JP2013531718A - フッ素化組成物、その組成物をコーティングする方法、及びその方法による物品 - Google Patents

フッ素化組成物、その組成物をコーティングする方法、及びその方法による物品 Download PDF

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Abstract

フッ素化組成物は、下式:
faO(CF(CF)CFO)CF(CF)CHOZSi(Yにより表されるポリフルオロポリエーテルシランと、
下式:
fb[RCHOZSi(Y
により表されるポリフルオロポリエーテルシランとを含み、式中、Rfaは、1〜12個の炭素原子を有するパーフルオロアルキル基を表し、場合により少なくとも1個の鎖中連結された酸素原子又は−NR−基[式中、Rはパーフルオロアルキル基を表す。]で置換され;Zは、−RSR−、−RS(=O)R−、又は
−RS(=O)[式中、R及びRは独立して1〜12個の炭素原子を有するアルキレン基を表す。];各Yは、独立して加水分解性基を表し;pは3〜50の範囲の数であり;Zは独立して−RSR−、−RS(=O)R−、又は−RS(=O)[式中、R及びRは独立して1〜12個の炭素原子を有するアルキレン基を表す。]を表し;Yは、独立して加水分解性基を表し;Rfbは、少なくとも3個の炭素原子を有するパーフルオロアルキレン基を表し、場合により少なくとも1個の鎖中連結された酸素原子又は−NR−基[式中、Rはパーフルオロアルキルを表す。]で置換され;Rは独立して共有結合、又は−(OR−[式中、Rは独立して分枝したパーフルオロアルキレン基を表し、bは独立して1以上の数を表す。]を表す。
【選択図】図1

Description

本開示は、ポリフッ素化されたポリエーテルの混合物を含む組成物、その組成物をコーティングする方法、及びその方法によって製造された物品に関する。
いくつかのフッ素化化合物が基材の保護コーティングに使用されている。一般的にこうした保護コーティングによれば、基材は、例えば鉱質沈着物、油性及び/又はグリース沈着物(例えば指紋)、際付き(water damage)、並びに墨痕(ink mark)などの1種以上の環境物質によって汚された状態になりやすく、かつより簡単にきれいにすることができる。保護コーティングによって処理された基材の例としては、浴室用品、台所用品、家庭用品、鏡、及び自動車のホイール及びリムが挙げられる。
しかしながら、これまでに使用されている一部のフッ素化化合物、特にポリフルオロポリエーテル基を含みかつアミド結合を有するものは、加水分解しやすく、加水分解条件下では分解してその効果を失う場合がある。
一態様では、本開示は、
(a)51〜95重量部の下式:
faO(CF(CF)CFO)CF(CF)CHOZSi(Y
により表される第1のポリフルオロポリエーテルシランと、[式中、
は、−R−S−R−、−R−S(=O)−R−、又は−R−S(=O)−R(式中、R及びRは、独立して、1〜12個の炭素原子を有するアルキレン基を表す。)を表し、
各Yは、独立して加水分解性基を表し、
faは、1〜12個の炭素原子を有するパーフルオロアルキル基を表し、場合により少なくとも1個の鎖中連結された(catenated)酸素原子又は
−NR基(式中、Rは、パーフルオロアルキル基を表す。)で置換され、
pは、3〜50の範囲の数である。]
(b)5〜49重量部の下式:
fb[RCHOZSi(Y
により表される第2のポリフルオロポリエーテルシランと、[式中、
各Zは、独立して、−R−S−R−、−R−S(=O)−R−を表し、又は
−RS(=O)−Rを表し(式中、R及びRは、独立して、1〜12個の炭素原子を有するアルキレン基を表す。)、
各Yは、独立して加水分解性基を表し、
各Rは、独立して共有結合、又は−(OR−を表し(式中、各Rは、独立して分枝したパーフルオロアルキレン基を表し、各bは、独立して1以上の数を表す。)、
fbは、少なくとも3個の炭素原子を有するパーフルオロアルキレン基を表し、場合により少なくとも1個の鎖中連結された酸素原子又は
−NR−基(式中、Rは、パーフルオロアルキル基を表す。)
で置換されている。]と、を含むフッ素化組成物を提供する。
いくつかの実施形態では、第2のポリフルオロポリエーテルシランは下式:
(YSiZOCHCFCFCHOZSi(Y
[式中、Rは、1〜50個の−OCFCF−基が3〜40個の−OCF−基とランダムに混在して構成される2価の基である。]により表される。
いくつかの実施形態では、Zは、下式:
−R−S−R
により表される2価の基であり、R及びRのそれぞれは独立して、1〜12個の炭素原子を有するアルキレン基を表す。いくつかの実施形態では、Zは、−CHCHCHSCHCHCH−である。
いくつかの実施形態では、Zは、下式:
−R−S−R
により表される2価の基であり、R及びRのそれぞれは独立して、1〜12個の炭素原子を有するアルキレン基を表す。いくつかの実施形態では、Zは、−CHCHCHSCHCHCH−である。
いくつかの実施形態では、フッ素化組成物は、第1のポリフルオロポリエーテルシラン及び第2のポリフルオロポリエーテルシランの合計重量に対して60〜96重量部、又は65から75重量部の第1のポリフルオロポリエーテルシランを含む。
本開示に基づくフッ素化組成物は、例えば基材上に保護コーティングを与えるうえで有用である。したがって、別の態様では、本開示は、基材をコーティングするための方法であって、本開示に基づくフッ素化組成物を基材の表面の少なくとも一部に塗布することを含む方法を提供する。いくつかの実施形態では、前記基材の表面は、プラズマ蒸着によって形成されたケイ素、酸素、及び水素を含む層を有する。いくつかの実施形態では、プラズマ蒸着はイオン支援型プラズマ蒸着を含む。いくつかの実施形態では、前記基材の表面は、ダイヤモンド様ガラスを含む。いくつかの実施形態では、前記少なくとも部分的にフッ素化された組成物は、熱蒸発及び凝縮によって前記基材の表面に付着される。いくつかの実施形態では、前記基材の表面の前記少なくとも一部は、金属、セラミック、及び/又はガラスを含む。いくつかの実施形態では、前記基材は、台所用品、浴室用品、又は家庭用品からなる群から選択される。
更なる別の態様では、本開示は、本開示に基づく任意の方法にしたがって調製されコーティングされた基材を含む物品を提供する。
有利な点として、本開示に基づくフッ素化組成物から調製された保護コーティングは、優れた性能及び耐加水分解性を示す。
本明細書及び特許請求の範囲において、特に断らないかぎりは数値の範囲はそれらの端点を含む。
本明細書及び特許請求の範囲において、加水分解性基なる用語は、pHが1〜10の液体の水及び大気圧(0.1〜1MPa)の作用により、それが結合した原子から容易に切断又は除去される基のことを指す。
上記の実施形態は、本開示の教示を鑑みて明らかに誤った組み合わせでないかぎり、あらゆる組み合わせで実施することができる。本開示の特徴及び利点は、発明を実施するための形態、及び添付の特許請求の範囲を考慮することで更に深い理解が得られるであろう。
本明細書において、パーフルオロアルキル基又はパーフルオロアルキレン基に関連して用いる、「鎖中連結された原子又は基で置換された」なる語句は、パーフルオロアルキル基又はパーフルオロアルキレン基の内部の炭素原子(すなわち末端ではない)及びそれに付随するフッ素原子が、それぞれの原子又は基によって置換されている化学構造のことを指す。
本開示による例示的な物品の概略側面図。 本開示の原理の範囲及び趣旨の範囲内に含まれる他の多くの改変例及び実施形態が当業者によって考案されうる点は理解されるはずである。
第1のポリフルオロポリエーテルシランは、下式:
faO(CF(CF)CFO)CF(CF)CHOZSi(Y
により表される1種以上の化合物を含む。Rfaは、1〜12個の炭素原子を有するパーフルオロアルキル基を表し、場合により少なくとも1個の鎖中連結された酸素原子又は−NR−基[式中、Rは、パーフルオロアルキル基(例えば1〜6個の炭素原子又は1〜4個の炭素原子を有するパーフルオロアルキル基)を表す。]で置換されている。いくつかの実施形態では、Rfaは、2〜6個の炭素原子、2〜4個の炭素原子、又は3個の炭素原子を有する。代表的なRfa基としては、パーフルオロメチル、パーフルオロエチル、パーフルオロプロピル、パーフルオロブチル、パーフルオロペンチル、パーフルオロヘキシル、CFCFOCFCFCF−、CFOCFCFCF−、CFCFOCFCFCF−、CFCFCF(OCFCF(式中、xは1〜4の範囲である。)、CFCFN(CF)CFCFCF−、及びCFCFN(CFCFCFCF)CFCFCF−が挙げられる。
各Yは、独立して加水分解性基を表す。例としては、1〜3個の炭素原子を有する低級アルコキシ(例えばメトキシ、エトキシ、及びプロポキシ)、ハライド(例えばクロライド及びブロマイド)、及び2〜4個の炭素原子を有する低級アルカノイルオキシ(例えばアセトキシ及びプロパノイルオキシ)が挙げられる。
は、−RSR−、−RS(=O)R−、又は−RS(=O)−を表す。R及びRは独立して、1〜12個の炭素原子を有するアルキレン基を表す。いくつかの実施形態では、R及びRは、独立して、1〜8個、6個、又は4個の炭素原子を有するアルキレン基を表す。R及びRアルキレン基の例としては、メチレン、エタン−1,2−ジイル(−CHCH−)、プロパン−1,2−ジイル、プロパン−1,3−ジイル、ブタン−1,4−ジイル、ヘキサン−1−6−ジイル、オクタン−1,8−ジイル、イソオクタン−1,7−ジイル、及びドデカン−1,10−ジイルが挙げられる。1つの特に有用なZ基として、−CHCHCHSCHCHCH−がある。
pの値は3〜50の範囲である。例としては、3〜50、3〜20、及び3〜10の範囲のpの値が挙げられる。
有用な第1のポリフルオロポリエーテルシランの例としては、以下のおおまかな平均的構造が挙げられる。すなわち、
CFCFCFO[CF(CF)CFO]CF(CF)CHOCHCHCHSCHCHCHSi(OCH
CFCFCFO[CF(CF)CFO]CF(CF)CHOCHCHCHSCHCHCH−Si(OCHCH
CFCFCFO[CF(CF)CFO]CF(CF)CHOCHCHSCHCHSi(OCH;及び
CFCFCFO[CF(CF)CFO]CF(CF)CHOCHCHSCHCHCHSi(OCH
第2のポリフルオロポリエーテルシランは、下式:
fb[RCHOZSi(Y
により表される1種以上の化合物を含む。
各Yは、独立して加水分解性基を表す。例としては、1〜3個の炭素原子を有する低級アルコキシ(例えばメトキシ、エトキシ、及びプロポキシ)、ハライド(例えばクロライド及びブロマイド)、及び2〜4個の炭素原子を有する低級アルカノイルオキシ(例えばアセトキシ及びプロパノイルオキシ)が挙げられる。
各Zは、独立して−RSR−、−RS(=O)R−、又は−RS(=O)−を表す。R及びRは、独立して、1〜12個の炭素原子を有するアルキレン基を表す。いくつかの実施形態では、R及びRは、独立して、1〜8個、6個、又は4個の炭素原子を有するアルキレン基を表す。R及びRアルキレン基の例としては、メチレン、エタン−1,2−ジイル、プロパン−1,2−ジイル、プロパン−1,3−ジイル、ブタン−1,4−ジイル、ヘキサン−1−6−ジイル、オクタン−1,8−ジイル、イソオクタン−1,7−ジイル、及びドデカン−1,10−ジイルが挙げられる。1つの特定の有用なZ基として、−CHCHCHSCHCHCH−がある。
fbは、少なくとも3個の炭素原子を有するパーフルオロアルキレン基を表し、場合により少なくとも1個の鎖中連結された酸素原子又は−NR−基(式中、Rは、パーフルオロアルキル基(例えば1〜6個の炭素原子、又は1〜4個の炭素原子を有するパーフルオロアルキル基)で置換されている。少なくとも3個の炭素原子を有するパーフルオロアルキレン基の例としては、パーフルオロプロピレン−1,2−ジイル、パーフルオロプロピレン−1,3−ジイル、パーフルオロブチレン−1,4−ジイル、パーフルオロオクチレン−1,8−ジイルが挙げられる。少なくとも1個の鎖中連結された酸素原子又は−NR−基によって置換されたパーフルオロアルキレン基の例としては、
−CFCFOCFCF−;−CF(OCFCF(OCFCF−;
−CF(CF)[OCFCF(CF)](CFO[(CF(CF)CFO]CF(CF)−;
−CF(CF)[OCFCF(CF)]O(CFO(CFO[(CF(CF)CFO]CF(CF)−;
−CF(CF)[OCFCF(CF)]O(CFN(CF)(CFO[(CF(CF)CFO]CF(CF)−(式中、j及びkは0以上の数であり、かつj+kは0〜4の範囲の数である。)、及び−CFCFCFO[(CF(CF)CFO]CF(CF)−(式中、xは0〜4の範囲の数である。)が挙げられる。
各Rは、独立して共有結合、又は−(OR−[式中、各Rは、独立して、分枝したパーフルオロアルキレン基(例えば、1、2、3、又は4個の炭素原子〜6、8、10、又は12個の炭素原子を有する分枝したパーフルオロアルキレン基)を表し、かつ各bは、独立して1以上の数を表す(例えば、1、2、3、4、6、8、及び/又は12以上)]を表す。代表的なR基としては、パーフルオロエチレン−1,2−ジイル、パーフルオロプロピレン−1,3−ジイル、パーフルオロブチレン−1−4−ジイル、パーフルオロポリ(プロピレンオキシ)基、及びパーフルオロポリ(オキシプロピレン)基が挙げられる。
いくつかの実施形態では、第2のポリフルオロポリエーテルシランを表す式は、より詳細に下記のように書き表すことができる。すなわち、
(YSiZOCHCFCFCHOZSi(Y
[式中、Rは、1〜50個(例えば8〜20個、8〜15個、及び/又は9〜12個)の−OCFCF−基が、3〜40個(例えば3〜30個、1〜20個、1〜15個、及び/又は1〜12個)の−OCF−基とランダムに混在して構成される2価の基である]。
個々の化合物においては(上記に定義したような)m、p、及びqの(整数に対応した)整数値のみが可能であるが、こうした化合物の混合物は非整数値(整数に対応していない)を有しうるものであり、例えば本明細書における代表的な式と同様、本開示の範囲に含まれるものと考えられる点は認識されるであろう。
有用な第2のポリフルオロポリエーテルシランの例としては、以下のおおまかな平均的構造が挙げられる。すなわち、
(CHO)SiCHCHCHSCHCHCHOCHCF(OCFCF(OCFCFCHO−CHCHCHSCHCHCHSi(OCH
(CHCHO)SiCHCHCHSCHCHOCHCF(OCFCF−(OCFCFCHOCHCHSCHCHCHSi(OCHCH
(CHCHO)SiCHCHCHSCHCHCHOCHCF(OCFCF−(OCFCFCHOCHCHCHSCHCHCHSi(OCHCH(式中、mは、1〜50の範囲の数であり、qは、3〜40の範囲の数である。);(CHCHO)Si(CHS(CHOCHCF(CF)[OCFCF(CF)]O−(CFO[(CF(CF)CFO]CF(CF)CHO(CHS(CHSi(OCHCH;(CHO)Si(CHS(CHOCHCF(CF)[OCFCF(CF)]O(CFO(CFO−[(CF(CF)CFO]CF(CF)CHO(CHS(CHSi(OCH、及び(CHCHO)Si(CHS(CHOCHCF(CF)[OCFCF(CF)]O(CFN(CF)−(CFO[(CF(CF)CFO]CF(CF)CHO(CHS(CHSi(OCHCH(式中、j及びkは、0以上の数であり、かつj+kは0〜4の範囲の数である。);及び(CHO)Si(CHS(CHOCHCFCFCFO[(CF(CF)CFO]CF(CF)CHO−(CHS(CHSi(OCH(式中、zは、0〜4の範囲の数である。)
第1のポリフルオロポリエーテルシラン及び第2のポリフルオロポリエーテルシランは、従来の方法によって合成することができる。例えば、米国特許第7,294,731 B1号(フリン(Flynn)ら)に述べられるような方法を、本開示の実施において使用されるポリフルオロポリエーテルシランを調製するために容易に適用することができる。更に例示的な技法を下記の実施例の項において示す。
ポリフルオロポリエーテルシランは、一般的にオリゴマー及び/又はポリマーの分布を有している。望ましくは、こうした分布では、分布中のポリフルオロポリエーテルシランの全体量に対して、重量平均分子量が750未満であるポリフルオロポリエーテルセグメントを有するポリフルオロポリエーテルシランの量が、10重量%以下、より望ましくは5重量%以下、より望ましくは1重量%以下、更により望ましくはほぼ0又は0重量%である。
第1のポリフルオロポリエーテルシランの量は、第1のポリフルオロポリエーテルシラン及び第2のポリフルオロポリエーテルシランの合計重量に対して51〜95重量部である。いくつかの実施形態では、第1のポリフルオロポリエーテルシランの量は、第1のポリフルオロポリエーテルシラン及び第2のポリフルオロポリエーテルシランの合計重量に対して60〜95重量部、又は65〜75重量部の範囲である。同様に、第2のポリフルオロポリエーテルシランの量は、第1のポリフルオロポリエーテルシラン及び第2のポリフルオロポリエーテルシランの合計重量に対して5〜49重量部の範囲である。いくつかの実施形態では、第2のポリフルオロポリエーテルシランの量は、第1のポリフルオロポリエーテルシラン及び第2のポリフルオロポリエーテルシランの合計重量に対して20〜40重量部、又は25〜35重量部である。
いくつかの実施形態では、フッ素化組成物は少なくとも1種類の有機溶媒を更に含む。任意の有機溶媒又は有機溶媒の混合物は、1種以上のポリフルオロポリエーテルシランを少なくとも約0.01重量%で溶解又は懸濁できるものであることが望ましい。いくつかの実施形態では、溶媒又は溶媒の混合物は、水に対する溶解度が少なくとも約0.1重量%であり、これらの実施形態の特定のものでは、酸に対する溶解度が少なくとも約0.01重量%であることが望ましい。
好適な有機溶媒又は溶媒の混合物は、例えばメタノール、エタノール、及びイソプロパノールなどの脂肪族アルコール;アセトン及びメチルエチルケトンなどのケトン;酢酸エチル及びギ酸メチルなどのエステル;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルt−ブチルエーテル及びジプロピレングリコールモノメチルエーテル(DPM)などのエーテル、例えばヘプタン、デカン、及びパラフィン溶剤などのアルカンのような炭化水素溶媒;パーフルオロヘキサン及びパーフルオロオクタンなどのフッ素化炭化水素;ペンタフルオロブタンなどの部分フッ素化炭化水素;メチルパーフルオロブチルエーテル及びエチルパーフルオロブチルエーテルなどのヒドロフルオロエーテルから選択することができる。
これらの実施形態の特定のものでは、フッ素化溶媒はヒドロフルオロエーテルである。これらの実施形態の特定のものでは、ヒドロフルオロエーテルは、メチルパーフルオロブチルエーテルである。
フッ素化組成物は、1種以上の酸を更に含んでもよい。代表的な酸としては、酢酸、クエン酸、ギ酸、トリフルオロメタンスルホン酸、パーフルオロ酪酸、硫酸、塩酸、及びこれらの混合物が挙げられる。
フッ素化組成物を基材の表面の少なくとも一部に塗布することによって本開示に基づく物品を得ることができる。例えば、図1を参照すると、物品100は基材120上に層110を有する。
フッ素化組成物は、各種のコーティング法を使用して基材の表面に塗布することができる。このような方法としては、これらに限定されるものではないが、噴霧、浸漬、ロールコーティング、刷毛塗り、延展、フローコーティング、及び蒸着が挙げられる。一般的にフッ素化組成物は、必要に応じて乾燥を行った後にフッ素化組成物の単一層が形成されるように基材上にコーティングされる。一般的にこうした単一層は、厚さ約0.001〜約1μm、より一般的には厚さ約0.001〜約0.010μmである。
処理しようとする基材は、当該技術分野では周知の方法によって前洗浄することによってフッ素化組成物を塗布するのに先立って汚れを除去することができる。有用な前洗浄法の1つとして酸素プラズマへの曝露がある。この前洗浄を行うには、チャンバ内の圧力を1.3Pa(10mTorr)〜27Pa(200mTorr)に維持する。プラズマは、500W〜3000Wの高周波出力レベルで発生される。アセトン若しくはエタノールのような有機溶媒による溶媒洗浄工程、又は酸エッチング処理を酸素プラズマへの曝露に先立って行うこともできる。
蒸着を用いる場合、化学気相成長の際にフッ素化組成物が気化される条件は、ポリフルオロポリエーテルシランの構造及び分子量に応じて変わりうる。特定の実施形態では、気化は約1.3Pa(約0.01torr)よりも低い圧力、約0.013Pa(約10−4torr)よりも低い圧力、又は更には0.0013Pa(約10−5torr)〜約0.00013Pa(約10−6torr)の圧力で起こりうる。これらの実施形態の特定のものでは、気化は、少なくとも約80℃、少なくとも約100℃、少なくとも約200℃、又は少なくとも約300℃の温度で起こりうる。気化工程では、例えば伝導加熱、対流加熱、マイクロ波照射加熱などによりエネルギーを付与してもよい。
例えばプラズマ蒸着によって表面が形成されるようないくつかの実施形態では、蒸着法によって、更なる取り扱い及び環境への曝露によって基材の表面が汚染される機会が低減され、それに応じて収量低下の低減につながりうる。更に、層がプラズマ蒸着によって形成される際、フッ素化組成物を同じチャンバ内又は接続された真空チャンバ内でコーティングすることがより効率的でありうる。更に、フッ素化組成物は、硬化を行うために酸条件及び/又は更なる加熱を必要としない場合もある。有用な真空チャンバ及び装置は当該技術分野では周知のものである。例としては、PLASMATHERMモデル3032(ニュージャージー州クレッソン所在のプラズマサーム社(Plasmatherm)より販売される)及び900 DLS(オハイオ州グローブポート所在のサティスバキューム・オブ・アメリカ社(Satis Vacuum of America)より販売される)が挙げられる。
蒸着によってフルオロケミカル組成物を塗布するには、通常、組成物及び基材をチャンバ内に置き、チャンバ内の圧力を低下させ、フルオロケミカル組成物を加熱する。フルオロケミカル組成物は通常は、るつぼ中に維持されるが、いくつかの実施形態では、組成物をセラミックペレット又は金属メッシュなどの多孔質マトリックス中に吸収させ、ペレットをチャンバ内で加熱する。
フルオロケミカル組成物を蒸気の状態に変化させるのに充分なエネルギーを組成物に加え、次いでこの蒸気は、他の成分としばしば混ぜ合わせた後、基材上に膜形態で置かれるようになる。ソース材料を蒸気相に転換するプロセス、及びコーティング粒子を基材の方向に向けさせるプロセスにおいて静電場及び/又は電磁場を用いることができる。有用な蒸着法としては、例えば、スパッタリング、反応性スパッタリング、蒸発法、反応性蒸発法、イオン支援反応性蒸発法、イオンビーム支援蒸着法、陰極アーク蒸発法、非平衡マグネトロンスパッタリング、高出力インパルスマグネトロンスパッタリング(HIPIMS)、並びに熱及び電子ビーム(eビーム)蒸発法が挙げられる。米国特許第4,556,471号(バーグマン(Bergman)ら)に開示される装置のような当該技術分野では周知の蒸着装置を使用することができる。
フッ素化組成物は、基材の表面、例えば、−SiOH基を有する基材表面上のケイ素、酸素、及び水素を含む層と反応して、Si−O−Si基中の結合を含む共有結合を形成することによって耐久性コーティングを形成する。耐久性コーティングを調製するには、Si−O−Si基を形成する縮合が起こり、それによって硬化が起こるように、一般的には上記に述べた加水分解性基の加水分解を引き起こすに充分な水が存在しなくてはならない。この水は例えば、コーティング組成物中に存在するか、基材表面に吸着されているか、又は周囲雰囲気に由来するものであってよい。一般的には、コーティング法が、室温で、水分を含む雰囲気中、例えば相対湿度が約30%〜約50%の雰囲気中で行われる場合には、耐久性コーティングの調製に充分な水分が存在する。
コーティングする基材は、一般的に室温で(一般的に約15℃〜約30℃、より一般的には約20℃〜約25℃)コーティング組成物と接触させればよい。また、コーティング組成物を、例えば60℃〜150℃の温度に予熱した基材に塗布することもできる。フッ素化組成物の塗布後、コーティングした基材を乾燥し、得られたコーティングを周囲温度(例えば、約15℃〜約30℃)、又は昇温状態(例えば、約40℃〜約300℃)で、硬化が起こるのに充分な時間、硬化させることができる。
コーティング可能な表面を有するあらゆる基材を使用することができる。一般的に基材は固体である。代表的な基材には、金属、セラミック、合成及び/若しくは天然ポリマー、並びに/又はガラスが含まれる。効果を最も高めるには、基材は、例えば水酸基などの前記第1及び第2のポリフルオロポリエーテルシランと共有結合を形成することが可能な基を有する表面を有さなければならない。
有用な金属は、例えば、クロム、鉄、アルミニウム、銅、ニッケル、亜鉛、スズ、ステンレス鋼、黄銅、並びにこれらの合金及び組み合わせから選択することができる。
基材の例としては、これらに限定されるものではないが、台所及び浴室の蛇口、飲み口、取っ手、注ぎ口、シンク、配水管、手すり、タオル掛け、カーテンレール、食器洗い機のパネル、冷蔵庫のパネル、ストーブの天板、ストーブのパネル、オーブンのパネル、電子レンジのパネル、排気フード、グリル、金属ホイール又はリム、ハサミの刃、ペーパーカッター、ペーパーシュレッダー、カミソリの刃、切削工具、スタンピングダイ、金型、窓、鏡、眼鏡のレンズ、タイル、タブ、トイレ、及びシンクが挙げられる。
いくつかの実施形態では、プライマーの付着、又は他の何らかの表面の物理的又は化学的改質法によって基材の表面の適合性を高めることができる。プラズマ蒸着法を使用することができる。例えば、いくつかの実施形態では、当該技術分野においてダイヤモンド様ガラスとして知られる、ケイ素、酸素、及び水素を含む層を、基材の表面をフルオロケミカル組成物でコーティングする前に基材の表面に付着させる。
ダイヤモンド様ガラス層(例えば、ケイ素、酸素、及び水素)を基材の表面の少なくとも一部にプラズマ蒸着によって形成することは、RF(高周波)源を電源とする少なくとも1個の電極及び少なくとも1個の接地電極を有する容量結合型システムを有する好適な反応チャンバ内で行うことができる。ダイヤモンド様ガラス層を調製するための材料及び方法に関する詳細は、例えば米国特許第6,696,157号(デビッド(David)ら)及び同第6,878,419号(デビッド(David)ら)に見ることができる。
以下の非限定的な実施例によって本開示の目的及び利点を更に例示するが、これらの実施例に記載する特定の材料及びその量、並びに他の条件及び詳細は、本開示を不当に限定するものと解釈されるべきではない。
特に断らないかぎり、本実施例及び本明細書の残りの部分における部、百分率、比などはすべて重量に基づいたものである。特に断らないかぎり、すべての化学物質は例えばウィスコンシン州ミルウォーキー所在のアルドリッチ・ケミカル社(Aldrich Chemical Company)などの化学物質の供給元より入手したものであり、これらの供給元より販売されているものである。
調製例1
以下の説明では、(CHO)Si(CHS(CHOCHCF(OCFCF(OCFCFCHO(CH−S(CHSi(OCH(PE1)の調製について説明する。
熱電対、添加漏斗、及びオーバヘッドスターラーを備えた1Lの3つ口丸底フラスコ中で、FOMBLIN Z DOLパーフルオロポリエーテルジオール(157g、当量=950g/当量、m及びqは当量平均が950となるように変わる。ソルベイ・ソレクシス社(Solvay Solexis)(テキサス州ヒューストン)より入手)を、3M NOVEC HFE 7100ヒドロフルオロエーテル(150mL,スリーエム社(3M Company)(ミネソタ州セントポール)よりNOVEC ENGINEERED FLUID HFE 7100の商品名のものを入手)とジメトキシエタン(100mL)との混合物に溶解した。この混合物に、水酸化カリウム(14.0gを9mLの水に溶かしたもの)を加え、混合物を攪拌しながら40℃〜50℃に1時間加熱した。テトラブチルアンモニウムブロミド(3.0gを1mLの水に溶かしたもの)を加えた後、添加漏斗より臭化アリル(31g)を約1時間かけて滴下した。次いで反応混合物を45℃で16時間攪拌した。蒸留ヘッドを取り付け、ポット温度が約120℃に達するまで溶媒と水を蒸留した。この後、反応混合物を冷却し、0.02atm(2kPa)の真空をかけて温度を再び約120℃に昇温した。混合物をこの温度に約1時間保った。室温にまで冷却した後、250mLの3M NOVEC HFE 7100ヒドロフルオロエーテルを加え、混合物を真空下で焼結ガラスヌッチェに通して濾過して固形分を除去した。固形分を更に75mlの3M NOVEC HFE 7100ヒドロフルオロエーテルで洗浄した。濾液を1%塩酸で1回洗い、下層のフッ素化物相を分離し、回転蒸発によって溶媒を除去することによって158gのFOMLIN Z DOLのビス(アリルエーテル)を琥珀色の透明な液体として得た。赤外線分析により、パーフルオロポリエーテルジオールのO−H吸収バンドが完全に消失したことが示された。
このビス(アリルエーテル)(35.8g、0.017mol)、13.5gのHS(CHSi(OCH(0.067mol)、100gの酢酸エチル、及び0.16gの2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオニトリル)(イー・アイ・デュポン・ド・ネムール社(E.I. du Pont de Nemours and Co.)(デラウェア州ウィルミントン)よりVAZO 64として入手したもの)を、熱電対温度プローブ、磁気攪拌棒、及び水で満たされた凝縮器を備えた250mLの丸底フラスコ中、窒素雰囲気下で混ぜ合わせた。この混合物を、水アスピレータで真空引きし、Firestoneバルブを用いて乾燥窒素ガスで真空を破壊することを交互に行うことによって4回脱気してから、混合物を70℃に16時間加熱した。回転蒸発により溶媒を除去し、余分なメルカプトシラン開始物質を0.002atm(0.2kPa)で真空蒸留を行って除去することにより39.6gの(CHO)Si(CHS(CHOCHCF(OCFCF(OCFCF−CHO(CHS(CHSi(OCHを得た(M=2372g/mol)。
調製例2
以下の説明では、CFCFCFO[CF(CF)CFO]CF(CF)CHO(CHS(CHSi(OCH(PE2)の調製について説明する。
オーバヘッドスターラー、温度センサ、及び添加漏斗を備えた2Lの3つ口フラスコにイソプロピルアルコール(300mL)を入れ、水/氷浴により10℃未満に冷却した。水素化ホウ素ナトリウム(34g、0.9mol)を少量ずつ複数に分けて加えた。ヘキサフルオロプロピレンオキシドをオリゴマー化するための米国特許第3,350,808号に述べられるようにして基本的に調製したオリゴマー性アシルフルオリドのメタノリシスによって調製したCFCFCFO[CF(CF)CFO]CF(CF)COCH(979g,M=1379,0.71mol)を、窒素下で攪拌しながら滴下した。温度は0℃〜10℃に維持した。エステル付加はほぼ1時間で完了した。エステルの付加が完了した後、攪拌を継続しながら、温度を0℃〜10℃に維持して反応を更に3時間行った。この後、反応混合物を室温にまで昇温させ、一晩攪拌した。
この時点で粘稠となった混合物に塩化アンモニウムの水溶液(20重量%水溶液を600mL)を室温でゆっくりと滴下した。温度は冷却浴を用いて35℃以下に維持した。塩化アンモニウム溶液をすべて加えた後、混合物を約1時間室温で攪拌した。この時間の最後に攪拌を停止して各相を分離させた。上側の水層をサイホンで吸引して除去し、下側のアルコール相を500mlの脱イオン水によって更に2回洗浄した。残渣を3M NOVEC HFE 7100ヒドロフルオロエーテルに溶解し、塩酸で酸性にした水でもう一度洗浄した。相分離の後、残留溶媒をロータリーエバポレーターにより減圧下60℃で蒸留して除去してアルコールであるCFCFCFO[CF(CF)CFO]CF(CF)CHOH(M=1350g/mol)を無色の油状物として得た。
上記で調製したアルコール(503.8g、0.373mol)を、オーバヘッドスターラー、熱電対、添加漏斗、及び凝縮器を備えた2Lの3つ口丸底フラスコに入れた。このフラスコに、3M NOVEC HFE 7100ヒドロフルオロエーテル(475mL)、ジメトキシエタン(320mL)、及び水酸化カリウム(31.6gを30mLの水に溶かしたもの)を加え、混合物を攪拌しながら40℃〜50℃に1時間加熱した。テトラブチルアンモニウムブロミド(14.2gを約5mLの水に溶かしたもの)を加えた後、添加漏斗より臭化アリル(74.2g、0.61mol)を約1時間かけて滴下した。次いで反応混合物を16時間、45℃で攪拌した。蒸留ヘッドを取り付け、ポット温度が約120℃に達するまで溶媒と水を蒸留した。この後、反応混合物を冷却し、0.02atm(2kPa)の真空をかけて、温度を再び約120℃に昇温した。混合物をこの温度に約1時間保った。室温にまで冷却した後、500mLの3M NOVEC HFE 7100ヒドロフルオロエーテルを加え、混合物を真空下で焼結ガラスヌッチェに通して濾過して固形分を除去した。固形分を更に75mlの3M NOVEC HFE 7100ヒドロフルオロエーテルで洗浄した。濾液を2Nの塩酸で1回洗い、下層のフッ素化物相を分離し、回転蒸発によって溶媒を除去することによって496gの対応するアリルエーテルを琥珀色の透明な液体として得た。赤外線分析により、アルコールのO−H吸収バンドが完全に消失したことが示された。
このアリルエーテル(25g、0.018mol、M=1390g/mol)、HS(CHSi(OCH(14.5g、0.074mol)、50gの酢酸エチル、50gの3M NOVECHFE 7100ヒドロフルオロエーテル、及び0.1gの2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオニトリル)(イー・アイ・デュポン・ド・ネムール社(E.I. du Pont de Nemours and Co.)(デラウェア州ウィルミントン)よりVAZO 64として入手したもの)を、熱電対温度プローブ、磁気攪拌棒、及び水で満たされた凝縮器を備えた250mLの丸底フラスコ中、窒素雰囲気下で混ぜ合わせた。次いでこの混合物を、水アスピレータから真空を引き、Firestoneバルブを用いて乾燥窒素ガスで真空を破壊することを交互に行うことによって4回脱気し、混合物を70℃に16時間加熱した。溶媒を回転蒸発により除去し、残渣を、過フッ素化した液体(スリーエム社(3M Company)(ミネソタ州セントポール)よりPERFORMANCE FLUID PF−5060として入手したもの)に溶解し、溶液をメチルエチルケトンで洗浄した後、相分離及びフッ素化物相のメチルエチルケトンによる更なる洗浄を行って、余分な3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン出発材料を除去した。溶媒を回転蒸発により除去して20gのメルカプトシラン付加物であるCO[CF(CF)CFO]CF(CF)CHO(CHS(CHSi(OCH(M=1590g/mol)を得た。
調製例3
以下の説明では、CFCFCFO[CF(CF)CFO]CF(CF)CHO(CHS(CHSi(OCH(PE3)の調製について説明する。
CFCFCFO[CF(CF)CFO]CF(CF)COH(75g、0.013mol、イー・アイ・デュポン・ド・ネムール社(E.I. du Pont de Nemours and Co.)よりKRYTOX PERFORMANCE LUBRICANT 157 FSHとして入手したもの、M=5692)、及び塩化チオニル(156g、1.3mol)を、熱電対及び凝縮器を備えた250mLの丸底フラスコ中、窒素雰囲気下で混ぜ合わせた。この混合物に、約2mLのジメチルホルムアミドを加え、混合物を75℃に約18時間加熱した。反応混合物を冷却し、フッ素化された液体(スリーエム社(3M Company)よりFLUORINERT ELECTRONIC LIQUID FC−6003として入手したもの)及び少量の3M NOVEC HFE 7100ヒドロフルオロエーテルを混合物に加え、各相に分離させた。次に下側のフッ素化物相を分液漏斗に加え、過剰量のメタノールで直接処理することによって酸塩化物をメチルエステルに転換した。メタノールを除去し、エステルをメタノールでもう一度洗った。メタノールを回転蒸発によって除去することにより73.2gのメチルエステルであるCFCFCFO[CF(CF)CFO]CF(CF)COCHを得た。
中間体のアルコールCFCFCFO[CF(CF)CFO]CF(CF)CHOHは、以下の物質、すなわち、73.2gの上記で調製したメチルエステル(0.013mol)、2.0gの水素化ホウ素ナトリウム(0.053mol)、50mLのイソプロパノール、及び50mLの3M NOVEC HFE 7100ヒドロフルオロエーテルを用いて調製例2で述べた方法に基本的にしたがって調製した。冷浴を使用する代わりに室温で反応を行った。反応物を16時間攪拌した後、50mLの塩化アンモニウム溶液(20重量%水溶液)を加えてから約200mLの3M NOVEC HFE 7100ヒドロフルオロエーテルの追加分を加えた。フッ素化物相を分離し、少量の食塩水を加えた等容積の水で1回洗った。次いで回転蒸発により溶媒を除去し、生成物を更なる精製を行わずに使用した。
中間体のアリルエーテルであるCFCFCFO[CF(CF)CFO]CF(CF)CHOCHCH=CHは、調製例2の方法を改変したものにより調製した。オーバヘッドスターラー、熱電対、添加漏斗、及び凝縮器を備えた500mLの3つ口丸底フラスコにアルコールCFCFCFO[CF(CF)CFO]CF(CF)CHOH(42g、M=5628g/mol、0.0075mol)を入れた。このフラスコに、225mLの3M NOVEC HFE 7200ヒドロフルオロエーテル(475mL)、及び5mLの水に溶かした0.7gの水酸化カリウムを加え、混合物を攪拌しながら40℃に1時間加熱した。テトラブチルアンモニウムブロミド(1.0gを1mLの水に溶かしたもの)を加えてから、臭化アリル(6.5g、0.054mol)を加えた。次いで反応混合物を16時間、40℃で攪拌した。蒸留ヘッドを取り付け、ポット温度が約120℃に達するまで溶媒と水を蒸留した。この後、反応混合物を冷却し、0.02atm(2kPa)の真空をかけ、温度を再び約120℃に昇温した。混合物をこの温度に約1時間保った。室温にまで冷却した後、100mLの3M NOVEC HFE 7100ヒドロフルオロエーテルを加え、混合物を真空下で焼結ガラスヌッチェに通して濾過し固形物を除去した。固形物を更に75mlの3M NOVEC HFE 7100ヒドロフルオロエーテルで洗浄した。濾液を約10gのシリカゲル及び20gの濾過助剤で処理してから再濾過してわずかな曇りを除去することによって37.5gの対応するアリルエーテルCFCFCFO[CF(CF)CFO]CF(CF)CHOCHCH=CHを透明な油状物として得た。
このアリルエーテル(10.4g、0.0018mol、M=5668g/mol)、1.3gのHSCHCHCHSi(OCH(0.007mol)、10gの酢酸エチル、25gの3M NOVEC HFE 7200ヒドロフルオロエーテル、及び0.1gの2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオニトリル)(イー・アイ・デュポン・ド・ネムール社(E.I. du Pont de Nemours.)よりVAZO 64として入手したもの、0.1g)を、熱電対温度プローブ、磁気攪拌棒、及び水で満たされた凝縮器を備えた100mLの丸底フラスコ中、窒素雰囲気下で混ぜ合わせた。次いでこの混合物を、水アスピレータから真空を引き、Firestoneバルブを用いて乾燥窒素ガスで真空を破壊することを交互に行う標準的な方法によって4回脱気し、混合物を75℃に16時間加熱した。溶媒を回転蒸発により除去し、残渣を、過フッ素化した液体(スリーエム社(3M Company)よりPERFORMANCE FLUID PF−5060として入手したもの)に溶解し、PF−5060溶液をメチルエチルケトンで洗浄した後、相分離を行うことにより余分なメルカプトシラン出発材料を除去した。溶媒を回転蒸発により除去して9.6gのCFCFCFO[CF(CF)CFO]CF(CF)CHO(CHS(CHSi(OCH(M=5860g/mol)を得た。
調製例4
以下の説明では、(CHCHO)Si(CHS(CHOCHCF(CF)[OCFCF(CF)]O(CFO−[(CF(CF)CFO]CF(CF)CHO(CHS(CHSi(OCHCHの調製について説明する。
このシランは、以下の投入材料を使用し、以下のように溶媒を変更した以外は、基本的に実施例1と同様にして調製した。すなわち、中間体のフルオロケミカルジオールはテトラフルオロスクシニルフルオライドとヘキサフルオロプロピレンオキシドとの反応から得られた、異性体の混合物からなるものであり(m+n=0〜2)、基本的に米国特許第3,574,770号(スタンプ(Stump, Jr.)ら)に述べられるようにして調製したものである。中間体のビス(アリル)エーテルは、以下のようにしてこのジオールから調製した。オーバヘッドスターラー、熱電対、添加漏斗、及び凝縮器を備えた500mLの3つ口丸底フラスコにジオール(100g、M=1220g/mol、0.082mol)を入れた。このフラスコに、150mLの3M NOVEC HFE 7200ヒドロフルオロエーテル、100mLのジメトキシエタン、及び9mLの水に溶かした14gの水酸化カリウム(0.21mol)を加えた後、混合物を40℃〜50℃に加熱して1時間攪拌した。テトラブチルアンモニウムブロミド(3gを約1mLの水に溶かしたもの)を加えた後、添加漏斗より31gの臭化アリル(0.256mol)を約1時間かけて滴下した。次いで反応混合物を16時間、45℃で攪拌した。蒸留ヘッドを取り付け、ポット温度が約120℃に達するまで溶媒と水を蒸留した。この後、反応混合物を冷却し、0.02atm(2kPa)の真空をかけ、温度を再び約120℃に昇温した。混合物をこの温度に約1時間保った。室温にまで冷却した後、250mLの3M NOVEC HFE 7100ヒドロフルオロエーテルを加え、混合物を真空下で焼結ガラスヌッチェに通して濾過して固形物を除去した。固形物を更に75mlの3M NOVEC HFE 7100ヒドロフルオロエーテルで洗浄した。濾液を1重量%の塩酸で1回洗い、下側のフッ素化物相を分離して更なる精製を行わずに使用し、92gの対応するビス(アリルエーテル)(M=1302g/mol)を得た。
このビス(アリルエーテル)(25g、0.019mol)、18.3gのHSCHCHCHSi(OCHCH(0.078mol)、100gの酢酸エチル、及び0.1gの2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオニトリル)(イー・アイ・デュポン・ド・ネムール社(E.I. du Pont de Nemours and Co.)よりVAZO 64として入手したもの)を、熱電対温度プローブ、磁気攪拌棒、及び水で満たされた凝縮器を備えた250mLの丸底フラスコ中、窒素雰囲気下で混ぜ合わせた。次いでこの混合物を、水アスピレータから真空を引き、Firestoneバルブを用いて乾燥窒素ガスで真空を破壊することを交互に行う標準的な方法によって4回脱気し、混合物を65℃に16時間加熱した。溶媒を回転蒸発により除去し、残渣を、過フッ素化した液体(スリーエム社(3M Company)よりPERFORMANCE FLUID PF−5060として入手したもの)に溶解し、混合物をメタノールで洗浄することによって余分なメルカプトシラン出発材料を除去した。溶媒を回転蒸発により除去して12.9gの対応するメルカプトシラン生成物(CHCHO)Si(CHS(CHOCHCF(CF)[OCFCF(CF)]O(CFO−[(CF(CF)CFO]CF(CF)CHO(CHS(CHSi(OCHCH(M=1774g/mol)を得た。
調製例5
以下の説明では、CFCFCFO[CF(CF)CFO]CFC(=O)NHCHCHCHSi(OCH(PE5)の調製について説明する。
ガラスボトル中で、CFCFCFO[CF(CF)CFO]CF(CF)COCH(13.79g,M=1379,0.01mol)と、4gのHNCHCHCHSi(OCH(2モル当量の過剰量)とを混合し、窒素でパージした後、室温で24時間攪拌した。次いで得られた透明な反応混合物を別の漏斗中でメタノール(5×50gの分量)で洗浄した。下側の部分を回収し、真空ポンプにより3時間室温で乾燥してCFCFCFO[CF(CF)CFO]CFC(=O)NHCHCHCHSi(OCH(1510g/mol)を得た。
ケイ素含有層のプラズマ蒸着方法
1.34mの低出力電極及び中央部ガスポンプ排気を備え、反応性イオンエッチング(RIE)用に構成されたPlasma−Therm Model 3032バッチリアクター(プラズマサーム社(Plasma-Therm, LLC)(フロリダ州セントピーターズバーグ)より入手したもの)を使用してケイ素含有層を蒸着した。チャンバは、乾式燥機械ポンプ(アブソルート・バキューム・プロダクツ社(Absolute Vacuum Products Limited)(英国、ウェストサセックス)より入手したEdwards Model iQDP80)によって支援されたルーツブロワ(アブソルート・バキューム・プロダクツ社(Absolute Vacuum Products Limited)(英国、ウェストサセックス)より入手したEdwards Model EH1200)によって排気した。RF出力は、インピーダンス整合ネットワークを通じて5kW、13.56MHzの固体素子発振器(アドバンスド・エアジー・インダストリー社(Advanced Energy Industries)(コロラド州フォートコリンズ)より入手したRFPP Model RF50S0)によって供給した。このシステムの公称ベース圧力は0.666Paであった。ガス流量は、MKS流量調整装置(エム・ケー・エス・インスツルメンツ社(MKS Instruments)(マサチューセッツ州アンドーバー)より入手したもの)によって制御した。
各基材の試料を、上記に述べたバッチ式プラズマ装置の電力供給された電極上に置いた。一連の処理工程でプラズマ処理を行った。先ず、酸素ガスを500標準状態cm/分の流量及び500Wのプラズマ出力で60秒間流すことによって基材を酸素プラズマで処理した。酸素プラズマ処理の後、テトラメチルシランガスを150標準状態cm/分の流量、500Wのプラズマ出力で4秒間流すことによってダイヤモンド様ガラスのフィルムを蒸着した。ダイヤモンド様ガラスの膜の蒸着後、基材を、500標準状態cm/分の流速、500Wのプラズマ出力で60秒間、酸素プラズマに曝露した。
コーティング組成物によるステンレス鋼金具のコーティング方法
DLGコーティングを蒸着するのに先立って、基材(コーラー社(Kohler Company)(ウィスコンシン州コーラー)より入手したステンレス鋼金具)を、最初にイソプロピルアルコール(IPA)中に浸漬し、次いで、コットンワイプ(アイ・ティー・ダブリュー・テックスワイプ社(ITW Texwipe Company)(ノースカロライナ州カーナーズウィル)よりTEXWIPE TX309として入手したもの)で擦ることによってコーティング組成物でコーティングするための前処理を行った。次いで、上記に述べたケイ素含有層のプラズマ蒸着方法にしたがって、試験基材をダイヤモンド様ガラス(DLG)コーティングでコーティングした。DLGの蒸着後、各物品を各コーティング配合物中に浸漬し、それ自体を250℃のオーブン中、大気圧で約30分間乾燥した。次いで、各物品を室温にまで冷却し、TEXWIPES TX 309コットンワイプで3回拭いた。
洗浄容易性(easy cleanability)の試験方法
コーティングした基材の洗浄容易性を、以下のようなシャーピー(Sharpie)試験を用いて試験した。すなわち、青い油性マジック(サンフォード社(SanfordCorporation)(イリノイ州オークブルック)よりSHARPIEとして入手したもの)をこの目的で使用して物品の同じ位置に3回印をつけた。洗浄容易性の評価が1である場合、印がビーズ状になって物品上に書くことができなかったことを意味する。洗浄容易性の評価が5である場合、印を拭き取ることが極めて困難であったことを意味する。中間の評価は1〜5のスケールで評価した。示した評価は3回の試験の平均である。コーティングした試料を、蒸留水を満たした500mLのガラスボトル中に浸漬し、75℃に設定したオーブン中に100時間置くことによって水処理した。この手順をこれらの水処理した試料で繰り返し、結果に応じて評価した。水処理後の洗浄容易性の評価が1又は2である場合には満足する効果を意味し、3〜5の評価は許容できない効果を意味する。
実施例1〜6及び比較実施例1〜12
表に示したシラン化合物を3M NOVEC HFE 7100ヒドロフルオロエーテルに加えて表に示した濃度とすることによって実施例1〜6のコーティング組成物及び比較例1〜14のコーティング組成物を調製した。比較例10は、4.5gの上記に述べたようにして調製した調製例5のシラン化合物CFCFCFO[CF(CF)CFO]CFC(=O)NHCHCHCHSi(OCH、及び0.5gのECC−1000 EASY CLEAN COATING溶液(スリーエム社(3M Company)より入手したもの)を、95gの3M NOVEC HFE 7100ヒドロフルオロエーテルに混合することによって調製した。比較例11は、5gのECC−1000 EASY CLEAN COATING溶液を95gの3M NOVEC HFE 7100ヒドロフルオロエーテルに混合することによって調製し、比較例12は、5gのNOVEC EGC−1720 ELECTRONIC COATING溶液(スリーエム社(3M Company)より入手したもの)を95gの3M NOVEC HFE 7100ヒドロフルオロエーテルに混合することによって調製した。次いで実施例1〜6並びに比較例1〜12及び14の組成物を、上記に述べたコーティング組成物によるステンレス鋼金具のコーティング方法にしたがって、ステンレス鋼金具の試料にコーティングした。比較例13は、DLGによってコーティングしていないが、その他の点では他の試料と同様に処理したステンレス鋼金具の試料にコーティングした。次いでコーティングした各試料を、上記に述べた洗浄容易性の試験方法にしたがって洗浄容易性について試験した。実施例1〜6及び比較例1〜12のそれぞれについて、温水処理の前後における洗浄容易性を表1に示す。表1(下記)において、「wt%」とは重量%を意味する。
Figure 2013531718

本明細書において引用した特許及び刊行物はすべて、それらの全容を本明細書に援用するものである。当業者であれば本開示の範囲及び趣旨から逸脱することなく本開示の様々な改変及び変更を行うことが可能であり、また、本開示は上記に記載した例示的な実施形態に不要に限定されるべきではない点は理解されるべきである。

Claims (18)

  1. (a)51〜95重量部の下式:
    faO(CF(CF)CFO)CF(CF)CHOZSi(Y
    により表される第1のポリフルオロポリエーテルシランと、[式中、
    は、−R−S−R−、−R−S(=O)−R−、又は−R−S(=O)−R(式中、R及びRは、独立して、1〜12個の炭素原子を有するアルキレン基を表す。)を表し、
    各Yは、独立して加水分解性基を表し、
    faは、1〜12個の炭素原子を有するパーフルオロアルキル基を表し、
    場合により少なくとも1個の鎖中連結された酸素原子又は−NR−基(式中、Rは、パーフルオロアルキル基を表す。)で置換され、
    pは、3〜50の範囲の数である。]
    (b)5〜49重量部の下式:
    fb[RCHOZSi(Yにより表される第2のポリフルオロポリエーテルシランと、
    [式中、
    各Zは、独立して、−R−S−R−、−R−S(=O)−R−、又は
    −RS(=O)−Rを表し(式中、R及びRは、独立して、1〜12個の炭素原子を有するアルキレン基を表す。)、
    各Yは、独立して加水分解性基を表し、
    各Rは、独立して共有結合、又は−(OR)b−を表し(式中、各Rは、独立して分枝したパーフルオロアルキレン基を表し、各bは、独立して1以上の数を表す。)
    fbは、少なくとも3個の炭素原子を有するパーフルオロアルキレン基を表し、場合により少なくとも1個の鎖中連結された酸素原子又は
    −NR−基(式中、Rは、パーフルオロアルキル基を表す。)で置換されている。]と、を含むフッ素化組成物。
  2. 前記第2のポリフルオロポリエーテルシランが、下式:
    (YSiZOCHCFCFCHOZSi(Y
    [式中、Rは、1〜50個の−OCFCF−基が3〜40個の−OCF−基とランダムに混在して構成される2価の基である。]により表される、請求項1に記載のフッ素化組成物。
  3. が、下式:
    −RSR
    により表される2価の基であり、R及びRのそれぞれが独立して、1〜12個の炭素原子を有するアルキレン基を表す、請求項1又は2に記載のフッ素化組成物。
  4. が、
    −CHCHCHSCHCHCH
    である、請求項1〜3のいずれか一項に記載のフッ素化組成物。
  5. が、下式:
    −RSR
    により表される2価の基であり、R及びRのそれぞれが独立して、1〜12個の炭素原子を有するアルキレン基を表す、請求項1〜4のいずれか一項に記載のフッ素化組成物。
  6. が、
    −CHCHCHSCHCHCH
    である、請求項1〜5のいずれか一項に記載のフッ素化組成物。
  7. 前記第1のポリフルオロポリエーテルシラン及び前記第2のポリフルオロポリエーテルシランの合計重量に対して60〜95重量部の前記第1のポリフルオロポリエーテルシランを含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載のフッ素化組成物。
  8. 60〜75重量部の前記第1のポリフルオロポリエーテルシランを含む、請求項1〜7のいずれか一項に記載のフッ素化組成物。
  9. 基材を塗装する方法であって、請求項1〜8のいずれか一項に記載のフッ素化組成物を当該基材の表面の少なくとも一部に付着させることを含む方法。
  10. 前記基材の前記表面が、プラズマ蒸着によって形成されたケイ素、酸素、及び水素を含む層を有する、請求項9に記載の方法。
  11. 前記プラズマ蒸着がイオン支援プラズマ蒸着を含む、請求項10に記載の方法。
  12. 前記基材の前記表面がダイヤモンド状ガラスを含む、請求項10又は11に記載の方法。
  13. 前記フッ素化組成物が、熱蒸発及び凝縮によって前記基材の前記表面に付着される、請求項9〜12のいずれか一項に記載の方法。
  14. 前記基材の前記表面の前記少なくとも一部が金属を含む、請求項9〜13のいずれか一項に記載の方法。
  15. 前記基材の前記表面の前記少なくとも一部がセラミックを含む、請求項9〜14のいずれか一項に記載の方法。
  16. 前記基材の前記表面の前記少なくとも一部がガラスを含む、請求項9〜15のいずれか一項に記載の方法。
  17. 前記基材が、台所備品、浴室備品、又は家庭機器からなる群から選択される、請求項9〜16のいずれか一項に記載の方法。
  18. 請求項9〜17のいずれか一項に記載の方法にしたがって調製された塗装基材を含む物品。
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