JP2014008579A - Substrate conveyance device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、基板搬送装置の制御技術に関する。 The present invention relates to a control technique for a substrate transfer apparatus.
基板搬送装置は、半導体製造工程又は液晶ディスプレイ製造工程等の各種製造工程において、真空チャンバ間で基板を搬送する装置である。基板搬送装置は、アームを伸縮又は旋回させることによって、基板を載置したハンドを移動させ、基板を搬送するものである。 The substrate transport device is a device for transporting a substrate between vacuum chambers in various manufacturing processes such as a semiconductor manufacturing process or a liquid crystal display manufacturing process. The substrate transport device transports a substrate by moving a hand on which the substrate is placed by extending or contracting or turning an arm.
基板搬送装置は、基板からの熱、或いは、真空チャンバ内の熱源からの熱等の影響を受け熱膨張によりアームが変形し、ハンドが傾く場合がある。このような場合の対策として、例えば特許文献1には、真空中においてアームが受ける熱による伸び量を検出し、アームの駆動量を補正する基板搬送装置が開示されている。
The substrate transfer device may be affected by heat from the substrate or heat from a heat source in the vacuum chamber, and the arm may be deformed by thermal expansion, and the hand may tilt. As a countermeasure for such a case, for example,
特許文献1に開示される基板搬送装置では、予め適正位置でマークをコントローラに登録し、その位置からずれた場合に、1パルスずつロボットを動作させ適正位置へ戻す方法が開示されている。また、予めずれた位置でのマークもカメラコントローラに登録し、その時の移動量も記憶しておき、同じ位置にずれた場合には、記憶していた移動量分だけロボットを動作させ、適正位置へ戻す方法が開示されている。
In the substrate transfer apparatus disclosed in
しかし、特許文献1に開示される基板搬送装置では、ハンドの側面からマークを撮像しており、そのマークを正規の位置に合わせるようにハンドを伸縮させている。そのため、搬送方向のズレ量しか補正できず、水平面にて搬送方向と垂直な方向のズレ、或いは、水平面でのハンドの傾きは補正できない。また、特許文献1に開示される基板搬送装置のように予めずれた位置でのマークをコントローラに登録しておく補正では、処理装置によって熱によるアームの伸び方は異なるので、全ての基板搬送装置に適用することができない。
However, in the substrate transfer device disclosed in
本発明の解決しようとする課題は、ハンドの傾きも含めた位置ズレを補正できる基板搬送装置を提供することである。 The problem to be solved by the present invention is to provide a substrate transfer device capable of correcting a positional deviation including the tilt of the hand.
本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、次にこの課題を解決するための手段を説明する。 The problem to be solved by the present invention is as described above. Next, means for solving the problem will be described.
即ち、請求項1においては、アームを伸縮又は旋回させることによって、基板を載置したハンドを移動させ、前記基板を搬送し、前記ハンドが教示位置に移動するように前記アームの伸縮又は旋回量を制御する制御装置を備える基板搬送装置であって、前記制御装置は、前記ハンドの現在位置と教示位置との搬送方向、水平方向において搬送方向に垂直な方向及び水平方向の傾きの差を認識し、前記傾きの差が基準範囲内になければ、該傾きの差が0となるように、前記アームの伸縮又は旋回量を調整し、前記搬送方向に垂直な方向の差が基準範囲外であれば、該搬送方向に垂直な方向の差及び前記傾きが0となるように、前記アームの伸縮又は旋回量を調整し、前記搬送方向の差が基準範囲外であれば、該搬送方向の差が0となるように、前記アームの伸縮又は旋回量を調整するものである。 That is, according to the first aspect of the present invention, the arm on which the substrate is placed is moved by extending or retracting or turning the arm, the substrate is transported, and the arm is extended or retracted or turned so that the hand moves to the teaching position. A substrate transfer device comprising a control device for controlling the movement, wherein the control device recognizes a difference in inclination between a current direction of the hand and a teaching position, a horizontal direction, a direction perpendicular to the transfer direction, and a horizontal inclination. If the difference in inclination is not within the reference range, the amount of expansion / contraction or turning of the arm is adjusted so that the difference in inclination is zero, and the difference in the direction perpendicular to the transport direction is outside the reference range. If there is a difference in the direction perpendicular to the transport direction and the inclination of the arm is adjusted so that the inclination becomes 0, and if the difference in the transport direction is outside the reference range, So that the difference is zero, Serial and adjusts the telescopic or pivoting of the arm.
請求項2においては、請求項1記載の基板搬送装置であって、前記アームは、前記ハンドを一端側の支軸にて回動自在に軸支する第一アームと、前記ハンドを一端側の支軸にて回動自在に軸支し、前記第一アームと平面視にて平行かつ略同一長さの第二リンクアームと、一端側の支軸が前記第一アームの他端側の支軸と同期して回転する第三アームと、一端側の支軸が前記第二アームの他端側の支軸と同期して回転し、前記第三アームと平面視にて平行かつ略同一長さの第四リンクアームと、を具備し、前記第三アーム及び前記第四アームを旋回させ、或いは、前記第一アームと前記第三アームとの角度並びに前記第二アームと前記第四アームとの角度を変化させることによって、ワークを載置したハンドを移動させ、ワークを搬送する基板搬送装置であって、前記傾きの差が基準範囲内になければ、該傾きの差が0となるように、前記第三アームの他端側の支軸、或いは、前記第四アームの他端側の支軸が所定方向に移動するものである。 According to a second aspect of the present invention, in the substrate transfer apparatus according to the first aspect, the arm includes a first arm that pivotally supports the hand by a support shaft on one end side, and the hand on the one end side. A second link arm that is pivotally supported by a support shaft, is parallel to the first arm in a plan view, and is substantially the same length, and a support shaft on one end side is a support on the other end side of the first arm. The third arm that rotates in synchronization with the shaft and the support shaft on one end side rotate in synchronization with the support shaft on the other end side of the second arm, and are parallel to and substantially the same length as the third arm in plan view. A fourth link arm, and pivoting the third arm and the fourth arm, or an angle between the first arm and the third arm, and the second arm and the fourth arm. By changing the angle of the board, the hand on which the work is placed is moved, and the board that carries the work If the difference in inclination is not within a reference range, the support shaft on the other end side of the third arm or the other end of the fourth arm is set so that the difference in inclination is zero. The support shaft on the side moves in a predetermined direction.
本発明の基板搬送ロボットによれば、ハンドの傾きも含めた位置ズレを補正できる。 According to the substrate transfer robot of the present invention, it is possible to correct the positional deviation including the tilt of the hand.
図1を用いて、基板搬送装置100の構成について説明する。
なお、図1では、基板搬送装置100の構成を平面視にて模式的に表している。また、図1では、電気信号線を破線で表している。さらに、以下では、図1及び図2に表されるX方向、Y方向又はZ方向に従って説明するものとする。
The configuration of the
In FIG. 1, the configuration of the
基板搬送装置100は、アーム20を伸縮又は旋回させることによって、ワークW(図示略)を載置したハンド10を移動させ、ワークWを搬送するものである。なお、本実施形態のワークWは、液晶ディスプレイに用いられる基板としている。
The
基板搬送装置100は、真空環境下のトランスポートチャンバ(図示略)に配置されている。基板搬送装置100は、X方向の+側に配置される同じく真空環境下のプロセスチャンバ(図示略)又はロードロックチャンバ(図示略)にワークWを搬送するものとする。なお、X方向とは、トランスポートチャンバから例えばプロセスチャンバに向かう方向とし、プロセスチャンバに向かう側を+側とする。
The
基板搬送装置100は、大きくは、ハンド10と、アーム20と、ベース30と、コントローラ50と、を具備している。
The
ハンド10は、ワークWを載置するものである。ハンド10は、本体11と、ツメ12・12と、を具備している。
The
本体11の略中央部には、後述する支軸21A及び支軸22Aにて、主上部リンクアーム21と副上部リンクアーム22とが回動自在に軸支されている。本体11の所定位置には、マークMが印されている。マークMは、後述するCCDカメラ80によって認識できるものとする。ツメ12・12は、長尺状に形成され、それぞれが本体11から平行に延設されている。
A main
アーム20は、伸縮又は旋回させることによって、ハンド10を移動させるものである。アーム20は、平行リンク機構によって構成されている。アーム20は、第一アームとしての主上部リンクアーム21と、第二アームとしての副上部リンクアーム22と、第三アームとしての主下部リンクアーム23と、第四アームとしての副下部リンクアーム24と、を具備している。
The
主上部リンクアーム21は、棒状に形成され、それぞれの端側に第一先端側支軸としての支軸21Aと、第一基端側支軸としての支軸21Bと、を具備している。副上部リンクアーム22は、棒状に形成され、それぞれの端側に第二先端側支軸としての支軸22Aと、第二基端側支軸としての支軸22Bと、を具備している。主上部リンクアーム21及び副上部リンクアーム22は、略同一長さに構成され、平面視にて平行に配置されている。
The main
支軸21Bは、ギアケース25に収納され、後述する支軸23Cと同期して回転するように構成されている。支軸22Bは、同様にギアケース25に収納され、後述する支軸24Cと同期して回転するように構成されている。
The
主下部リンクアーム23は、棒状に形成され、それぞれの端側に第三先端側支軸としての支軸23Cと、第三基端側支軸としての支軸23Dと、を具備している。副下部リンクアーム24は、棒状に形成され、それぞれの端側に第四先端側支軸としての支軸24Cと、第四基端側支軸としての支軸24Dと、を具備している。主下部リンクアーム23及び副下部リンクアーム24は、略同一長さに構成され、平面視にて平行に配置されている。
The main
支軸23Cは、ギアケース25に収納され、支軸21Bと同期して回転するように構成されている。支軸24Cは、同様にギアケース25に収納され、支軸22Bと同期して回転するように構成されている。
The
ギアケース25は、箱体として構成され、支軸21Bと支軸23Cとが同期して回転するように、支軸21Bと支軸23Cとがギアによって歯合されている。同様に、支軸22Bと支軸24Cとが同期して回転するように、支軸22Bと支軸24Cとがギアによって歯合されている。
The
支軸23D及び支軸24Dは、アーム20の旋回中心の支軸である。支軸23Dは、回転駆動機構70によって回転駆動される。支軸24Dは、移動機構60によって搬送方向に移動可能に構成されている。
The
なお、本実施形態では、回転駆動機構70について、詳細な説明は省略する。また、移動機構60について、詳細な説明は後述する。
In the present embodiment, detailed description of the
ベース30は、略円柱形状に構成され、ベース30の上面には、アーム20が載置されている。ベース30には図示しない旋回駆動機構が設けられ、ベース30の上面及びアーム20がZ軸方向軸心周りに旋回する。アーム20の旋回中心となるものである。ベース30の略中央部には、支軸23D及び支軸24Dにて、主下部リンクアーム23と副下部リンクアーム24とが回動自在に軸支されている。また、ベース30の中央部には、移動機構60及び回転駆動機構70が設けられている。
The
コントローラ50は、移動機構60と、回転駆動機構70と、CCDカメラ80と、に接続されている。コントローラ50は、ハンド10が教示位置Pに移動するようにアーム20の伸縮又は旋回量を制御するものである。なお、教示位置Pとは、コントローラ50が予め認識している、或いは、コントローラ50が外部から与えられる、ハンド10の移動目標位置である。
The
CCDカメラ80は、ハンド10に印されたマークMを認識するものである。CCDカメラ80は、ハンド10の移動範囲において所定位置に設けられている。CCDカメラ80は、コントローラ50と接続されている。
The
図2を用いて、移動機構60の構成について説明する。
なお、図2では、移動機構60の構成を側面視にて模式的に表している。また、図2では、電気信号線を破線で表している。
The configuration of the moving
In addition, in FIG. 2, the structure of the moving
移動機構60は、副下部リンクアーム24の支軸24DをX方向に移動させるものである。移動機構60は、大気環境下となるケース61の内部と、真空環境下となるスライドテーブル68の周囲と、に大別される。
The moving
ケース61の内部には、電動機62と、減速機63と、ボールネジ64と、スライドブロック65と、ベローズ66と、が収納されている。
In the
電動機62は、コントローラ50に接続されている。減速機63は、電動機62に接続され、電動機62の回転駆動を減速するものである。ボールネジ64は、X方向と平行に配置され、減速機63に接続されている。スライドブロック65は、略支軸芯部において、ボールネジ64と螺合している。べローズ66は、ケース61の開口部とスライドブロック65との間に設けられ、ケース61内の大気環境下とケース61外の真空環境下とを遮断している。
The
スライドテーブル68の周囲には、連結シャフト69と、リンクアーム支柱71と、が配置されている。
A
スライドテーブル68は、X方向に沿って配置されるレールに係合するガイド68Aを具備し、X方向にスライドするものである。連結シャフト69は、X方向と平行に配置され、−側でスライドブロック65と固設され、+側でスライドテーブル68と固設されている。リンクアーム支柱71は、Z方向と平行に配置され、Z方向の+側でスライドテーブル68と固設され、Z方向の−側で副下部リンクアーム24の支軸24Dと固設されている。
The slide table 68 includes a
このような構成とすることで、移動機構60では、電動機62の回転駆動が減速機63を介してボールネジ64に伝達される。ボールネジ64が回転することによってスライドブロック65がX方向に移動される。スライドブロック65が搬送方向に移動することによって、連結シャフト69を介してスライドテーブル68がX方向に移動される。スライドテーブル68がX方向に移動することによって、リンクアーム支柱71を介して副下部リンクアーム24の支軸24DがX方向に移動される。リンクアーム24の支軸24DがX方向に移動することにより、リンクアーム23の支軸23Cとリンクアーム24の支軸24Dとの間の距離を変化させることができる。
With this configuration, in the moving
図3を用いて、基板搬送装置100の作用について説明する。
なお、図3では、基板搬送装置100の作用を平面視にて模式的に表している。
The operation of the
In addition, in FIG. 3, the effect | action of the board |
図3(A)に示すように、まず、ハンド10が傾きのない正常な状態について考える。このとき、例えば、移動機構60によって、副下部リンクアーム24の支軸24DをX方向の−側に移動させるとする。
As shown in FIG. 3A, first, consider a normal state in which the
副下部リンクアーム24の支軸24DをX方向の−側に移動させることによって、副下部リンクアーム24及びギアケース25は、略L字形状を構成していた副下部リンクアーム24とギアケース25との間の内側の角度が広がるように動作する。
By moving the
このとき、ギアケース25の姿勢は、X方向に平行であった状態から、X方向の+側端部がY方向の−側に傾くように変化する。ギアケース25がY方向の−側に傾くように動作することに伴い、ハンド10も同様にY方向の−側に傾くように動作する。基板搬送装置100においては、このようにして、副下部リンクアーム24の支軸24DをX方向の−側に移動させると、ハンド10がY方向の−側に傾くように動作する。
At this time, the posture of the
図3(B)に示すように、主上部リンクアーム21が熱膨張し、ハンド10がY方向の+側に傾いている場合について考える。この場合には、ハンド10がY方向の+側に傾くことになる。このとき、移動機構60によって、副下部リンクアーム24の支軸24DをX方向の−側に移動させる。
As shown in FIG. 3B, consider a case where the main
副下部リンクアーム24の支軸24DをX方向の−側に移動させることによって、副下部リンクアーム24及びギアケース25は、略L字形状を構成していた副下部リンクアーム24とギアケース25との間の内側の角度がさらに広がるように変化する。
By moving the
このとき、ギアケース25の姿勢は、X方向に平行な状態から、X方向の+側端部がY方向の−側に傾くように動作する。ギアケース25がY方向の−側に傾くように動作することに伴い、ハンド10も同様にY方向の−側に傾くように動作し、ハンド10はY方向の+側に傾きが補正される。
At this time, the posture of the
基板搬送装置100の効果について説明する。
基板搬送装置100によれば、ハンド10の傾きを補正できる。すなわち、副下部リンクアーム24の支軸24Dを移動機構60によってX方向に移動させ、ハンド10の傾きを補正できる。
The effect of the
According to the
本実施形態の基板搬送装置100では、移動機構60が副下部リンクアーム24の支軸24DをX方向に移動させる構成としたが、これに限定されない。例えば、移動機構60が副下部リンクアーム24の支軸24DをY方向に移動させる構成としても、同様の作用効果が得られる。
In the
本実施形態の基板搬送装置100では、副下部リンクアーム24の支軸24Dが移動機構60によってX方向に移動される構成としたが、これに限定されない。例えば、主下部リンクアーム23の支軸23Dが移動機構60によってX方向に移動される構成としても、同様の作用効果が得られる。
In the
本実施形態の基板搬送装置100では、副下部リンクアーム24の支軸24Dが移動機構60によってX方向に移動される構成としたが、これに限定されない。例えば、第一アーム21、第二アーム22、第三アーム23、又は第四アーム24のいずれかの長手方向長さを伸縮させる構成であっても同様の作用効果が得られる。あるいは、支軸24Dから偏倚した偏芯軸心を中心に、支軸24Dが回転移動される構成としても同様の作用効果が得られる。
In the
図4を用いて、基板搬送制御S100の流れについて説明する。
なお、図4では、基板搬送制御S100の流れをフローチャートによって表している。
The flow of the substrate transfer control S100 will be described with reference to FIG.
In addition, in FIG. 4, the flow of board | substrate conveyance control S100 is represented with the flowchart.
基板搬送制御S100は、基板搬送装置100のハンド10の傾きも含めた位置ズレを補正する制御である。ハンド10の位置ズレは、CCDカメラ80によって計測可能な教示位置Pにおける位置ズレ(XY平面の傾き(θ)、X方向の位置ズレ(Xd)、Y方向の位置ズレ(Yd))によって決定される。
The substrate transfer control S100 is a control for correcting a positional deviation including the tilt of the
ステップS110において、コントローラ50は、教示位置Pにハンド10を移動させて、CCDカメラ80によってマークMを認識させ、現在位置P´の位置情報を取得する。なお、教示位置Pの位置情報は、予めコントローラ50に記憶されているものとする。
In step S110, the
ステップS120において、コントローラ50は、現在位置P´と教示位置Pとの差を、XY平面上での傾き(θ)、X方向の位置ズレ(Xd)、Y方向の位置ズレ(Yd)として算出する。なお、θについては、2以上のマークMを認識することによって算出する。このとき、1つのマークMを例えば四角形とし、四角形の4つの頂点のうちいずれか2つの頂点をθ算出用の2点として座標認識させることによって、算出しても良い。
In step S120, the
ステップS130において、コントローラ50は、ステップS120において算出した位置ズレ(θ、Xd、Yd)が全て基準範囲内であるかどうかを確認する。ここで、基準範囲とは、補正を必要としない位置ズレ(θ、Xd、Yd)の範囲である。
In step S130, the
ステップS130において、位置ズレ(θ、Xd、Yd)が全て基準範囲内であれば、基板搬送制御S100を終了する。一方、位置ズレ(θ、Xd、Yd)のうち、一つでも基準範囲内でなければ、ステップS140へ移行する。 In step S130, if all the positional deviations (θ, Xd, Yd) are within the reference range, the substrate transport control S100 is terminated. On the other hand, if any one of the positional deviations (θ, Xd, Yd) is not within the reference range, the process proceeds to step S140.
ステップS140において、コントローラ50は、まず、θが基準範囲内であるかどうかを確認する。θが基準範囲内であれば、ステップS160に移行する。一方、θが基準範囲内でなければ、ステップS150に移行する。
In step S140, the
ステップS150において、コントローラ50は、移動機構60によって副下部リンクアーム24の支軸24DをY方向に移動させ、ハンド10に回転を作用させ、ハンド10の傾きθが0になるように補正する。より具体的には、ハンド10の位置ズレθが許容範囲内に収束するように補正する。なお、許容範囲とは、0を中心とした基準範囲よりも小さい範囲である。
In step S150, the
ステップS160において、コントローラ50は、次に、Ydが基準範囲内であるかどうかを確認する。Ydが基準範囲内であれば、ステップS180に移行する。一方、Ydが基準範囲内でなければ、ステップS170に移行する。
In step S160, the
ステップS170において、コントローラ50は、ベース30の旋回移動によって、アーム20を回転させ、ハンド10の位置ズレYdが0になるように補正する。より具体的には、ハンド10の位置ズレYdが許容範囲内に収束するように補正する。なお、許容範囲とは、0を中心とした基準範囲よりも小さい範囲である。
In step S170, the
ステップS180において、コントローラ50は、改めて、θ、Ydが共に基準範囲内であるかどうかを確認する。θ、Ydが基準範囲内であれば、ステップS140に移行する。一方、θ、Ydが共に基準範囲内でなければ、ステップS190に移行する。
In step S180, the
ステップS190において、コントローラ50は、最後に、Xdが基準範囲内であるかどうかを確認する。Xdが基準範囲内であれば、基板搬送制御S100を終了する。一方、Xdが基準範囲内でなければ、ステップS200に移行する。
In step S190, the
ステップS200において、コントローラ50は、回転駆動機構70によってアーム20を回転させ、ハンド10の位置ズレXdが0になるように補正する。より具体的には、ハンド10の位置ズレXdが許容範囲内に収束するように補正する。なお、許容範囲とは、0を中心とした基準範囲よりも小さい範囲である。
In step S <b> 200, the
図5を用いて、基板搬送制御S100の作用について説明する。
なお、図5では、基板搬送制御S100の作用を平面視にて模式的に表している。
The operation of the substrate transfer control S100 will be described with reference to FIG.
In FIG. 5, the operation of the substrate transfer control S100 is schematically shown in plan view.
図5(A)に示すように、例えば熱膨張等によって、ハンド10の現在位置P´が教示位置P(破線)に対してずれているものとする。ステップS110では、コントローラ50によって、現在位置P´が算出される。ステップS120では、コントローラ50によって、現在位置P´と教示位置Pとの差を位置ズレ(θ、Xd、Yd)が算出される。
As shown in FIG. 5A, it is assumed that the current position P ′ of the
ステップS130では、コントローラ50によって、位置ズレ(θ、Xd、Yd)のうち、一つでも基準範囲内でないと判定され、ステップS140に移行される。ステップS140では、コントローラ50によって、θが基準範囲内でないと判定され、ステップS150に移行される。
In step S130, the
ステップS150では、移動機構60によって、副下部リンクアーム24の支軸24DをX方向の−側に移動させ、ハンド10をY方向の−側に傾きが与えられ、ハンド10の傾きθが0となるように補正される。
In step S150, the
ステップS160では、コントローラ50によって、Ydが基準範囲内でないと判定され、ステップS170に移行される。
In step S160, the
図5(B)に示すように、ステップS170では、ベース30の旋回移動によって、アーム20を回転させ、ハンド10の位置ズレYdが0になるように補正される。このとき、Ydを0にしようとしたため、再度、ハンド10には、Y方向の+側の傾きが発生する。
As shown in FIG. 5B, in step S170, the
ステップS180では、コントローラ50によって、θ、Ydが共に基準範囲内でないと判定され、再びステップS140に移行される。ステップS140では、コントローラ50によって、θが基準範囲内でないと判定され、ステップS150に移行される。
In step S180, the
図5(C)に示すように、ステップS150では、再度、移動機構60によって、副下部リンクアーム24の支軸24DをY方向の+側に移動させ、ハンド10をY方向の−側に傾きが与えられ、ハンド10の傾きθが0となるように補正される。
As shown in FIG. 5C, in step S150, the
ステップS160では、コントローラ50によって、Ydが基準範囲内でないと判断され、ステップS180に移行される。ステップS180では、コントローラ50によって、θ、Ydが共に基準範囲内であると判定され、ステップS190に移行される。ステップS190では、コントローラ50によって、Xdが基準範囲内でないと判定され、ステップS200に移行される。
In step S160, the
図5(D)に示すように、ステップS200では、回転駆動機構70によって、アーム20を伸縮させ、ハンド10の位置ズレXdが0になるように補正される。
As shown in FIG. 5D, in step S200, the
本実施形態の基板搬送制御S100は、平行リンク機構から構成される基板搬送装置100としたが、これに限定されることはない。第一アーム及び第二アームが単なる一本のアームからなるスカラーロボットに基板搬送制御S100を適用することも可能である。
The substrate transport control S100 of the present embodiment is the
基板搬送制御S100の効果について説明する。
基板搬送制御S100によれば、基板搬送装置100のハンド10の傾きも含めた位置ズレを補正できる。
The effect of the substrate transfer control S100 will be described.
According to the substrate transport control S100, it is possible to correct the positional deviation including the tilt of the
10 ハンド
20 アーム
24 副下部リンクアーム
24D 支軸
25 ギアケース
30 ベース
50 コントローラ
60 移動機構
70 回転駆動機構
80 CCDカメラ
100 基板搬送装置
S100 基板搬送制御
DESCRIPTION OF
Claims (2)
前記制御装置は、
前記ハンドの現在位置と教示位置との搬送方向、水平方向において搬送方向に垂直な方向及び水平方向の傾きの差を認識し、
前記傾きの差が基準範囲内になければ、該傾きの差が0となるように、前記アームの伸縮又は旋回量を調整し、
前記搬送方向に垂直な方向の差が基準範囲外であれば、該搬送方向に垂直な方向の差及び前記傾きが0となるように、前記アームの伸縮又は旋回量を調整し、
前記搬送方向の差が基準範囲外であれば、該搬送方向の差が0となるように、前記アームの伸縮又は旋回量を調整する、
基板搬送装置。 A substrate provided with a control device for controlling the amount of expansion / contraction or turning of the arm so as to move the hand on which the substrate is placed by moving the arm to extend or turn, transport the substrate, and move the hand to the teaching position. A conveying device,
The control device includes:
Recognizing the difference between the current position of the hand and the teaching position in the transport direction, in the horizontal direction, in the direction perpendicular to the transport direction and in the horizontal direction,
If the difference in inclination is not within the reference range, adjust the amount of expansion or contraction or turning of the arm so that the difference in inclination becomes 0,
If the difference in the direction perpendicular to the transport direction is outside the reference range, adjust the amount of expansion or contraction or swiveling of the arm so that the difference in the direction perpendicular to the transport direction and the inclination become 0,
If the difference in the transport direction is outside the reference range, adjust the amount of expansion or contraction or turning of the arm so that the difference in the transport direction is 0.
Substrate transfer device.
前記アームは、
前記ハンドを一端側の支軸にて回動自在に軸支する第一アームと、
前記ハンドを一端側の支軸にて回動自在に軸支し、前記第一アームと平面視にて平行かつ略同一長さの第二リンクアームと、
一端側の支軸が前記第一アームの他端側の支軸と同期して回転する第三アームと、
一端側の支軸が前記第二アームの他端側の支軸と同期して回転し、前記第三アームと平面視にて平行かつ略同一長さの第四リンクアームと、
を具備し、
前記第三アーム及び前記第四アームを旋回させ、或いは、前記第一アームと前記第三アームとの角度並びに前記第二アームと前記第四アームとの角度を変化させることによって、ワークを載置したハンドを移動させ、ワークを搬送する基板搬送装置であって、
前記傾きの差が基準範囲内になければ、該傾きの差が0となるように、前記第三アームの他端側の支軸、或いは、前記第四アームの他端側の支軸が所定方向に移動する、
基板搬送装置。 The substrate transfer apparatus according to claim 1,
The arm is
A first arm that pivotally supports the hand with a pivot on one end side;
The hand is pivotally supported by a pivot on one end side, and a second link arm that is parallel to and substantially the same length as the first arm in plan view,
A third arm in which a support shaft on one end side rotates in synchronization with a support shaft on the other end side of the first arm;
A support shaft on one end side rotates in synchronization with a support shaft on the other end side of the second arm, a fourth link arm having a parallel and substantially the same length in plan view with the third arm;
Comprising
Place the workpiece by turning the third arm and the fourth arm, or changing the angle between the first arm and the third arm and the angle between the second arm and the fourth arm. A substrate transfer device for transferring a workpiece and transferring a workpiece,
If the difference in inclination is not within the reference range, the support shaft on the other end side of the third arm or the support shaft on the other end side of the fourth arm is predetermined so that the difference in inclination is zero. Move in the direction,
Substrate transfer device.
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