JP2013540369A - 化学機械研磨消耗品のばらつきを補償する装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
Description
ここで、a及びbは、最小二乗推定から得られる定数である。ある特定の例では、Applied Materials,Inc.によって製造される低ダウンフォースコンディショナアームを利用する酸化物CMPシステムに関して計算された値b及びaは、それぞれ0.228及び0.3である。定数b及びaは、他の基準のうちで、特定のパッド材料、研磨流体、研磨されている基板材料に関して選択することができる。
Claims (16)
- 基板を研磨する装置であって、
ベースに結合された回転可能なプラテンと、
前記ベースに結合されたコンディショナデバイスであって、第1モータによって前記ベースに回転可能に結合されているシャフトと、アームによって前記シャフトに結合されている回転可能なコンディショナヘッドとを備え、前記コンディショナヘッドは、前記コンディショナヘッドの回転を制御する第2モータに結合されている、コンディショナデバイスと、
前記ベースに関する前記シャフトの回転力メトリックと、前記コンディショナヘッドの回転力メトリックとを感知するように動作可能な1つ又は複数の測定デバイスとを備える、装置。 - 前記1つ又は複数の測定デバイスは、前記第1モータに結合された第1センサを備える、請求項1に記載の装置。
- 前記1つ又は複数の測定デバイスは、前記第2モータに結合された第2センサを備える、請求項2に記載の装置。
- 前記1つ又は複数の測定デバイスは、電流センサ、圧力センサ、及びトルクセンサから成るグループから選択されたセンサを備える、請求項3に記載の装置。
- 前記1つ又は複数の測定デバイスは、第1トルクセンサ及び第2トルクセンサを備える、請求項1に記載の装置。
- 前記コンディショナデバイスに結合され、前記コンディショナヘッドに加えられるダウンフォースのメトリックを感知する第3センサをさらに備える、請求項5に記載の装置。
- 前記プラテンの回転を制御するモータに結合された第4センサをさらに備える、請求項5に記載の装置。
- 基板を研磨する装置であって、
ベースに結合された回転可能なプラテンと、
前記ベースに結合されたコンディショナデバイスであって、第1モータによって前記ベースに回転可能に結合されているシャフトと、アームによって前記シャフトに結合されている回転可能なコンディショナヘッドとを備え、前記コンディショナヘッドは、前記コンディショナヘッドの回転を制御する第2モータに結合されている、コンディショナデバイスと、
前記第1モータに結合され、前記ベースに関する前記シャフトの回転力メトリックを感知するように動作可能な第1センサと、
前記第2モータに結合され、前記コンディショナヘッドの回転力メトリックを感知するように動作可能な第2センサとを備える、装置。 - 前記第1センサ又は前記第2センサは、電流センサ、圧力センサ、及びトルクセンサから成るグループから選択される、請求項8に記載の装置。
- 前記第1センサ及び前記第2センサはトルクセンサである、請求項8に記載の装置。
- 前記コンディショナデバイスに結合され、前記コンディショナヘッドに加えられるダウンフォースのメトリックを感知する第3センサをさらに備える、請求項8に記載の装置。
- 前記プラテンの回転を制御するモータに結合された第4センサをさらに備える、請求項11に記載の装置。
- 基板を研磨する方法であって、
基板なしの研磨前プロセスを行う工程であって、前記研磨前プロセスは、コンディショナディスクを研磨ステーションに配置された研磨パッドの研磨表面に押し付ける工程を含み、前記研磨前プロセスは、前記コンディショナディスクを前記研磨パッドに関して動かすために必要な回転力値を監視している間、前記コンディショナディスクを前記研磨パッドに関して前記研磨表面を横切る掃引パターンで動かす工程を備える、工程と、
前記コンディショナディスクと前記研磨表面との間の相互作用を示すメトリックを、前記回転力値から決定する工程と、
前記メトリックに応じて研磨方策を調節し、前記調節された研磨方策を使用して1つ又は複数の基板を研磨する工程とを備える、方法。 - 前記メトリックが、測定されたトルク値を備える、請求項13に記載の方法。
- 前記研磨する工程が、
前記1つ又は複数の基板を研磨する間に前記回転力値を監視する工程と、
前記監視されたトルク値をターゲットトルク値と比較する工程とを備える、請求項14に記載の方法。 - 前記調整ディスクのダウンフォースを、前記測定されたトルク値と前記ターゲットトルク値と間の差に応じて調節する工程をさらに備える、請求項15に記載の方法。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US40564010P | 2010-10-21 | 2010-10-21 | |
US61/405,640 | 2010-10-21 | ||
US13/178,126 US8758085B2 (en) | 2010-10-21 | 2011-07-07 | Method for compensation of variability in chemical mechanical polishing consumables |
US13/178,126 | 2011-07-07 | ||
PCT/US2011/051251 WO2012054149A2 (en) | 2010-10-21 | 2011-09-12 | Apparatus and method for compensation of variability in chemical mechanical polishing consumables |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013540369A true JP2013540369A (ja) | 2013-10-31 |
JP6000960B2 JP6000960B2 (ja) | 2016-10-05 |
Family
ID=45973415
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013534908A Active JP6000960B2 (ja) | 2010-10-21 | 2011-09-12 | 化学機械研磨消耗品のばらつきを補償する装置及び方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8758085B2 (ja) |
JP (1) | JP6000960B2 (ja) |
KR (1) | KR101526845B1 (ja) |
CN (1) | CN102725832B (ja) |
TW (1) | TWI483807B (ja) |
WO (1) | WO2012054149A2 (ja) |
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- 2011-09-12 KR KR1020127020838A patent/KR101526845B1/ko active IP Right Grant
- 2011-09-12 WO PCT/US2011/051251 patent/WO2012054149A2/en active Application Filing
- 2011-09-12 JP JP2013534908A patent/JP6000960B2/ja active Active
- 2011-09-12 CN CN201180007441.9A patent/CN102725832B/zh active Active
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WO2012054149A3 (en) | 2012-06-14 |
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US8758085B2 (en) | 2014-06-24 |
TWI483807B (zh) | 2015-05-11 |
KR20130122513A (ko) | 2013-11-07 |
JP6000960B2 (ja) | 2016-10-05 |
TW201242717A (en) | 2012-11-01 |
CN102725832B (zh) | 2016-02-24 |
WO2012054149A2 (en) | 2012-04-26 |
CN102725832A (zh) | 2012-10-10 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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