JP2013514257A - 選択触媒還元のための高シリカチャバザイト、その製造方法および使用方法 - Google Patents
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- B01D2255/90—Physical characteristics of catalysts
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Abstract
Description
mR:(SixAlyPz)O2
である[式中、Rは、結晶内の孔システムにおいて存在する少なくとも1つの有機テンプレート剤を表し;mは、(SixAlyPz)O2のモル当たりに存在するRのモルを表しおよび0〜0.3の値を有し;x、y、およびzは、それぞれ、四面体酸化物として存在しているシリコン、アルミニウム、およびホスフェートのモル分率を表す]。
擬ベーマイトアルミナ(Pseudoboehmite alumia)、リン酸、シリカゾル(Ludox LS30)、TEAOH溶液、および脱イオン水を、一体に混合してゲルを形成した。ゲルを、加圧減菌器に詰める前に室温で約30分に亘って攪拌した。加圧減菌器を、150℃まで加熱して60時間に亘ってその温度で維持した。冷却後、生成物を、ろ過によって回収して脱イオン水により洗浄した。次いで、全ての有機残留物を除去するように、生成物を乾燥およびか焼(calcine)した。得られた生成物は、中位の均一な結晶であった。得られた特性を以下の表1に示す。
擬ベーマイトアルミナ、リン酸、シリカゾル(Nyacol 2040NH4)、TEAOH溶液、および脱イオン水を、一体に混合してゲルを形成した。ゲルを、加圧減菌器に詰める前に室温で約30分間攪拌した。加圧減菌器を、180℃まで加熱してその温度で12時間に亘って維持した。冷却後、生成物を、ろ過により回収して脱イオン水により洗浄した。次いで、有機物を除去するように、生成物を乾燥およびか焼した。得られた生成物は、大きくかつ均一な結晶であった。得られた特性を以下の表1に示す。
高シリカチャバザイト(構造コードCHA)を、米国特許第4,544,538号公報の例に従って合成した(当該特許は、参照によって本明細書に組み込まれる)。とりわけ、NaOH、脱イオン水、N−N−N−トリメチル−1−アダマンタンアンモニウム水素化物(R)溶液、およびアルミニウム水素化物(Rehesis F−2000)を、一体に混合して溶液を形成した。シリカゲル(PQ Corporation)を溶液に添加して、以下の分子組成を有する合成ゲルを形成した:
38SiO2:1.0Al2O3:3.9Na2O:8.0R:1634H2O
合成ゲルを加圧減菌器に詰め込み、および160℃で96時間に亘って攪拌することにより結晶化を行った。ろ過、洗浄、および乾燥後の生成物は、XRDにより純粋なチャバザイト構造を示した。生成物を、550℃で10時間に亘ってか焼して残留有機物を除去した。残留ナトリウムを除去するように、か焼した生成物を、2リットルの2MのNH4NO3内でスラリーにして80℃で2時間に亘り攪拌した。次いで、NH4形態の生成物を、Cu(NO3)2溶液によりイオン交換した。
SAPO-18(構造コードAEI)を、J.ChenらによるCatal.Lett.28(1994)241に要約されている方法に従って合成した(これは、参照により本明細書に組み込まれる)。擬ベーマイトアルミナ、リン酸、シリカゾル、N−N−ジイソプロピルエチルアミン(DIPEA)、および脱イオン水を、混合してゲルを形成した。ゲルを、加圧減菌器に詰める前に室温で120分間に亘って攪拌した。加圧減菌器を、190℃まで加熱してこの温度で48時間に亘って維持した。冷却後の生成物を、ろ過によって回収して脱イオン水により洗浄した。次いで、有機物を除去するように、生成物を、乾燥して550℃でか焼した。得られた特性を以下の表1に示す。
低シリカチャバザイト(構造コードCHA)を、米国特許第5,026,532号公報の例に従って合成した(当該特許は、参照によって本明細書に組み込まれる)。ろ過、洗浄、および乾燥後の生成物を、550℃でか焼した。次いで、残留ナトリウムおよびカリウムを除去するように、生成物を、0.25MのHNO3および4MのNH4NO3を含む溶液で洗浄した。得られた特性を以下の表1に示す。
Alイソプロオキシド、リン酸、テトラエチルオルトケイ酸塩、TEAOH溶液、および脱イオン水を、一体に混合して以下の組成を有するゲルを形成した。
0.33SiO2:1.0AI2O3:1.0P2O5:1.0TEAOH:51H2O
上述した試料を、自動車の排ガスのエージング条件をシミュレーションするように、700℃〜900℃の範囲の温度で10体積%の水蒸気の存在下において1時間〜16時間の間に亘って水熱エージングした。還元剤としてNH3を用いて水熱エージングしたNOx転化用材料の活動(activity)を流水式の反応器により試験した。粉末ゼオライト試料を、35/70メッシュに対して押し付けおよびふるい分けして石英チューブ反応器に詰め込んだ。ガスストリーム条件を表2に示す。反応器温度を上昇させ、および各々の温度間隔におけるNOx転化率を、赤外分析器により決定した。結果を以下の表2に示す。
小さな結晶の高シリカチャバザイト材料を含む付加的な比較例を以下のように製造した。
35SiO2:1.0AI2O3:2.8Na2O:2.5R:420H2O
Claims (43)
- 0.5ミクロンよりも大きい結晶寸法および15よりも大きいシリカとアルミナの比(SAR)を有する金属含有チャバザイトを含み、
前記金属含有チャバザイトが、10体積%以下の水蒸気の存在下において900℃以下の温度に1時間以下に亘って暴露された後にその初期表面積および細孔容量の少なくとも80%を保持する、細孔結晶材料。 - 前記チャバザイトが、15〜60の範囲であるSARを有する、請求項1に記載の細孔結晶材料。
- 前記SARが、20〜60の範囲である、請求項2に記載の細孔結晶材料。
- 前記金属が、銅または鉄を含む、請求項1に記載の細孔結晶材料。
- 前記銅または鉄が、液相もしくは固体イオン交換により導入されているかまたは直接合成により組み込まれている、請求項4に記載の細孔結晶材料。
- 前記銅が、前記材料の全重量の少なくとも1.0重量%を含む、請求項4に記載の細孔結晶材料。
- 前記銅が、前記材料の全重量の1.0重量%〜4.0重量%の範囲である量を含む、請求項6に記載の細孔結晶材料。
- 前記鉄が、前記材料の全重量の少なくとも0.2重量%を含む、請求項4に記載の細孔結晶材料。
- 前記鉄が、前記材料の全重量の0.2重量%〜3.0重量%の範囲である量を含む、請求項8に記載の細孔結晶材料。
- 前記金属含有チャバザイトの前記初期表面積が、少なくとも650m2/gである、請求項1に記載の細孔結晶材料。
- 前記金属含有チャバザイトの前記初期細孔容量が、少なくとも0.25cc/gである、請求項1に記載の細孔結晶材料。
- 前記金属含有チャバザイトの前記結晶寸法が、0.5ミクロン〜5.0ミクロンの範囲である、請求項1に記載の細孔結晶材料。
- 排ガス内のNOxの選択触媒還元(SCR)法であって、前記方法が:
排ガスを、0.5ミクロンよりも大きい結晶寸法および15よりも大きいシリカとアルミナの比(SAR)を有する金属含有チャバザイトに接触させることを含み、
前記金属含有チャバザイトが、10体積%以下の水蒸気の存在下において900℃以下の温度に1時間以下に亘って暴露された後にその初期表面積と細孔容量の少なくとも80%を保持する、排ガス内のNOxの選択触媒還元(SCR)法。 - 前記接触させる工程を、アンモニアまたは尿素の存在下で行う、請求項13に記載の方法。
- 前記チャバザイトが、15〜60の範囲であるSARを有する、請求項13に記載の方法。
- 前記SARが、20〜60の範囲である、請求項15に記載の方法。
- 前記金属が、銅または鉄を含む、請求項13に記載の方法。
- 前記銅または鉄を、液相もしくは固体イオン交換により導入されているかまたは直接合成により組み込む、請求項17に記載の方法。
- 前記銅が、前記材料の全重量の少なくとも1.0重量%を含む、請求項17に記載の方法。
- 前記銅が、前記材料の全重量の1.0重量%〜4.0重量%の範囲である量を含む、請求項19に記載の方法。
- 前記鉄が、前記材料の全重量の少なくとも0.2重量%を含む、請求項17に記載の方法。
- 前記鉄が、前記材料の全重量の0.2重量%〜3.0重量%の範囲である量を含む、請求項21に記載の方法。
- 前記金属含有チャバザイトの前記初期表面積が、少なくとも650m2/gである、請求項13に記載の方法。
- 前記金属含有チャバザイトの前記初期細孔容量が、少なくとも0.25cc/gである、請求項13に記載の方法。
- 前記金属含有チャバザイトの前記結晶寸法が、0.5ミクロン〜5.0ミクロンの範囲である、請求項13に記載の方法。
- 排ガス内のNOxの選択触媒還元(SCR)法であって、前記方法が:
0.5ミクロンよりも大きい結晶寸法および15よりも大きいシリカとアルミナの比(SAR)を有する金属含有チャバザイトを含む細孔結晶材料を含む物品を準備し;および
前記物品を、NOxを含む排ガスに接触させる、
ことを含み、
前記金属含有チャバザイトが、10体積%水蒸気以下の存在下において900℃以下の温度に1時間以下に亘って暴露された後にその初期表面積と細孔容量の少なくとも80%を保持する、排ガス内のNOxの選択触媒還元(SCR)法。 - 前記接触させる工程を、アンモニアまたは尿素の存在下で行う、請求項26に記載の方法。
- 前記チャバザイトが、15〜60の範囲であるSARを有する、請求項26に記載の方法。
- 前記SARが、20〜60の範囲である、請求項28に記載の方法。
- 前記金属が、銅または鉄を含む、請求項26に記載の方法。
- 前記銅または鉄を、液相または固体イオン交換により導入もしくは直接合成により組み込む、請求項30に記載の方法。
- 前記銅が、前記材料の全重量の少なくとも1.0重量%を含む、請求項30に記載の方法。
- 前記銅が、前記材料の全重量の1.0重量%〜4.0重量%の範囲である量を含む、請求項32に記載の方法。
- 前記鉄が、前記材料の全重量の少なくとも0.2重量%を含む、請求項30に記載の方法。
- 前記鉄が、前記材料の全重量の0.2重量%〜3.0重量%の範囲である量を含む、請求項34に記載の方法。
- 前記金属含有チャバザイトの前記初期表面積が、少なくとも650m2/gである、請求項26に記載の方法。
- 前記金属含有チャバザイトの前記初期細孔容量が、少なくとも0.25cc/gである、請求項26に記載の方法。
- 前記金属含有チャバザイトの前記結晶寸法が、0.5ミクロン〜5.0ミクロンの範囲である、請求項26に記載の方法。
- 前記物品が、溝付き本体またはハニカム形状本体;充填層;微粒子;もしくは構造片の形態である、請求項26に記載の方法。
- 前記充填層が、玉石、小石、ペレット、タブレット、押出成形物、他の粒子またはそれらの組合せを含む、請求項26に記載の方法。
- 前記構造片が、プレートまたはチューブの形態である、請求項39に記載の方法。
- 溝付き本体またはハニカム形状本体もしくは構造片を、チャバザイトモレキュラーシーブを含む混合物を押し出すことにより形成する、請求項39に記載の方法。
- チャバザイトモレキュラーシーブを含む混合物を予め成形されている基板上に被覆または堆積することによって、溝付き本体またはハニカム形状本体もしくは構造片を形成する、請求項39に記載の方法。
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