JP2013508876A - 入力装置及びその装置の接触位置検出方法 - Google Patents

入力装置及びその装置の接触位置検出方法 Download PDF

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Abstract

本発明は入力装置及びその装置の接触位置検出方法を公開する。
この装置は、接触位置に応じて互いに異なる複数個の測定値を発生させ、該複数個の測定値を出力するタッチパネル部と、前記測定値を入力し、閾値を用いて前記複数個の測定値から少なくとも1つ以上のクラスタを含むクラスタリングされた測定値を出力するクラスタリング部と、前記クラスタリングされた測定値を入力し、加重値平均を用いて前記クラスタのそれぞれに対する座標を計算して出力する中心点計算部を備えることを特徴とする。

Description

本発明は、入力装置に関し、特にタッチパネルを備えた入力装置において、接触位置をより精密に検出することができる入力装置及びその装置の接触位置検出方法に関する。
パソコン、携帯用送信装置、その他の情報処理装置などは、入力装置を用いて多様な機能を実行する。最近、このような入力装置としてタッチパネルを備えた入力装置が多く使用されている。
一般的に、タッチパネルは、CRT、LCD、PDP、EL(electroluminescence)などのようなディスプレイ装置の表面に設けられて接触による接触位置を検出することができる装置であって、ITO(インジウム−錫の複合酸化物)フィルムを用いて製造することができる。
このようなタッチパネルを備えた入力装置は、使用者がタッチパネル上の特定位置に接触物体(例えば、指やスタイラスペンなど)を接触して多様な情報を画面上に表現するか、または前記入力装置を備えた機器が多様な機能を実行することができるように構成することができる。ところで、前記入力装置が小型化されるとか、前記入力装置を備えた機器がより多様な機能を実行することができるように構成するためには、アイコンなどの接触物体が接触されるべき面積がより小さくなる。したがって、このような場合には、接触物体の接触位置をより精密に測定しなければならない。
本発明の目的は、より精密に接触位置を検出することができる入力装置を提供することにある。
本発明の他の目的は、前記目的を達成するための入力装置の接触位置検出方法を提供することにある。
前記目的を達成するための本発明の入力装置は、接触位置に応じて互いに異なる複数個の測定値が発生され、前記複数個の測定値を出力するタッチパネル部と、前記測定値を入力し、閾値を用いて前記複数個の測定値から少なくとも1つ以上のクラスタを含むクラスタリングされた測定値を出力するクラスタリング部と、前記クラスタリングされた測定値を入力し、加重値平均を用いて前記クラスタのそれぞれに対する座標を計算して出力する中心点計算部と、を備えることを特徴とする。
前記目的を達成するための本発明の入力装置の前記クラスタは、前記測定値のうちの前記閾値より大きい値を有する前記測定値で構成されることを特徴とする。
前記目的を達成するための本発明の入力装置の前記クラスタリング部は、前記測定値を入力して前記測定値の極大値の数を検出し、前記測定値から前記極大値の数と同一数のクラスタを含む前記クラスタリングされた測定値を出力することを特徴とする。
前記目的を達成するための本発明の入力装置の前記タッチパネル部は、複数個のタッチパターンを備えるタッチパターン部と、前記複数個のタッチパターンのうちの少なくとも1つ以上のタッチパターンに入力信号を出力し、前記複数個のタッチパターンのうちの少なくとも1つ以上のタッチパターンを介して発生した出力信号を入力して前記複数個の測定値を計算する測定部と、を備えることを特徴とする。
前記目的を達成するための本発明の入力装置の第1の実施形態の前記タッチパターン部は、第1方向に配置された複数個の第1タッチパターンと、前記第1方向と直交する第2方向に配置された複数個の第2タッチパターンと、を備え、前記複数個の第1タッチパターンのそれぞれは、前記第2方向に配置された複数個の第1タッチパッドと、前記複数個の第1タッチパッドのそれぞれを接続する第1接続パッドと、を備え、前記複数個の第2タッチパターンのそれぞれは、前記第1方向に配置された複数個の第2タッチパッドと、前記複数個の第2タッチパッドのそれぞれを接続する第2接続パッドと、を備えることを特徴とする。
前記目的を達成するための本発明の入力装置の第1の実施形態の前記測定部は、前記第1タッチパターンのそれぞれに第1基準パルスを前記入力信号として印加し、前記第1タッチパターンのそれぞれを介して発生される第1遅延パルスを前記出力信号として入力し、前記第1遅延パルスのそれぞれと前記第1基準パルスとの遅延時間差を測定して第1測定値を計算し、前記第2タッチパターンのそれぞれに第2基準パルスを前記入力信号として印加し、前記第2タッチパターンのそれぞれを介して発生される第2遅延パルスを前記出力信号として入力し、前記第2遅延パルスのそれぞれと前記第2基準パルスとの遅延時間差を測定して第2測定値を計算し、前記第1測定値及び前記第2測定値を前記測定値として出力することを特徴とする。
前記目的を達成するための本発明の入力装置の第1の実施形態の前記クラスタリング部は、前記第1測定値のうちの第1閾値より大きい値を有する少なくとも1つの第1クラスタを含むクラスタリングされた第1測定値及び前記第2測定値のうちの第2閾値より大きい値を有する少なくとも1つの第2クラスタを含むクラスタリングされた第2測定値を前記クラスタリングされた測定値として出力することを特徴とする。
前記目的を達成するための本発明の入力装置の第1の実施形態の前記中心点計算部は、前記第1クラスタのそれぞれに対して加重値平均を用いて第1方向の座標を計算し、前記第2クラスタのそれぞれに対して加重値平均を用いて第2方向の座標を計算し、前記第1方向の座標及び前記第2方向の座標を組み合わせて前記クラスタのそれぞれに対する座標を計算して出力することを特徴とする。
前記目的を達成するための本発明の入力装置の第2の実施形態の前記タッチパターン部は、第1方向に伸張され、前記第1方向の一側が前記測定部と接続され、第2方向に配置された複数個の第1タッチパターンと、前記第1方向に伸張され、前記第1方向の他側が前記測定部と接続され、前記第2方向に配置された複数個の第2タッチパターンと、を備え、前記複数個の第1タッチパターンのそれぞれは前記第1方向の前記他側に行くほど接触面積が減少し、前記複数個の第2タッチパターンのそれぞれは前記第1方向の前記一側に行くほど接触面積が減少することを特徴とする。
前記目的を達成するための本発明の入力装置の第2の実施形態の前記測定部は、前記第1タッチパターンのそれぞれに対して、前記第1方向の前記一側に第1基準パルスを前記入力信号として印加し、前記第1方向の前記一側から発生された第1遅延パルスを前記出力信号として入力し、前記第1基準パルスと前記第1遅延パルスとの遅延時間差を測定して第1測定値を計算し、前記第2タッチパターンのそれぞれに対して、前記第1方向の前記他側に第2基準パルスを前記入力信号として印加し、前記第1方向の前記他側から発生された第2遅延パルスを前記出力信号として入力し、前記第2基準パルスと前記第2遅延パルスとの遅延時間差を測定して第2測定値を計算し、前記第1測定値と前記第2測定値を前記測定値として出力することを特徴とする。
前記目的を達成するための本発明の入力装置の第2の実施形態の前記クラスタリング部は、前記第1測定値を入力して第1閾値を用いてクラスタリングされた第1方向の第1測定値を計算し、前記第2測定値を入力して前記第1閾値を用いてクラスタリングされた第1方向の第2測定値を計算し、前記第1測定値及び前記第2測定値のうちの前記第2方向の対応する位置に配置された前記第1タッチパターン及び前記第2タッチパターンに対する前記第1測定値と前記第2測定値を加算した第2方向の測定値を計算し、前記第2方向の測定値を入力して第2閾値を用いてクラスタリングされた第2方向の測定値を計算し、前記クラスタリングされた第1方向の第1測定値、前記クラスタリングされた第1方向の第2測定値、及び前記クラスタリングされた第2方向の測定値を前記クラスタリングされた測定値として出力することを特徴とする。
前記目的を達成するための本発明の入力装置の第2の実施形態の前記中心点計算部は、前記クラスタリングされた第1方向の第1測定値及び前記クラスタリングされた第1方向の第2測定値のうちの対応する値の加重値平均を用いて前記クラスタの前記第1方向の座標を計算し、前記クラスタリングされた第2方向の測定値の加重値平均を用いて前記クラスタの第2方向の座標を計算することを特徴とする。
前記目的を達成するための本発明の入力装置の第3の実施形態の前記タッチパターン部は、第1方向に配置された複数個の第1タッチパターンと、前記第1方向と直交する第2方向に配置された複数個の第2タッチパターンと、を備え、前記複数個の第1タッチパターンのそれぞれは、前記第2方向に配置された複数個の第1タッチパッドと、前記複数個の第1タッチパッドのそれぞれを接続する第1接続パッドと、を備え、前記複数個の第2タッチパターンのそれぞれは、前記第1方向に伸張される第1バーと、前記第1バーと接続され、前記第2方向に伸張され、前記第1タッチパッドのそれぞれの前記第1方向の側辺に配置される複数個の第2バーと、を備えることを特徴とする。
前記目的を達成するための本発明の入力装置の第3の実施形態の前記測定部は、前記第2タッチパターンのそれぞれに前記入力信号を印加し、前記第1タッチパターンのそれぞれから発生される前記出力信号を入力して前記第1タッチパターンのそれぞれと前記第2タッチパターンのそれぞれとの間のキャパシタンスを測定し、測定された前記キャパシタンスを前記測定値として出力することを特徴とする。
前記目的を達成するための本発明の入力装置の第3の実施形態の前記クラスタリング部は、基準値から前記測定値を減算した後、減算した結果値のうちの前記閾値より大きい値で構成される少なくとも1つの前記クラスタを含む前記クラスタリングされた測定値を出力することを特徴とする。
前記目的を達成するための本発明の入力装置の第3の実施形態の前記中心点計算部は、前記クラスタのそれぞれに対して、前記クラスタリングされた測定値のうちの前記第1方向の測定値の加重値平均を用いて前記第1方向の座標を計算し、前記クラスタリングされた測定値のうちの前記第2方向の測定値の加重値平均を用いて前記第2方向の座標を計算し、前記第1方向の座標及び前記第2方向の座標を組み合わせて前記クラスタのそれぞれに対する座標を計算して出力することを特徴とする。
前記目的を達成するための本発明の入力装置は、前記測定値を入力してノイズを除去して標準化された測定値を出力するか、または前記測定値を入力して校正作業を行って標準化された測定値を出力するプリプロセッシング部をさらに備え、前記クラスタリング部は前記標準化された測定値を入力して前記クラスタリングされた測定値を出力することを特徴とする。
前記他の目的を達成するための本発明の入力装置の接触位置検出方法は、接触位置に応じて互いに異なる複数個の測定値が発生され、前記複数個の測定値を出力するタッチパネル部を備える入力装置において、前記測定値を入力し、閾値を用いて前記複数個の測定値から少なくとも1つ以上のクラスタを含むクラスタリングされた測定値を出力するクラスタリング段階と、前記クラスタリングされた測定値を入力し、加重値平均を用いて前記クラスタのそれぞれに対する座標を計算して出力する中心点計算段階と、を備えることを特徴とする。
前記他の目的を達成するための本発明の入力装置の接触位置検出方法の前記クラスタは、前記測定値のうちの前記閾値より大きい値を有する測定値で構成されることを特徴とする。
前記他の目的を達成するための本発明の入力装置の接触位置検出方法の前記クラスタリング段階は、前記測定値を入力して前記測定値の極大値の数を検出し、前記測定値から前記極大値の数と同一数のクラスタを含む前記クラスタリングされた測定値を出力することを特徴とする。
前記他の目的を達成するための本発明の入力装置の接触位置検出方法の第1形態の前記タッチパネル部は、第1方向に配置された複数個の第1タッチパターンと、前記第1方向と直交する第2方向に配置された複数個の第2タッチパターンと、を備え、前記第1タッチパターンのそれぞれは、前記第2方向に配置された複数個の第1タッチパッドと、前記複数個の第1タッチパッドのそれぞれを接続する第1接続パッドと、を備え、前記第2タッチパターンのそれぞれは、前記第1方向に配置された複数個の第2タッチパッドと、前記第2タッチパッドのそれぞれを接続する第2接続パッドと、を備え、前記接触位置検出方法は、前記第1タッチパターンのそれぞれに基準パルスを印加し、前記第1タッチパターンのそれぞれを介して発生される遅延パルスと前記基準パルスとの遅延時間差を測定して第1測定値を計算し、前記第2タッチパターンのそれぞれに前記基準パルスを印加し、前記第2タッチパターンのそれぞれを介して発生される遅延パルスのそれぞれと前記基準パルスとの遅延時間差を測定して第2測定値を計算し、前記第1測定値及び前記第2測定値を前記測定値として出力する測定段階をさらに備えることを特徴とする。
前記他の目的を達成するための本発明の入力装置の接触位置検出方法の第1形態の前記クラスタリング段階は、前記第1測定値のうちの第1閾値より大きい値を有する少なくとも1つの第1クラスタを含むクラスタリングされた第1測定値及び前記第2測定値のうちの第2閾値より大きい値を有する少なくとも1つの第2クラスタを含むクラスタリングされた第2測定値を前記クラスタリングされた測定値として出力することを特徴とする。
前記他の目的を達成するための本発明の入力装置の接触位置検出方法の第1形態の前記中心点計算段階は、前記第1クラスタのそれぞれに対して加重値平均を用いて前記第1方向の座標を計算し、前記第2クラスタのそれぞれに対して加重値平均を用いて前記第2方向の座標を計算し、前記第1方向の座標及び前記第2方向の座標を組み合わせて前記クラスタのそれぞれに対する座標を出力することを特徴とする。
前記他の目的を達成するための本発明の入力装置の接触位置検出方法の第2形態の前記タッチパネル部は、第1方向に伸張され、第2方向に配置された複数個の第1タッチパターンと、前記第1方向に伸張され、前記第2方向に配置された複数個の第2タッチパターンと、を備え、前記複数個の第1タッチパターンのそれぞれは、前記第1方向の一側に行くほど接触面積が減少し、前記複数個の第2タッチパターンのそれぞれは前記第1方向の他側に行くほど接触面積が減少し、前記接触位置検出方法は前記第1タッチパターンのそれぞれに対して、前記第1方向の前記一側に基準パルスを印加し、前記基準パルスと前記第1方向の前記一側から発生された遅延パルスとの遅延時間差を測定して第1測定値を計算し、前記第2タッチパターンのそれぞれに対して、前記第1方向の前記他側に基準パルスを印加し、前記基準パルスと前記第1方向の前記他側から発生された遅延パルスとの遅延時間差を測定して第2測定値を計算し、前記第1測定値と前記第2測定値を前記測定値として出力する測定段階をさらに備えることを特徴とする。
前記他の目的を達成するための本発明の入力装置の接触位置検出方法の第2形態の前記クラスタリング段階は、前記第1測定値を入力して第1閾値を用いてクラスタリングされた第1方向の第1測定値を計算し、前記第2測定値を入力して前記第1閾値を用いてクラスタリングされた第1方向の第2測定値を計算し、前記第1測定値及び前記第2測定値のうちの前記第2方向の対応する位置に配置された前記第1タッチパターン及び前記第2タッチパターンに対する前記第1測定値と前記第2測定値を加算した第2方向の測定値を計算し、前記第2方向の測定値を入力して第2閾値を用いてクラスタリングされた第2方向の測定値を計算し、前記クラスタリングされた第1方向の第1測定値、前記クラスタリングされた第1方向の第2測定値、及び前記クラスタリングされた第2方向の測定値を前記クラスタリングされた測定値として出力することを特徴とする。
前記他の目的を達成するための本発明の入力装置の接触位置検出方法の第2形態の前記中心点計算段階は、前記クラスタリングされた第1方向の第1測定値及び前記クラスタリングされた第1方向の第2測定値のうちの対応する値の加重値平均を用いて前記クラスタの前記第1方向の座標を計算し、前記クラスタリングされた第2方向の測定値の加重値平均を用いて前記クラスタの第2方向の座標を計算することを特徴とする。
前記他の目的を達成するための本発明の入力装置の接触位置検出方法の第3形態の前記タッチパネル部は、第1方向に配置された複数個の第1タッチパターンと、前記第1方向と直交する第2方向に配置された複数個の第2タッチパターンと、を備え、前記第1タッチパターンのそれぞれは、前記第2方向に配置された複数個の第1タッチパッドと、前記複数個の第1タッチパッドのそれぞれを接続する第1接続パッドと、を備え、前記第2タッチパターンのそれぞれは、前記第1方向に伸張される第1バーと、前記第1バーと接続され、前記第2方向に伸張され、前記第1タッチパッドのそれぞれの前記第1方向の側辺に配置される複数個の第2バーと、を備え、前記接触位置検出方法は、前記第2タッチパターンのそれぞれに前記入力信号を印加し、前記第1タッチパターンのそれぞれから発生される前記出力信号を入力して前記第1タッチパターンのそれぞれと前記第2タッチパターンのそれぞれとの間のキャパシタンスを測定して、測定された前記キャパシタンスを前記測定値として出力することを特徴とする。
前記他の目的を達成するための本発明の入力装置の接触位置検出方法の第3形態の前記クラスタリング段階は、基準値から前記測定値を減算した後、減算した結果値のうちの前記閾値より大きい値で構成される少なくとも1つの前記クラスタを含む前記クラスタリングされた測定値を出力することを特徴とする。
前記他の目的を達成するための本発明の入力装置の接触位置検出方法の第3形態の前記中心点計算段階は、前記クラスタのそれぞれに対して、前記クラスタリングされた測定値のうちの前記第1方向の測定値の加重値平均を用いて前記第1方向の座標を計算し、前記クラスタリングされた測定値のうちの前記第2方向の測定値の加重値平均を用いて前記第2方向の座標を計算し、前記第1方向の座標及び前記第2方向の座標を組み合わせて前記クラスタのそれぞれに対する座標を計算して出力することを特徴とする。
したがって、本発明の入力装置及びその装置の接触位置検出方法は、少ない数のタッチパターンを備えても精密な接触位置検出が可能である。
本発明における入力装置の実施例の構成を示す図である 。 図1の本発明における入力装置のタッチパネル部の実施例の構成を示す図である。 図2の本発明における入力装置のタッチパネル部のタッチパターン部の一実施例の構成を示す図である。 図2の本発明の入力装置のタッチパネル部のタッチパターン部の他の実施例の構成を示す図である。 図2の本発明の入力装置のタッチパネル部のタッチパターン部のさらに他の実施例の構成を示す図である。 タッチパターン部が図5のさらに他の実施例の構成を有した場合のクラスタリング部の動作を説明するための図である。 タッチパターン部が図5のさらに他の実施例の構成を有した場合のクラスタリング部の動作を説明するための図である。 タッチパターン部が図5のさらに他の実施例の構成を有した場合のクラスタリング部の動作を説明するための図である。 本発明の入力装置の接触位置検出方法を説明するための動作フローチャートである。
以下、添付された図面を参照にして本発明の入力装置及びその装置の接触位置検出方法を説明する。
図1は本発明の入力装置の実施例の構成を示す図であって、本発明の入力装置は、タッチパネル部100、プリプロセッシング部210、クラスタリング部220、ゴーストパターン除去部230、及び中心点計算部240を備えて構成することができる。
次に、図1に示すブロックのそれぞれの機能を説明する。
タッチパネル部100は複数個のタッチパターンを備えて構成することができ、接触物体の接触位置に応じて互いに異なる複数個の測定値P_Vを出力する。測定値P_Vは接触物体の接触位置に応じて可変する遅延時間とすることができる。
プリプロセッシング部210は前記測定値P_Vを入力してノイズなどを除去し、工程変化または環境変化による影響を相殺するための校正作業などを行って標準化された測定値nP_Vを出力する。プリプロセッシング部210はフィルタを用いるか、閾値などを設定することでノイズなどを除去することができる。また、ノイズ除去及び校正作業のうちのいずれか1つだけを行うように構成することができる。
クラスタリング部220は、前記標準化された測定値nP_Vを入力してクラスタリング作業を行い、少なくとも1つのクラスタを含むクラスタリングされた測定値nP_VCを出力する。前記クラスタは、接触物体の接触位置に対応する前記測定値P_V(または標準化された測定値nP_V)の集合を意味する。例えば、クラスタリング部220は、所定の閾値を用いてクラスタリング作業を行うことができる。この場合、前記クラスタは、前記測定値P_V(または標準化された測定値nP_V)のうち前記閾値より大きい値を有する測定値に構成することができる。すなわち、標準化された測定値nP_Vのうち前記所定の閾値より小さい値は0に変換して出力することでクラスタリング作業が行われるように構成することができる。また、クラスタリング部220は、前記標準化された測定値nP_Vのうち極大値を検出してクラスタの数を決定して、決定されたクラスタの数に応じてクラスタリング作業を行うように構成することができる。前記極大値は前記標準化された測定値nP_Vが所定の方式を介して定められた区間(または与えられた集合値)に区分される場合、前記区間(または集合値)内での局所的な最大値を意味する。また、クラスタの数は接触位置の数に対応する。
ゴーストパターン除去部230は、クラスタリングされた測定値nP_VCを入力してゴーストパターンを除去する。例えば、ゴーストパターン除去部230はクラスタリングされた測定値nP_VCを入力して前記測定値を相互比較してゴーストパターンを除去することができ、前記測定値が順に入力された場合には、先に入力された測定値を用いてゴーストパターンを除去することができる。
中心点計算部240は、ゴーストパターンが除去された測定値nP_VCGを用いて加重値平均を用い、各クラスタに対する座標T_Pを計算して出力する。各クラスタに対する座標T_Pは接触物体の接触位置の中心点を意味する。
クラスタリング部220及び中心点計算部240に対する具体的な動作は後述する。また、本発明の入力装置は、プリプロセッシング部210及び/またはゴーストパターン除去部230を備えない場合もある。すなわち、本発明の入力装置は、プリプロセッシング部210及び/またはゴーストパターン除去部230を必要な場合にだけ備えるように構成することができる。ゴーストパターン除去部230が備えられない場合に、中心点計算部240はクラスタリングされた測定値nP_VCを用いて接触位置の中心点を計算する。
図2は、図1に示す本発明における入力装置のタッチパネル部100の実施例の構成を示す図であって、タッチパネル部100はタッチパターン部110及び測定部120を備えて構成することができる。
次に、図2に示すブロックのそれぞれの機能を説明する。
タッチパターン部110は複数個のタッチパターンを備えて構成することができ、接触位置に応じて可変する出力信号を発生させる。前記出力信号は接触位置に応じて互いに異なる遅延時間を有する遅延パルスP_dとすることができる。すなわち、タッチパターン部110は、接触物体の接触有無及び接触位置に応じて互いに異なる遅延時間を有する遅延パルスをそれぞれ出力する複数個のタッチパターンを備えて構成することができる。例えば、タッチパターン部110を構成する複数個のタッチパターンのそれぞれは基準パルスP_rを入力し、接触物体の接触有無及び接触位置に応じて互いに異なる遅延時間を有する遅延パルスP_dを発生することができる。
測定部120は入力信号を出力し、タッチパターン部100を介して発生した出力信号を入力して複数個の測定値P_Vを出力する。前記入力信号は基準パルスP_rとすることができ、前記出力信号は遅延パルスP_dとすることができる。すなわち、測定部120は基準パルスP_rを出力し、タッチパターン部110を介して発生した遅延パルスP_dと前記基準パルスP_rとの遅延時間差を計算して前記遅延時間差に対応する測定値P_Vを出力することができる。例えば、測定部120は、前記基準パルスP_rを前記タッチパターン部110の複数個のタッチパターンのそれぞれに順次に(または同時に)印加し、前記タッチパターン部110の複数個のタッチパターンのそれぞれを介して発生される前記遅延パルスP_dを順次に(または同時に)入力し、前記複数個のタッチパターンのそれぞれに対する前記遅延時間差を計算して前記測定値P_Vが出力できるように構成することができる。
図2では、接触有無及び接触位置に応じて遅延パルスの遅延時間が変化することを利用すること、すなわち、基準パルスと遅延パルスとの遅延時間差を測定値として出力する場合を例に説明したが、多様な方法で接触有無及び接触位置を検知することができる。例えば、前記タッチパターン部110の複数個のタッチパターンのそれぞれに順次に(または同時に)所定の電流を印加して電圧の変化(例えば、電圧が所定の閾値電圧に到逹する時間または所定時間が経過した後の電圧の大きさ)を測定して前記測定値を出力することができる。または、前記タッチパターン部110の複数個のタッチパターンのそれぞれに順次に(または同時に)所定のパルス幅を有するパルス信号を印加し、前記パルス信号が測定されるか否か(例えば、前記パルス信号が所定の閾値電圧以上に測定されるか否か)を判断して前記測定値を出力することができる。
図3は、図2に示すタッチパネル部100のタッチパターン部110の第1の実施形態の構成を示す図であって、タッチパターン部110は第1方向に配置された複数個の第1タッチパターンx0〜x5及び前記第1方向と直交する第2方向に配置された複数個の第2タッチパターンy0〜y10を備えて構成することができる。図3で、T_O1、及びT_O2のそれぞれは接触物体が接触された部分を示す。
斜線の第1タッチパターンx0〜x5と点の第2タッチパターンy0〜y10は交差する部分が互いに絶縁されるように形成される。例えば、第1タッチパターンx0〜x5はITOフィルムの前面に、第2タッチパターンy0〜y10はITOフィルムの裏面に形成されるか、ITOフィルムの片面に第1タッチパターンx0〜x5及び第2タッチパターンy0〜y10を配置し、第1タッチパターンx0〜x5のそれぞれと第2タッチパターンy0〜y10のそれぞれとの交差する部分は電気的に接続しないように形成するか、または第1タッチパターンx0〜x5と第2タッチパターンy0〜y10とをそれぞれに互いに異なるITOフィルムに形成するなど、多様な方法で形成することができる。
第1タッチパターンx0〜x5のそれぞれを介して接触物体の接触有無及び接触位置に応じて互いに異なる遅延時間を有する遅延パルスP_dが発生され、第2タッチパターンy0〜y10のそれぞれを介して第1タッチパターンx0〜x5と同様に、接触物体が接触有無及び接触位置に応じて互いに異なる遅延時間を有する遅延パルスP_dが発生される。
例えば、測定部120は、第1タッチパターンx0〜x5及び第2タッチパターンy0〜y10のそれぞれの一側に順次に(または同時に)基準パルスP_rを印加し、第1タッチパターンx0〜x5及び第2タッチパターンy0〜y10のそれぞれの他側に発生される遅延パルスP_dを順次に(または同時に)入力して前記測定値P_Vを計算して出力することができる。測定部120は、第1タッチパターンx0〜x5及び第2タッチパターンy0〜y10のそれぞれの一側に基準パルスP_rを印加し、第1タッチパターンx0〜x5及び第2タッチパターンy0〜y10のそれぞれの前記一側から発生される遅延パルスP_dを入力するように構成することができる。
また、図3に示すように、第1タッチパターンx0〜x5のそれぞれは、第2方向(例えば、y軸方向)に配置された複数個の第1タッチパッドPD1と前記複数個の第1タッチパッドPD1のそれぞれを接続する第1接続パッドCP1を備えて構成することができ、第2タッチパターンy0〜y10のそれぞれは第1方向(例えば、x軸方向)に配置された複数個の第2タッチパッドPD2と前記複数個の第2タッチパッドPD2のそれぞれを接続する第2接続パッドCP2とを備えて構成することができる。
また、図3では、第1タッチパッドPD1及び第2タッチパッドPD2のそれぞれが菱形を有するものとして例示したが、第1タッチパッドPD1及び第2タッチパッドPD2のそれぞれは円または他の多角形形態とすることができる。すなわち、第1タッチパッドPD1及び第2タッチパッドPD2のそれぞれは、所定の形状を有する特定領域に均一に形成されたパッドとすることができる。
次に、タッチパターン部110が図3のような形態を有する場合に、本発明のクラスタリング部220及び中心点計算部240の動作を説明する。
図3に示すように、接触物体が接触された場合、第1タッチパターンx0〜x5のそれぞれを介して発生した測定値P_V(または、標準化された測定値nP_V)、すなわち、遅延パルスの遅延時間は次のように示すことができる。dx0〜dx5のそれぞれは、第1タッチパターンx0〜x5それぞれを介して発生した第1測定値(または、標準化された第1測定値)を示す。
(dx0、dx1、dx2、dx3、dx4、dx5)
=(0、6、137、84、9、4)
また、第2タッチパターンy0〜y10のそれぞれを介して発生した測定値P_V(または、標準化された測定値nP_V)、すなわち、遅延パルスの遅延時間は次のように示すことができる。dy0〜dy10のそれぞれは、第2タッチパターンy0〜y10のそれぞれを介して発生した第2測定値(または、第2標準化された測定値)を示す。
(dy0、dy1、dy2、dy3、dy4、dy5、dy6、dy7、dy8、dy9、dy10)
=(1、4、45、25、2、2、13、52、58、15、4)
すなわち、測定部120(または、プリプロセッシング部210)は、前記第1及び第2測定値(または、標準化された第1測定値及び標準化された第2測定値)を前記測定値P_V(または標準化された測定値nP_V)に出力する。
クラスタリング部220は、前記測定値P_V(または標準化された測定値nP_V)を入力して次のような方法でクラスタリング作業を行う。
第1方向(例えば、x軸)及び第2方向(例えば、y軸)のそれぞれに対する閾値を20に設定したと仮定すると、クラスタリングされた測定値nP_VCはそれぞれ次のように示すことができる。nP_VCxは第1測定値を用いて発生されたクラスタリングされた第1測定値を、nP_VCyは第2測定値を用いて発生されたクラスタリングされた第2測定値をそれぞれ示す。
nP_VCx=(0、0、137、84、0、0)
nP_VCy=(0、0、45、25、0、0、0、52、58、0、0)
前記クラスタリングされた第1測定値nP_VCxから、極大値は1つ137であることがわかるため、クラスタの数は1つであると判断することができる。また、前記クラスタリングされた第2測定値nP_VCyから、極大値は2つ45、58であることがわかるため、クラスタの数は2つであると判断することができる。よって、2次元平面においてクラスタの数は2つであると判断することができる。
万一、閾値が大きく設定されるとクラスタの大きさは小さくなり中心点の座標の精密度が制限され、閾値が小さく設定されるとクラスタの大きさが大きくなり中心点座標の計算がノイズに脆弱となる。よって、閾値は実験的にまたはその他の適切な方法を介して設定することができる。また、閾値は入力装置を生産する過程において設定することができ、使用者によって設定することもできる。例えば、閾値はクラスタとの間の距離は接触物体(例えば、指)が触れる大きさの2倍程度になるように設定することができる。
以上のように、クラスタリング部220により測定値P_V(または標準化された測定値nP_V)が所定個数のクラスタにクラスタリングされる。クラスタの数はクラスタリング部220によって決定される。
次に、中心点計算部240は前記クラスタリングされた測定値nP_VCを入力して加重値平均を用い、各クラスタの座標、すなわち、接触位置の中心点を計算する。すなわち、クラスタリングされた測定値np_VCのそれぞれに対して加重値を乗じて加えた値を、クラスタリングされた測定値np_VCを加えた値に割って各クラスタの座標を計算する。
まず、接触位置T_O1に対するクラスタの第1方向(例えば、x軸)座標T_Px及び第2方向(例えば、y軸)座標T_Pyのそれぞれは次のように計算することができる。
T_Px=(137*2+84*3)/(137+84)=2.38
T_Py=(45*2+25*3)/(45+25)=2.36
したがって、中心点計算部240は接触位置T_O1に対するクラスタの座標、すなわち、計算された中心点座標2.38、2.36を接触位置T_O1の座標に出力する。
次に、接触位置T_O2に対するクラスタの第1方向(例えば、x軸)の座標T_Px及び第2方向(例えば、y軸)の座標T_Pyのそれぞれは次のように計算されることができる。
T_Px=(137*2+84*3)/(137+84)=2.38
T_Py=(52*7+58*8)/(52+58)=7.53
したがって、中心点計算部240は接触位置T_O2に対するクラスタの座標、すなわち、計算された中心点座標2.38、7.53を接触位置T_O2の座標に出力する。
図4は、図2に示すタッチパネル部100のタッチパターン部110の他の実施例の構成を示す図であって、タッチパターン部110は第2方向(例えば、y軸方向)に配置された複数個の第1タッチパターンP0_1〜P5_1及び第2方向に配置された複数個の第2タッチパターンP0_2〜P5_2を備えて構成することができる。
また、複数個の第1タッチパターンP0_1〜P5_1のそれぞれの第1方向(例えば、x軸方向)の一側が測定部120と接続され、複数個の第2タッチパターンP0_2〜P5_2のそれぞれの第1方向の他側が測定部120と接続するように構成することができる。また、図4に示すように、複数個の第1タッチパターンP0_1〜P5_1のそれぞれは、前記第1方向の前記一側から前記他側に行くほど接触面積が小さくなるように形成され、複数個の第2タッチパターンP0_2〜P5_2のそれぞれは前記第1方向の前記他側から前記一側に行くほど接触面積が小さくなるように形成することができる。図4では、複数個の第1タッチパターンP0_1〜P5_1及び複数個の第2タッチパターンP0_2〜P5_2のそれぞれが歯車状に形成された場合を例示したが、複数個の第1タッチパターンP0_1〜P5_1及び複数個の第2タッチパターンP0_2〜P5_2のそれぞれは二等辺三角形または直角三角形などの多様な形状に形成することができる。
タッチパターン部110が図4に示すような形状を有する場合に、測定部120は複数個の第1タッチパターンP0_1〜P5_1のそれぞれの第1方向の一側の第1チャンネルCH0_1〜CH5_1及び複数個の第2タッチパターンP0_2〜P5_2のそれぞれの前記第1方向の他側の第2チャンネルCH0_2〜CH5_2に順次に(または同時に)基準パルスP_rを出力し、前記第1チャンネルCH0_1〜CH5_1及び前記第2チャンネルCH0_2〜CH5_2から発生された遅延パルスP_dを順次に(または同時に)入力して基準パルスP_rと遅延パルスP_dとの遅延時間差を測定して測定値P_Vを出力することができる。
図4に示すように、接触物体が2箇所T_O1、T_O2で接触されたら、前記測定値P_V(または標準化された測定値nP_V)は次のように測定することができる。d11〜d51は第1チャンネルCH0_1〜CH5_1から発生した遅延パルスP_dの遅延時間に対応する第1測定値を示し、d12〜d52は第2チャンネルCH0_2〜CH5_2から発生した遅延パルスP_dの遅延時間に対応する第2測定値を示す。
(d11、d21、d31、d41、d51)
=(5、35、15、51、23、4)=nP_Vx0
(d12、d22、d32、d42、d52)
=(2、22、7、56、24、3)=nP_Vx1
前記測定値は、第1方向の第1測定値nP_Vx0及び第1方向の第2測定値nP_Vx1となる。
また、クラスタリング部220は前記測定値を用いて第2方向の測定値nP_Vyを計算する。すなわち、クラスタリング部220は、第2方向の同一位置に配置されたタッチパターン(P0_1、PO_2)、(P0_1、PO_2)、(P0_1、PO_2)、(P0_1、PO_2)、(P0_1、PO_2)のそれぞれを介して発生した測定値を加算して第2方向の測定値nP_Vyを計算する。第2方向の測定値nP_Vyは次のように示すことができる。
nP_Vy=(7、57、22、107、47、7)
第2方向の閾値が40に設定されたら、クラスタリングされた第2方向の測定値nP_VCyは次のように示すことができる。
nP_VCy=(0、57、0、107、47、0)
したがって、クラスタリングされた第1方向の第1測定値nP_VCx0及びクラスタリングされた第1方向の第2測定値nP_VCx1は次のように示すことができる。
nP_VCx0=(0、35、0、51、23、0)
nP_VCx1=(0、22、0、56、24、0)
すなわち、クラスタリング動作は第2方向に対して行いことができる。クラスタリングされた第2方向の測定値nP_VCyから、極大値の数は2つ(すなわち、57及び107)であるため、クラスタの数が2つであることをわかる。
中心点計算部240は、前記クラスタリングされた第1方向の第1測定値nP_VCx0、クラスタリングされた第1方向の第2測定値nP_VCx1、及びクラスタリングされた第2方向の測定値nP_VCyを入力して接触位置T_O1、T_O2それぞれに対するクラスタの座標、すなわち、接触位置T_O1、T_O2のそれぞれの中心点座標を計算する。中心点計算部240が、接触位置のそれぞれの中心点を計算する方法は図3で説明したことと類似する。
まず、接触位置T_O1に対するクラスタの第1方向の座標は次のように計算することができる。
(35*0+22*1)/(35+22)=0.39
接触位置T_O1に対するクラスタの第2方向の座標は次のように計算することができる。
(57*1)/57=1
したがって、中心点計算部240は接触位置T_O1に対するクラスタの座標、すなわち、計算された中心点座標0.39、1を接触位置T_O1の座標として出力する。
次に、接触位置T_O2に対するクラスタの第1方向の座標は次のように計算することができる。
((51+23)*0+(56+24)*1)/((51+23)+(56+24))=0.52
接触位置T_O2に対するクラスタの第2方向の座標は次のように計算することができる。
(107*3+47*4)/(107+47)=3.31
したがって、中心点計算部240は接触位置T_O2に対するクラスタの座標、すなわち、計算された中心点座標0.52、3.31を接触位置T_O2の座標として出力する。
以上では、第2方向(例えば、y軸方向)の座標を、クラスタリング作業を介して計算することを例示したが、タッチパターン部110が図4に示すような同一構成を有する場合にはどのタッチパターンに接触物体が接触されているかを判断することで、第2方向座標を計算することができる。よって、タッチパターン部110が図4に示すような同一構成を有する場合には、第1方向(例えば、x軸方向)の座標だけをクラスタリング作業を介して計算することができる。例えば、接触物体が同一のロウに配置されたタッチパターンP1_1、P1_2にだけ接触された接触位置T_01の場合、x軸方向の座標だけをクラスタリング作業を介して計算することができる。
図5は、図2に示すタッチパネル部100のタッチパターン部110のさらに他の実施例の構成を示す図であって、タッチパターン部110は、第1方向に配置された複数個の第1タッチパターンx0〜x6及び第2方向に配置された複数個の第2タッチパターンy0〜y4を備えて構成することができる。
図5に示すように、第1タッチパターンx0〜x6のそれぞれは、第2方向(例えば、y軸方向)に配置された複数個のタッチパッドと前記複数個のタッチパッドのそれぞれを接続する接続パッドとを備えて構成することができ、第2タッチパターンy0〜y4のそれぞれは第1方向(例えば、x軸方向)に伸張されるバーと、前記第1方向に伸張されるバーと接続され、前記第2方向に伸張され、前記第1タッチパターンx0〜x6のそれぞれの複数個のタッチパッドのそれぞれの第1方向の側面に配置される複数個のバーを備えて構成することができる。
また、図3で説明したように、第1タッチパターンx0〜x6と第2タッチパターンy0〜y4とは互いに絶縁されるように形成することができる。
タッチパターン部110が図5に示すように形成される場合に、測定部120は、第2タッチパターンy0〜y4に順に信号を印加し、第1タッチパターンx0〜x6のそれぞれから出力される信号を入力してタッチパターンのそれぞれとの間のキャパシタンスを測定する。接触物体が接触されたタッチパターンとの間のキャパシタンスの大きさは、接触物体によりフリンジ電界(fringe field)が遮断されて減少する。よって、タッチパターン部110が図5のように形成される場合には、測定部120が入力される信号、すなわちカップリングされた信号を測定してタッチパターンとの間のキャパシタンスを計算することができる。カップリングされた信号を測定してキャパシタンスを測定する回路は多様に構成することができ、これについては具体的に回路が公知されているため、本出願ではその説明を省略する。
図6は、タッチパターン部110が図5のように形成され、接触物体が図5のように、2箇所T_O1、T_O2に接触された場合の測定値P_V(または標準化された測定値nP_V)を示すものである。以下に、説明の便宜のために、測定されたキャパシタンスの大きさの代わりに測定値P_V(または標準化された測定値nP_V)を用いて説明する。
図7及び図8は、タッチパターン部110が図5のような形態を有する場合のクラスタリング部220の動作を説明するための図である。タッチパターン部110が図5のような形態を有する場合、クラスタリング部220は所定の基準値に図6に示す測定値を減算した後、減算した結果値のうちの所定閾値より大きい値で構成される、少なくとも1つのクラスタを含むクラスタリングされた測定値nP_VCを出力する。このとき、前記所定の基準値は接触物体が接触されない場合の測定値と等しい値とすることができる。
図7は、所定の基準値(例えば、10)から図6に示す測定値P_V(または標準化された測定値nP_V)のそれぞれを減算した値を示すものである。
図8は、図7に示す測定値P_V(または標準化された測定値nP_V)を用いてクラスタリングを実行した結果を示す図であって、第1方向に対する閾値及び第2方向に対する閾値が2の場合を示す図である。
中心点計算部240は、前記図8に示すクラスタリングされた測定値nP_VCを用いて接触位置T_O1、T_O2のそれぞれに対応するクラスタのそれぞれの座標、すなわち、接触位置T_O1、T_O2のそれぞれの中心点座標を計算する。各クラスタの座標を計算する方法は、図3において説明したものと類似する。すなわち、中心点計算部240は、クラスタのそれぞれに対して、各クラスタを構成するクラスタリングされた測定値nP_VCのうちの第1方向の測定値の加重値平均を用いて第1方向の座標を計算し、各クラスタを構成するクラスタリングされた測定値nP_VCのうちの第2方向の測定値の加重値平均を用いて第2方向の座標を計算し、前記第1方向の座標及び前記第2方向の座標を組み合わせて前記クラスタのそれぞれに対する座標を計算して出力する。
すなわち、接触位置T_O1に対するクラスタの第1方向の座標は、次のように計算することができる。
(10*1+10*2)/(10+10)=1.5
接触位置T_O1に対するクラスタの第2方向の座標は、次のように計算することができる。
(10*1)/10=1
したがって、中心点計算部240は、(1.5、1)を接触位置T_O1に対するクラスタの座標、すなわち、接触位置T_O1の座標として出力する。
次に、接触位置T_O2に対するクラスタの第1方向の座標は、次のように計算することができる。
((3+8)*4+(3+8)*5)/(3+8)+(3+8)=4.5
接触位置T_O2に対するクラスタの第2方向の座標は、次のように計算することができる。
((3+3)*2+(8+8)*3)/(3+3)+(8+8)=2.64
したがって、中心点計算部240は、(4.5、2.64)を接触位置T_O2に対するクラスタの座標、すなわち、接触位置T_O2の座標として出力する。
タッチパターン部110は、図3、図4、及び図5に示したものを多様に変形して用いることができる。例えば、図3に示すタッチパターン部110の場合、第1タッチパターンx0〜x5及び第2タッチパターンy0〜y10のそれぞれの両側端に配置された第1及び第2タッチパッドPD1及びPD2は菱形(または、他の所定形状)を半分にした形状である三角形形状(または、前記他の所定形状を半分にした形状)に形成することができ、第1及び第2タッチパッドPD1及びPD2のそれぞれの面積が互いに異なるか、または互いに異なった形状に形成することができる。また、図4に示すタッチパターン部110の場合、第1タッチパターンP0_1〜P5_1及び第2タッチパターンP0_2〜P5_2のそれぞれの両側端が互いに接続されて形成することができる。
上述のように、タッチパターン部110を変形して用いる場合、タッチパッド上に透明ウィンドウ(またはレンズ)を凸状にするなどの工程が追加されてタッチパッドでの表面間隔が均一でない場合、または、製造工程上の組立散布などによってタッチパッドとタッチパッドの下部にあるディスプレイ装置の表面との間の間隔が均一でない場合などに、前記測定値P_V(または、標準化された測定値nP_V)をそのまま用いると正確な接触位置の中心点を計算することが困難である場合には、前記測定値P_V(または、標準化された測定値nP_V)にオフセット値を加減するか、前記測定値P_V(または、標準化された測定値nP_V)に別途の加重値を掛け算した値を用いて接触位置の中心点を計算することができる。オフセット値を加減することは閾値を適応的に変更することと類似する。別途の加重値を掛け算することは凸状にした透明ウィンドウによる厚差及び/または測定端子と接触位置との間の距離差による抵抗差などのような非線形性を校正する、さらに他の機能を実行することができる。
図9は、本発明の入力装置の接触位置検出方法を説明するための動作フローチャートを示す。
次に、図9を参考して本発明の入力装置の接触位置検出方法を説明する。
まず、閾値より大きい測定値P_V(または、標準化された測定値nP_V)があるか否かを判断する(S300段階)。S300段階で判断した結果、閾値より大きい測定値P_Vがなければ終了する。
次に、測定値P_V(または、標準化された測定値nP_V)を用いてクラスタの数を判断する(S310段階)。例えば、測定値P_V(または、標準化された測定値nP_V)から極大値を検出し、極大値の数をクラスタの数と判断することができる。
次に、閾値を用いてクラスタリングする(S320段階)。上述のように、クラスタリングは、前記閾値より小さい測定値を0に置換する方法で行うことができる。クラスタリング結果、クラスタリングされた測定値nP_VCは、少なくとも1つのクラスタを有することになる。
次に、ゴーストパターンが存在するか否かを判断する(S330段階)。例えば、タッチパターン部110が図3と同一構成を有する場合、第1タッチパターンx0〜x5から発生した測定値から第1方向に対して2箇所以上の接触位置が存在し、第2タッチパターンy0〜y10から発生した測定値から第2方向に対して2箇所以上の接触位置が存在した場合、ゴーストパターンが存在するものと判断することができる。
S330段階で判断して、ゴーストパターンが存在したらゴーストパターンを除去し、実際接触位置を判断する(S340段階)例えば、タッチパターン部110が図3と同一構成を有する場合、第1タッチパターンx0〜x5から発生した2箇所以上の接触位置に対する測定値を互いに比較し、第2タッチパターンy0〜y10から発生した2箇所以上の接触位置に対する測定値を互いに比較してゴーストパターンを除去し、実際接触位置を判断することができる。
次に、クラスタリングされた測定値nP_VCを入力して加重値平均を用いて各クラスタの座標を計算する(S350段階)。すなわち、各クラスタ(すなわち、それぞれの接触位置)に対して、加重値平均を用いて計算された各クラスタの座標を計算して前記接触位置の座標として出力する。
上述では、接触された部分の中心点(例えば、加重値平均を利用した中心点)を計算し、前記中心点を接触位置の座標として出力する場合を例で説明したが、前記計算された中心点に、接触物体によるオフセットを考慮した座標を接触位置の座標として出力することができる。例えば、接触物体が指に認識される場合、指のタッチ値(例えば、測定値P_V(または標準化された測定値nP_V))による等高線を算出して指のテンプレート(template)の大きさを算出し、前記計算された中心点の座標に該当するオフセットを加えた座標を接触位置の座標として出力することができる。
上述では、本発明の好ましい実施形態を参照して説明したが、当該技術分野の熟練した当業者は、添付の特許請求範囲に記載された本発明の思想及び領域から逸脱しない範囲で、本発明を多様に修正及び変更させることができる。
100 タッチパネル部
110 タッチパターン部
120 遅延時間測定部
210 プリプロセッシング部
220 クラスタリング部
230 ゴーストパターン除去部
240 中心点計算部

Claims (32)

  1. 接触位置に応じて互いに異なる複数個の測定値が発生され、前記複数個の測定値を出力するタッチパネル部と、
    前記測定値を入力し、閾値を用いて前記複数個の測定値から少なくとも1つ以上のクラスタを含むクラスタリングされた測定値を出力するクラスタリング部と、
    前記クラスタリングされた測定値を入力し、加重値平均を用いて前記クラスタのそれぞれに対する座標を計算して出力する中心点計算部と、
    を備えることを特徴とする入力装置。
  2. 前記クラスタは、
    前記測定値のうちの前記閾値より大きい値を有する前記測定値で構成されることを特徴とする請求項1に記載の入力装置。
  3. 前記クラスタリング部は、
    前記測定値を入力して前記測定値の極大値の数を検出し、前記測定値から前記極大値の数と同一数のクラスタを含む前記クラスタリングされた測定値を出力することを特徴とする請求項1に記載の入力装置。
  4. 前記タッチパネル部は、
    複数個のタッチパターンを備えるタッチパターン部と、
    前記複数個のタッチパターンのうちの少なくとも1つ以上のタッチパターンに入力信号を出力し、前記複数個のタッチパターンのうちの少なくとも1つ以上のタッチパターンを介して発生した出力信号を入力して前記複数個の測定値を計算する測定部と、
    を備えることを特徴とする請求項1に記載の入力装置。
  5. 前記タッチパターン部は、
    第1方向に配置された複数個の第1タッチパターンと、
    前記第1方向と直交する第2方向に配置された複数個の第2タッチパターンと、
    を備えることを特徴とする請求項4に記載の入力装置。
  6. 前記複数個の第1タッチパターンのそれぞれは、
    前記第2方向に配置された複数個の第1タッチパッドと、
    前記複数個の第1タッチパッドのそれぞれを接続する第1接続パッドと、
    を備えることを特徴とする請求項5に記載の入力装置。
  7. 前記複数個の第2タッチパターンのそれぞれは、
    前記第1方向に配置された複数個の第2タッチパッドと、
    前記複数個の第2タッチパッドのそれぞれを接続する第2接続パッドと、
    を備えることを特徴とする請求項6に記載の入力装置。
  8. 前記測定部は、
    前記第1タッチパターンのそれぞれに第1基準パルスを前記入力信号として印加し、前記第1タッチパターンのそれぞれを介して発生される第1遅延パルスを前記出力信号として入力し、前記第1遅延パルスのそれぞれと前記第1基準パルスとの遅延時間差を測定して第1測定値を計算し、
    前記第2タッチパターンのそれぞれに第2基準パルスを前記入力信号として印加し、前記第2タッチパターンのそれぞれを介して発生される第2遅延パルスを前記出力信号として入力し、前記第2遅延パルスのそれぞれと前記第2基準パルスとの遅延時間差を測定して第2測定値を計算し、前記第1測定値及び前記第2測定値を前記測定値として出力することを特徴とする請求項7に記載の入力装置。
  9. 前記クラスタリング部は、
    前記第1測定値のうちの第1閾値より大きい値を有する少なくとも1つの第1クラスタを含むクラスタリングされた第1測定値及び前記第2測定値のうちの第2閾値より大きい値を有する少なくとも1つの第2クラスタを含むクラスタリングされた第2測定値を前記クラスタリングされた測定値として出力することを特徴とする請求項8に記載の入力装置。
  10. 前記中心点計算部は、
    前記第1クラスタのそれぞれに対して加重値平均を用いて第1方向の座標を計算し、前記第2クラスタのそれぞれに対して加重値平均を用いて第2方向の座標を計算し、前記第1方向の座標及び前記第2方向の座標を組み合わせて前記クラスタのそれぞれに対する座標を計算して出力することを特徴とする請求項9に記載の入力装置。
  11. 前記タッチパターン部は、
    第1方向に伸張され、前記第1方向の一側が前記測定部と接続され、第2方向に配置された複数個の第1タッチパターンと、
    前記第1方向に伸張され、前記第1方向の他側が前記測定部と接続され、前記第2方向に配置された複数個の第2タッチパターンと、を備え、
    前記複数個の第1タッチパターンのそれぞれは前記第1方向の前記他側に行くほど接触面積が減少し、前記複数個の第2タッチパターンのそれぞれは前記第1方向の前記一側に行くほど接触面積が減少することを特徴とする請求項4に記載の入力装置。
  12. 前記測定部は、
    前記第1タッチパターンのそれぞれに対して、前記第1方向の前記一側に第1基準パルスを前記入力信号として印加し、前記第1方向の前記一側から発生された第1遅延パルスを前記出力信号として入力し、前記第1基準パルスと前記第1遅延パルスとの遅延時間差を測定して第1測定値を計算し、
    前記第2タッチパターンのそれぞれに対して、前記第1方向の前記他側に第2基準パルスを前記入力信号として印加し、前記第1方向の前記他側から発生された第2遅延パルスを前記出力信号として入力し、前記第2基準パルスと前記第2遅延パルスとの遅延時間差を測定して第2測定値を計算し、前記第1測定値と前記第2測定値を前記測定値として出力することを特徴とする請求項11に記載の入力装置。
  13. 前記クラスタリング部は、
    前記第1測定値を入力して第1閾値を用いてクラスタリングされた第1方向の第1測定値を計算し、前記第2測定値を入力して前記第1閾値を用いてクラスタリングされた第1方向の第2測定値を計算し、前記第1測定値及び前記第2測定値のうちの前記第2方向の対応する位置に配置された前記第1タッチパターン及び前記第2タッチパターンに対する前記第1測定値と前記第2測定値を加算した第2方向の測定値を計算し、前記第2方向の測定値を入力して第2閾値を用いてクラスタリングされた第2方向の測定値を計算し、前記クラスタリングされた第1方向の第1測定値、前記クラスタリングされた第1方向の第2測定値、及び前記クラスタリングされた第2方向の測定値を前記クラスタリングされた測定値として出力することを特徴とする請求項12に記載の入力装置。
  14. 前記中心点計算部は、
    前記クラスタリングされた第1方向の第1測定値及び前記クラスタリングされた第1方向の第2測定値のうちの対応する値の加重値平均を用いて前記クラスタの前記第1方向の座標を計算し、前記クラスタリングされた第2方向の測定値の加重値平均を用いて前記クラスタの第2方向の座標を計算することを特徴とする請求項13に記載の入力装置。
  15. 前記複数個の第2タッチパターンのそれぞれは、
    前記第1方向に伸張される第1バーと、
    前記第1バーと接続され、前記第2方向に伸張され、前記第1タッチパッドのそれぞれの前記第1方向の側辺に配置される複数個の第2バーと、
    を備えることを特徴とする請求項6に記載の入力装置。
  16. 前記測定部は、
    前記第2タッチパターンのそれぞれに前記入力信号を印加し、前記第1タッチパターンのそれぞれから発生される前記出力信号を入力して前記第1タッチパターンのそれぞれと前記第2タッチパターンのそれぞれとの間のキャパシタンスを測定し、測定された前記キャパシタンスを前記測定値として出力することを特徴とする請求項15に記載の入力装置。
  17. 前記クラスタリング部は、
    基準値から前記測定値を減算した後、減算した結果値のうちの前記閾値より大きい値で構成される少なくとも1つの前記クラスタを含む前記クラスタリングされた測定値を出力することを特徴とする請求項16に記載の入力装置。
  18. 前記中心点計算部は、
    前記クラスタのそれぞれに対して、前記クラスタリングされた測定値のうちの前記第1方向の測定値の加重値平均を用いて前記第1方向の座標を計算し、前記クラスタリングされた測定値のうちの前記第2方向の測定値の加重値平均を用いて前記第2方向の座標を計算し、前記第1方向の座標及び前記第2方向の座標を組み合わせて前記クラスタのそれぞれに対する座標を計算して出力することを特徴とする請求項17に記載の入力装置。
  19. 前記入力装置は、
    前記測定値を入力してノイズを除去して標準化された測定値を出力するプリプロセッシング部をさらに備え、
    前記クラスタリング部は、前記標準化された測定値を入力して前記クラスタリングされた測定値を出力することを特徴とする請求項1に記載の入力装置。
  20. 前記入力装置は、
    前記測定値を入力して校正作業を行って標準化された測定値を出力するプリプロセッシング部をさらに備え、
    前記クラスタリング部は、前記標準化された測定値を入力して前記クラスタリングされた測定値を出力することを特徴とする請求項1に記載の入力装置。
  21. 接触位置に応じて互いに異なる複数個の測定値が発生され、前記複数個の測定値を出力するタッチパネル部を備える入力装置において、
    前記測定値を入力し、閾値を用いて前記複数個の測定値から少なくとも1つ以上のクラスタを含むクラスタリングされた測定値を出力するクラスタリング段階と、
    前記クラスタリングされた測定値を入力し、加重値平均を用いて前記クラスタのそれぞれに対する座標を計算して出力する中心点計算段階と、
    を備えることを特徴とする接触位置検出方法。
  22. 前記クラスタは、
    前記測定値のうちの前記閾値より大きい値を有する測定値で構成されることを特徴とする請求項21に記載の接触位置検出方法。
  23. 前記クラスタリング段階は、
    前記測定値を入力して前記測定値の極大値の数を検出し、前記測定値から前記極大値の数と同一数のクラスタを含む前記クラスタリングされた測定値を出力することを特徴とする請求項21に記載の接触位置検出方法。
  24. 前記タッチパネル部は、
    第1方向に配置された複数個の第1タッチパターンと、前記第1方向と直交する第2方向に配置された複数個の第2タッチパターンと、を備え、前記第1タッチパターンのそれぞれは、前記第2方向に配置された複数個の第1タッチパッドと、前記複数個の第1タッチパッドのそれぞれを接続する第1接続パッドと、を備え、前記第2タッチパターンのそれぞれは、前記第1方向に配置された複数個の第2タッチパッドと、前記第2タッチパッドのそれぞれを接続する第2接続パッドと、を備え、
    前記接触位置検出方法は、
    前記第1タッチパターンのそれぞれに基準パルスを印加し、前記第1タッチパターンのそれぞれを介して発生される遅延パルスと前記基準パルスとの遅延時間差を測定して第1測定値を計算し、前記第2タッチパターンのそれぞれに前記基準パルスを印加し、前記第2タッチパターンのそれぞれを介して発生される遅延パルスのそれぞれと前記基準パルスとの遅延時間差を測定して第2測定値を計算し、前記第1測定値及び前記第2測定値を前記測定値として出力する測定段階をさらに備えることを特徴とする請求項21に記載の接触位置検出方法。
  25. 前記クラスタリング段階は、
    前記第1測定値のうちの第1閾値より大きい値を有する少なくとも1つの第1クラスタを含むクラスタリングされた第1測定値及び前記第2測定値のうちの第2閾値より大きい値を有する少なくとも1つの第2クラスタを含むクラスタリングされた第2測定値を前記クラスタリングされた測定値として出力することを特徴とする請求項24に記載の接触位置検出方法。
  26. 前記中心点計算段階は、
    前記第1クラスタのそれぞれに対して加重値平均を用いて前記第1方向の座標を計算し、前記第2クラスタのそれぞれに対して加重値平均を用いて前記第2方向の座標を計算し、前記第1方向の座標及び前記第2方向の座標を組み合わせて前記クラスタのそれぞれに対する座標を出力することを特徴とする請求項25に記載の接触位置検出方法。
  27. 前記タッチパネル部は、
    第1方向に伸張され、第2方向に配置された複数個の第1タッチパターンと、前記第1方向に伸張され、前記第2方向に配置された複数個の第2タッチパターンと、を備え、前記複数個の第1タッチパターンのそれぞれは、前記第1方向の一側に行くほど接触面積が減少し、前記複数個の第2タッチパターンのそれぞれは前記第1方向の他側に行くほど接触面積が減少し、
    前記接触位置検出方法は、
    前記第1タッチパターンのそれぞれに対して、前記第1方向の前記一側に基準パルスを印加し、前記基準パルスと前記第1方向の前記一側から発生された遅延パルスとの遅延時間差を測定して第1測定値を計算し、前記第2タッチパターンのそれぞれに対して、前記第1方向の前記他側に基準パルスを印加し、前記基準パルスと前記第1方向の前記他側から発生された遅延パルスとの遅延時間差を測定して第2測定値を計算し、前記第1測定値と前記第2測定値を前記測定値として出力する測定段階をさらに備えることを特徴とする請求項21に記載の接触位置検出方法。
  28. 前記クラスタリング段階は、
    前記第1測定値を入力して第1閾値を用いてクラスタリングされた第1方向の第1測定値を計算し、前記第2測定値を入力して前記第1閾値を用いてクラスタリングされた第1方向の第2測定値を計算し、前記第1測定値及び前記第2測定値のうちの前記第2方向の対応する位置に配置された前記第1タッチパターン及び前記第2タッチパターンに対する前記第1測定値と前記第2測定値を加算した第2方向の測定値を計算し、前記第2方向の測定値を入力して第2閾値を用いてクラスタリングされた第2方向の測定値を計算し、前記クラスタリングされた第1方向の第1測定値、前記クラスタリングされた第1方向の第2測定値、及び前記クラスタリングされた第2方向の測定値を前記クラスタリングされた測定値として出力することを特徴とする請求項27に記載の接触位置検出方法。
  29. 前記中心点計算段階は、
    前記クラスタリングされた第1方向の第1測定値及び前記クラスタリングされた第1方向の第2測定値のうちの対応する値の加重値平均を用いて前記クラスタの前記第1方向の座標を計算し、前記クラスタリングされた第2方向の測定値の加重値平均を用いて前記クラスタの第2方向の座標を計算することを特徴とする請求項28に記載の接触位置検出方法。
  30. 前記タッチパネル部は、
    第1方向に配置された複数個の第1タッチパターンと、前記第1方向と直交する第2方向に配置された複数個の第2タッチパターンと、を備え、前記第1タッチパターンのそれぞれは、前記第2方向に配置された複数個の第1タッチパッドと、前記複数個の第1タッチパッドのそれぞれを接続する第1接続パッドと、を備え、前記第2タッチパターンのそれぞれは、前記第1方向に伸張される第1バーと、前記第1バーと接続され、前記第2方向に伸張され、前記第1タッチパッドのそれぞれの前記第1方向の側辺に配置される複数個の第2バーと、を備え、
    前記接触位置検出方法は、
    前記第2タッチパターンのそれぞれに前記入力信号を印加し、前記第1タッチパターンのそれぞれから発生される前記出力信号を入力して前記第1タッチパターンのそれぞれと前記第2タッチパターンのそれぞれとの間のキャパシタンスを測定して、測定された前記キャパシタンスを前記測定値として出力することを特徴とする請求項21に記載の接触位置検出方法。
  31. 前記クラスタリング段階は、
    基準値から前記測定値を減算した後、減算した結果値のうちの前記閾値より大きい値で構成される、少なくとも1つの前記クラスタを含む前記クラスタリングされた測定値を出力することを特徴とする請求項30に記載の接触位置検出方法。
  32. 前記中心点計算段階は、
    前記クラスタのそれぞれに対して、前記クラスタリングされた測定値のうちの前記第1方向の測定値の加重値平均を用いて前記第1方向の座標を計算し、前記クラスタリングされた測定値のうちの前記第2方向の測定値の加重値平均を用いて前記第2方向の座標を計算し、前記第1方向の座標及び前記第2方向の座標を組み合わせて前記クラスタのそれぞれに対する座標を計算して出力することを特徴とする請求項31に記載の接触位置検出方法。
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