JP2013527028A - 浸漬型反応器 - Google Patents

浸漬型反応器 Download PDF

Info

Publication number
JP2013527028A
JP2013527028A JP2013504180A JP2013504180A JP2013527028A JP 2013527028 A JP2013527028 A JP 2013527028A JP 2013504180 A JP2013504180 A JP 2013504180A JP 2013504180 A JP2013504180 A JP 2013504180A JP 2013527028 A JP2013527028 A JP 2013527028A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mixing
water
suction chamber
pipe
chlorine dioxide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013504180A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5850913B2 (ja
Inventor
ドゥーフェ ヨハネス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Evonik Operations GmbH
Original Assignee
Infracor GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Infracor GmbH filed Critical Infracor GmbH
Publication of JP2013527028A publication Critical patent/JP2013527028A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5850913B2 publication Critical patent/JP5850913B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
    • C02F1/76Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with halogens or compounds of halogens
    • C02F1/763Devices for the addition of such compounds in gaseous form
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/20Mixing gases with liquids
    • B01F23/23Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
    • B01F23/232Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids using flow-mixing means for introducing the gases, e.g. baffles
    • B01F23/2323Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids using flow-mixing means for introducing the gases, e.g. baffles by circulating the flow in guiding constructions or conduits
    • B01F23/23231Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids using flow-mixing means for introducing the gases, e.g. baffles by circulating the flow in guiding constructions or conduits being at least partially immersed in the liquid, e.g. in a closed circuit
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/20Mixing gases with liquids
    • B01F23/23Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
    • B01F23/237Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids characterised by the physical or chemical properties of gases or vapours introduced in the liquid media
    • B01F23/2376Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids characterised by the physical or chemical properties of gases or vapours introduced in the liquid media characterised by the gas being introduced
    • B01F23/23763Chlorine or chlorine containing gases
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/40Mixing liquids with liquids; Emulsifying
    • B01F23/45Mixing liquids with liquids; Emulsifying using flow mixing
    • B01F23/454Mixing liquids with liquids; Emulsifying using flow mixing by injecting a mixture of liquid and gas
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F25/00Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
    • B01F25/30Injector mixers
    • B01F25/31Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows
    • B01F25/312Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows with Venturi elements; Details thereof
    • B01F25/3124Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows with Venturi elements; Details thereof characterised by the place of introduction of the main flow
    • B01F25/31243Eductor or eductor-type venturi, i.e. the main flow being injected through the venturi with high speed in the form of a jet
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/26Nozzle-type reactors, i.e. the distribution of the initial reactants within the reactor is effected by their introduction or injection through nozzles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J4/00Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
    • B01J4/001Feed or outlet devices as such, e.g. feeding tubes
    • B01J4/002Nozzle-type elements
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B11/00Oxides or oxyacids of halogens; Salts thereof
    • C01B11/02Oxides of chlorine
    • C01B11/022Chlorine dioxide (ClO2)
    • C01B11/023Preparation from chlorites or chlorates
    • C01B11/024Preparation from chlorites or chlorates from chlorites
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
    • C02F1/76Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with halogens or compounds of halogens
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/68Treatment of water, waste water, or sewage by addition of specified substances, e.g. trace elements, for ameliorating potable water
    • C02F1/685Devices for dosing the additives
    • C02F1/686Devices for dosing liquid additives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2103/00Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
    • C02F2103/02Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply
    • C02F2103/023Water in cooling circuits

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geology (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)

Abstract

本発明は、第1の反応成分を供給する第1の供給管路(5a)と、第2の反応成分を供給する第2の供給管路(5b)と、両反応成分を混合して反応させ、二酸化塩素を生成する混合管(2)であって、一端において、両供給管路(5a,5b)が開口し、他端において、二酸化塩素濃度を高めたい供給水をノズル(12)によって噴入可能なサクションチャンバ(4)が配置されている混合管(2)と、サクションチャンバ(4)から下流に延びる排水管路(13)と、を備える、二酸化塩素を水に添加する装置(1)に関する。本発明の課題は、このような装置を改良して、装置が簡単かつ頑強に形成されており、2つの反応成分に基づく種々異なる二酸化塩素合成の安全な実施を可能にすることである。この課題は、混合管(2)に、二酸化塩素濃度を高めたい、反応成分を含まない混入水を混入させる混入開口(10)を設けることにより解決される。

Description

本発明は、請求項1の前段部に記載の二酸化塩素を水に添加する装置に関する。さらに本発明は、塩素ガスを水に添加する装置及び本発明に係る装置が沈められている水槽に関する。
この種の装置は、国際公開第2004078648号パンフレット及び国際公開第2003000586号パンフレットの組み合わせにおいて公知である。
二酸化塩素(ClO)は、水の殺菌時に殺生物剤として使用される毒性の高い爆発性の化学物質である。水の例は、飲料用水、プール用水又は工業用水、特に冷却水である。
二酸化塩素の危険性及び低安定性に基づいて、二酸化塩素は、輸送や保管に向かず、その代わりに直接使用現場において、特に処理したい水中で合成される。
二酸化塩素の多様な合成法が公知である。工業規模で二酸化塩素は、しばしば亜塩素酸ナトリウム又は塩素酸ナトリウムから、塩酸、塩素又は硫酸/過酸化水素の使用下で生成される。
亜塩素酸塩/酸法では、塩酸(HCl)を亜塩素酸ナトリウム(NaClO)と反応させて、二酸化塩素、水(HO)及び食塩(NaCl)を生成する:
Figure 2013527028
亜塩素酸塩/塩素法では、反応の化学量論的関係は次式で表される:
Figure 2013527028
塩素酸塩法では、硫酸(HSO)を過酸化水素(H)及び塩素酸ナトリウム(NaClO)と反応させて、二酸化塩素、硫酸ナトリウム(NaSO)、酸素(O)及び水を生成する:
Figure 2013527028
ドイツ連邦共和国実用新案第202004005755号明細書において公知の、二酸化塩素を水に添加する装置では、二酸化塩素を形成する2つの反応成分が、水管路内に設置された混合管に導入される。この水管路を介して、処理したい水が供給・排出される。両側で開放した混合管は、同軸的に水管路内を延在する。この装置の欠点は、混合管が流動抵抗として水管路内に乱流を惹起することにあり、乱流は、混合管内に伝わり、反応に悪影響を及ぼす。
直接国際公開第2003000586号パンフレットの参照を指示する国際公開第2004078648号パンフレットにおいて公知の、本発明の前提をなす装置では、混合管が水管路外に存在している。水管路中には、むしろサクションチャンバが配置されている。サクションチャンバには、処理したい供給水が、先細りしたノズルによって噴入される。サクションチャンバの横断面は、ノズル、及びサクションチャンバから続く排水管路と比較して、明らかに大きいので、サクションチャンバ内に負圧が発生する。サクションチャンバには、排水管路に対して半径方向で延びる混合管が開口している。混合管に開口する2つの供給管路を介して、それぞれ1つの反応成分、すなわち水性の硫酸と、過酸化水素中に含まれる塩素酸ナトリウムとが、混合管に供給される。上述の負圧は、混合管を通してこれらの成分を吸い込む。混合管内でこれらの成分は、混合され、塩素酸塩法にしたがって反応して、特に二酸化塩素を生成する。
次に、サクションチャンバ内で、噴入された水による反応混合物の希釈がなされる。その結果、排水管路を介して所望の二酸化塩素含有量を有する水が装置を後にする。
強い発熱性を示す硫酸法を制御するために、水性の硫酸のための供給管路に冷却装置が設けられている。これにより、装置の構造は、比較的複雑化してしまう。
特開2002−220207号公報において公知の、二酸化塩素を水に添加する装置は、次亜塩素酸塩/亜塩素酸塩に基づく方法を2段階で実施する:
1段目:
Figure 2013527028
2段目:
Figure 2013527028
このために、まず、2つの反応成分、すなわち次亜塩素酸ナトリウム(NaClO)と塩酸(HCl)とが、混合され、混合管の第1の区分において反応させられる。第1の区分の終端には、混入開口が配置されている。混入開口を通して、亜塩素酸ナトリウム(NaClO)が第3の反応成分として混入される。
次に、混合管の第2の区分内で2段目の反応が起こる。2段目の反応において最終的に二酸化塩素が発生する。混合管の第2の区分の端部には、サクションチャンバが配置されている。サクションチャンバ内で、二酸化塩素は、二酸化塩素濃度を高めたい水と混合され、排水管路を介して排出される。
1段目の反応において毒性の高い塩素ガスClが発生するので、この装置においては、常に、塩素ガスClが混入開口を通して外部に逃げることがないようになっていなければならない。
欧州特許出願公開第0119686号明細書において公知の、水中の二酸化塩素濃度を高める装置では、両反応成分が専ら水ジェットポンプによって圧送される。成分の調量は、適当な弁を介して実施される。この解決手段の欠点は、これらの弁が比較的手間を要して調整されねばならないことにある。このために、成分の供給管路中に体積流量計が必要である。
最後に、ドイツ連邦共和国特許出願公開第102008049734号公報において公知の、不連続式の二酸化塩素製造方法及び二酸化塩素製造装置では、装置が水中に配置される。バッチ運転の欠点は、反応運転及び洗浄運転の必要な制御である。
これらの従来技術に関して、本発明の課題は、冒頭で述べた本発明の前提をなす装置を改良して、装置が簡単かつ頑強に形成されており、2つの反応成分に基づく種々異なる二酸化塩素合成の安全な実施を可能にすることである。
この課題は、混合管に、二酸化塩素濃度を高めたい、反応成分を含まない混入水を混入させる混入開口を設けることにより解決される。
したがって本発明の対象は、第1の反応成分を供給する第1の供給管路と、第2の反応成分を供給する第2の供給管路と、両反応成分を混合して反応させ、二酸化塩素を生成する混合管であって、一端において、両供給管路が開口し、他端において、二酸化塩素濃度を高めたい供給水をノズルによって噴入可能なサクションチャンバが配置されている混合管と、サクションチャンバから下流に延びる排水管路と、を備える、二酸化塩素を水に添加する装置であって、混合管が、二酸化塩素濃度を高めたい、反応成分を含まない混入水を、混合管に混入させる少なくとも1つの混入開口を有する、二酸化塩素を水に添加する装置である。
本発明の基本思想は、保護作用を有する混合管内で、二酸化塩素を得る成分の反応を比較的高濃度で実施し、反応の終了後、発生した二酸化塩素をサクションチャンバへの流入前に急激に混入水により希釈することにある。その結果、高濃度で存在する二酸化塩素の分解は阻止され、かつ二酸化塩素の濃度は、既に混合チャンバ内で安全な領域にシフトされる。
原則的には、混入開口を開口部の上流に配置することも可能である。しかし、上流への配置は、過度に速い希釈につながるので、開口部から流出する反応成分がもはや完全には反応しなくなってしまう場合がある。このことを回避するために、混入開口は、好ましくは、供給管路の、混合管への両開口部の下流に配置されている。
既に従来技術において実証されているように、ノズルと排水管路とは、サクションチャンバの領域で、互いに同軸的に配置されているとよい。
混合管が、少なくともサクションチャンバの領域で、ノズル及び排水管路に対して半径方向に延在するようにした装置の一態様も実証されている。
上述の態様は、混合管の、サクションチャンバとは反対側の端部を閉鎖し、両供給管路が貫通するベースプレートと、混合管にベースプレートとサクションチャンバとの間で軸方向力を加えるクランプセットとにより、特に好ましく改変される。本態様は、機械的に特に安定であるので、本態様に係る装置は、混合管内での成分の爆発にも耐え得る。
サクションチャンバに対して混合管を半径方向に配向する代わりに、混合管は、少なくともサクションチャンバの領域で、ノズル及び排水管路に対して同軸的に延在してもよい。
好ましくは、本発明に係る装置は、塩酸と亜塩素酸ナトリウムとを反応させて二酸化塩素を特に大量に生成するために使用される。硫酸/亜塩素酸ナトリウム及び塩素/塩化ナトリウムの出発原料ペアの使用も可能である。相応の方法は、国際公開第2009/077309号パンフレットあるいは国際公開第2009/077213号パンフレットに開示されている。
反応を促進する流動状況を混合管内に形成するために、混合管の縦横比(Schlankheitsgrad)は、5〜8であることが望ましい。縦横比とは、この関連において、混合管の長さの内径に対する比と解される。管の横断面が円形でないときは、内径として、混合管の横断面積と等しい面積の円の直径を援用すべきである。長さは、混合管の、反応が進行する「活性の区分」において、つまり、反応成分の供給管路の、最も下流側に配置された開口部から、混入水のための、最も上流側に配置された混入開口までが測定される。
本発明に係る装置の特別な利点は、浸漬型反応器(Tauchreaktor)として直接、水中の二酸化塩素濃度を高めたい水槽内に配置可能である点にある。これにより、安全性は、明らかに向上し、二酸化塩素合成に関して好ましくは高い出発原料濃度の利用が可能となる。事故が発生しても、装置を取り巻く水によって無害化される。
したがって、本発明の別の対象は、水槽であって、本発明に係る装置の少なくとも混合管が、混入開口を通して混入水が水槽から混合管に混入される程度に水槽中に沈められている水槽である。水槽は、好ましくは冷却塔の冷却カップ(Kuehltasse)である。
装置が水槽中にあるとき、濃度を高める回路が閉回路をなすように、排水管路は、好ましくは同じ水槽に開口する。
濃度を高めたい供給水は、やはり水槽に起源を有するものであってよい。このために、水槽からノズルに延びる給水管路が、場合によっては圧力発生器の介在下で敷設される。択一的には、供給水は、水槽とは別の起源を有するものであってよい。
ところで、本発明に係る装置は、水中の塩素ガス(Cl)の濃度を高めるためにも使用可能である。このためには、単に1つの供給管路を省略して、残った供給管路により塩素ガスを混合管に導入する。
これにより本発明の対象は、塩素ガスを供給する供給管路と、塩素ガスを水と混合させる混合管であって、一端において、供給管路が開口し、他端において、塩素濃度を高めたい供給水をノズルによって噴入可能なサクションチャンバが配置されている混合管と、サクションチャンバから下流に延びる排水管路と、を備える、塩素ガスを水に添加する装置であって、混合管が、塩素ガス濃度を高めたい混入水を、混合管に混入させる少なくとも1つの混入開口を有する、塩素ガスを水に添加する装置である。この変化態様も、浸漬型反応器として運転可能である。
塩素ガスが混合管内で初めて作られるものでなくても、混合管内での急速な希釈を達成するために、水を混合管内に供給する第2の供給管路を設けると有意義である。このような装置は、構造的には、2つの反応成分を混合する装置に相当し、相違点は、両供給管路により反応成分が混合管内に到達するのではなく、一方では塩素ガスが、他方では水が混合管内に到達する点にある。
以下に、本発明について実施の形態を参照しながら詳細に説明する。
装置の断面図である。 装置の正面図である。 冷却塔の冷却カップ内の浸漬型反応器としての装置を示す図である。
[表1]3つの構成サイズの寸法及び通流量をまとめた表である。
図1及び図2は、本発明に係る二酸化塩素を水に添加する装置1を示す。この装置は、浸漬型反応器として完全に、水中の二酸化塩素濃度を高めたい水槽内に沈められる(図3参照)。
装置の核心部は、チタン材料から製造された混合管2である。混合管2は、円形の横断面を有している。混合管2は、ベースプレート3からサクションチャンバ4にかけて延在している。ベースプレート3は、混合管2の一端を閉鎖している。ベースプレート3を通して、図2にのみ看取可能に、2つの供給管路5a,5bが延在している。供給管路5a,5bは、2つの反応成分、例えば塩酸及び亜塩素酸ナトリウムを混合管2に別々に供給するために役立つ。両供給管路は、1つの共通の開口部6において混合管に開口している。もちろん、各々の供給管路は、混合管に独自の開口部を有していてもよい。反応成分に対して耐性を有しているように、ベースプレート3は、少なくとも供給管路5a,5b及びその開口部6の領域においてPTFEから製造されている。ベースプレートの、化学物質に曝されない下側の部分は、装置1の残余の構成部分と同様、ステンレス鋼からなる。
反応成分HCl(30%)とNaClO(25%)とは、ポンプ7a,7bによりそれぞれのタンク8a,8bからPTFEチューブ9a,9bを介して供給管路5a,5bに、そして供給管路5a,5bの開口部6を通して混合管2に流入する。混合管内で、これらの成分は反応して、二酸化塩素、食塩及び水を生成する。反応混合物は、ポンプ7a,7bにより混合管を通して圧送される。これにより、ポンプ7a,7bのみが反応成分の混合比を決定する。
下流において、サクションチャンバ4の直前に、混合管2の壁に、計6つの混入開口10が設けられている。混入開口10を通して水が流動し、サクションチャンバの負圧によって駆動され、水中に沈められた装置の周囲から混入水として混合管2に流入し、そして発生したばかりの二酸化塩素を急激に希釈する。混合管2は、混入水の混入前に成分の反応が完了しているように寸法設定されている。このために、混合管2には、開口部6から混入開口10に至る反応区分に沿って、約5.4の縦横比が与えられている(図面は、正しい縮尺で示したものではない。)。
表1は、装置の3つの可能な構成サイズの実際の値を例示している。各々の構成サイズは、2g/lのClO含有量を有する水/二酸化塩素溶液を生産する。
表1
Figure 2013527028
サクションチャンバ4の形態は、ほぼ従来技術に相当する。二酸化塩素濃度を高めたい供給水は、給水管路11を介して、先細りしたノズル12に導入される。ノズル12内で供給水の流速は著しく上昇する。サクションチャンバ4の横断面は、ノズル12の出口横断面より明らかに大きいため、噴入される供給水の圧力は、サクションチャンバ内で著しく低下する。その結果、吸引作用が生じて、反応成分及び混入水を混合管2からサクションチャンバ4内に吸い込み、サクションチャンバ4内で渦動させ、つまり、さらに希釈させる。混合物は、排出水として排水管路13を介して装置1を後にする。
給水管路11と排水管路13とは、少なくともサクションチャンバ4の領域において混合管2に対して半径方向で延在している。このことは、混合管がクランプセット14によりサクションチャンバ4とベースプレート3との間で締め付け可能であるという利点を有している。クランプセット14、サクションチャンバ4、混合管2及びベースプレート3を介して、閉じた力伝達経路が形成されている。閉じた力伝達経路は、装置内で成分が爆発したときに装置が破裂することを防止する。また、混合管、ベースプレート及びサクションチャンバは、クランプセットにより摩擦力結合(kraftschluessig:摩擦力による束縛)式に互いに接合されている。その結果、これらの構成部材の、この材料組み合わせの場合に問題となることが多い素材結合(stoffschluessig)は、省略される。さらにクランプセット14は、チューブ9a,9bのための引っ張り負荷軽減部材15a,15bと、水槽内に装置1を沈めるアイボルト16とを有している。
特に好ましくは、本発明に係る装置は、つまり浸漬型反応器として、水中の二酸化塩素濃度を高めたい水槽内で運転される。このために装置は、少なくとも混入開口が水面下に位置するまで、水槽内に沈められる。最も好ましくは、装置は完全に水槽内に沈められる。装置のベースプレートは底面と接触していてよい。
図3は、発電所冷却塔の例での使用を示す。冷却塔17においては、自体公知の形式で、発電所の排熱又はその他のプロセスの排熱を伴う冷却水が冷却される。このために冷却塔17の下側には、「冷却カップ18」が存在する。冷却カップ18内には、大量の冷却水が存在する。冷却水ポンプ19は連続的に、冷たい冷却水を冷却カップ18から取り出し、図3には示さない冷却したいプロセスへと供給する。このプロセスから、温められた冷却水が、戻り管路20を介して冷却塔に還流し、冷却塔の内面に沿って冷却カップ18に流れ落ちる。その際、冷却水は、煙突効果(Kamineffekt)に基づいて冷却塔17を上昇する気流によって冷却される。
冷却塔17内での生物の成長を阻止するために、冷却水には、強殺生物性の二酸化塩素が添加される。
この目的のために、装置1は、浸漬型反応器として、処理したい水で満たされた冷却カップ18内に完全に沈められ、ベースプレート3でもって冷却カップ18の底に載置されている。混合管2は、処理したい水の中を鉛直方向に延びている。両反応成分は、それぞれのタンク8a,8bからチューブ9a,9bを介して、調量ポンプ7a,7bにより駆動されて装置1内に圧送される。供給水は、冷却回路に起源を有するものであり、戻り管路20から引き出された給水管路11により装置1に導入される。圧送圧力は、最終的に冷却水ポンプ19によって形成される。供給水は、サクションチャンバ内で、生成されたばかりの二酸化塩素及び混入開口10を介して冷却カップ18から装置1に流入した混入水と混ざり、排水管路13を介して冷却カップ18に戻される。
1 装置
2 混合管
3 ベースプレート
4 サクションチャンバ
5a 供給管路1
5b 供給管路2
6 開口部
7a ポンプ
7b ポンプ
8a タンク
8b タンク
9a チューブ
9b チューブ
10 混入開口
11 給水管路
12 ノズル
13 排水管路
14 クランプセット
15a 引っ張り負荷軽減部材
15b 引っ張り負荷軽減部材
16 アイボルト
17 冷却塔
18 冷却カップ
19 冷却水ポンプ
20 戻り管路

Claims (12)

  1. 第1の反応成分を供給する第1の供給管路(5a)と、
    第2の反応成分を供給する第2の供給管路(5b)と、
    両反応成分を混合して反応させ、二酸化塩素を生成する混合管(2)であって、一端において、前記の両供給管路(5a,5b)が開口し、他端において、二酸化塩素濃度を高めたい供給水をノズル(12)によって噴入可能なサクションチャンバ(4)が配置されている混合管(2)と、
    前記サクションチャンバ(4)から下流に延びる排水管路(13)と、
    を備える、二酸化塩素を水に添加する装置(1)であって、
    前記混合管(2)は、二酸化塩素濃度を高めたい、反応成分を含まない混入水を、前記混合管(2)に混入させる少なくとも1つの混入開口(10)を有することを特徴とする、二酸化塩素を水に添加する装置。
  2. 前記混入開口(10)は、前記供給管路(5a,5b)の、前記混合管(2)への両開口部(6)の下流に配置されている、請求項1記載の装置。
  3. 前記ノズル(12)と前記排水管路(13)とは、前記サクションチャンバ(4)の領域で、互いに同軸的に配置されている、請求項1又は2記載の装置。
  4. 前記混合管(2)は、少なくとも前記サクションチャンバ(4)の領域で、前記ノズル(12)及び前記排水管路(13)に対して半径方向に延在する、請求項3記載の装置。
  5. 前記混合管(2)の、前記サクションチャンバ(4)とは反対側の端部を閉鎖し、前記の両供給管路(5a,5b)が貫通するベースプレート(3)と、前記混合管(2)に前記ベースプレート(3)と前記サクションチャンバ(4)との間で軸方向力を加えるクランプセット(14)とを備える、請求項4記載の装置。
  6. 前記混合管(2)は、少なくとも前記サクションチャンバ(4)の領域で、前記ノズル(12)及び前記排水管路(13)に対して同軸的に延在する、請求項3記載の装置。
  7. 前記混合管(2)の縦横比は、最も下流側に配置された開口部(6)から、最も上流側に配置された混入開口(10)までを測定して、5〜8である、請求項1から6までのいずれか1項記載の装置。
  8. 塩素ガスを供給する供給管路と、
    塩素ガスを水と混合させる混合管であって、一端において、前記供給管路が開口し、他端において、塩素濃度を高めたい供給水をノズルによって噴入可能なサクションチャンバが配置されている混合管と、
    前記サクションチャンバから下流に延びる排水管路と、
    を備える、塩素ガスを水に添加する装置であって、
    前記混合管は、塩素ガス濃度を高めたい混入水を、前記混合管に混入させる少なくとも1つの混入開口を有することを特徴とする、塩素ガスを水に添加する装置。
  9. 水を前記混合管に供給する第2の供給管路を備え、該第2の供給管路は、前記混合管の、第1の供給管路も開口する端部において開口している、請求項8記載の装置。
  10. 水槽、特に冷却塔(17)の冷却カップ(18)であって、請求項1から9までのいずれか1項記載の装置(1)の少なくとも混合管(2)が、前記混入開口(10)を通して混入水が前記水槽から前記混合管(2)に混入される程度に前記水槽中に沈められていることを特徴とする水槽。
  11. 前記排水管路(13)は前記水槽に開口する、請求項10記載の水槽。
  12. 前記水槽から前記ノズル(12)に延びる給水管路(11)を備える、請求項10又は11記載の水槽。
JP2013504180A 2010-04-16 2011-02-17 浸漬型反応器 Expired - Fee Related JP5850913B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102010027840A DE102010027840A1 (de) 2010-04-16 2010-04-16 Tauchreaktor
DE102010027840.8 2010-04-16
PCT/EP2011/052334 WO2011128137A2 (de) 2010-04-16 2011-02-17 Tauchreaktor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013527028A true JP2013527028A (ja) 2013-06-27
JP5850913B2 JP5850913B2 (ja) 2016-02-03

Family

ID=44584131

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013504180A Expired - Fee Related JP5850913B2 (ja) 2010-04-16 2011-02-17 浸漬型反応器

Country Status (12)

Country Link
US (1) US9206063B2 (ja)
EP (1) EP2558192B1 (ja)
JP (1) JP5850913B2 (ja)
BR (1) BR112012026300A2 (ja)
CA (1) CA2795979A1 (ja)
DE (2) DE202010017479U1 (ja)
DK (1) DK2558192T3 (ja)
ES (1) ES2870586T3 (ja)
PL (1) PL2558192T3 (ja)
PT (1) PT2558192T (ja)
SG (2) SG10201700650TA (ja)
WO (1) WO2011128137A2 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
HUE033261T2 (en) 2011-10-14 2017-11-28 Evonik Degussa Gmbh An improved method of treating water with chlorine dioxide
MX2019010144A (es) 2017-02-27 2019-10-02 Ecolab Usa Inc Metodo para la produccion en sitio de dioxido de cloro.
WO2018175732A1 (en) * 2017-03-24 2018-09-27 Ecolab USA, Inc. Low risk chlorine dioxide onsite generation system
US10501345B2 (en) 2017-08-17 2019-12-10 Ecolab Usa Inc. Low risk chlorine dioxide onsite generation system
US11970393B2 (en) 2018-07-05 2024-04-30 Ecolab Usa Inc. Decomposition mediation in chlorine dioxide generation systems through sound detection and control
DE102022110015B3 (de) 2022-04-26 2023-08-03 Matthias Weber Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Chlordioxid

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0024851A1 (en) * 1979-08-13 1981-03-11 Rio Linda Chemical Company, Incorporated Process for preparing chlorine dioxide
JP2004143004A (ja) * 2002-10-25 2004-05-20 Masakazu Takeuchi 二酸化塩素水の生成装置
JP2004521848A (ja) * 2000-08-11 2004-07-22 セイバー オキシデイション テクノロジーズ,インコーポレイティド 二酸化塩素発生器
JP2004210701A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Ebara Corp 消毒剤及び該消毒剤を用いた水系の消毒方法
JP2004530626A (ja) * 2001-06-25 2004-10-07 アクゾ ノーベル エヌ.ブイ. 二酸化塩素の製造方法
JP2006513972A (ja) * 2003-03-03 2006-04-27 アクゾ ノーベル エヌ.ブイ. 二酸化塩素の製造方法
JP2007523040A (ja) * 2004-02-23 2007-08-16 アクゾ ノーベル エヌ.ブイ. 二酸化塩素の製造方法
JP2008094662A (ja) * 2006-10-12 2008-04-24 Takimoto Giken Kogyo Kk 配管接続型の二酸化塩素水生成装置
JP2008522941A (ja) * 2004-12-06 2008-07-03 アクゾ ノーベル エヌ.ブイ. 化学的方法および製造装置
WO2009077160A1 (en) * 2007-12-19 2009-06-25 Caffaro Chimica S.R.L. Apparatus and method for disinfecting water
US20090159538A1 (en) * 2007-12-19 2009-06-25 Infracor Gmbh Method of treating water with chlorine dioxide

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL110391C (ja) 1953-04-14
US3862279A (en) 1973-06-26 1975-01-21 Sr Walter Andersen Subsurface aerator and mixer
US4250144A (en) * 1979-06-14 1981-02-10 Fischer & Porter Company Chlorine dioxide generating system
FI840236A (fi) 1983-01-26 1984-07-27 Calgon Corp Klordioxidgenerator och foerfarande.
US4472256A (en) 1983-07-13 1984-09-18 Hilbig Herbert H Electrolytic pool chlorinator
CA1230464A (en) 1984-02-22 1987-12-22 W. Howard Rapson Small scale generation of chlorine dioxide for waste water treatment
US4582586A (en) 1985-08-02 1986-04-15 Robert Maddock Chlorine gas injection system for swimming pool
US5204081A (en) * 1991-05-03 1993-04-20 Rio Linda Chemical Co., Ltd. Process for the generation of chlorine dioxide
US6051135A (en) 1996-02-23 2000-04-18 Water Technologies Limited Apparatus for making aqueous chlorine dioxide and apparatus for treating water with aqueous chlorine dioxide
JPH1110164A (ja) 1997-06-25 1999-01-19 Lucky San:Kk 殺菌剤の製法と水の殺菌方法及びそれらに用いられる装置
RU2163882C2 (ru) 1998-06-09 2001-03-10 Акцо Нобель Н.В. Способ получения двуокиси хлора
JP4042025B2 (ja) 2000-11-24 2008-02-06 ダイソー株式会社 二酸化塩素水の製造方法および製造装置
JP2003260468A (ja) 2002-03-11 2003-09-16 Nishihara Environment Technology Inc 消毒装置
US7452511B2 (en) * 2002-05-03 2008-11-18 Schmitz Wilfried J Reactor for production of chlorine dioxide, methods of production of same, and related systems and methods of using the reactor
DE202004005755U1 (de) 2004-04-13 2004-07-08 Schmid, Erich, Dr. Reaktor zum Vermischen von mindestens zwei, insbesondere reaktiven Flüssigkeiten, vorzugsweise Lösungen
JP4619686B2 (ja) 2004-05-07 2011-01-26 荏原エンジニアリングサービス株式会社 開放型循環式冷却水の処理方法及びその装置
US7754057B2 (en) * 2004-07-29 2010-07-13 Pureline Treatment Systems, Llc Chlorine dioxide solution generator
CA2585715A1 (en) * 2004-11-08 2006-05-18 Ashland Licensing And Intellectual Property Llc Automated process for treating an aqueous system with chlorine dioxide
IT1351156B1 (it) 2004-11-17 2009-01-05 Caffaro S R L Procedimento e apparecchiatura per la disinfezione di acque con produzione in situ di prodotti ossidanti/disinfettanti.
RU45378U1 (ru) 2004-12-20 2005-05-10 Федеральное Государственное унитарное предприятие "Уральский научно-исследовательский химический институт с опытным заводом" /ФГУП "УНИХИМ с ОЗ"/ Установка для получения диоксида хлора
MX2007014415A (es) * 2005-05-20 2008-02-11 Tronox Llc Aparato y metodo para mezclar fluidos.
DE102008049734C5 (de) 2008-09-30 2020-01-30 Weidner Wassertechnik Gmbh Verfahren und System zur Herstellung einer Chlordioxidlösung
DE102008055016A1 (de) 2008-12-19 2010-07-01 Infracor Gmbh Verfahren zur Behandlung von Wasser und wässrigen Systemen in Rohrleitungen mit Chlordioxid
DE102010027908A1 (de) 2010-04-19 2011-10-20 Infracor Gmbh Rohrreaktor

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0024851A1 (en) * 1979-08-13 1981-03-11 Rio Linda Chemical Company, Incorporated Process for preparing chlorine dioxide
JP2004521848A (ja) * 2000-08-11 2004-07-22 セイバー オキシデイション テクノロジーズ,インコーポレイティド 二酸化塩素発生器
JP2004530626A (ja) * 2001-06-25 2004-10-07 アクゾ ノーベル エヌ.ブイ. 二酸化塩素の製造方法
JP2004143004A (ja) * 2002-10-25 2004-05-20 Masakazu Takeuchi 二酸化塩素水の生成装置
JP2004210701A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Ebara Corp 消毒剤及び該消毒剤を用いた水系の消毒方法
JP2006513972A (ja) * 2003-03-03 2006-04-27 アクゾ ノーベル エヌ.ブイ. 二酸化塩素の製造方法
JP2007523040A (ja) * 2004-02-23 2007-08-16 アクゾ ノーベル エヌ.ブイ. 二酸化塩素の製造方法
JP2008522941A (ja) * 2004-12-06 2008-07-03 アクゾ ノーベル エヌ.ブイ. 化学的方法および製造装置
JP2008094662A (ja) * 2006-10-12 2008-04-24 Takimoto Giken Kogyo Kk 配管接続型の二酸化塩素水生成装置
WO2009077160A1 (en) * 2007-12-19 2009-06-25 Caffaro Chimica S.R.L. Apparatus and method for disinfecting water
US20090159538A1 (en) * 2007-12-19 2009-06-25 Infracor Gmbh Method of treating water with chlorine dioxide

Also Published As

Publication number Publication date
PL2558192T3 (pl) 2021-10-04
BR112012026300A2 (pt) 2016-07-12
EP2558192B1 (de) 2021-04-07
WO2011128137A2 (de) 2011-10-20
DE202010017479U1 (de) 2012-02-16
EP2558192A2 (de) 2013-02-20
US9206063B2 (en) 2015-12-08
DE102010027840A1 (de) 2011-10-20
SG10201700650TA (en) 2017-03-30
PT2558192T (pt) 2021-05-25
DK2558192T3 (da) 2021-07-05
WO2011128137A3 (de) 2011-12-15
ES2870586T3 (es) 2021-10-27
US20130106003A1 (en) 2013-05-02
SG184548A1 (en) 2012-11-29
CA2795979A1 (en) 2011-10-20
JP5850913B2 (ja) 2016-02-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5850913B2 (ja) 浸漬型反応器
RU2497761C2 (ru) Способ обработки воды диоксидом хлора
DK2581340T3 (en) Improved method of treating water with chlorine dioxide
US5256310A (en) Treatment of fresh water for zebra mussel infestation
WO2006015071A1 (en) Chlorine dioxide solution generator
JP5649976B2 (ja) 水を殺菌する装置と方法
TWI750356B (zh) 低風險二氧化氯現場產生系統
KR20110103963A (ko) 이산화염소를 사용한 파이프라인에서의 수 및 수성 시스템 처리 방법
US20160250365A1 (en) An Unpowered Pressurized Chlorine Dioxide Automatic Generating and Mixing Disinfection Device
EP1963231A2 (en) Chlorine dioxide-based water treatment system for on-board ship applications
CN208318107U (zh) 一种高纯二氧化氯消毒液的制取装置
JP4299012B2 (ja) 二酸化塩素水の製造装置及び製造方法並びに殺菌装置
BRPI0416637B1 (pt) Método para produção de uma solução aquosa de etanolamina de cobre
WO2010134551A1 (ja) 気液混合液
JP2000239003A (ja) 二酸化塩素水の製造方法及びその装置
JPH1192104A (ja) 高純度な二酸化塩素水性組成物、その製造方法及び製造装置
CN205873897U (zh) 一种小型二氧化氯发生装置
CN204873973U (zh) 自来水无氯消毒杀菌系统
JP3029857U (ja) 二酸化塩素水希釈装置
JP2004010451A (ja) 二酸化塩素水の製造方法
CN104944539A (zh) 自来水无氯消毒杀菌系统

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140116

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20141226

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150202

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150507

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20151116

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20151201

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5850913

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees