸化チタン(TiO)粒子214部、結着樹脂としてのフェノール樹脂(商品名:プライオーフェンJ−325。)132部、および、溶剤としての1−メトキシ−2−プロパノール98部を、直径0.8mmのガラスビーズ450部を用いたサンドミルに入れた。次に、回転数:2000rpm、分散処理時間:4.5時間、冷却水の設定温度:18℃の条件で分散処理を行い、分散液を得た。
この分散液からメッシュ(目開き:150μm)でガラスビーズを取り除いた。
ガラスビーズを取り除いた後の分散液中の金属酸化物粒子と結着樹脂の合計質量に対して10質量%になるように、表面粗し付与材としてのシリコーン樹脂粒子を分散液に添加した。シリコーン樹脂粒子は、商品名:トスパール120、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ(株)製、平均粒径2μmのものを用いた。また、分散液中の金属酸化物粒子と結着樹脂の合計質量に対して0.01質量%になるように、レベリング剤としてのシリコーンオイルを分散液に添加して撹拌することによって、導電層用塗布液を調製した。シリコーンオイルは、商品名:SH28PA、東レ・ダウコーニング(株)製のものを用いた。この導電層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間150℃で乾燥・熱硬化させることによって、膜厚が30μmの導電層を形成した。
The preparation of the coating solution for the conductive layer was changed as follows. 214 parts of titanium oxide (TiO 2 ) particles coated with oxygen-deficient tin oxide (SnO 2 ) as metal oxide particles, 132 parts of phenol resin (trade name: Priorofen J-325) as a binder resin And 98 parts of 1-methoxy-2-propanol as a solvent was put into a sand mill using 450 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm. Next, a dispersion treatment was performed under the conditions of a rotation speed: 2000 rpm, a dispersion treatment time: 4.5 hours, and a cooling water set temperature: 18 ° C. to obtain a dispersion.
Glass beads were removed from this dispersion with a mesh (aperture: 150 μm).
Silicone resin particles as a surface-roughening agent were added to the dispersion so as to be 10% by mass with respect to the total mass of the metal oxide particles and the binder resin in the dispersion after removing the glass beads. As the silicone resin particles, those having a trade name: Tospearl 120, manufactured by Momentive Performance Materials Co., Ltd., having an average particle diameter of 2 μm were used. Moreover, the conductive layer is prepared by adding silicone oil as a leveling agent to the dispersion and stirring so that the total mass of the metal oxide particles and the binder resin in the dispersion is 0.01% by mass. A coating solution was prepared. As the silicone oil, a product name: SH28PA, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. was used. The conductive layer coating solution was dip-coated on a support, and the resulting coating film was dried and thermally cured at 150 ° C. for 30 minutes to form a conductive layer having a thickness of 30 μm.

次に、下引き層用塗布液の調製を以下のように変更した。化合物(A168)6.2部、架橋剤(B1、保護基(H5)=5.1:2.9(質量比))7部、樹脂(B25)1.1部、触媒としてのジオクチルスズラウリレート0.05部を、ジメチルアセトアミド100部とメチルエチルケトン100部の混合溶媒に溶解し、下引き層用塗布液を調製した。
この下引き層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を40分間160℃で加熱し、硬化(重合)させることによって、膜厚が0.52μmの硬化膜である下引き層を形成した。
Next, the preparation of the coating solution for the undercoat layer was changed as follows. 6.2 parts of compound (A168), 7 parts of crosslinking agent (B1, protecting group (H5) = 5.1: 2.9 (mass ratio)), 1.1 parts of resin (B25), dioctyltin lauri as a catalyst 0.05 parts of the rate was dissolved in a mixed solvent of 100 parts of dimethylacetamide and 100 parts of methyl ethyl ketone to prepare an undercoat layer coating solution.
The undercoat layer coating solution is dip-coated on the conductive layer, and the resulting coating film is heated at 160 ° C. for 40 minutes to be cured (polymerized), thereby forming a cured film having a thickness of 0.52 μm. A pulling layer was formed.

次に正孔輸送層用塗布液の調製を以下のように変更した。上記式(9)で示される構造を有する正孔輸送物質9部、下記式(18)で示される構造を有する正孔輸送物質1部、下記式(24)で示される繰り返し構造、下記式(26)で示される繰り返し構造と下記式(25)で示される繰り返し構造を7:3の比で有するポリエステル樹脂F(重量平均分子量90,000)3部および、上記式(10−1)で示される繰り返し構造と上記式(10−2)で示される繰り返し構造を5:5の比で含有するポリエステル樹脂I(重量平均分子量120,000)7部を、ジメトキシメタン30部およびオルトキシレン50部の混合溶剤に溶解させることによって、正孔輸送層用塗布液を調製した。なお、ポリエステル樹脂Fのおける、下記式(24)で示される繰り返し構造単位の含有量が10質量%であり、下記式(25)、(26)で示される繰り返し構造単位の含有量が90質量%であった。

Figure 2014029502
Figure 2014029502
Next, the preparation of the hole transport layer coating solution was changed as follows. 9 parts of a hole transport material having a structure represented by the above formula (9), 1 part of a hole transport material having a structure represented by the following formula (18), a repeating structure represented by the following formula (24), 26) and 3 parts of a polyester resin F (weight average molecular weight 90,000) having a repeating structure represented by the following formula (25) in a ratio of 7: 3 and the above formula (10-1). 7 parts of a polyester resin I (weight average molecular weight 120,000) containing a repeating structure represented by the above formula (10-2) in a ratio of 5: 5, 30 parts of dimethoxymethane and 50 parts of orthoxylene. A coating liquid for a hole transport layer was prepared by dissolving in a mixed solvent. In addition, the content of the repeating structural unit represented by the following formula (24) in the polyester resin F is 10% by mass, and the content of the repeating structural unit represented by the following formulas (25) and (26) is 90% by mass. %Met.
Figure 2014029502
Figure 2014029502

この正孔輸送層用塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布し、これを1時間120℃で乾燥させることによって、膜厚が16μmの正孔輸送層を形成した。形成された正孔輸送層には電荷輸送物質とポリエステル樹脂Iを含むマトリックス中にポリエステル樹脂Fを含むドメイン構造が含有されていることが確認された。   This hole transport layer coating solution was dip-coated on the charge generation layer and dried at 120 ° C. for 1 hour to form a hole transport layer having a thickness of 16 μm. It was confirmed that the formed hole transport layer contained a domain structure containing polyester resin F in a matrix containing a charge transport material and polyester resin I.

(実施例87)
実施例86において、正孔輸送層用塗布液の調製を以下のように変更した以外は、実施例86と同様に電子写真感光体を製造し、同様にプラスメモリーの評価を行った。結果を表14に示す。
(Example 87)
In Example 86, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 86 except that the preparation of the coating solution for the hole transport layer was changed as follows, and the positive memory was similarly evaluated. The results are shown in Table 14.

正孔輸送層用塗布液の調製を以下のように変更した。上記式(9)で示される構造を有する正孔輸送物質9部、上記式(18)で示される構造を有する正孔輸送物質1部、下記式(29)で示される繰り返し構造を有するポリカーボネート樹脂J(重量平均分子量70,000)10部、および、下記式(29)で示される繰り返し構造、下記式(30)で示される繰り返し構造および、末端の少なくともいずれか一方に下記式(31)で示される構造を有するポリカーボネート樹脂K(重量平均分子量40,000)0.3部を、ジメトキシメタン30部およびオルトキシレン50部混合溶剤に溶解させることによって、正孔輸送層用塗布液を調製した。ポリカーボネート樹脂Kにおける、下記式(30)と(31)で示される構造の合計質量が30質量%であった。この正孔輸送層用塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布し、これを1時間120℃で乾燥させることによって、膜厚が16μmの正孔輸送層を形成した。

Figure 2014029502
The preparation of the coating solution for the hole transport layer was changed as follows. 9 parts of a hole transport material having a structure represented by the above formula (9), 1 part of a hole transport material having a structure represented by the above formula (18), and a polycarbonate resin having a repeating structure represented by the following formula (29) 10 parts of J (weight average molecular weight 70,000), a repeating structure represented by the following formula (29), a repeating structure represented by the following formula (30), and at least one of the terminals represented by the following formula (31) A coating solution for a hole transport layer was prepared by dissolving 0.3 part of polycarbonate resin K (weight average molecular weight 40,000) having the structure shown in 30 parts of dimethoxymethane and 50 parts of orthoxylene. The total mass of the structures represented by the following formulas (30) and (31) in the polycarbonate resin K was 30% by mass. This hole transport layer coating solution was dip-coated on the charge generation layer and dried at 120 ° C. for 1 hour to form a hole transport layer having a thickness of 16 μm.
Figure 2014029502

(実施例88)
実施例87の正孔輸送層用塗布液の調製において、ポリカーボネート樹脂J10部の代わりに、ポリエステル樹脂I(重量平均分子量120,000)10部とした以外は実施例87と同様に電子写真感光体を製造し、同様にプラスメモリーの評価を行った。結果を表14に示す。
(Example 88)
In the preparation of the hole transport layer coating solution of Example 87, an electrophotographic photosensitive member was prepared in the same manner as in Example 87 except that 10 parts of polyester resin I (weight average molecular weight 120,000) was used instead of 10 parts of polycarbonate resin J. And evaluated the positive memory in the same way. The results are shown in Table 14.

(実施例89〜91)
実施例86〜88において、導電層用塗布液の調製を以下のように変更した以外は、実施例86〜88と同様に電子写真感光体を製造し、同様にプラスメモリーの評価を行った。結果を表14に示す。
(Examples 89 to 91)
In Examples 86 to 88, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Examples 86 to 88 except that the preparation of the coating liquid for the conductive layer was changed as follows, and the positive memory was similarly evaluated. The results are shown in Table 14.

導電層用塗布液の調製を以下のように変更した。金属酸化物粒子としてのリン(P)がドープされている酸化スズ(SnO)で被覆されている酸化チタン(TiO)粒子207部、結着樹脂としてのフェノール樹脂(商品名:プライオーフェンJ−325)144部、および、溶剤としての1−メトキシ−2−プロパノール98部を、直径0.8mmのガラスビーズ450部を用いたサンドミルに入れ、回転数:2000rpm、分散処理時間:4.5時間、冷却水の設定温度:18℃の条件で分散処理を行い、分散液を得た。
この分散液からメッシュ(目開き:150μm)でガラスビーズを取り除いた。
The preparation of the coating solution for the conductive layer was changed as follows. 207 parts of titanium oxide (TiO 2 ) particles coated with tin oxide (SnO 2 ) doped with phosphorus (P) as metal oxide particles, phenol resin as a binder resin (trade name: Pryofen J -325) 144 parts and 98 parts of 1-methoxy-2-propanol as a solvent are put in a sand mill using 450 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm, the rotation speed is 2000 rpm, and the dispersion treatment time is 4.5. Dispersion treatment was performed under the conditions of time and cooling water set temperature: 18 ° C. to obtain a dispersion.
Glass beads were removed from this dispersion with a mesh (aperture: 150 μm).

ガラスビーズを取り除いた後の分散液中の金属酸化物粒子と結着樹脂の合計質量に対して15質量%になるように、表面粗し付与材としてのシリコーン樹脂粒子(商品名:トスパール120)を分散液に添加した。また、分散液中の金属酸化物粒子と結着樹脂の合計質量に対して0.01質量%になるように、レベリング剤としてのシリコーンオイル(商品名:SH28PA)を分散液に添加して撹拌することによって、導電層用塗布液を調製した。この導電層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間150℃で乾燥・熱硬化させることによって、膜厚が30μmの導電層を形成した。   Silicone resin particles as a surface roughening agent (trade name: Tospearl 120) so as to be 15% by mass with respect to the total mass of the metal oxide particles and the binder resin in the dispersion after removing the glass beads Was added to the dispersion. Further, a silicone oil (trade name: SH28PA) as a leveling agent is added to the dispersion so as to be 0.01% by mass with respect to the total mass of the metal oxide particles and the binder resin in the dispersion, followed by stirring. By doing this, the coating liquid for conductive layers was prepared. The conductive layer coating solution was dip-coated on a support, and the resulting coating film was dried and thermally cured at 150 ° C. for 30 minutes to form a conductive layer having a thickness of 30 μm.

(実施例92,93)
実施例86において、電子輸送物質の種類と含有量を表14に示すように変更した以外は、実施例1と同様に電子写真感光体を製造し、同様にプラスメモリーの評価を行った。結果を表14に示す。
(Examples 92 and 93)
In Example 86, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the type and content of the electron transporting material were changed as shown in Table 14, and the positive memory was similarly evaluated. The results are shown in Table 14.

Figure 2014029502
Figure 2014029502

Figure 2014029502
Figure 2014029502

Figure 2014029502
Figure 2014029502

(比較例1)
電子輸送層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表15に示す。
電子輸送物質(A225)4.0部、ヘキサメチレンジイソシアネート3部、樹脂(D1)4部を、ジメチルアセトアミド100部とメチルエチルケトン100部の混合溶媒に溶解し、電子輸送層用塗布液を調製した。この電子輸送層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を40分間160℃で加熱し、重合させることによって、膜厚が1.0μmの電子輸送層を形成した。
(Comparative Example 1)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron transport layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 15.
4.0 parts of an electron transport material (A225), 3 parts of hexamethylene diisocyanate, and 4 parts of resin (D1) were dissolved in a mixed solvent of 100 parts of dimethylacetamide and 100 parts of methyl ethyl ketone to prepare a coating solution for an electron transport layer. This electron transport layer coating solution was dip-coated on the conductive layer, and the resulting coating film was heated at 160 ° C. for 40 minutes for polymerization to form an electron transport layer having a thickness of 1.0 μm.

(比較例2)
電子輸送層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表15に示す。
電子輸送物質(A124)5部、2,4−トルエンジイソシアネート2.5部、ポリ(p−ヒドロキシスチレン)(商品名:マルカリンカー、丸善石油化学社製)2.5部を、ジメチルアセトアミド100部とメチルエチルケトン100部の混合溶媒に溶解し、電子輸送層用塗布液を調製した。この電子輸送層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を40分間160℃で加熱し、重合させることによって、膜厚が0.4μmの電子輸送層を形成した。
(Comparative Example 2)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron transport layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 15.
5 parts of electron transport material (A124), 2.5 parts of 2,4-toluene diisocyanate, 2.5 parts of poly (p-hydroxystyrene) (trade name: Marcalinker, Maruzen Petrochemical Co., Ltd.), 100 parts of dimethylacetamide And 100 parts of methyl ethyl ketone were dissolved in a mixed solvent to prepare a coating solution for an electron transport layer. This electron transport layer coating solution was dip-coated on the conductive layer, and the resulting coating film was heated at 160 ° C. for 40 minutes for polymerization to form an electron transport layer having a thickness of 0.4 μm.

(比較例3)
電子輸送層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表15に示す。
電子輸送物質(A124)7部、2,4−トルエンジイソシアネート2.0部、「マルカリンカー」1部を、ジメチルアセトアミド100部とメチルエチルケトン100部の混合溶媒に溶解し、電子輸送層用塗布液を調製した。この電子輸送層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を40分間160℃で加熱し、重合させることによって、膜厚が0.4μmの電子輸送層を形成した。
(Comparative Example 3)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron transport layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 15.
7 parts of an electron transport material (A124), 2.0 parts of 2,4-toluene diisocyanate, and 1 part of “Marcalinker” are dissolved in a mixed solvent of 100 parts of dimethylacetamide and 100 parts of methyl ethyl ketone, and an electron transport layer coating solution is prepared. Prepared. This electron transport layer coating solution was dip-coated on the conductive layer, and the resulting coating film was heated at 160 ° C. for 40 minutes for polymerization to form an electron transport layer having a thickness of 0.4 μm.

Figure 2014029502
Figure 2014029502

(比較例4)
電子輸送層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表16に示す。
電子輸送物質(A922)5部、イソシアネート化合物(スミジュール3173、住友バイエルンウレタン社製)13.5部、ブチラール樹脂(BM−1、積水化学工業(株)製)10部、触媒としてのジオクチルスズラウリレート0.005部を、メチルエチルケトン120部の溶媒に溶解し、電子輸送層用塗布液を調製した。この電子輸送層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を40分間170℃で加熱し、重合させることによって、膜厚が1.0μmの電子輸送層を形成した。
(Comparative Example 4)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron transport layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 16.
5 parts of an electron transport material (A922), 13.5 parts of an isocyanate compound (Sumijour 3173, manufactured by Sumitomo Bayern Urethane Co., Ltd.), 10 parts of butyral resin (BM-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.), dioctyltin as a catalyst 0.005 part of laurate was dissolved in 120 parts of methyl ethyl ketone to prepare an electron transport layer coating solution. This electron transport layer coating solution was dip-coated on the conductive layer, and the resulting coating film was heated at 170 ° C. for 40 minutes for polymerization to form an electron transport layer having a thickness of 1.0 μm.

(比較例5)
電子輸送層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表16に示す。
電子輸送物質(A101)5部、メラミン樹脂(ユーバン20HS:三井化学製)2.4部を、テトラヒドロフラン50部とメトキシプロパノール50部の混合溶媒に溶解し、電子輸送層用塗布液を調製した。この電子輸送層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を60分間150℃で加熱し、重合させることによって、膜厚が1.00μmの電子輸送層を形成した。
(Comparative Example 5)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron transport layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 16.
An electron transport layer coating solution was prepared by dissolving 5 parts of an electron transport material (A101) and 2.4 parts of a melamine resin (Uban 20HS: manufactured by Mitsui Chemicals) in a mixed solvent of 50 parts of tetrahydrofuran and 50 parts of methoxypropanol. This electron transport layer coating solution was dip-coated on the conductive layer, and the resulting coating film was heated at 150 ° C. for 60 minutes for polymerization to form an electron transport layer having a thickness of 1.00 μm.

(比較例6)
電子輸送層の膜厚を1.00μmから0.50μmに変更した以外は比較例5と同様にして電子写真感光体を作成し、同様に評価した。結果を表16に示す。
(Comparative Example 6)
An electrophotographic photosensitive member was prepared and evaluated in the same manner as in Comparative Example 5 except that the thickness of the electron transport layer was changed from 1.00 μm to 0.50 μm. The results are shown in Table 16.

(比較例7)
電子輸送層のメラミン樹脂をフェノール樹脂(プライオーフェンJ325:大日本インキ化学工業(株)製)に変更した以外は比較例5と同様に電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表16に示す。
(Comparative Example 7)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Comparative Example 5 except that the melamine resin of the electron transport layer was changed to a phenol resin (Priofen J325: manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 16.

(比較例8)
電子輸送層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表16に示す。
下記式(12)で示される電子輸送物質5部とトリメチロールプロパントリアクリレート(カヤラッドTMPTA:日本化薬(株)製)5部、AIBN(2,2−アゾビスイソブチロニトリル)0.1部をテトラヒドロフラン190部に溶解し、電子輸送層用塗布液を調製した。この電子輸送層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間150℃で加熱し、重合させることによって、膜厚が0.8μmの電子輸送層を形成した。

Figure 2014029502
(Comparative Example 8)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron transport layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 16.
5 parts of an electron transporting material represented by the following formula (12), 5 parts of trimethylolpropane triacrylate (Kayarad TMPTA: manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), AIBN (2,2-azobisisobutyronitrile) 0.1 A part was dissolved in 190 parts of tetrahydrofuran to prepare an electron transport layer coating solution. This electron transport layer coating solution was applied onto the conductive layer by dip coating, and the resulting coating film was heated at 150 ° C. for 30 minutes for polymerization to form an electron transport layer having a thickness of 0.8 μm.
Figure 2014029502

(比較例9)
電子輸送層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表16に示す。
上記式(12)で示される電子輸送物質5部と下記式(13)で示される化合物5部をトルエン60部の混合溶媒に溶解し、電子輸送層用塗布液を調製した。この電子輸送層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を加速電圧150kV、照射線量10Mradの条件で電子線を照射し重合させることによって、膜厚が1.0μmの電子輸送層を形成した。

Figure 2014029502
(Comparative Example 9)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron transport layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 16.
5 parts of the electron transport material represented by the above formula (12) and 5 parts of the compound represented by the following formula (13) were dissolved in a mixed solvent of 60 parts of toluene to prepare an electron transport layer coating solution. This electron transport layer coating solution is dip-coated on the conductive layer, and the resulting coating film is irradiated with an electron beam under the conditions of an acceleration voltage of 150 kV and an irradiation dose of 10 Mrad to polymerize an electron having a film thickness of 1.0 μm. A transport layer was formed.
Figure 2014029502

(比較例10)
電子輸送層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表16に示す。
特表2009−505156号公報の実施例1に記載の下記式で示されるブロック共重合体、ブロックイソシアネート化合物、および塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体を用いて電子輸送層を形成し、0.32μmの電子輸送層を形成した。

Figure 2014029502
(Comparative Example 10)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron transport layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 16.
An electron transport layer is formed using a block copolymer represented by the following formula described in Example 1 of JP-T-2009-505156, a blocked isocyanate compound, and a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, and is 0.32 μm. The electron transport layer was formed.
Figure 2014029502

(比較例11)
電子輸送層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表16に示す。
電子輸送物質(A101)5部、ポリカーボネート樹脂(Z200:三菱ガス化学(株)製)5部を、ジメチルアセトアミド50部とクロロベンゼン50部の混合溶媒に溶解し、電子輸送層用塗布液を調製した。この電子輸送層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間120℃で加熱し、重合させることによって、膜厚が1.00μmの電子輸送層を形成した。
(Comparative Example 11)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron transport layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 16.
5 parts of an electron transport material (A101) and 5 parts of a polycarbonate resin (Z200: manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) were dissolved in a mixed solvent of 50 parts of dimethylacetamide and 50 parts of chlorobenzene to prepare an electron transport layer coating solution. . This electron transport layer coating solution was dip-coated on the conductive layer, and the resulting coating film was heated at 120 ° C. for 30 minutes for polymerization to form an electron transport layer having a thickness of 1.00 μm.

(比較例12)
電子輸送層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表16に示す。
樹脂(D1)5部をメチルエチルケトン200部の混合溶媒に溶解した溶液に、下記構造式(15)ので示される電子輸送物質(顔料)5重量部を加え、サンドミルにて3時間分散処理を行い、電子輸送層用塗布液を調製した。この電子輸送層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を10分間100℃で加熱し、膜厚が1.5μmの電子輸送層を形成した。

Figure 2014029502
(Comparative Example 12)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron transport layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 16.
To a solution obtained by dissolving 5 parts of the resin (D1) in a mixed solvent of 200 parts of methyl ethyl ketone, 5 parts by weight of an electron transport material (pigment) represented by the following structural formula (15) is added, and dispersion treatment is performed in a sand mill for 3 hours. An electron transport layer coating solution was prepared. This coating solution for electron transport layer was dip-coated on the conductive layer, and the obtained coating film was heated at 100 ° C. for 10 minutes to form an electron transport layer having a thickness of 1.5 μm.
Figure 2014029502

(比較例13)
電子輸送層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表16に示す。
シランカップリング剤で表面処理をした酸化亜鉛顔料、アリザリン(A922)、ブロックイソシアネートおよびブチラール樹脂を用いて電子輸送層を形成(特開2006−030698号公報の実施例1の構成)し、25μmの電子輸送層を形成した。
(Comparative Example 13)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron transport layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 16.
An electron transport layer was formed using a zinc oxide pigment surface-treated with a silane coupling agent, alizarin (A922), blocked isocyanate and a butyral resin (configuration of Example 1 of JP-A-2006-030698), and 25 μm An electron transport layer was formed.

(比較例14)
電子輸送層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表16に示す。
下記式(11‐1)で示される構造を有する化合物、および(11‐2)で示される構造を有する化合物の混合物10部に、N−メチル−2−ピロリドン30部とシクロヘキサノン60部の混合溶媒に溶解し、電子輸送層用塗布液を調製した。この電子輸送層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間150℃で加熱し、重合させることによって、下記式(11−3)で示される構造を有する、膜厚が0.20μmの電子輸送層を形成した。

Figure 2014029502
(Comparative Example 14)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron transport layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 16.
A mixed solvent of 30 parts of N-methyl-2-pyrrolidone and 60 parts of cyclohexanone in 10 parts of a mixture of the compound having the structure represented by the following formula (11-1) and the compound having the structure represented by (11-2) To prepare an electron transport layer coating solution. A film having a structure represented by the following formula (11-3) by dip-coating the coating solution for the electron transport layer on the conductive layer, and heating and polymerizing the obtained coating film at 150 ° C. for 30 minutes. An electron transport layer having a thickness of 0.20 μm was formed.
Figure 2014029502

(比較例15)
電子輸送層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表16に示す。
上記式(12)で示される電子輸送物質10部をトルエン60部の混合溶媒に溶解し、電子輸送層用塗布液を調製した。この電子輸送層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を加速電圧150kV、照射線量10Mradの条件で電子線を照射し重合させることによって、膜厚が1.0μmの電子輸送層を形成した。
(Comparative Example 15)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron transport layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 16.
10 parts of the electron transport material represented by the above formula (12) were dissolved in a mixed solvent of 60 parts of toluene to prepare an electron transport layer coating solution. This electron transport layer coating solution is dip-coated on the conductive layer, and the resulting coating film is irradiated with an electron beam under the conditions of an acceleration voltage of 150 kV and an irradiation dose of 10 Mrad to polymerize an electron having a film thickness of 1.0 μm. A transport layer was formed.

(比較例16)
電子輸送層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表16に示す。
特許4594444号公報の実施例1に記載の電子輸送物質を含有する共重合体の粒子を用いて電子輸送層を形成し、膜厚が1.00μmの電子輸送層を形成した。
(Comparative Example 16)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron transport layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 16.
An electron transport layer was formed using the copolymer particles containing the electron transport material described in Example 1 of Japanese Patent No. 4594444, and an electron transport layer having a thickness of 1.00 μm was formed.

(比較例17)
電子輸送層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表16に示す。
特開2004−093801号公報の実施例1に記載の電子輸送物質の重合体を溶媒に溶解させた電子輸送層用塗布液を用いて、電子輸送層を形成し、膜厚が2.00μmの電子輸送層を形成した。
(Comparative Example 17)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron transport layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 16.
An electron transport layer is formed using a coating liquid for an electron transport layer in which a polymer of an electron transport material described in Example 1 of JP-A-2004-093801 is dissolved in a solvent, and the film thickness is 2.00 μm. An electron transport layer was formed.

Figure 2014029502
Figure 2014029502

実施例と比較例1〜9との比較により、重合性官能基を有する電子輸送物質、重合性官能基を有する熱可塑性樹脂、および架橋剤を含む組成物を重合させて得られる硬化物を含有する場合でも、本願の効果が得られない場合がある。すなわち、比較例1〜9の本発明の式(1)〜(3)を満たさない電子輸送層は、実施例の式(1)〜(3)の範囲を満たす場合に比べ、プラスメモリーの低減効果及び電位変動の抑制が十分得られない場合があることが分かる。また、比較例5〜9では、樹脂が存在しないために架橋剤同士の結合が多く進行した結果、電子輸送物質の凝集を引き起こし、式(1)〜(3)を満たさない結果となっていると考えられる。また、実施例と比較例10との比較により、特表2009−505156号公報に記載された電子輸送層でも、プラスメモリーの低減効果は十分に得られない場合があることが分かる。これは電子輸送物質の分子量が大きなポリマーであるため、電子輸送層に成分の凝集が生じ、式(1)〜(3)を満たさず、プラスメモリーが生じやすくなっていると考えられる。   Contains a cured product obtained by polymerizing a composition containing an electron transport material having a polymerizable functional group, a thermoplastic resin having a polymerizable functional group, and a cross-linking agent by comparison between Examples and Comparative Examples 1 to 9. Even if it does, the effect of this application may not be acquired. That is, the electron transport layer that does not satisfy the formulas (1) to (3) of the present invention of Comparative Examples 1 to 9 reduces the plus memory compared to the case where the range of the formulas (1) to (3) of the examples is satisfied. It can be seen that the effect and suppression of potential fluctuation may not be sufficiently obtained. Moreover, in Comparative Examples 5-9, since there was no resin, as a result of many bonds between the crosslinking agents proceeding, aggregation of the electron transport material was caused, and the results of not satisfying the formulas (1) to (3) were obtained. it is conceivable that. Further, it is understood from the comparison between the example and the comparative example 10 that the effect of reducing the positive memory may not be sufficiently obtained even in the electron transport layer described in JP-T-2009-505156. Since this is a polymer having a large molecular weight of the electron transport material, aggregation of components occurs in the electron transport layer, which does not satisfy the formulas (1) to (3), and it is considered that positive memory is likely to occur.

実施例と比較例10〜13との比較により、重合性官能基を有さない電子輸送物質や、金属酸化物を多く含有する場合は、式(1)〜(3)を満たさず、プラスメモリーの低減効果および電位変動の抑制が十分に得られないことが示されている。重合性官能基を有さない電子輸送物質を含有する電子輸送層では、電子輸送物質が感光層に溶出し、電荷発生層界面の電子輸送層中の電子輸送物質の濃度が大幅に低下していると考えられる。   Comparison between Examples and Comparative Examples 10 to 13 shows that when a large amount of an electron transport material having no polymerizable functional group or a metal oxide is contained, the formulas (1) to (3) are not satisfied and a plus memory is obtained. It has been shown that the reduction effect and the suppression of potential fluctuation cannot be sufficiently obtained. In an electron transport layer containing an electron transport material having no polymerizable functional group, the electron transport material is eluted into the photosensitive layer, and the concentration of the electron transport material in the electron transport layer at the interface of the charge generation layer is greatly reduced. It is thought that there is.

比較例14〜17によれば、電子輸送層が電子輸送物質のみからなる膜を構成した場合には、式(1)〜(3)の範囲を満たさず、プラスメモリーの低減が十分ではない場合があることが分かる。   According to Comparative Examples 14 to 17, when the electron transport layer comprises a film made of only the electron transport material, the range of the formulas (1) to (3) is not satisfied, and the plus memory is not sufficiently reduced. I understand that there is.

1 電子写真感光体
2 軸
3 帯電手段
4 露光光
5 現像手段
6 転写手段
7 クリーニング手段
8 定着手段
9 プロセスカートリッジ
10 案内手段
P 転写材
101 支持体
102 電子輸送層
103 感光層
104 電荷発生層
105 正孔輸送層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electrophotographic photoreceptor 2 Axis 3 Charging means 4 Exposure light 5 Developing means 6 Transfer means 7 Cleaning means 8 Fixing means 9 Process cartridge 10 Guide means P Transfer material 101 Support body 102 Electron transport layer 103 Photosensitive layer 104 Charge generation layer 105 Positive Hole transport layer

Claims (12)

支持体、該支持体上に形成された電子輸送層、該電子輸送層上に形成された感光層を有する電子写真感光体であって、
該電子輸送層は、炭素原子、窒素原子および酸素原子を含有する硬化膜であり、
該電子輸送層が下記式(1)〜(3)を満たすことを特徴とする電子写真感光体。
σ(C)≦1.5 (1)
σ(N)≦1.5 (2)
σ(O)≦1.5 (3)
(式(1)〜(3)中、
σ(C)は、10点における該電子輸送層の水素原子を除く全原子に対する該炭素原子の比率(atoms %)をX線光電子分光法(ESCA)によって分析したときの、得られた10点の値の標準偏差を示す。
σ(N)は、10点における該電子輸送層の水素原子を除く全原子に対する該窒素原子の比率(atoms %)をX線光電子分光法(ESCA)によって分析したときの、得られた10点の値の標準偏差を示す。
σ(O)は、10点における該電子輸送層の水素原子を除く全原子に対する該酸素原子の比率(atoms %)をX線光電子分光法(ESCA)によって分析したときの、得られた10点の値の標準偏差を示す。
該10点は、該電子輸送層の上端の点と下端の点、および電子輸送層の膜厚を深さ方向に9等分する8個の点からなる。)
An electrophotographic photosensitive member having a support, an electron transport layer formed on the support, and a photosensitive layer formed on the electron transport layer,
The electron transport layer is a cured film containing carbon atoms, nitrogen atoms and oxygen atoms,
The electrophotographic photoreceptor, wherein the electron transport layer satisfies the following formulas (1) to (3).
σ (C) ≦ 1.5 (1)
σ (N) ≦ 1.5 (2)
σ (O) ≦ 1.5 (3)
(In the formulas (1) to (3),
σ (C) is 10 points obtained when the ratio (atoms%) of the carbon atoms to all atoms excluding hydrogen atoms in the electron transport layer at 10 points was analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA). Indicates the standard deviation of the values.
σ (N) is 10 points obtained when the ratio (atoms%) of the nitrogen atoms to all atoms excluding hydrogen atoms in the electron transport layer at 10 points was analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA). Indicates the standard deviation of the values.
σ (O) is 10 points obtained when the ratio (atoms%) of the oxygen atoms to all atoms excluding hydrogen atoms in the electron transport layer at 10 points is analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA). Indicates the standard deviation of the values.
The ten points consist of the upper and lower points of the electron transport layer and eight points that divide the thickness of the electron transport layer into nine equal parts in the depth direction. )
前記標準偏差σ(C)、σ(N)、およびσ(O)が、下記式(4)〜(6)を満たす請求項1に記載の電子写真感光体。
σ(C)≦1.0 (4)
σ(N)≦1.0 (5)
σ(O)≦1.0 (6)
The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the standard deviations σ (C), σ (N), and σ (O) satisfy the following formulas (4) to (6).
σ (C) ≦ 1.0 (4)
σ (N) ≦ 1.0 (5)
σ (O) ≦ 1.0 (6)
前記電子輸送層中の前記炭素原子の比率、前記窒素原子の比率、および前記酸素原子の比率の合計が、90%以上100%以下(ESCAにおいて測定感度のない水素原子を除く)である請求項1または2に記載の電子写真感光体。   The total of the carbon atom ratio, the nitrogen atom ratio, and the oxygen atom ratio in the electron transport layer is 90% or more and 100% or less (excluding hydrogen atoms having no measurement sensitivity in ESCA). 3. The electrophotographic photosensitive member according to 1 or 2. 前記電子輸送層が、重合性官能基を有する電子輸送物質、重合性官能基を有する熱可塑性樹脂、および架橋剤を含む組成物の硬化物を含有する請求項1から3のいずれか1項に記載の電子写真感光体。   The said electron carrying layer contains the hardened | cured material of the composition containing the electron carrying substance which has a polymeric functional group, the thermoplastic resin which has a polymeric functional group, and a crosslinking agent in any one of Claim 1 to 3. The electrophotographic photosensitive member described. 前記熱可塑性樹脂の重量平均分子量が5000以上400000以下である請求項4に記載の電子写真感光体。   The electrophotographic photosensitive member according to claim 4, wherein the thermoplastic resin has a weight average molecular weight of 5,000 to 400,000. 前記熱可塑性樹脂の重量平均分子量が5000以上300000以下である請求項5に記載の電子写真感光体。   The electrophotographic photosensitive member according to claim 5, wherein the thermoplastic resin has a weight average molecular weight of 5,000 to 300,000. 前記電子輸送物質の重合性官能基が、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、メトキシ基及びカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種である請求項4から6のいずれか1項に記載の電子写真感光体。   7. The polymerizable functional group of the electron transport material is at least one selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, a methoxy group, and a carboxyl group. Electrophotographic photoreceptor. 前記電子輸送物質の分子量が1000以下である請求項4から7のいずれか1項に記載の電子写真感光体。   The electrophotographic photosensitive member according to claim 4, wherein the electron transport material has a molecular weight of 1000 or less. 前記架橋剤が、イソシアネート基、ブロック化イソシアネート基、または−CH−ORで示される基(Rは、水素原子またはアルキル基)を3〜6個有する化合物である請求項4から8のいずれか1項に記載の電子写真感光体。 The crosslinking agent is an isocyanate group, a blocked isocyanate group or a group represented by -CH 2 -OR 1 (R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group) of claims 4 to 8 which is a compound having 3 to 6, The electrophotographic photosensitive member according to any one of the above. 前記架橋剤の分子量が1000以下である請求項4から9のいずれか1項に記載の電子写真感光体。   The electrophotographic photosensitive member according to claim 4, wherein the cross-linking agent has a molecular weight of 1000 or less. 請求項1から10のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも1つの手段とを一体に支持し、電子写真装置に着脱自在であるプロセスカートリッジ。   An electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1 to 10 and at least one means selected from the group consisting of a charging means, a developing means, a transfer means, and a cleaning means are integrally supported, and electrophotographic A process cartridge that is detachable from the device. 請求項1から10のいずれか1項に記載の電子写真感光体、ならびに、帯電手段、露光手段、現像手段および転写手段を有する電子写真装置。   An electrophotographic apparatus comprising the electrophotographic photosensitive member according to claim 1, and a charging unit, an exposing unit, a developing unit, and a transferring unit.
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