JP2013527979A - レーザビーム分析装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 装置は、加工用途で使用される光学素子を採用しており、集光レンズおよびカバーガラスを含む。減衰モジュールは、平行に且つ互いに間隔をあけて、共通するレーザビームの入射角で載置される一対の高反射ミラー板を含む。ビームダンプは、レーザビームの進行経路から外れたところにおいて、第1および第2ミラーによって反射させられた光を受光するように位置決めされる。カメラは、第1および第2ミラーを透過した光のスポットを検出する。高反射ミラー対によって形成された高出力減衰器は、供給源および減衰モジュールの間に位置決めされる。第2実施形態は、高反射面を有する単一のミラー板を含む。
【選択図】図2
Description
12 レーザビーム
14 減衰モジュール(ミラー対)
16 第1ミラー
18 第2ミラー
20 第1高反射ミラー板
22 ビームダンプ
24 第2高反射ミラー板
26 ビームダンプ
28 ダブプリズム
30 カメラ
32 集光レンズ
34 ビームダンプ
36 カメラ
38 ミラー
Claims (19)
- 高出力レーザビームの分析を可能にする装置であって、
互いに平行に且つ間隔をあけて、共通するレーザビームの入射角で載置される一対の高反射ミラー板を含む減衰マルチスポットモジュールと、
前記対は、前記レーザビームの供給源と対向する第1面に反射防止コーティングを有すると共に、前記供給源から離れる方向を向く第2面に高反射コーティングを有する第1ミラーを含み、
前記対は、前記供給源から離れる方向を向く第2面に反射防止コーティングを有すると共に、前記供給源と対向する第1面に高反射コーティングを有する第2ミラーを含み、
前記レーザビームの進行経路から外れたところに、前記第1および第2ミラーによって反射された光を受光するように位置決めされる第1ビームダンプと、
前記第1および第2ミラーを透過する光のスポットを検出する第1カメラを含むことにより、
前記レーザビームは、前記第1カメラによって分析されるように、実質的に減衰させられる
装置。 - 前記供給源および前記減衰マルチスポットモジュールの間に載置される集光レンズを更に含む請求項1の装置。
- 前記供給源および前記集光レンズの間に載置されるダブプリズムを更に含む請求項2の装置。
- 前記レーザビームの進行経路から外れたところに載置される第2カメラを更に含み、
前記ダブプリズムは、前記レーザビームからの光の少なくともいくらかを前記第2カメラへ反射させる第1反射面を有する
請求項3の装置。 - 高反射ミラー対によって形成される高出力減衰器と、
前記高出力減衰器は、前記供給源および前記ダブプリズムの間に載置され、
前記ミラー対は、前記供給源と対向する第1面を有する第1高反射ミラーを含み、
前記ミラー対は、前記供給源と対向する第1面を有する第2高反射ミラーを含み、
前記レーザビームの進行経路から外れたところに載置される第2ビームダンプと、
前記第1高反射ミラーは、前記供給源からの光を前記第2ビームダンプへ反射させるものであり、
前記レーザビームの進行経路から外れたところに載置される第3ビームダンプとを含み、
前記第2高反射ミラーは、前記供給源からの光を前記第3ビームダンプへ反射させる
請求項4の装置。 - 前記第1高反射ミラーは、前記レーザビームの進行経路に対して約45度の角度で位置決めされ、且つ
前記第2高反射ミラーは、前記レーザビームの進行経路に対して135度の角度で位置決めされることにより、
前記第1高反射ミラーは、前記進行経路における変位を生じさせ、前記第2高反射ミラーは、前記レーザビームを前記進行経路へ戻す
請求項5の装置。 - 前記第1カメラはピクセル検出器であることを更に含む請求項1の装置。
- 前記第2カメラはピクセル検出器であることを更に含む請求項4の装置。
- 高出力レーザビームの分析を可能にする装置であって、
予め定められたレーザビームの入射角で載置される高反射ミラー薄板を含む減衰マルチスポットモジュールと、
前記高反射ミラー板は、前記レーザビーム供給源と対向する第1面に高反射コーティングを有すると共に、前記供給源から離れる方向を向く第2面に高反射コーティングを有する第1面を含み、
前記レーザビームの進行経路から外れたところに、前記高反射ミラー板によって反射された光を受光するように位置決めされる第1ビームダンプと、
前記高反射ミラー板を透過する光のスポットを検出する第1カメラとを含み、
前記レーザビームは、前記第1カメラによって分析されるように、実質的に減衰される
装置。 - 前記供給源および前記減衰マルチスポットモジュールの間に載置される集光レンズを更に含む請求項9の装置。
- 前記供給源および前記集光レンズの間に載置されるダブプリズムを更に含む請求項10の装置。
- 前記レーザビームの進行経路から外れたところに載置される第2カメラを更に含み、
前記ダブプリズムは、前記レーザビームからの光の少なくともいくらかを前記第2カメラへ反射させる第1反射面を有する
請求項11の装置。 - 高反射ミラー対によって形成される高出力減衰器と、
前記高出力減衰器は前記供給源および前記ダブプリズムの間に載置され、
前記ミラー対は、前記供給源と対向する第1面を有する第1高反射ミラーを含み、
前記ミラー対は、前記供給源と対向する第1面を有する第2高反射ミラーを含み、
前記レーザビームの進行経路から外れたところに載置される第2ビームダンプと、
前記第1高反射ミラーは、前記供給源からの光を前記第2ビームダンプへ反射させ、
前記レーザビームの進行経路から外れたところに載置される第3ビームダンプとを含み、
前記第2高反射ミラーは、前記供給源からの光を前記第3ビームダンプへ反射させる
請求項12の装置。 - 前記第1高反射ミラーは、前記レーザビームの進行経路に対して45度の角度で位置決めされ、且つ
前記第2高反射ミラーは、前記レーザビームの進行経路に対して135度の角度で位置決めされており、
前記第1高反射ミラーは、前記進行経路における変位を生じさせ、前記第2高反射ミラーは、前記レーザビームを前記進行経路へ戻す
請求項13の装置。 - 前記第1カメラはピクセル検出器であることを更に含む請求項9の装置。
- 前記第2カメラはピクセル検出器であることを更に含む請求項12の装置。
- レーザビーム供給源から放射されたレーザビームの分析を可能にする装置であって、
前記レーザビームの供給源と対向する第1面に反射防止コーティングを有すると共に、前記供給源から離れる方向を向く第2面に前記レーザビームの1パーセント(1%)よりも少なくを透過させる非吸収高反射コーティングを有する第1ミラーを含むファブリー・ペロー共振器と、
前記ファブリー・ペロー共振器は、前記供給源から離れる方向を向く第2面に反射防止コーティングを有すると共に、前記供給源と対向する第1面に、前記レーザビームの1パーセント(1%)よりも少なくを透過させる非吸収高反射コーティングを有する第2ミラーを含み、
前記第1および第2ミラーは、前記レーザビームの進行経路において、互いに間隔をあけて平行に、且つ軸方向に整列されて載置され、前記第1および第2ミラーは、前記レーザビームに対して、0度より大きく且つ5度よりも小さい角度で傾斜させられ、
前記レーザビーム供給源および前記ファブリー・ペロー共振器の間に載置される集光レンズと、
前記集光レンズおよび前記ファブリー・ペロー共振器を透過する光のスポットを検出する第1ピクセル検出器とを含み、
前記集光レンズ、ファブリー・ペロー共振器、および第1ピクセル検出器は、前記レーザビームの進行経路において、互いに軸方向に整列されており、前記集光レンズは前記レーザビーム供給源の最も近くにあり、前記第1ピクセル検出器は前記レーザビーム供給源から最も離れており、前記ファブリー・ペロー共振器は、前記集光レンズおよび前記ピクセル検出器の間に載置されており、
前記レーザビームが前記第1ピクセル検出器によって分析されるように、前記レーザビームは実質的に減衰され、且つ透過光は、前記ファブリー・ペロー共振器の各往復で、空間的に水平方向にオフセットされると共に、時間遅延が生じさせられる
装置。 - 前記レーザビーム供給源からの光が未加工であると共に集束していないように、前記レーザビーム供給源および前記集光レンズの間に載置されるダブプリズムを更に含む請求項17の装置。
- 前記レーザビームの進行経路から外れたところに載置される第2ピクセル検出器を更に含み、
前記ダブプリズムは、前記レーザビームからの光の少なくともいくらかを前記第2ピクセル検出器へ反射させる第1反射面を有し、
前記第2ピクセル検出器は、未加工であり集束していないレーザビームを測定する
請求項18の装置。
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