JP2013542481A - ウェッジエラーを減少させるための装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
Description
- 第1の基板を第1の保持システム上にその保持面で固定するとともに、第2の基板を第2の保持システム上にその保持面で固定するステップと、
- 第1の基板を第2の基板に対して並進方向と横方向に位置合わせするステップと、
- 第1の基板の第1の表面にエンボス構造体を取り付けるとともに、第2の基板の第2の表面にキャリア材料を取り付けるステップと、
- 第2の保持システムの方向での第1の保持システムの並進移動によって第1の基板を第2の基板に近づけるステップと、
- 第2の基板への第1の基板の接近中に、第1の基板がセンサ検出領域にあると直ぐに、第1及び第2の基板と第2の保持システムの各センサとの間の隙間を測定するステップと、
- 第1の基板と第2の基板との間のウェッジエラーを減少させるために、制御システム及び駆動手段の制御により、それにしたがって駆動手段を起動させ、それにしたがって第1の基板又は第1の保持システムを基板又は第2の保持システムに対して回転させることにより、測定された値を評価して、第2の基板に対する第1の基板の角度位置を計算するステップと、
によって特徴付けられる。
1a 保持面
2 第1の基板
2a 支持面
2o 表面
3 エンボス構造体
4 エンボス材料
5 第2の基板
5a 支持面
5o 表面
6 第2の保持システム
6a 保持面
7 センサチャンバ
8 センサ
T 並進方向
Claims (9)
- 第1の基板(2)の第1の表面(2o)と第2の基板(5)の第2の表面(5o)との間に隙間を伴う前記第1の表面(2o)と前記第2の表面(5o)とを対向して位置合わせする装置であって、
前記第1の基板(2)を第1の保持面(1a)上で保持する第1の保持システム(1)と、
前記第2の基板(5)を第2の保持面(6a)上で保持する第2の保持システム(6)と、
ある最終位置へと至るまで1つの並進方向(T)で前記第1の表面(2a)を前記第2の表面(5a)に接近させる接近手段と、
を備え、
前記第2の表面(5o)への前記第1の表面(2o)の前記接近中に前記第1の表面(2o)と前記第2の表面(5o)との間のウェッジエラーを減少させる手段があることを特徴とする装置。 - 前記ウェッジエラーを減少させる前記手段は、前記接近中に、特に前記最終位置に達するまで、連続的に、特に途切れなく使用され得る請求項1に記載の装置。
- 前記第1の表面(2o)上及び/又は前記第2の表面(5o)上には、前記第1の表面(2o)と前記第2の表面(5o)との間でエンボス材料(4)をエンボス加工するエンボス構造体(3)がある請求項1又は2に記載の装置。
- 前記接近の前記手段は、前記第1及び第2の保持システム(1,6)を前記保持面(1a,6a)に対して横方向の並進方向(T)で並進動作させるようになっている請求項1から3のいずれか一項に記載の装置。
- 前記ウェッジエラーを減少させる前記手段は、前記第2の表面(5o)への前記第1の表面(2o)の前記接近中に前記第1の基板及び前記第2の基板における角度位置を測定する特に分光的に作用する測定手段を備える請求項1から4のいずれか一項に記載の装置。
- 前記測定手段は、特に前記第1及び/又は第2の保持システム(1,6)に設けられるいくつかの、特に少なくとも3つのセンサ(8)を有し、前記各センサは、前記それぞれのセンサ(8)に対する前記第1の表面(2o)及び前記第2の表面(5o)の前記並進方向(T)での前記隙間、特に、前記第1の表面(2o)から離れて面する前記第1の基板(2)の第1の支持面(2a)と前記第2の表面(5o)から離れて面する前記第2の基板(5)の第2の支持面(5a)との前記隙間を測定するために前記第1及び/又は第2の保持面(1a,6a)の表面下にある請求項5に記載の装置。
- 前記ウェッジエラーを減少させる前記手段は、前記第2の基板(5)に対する前記第1の基板(2)の前記角度位置、特に前記第2の表面(5o)に対する前記第1の表面(2o)の前記角度位置を変える駆動手段を備え、前記駆動手段が前記第1及び/又は第2の保持システム(1,6)に位置される請求項1から6のいずれか一項に記載の装置。
- 前記ウェッジエラーを減少させる前記手段は、前記ウェッジエラーの前記減少を制御するための、特に前記測定手段の測定値を検出してそれに対応して前記駆動手段を起動させる能動制御システムを備える請求項1から7のいずれか一項に記載の装置。
- 第1の基板の第1の表面と第2の基板の第2の表面との間に隙間を伴う前記第1の表面と前記第2の表面とを対向して位置合わせするための方法であって、前記第2の表面への前記第1の表面の接近中に前記第1及び前記第2の表面間のウェッジエラーが減少される方法。
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