JP2014002960A - Surface emitting panel - Google Patents

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Toshifumi Kawano
敏史 川野
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface emitting panel which can inhibit reduction in light intensity and which can emit good irradiation light even when the size of the surface emitting panel grows.SOLUTION: A surface emitting panel including a plurality of organic EL elements comprises: a transparent substrate including on a surface, a plurality of element formation regions in which the plurality of organic EL elements are to be formed, and including a groove along at least one edge of each of the plurality of element formation regions and outside the element formation region; a translucent first electrode formed at least in each element formation region; an organic layer formed on the first electrode; a second electrode formed on the organic layer; and a main distribution line which is formed inside the groove and electrically connected to the first electrodes, for supplying power to each of the plurality of organic EL elements.

Description

本発明は、照明に用いる面発光パネルに関する。   The present invention relates to a surface emitting panel used for illumination.

照明用機器として白熱電球や蛍光灯が、従来から広く使用されている。これに対し、近年の面発光照明機器が、そのソフトな印象の光を照射できることや省エネルギー性能に優れていることなどの理由から次世代照明として注目を浴びており、有機エレクトロルミネッセンス(有機EL(Electro Luminescence)、OEL:Organic Electro Luminescence)、無機エレクトロルミネッセンス、あるいは発光ダイオードと導光板を組合せたものが開発されている。これらの中において、有機ELは、機器の小型軽量化が可能であり、発熱量も小さいといった点で注目されている。   Incandescent bulbs and fluorescent lamps have been widely used as illumination devices. On the other hand, recent surface-emitting lighting devices are attracting attention as next-generation lighting because they can irradiate light with a soft impression and are excellent in energy saving performance, and organic electroluminescence (organic EL ( Electro Luminescence), OEL: Organic Electro Luminescence), inorganic electroluminescence, or a combination of a light emitting diode and a light guide plate has been developed. Among these, organic EL has been attracting attention because it can reduce the size and weight of the device and generate a small amount of heat.

有機ELは有機物質からなる発光材料に電圧を印可してエネルギーを付与し、励起された当該発光材料が元の状態に戻る際に、光としてエネルギーを放出する現象のことをいう。有機EL技術を用いた発光素子である有機EL素子には、有機物質からなる発光材料を含む有機層と、当該有機層を挟むように対向した2個の電極(陰極及び陽極)と、を基板上に順次積層した構造が一般的に用いられている。   Organic EL refers to a phenomenon in which energy is applied to a light emitting material made of an organic substance by applying a voltage, and energy is released as light when the excited light emitting material returns to its original state. An organic EL element which is a light emitting element using organic EL technology includes an organic layer containing a light emitting material made of an organic substance and two electrodes (a cathode and an anode) facing each other so as to sandwich the organic layer. A structure in which layers are sequentially stacked is generally used.

有機ELは、発光材料の種類を変えることによって発光波長を変更することができるため、例えば赤色、緑色、青色の3種類の発光材料を混合することにより、有機EL素子から白色光を得ることができる。また、例えば異なる発光材料を含んだ2種類以上の有機EL素子をストライプ状に交互に形成することにより、各々の有機EL素子に独立して電流を供給する可変色の照明パネルを得ることができる。   Since the organic EL can change the emission wavelength by changing the type of the light emitting material, white light can be obtained from the organic EL element by mixing, for example, three types of light emitting materials of red, green, and blue. it can. Further, for example, by forming two or more types of organic EL elements containing different light emitting materials alternately in a stripe shape, a variable color lighting panel that supplies current independently to each organic EL element can be obtained. .

このような照明パネルは、一般的な照明用途に用いることができる他、建屋内、乗物内のインテリア、またはエクステリアなどに用いることも可能である。有機EL素子を用いた発光パネルを一般的な照明として用いた例が、例えば、特許文献1に記載されている。   Such lighting panels can be used for general lighting applications, and can also be used in buildings, interiors of vehicles, exteriors, and the like. An example in which a light-emitting panel using an organic EL element is used as general illumination is described in Patent Document 1, for example.

また、有機EL素子を用いた照明においては、単位面積あたりの輝度が従来の電球又は蛍光灯に比べて一般的に小さく、光量を増加するために発光部分の面積をより大きくすることが求められる。このため、面発光パネルを複数配列し、発光部分の面積をより大きくする方法が用いられている。例えば、特許文献2には、発光部分の大型化がなされた面発光パネルが開示されている。   Further, in illumination using an organic EL element, the luminance per unit area is generally smaller than that of a conventional light bulb or fluorescent lamp, and it is required to increase the area of the light emitting portion in order to increase the amount of light. . For this reason, a method of arranging a plurality of surface emitting panels and increasing the area of the light emitting portion is used. For example, Patent Document 2 discloses a surface light emitting panel in which a light emitting portion is enlarged.

特開2011−18483号公報JP 2011-18483 A 特開2010−177048号公報JP 2010-177048 A

有機EL素子を用いた面発光照明では、上述したような多数の面発光パネルを並べることにより、大型の発光体を形成することができる。しかしながら、小型の面発光パネルを多数製造することは、大型の面発光パネルを小数製造することに比べて単位面積あたりの生産コストが高くなる。更に、各面発光パネルに供給する電力線及び信号線等の種々の配線が複雑となる上、その取り付け作業の負担も大きい。従って、大型の発光体(パネル群)の形成には、大型の面発光パネルを使用することが望まれる。   In surface-emitting illumination using an organic EL element, a large light-emitting body can be formed by arranging a large number of surface-emitting panels as described above. However, manufacturing a large number of small surface emitting panels increases the production cost per unit area as compared to manufacturing a small number of large surface emitting panels. Furthermore, various wirings such as power lines and signal lines supplied to each surface light emitting panel are complicated, and the burden of the mounting work is large. Therefore, it is desired to use a large surface emitting panel for forming a large light emitter (panel group).

しかしながら、従来の技術では面発光パネルの寸法を大きくすると、部分的に有機EL素子の電極の電圧降下が生じるという問題があった。通常の有機ELの面発光パネルにおいては、透明な基板上に透明電極である陽極、有機層、陰極が順に積層され、有機層で生じた光が透明電極および基板を透過して面発光パネルの外部に放射される。透明電極への電力供給はパネル端部の電力供給端子を介してなされるが、酸化インジウムスズ(ITO:Indium Tin Oxide)等の透明電極はアルミニウム(Al)及び銅(Cu)等の低抵抗金属に比べると抵抗が高いため、パネル中央部等の電力供給端子から距離が離れた位置では電圧降下が生じることになる。このような電圧降下を抑制するために、Alなどの細線からなる補助電極を透明電極に接して設ける方法があるが、金属製の補助電極は不透明であるため、光量の低下を避ける観点から比較的太い補助電極を使用することができず、補助電極の抵抗を十分に下げることができなかった。従って、面発光パネルの寸法が非常に大きくなると、電力供給端子から離れた位置ではやはり電圧降下が生じ、発光輝度が低下して面発光パネル自体が暗くなってしまう。このような問題を鑑みて、良好な特性を得られる面発光パネルの寸法が10cm角程度に制限されていた。   However, the conventional technology has a problem that when the size of the surface light emitting panel is increased, a voltage drop of the electrode of the organic EL element is partially generated. In a normal organic EL surface-emitting panel, an anode, an organic layer, and a cathode, which are transparent electrodes, are sequentially laminated on a transparent substrate, and light generated in the organic layer passes through the transparent electrode and the substrate and is transmitted through the surface-emitting panel. Radiated to the outside. The power supply to the transparent electrode is made through the power supply terminal at the end of the panel, but the transparent electrode such as indium tin oxide (ITO) is a low resistance metal such as aluminum (Al) and copper (Cu). Since the resistance is higher than the voltage, a voltage drop occurs at a position away from the power supply terminal such as the center of the panel. In order to suppress such a voltage drop, there is a method of providing an auxiliary electrode made of a thin wire such as Al in contact with a transparent electrode. However, since the metal auxiliary electrode is opaque, it is compared from the viewpoint of avoiding a decrease in the amount of light. A thick auxiliary electrode could not be used, and the resistance of the auxiliary electrode could not be lowered sufficiently. Therefore, when the size of the surface light emitting panel becomes very large, a voltage drop still occurs at a position away from the power supply terminal, the light emission luminance is lowered, and the surface light emitting panel itself becomes dark. In view of such a problem, the size of the surface emitting panel that can obtain good characteristics is limited to about 10 cm square.

このような電圧降下の問題を解決して面発光パネルを大型化するには、電圧降下が問題にならない寸法に基板上の発光領域を分割し、発光領域へ電力を供給する低抵抗の主配線を発光領域間に設ける方法が考えられる。   In order to solve such a voltage drop problem and increase the size of a surface emitting panel, a low-resistance main wiring that divides the light-emitting area on the substrate into dimensions that do not cause a voltage drop and supplies power to the light-emitting area. It is conceivable to provide a gap between the light emitting regions.

しかしながら、このような場合であっても、当該主配線の抵抗値を十分に小さくするためには、当該主配線の断面積を十分大きくする必要があり、低抵抗の確保のために当該主配線の幅を広げると、上述した場合と同様に発光領域間の非発光部が広がって光量の低下を招き、更には面発光照明としての全体的な一体感が無くなってしまう。また、当該主配線の高さが大きくなり、当該主配線の頂部が基板面に対して大きく突出してしまうと、有機層又は対向電極を真空プロセスで作成する際、当該主配線近傍の領域が当該主配線の影の影響を受けることによって良好に成膜できないという問題が生じる。更には、インクジェット塗布を用いる際にも、ノズルが当該主配線に衝突する問題が生じる可能性がある。   However, even in such a case, in order to sufficiently reduce the resistance value of the main wiring, it is necessary to sufficiently increase the cross-sectional area of the main wiring. When the width is increased, the non-light emitting portion between the light emitting regions is widened as in the case described above, leading to a reduction in the amount of light, and further, there is no overall sense of unity as surface emitting illumination. In addition, when the height of the main wiring is increased and the top of the main wiring protrudes greatly from the substrate surface, the area near the main wiring is reduced when the organic layer or the counter electrode is formed by a vacuum process. Due to the influence of the shadow of the main wiring, there arises a problem that the film cannot be satisfactorily formed. Furthermore, when using inkjet coating, there is a possibility that the nozzle collides with the main wiring.

本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、面発光パネルの寸法を大型化した際においても、光量の低下を抑制し、良好な照射光を照射することができる面発光パネルを提供することにある。   This invention is made | formed in view of such a subject, The place made into the objective suppresses the fall of a light quantity, and irradiates favorable irradiation light, when the dimension of a surface emitting panel is enlarged. An object of the present invention is to provide a surface emitting panel that can be used.

上記目的を達成するため、本発明の面発光パネルは、複数の有機EL素子を備える面発光パネルであって、前記複数の有機EL素子が形成される複数の素子形成領域、及び前記複数の素子形成領域のそれぞれの少なくとも一辺に沿い且つ前記素子形成領域の外側に形成された溝を表面に備える透明基板と、少なくとも前記素子形成領域内に形成され、透光性を備える第1電極と、前記第1電極上に形成された有機層と、前記有機層上に形成された第2電極と、前記溝の内部に形成されるとともに前記第1電極に電気的に接続され、前記複数の有機EL素子のそれぞれに電力を供給する主配線と、を有することを特徴とする。   In order to achieve the above object, a surface light emitting panel of the present invention is a surface light emitting panel including a plurality of organic EL elements, a plurality of element forming regions in which the plurality of organic EL elements are formed, and the plurality of elements. A transparent substrate provided on the surface with a groove formed along at least one side of each of the formation regions and outside the element formation region, a first electrode formed at least in the element formation region and having translucency; An organic layer formed on the first electrode; a second electrode formed on the organic layer; and a plurality of organic EL elements formed in the groove and electrically connected to the first electrode. And a main wiring for supplying power to each of the elements.

上述した面発光パネルにおいて、前記溝は、前記複数の素子形成領域のそれぞれを区画するように形成されていてもよい。   In the surface light emitting panel described above, the groove may be formed so as to partition each of the plurality of element formation regions.

上述したいずれかの面発光パネルにおいて、前記主配線は、前記第1電極を構成する導電材料よりも低い抵抗率を備える導電材料から構成されていることが好ましい。   In any one of the surface light-emitting panels described above, the main wiring is preferably made of a conductive material having a lower resistivity than that of the conductive material forming the first electrode.

上述したいずれかの面発光パネルにおいて、前記第1電極と直接的に接続されるとともに、前記素子形成領域内に設けられた少なくとも1本以上の線状の第3電極を更に有してもよい。   Any one of the above-described surface emitting panels may further include at least one or more linear third electrodes that are directly connected to the first electrode and provided in the element formation region. .

上述した第3電極を有する場合において、前記第3電極は、前記第1電極上であって前記透明基板とは逆側に形成されていてもよく、又は前記第1電極と前記透明基板との間に形成されていてもよい。   In the case of having the third electrode described above, the third electrode may be formed on the first electrode and on the opposite side of the transparent substrate, or between the first electrode and the transparent substrate. It may be formed between.

上述したいずれかの面発光パネルにおいて、前記主配線が第1絶縁膜で覆われていてもよい。   In any of the above-described surface emitting panels, the main wiring may be covered with a first insulating film.

上述した第3電極を有する場合において、前記第3電極が第2絶縁膜で覆われていてもよい。   In the case of having the third electrode described above, the third electrode may be covered with a second insulating film.

上述したいずれかの面発光パネルにおいて、非透光性の材料が、前記溝の底面と前記主配線との間に堆積されていてもよい。   In any of the surface light-emitting panels described above, a non-translucent material may be deposited between the bottom surface of the groove and the main wiring.

本発明に係る面発光パネルにおいては、透明基板に形成された溝内に主配線が形成されている。このような構造を用いることにより、主配線の幅をより小さくすることができる。これにより、面発光パネルの非発光領域の面積が小さくなり、十分な光量の確保を図ることができるとともに非発光領域を発光領域と比較して目立たなくすることができ、更には面発光パネルを面発光照明に使用した場合に、当該面発光照明の全体的な一体感を向上することができる。   In the surface light emitting panel according to the present invention, the main wiring is formed in the groove formed in the transparent substrate. By using such a structure, the width of the main wiring can be further reduced. As a result, the area of the non-light emitting area of the surface light emitting panel is reduced, a sufficient amount of light can be secured, and the non light emitting area can be made inconspicuous compared to the light emitting area. When used for surface-emitting illumination, the overall sense of unity of the surface-emitting illumination can be improved.

以上のことから、本発明に係る面発光パネルは、大型化された際にも、上述した非発光領域の増大に伴う光量の低下を抑制し、良好な照射光を提供することができることになる。   From the above, even when the surface light emitting panel according to the present invention is enlarged, it is possible to suppress the decrease in the amount of light accompanying the increase in the non-light emitting region described above and to provide good irradiation light. .

実施例1に係る面発光パネルの一例を示す模式的な底面図である。FIG. 3 is a schematic bottom view showing an example of a surface light emitting panel according to Example 1. 図1中のII−II線に沿う面発光パネルの断面図である。It is sectional drawing of the surface emitting panel which follows the II-II line | wire in FIG. 図1中のIII−III線に沿う面発光パネルの断面図である。It is sectional drawing of the surface emitting panel which follows the III-III line | wire in FIG. 図1中のIV−IV線に沿う面発光パネルの断面図である。It is sectional drawing of the surface emitting panel which follows the IV-IV line | wire in FIG. 図2における断面図に対応した各製造工程における断面図である。It is sectional drawing in each manufacturing process corresponding to sectional drawing in FIG. 図2における断面図に対応した各製造工程における断面図である。It is sectional drawing in each manufacturing process corresponding to sectional drawing in FIG. 図2における断面図に対応した各製造工程における断面図である。It is sectional drawing in each manufacturing process corresponding to sectional drawing in FIG. 図2における断面図に対応した各製造工程における断面図である。It is sectional drawing in each manufacturing process corresponding to sectional drawing in FIG. 図2における断面図に対応した各製造工程における断面図である。It is sectional drawing in each manufacturing process corresponding to sectional drawing in FIG. 図2における断面図に対応した各製造工程における断面図である。It is sectional drawing in each manufacturing process corresponding to sectional drawing in FIG. 図2における断面図に対応した各製造工程における断面図である。It is sectional drawing in each manufacturing process corresponding to sectional drawing in FIG. 図2と同様の断面で示す変形例に係る面発光パネルの断面図である。It is sectional drawing of the surface emitting panel which concerns on the modification shown by the cross section similar to FIG. 図6と同様の断面で示す変形例に係る透明基板の断面図である。It is sectional drawing of the transparent substrate which concerns on the modification shown with the cross section similar to FIG. 実施例2に係る面発光パネルの一例を示す模式的な底面図である。6 is a schematic bottom view showing an example of a surface light emitting panel according to Example 2. FIG. 図14中のXV−XV線に沿う面発光パネルの断面図である。It is sectional drawing of the surface emitting panel which follows the XV-XV line | wire in FIG. 図14中のXVI−XVI線に沿う面発光パネルの断面図である。It is sectional drawing of the surface emitting panel which follows the XVI-XVI line | wire in FIG. 図14中のXVII−XVII線に沿う面発光パネルの断面図である。It is sectional drawing of the surface emitting panel which follows the XVII-XVII line in FIG. 図17における断面図に対応した、各製造工程における断面図である。It is sectional drawing in each manufacturing process corresponding to sectional drawing in FIG. 図17における断面図に対応した、各製造工程における断面図である。It is sectional drawing in each manufacturing process corresponding to sectional drawing in FIG. 図17における断面図に対応した、各製造工程における断面図である。It is sectional drawing in each manufacturing process corresponding to sectional drawing in FIG. 図17における断面図に対応した、各製造工程における断面図である。It is sectional drawing in each manufacturing process corresponding to sectional drawing in FIG. 図17における断面図に対応した、各製造工程における断面図である。It is sectional drawing in each manufacturing process corresponding to sectional drawing in FIG. 図17における断面図に対応した、各製造工程における断面図である。It is sectional drawing in each manufacturing process corresponding to sectional drawing in FIG. 図17における断面図に対応した、各製造工程における断面図である。It is sectional drawing in each manufacturing process corresponding to sectional drawing in FIG.

以下、図面を参照し、本発明の実施の形態について、実施例及び変形例に基づき詳細に説明する。なお、本発明は以下に説明する内容に限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において任意に変更して実施することが可能である。また、各実施例及び変形例の説明に用いる図面は、いずれも本発明による面発光パネルを模式的に示すものであって、理解を深めるべく部分的な強調、拡大、縮小、または省略などを行っており、各構成部材の縮尺や形状等を正確に表すものとはなっていない場合がある。更に、各実施例及び変形例で用いる様々な数値は、いずれも一例を示すものであり、必要に応じて様々に変更することが可能である。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail based on examples and modifications with reference to the drawings. In addition, this invention is not limited to the content demonstrated below, In the range which does not change the summary, it can change arbitrarily and can implement. In addition, the drawings used for explaining each embodiment and modification schematically show the surface light emitting panel according to the present invention, and partial emphasis, enlargement, reduction, omission, etc. are made for better understanding. In some cases, it does not accurately represent the scale or shape of each component. Furthermore, the various numerical values used in each embodiment and modification are only examples, and can be variously changed as necessary.

(面発光パネルの構成)
図1は、本実施例に係る面発光パネル1の一例を示す模式的な底面図である。なお、図1においては、面発光パネル1内の後述する主配線及び補助電極の構造の理解を容易にするために、後述する陽極、有機層及び陰極が図示されていない。図2は、図1中のII−II線に沿う面発光パネル1の断面図である。図3は、図1中のIII−III線に沿う面発光パネル1の断面図である。図4は、図1中のIV−IV線に沿う面発光パネル1の断面図である。
(Configuration of surface emitting panel)
FIG. 1 is a schematic bottom view showing an example of a surface emitting panel 1 according to the present embodiment. In FIG. 1, an anode, an organic layer, and a cathode, which will be described later, are not shown in order to facilitate understanding of the structures of main wirings and auxiliary electrodes, which will be described later, in the surface light emitting panel 1. FIG. 2 is a cross-sectional view of the surface emitting panel 1 taken along line II-II in FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view of the surface-emitting panel 1 taken along the line III-III in FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view of the surface light emitting panel 1 taken along line IV-IV in FIG.

図1乃至図4から分かるように、面発光パネル1は、透明基板2、透明基板2内に設けられた主配線3、主配線3に接続された補助電極4、補助電極4を被覆するように設けられた陽極5、陽極5上に設けられた有機層6、及び有機層6上に設けられた陰極7から構成されている。すなわち、本発明における、第1電極が陽極5、第2電極が陰極7、第3電極が補助電極4に相当する。後述する実施例2においても同様である。また、本実施例においては、陽極5、有機層6、及び陰極7から構成される有機EL素子8が2個形成されている。なお、有機EL素子8の数量は2個に限定されることなく、面発光パネル1の使用用途等に応じて適宜変更することができる。   As can be seen from FIGS. 1 to 4, the surface emitting panel 1 covers the transparent substrate 2, the main wiring 3 provided in the transparent substrate 2, the auxiliary electrode 4 connected to the main wiring 3, and the auxiliary electrode 4. The anode 5 is provided on the anode 5, the organic layer 6 is provided on the anode 5, and the cathode 7 is provided on the organic layer 6. That is, in the present invention, the first electrode corresponds to the anode 5, the second electrode corresponds to the cathode 7, and the third electrode corresponds to the auxiliary electrode 4. The same applies to Example 2 described later. In this embodiment, two organic EL elements 8 each including the anode 5, the organic layer 6, and the cathode 7 are formed. Note that the number of the organic EL elements 8 is not limited to two, and can be appropriately changed according to the use application of the surface light emitting panel 1 or the like.

本実施例において、透明基板2は、透光性を有するガラス製の基板であり、その平面形状は長方形である。なお、透明基板2は、可視光を透過する特性を有する基板であればよく、例えば、セラミックス、ポリエステル、ポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルフォン等の樹脂などの各種材料から構成されてもよい。   In this embodiment, the transparent substrate 2 is a glass substrate having translucency, and its planar shape is a rectangle. The transparent substrate 2 may be a substrate having a property of transmitting visible light, and may be made of various materials such as a resin such as ceramics, polyester, polymethacrylate, polycarbonate, and polyether sulfone.

また、図1乃至図4に示すように、透明基板2の第1面2a側には、溝11が形成され、当該溝11の内部には主配線3が形成されている。より具体的には、図1から分かるように、透明基板2の第1面2aには、短辺方向に延在する3本の溝11aが形成されるとともに、当該3本の溝11aの一端を連結するように長辺方向に延在する1つの溝11bが形成されている。3本の溝11aのうちの1つは、透明基板2の外縁にまで到達している。なお、以下において、溝11a及び溝11bのいずれかを特定しない場合には、単に溝11とも称する。また、本実施例における透明基板2においては、透明基板2の第1面2aとは反対側に位置する面を第2面2bと定義する。   As shown in FIGS. 1 to 4, a groove 11 is formed on the first surface 2 a side of the transparent substrate 2, and a main wiring 3 is formed inside the groove 11. More specifically, as can be seen from FIG. 1, the first surface 2a of the transparent substrate 2 is formed with three grooves 11a extending in the short side direction, and one end of the three grooves 11a. One groove 11b extending in the long side direction is formed so as to connect the two. One of the three grooves 11 a reaches the outer edge of the transparent substrate 2. In the following, when any of the groove 11a and the groove 11b is not specified, it is also simply referred to as the groove 11. Moreover, in the transparent substrate 2 in a present Example, the surface located on the opposite side to the 1st surface 2a of the transparent substrate 2 is defined as the 2nd surface 2b.

溝11の深さは、溝11内に形成される主配線3の抵抗値を十分に小さくするために、0.1mm以上が好ましい。より好ましくは0.2mm以上である。また、溝11が深すぎると、溝11が形成されている部分の透明基板2の厚さが小さくなり、機械的耐久性を確保することが困難となるため、溝11が形成されている部分の透明基板2の厚さは、0.1mm以上であることが好ましい。より好ましくは0.2mm以上である。なお、透明基板2が樹脂から形成されている場合には、ガラス等に比べ薄い厚みであっても耐久性があるため、溝11が形成されている部分の基板の厚みは、0.01mm以上であることが好ましい。より好ましくは0.02mm以上である。   The depth of the groove 11 is preferably 0.1 mm or more in order to sufficiently reduce the resistance value of the main wiring 3 formed in the groove 11. More preferably, it is 0.2 mm or more. Moreover, since the thickness of the transparent substrate 2 of the part in which the groove | channel 11 is formed will become small if the groove | channel 11 is too deep, and it will become difficult to ensure mechanical durability, the part in which the groove | channel 11 is formed The thickness of the transparent substrate 2 is preferably 0.1 mm or more. More preferably, it is 0.2 mm or more. In addition, when the transparent substrate 2 is formed from a resin, the thickness of the substrate in the portion where the groove 11 is formed is 0.01 mm or more because it has durability even if it is thinner than glass or the like. It is preferable that More preferably, it is 0.02 mm or more.

溝11の深さと同様に、溝11の幅は、溝11内に形成される主配線3の抵抗値を十分に小さくするために、0.1mm以上であることが好ましい。より好ましくは0.3mm以上である。また、溝11の幅が広すぎると、溝11内に形成される主配線3の幅が大きくなり、透明基板2の発光面(すなわち、光放射面である第2面2b)における非発光部分が増大するため、溝11の幅は3mm以下であることが好ましい。より好ましくは2.0mm以下である。   Similar to the depth of the groove 11, the width of the groove 11 is preferably 0.1 mm or more in order to sufficiently reduce the resistance value of the main wiring 3 formed in the groove 11. More preferably, it is 0.3 mm or more. On the other hand, if the width of the groove 11 is too wide, the width of the main wiring 3 formed in the groove 11 becomes large, and the non-light emitting portion on the light emitting surface of the transparent substrate 2 (that is, the second surface 2b which is the light emitting surface). Therefore, the width of the groove 11 is preferably 3 mm or less. More preferably, it is 2.0 mm or less.

このような溝11a及び溝11bが透明基板2の第1面2aに形成されることにより、透明基板2の第1面2a上には、第1面2a上における3方向が溝11によって囲まれた2個の素子形成領域2cが形成されることになる。換言すれば、素子形成領域2cのそれぞれの3つ辺に沿い且つ素子形成領域2cの外側に、溝11が形成されていることになる。   By forming such grooves 11 a and grooves 11 b on the first surface 2 a of the transparent substrate 2, three directions on the first surface 2 a are surrounded by the grooves 11 on the first surface 2 a of the transparent substrate 2. Two element formation regions 2c are thus formed. In other words, the grooves 11 are formed along the three sides of the element formation region 2c and outside the element formation region 2c.

図2乃至図4から分かるように、本実施例における溝11の断面形状は、正方形又は長方形等の四角形であるが、補助電極4との接続及び比較的低い抵抗値を確保することができればこのような形状に限定されることはない。例えば、溝11の断面形状は半円であってもよい。   As can be seen from FIGS. 2 to 4, the cross-sectional shape of the groove 11 in this embodiment is a square such as a square or a rectangle. However, if the connection with the auxiliary electrode 4 and a relatively low resistance value can be secured, It is not limited to such a shape. For example, the cross-sectional shape of the groove 11 may be a semicircle.

上述したように、溝11の内部には主配線3が形成されている。すなわち、主配線3は、素子形成領域2cを囲むように形成されており、有機EL素子8に電力を供給することができるように、有機EL素子8の陽極5と電気的に接続されている。なお、当該電気的な接続は後述する。また、図1に示すように、主配線3の一端は、透明基板2の外縁に到達しており、透明基板2の側面から露出した部分が外部接続端子12として機能することになる。このような主配線3の構成により、面発光パネル1の外部から有機EL素子8に対して、駆動用の電力を容易に供給することが可能になる。   As described above, the main wiring 3 is formed inside the groove 11. That is, the main wiring 3 is formed so as to surround the element formation region 2 c and is electrically connected to the anode 5 of the organic EL element 8 so that electric power can be supplied to the organic EL element 8. . The electrical connection will be described later. As shown in FIG. 1, one end of the main wiring 3 reaches the outer edge of the transparent substrate 2, and a portion exposed from the side surface of the transparent substrate 2 functions as the external connection terminal 12. With such a configuration of the main wiring 3, it becomes possible to easily supply driving power to the organic EL element 8 from the outside of the surface light emitting panel 1.

主配線3の材料は、例えば、金(Au)、銀(Ag)、白金(Pt)、銅(Cu)、又はアルミニウム(Al)等の比較的に抵抗値が小さい低抵抗金属から構成されることが好ましい。また、耐腐食性及び機械的強度の向上を図るために、上述した低抵抗金属にチタン(Ti)、シリコン(Si)、インジウム(In)、ホウ素(B)、炭素(C)、又はリン(P)を等の添加物を添加してもよい。更には、主配線3の材料として、ポリ(エチレンジオキシ−チオフェン)−ポリスチレンスルホン酸(PDOT:PSS)を用いてもよい。   The material of the main wiring 3 is composed of a low resistance metal having a relatively small resistance value such as gold (Au), silver (Ag), platinum (Pt), copper (Cu), or aluminum (Al). It is preferable. In order to improve corrosion resistance and mechanical strength, titanium (Ti), silicon (Si), indium (In), boron (B), carbon (C), or phosphorus ( Additives such as P) may be added. Furthermore, poly (ethylenedioxy-thiophene) -polystyrene sulfonic acid (PDOT: PSS) may be used as the material of the main wiring 3.

陽極5における電圧降下を防ぐという目的から、主配線3は、陽極5を構成する導電材料よりも低い抵抗率を備える導電材料から構成されていることが好ましい。なお、図2乃至4において、主配線3は溝11を丁度完全に埋めるように設けられているが、主配線3が溝11を完全に埋めないか、あるいは溝11を多少はみ出る場合も有りうる。   For the purpose of preventing voltage drop at the anode 5, the main wiring 3 is preferably made of a conductive material having a lower resistivity than the conductive material constituting the anode 5. 2 to 4, the main wiring 3 is provided so as to completely fill the groove 11. However, the main wiring 3 may not completely fill the groove 11 or may slightly protrude from the groove 11. .

図1、図2、及び図4から分かるように、透明基板2及び主配線3の一部の上に、ストライプ状の補助電極4が形成されている。より具体的に、補助電極4は、溝11bに平行であって溝11a内に位置する主配線3同士を接続するように、素子形成領域2c内に設けられている。また、補助電極4は、その両端において主配線3と直接的に接続されている。本実施例においては、素子形成領域2c内に12本の補助電極4が形成されているが、その数量は限定されることなく、素子形成領域2cの寸法、面発光パネル1の特性等に応じて適宜変更することができる。   As can be seen from FIGS. 1, 2, and 4, a stripe-shaped auxiliary electrode 4 is formed on a part of the transparent substrate 2 and the main wiring 3. More specifically, the auxiliary electrode 4 is provided in the element formation region 2c so as to connect the main wirings 3 which are parallel to the groove 11b and located in the groove 11a. The auxiliary electrode 4 is directly connected to the main wiring 3 at both ends thereof. In the present embodiment, twelve auxiliary electrodes 4 are formed in the element formation region 2c, but the number thereof is not limited and depends on the dimensions of the element formation region 2c, the characteristics of the surface emitting panel 1, and the like. Can be changed as appropriate.

補助電極4の材料は、例えば、Au、Ag、Pt、Cu、又はAl等の比較的に抵抗値が小さい低抵抗金属から構成されることが好ましい。また、耐腐食性及び機械的強度の向上を図るために、上述した低抵抗金属にTi、Si、In、B、C、又はP等の添加物を添加してもよい。更には、補助電極4の材料として、PDOT:PSSを用いてもよい。   The material of the auxiliary electrode 4 is preferably made of a low resistance metal having a relatively small resistance value such as Au, Ag, Pt, Cu, or Al. Moreover, in order to improve corrosion resistance and mechanical strength, additives such as Ti, Si, In, B, C, or P may be added to the above-described low resistance metal. Furthermore, PDOT: PSS may be used as the material of the auxiliary electrode 4.

補助電極4の幅は、主配線3の幅(すなわち、溝11の幅)と比較して小さい。ここで、補助電極4の幅は、例えば0.8mm以下が好ましい。これは、補助電極4の材料が低抵抗金属等の透光性を有さない材料が使用されるため、素子形成領域2cに形成される有機EL素子8から外部に放射される光が遮断され、面発光パネル1自体の非発光部分が増大することを防ぐためである。また、補助電極4の抵抗値をより小さくするためにも、補助電極4の幅は、例えば0.05mm以上が好ましい。これは、後述するように、陽極5の電圧低下を抑制するために補助電極4が設けられているためである。   The width of the auxiliary electrode 4 is smaller than the width of the main wiring 3 (that is, the width of the groove 11). Here, the width of the auxiliary electrode 4 is preferably 0.8 mm or less, for example. This is because the auxiliary electrode 4 is made of a material having no translucency, such as a low-resistance metal, so that light emitted from the organic EL element 8 formed in the element formation region 2c is blocked. This is to prevent the non-light emitting portion of the surface light emitting panel 1 itself from increasing. In order to make the resistance value of the auxiliary electrode 4 smaller, the width of the auxiliary electrode 4 is preferably 0.05 mm or more, for example. This is because the auxiliary electrode 4 is provided to suppress the voltage drop of the anode 5 as described later.

図2乃至図4から分かるように、補助電極4を被覆するように、陽極5が透明基板2の第1面2a上に形成されている。また、陽極5は、主配線3に対して直接的に接続されず、補助電極4を介して主配線3に電気的に接続されている。すなわち、陽極5は、素子形成領域2c内のみに形成されていることになる。このような構成により、外部接続端子12から供給される電力が、主配線3及び補助電極4を経由して陽極5に供給されることになる。   As can be seen from FIGS. 2 to 4, the anode 5 is formed on the first surface 2 a of the transparent substrate 2 so as to cover the auxiliary electrode 4. The anode 5 is not directly connected to the main wiring 3 but is electrically connected to the main wiring 3 via the auxiliary electrode 4. That is, the anode 5 is formed only in the element formation region 2c. With such a configuration, the power supplied from the external connection terminal 12 is supplied to the anode 5 via the main wiring 3 and the auxiliary electrode 4.

本実施例においては、陽極5は、インジウム錫酸化物(ITO:Indium Tin Oxide)から構成されている。ITOから陽極5が構成されることにより、陽極5は、発光層として機能する有機層6に正孔を注入する機能を有し、且つ有機層6における各色の発光に対して透光性を備えている。すなわち、陽極5は透明電極として機能する。   In this embodiment, the anode 5 is made of indium tin oxide (ITO). By forming the anode 5 from ITO, the anode 5 has a function of injecting holes into the organic layer 6 functioning as a light emitting layer, and has translucency for light emission of each color in the organic layer 6. ing. That is, the anode 5 functions as a transparent electrode.

なお、陽極5は、ITOから構成されていることに限定されることなく、有機層6に正孔を注入する機能を有し、且つ有機層6における各色の発光に対して透光性を備えていれば、例えば、インジウム亜鉛酸化物等の金属酸化物、ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリピロール等の導電性高分子等から構成されてもよい。   The anode 5 is not limited to being made of ITO, and has a function of injecting holes into the organic layer 6 and has translucency for light emission of each color in the organic layer 6. If it is, for example, it may be composed of a metal oxide such as indium zinc oxide, a conductive polymer such as poly (3-methylthiophene), polypyrrole, or the like.

図2乃至図4に示すように、陽極5上には、有機層6が積層されている。有機層6は、例えば、複数の層が積層された低分子積層形のEL材料から構成されている。より具体的に、有機層6は、陽極5側から正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層及び電子注入層の順に積層された構造を有している。   As shown in FIGS. 2 to 4, an organic layer 6 is laminated on the anode 5. The organic layer 6 is made of, for example, a low molecular layered EL material in which a plurality of layers are stacked. More specifically, the organic layer 6 has a structure in which a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer are stacked in this order from the anode 5 side.

正孔注入層及び正孔輸送層は、正孔輸送性の材料から形成されることが好ましく、芳香族アミン誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ベンジルフェニル誘導体、フルオレン基で3級アミンを連結した化合物、ヒドラゾン誘導体、シラザン誘導体、シラナミン誘導体、ホスファミン誘導体、キナクリドン誘導体、ポリアニリン誘導体、ポリピロール誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリチエニレンビニレン誘導体、ポリキノリン誘導体、ポリキノキサリン誘導体、カーボン等が挙げられる。また、電子輸送層は、電子輸送性の材料から形成されることが好ましく、例えば、8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体などの金属錯体、10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリンの金属錯体、オキサジアゾール誘導体、ジスチリルビフェニル誘導体、シロール誘導体、3−ヒドロキシフラボン金属錯体、5−ヒドロキシフラボン金属錯体、ベンズオキサゾール金属錯体、ベンゾチアゾール金属錯体、トリスベンズイミダゾリルベンゼン、キノキサリン化合物、フェナントロリン誘導体、2−t−ブチル−9,10−N,N’−ジシアノアントラキノンジイミン、n型水素化非晶質炭化シリコン、n型硫化亜鉛、n型セレン化亜鉛などが挙げられる。電子注入層は、仕事関数の低い金属からなることが好ましい。例としては、ナトリウムやセシウム等のアルカリ金属、バリウムやカルシウムなどのアルカリ土類金属などが挙げられる。   The hole injection layer and the hole transport layer are preferably formed of a hole transporting material, and include an aromatic amine derivative, a phthalocyanine derivative, a porphyrin derivative, an oligothiophene derivative, a polythiophene derivative, a benzylphenyl derivative, and a fluorene group. Examples include tertiary amine linked compounds, hydrazone derivatives, silazane derivatives, silanamine derivatives, phosphamine derivatives, quinacridone derivatives, polyaniline derivatives, polypyrrole derivatives, polyphenylene vinylene derivatives, polythienylene vinylene derivatives, polyquinoline derivatives, polyquinoxaline derivatives, carbon, etc. It is done. The electron transport layer is preferably formed of an electron transport material, for example, a metal complex such as an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline, a metal complex of 10-hydroxybenzo [h] quinoline, an oxadiazole derivative. , Distyryl biphenyl derivatives, silole derivatives, 3-hydroxyflavone metal complexes, 5-hydroxyflavone metal complexes, benzoxazole metal complexes, benzothiazole metal complexes, trisbenzimidazolylbenzene, quinoxaline compounds, phenanthroline derivatives, 2-t-butyl- 9,10-N, N′-dicyanoanthraquinone diimine, n-type hydrogenated amorphous silicon carbide, n-type zinc sulfide, n-type zinc selenide and the like can be mentioned. The electron injection layer is preferably made of a metal having a low work function. Examples include alkali metals such as sodium and cesium, and alkaline earth metals such as barium and calcium.

また、本実施例における面発光パネル1から白色光を照射させるため、発光層は、更に3層の積層構造を有している。具体的には、赤色光を放射する赤色発光層、緑色光を放射する緑色発光層、及び青色光を放射する青色発光層から構成される。赤色発光層には、例えば、DCM(4−(dicyanomethylene)−2−methyl−6−(p−dimethylaminostyryl)−4H−pyran)系化合物、ベンゾピラン誘導体、ローダミン誘導体、ベンゾチオキサンテン誘導体、アザベンゾチオキサンテン等の発光材料を用いてもよい。緑色発光層には、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体、Al(C96NO)3等のアルミニウム錯体等の発光材料を用いてもよい。青色発光層には、ナフタレン、ペリレン、ピレン、アントラセン、クマリン、p−ビス(2−フェニルエテニル)ベンゼン及びそれらの誘導体等の発光材料を用いてもよい。上述した発光材料は、各発光層において、いずれか1種類のみを用いてもよく、2種類以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。 Moreover, in order to irradiate white light from the surface light emission panel 1 in a present Example, the light emitting layer has the laminated structure of 3 layers further. Specifically, it is composed of a red light emitting layer that emits red light, a green light emitting layer that emits green light, and a blue light emitting layer that emits blue light. The red light-emitting layer includes, for example, DCM (4- (dicyanomethylene) -2-methyl-6- (p-dimethylaminostyryl) -4H-pyran) -based compound, benzopyran derivative, rhodamine derivative, benzothioxanthene derivative, azabenzothioxanthene derivative A light emitting material such as the above may be used. For the green light emitting layer, a light emitting material such as an aluminum complex such as a quinacridone derivative, a coumarin derivative, or Al (C 9 H 6 NO) 3 may be used. For the blue light-emitting layer, a light-emitting material such as naphthalene, perylene, pyrene, anthracene, coumarin, p-bis (2-phenylethenyl) benzene, and derivatives thereof may be used. The light emitting material mentioned above may use only any one type in each light emitting layer, and may use two or more types together by arbitrary combinations and ratios.

このように、本実施例における発光層からは、赤色光、緑色光、及び青色光が放射されるため、これらの合成光である擬似的な白色光が有機EL素子8から放射されることになり、本実施例に係る面発光パネル1は擬似的な白色光を照射することが可能になる。   Thus, since red light, green light, and blue light are emitted from the light emitting layer in the present embodiment, pseudo white light that is a composite light of these is emitted from the organic EL element 8. Thus, the surface light emitting panel 1 according to the present embodiment can emit pseudo white light.

なお、有機層6は、赤色光用の発光材料、緑色光用の発光材料、及び青色光用の発光材料が均一に分散された高分子分散型のEL材料から構成されてもよい。   The organic layer 6 may be composed of a polymer dispersed EL material in which a light emitting material for red light, a light emitting material for green light, and a light emitting material for blue light are uniformly dispersed.

図2乃至図4に示すように、有機層6上には、陰極7が積層されている。本実施例においては、陰極7は、透光性を有する必要がないため、アルミニウムから構成されている。なお、陰極7は、アルミニウムに限定されること無く、例えば、スズ(Sn)、マグネシウム(Mg)、インジウム(In)、カルシウム(Ca)、Ag等の金属又はそれらの合金等が用いられてもよい。合金の具体例としては、Mg−Ag合金、Mg−In合金、Al−リチウム(Li)合金等の低仕事関数の合金電極等が挙げられる。   As shown in FIGS. 2 to 4, a cathode 7 is laminated on the organic layer 6. In the present embodiment, the cathode 7 is made of aluminum since it does not need to have translucency. The cathode 7 is not limited to aluminum, and for example, a metal such as tin (Sn), magnesium (Mg), indium (In), calcium (Ca), Ag, or an alloy thereof may be used. Good. Specific examples of the alloy include an alloy electrode having a low work function such as an Mg—Ag alloy, an Mg—In alloy, and an Al—lithium (Li) alloy.

なお、図示していないが、面発光パネル1の陰極7側の表面には、通常、有機EL素子8の酸化による劣化を防ぐための封止構造が設けられる。封止構造は、樹脂等で有機EL素子8の全面を覆ってもよいし、有機EL素子8を全体的に覆うようなプラスチック等のカバーであってもよい。また、上記封止構造の上に、更に保護層や光拡散部等を備えてもよい。以下の実施例においても同様である。   Although not shown, the surface of the surface light emitting panel 1 on the cathode 7 side is usually provided with a sealing structure for preventing deterioration of the organic EL element 8 due to oxidation. The sealing structure may cover the entire surface of the organic EL element 8 with a resin or the like, or may be a cover made of plastic or the like that covers the organic EL element 8 as a whole. Further, a protective layer, a light diffusing portion, or the like may be further provided on the sealing structure. The same applies to the following embodiments.

(面発光パネルの製造方法)
次に、図5乃至図11を参照しつつ、本実施例に係る面発光パネル1の製造方法を説明する。図5乃至図11は、図2における断面図に対応した各製造工程における断面図である。
(Method for manufacturing surface-emitting panel)
Next, a method for manufacturing the surface light emitting panel 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 5 to 11 are cross-sectional views in each manufacturing process corresponding to the cross-sectional view in FIG.

先ず、ガラスからなる透明基板2を準備する(図5)。次に、準備した透明基板2の第1面2aに溝11を形成する。具体的には、透明基板2の第1面2aに、公知のウエットエッチング又はドライエッチングを施すことにより、溝11を形成する。また、透明基板2を加熱して第1面2aを軟化させた後に、溝11に対応した型を押し当てることにより溝11を形成する方法を用いてもよい。また、透明基板2が樹脂材料からなる場合は、金型を用いて射出成型により透明基板2と溝11を同時に形成してもよい。溝11が形成されることにより、透明基板2の第1面2aが区画され、素子形成領域2cが形成されることになる(図6)。   First, a transparent substrate 2 made of glass is prepared (FIG. 5). Next, the groove 11 is formed on the first surface 2 a of the prepared transparent substrate 2. Specifically, the groove 11 is formed on the first surface 2a of the transparent substrate 2 by performing known wet etching or dry etching. Moreover, after heating the transparent substrate 2 and softening the 1st surface 2a, you may use the method of forming the groove | channel 11 by pressing the type | mold corresponding to the groove | channel 11. FIG. When the transparent substrate 2 is made of a resin material, the transparent substrate 2 and the groove 11 may be formed simultaneously by injection molding using a mold. By forming the groove 11, the first surface 2 a of the transparent substrate 2 is partitioned and an element formation region 2 c is formed (FIG. 6).

溝11を形成した後、溝11の内部に低抵抗金属からなる主配線3を形成する(図7)。具体的には、低抵抗の金属微粒子を含むインク等をインクジェット印刷、スクリーン印刷、又は凸版印刷等の周知の印刷技術を用いて主配線3を形成する。また、溝11に対応するような開口を備えるマスクを用い、蒸着又はスパッタリングによって溝11内に成膜して主配線3を成膜してもよく、或いはフォトリソグラフィを用いて溝11内のみに金属膜が残るようにして主配線3を形成してもよい。   After the groove 11 is formed, the main wiring 3 made of a low resistance metal is formed inside the groove 11 (FIG. 7). Specifically, the main wiring 3 is formed by using a well-known printing technique such as ink jet printing, screen printing, letterpress printing, or the like using ink containing low-resistance metal fine particles. Alternatively, a mask having an opening corresponding to the groove 11 may be used, and the main wiring 3 may be formed by deposition or sputtering in the groove 11 or only in the groove 11 using photolithography. The main wiring 3 may be formed so that the metal film remains.

本実施例に係る面発光パネル1の製造方法においては、主配線3が透明基板2の第1面2aに形成された溝11内に形成されているため、主配線3が形成された状態の透明基板2の第1面2aは平坦である。このため、後述する陽極5、有機層6、及び陰極7の各製造工程において、主配線3が製造プロセスの妨げになることがなくなり、透明基板2の第1面2a上に、有機EL素子8を容易に形成することができる。   In the method for manufacturing the surface light emitting panel 1 according to the present embodiment, since the main wiring 3 is formed in the groove 11 formed in the first surface 2a of the transparent substrate 2, the main wiring 3 is formed. The first surface 2a of the transparent substrate 2 is flat. For this reason, in each manufacturing process of the anode 5, the organic layer 6, and the cathode 7 described later, the main wiring 3 does not interfere with the manufacturing process, and the organic EL element 8 is formed on the first surface 2a of the transparent substrate 2. Can be easily formed.

主配線3を形成した後、透明基板2の第1面2a上であって溝11によって区画された素子形成領域2c内に、低抵抗金属からなる12本の補助電極4を形成する(図8)。この際、12本の補助電極4のそれぞれは、両端が主配線3と接触するように形成される。具体的な形成方法としては、蒸着又はスパッタリング等の真空プロセスによって形成した低抵抗の金属膜をフォトリソグラフィによってパターニングして補助電極4を形成する方法がある。また、補助電極4の形成位置に対応した開口を備えるマスクを用い、蒸着又はスパッタリング等の真空プロセスによって開口の位置に低抵抗の金属膜を成膜して補助電極4を形成する方法を用いてもよい。更に、低抵抗の金属微粒子を含むインク等をインクジェット印刷、スクリーン印刷、又は凸版印刷等の周知の印刷技術を用い、所望の位置にインクの印刷を施して補助電極4を形成する方法を用いてもよい。   After the main wiring 3 is formed, twelve auxiliary electrodes 4 made of a low-resistance metal are formed in the element formation region 2c defined by the grooves 11 on the first surface 2a of the transparent substrate 2 (FIG. 8). ). At this time, each of the 12 auxiliary electrodes 4 is formed so that both ends thereof are in contact with the main wiring 3. As a specific forming method, there is a method of forming the auxiliary electrode 4 by patterning a low-resistance metal film formed by a vacuum process such as vapor deposition or sputtering by photolithography. Also, using a mask having an opening corresponding to the position where the auxiliary electrode 4 is formed, and using a method of forming the auxiliary electrode 4 by forming a low-resistance metal film at the position of the opening by a vacuum process such as vapor deposition or sputtering. Also good. Further, by using a known printing technique such as ink jet printing, screen printing, letterpress printing, or the like for ink containing low-resistance metal fine particles, ink is printed at a desired position to form the auxiliary electrode 4. Also good.

補助電極4を形成した後、透明基板2の第1面2a上であって素子形成領域2c内に、有機EL素子8の陽極5を形成する(図9)。この際、補助電極4を被覆するように陽極5が形成される。具体的な陽極5の形成方法としては、スパッタリングや真空蒸着等の公知の成膜方法を用い、素子形成領域2c内にITOを成膜する。また、陽極5を形成した後に、陽極5に付着した不純物を除去し、イオン化ポテンシャルを調整して正孔注入性を向上させるために、紫外線照射やオゾン処理を陽極5に施すことが好ましい。   After the auxiliary electrode 4 is formed, the anode 5 of the organic EL element 8 is formed on the first surface 2a of the transparent substrate 2 and in the element forming region 2c (FIG. 9). At this time, the anode 5 is formed so as to cover the auxiliary electrode 4. As a specific method for forming the anode 5, a known film formation method such as sputtering or vacuum deposition is used, and ITO is formed in the element formation region 2c. In addition, after forming the anode 5, it is preferable to apply ultraviolet irradiation or ozone treatment to the anode 5 in order to remove impurities adhering to the anode 5 and adjust the ionization potential to improve the hole injection property.

陽極5を形成した後、陽極5の上面を覆うように、有機層6を積層する(図10)。具体的な有機層6の形成には、蒸着、スパッタリング、スピンコート、インクジェット印刷等の公知の有機EL成膜技術を用いることができる。なお、有機層6の形成方法は、面発光パネル1自体の寸法、及び有機層6を形成する発光材料の種類に応じて、適宜選択することができる。   After forming the anode 5, an organic layer 6 is laminated so as to cover the upper surface of the anode 5 (FIG. 10). For the specific formation of the organic layer 6, known organic EL film forming techniques such as vapor deposition, sputtering, spin coating, and ink jet printing can be used. In addition, the formation method of the organic layer 6 can be suitably selected according to the dimension of the surface emitting panel 1 itself, and the kind of luminescent material which forms the organic layer 6. FIG.

有機層6を形成した後、有機層6の上面を覆うように、有機EL素子8の陰極7を積層する(図11)。具体的な陰極7の形成方法としては、スパッタリングや真空蒸着等の公知の成膜方法を用い、有機層6の上面にアルミニウムを成膜する。また、陰極7を形成した後に、陰極7に付着した不純物を除去し、イオン化ポテンシャルを調整して正孔注入性を向上させるために、紫外線照射やオゾン処理を陰極7に施すことが好ましい。   After forming the organic layer 6, the cathode 7 of the organic EL element 8 is laminated so as to cover the upper surface of the organic layer 6 (FIG. 11). As a specific method for forming the cathode 7, a known film forming method such as sputtering or vacuum deposition is used, and aluminum is formed on the upper surface of the organic layer 6. In addition, after the cathode 7 is formed, it is preferable to subject the cathode 7 to ultraviolet irradiation or ozone treatment in order to remove impurities adhering to the cathode 7 and adjust the ionization potential to improve the hole injection property.

なお、主配線3の頂部が基板面に対して大きく突出してしまうと、有機層6をインクジェットで形成する場合にインクジェットのノズルが主配線3に衝突する危険性がある。また、スパッタリングや真空蒸着等の際、飛来した粒子が主配線3に妨げられて近傍の領域の膜厚が薄くなってしまう、いわゆるシャドウイングという現象が生じる。本発明では主配線3を溝11内に埋設することにより、透明基板2の表面からの主配線3の突出を抑制できる。これにより、上述したノズルの衝突、あるいは有機層6や陰極7の真空プロセス形成におけるシャドウイングを軽減することもできる。   If the top of the main wiring 3 protrudes greatly from the substrate surface, there is a risk that the ink jet nozzle will collide with the main wiring 3 when the organic layer 6 is formed by ink jetting. Further, during sputtering, vacuum deposition, or the like, a phenomenon called so-called shadowing occurs in which the flying particles are blocked by the main wiring 3 and the film thickness in a nearby region becomes thin. In the present invention, by embedding the main wiring 3 in the groove 11, the main wiring 3 can be prevented from protruding from the surface of the transparent substrate 2. Thereby, the collision of the nozzle mentioned above, or the shadowing in the vacuum process formation of the organic layer 6 or the cathode 7 can also be reduced.

上述した工程を経ることにより、陽極5、有機層6、及び陰極7からなる有機EL素子8が素子形成領域2c内に形成される。そして、透明基板2の第1面2a上に2個の有機EL素子8が形成され、面発光パネル1の製造が完了することになる。   By passing through the process mentioned above, the organic EL element 8 which consists of the anode 5, the organic layer 6, and the cathode 7 is formed in the element formation area 2c. Then, two organic EL elements 8 are formed on the first surface 2a of the transparent substrate 2, and the manufacture of the surface light emitting panel 1 is completed.

(本実施例の効果)
本実施例に係る面発光パネル1においては、透明基板2の第1面2aに形成された溝11内に主配線3が形成されている。このような構造を用いることにより、溝11の深さ方向の長さを大きくすることによって、非発光領域である主配線3の幅をより小さくすることができる。すなわち、面発光パネル1の光放射面側(すなわち、透明基板2の第2面2b側)における非発光領域(すなわち、主配線3が形成されている領域)の面積が小さくなり、十分な光量の確保を図ることができる。
(Effect of this embodiment)
In the surface light emitting panel 1 according to the present embodiment, the main wiring 3 is formed in the groove 11 formed in the first surface 2 a of the transparent substrate 2. By using such a structure, the width of the main wiring 3 that is a non-light-emitting region can be further reduced by increasing the length of the groove 11 in the depth direction. That is, the area of the non-light emitting region (that is, the region where the main wiring 3 is formed) on the light emitting surface side (that is, the second surface 2b side of the transparent substrate 2) of the surface light emitting panel 1 is reduced, and a sufficient amount of light is obtained. Can be secured.

また、主配線3の幅が小さくなることにより、素子形成領域2cである発光領域の間隔を小さくし、非発光領域を発光領域と比較して目立たなくすることができる。すなわち、面発光パネル1を面発光照明に使用した場合に、当該面発光照明の全体的な一体感を向上することができる。   Further, since the width of the main wiring 3 is reduced, the interval between the light emitting regions which are the element forming regions 2c can be reduced, and the non-light emitting regions can be made inconspicuous compared with the light emitting regions. That is, when the surface emitting panel 1 is used for surface emitting illumination, the overall sense of unity of the surface emitting illumination can be improved.

以上のことから、本実施例に係る面発光パネル1は、大型化された際にも、上述した非発光領域の増大に伴う光量の低下を抑制し、良好な照射光を提供することができることになる。   From the above, even when the surface light emitting panel 1 according to the present embodiment is enlarged, it is possible to suppress the decrease in the amount of light accompanying the increase in the non-light emitting region described above and to provide good irradiation light. become.

本実施例に係る面発光パネル1においては、透光性を有する陽極5の表面上に、複数の補助電極4を形成している。補助電極4は、陽極5と比較してその抵抗値が小さいため、比較的に高い抵抗値を有する陽極5において生じる電圧降下が、補助電極4の存在により抑制されることになる。更に、本実施例においては、補助電極4の幅を小さくすることにより、面発光パネル1における光量の低下が抑制されている。   In the surface light emitting panel 1 according to the present embodiment, a plurality of auxiliary electrodes 4 are formed on the surface of the light-transmitting anode 5. Since the resistance value of the auxiliary electrode 4 is smaller than that of the anode 5, a voltage drop generated in the anode 5 having a relatively high resistance value is suppressed by the presence of the auxiliary electrode 4. Furthermore, in the present embodiment, the reduction in the amount of light in the surface light emitting panel 1 is suppressed by reducing the width of the auxiliary electrode 4.

また、上記のように本発明では主配線3を溝11内に埋設することで透明基板2の表面からの主配線3の突出を抑制できるので、インクジェットの場合の主配線3へのノズルの衝突、あるいは真空プロセスにおけるシャドウイングを軽減することもできる。   Further, as described above, since the main wiring 3 is embedded in the groove 11 in the present invention, the main wiring 3 can be prevented from protruding from the surface of the transparent substrate 2, so that the nozzle collides with the main wiring 3 in the case of inkjet. Alternatively, shadowing in the vacuum process can be reduced.

(溝の充填についての変形例)
上述した実施例において、主配線3自体は透明ではないことから、透明基板2の第2面2b側から透明基板2を目視した場合に、主配線3の金属光沢が見えてしまい、面発光パネル1を使用した照明は美観を損なう可能性がある。このような問題を解消する面発光パネルを本実施例の変形例として、図12を参照しつつ説明する。図12は、図2と同様の断面で示す変形例に係る面発光パネルの断面図である。なお、上述した実施例に係る面発光パネル1と同一の構成部材には同一の符号を付し、その説明を省略する。
(Modified example of filling groove)
In the embodiment described above, since the main wiring 3 itself is not transparent, when the transparent substrate 2 is viewed from the second surface 2b side of the transparent substrate 2, the metallic luster of the main wiring 3 can be seen, and the surface emitting panel. Lighting using 1 may impair the beauty. A surface-emitting panel that solves such a problem will be described as a modification of this embodiment with reference to FIG. FIG. 12 is a cross-sectional view of a surface emitting panel according to a modification shown in the same cross section as FIG. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same structural member as the surface emitting panel 1 which concerns on the Example mentioned above, and the description is abbreviate | omitted.

図12に示すように、変形例に係る面発光パネル1’においては、溝3の底部に着色材料21が設けられ、着色材料21上に主配線3が積層されている。着色材料21は、一般的な染料又は顔料であり、その色は特に限定されることがなく、素子形成領域2c(すなわち、発光領域)から放射される光の色及び色温度等に応じて適宜変更してもよい。また、着色材料21の形成方法としては、所望の色を有する着色材料粒子を含むインク等をインクジェット印刷、スクリーン印刷、又は凸版印刷等の周知の印刷技術を用いて溝11の底部に塗布する方法であってもよい。   As shown in FIG. 12, in the surface emitting panel 1 ′ according to the modification, the coloring material 21 is provided at the bottom of the groove 3, and the main wiring 3 is laminated on the coloring material 21. The coloring material 21 is a general dye or pigment, and the color thereof is not particularly limited, and is appropriately determined according to the color and color temperature of light emitted from the element formation region 2c (that is, the light emitting region). It may be changed. Further, as a method for forming the coloring material 21, a method of applying an ink containing coloring material particles having a desired color to the bottom of the groove 11 using a known printing technique such as ink jet printing, screen printing, or relief printing. It may be.

また、着色材料21に不透明な誘電体を用いることも可能であり、このような場合には、溝11に対応するような開口を備えるマスクを用い、蒸着又はスパッタリングによって溝11内に当該誘電体を成膜して着色材料21を形成することになる。   It is also possible to use an opaque dielectric for the coloring material 21. In such a case, a mask having an opening corresponding to the groove 11 is used, and the dielectric is formed in the groove 11 by vapor deposition or sputtering. As a result, the coloring material 21 is formed.

本変形例においては、着色材料21を溝11の底部に設けることにより、透明基板2の第2面2b側から透明基板2を目視した際にも、主配線3が見えることが無くなる。そして、素子形成領域2bである発光領域の色と比較して、着色材料21の色が目立たなくなるように着色材料21の色を適宜選択することにより、透明基板2の第2面2b側から透明基板2を目視した際にも、着色材料21の影響が少なくなり、面発光パネル1を使用した照明は美観を損なうことがなくなる。   In this modification, by providing the coloring material 21 at the bottom of the groove 11, the main wiring 3 is not seen even when the transparent substrate 2 is viewed from the second surface 2 b side of the transparent substrate 2. Then, the color of the coloring material 21 is appropriately selected so that the color of the coloring material 21 is not conspicuous compared with the color of the light emitting region which is the element formation region 2b, thereby transparent from the second surface 2b side of the transparent substrate 2 Even when the substrate 2 is viewed, the influence of the coloring material 21 is reduced, and the illumination using the surface light emitting panel 1 does not impair the aesthetic appearance.

一方、着色材料21の存在にデザイン性を持たせるように、着色材料21の色を適宜選択してもよい。例えば、素子形成領域2bである発光領域のフレームとなるように着色材料21の色を適宜選択することができる。このような場合においても、透明基板2の第2面2b側から透明基板2を目視した際にも、面発光パネル1を使用した照明は美観を損なうことがなくなる。   On the other hand, the color of the coloring material 21 may be appropriately selected so that the presence of the coloring material 21 has design. For example, the color of the coloring material 21 can be appropriately selected so as to be a frame of the light emitting region that is the element forming region 2b. Even in such a case, when the transparent substrate 2 is viewed from the second surface 2b side of the transparent substrate 2, illumination using the surface light emitting panel 1 does not impair the beauty.

(透明基板の変形例)
上述した実施例において、透明基板2をガラス単体とし、透明基板2であるガラス板に対して直接的に溝11を形成していたが、複数の材料を積層した積層体を透明基板とし、上層に位置する材料をパターニングすることにより、溝が形成された透明基板を作成してもよい。このような透明基板を変形例として、図13を参照しつつ説明する。図13は、図6と同様の断面で示す変形例に係る透明基板の断面図である。
(Modified example of transparent substrate)
In the embodiment described above, the transparent substrate 2 is made of a single glass, and the grooves 11 are formed directly on the glass plate which is the transparent substrate 2. However, a laminate in which a plurality of materials are laminated is used as a transparent substrate, and an upper layer is formed. A transparent substrate in which grooves are formed may be formed by patterning the material located in the substrate. Such a transparent substrate will be described as a modification with reference to FIG. FIG. 13 is a cross-sectional view of a transparent substrate according to a modification shown in the same cross section as FIG.

図13に示すように、本変形例に係る透明基板31は、ガラスからなるガラス層32と、ガラス層32上に積層された樹脂層33と、から構成されている。樹脂層33は、パターニングが施され、その一部に開口が形成されている。本変形例においては、当該開口とガラス層32の表面とによって、上述した実施例と同一の溝11が透明基板31に形成されている。   As shown in FIG. 13, the transparent substrate 31 according to the present modification includes a glass layer 32 made of glass and a resin layer 33 laminated on the glass layer 32. The resin layer 33 is patterned, and an opening is formed in a part thereof. In the present modification, the same groove 11 as that in the above-described embodiment is formed in the transparent substrate 31 by the opening and the surface of the glass layer 32.

なお、透明基板31は、上述したようなガラス層32及び樹脂層33の積層体に限定されることなく、有機EL素子8か放射される光が透過することができる材料であれば、公知の様々の材料を用いることができる。この際、開口を備える上層の材料は、スクリーン印刷等の公知の印刷技術以外にも、柔らかい樹脂に凹凸パターンの型を押し付けてから樹脂を硬化させる方法や、スピンコート等で形成した薄膜をフォトリソグラフィによってパターニングすることで形成されてもよい。   The transparent substrate 31 is not limited to the laminated body of the glass layer 32 and the resin layer 33 as described above, and any known material can be used as long as it can transmit light emitted from the organic EL element 8. Various materials can be used. At this time, the material of the upper layer having the opening is not only a known printing technique such as screen printing, but also a method of curing the resin after pressing the mold of the concavo-convex pattern onto a soft resin, or a thin film formed by spin coating or the like. It may be formed by patterning by lithography.

このような変形例においては、透光性を有しているが、加工を施すことが困難な材料についても、透明基板の部材として用いることが可能となり、透明基板の部材選択の幅を広げるととともに、コスト低減を図ることが可能になる。   In such a modified example, a material that has translucency but is difficult to be processed can be used as a member of a transparent substrate, and when the width of selection of a member of the transparent substrate is widened, At the same time, the cost can be reduced.

また、上述した実施例において、溝11は、並置された3本の溝11a及び溝11aの一旦を結ぶ溝11bを含んでいたが、溝11の形状はこのような形状に限定されることはなく、素子形成領域2cのそれぞれの少なくとも1辺に沿い且つ素子形成領域2cの外側に形成されていればよい。例えば、3本の溝11aのうち、透明基板2の外縁側に位置する2個の溝11aを取り除いてもよい。このような場合であっても、透明基板2の第1面2aの中央部に位置する溝11aのみよって2個の素子形成領域2cに区画され、当該中央部に位置する溝11aが素子形成領域2cのそれぞれの1辺に沿っていることになる。なお、主配線3は非発光領域であることから、できるかぎりその幅及び形成領域を小さくすることが好ましいため、溝11aの数量も少なくすることが好ましい。   In the above-described embodiment, the groove 11 includes the three grooves 11a juxtaposed and the groove 11b that temporarily connects the grooves 11a. However, the shape of the groove 11 is not limited to such a shape. Instead, it suffices if it is formed along at least one side of each element formation region 2c and outside the element formation region 2c. For example, of the three grooves 11a, two grooves 11a located on the outer edge side of the transparent substrate 2 may be removed. Even in such a case, only the groove 11a located at the central portion of the first surface 2a of the transparent substrate 2 is partitioned into two element forming regions 2c, and the groove 11a located at the central portion is defined as the element forming region. It is along one side of 2c. Since the main wiring 3 is a non-light emitting region, it is preferable to reduce its width and forming region as much as possible. Therefore, it is preferable to reduce the number of the grooves 11a.

(その他の変形例)
また、補助電極4が無くとも、面発光パネル1、1’全面の電圧低下を十分抑制できるほど、面発光パネルのサイズが小さい場合は、主配線3のみを設け、補助電極4を設けなくともよい。
(Other variations)
Further, even if the auxiliary electrode 4 is not provided, when the size of the surface emitting panel is small enough to sufficiently suppress the voltage drop across the surface emitting panels 1 and 1 ′, only the main wiring 3 is provided and the auxiliary electrode 4 is not provided. Good.

(面発光パネルの構成)
上述した実施例において、補助電極4は、透明基板2と陽極5との間に形成されていたが、補助電極4の形成位置はこのような場所に限定されることはない。補助電極4は、陽極5における電圧降下を抑制することができる位置であれば、例えば、陽極5上であって透明基板2とは逆側に補助電極4を形成してもよい。このように構成された面発光パネル101を実施例2として、図14乃至図17を参照しつつ説明する。
(Configuration of surface emitting panel)
In the embodiment described above, the auxiliary electrode 4 is formed between the transparent substrate 2 and the anode 5, but the formation position of the auxiliary electrode 4 is not limited to such a place. For example, the auxiliary electrode 4 may be formed on the anode 5 on the side opposite to the transparent substrate 2 as long as the voltage drop at the anode 5 can be suppressed. The surface light emitting panel 101 configured as described above will be described as a second embodiment with reference to FIGS. 14 to 17.

図14は、本実施例に係る面発光パネルの一例を示す模式的な底面図である。なお、図14においては、面発光パネル101内の後述する主配線及び補助電極の構造の理解を容易にするために、後述する陽極、有機層及び陰極が図示されていない。図15は、図14中のXV−XV線に沿う面発光パネル101の断面図である。図16は、図14中のXVI−XVI線に沿う面発光パネル101の断面図である。図17は、図14中のXVII−XVII線に沿う面発光パネル101の断面図である。   FIG. 14 is a schematic bottom view showing an example of the surface light emitting panel according to the present embodiment. In FIG. 14, the anode, the organic layer, and the cathode, which will be described later, are not shown in order to facilitate understanding of the structures of the main wiring and the auxiliary electrode, which will be described later, in the surface emitting panel 101. FIG. 15 is a cross-sectional view of the surface emitting panel 101 taken along line XV-XV in FIG. FIG. 16 is a cross-sectional view of the surface-emitting panel 101 taken along line XVI-XVI in FIG. FIG. 17 is a cross-sectional view of the surface-emitting panel 101 taken along line XVII-XVII in FIG.

図14乃至図17から分かるように、面発光パネル101は、透明基板102、透明基板102内に設けられた主配線103、主配線103に接続された陽極(第1電極)105、陽極105上に設けられた補助電極104、補助電極104を被覆するように設けられた絶縁膜141、陽極105上であって絶縁膜141によって囲まれるように形成された有機層106、並びに絶縁膜141及び有機層106上に設けられた陰極(第2電極)107から構成されている。また、本実施例においては、絶縁膜141によって有機層106が12個に分けられているため、陽極105、有機層106、及び陰極107から構成される有機EL素子108が12個形成されていることになる。なお、有機EL素子108の数量は12個に限定されることなく、面発光パネル1の使用用途等に応じて適宜変更することができる。   As can be seen from FIGS. 14 to 17, the surface light emitting panel 101 includes a transparent substrate 102, a main wiring 103 provided in the transparent substrate 102, an anode (first electrode) 105 connected to the main wiring 103, and the anode 105. The auxiliary electrode 104 provided on the insulating film 141, the insulating film 141 provided so as to cover the auxiliary electrode 104, the organic layer 106 formed on the anode 105 so as to be surrounded by the insulating film 141, and the insulating film 141 and the organic film A cathode (second electrode) 107 is provided on the layer 106. In this embodiment, since the organic layer 106 is divided into twelve by the insulating film 141, twelve organic EL elements 108 including the anode 105, the organic layer 106, and the cathode 107 are formed. It will be. Note that the number of the organic EL elements 108 is not limited to twelve, and can be appropriately changed according to the use application of the surface light emitting panel 1 or the like.

なお、本実施例2においては、補助電極104上に有機層106が存在しないため、補助電極104上の領域は後述する発光領域151とはならない。   In Example 2, since the organic layer 106 does not exist on the auxiliary electrode 104, a region on the auxiliary electrode 104 does not become a light emitting region 151 described later.

本実施例においても実施例1と同様に、透明基板102は、透光性を有するガラス製の基板であり、その平面形状は長方形である。なお、透明基板102は、可視光を透過する特性を有する基板であればよく、例えば、セラミックス、ポリエステル、ポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルフォン等の樹脂などの各種材料から構成されてもよい。   Also in the present embodiment, like the first embodiment, the transparent substrate 102 is a glass substrate having translucency, and its planar shape is a rectangle. The transparent substrate 102 only needs to have a property of transmitting visible light, and may be made of various materials such as a resin such as ceramics, polyester, polymethacrylate, polycarbonate, and polyether sulfone.

また、図14乃至図17に示すように、透明基板102の第1面102a側には、溝111が形成され、当該溝111の内部には主配線103が形成されている。より具体的には、図14から分かるように、透明基板102の第1面102aには、短辺方向に延在する3本の溝111aが形成されるとともに、当該3本の溝111aの一端を連結するように長辺方向に延在する1つの溝111bが形成されている。3本の溝111aのうちの1つは、透明基板102の外縁にまで到達している。なお、以下において、溝111a及び溝111bのいずれかを特定しない場合には、単に溝111とも称する。また、本実施例における透明基板102においては、透明基板102の第1面102aとは反対側に位置する面を第2面102bと定義する。   As shown in FIGS. 14 to 17, a groove 111 is formed on the first surface 102 a side of the transparent substrate 102, and a main wiring 103 is formed inside the groove 111. More specifically, as can be seen from FIG. 14, the first surface 102a of the transparent substrate 102 is formed with three grooves 111a extending in the short side direction and one end of the three grooves 111a. One groove 111b extending in the long side direction is formed so as to connect the two. One of the three grooves 111 a reaches the outer edge of the transparent substrate 102. In the following, when any of the groove 111a and the groove 111b is not specified, it is also simply referred to as the groove 111. Further, in the transparent substrate 102 in the present embodiment, a surface located on the opposite side to the first surface 102a of the transparent substrate 102 is defined as a second surface 102b.

このような溝111a及び溝111bが透明基板102の第1面102aに形成されることにより、透明基板102の第1面102a上には、第1面102a上における3方向が溝111によって囲まれた2個の素子形成領域102cが形成されることになる。換言すれば、素子形成領域102cのそれぞれの3つ辺に沿い且つ素子形成領域102cの外側に、溝111が形成されていることになる。   By forming the groove 111a and the groove 111b on the first surface 102a of the transparent substrate 102, three directions on the first surface 102a are surrounded by the groove 111 on the first surface 102a of the transparent substrate 102. Two element formation regions 102c are formed. In other words, the grooves 111 are formed along the three sides of the element formation region 102c and outside the element formation region 102c.

なお、溝111の深さ、幅、及び形状は、実施例1の溝11と同様であるため、その説明は省略する。   Since the depth, width, and shape of the groove 111 are the same as those of the groove 11 of the first embodiment, description thereof is omitted.

上述したように、溝111の内部には主配線103が形成されている。すなわち、主配線103は、素子形成領域102cを囲むように形成されており、有機EL素子108に電力を供給することができるように、有機EL素子108の陽極5と電気的に接続されている。なお、当該電気的な接続は後述する。また、図14に示すように、主配線103の一端は、透明基板102の外縁に到達しており、透明基板102の側面から露出した部分が外部接続端子112として機能することになる。このような主配線103の構成により、面発光パネル101の外部から有機EL素子108に対して、駆動用の電力を容易に供給することが可能になる。   As described above, the main wiring 103 is formed inside the groove 111. That is, the main wiring 103 is formed so as to surround the element formation region 102 c and is electrically connected to the anode 5 of the organic EL element 108 so that electric power can be supplied to the organic EL element 108. . The electrical connection will be described later. Further, as shown in FIG. 14, one end of the main wiring 103 reaches the outer edge of the transparent substrate 102, and a portion exposed from the side surface of the transparent substrate 102 functions as the external connection terminal 112. Such a configuration of the main wiring 103 makes it possible to easily supply driving power to the organic EL element 108 from the outside of the surface light emitting panel 101.

主配線103の材料は、実施例1の主配線3と同様に、例えば、Au、Ag、Pt、Cu、又はAl等の比較的に抵抗値が小さい低抵抗金属から構成されることが好ましく、耐腐食性及び機械的強度の向上を図るために、上述した低抵抗金属にTi、Si、In、B、C、又はPを等の添加物を添加してもよい。また、実施例1の主配線3と同様に、主配線線103の材料として、ポリ(エチレンジオキシ−チオフェン)−ポリスチレンスルホン酸(PDOT:PSS)を用いてもよい。   The material of the main wiring 103 is preferably composed of a low resistance metal having a relatively small resistance value, such as Au, Ag, Pt, Cu, or Al, like the main wiring 3 of the first embodiment. In order to improve corrosion resistance and mechanical strength, an additive such as Ti, Si, In, B, C, or P may be added to the above-described low resistance metal. Further, similarly to the main wiring 3 of the first embodiment, poly (ethylenedioxy-thiophene) -polystyrene sulfonic acid (PDOT: PSS) may be used as the material of the main wiring line 103.

図15乃至図17から分かるように、透明基板102及び主配線103の一部の上に、陽極105が形成されている。また、陽極105は、その両端及び中央部が主配線103に対して直接的に接続され、主配線103に対して電気的に接続されている。すなわち、陽極105は、素子形成領域102c内に形成されていることになる。このような構成により、外部接続端子112から供給される電力が、主配線103を経由して陽極105に供給されることになる。   As can be seen from FIGS. 15 to 17, the anode 105 is formed on part of the transparent substrate 102 and the main wiring 103. In addition, the anode 105 has both ends and a central portion directly connected to the main wiring 103 and electrically connected to the main wiring 103. That is, the anode 105 is formed in the element formation region 102c. With such a configuration, the power supplied from the external connection terminal 112 is supplied to the anode 105 via the main wiring 103.

本実施例においても実施例1と同様に、陽極105は、透明電極として機能するITOから構成され、主配線103よりも高い抵抗率を有している。なお、陽極5と同様に、陽極105はITOから構成されることに限定されることなく、有機層106に正孔を注入する機能を有し、且つ有機層106における各色の発光に対して透光性を備えていれば、インジウム亜鉛酸化物等の金属酸化物、ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリピロール等の導電性高分子等から構成されてもよい。   Also in the present embodiment, like the first embodiment, the anode 105 is made of ITO functioning as a transparent electrode, and has a higher resistivity than the main wiring 103. Similar to the anode 5, the anode 105 is not limited to being made of ITO, and has a function of injecting holes into the organic layer 106 and transmits light of each color in the organic layer 106. As long as it is optical, it may be composed of a metal oxide such as indium zinc oxide, a conductive polymer such as poly (3-methylthiophene), polypyrrole, or the like.

図14乃至図16から分かるように、陽極105上に、ストライプ状の補助電極104が形成されている。より具体的に、補助電極104は、溝111bに対して平行に並置されており、2個の素子形成領域102c内のそれぞれに7本(合計14本)設けられている。なお、素子形成領域102c内に設けられた補助電極104の数量は14本に限定されることなく、素子形成領域102cの寸法、面発光パネル101の特性等に応じて適宜変更することができる。   As can be seen from FIGS. 14 to 16, the stripe-shaped auxiliary electrode 104 is formed on the anode 105. More specifically, the auxiliary electrode 104 is juxtaposed in parallel with the groove 111b, and seven (14 in total) are provided in each of the two element formation regions 102c. The number of auxiliary electrodes 104 provided in the element formation region 102c is not limited to 14, but can be changed as appropriate according to the dimensions of the element formation region 102c, the characteristics of the surface light emitting panel 101, and the like.

補助電極104の材料及び寸法は、実施例1の補助電極4と同様であるため、その説明は省略する。   Since the material and dimensions of the auxiliary electrode 104 are the same as those of the auxiliary electrode 4 of the first embodiment, description thereof is omitted.

図14乃至図16から分かるように、補助電極104を覆うように絶縁膜141が形成されている。また、絶縁膜141は、溝111及び主配線103の上方において、溝111及び主配線103に沿っても形成されている。このような絶縁膜141の構成により、2個の素子形成領域102cのそれぞれには、6個(合計12個)のストライプ状の凹部が形成される。そして、当該凹部に有機層106が形成されることにより、2個の素子形成領域102cのそれぞれは、6個(合計12個)のストライプ状の発光領域151に区画されることになる。   As can be seen from FIGS. 14 to 16, an insulating film 141 is formed so as to cover the auxiliary electrode 104. The insulating film 141 is also formed along the groove 111 and the main wiring 103 above the groove 111 and the main wiring 103. With such a configuration of the insulating film 141, six (12 in total) stripe-shaped recesses are formed in each of the two element formation regions 102c. Then, by forming the organic layer 106 in the concave portion, each of the two element formation regions 102 c is partitioned into six (total 12) stripe-shaped light emitting regions 151.

絶縁膜141の材料には、二酸化シリコン(SiO2)、フッ素添加酸化シリコン(SiOF)、窒化シリコン(Si34)等の無機材料や、アクリル系やエポキシ系などの有機材料からなる一般的な絶縁材料が用いられる。 The insulating film 141 is generally made of an inorganic material such as silicon dioxide (SiO 2 ), fluorine-added silicon oxide (SiOF), or silicon nitride (Si 3 N 4 ), or an organic material such as acrylic or epoxy. Insulating material is used.

絶縁膜141は、補助電極104と有機層106とが直接的に接触しないように設けられている。これにより、有機層106には、陽極105を介してのみ電力が供給されることになる。   The insulating film 141 is provided so that the auxiliary electrode 104 and the organic layer 106 are not in direct contact. As a result, power is supplied to the organic layer 106 only through the anode 105.

なお、本実施例においては、単一の絶縁膜141が補助電極104を被覆しつつ、溝111及び主配線103の上方にも形成されていたが、補助電極104を被覆する絶縁膜と、溝111及び主配線103の上方に位置する絶縁膜とが、互いに異なる材料から形成されてもよい。すなわち、陽極105上には、2個の絶縁膜(第1絶縁膜、及び第2絶縁膜)が形成されてもよい。   In this embodiment, the single insulating film 141 is formed above the groove 111 and the main wiring 103 while covering the auxiliary electrode 104. However, the insulating film covering the auxiliary electrode 104 and the groove 111 and the insulating film located above the main wiring 103 may be formed of different materials. That is, two insulating films (a first insulating film and a second insulating film) may be formed on the anode 105.

図16及び図17に示すように、陽極105上であって絶縁膜141によって囲まれたストライプ状の各凹部内に、有機層106が積層されている。有機層106は、実施例1の有機層106と同様に、複数の層が積層された低分子積層形のEL材料から構成されている。より具体的に、有機層6は、陽極5側から正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層及び電子注入層の順に積層された構造を有している。これらの層の材料は、実施例1の各層と同一であるため、その説明は省略する。   As shown in FIGS. 16 and 17, the organic layer 106 is stacked on each of the stripe-shaped recesses on the anode 105 and surrounded by the insulating film 141. Similar to the organic layer 106 of Example 1, the organic layer 106 is composed of a low-molecular stacked EL material in which a plurality of layers are stacked. More specifically, the organic layer 6 has a structure in which a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer are stacked in this order from the anode 5 side. Since the material of these layers is the same as each layer of Example 1, the description thereof is omitted.

本実施例において、有機層106は、絶縁膜141によって区画された12個のストライプ状の凹部内に形成されるが、ストライプ状の各凹部内に形成される有機層106を構成する発光層の材料は異なっている。具体的には、1つの素子形成領域102c内において区画された6個のストライプ状の凹部内において、赤色光を放射する赤色発光層のみを有する有機層106が2個、緑色光を放射する緑色発光層のみを有する有機層106が2個、青色光を放射する青色発光層のみを有する有機層106が2個設けられている。なお、赤色光を放射する赤色発光層のみを有する有機層106を有機層106R、緑色光を放射する緑色発光層のみを有する有機層106を有機層106G、青色光を放射する青色発光層のみを有する有機層106を有機層106とも称し、図面上においても括弧内にこれらの符号を記載する。   In this embodiment, the organic layer 106 is formed in twelve stripe-shaped recesses defined by the insulating film 141, but the light emitting layer constituting the organic layer 106 formed in each stripe-shaped recess is formed. The material is different. Specifically, two organic layers 106 each having only a red light-emitting layer that emits red light and green light that emits green light in six stripe-shaped concave portions partitioned in one element formation region 102c. Two organic layers 106 having only a light emitting layer and two organic layers 106 having only a blue light emitting layer emitting blue light are provided. Note that the organic layer 106R includes only the red light emitting layer that emits red light, the organic layer 106R, the organic layer 106 that includes only the green light emitting layer that emits green light, the organic layer 106G, and only the blue light emitting layer that emits blue light. The organic layer 106 that is included is also referred to as an organic layer 106, and these reference numerals are also described in parentheses on the drawing.

このように、有機層106の構成により、1つの素子形成領域102c内に設けられた有機EL素子108から、赤色光、緑色光、及び青色光が放射されるため、これらの合成光である擬似的な白色光が1つの素子形成領域102cから放射されることになる。そして、本実施例に係る面発光パネル101は擬似的な白色光を照射することが可能になる。   As described above, red light, green light, and blue light are emitted from the organic EL element 108 provided in one element formation region 102c due to the configuration of the organic layer 106. White light is emitted from one element formation region 102c. And the surface emitting panel 101 which concerns on a present Example becomes possible to irradiate pseudo white light.

なお、有機層106は、実施例1の有機層106と同一の構成として、発光層を3層構造としてもよく、又は赤色光用の発光材料、緑色光用の発光材料、及び青色光用の発光材料が均一に分散された高分子分散型のEL材料から構成されてもよい。このような場合であっても、面発光パネル101から擬似的な白色光を照射されることになる。また、例えば赤色光用の発光材料と緑色光用の発光材料を混合して1層の発光層を設け、その上に青色発光用の発光材料からなる発光層を積層した2層構造により白色光を生成する構成としてもよい。   The organic layer 106 may have the same configuration as the organic layer 106 of Example 1 and the light emitting layer may have a three-layer structure, or a red light emitting material, a green light emitting material, and a blue light emitting material. The light emitting material may be composed of a polymer dispersed EL material in which the light emitting material is uniformly dispersed. Even in such a case, the surface light emitting panel 101 is irradiated with pseudo white light. Further, for example, a red light emitting material and a green light emitting material are mixed to provide a single light emitting layer, and a two-layer structure in which a light emitting layer made of a light emitting material for blue light emission is laminated on the white light. It is good also as a structure which produces | generates.

図15乃至図17に示すように、有機層106及び絶縁膜141上には、陰極107が積層されている。陰極107は、実施例1の陰極7と同様に、透光性を有する必要がないため、アルミニウムから構成されている。また、陰極107は、実施例1の陰極7と同様に、Sn、Mg、In、Ca、Ag等の金属又はそれらの合金等が用いられてもよい。合金の具体例としては、Mg−Ag合金、Mg−In合金、Al−リチウム(Li)合金等の低仕事関数の合金電極等が挙げられる。   As shown in FIGS. 15 to 17, the cathode 107 is stacked on the organic layer 106 and the insulating film 141. The cathode 107 is made of aluminum because it does not need to have translucency, like the cathode 7 of the first embodiment. Further, the cathode 107 may be made of a metal such as Sn, Mg, In, Ca, or Ag, or an alloy thereof, similarly to the cathode 7 of the first embodiment. Specific examples of the alloy include an alloy electrode having a low work function such as an Mg—Ag alloy, an Mg—In alloy, and an Al—lithium (Li) alloy.

本実施例に係る面発光パネル101においても、実施例1の面発光パネル1と同様に、透明基板102の第1面102aに形成された溝111内に主配線103が形成されており、溝111の深さ方向の長さを大きくすることによって溝111及び主配線103の幅をより小さくすることができる。ここで、非発光領域である主配線103の幅が小さくなることは、面発光パネル101の光放射面側(すなわち、透明基板102の第2面102b側)における非発光領域(すなわち、主配線103が形成されている領域)の面積が小さくなることになり、面発光パネル101における光量の増加を図ることができる。   Also in the surface light emitting panel 101 according to the present embodiment, the main wiring 103 is formed in the groove 111 formed in the first surface 102a of the transparent substrate 102 as in the surface light emitting panel 1 of the first embodiment. By increasing the length of 111 in the depth direction, the width of the groove 111 and the main wiring 103 can be reduced. Here, the width of the main wiring 103 which is a non-light emitting region is reduced because the non-light emitting region (that is, the main wiring) on the light emitting surface side of the surface emitting panel 101 (that is, the second surface 102b side of the transparent substrate 102). The area of the area 103 is reduced, and the amount of light in the surface light emitting panel 101 can be increased.

また、主配線103の幅が小さくなることにより、素子形成領域102cである発光領域の間隔が小さくなり、すなわち、非発光領域を発光領域と比較して目立たなくすることができる。そして、面発光パネル101を面発光照明に使用した場合に、当該面発光照明の全体的な一体感を向上することができる。   Further, since the width of the main wiring 103 is reduced, the interval between the light emitting regions which are the element formation regions 102c is reduced, that is, the non-light emitting region can be made inconspicuous as compared with the light emitting region. And when the surface emitting panel 101 is used for surface emitting illumination, the overall sense of unity of the surface emitting illumination can be improved.

更に、本実施例に係る面発光パネル101においても、透光性を有する陽極105の表面上に、比較的に抵抗値が小さい複数の補助電極104を形成しているため、陽極105における電圧降下が抑制される。そして、補助電極104の幅を小さくすることにより、面発光パネル101における光量の低下を抑制することができる。   Further, also in the surface light emitting panel 101 according to the present embodiment, a plurality of auxiliary electrodes 104 having relatively small resistance values are formed on the surface of the light-transmitting anode 105, so that the voltage drop at the anode 105 is reduced. Is suppressed. Then, by reducing the width of the auxiliary electrode 104, it is possible to suppress a decrease in the amount of light in the surface light emitting panel 101.

なお、本実施例の面発光パネル101においては、12個の有機EL素子108の陽極105及び陰極107がそれぞれ共通化されているが、各有機EL素子108又は、同一色の光を発する有機EL素子108毎に、陽極105及び陰極107をそれぞれ独立して設けてもよい。これにより、面発光パネル101から照射される白色光の色及び色温度等の特性を適宜調整することが可能になる。   In the surface light emitting panel 101 of this embodiment, the anode 105 and the cathode 107 of the twelve organic EL elements 108 are shared, but each organic EL element 108 or an organic EL that emits light of the same color. The anode 105 and the cathode 107 may be provided independently for each element 108. As a result, it is possible to appropriately adjust characteristics such as the color and color temperature of white light emitted from the surface light emitting panel 101.

(面発光パネルの製造方法)
次に、図18乃至図24を参照しつつ、本実施例に係る面発光パネル101の製造方法を説明する。図18乃至図24は、図17における断面図に対応した、各製造工程における断面図である。
(Method for manufacturing surface-emitting panel)
Next, a method for manufacturing the surface light emitting panel 101 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 18 to 24 are sectional views in each manufacturing process corresponding to the sectional view in FIG.

先ず、ガラスからなる透明基板102を準備する。次に、準備した透明基板102の第1面102aに溝111を形成する。具体的には、実施例1と同様に、透明基板102の第1面102aに、公知のウエットエッチング又はドライエッチングを施すことにより、溝111を形成する。また、透明基板102を加熱して第1面102aを軟化させた後に、溝111に対応した型を押し当てることにより溝111を形成する方法を用いてもよい。溝111が形成されることにより、透明基板102の第1面102aが区画され、素子形成領域102cが形成されることになる(図18)。   First, a transparent substrate 102 made of glass is prepared. Next, the groove 111 is formed on the first surface 102 a of the prepared transparent substrate 102. Specifically, the groove 111 is formed by performing known wet etching or dry etching on the first surface 102a of the transparent substrate 102 as in the first embodiment. Alternatively, a method may be used in which the groove 111 is formed by pressing a mold corresponding to the groove 111 after the transparent substrate 102 is heated to soften the first surface 102a. By forming the groove 111, the first surface 102a of the transparent substrate 102 is partitioned, and an element formation region 102c is formed (FIG. 18).

溝111を形成した後、溝111の内部に低抵抗金属からなる主配線103を形成する(図19)。具体的には、実施例1と同様に、低抵抗の金属微粒子を含むインク等をインクジェット印刷、スクリーン印刷、又は凸版印刷等の周知の印刷技術を用いて主配線103を形成する。また、溝111に対応するような開口を備えるマスクを用い、蒸着又はスパッタリングによって溝111内に成膜して主配線103を成膜してもよく、或いはフォトリソグラフィを用いて溝111内のみに金属膜が残るようにして主配線103を形成してもよい。   After forming the groove 111, the main wiring 103 made of a low resistance metal is formed inside the groove 111 (FIG. 19). Specifically, as in the first embodiment, the main wiring 103 is formed using a well-known printing technique such as ink jet printing, screen printing, or relief printing using ink containing low-resistance metal fine particles. Alternatively, a mask having an opening corresponding to the groove 111 may be used, and the main wiring 103 may be formed by film formation in the groove 111 by vapor deposition or sputtering, or only in the groove 111 using photolithography. The main wiring 103 may be formed so that the metal film remains.

本実施例に係る面発光パネル101の製造方法においても、実施例1と同様に、主配線103が透明基板102の第1面102aに形成された溝111内に形成されているため、主配線103が形成された状態の透明基板102の第1面102aは平坦である。このため、後述する陽極105の製造工程において、主配線103が製造プロセスの妨げになることがなくなり、透明基板102の第1面102a上に、陽極105を容易に形成することができる。   Also in the method of manufacturing the surface light emitting panel 101 according to the present embodiment, the main wiring 103 is formed in the groove 111 formed in the first surface 102a of the transparent substrate 102 as in the first embodiment. The first surface 102a of the transparent substrate 102 in a state where the 103 is formed is flat. For this reason, in the manufacturing process of the anode 105 described later, the main wiring 103 does not interfere with the manufacturing process, and the anode 105 can be easily formed on the first surface 102 a of the transparent substrate 102.

主配線103を形成した後、透明基板102の第1面102a上であって溝111によって区画された素子形成領域102c内に、有機EL素子108の陽極105を形成する(図20)。この際、陽極105は、主配線103と直接的に接続されるように形成される。具体的な陽極105の形成方法としては、実施例1と同様に、スパッタリングや真空蒸着等の公知の成膜方法を用い、素子形成領域102c内にITOを成膜する。また、陽極105を形成した後に、陽極105に付着した不純物を除去し、イオン化ポテンシャルを調整して正孔注入性を向上させるために、紫外線照射やオゾン処理を陽極105に施すことが好ましい。   After forming the main wiring 103, the anode 105 of the organic EL element 108 is formed in the element formation region 102c defined on the first surface 102a of the transparent substrate 102 and partitioned by the groove 111 (FIG. 20). At this time, the anode 105 is formed so as to be directly connected to the main wiring 103. As a specific method for forming the anode 105, ITO is formed in the element formation region 102 c using a known film formation method such as sputtering or vacuum evaporation as in the first embodiment. In addition, after the anode 105 is formed, it is preferable to perform ultraviolet irradiation or ozone treatment on the anode 105 in order to remove impurities attached to the anode 105 and adjust the ionization potential to improve the hole injection property.

陽極105を形成した後、陽極105上に、低抵抗金属からなる14本の補助電極104を形成する(図21)。なお、図21、1つの素子形成領域102cにおける断面図であるため、補助電極104が7本のみ示されている。具体的な形成方法としては、実施例1と同様に、蒸着又はスパッタリング等の真空プロセスによって形成した低抵抗の金属膜をフォトリソグラフィによってパターニングして補助電極104を形成する方法がある。また、補助電極104の形成位置に対応した開口を備えるマスクを用い、蒸着又はスパッタリング等の真空プロセスによって開口の位置に低抵抗の金属膜を成膜して補助電極104を形成する方法を用いてもよい。更に、低抵抗の金属微粒子を含むインク等をインクジェット印刷、スクリーン印刷、又は凸版印刷等の周知の印刷技術を用い、所望の位置にインクの印刷を施して補助電極104を形成する方法を用いてもよい。   After the anode 105 is formed, 14 auxiliary electrodes 104 made of a low resistance metal are formed on the anode 105 (FIG. 21). Note that since FIG. 21 is a cross-sectional view of one element formation region 102c, only seven auxiliary electrodes 104 are shown. As a specific formation method, there is a method of forming the auxiliary electrode 104 by patterning a low resistance metal film formed by a vacuum process such as vapor deposition or sputtering by photolithography as in the first embodiment. Further, by using a mask having an opening corresponding to the formation position of the auxiliary electrode 104 and using a method of forming the auxiliary electrode 104 by forming a low-resistance metal film at the opening position by a vacuum process such as vapor deposition or sputtering. Also good. Further, by using a known printing technique such as ink jet printing, screen printing, letterpress printing, or the like for ink containing low-resistance metal fine particles, a method for forming the auxiliary electrode 104 by printing ink at a desired position. Also good.

補助電極104を形成した後、補助電極104を被覆し、且つ溝111及び主配線103の上方において溝111及び主配線103に沿うように絶縁膜141を形成する(図22)。この際、2個の素子形成領域102cのそれぞれには、更に6個(合計12個)のストライプ状の凹部161が形成される。具体的な絶縁膜141の形成方法として、蒸着若しくはスパッタリング等の真空プロセス、又はスピンコート法、ダイコート法若しくはインクジェット法等の公知の湿式成膜法によって補助電極104及び陽極105上に絶縁材料を堆積し、フォトリソグラフィによって当該堆積した絶縁材料をパターニングして所望の形状の絶縁膜141を形成する方法が用いられる。あるいは、スクリーン印刷法により、所望の形状の絶縁膜141を直接形成することも可能である。   After the auxiliary electrode 104 is formed, an insulating film 141 is formed so as to cover the auxiliary electrode 104 and to extend along the groove 111 and the main wiring 103 above the groove 111 and the main wiring 103 (FIG. 22). At this time, in each of the two element formation regions 102c, six (a total of twelve) stripe-shaped recesses 161 are formed. As a specific method for forming the insulating film 141, an insulating material is deposited on the auxiliary electrode 104 and the anode 105 by a vacuum process such as vapor deposition or sputtering, or a known wet film forming method such as a spin coat method, a die coat method, or an ink jet method. Then, a method of forming the insulating film 141 having a desired shape by patterning the deposited insulating material by photolithography is used. Alternatively, the insulating film 141 having a desired shape can be directly formed by screen printing.

絶縁膜141を形成した後、ストライプ状の凹部161内に、有機層106を積層する(図23)。具体的な有機層106の形成には、実施例1と同様に、蒸着、スパッタリング、スピンコート、インクジェット印刷等の公知の有機EL成膜技術を用いることができる。このように、凹部161内に有機層106を形成することにより、2つの素子形成領域102cのそれぞれは、更に6個(合計12個)の発光領域151に区画されることになる。   After forming the insulating film 141, the organic layer 106 is stacked in the stripe-shaped recess 161 (FIG. 23). For the specific formation of the organic layer 106, as in Example 1, a known organic EL film forming technique such as vapor deposition, sputtering, spin coating, and ink jet printing can be used. As described above, by forming the organic layer 106 in the recess 161, each of the two element formation regions 102c is further divided into six (total 12) light emitting regions 151.

有機層106を形成した後、有機層106及び絶縁膜141を覆うように、有機EL素子108の陰極107を積層する(図24)。具体的な陰極107の形成方法としては、実施例1と同様に、スパッタリングや真空蒸着等の公知の成膜方法を用い、有機層106及び絶縁膜141を覆うようにアルミニウムを成膜する。また、陰極107を形成した後に、陰極107に付着した不純物を除去し、イオン化ポテンシャルを調整して正孔注入性を向上させるために、紫外線照射やオゾン処理を陰極107に施すことが好ましい。   After forming the organic layer 106, the cathode 107 of the organic EL element 108 is laminated so as to cover the organic layer 106 and the insulating film 141 (FIG. 24). As a specific method for forming the cathode 107, similarly to Example 1, a known film formation method such as sputtering or vacuum evaporation is used, and aluminum is formed so as to cover the organic layer 106 and the insulating film 141. In addition, after the cathode 107 is formed, it is preferable to perform ultraviolet irradiation or ozone treatment on the cathode 107 in order to remove impurities attached to the cathode 107 and adjust the ionization potential to improve the hole injection property.

上述した工程を経ることにより、陽極105、有機層106、及び陰極107からなる有機EL素子108が素子形成領域102c内に形成される。そして、透明基板102の第1面102a上に12個の有機EL素子108が形成され、面発光パネル101の製造が完了することになる。   Through the above-described steps, the organic EL element 108 including the anode 105, the organic layer 106, and the cathode 107 is formed in the element formation region 102c. Then, twelve organic EL elements 108 are formed on the first surface 102a of the transparent substrate 102, and the manufacture of the surface light emitting panel 101 is completed.

本実施例に係る面発光パネル101は、実施例1に係る面発光パネル1と比較して、補助電極104の形成位置、絶縁膜141の有無の点で異なっているものの、透明基板102の溝111に主配線103が形成されている点は同一であり、実施例1に係る面発光パネル1と同一の効果を奏する。   The surface light emitting panel 101 according to the present embodiment is different from the surface light emitting panel 1 according to the first embodiment in terms of the formation position of the auxiliary electrode 104 and the presence or absence of the insulating film 141, but the groove of the transparent substrate 102. 111 is the same in that the main wiring 103 is formed, and has the same effect as the surface light emitting panel 1 according to the first embodiment.

1、1’ 面発光パネル
2 透明基板
2a 第1面
2b 第2面
2c 素子形成領域
3 主配線
4 補助電極(第3電極)
5 陽極(第1電極)
6 有機層
7 陰極(第2電極)
8 有機EL素子
11、11a、11b 溝
12 外部接続端子
21 着色材料
31 透明基板
32 ガラス層
33 樹脂層
101 面発光パネル
102 透明基板
102a 第1面
102b 第2面
102c 素子形成領域
103 主配線
104 補助電極(第3電極)
105 陽極(第1電極)
106 有機層
107 陰極(第2電極)
108 有機EL素子
111、111a、111b 溝
112 外部接続端子
141 絶縁膜
151 発光領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1 'surface emitting panel 2 Transparent substrate 2a 1st surface 2b 2nd surface 2c Element formation area 3 Main wiring 4 Auxiliary electrode (3rd electrode)
5 Anode (first electrode)
6 Organic layer 7 Cathode (second electrode)
8 Organic EL device 11, 11a, 11b Groove 12 External connection terminal 21 Coloring material 31 Transparent substrate 32 Glass layer 33 Resin layer 101 Surface light emitting panel 102 Transparent substrate 102a First surface 102b Second surface 102c Element formation region 103 Main wiring 104 Auxiliary Electrode (third electrode)
105 Anode (first electrode)
106 Organic layer 107 Cathode (second electrode)
108 Organic EL element 111, 111a, 111b Groove 112 External connection terminal 141 Insulating film 151 Light emitting region

Claims (9)

複数の有機EL素子を備える面発光パネルであって、
前記複数の有機EL素子が形成される複数の素子形成領域、及び前記複数の素子形成領域のそれぞれの少なくとも一辺に沿い且つ前記素子形成領域の外側に形成された溝を表面に備える透明基板と、
少なくとも前記素子形成領域内に形成され、透光性を備える第1電極と、
前記第1電極上に形成された有機層と、
前記有機層上に形成された第2電極と、
前記溝の内部に形成されるとともに前記第1電極に電気的に接続され、前記複数の有機EL素子のそれぞれに電力を供給する主配線と、を有することを特徴とする面発光パネル。
A surface-emitting panel comprising a plurality of organic EL elements,
A plurality of element formation regions in which the plurality of organic EL elements are formed, and a transparent substrate provided on the surface with grooves formed along at least one side of each of the plurality of element formation regions and outside the element formation region;
A first electrode formed at least in the element formation region and having translucency;
An organic layer formed on the first electrode;
A second electrode formed on the organic layer;
A surface-emitting panel, comprising: a main wiring that is formed inside the groove and is electrically connected to the first electrode and supplies power to each of the plurality of organic EL elements.
前記溝は、前記複数の素子形成領域のそれぞれを区画するように形成されていることを特徴とする請求項1に記載の面発光パネル。   The surface emitting panel according to claim 1, wherein the groove is formed so as to partition each of the plurality of element formation regions. 前記主配線は、前記第1電極を構成する導電材料よりも低い抵抗率を備える導電材料から構成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の面発光パネル。   The surface emitting panel according to claim 1, wherein the main wiring is made of a conductive material having a lower resistivity than that of the conductive material forming the first electrode. 前記第1電極と直接的に接続されるとともに、前記素子形成領域内に設けられた少なくとも1本以上の線状の第3電極を更に有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の面発光パネル。   4. The apparatus according to claim 1, further comprising at least one or more linear third electrodes that are directly connected to the first electrode and provided in the element formation region. The surface emitting panel according to item. 前記第3電極は、前記第1電極と前記透明基板との間に形成されていることを特徴とする請求項4に記載の面発光パネル。   The surface emitting panel according to claim 4, wherein the third electrode is formed between the first electrode and the transparent substrate. 前記第3電極は、前記第1電極上であって前記透明基板とは逆側に形成されていることを特徴とする請求項4に記載の面発光パネル。   The surface-emitting panel according to claim 4, wherein the third electrode is formed on the first electrode on a side opposite to the transparent substrate. 前記主配線が第1絶縁膜で覆われている請求項1乃至6のいずれか1項に記載の面発光パネル。   The surface emitting panel according to claim 1, wherein the main wiring is covered with a first insulating film. 前記第3電極が第2絶縁膜で覆われている請求項4乃至7のいずれか1項に記載の面発光パネル。   The surface emitting panel according to claim 4, wherein the third electrode is covered with a second insulating film. 非透光性の材料が、前記溝の底面と前記主配線との間に堆積されていることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の面発光パネル。   The surface light-emitting panel according to claim 1, wherein a non-translucent material is deposited between a bottom surface of the groove and the main wiring.
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