JP2013507333A - 2−アルコキシ−4−アルキルケトンフェノール化合物に基づく光保護組成物;太陽光線保護指数を増加させるための前記化合物の使用 - Google Patents
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Abstract
(a)UV放射線を遮断することができる1つの光保護系、及び
(b)1つの2-アルコキシ-4-アルキルケトンフェノール化合物
を含むことを特徴とする、皮膚及び/又は毛髪を紫外線から保護するための流体組成物に関する。本発明はまた、化粧品として許容される媒体中に、UV放射線を遮断することができる少なくとも1つの光保護系を含む組成物における、2-アルコキシ-4-アルキルケトンフェノール化合物の使用にも関する。
Description
(a)UV放射線を遮断することができる1つの光保護系、及び
(b)1つの2-アルコキシ-4-アルキルケトンフェノール化合物
を含むことを特徴とする、皮膚及び/又は毛髪を紫外線から保護するための流体組成物に関する。
(a)1種若しくは複数の親水性、親油性又は不溶性の有機遮断剤及び/又は被覆されていてもよく又は被覆されていなくてもよい1種若しくは複数の金属酸化物顔料により構成されるUV放射線を遮断することができる1つの光保護系、
(b)少なくとも1つの2-アルコキシ-4-アルキルケトンフェノール化合物
を含むことを特徴とする、皮膚及び/又は毛髪を紫外線から保護するための新規な流体組成物が提案される。
-R1は、(飽和)直鎖C1〜C4アルキル基、好ましくはメチル又はエチルを表し、
-R2は、水素原子又は(飽和)直鎖C1〜C4アルキル基、好ましくはメチル又はエチルを表し、
-R3は、ヒドロキシル基によって場合により置換されている(飽和)直鎖C1〜C12アルキル基;そうでなければヒドロキシル基によって場合により置換されている(不飽和C=C)直鎖C2〜C12アルケニル基を表す)。
-R2が、H及びCH3から選択され、さらに良いのは、R2は水素を示し、及び/又は
-R3が、(i)C1〜C10アルキル基、(ii)C2〜C10アルケニル基、特に-CH=CH-R4基(R4は、直鎖C1〜Cアルキル基を表す);そうでなければ(iii)構造-CH2-CH(OH)-R5のヒドロキシアルキル基(R5は、直鎖C1〜C10、好ましくはC4〜C10、アルキル基を表す)を表す、式(I)に対応する。
ジベンゾイルメタン誘導体:
DSM Nitritional Products社から「Parsol1789」の商標名で販売されているブチルメトキシジベンゾイルメタン。
パラ-アミノ安息香酸誘導体:
PABA、
エチルPABA、
エチルジヒドロキシプロピルPABA、
特にISPによって「Escalol507」の名称で販売されているエチルヘキシルジメチルPABA、
グリセリルPABA、
BASFによって「Uvinul P25」の名称で販売されているPEG-25PABA。
サリチル酸誘導体:
Rona/EM Industriesによって「Eusolex HMS」の名称で販売されているホモサレート、
Symriseによって「Neo Heliopan OS」の名称で販売されているエチルヘキシルサリチレート、
Scherによって「Dipsal」の名称で販売されているジプロピレングリコールサリチレート、
Symriseによって「Neo Heliopan TS」の名称で販売されているTEAサリチレート。
ケイ皮酸誘導体:
特にDSM Nutritional Productsによって商標名「Parsol MCX」で販売されているエチルヘキシルメトキシシンナメート、
イソプロピルメトキシシンナメート、
Symriseによって商標名「Neo Heliopan E1000」で販売されているイソアミルメトキシシンナメート、
シノキセート、
DEAメトキシシンナメート、
ジイソプロピルメチルシンナメート、
グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート。
β,β-ジフェニルアクリレート誘導体:
特にBASFによって商標名「Uvinul N539」で販売されているオクトクリレン、
特にBASFによって商標名「Uvinul N35」で販売されているエトクリレン。
ベンゾフェノン誘導体:
BASFによって商標名「Uvinul400」で販売されているベンゾフェノン-1、
BASFによって商標名「Uvinul D50」で販売されているベンゾフェノン-2、
BASFによって商標名「Uvinul M40」で販売されているベンゾフェノン-3又はオキシベンゾン、
BASFによって商標名「Uvinul MS40」で販売されているベンゾフェノン-4、
ベンゾフェノン-5、
Norquayによって商標名「Helisorb11」で販売されているベンゾフェノン-6、
American Cyanamidによって商標名「Spectra-Sorb UV-24」で販売されているベンゾフェノン-8、
BASFによって商標名「Uvinul DS-49」で販売されているベンゾフェノン-9、
ベンゾフェノン-12、
BASFによって商標名「Uvinul A+」で又はメトキシケイ皮酸オクチルとの混合物の形態で商標名「Uvinul A+B」で販売されているn-ヘキシル2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシ-ベンゾイル)ベンゾエート。
ベンジリデンカンファー誘導体:
Chimexによって「Mexoryl SD」の名称で製造されている3-ベンジリデンカンファー、
Merckによって「Eusolex6300」の名称で販売されている4-メチルベンジリデンカンファー、
Chimexによって「Mexoryl SL」の名称で製造されているベンジリデンカンファースルホン酸、
Chimexによって「Mexoryl SO」の名称で製造されているカンファーベンザルコニウムメトサルフェート、
Chimexによって「Mexoryl SX」の名称で製造されているテレフタリリデンジカンファースルホン酸、
Chimexによって「Mexoryl SW」の名称で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー。
フェニルベンズイミダゾール誘導体:
特にMerckによって商標名「Eusolex232」で販売されているフェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
Symriseによって商標名「Neo Heliopan AP」で販売されているフェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム。
ベンゾトリアゾール誘導体:
Rhodia Chimieによって「Silatrizole」の名称で販売されているドロメトリゾールトリシロキサン、
Fairmount Chemicalによって商標名「MIXXIM BB/100」で固体形態で販売されている、又はCiba Specialty Chemicalsによって商標名「Tinosorb M」で微粉化にされた形態で水性分散液として販売されている、メチレンビス-ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール。
トリアジン誘導体:
Ciba Geigyによって商標名「Tinosorb S」で販売されているビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、
特にBASFによって商標名「Uvinul T150」で販売されているエチルヘキシルトリアゾン、
Sigma3Vによって商標名「Uvasorb HEB」で販売されているジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
2,4-ビス(n-ブチル4'-ベンザルマロネート)-6-[(3-{1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル}プロピル)アミノ]-s-トリアジン、
2,4,6-トリス(ジイソブチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、
2,4,6-トリス(ジネオペンチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、
2,4-ビス(ジネオペンチル4'-アミノベンザルマロネート)-6-(n-ブチル4'-アミノベンゾエート)-s-トリアジン、
特許US6,225,467、特許出願WO2004/085412(化合物6及び9を参照)又は文書「Symmetrical Triazine Derivatives」、IP.COM Journal、IP.COM Inc、West Henrietta、NY、US(2004年9月20日)に記載されている対称トリアジン遮断剤、特に2,4,6-トリス(ビフェニル)-1,3,5-トリアジン(特に、Beiersdorfの出願WO06/035000、WO06/034982、WO06/034991、WO06/035007、WO2006/034992及びWO2006/034985に含まれている2,4,6-トリス(ビフェニル-4-イル)-1,3,5-トリアジン)及び2,4,6-トリス(テルフェニル)-1,3,5-トリアジン)。
アントラニル酸誘導体:
Symriseによって商標名「Neo Heliopan MA」で販売されているアントラニル酸メンチル。
イミダゾリン誘導体:
エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオネート。
ベンザルマロネート誘導体:
ジネオペンチル4'-メトキシベンザルマロネート、
ベンザルマロネート官能基を含むポリオルガノシロキサン、例えば、DSM Nutritional Productsによって商標名「Parsol SLX」で販売されているポリシリコーン-15。
4,4-ジアリールブタジエン誘導体:
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン。
ベンゾオキサゾール誘導体:
Sigma3VによりUvasorb K2Aの名称で販売されている2,4-ビス[5-(1-ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-2-イル-(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン、及びそれらの混合物。
エチルヘキシルメトキシシンナメート、
ホモサレート、
エチルヘキシルサリチレート、
オクトクリレン、
ブチルメトキシジベンゾイルメタン、
テレフタリリデンジカンファースルホン酸、
フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、
フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
ベンゾフェノン-3、
n-ヘキシル2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)ベンゾエート、
4-メチルベンジリデンカンファー、
エチルヘキシルトリアゾン、
ビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
2,4-ビス(n-ブチル4'-アミノベンザルマロネート)-6-[(3-{1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル}プロピル)-アミノ]-s-トリアジン、
2,4,6-トリス(ビフェニル-4-イル)-1,3,5-トリアジン、
2,4,6-トリス(ジネオペンチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、
2,4,6-トリス(ジイソブチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、
2,4-ビス(ジネオペンチル4'-アミノベンザルマロネート)-6-(n-ブチル4'-アミノベンゾエート)-s-トリアジン、
メチレンビス-ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、
ドロメトリゾールトリシロキサン、
ポリシリコーン-15、
ジ-ネオペンチル4'-メトキシベンザルマロネート、
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン、
2,4-ビス[5-1(-ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-2-イル-(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン、
及びそれらの混合物。
-シリカで被覆された酸化チタン、例えば、池田物産株式会社の製品「Sunveil」及びMerck社の製品「Eusolex T-AVO」、
-シリカ及び酸化鉄で被覆された酸化チタン、例えば、池田物産株式会社の製品「Sunveil F」、
-シリカ及びアルミナで被覆された酸化チタン、例えば、テイカ株式会社の製品「Microtitanium Dioxide MT500SA」及び「Microtitanium Dioxide MT100SA」、Tioxide社の「Tioveil」並びにRhodia社の「Mirasun TiW60、
-アルミナで被覆された酸化チタン、例えば、石原産業株式会社の製品「Tipaque TTO-55(B)」及び「Tipaque TTO-55(A)」並びにKemira社の「UVT14/4」、
-アルミナ及びステアリン酸アルミニウムで被覆された酸化チタン、例えば、テイカ株式会社の製品「Microtitanium Dioxide MT100T、MT100TX、MT100Z及びMT-01」、並びにUniqema社の製品「Solaveil CT-10W」、「Solaveil CT100」及び「Solaveil CT200」、
-シリカ、アルミナ及びアルギン酸で被覆された酸化チタン、例えば、テイカ株式会社の製品「MT-100AQ」、
-アルミナ及びラウリン酸アルミニウムで被覆された酸化チタン、例えば、テイカ株式会社の製品「Microtitanium Dioxide MT100S」、
-酸化鉄及びステアリン酸鉄で被覆された酸化チタン、例えば、テイカ株式会社の製品「Microtitanium Dioxide MT100F」、
-酸化亜鉛及びステアリン酸亜鉛で被覆された酸化チタン、例えば、テイカ株式会社の製品「BR351」、
-シリカ及びアルミナで被覆され、シリコーン処理された酸化チタン、例えば、テイカ株式会社の製品「Microtitanium Dioxide MT600SAS」、「Microtitanium Dioxide MT500SAS」又は「Microtitanium Dioxide MT100SAS」、
-シリカ、アルミナ及びステアリン酸アルミニウムで被覆され、シリコーン処理された酸化チタン、例えば、チタン工業株式会社の製品「STT-30-DS」、
-シリカで被覆され、シリコーン処理された酸化チタン、例えば、Kemira社の製品「UV-Titan X195」、又はテイカ株式会社の製品「SMT-100WRS」、
-アルミナで被覆され、シリコーン処理された酸化チタン、例えば、石原産業株式会社の製品「Tipaque TTO-55(S)」又はKemira社の製品「UV Titan M262」、
-トリエタノールアミンで被覆された酸化チタン、例えば、チタン工業株式会社の製品「STT-65-S」、
-ステアリン酸で被覆された酸化チタン、例えば、石原産業株式会社の製品「Tipaque TTO-55(C)」、
-ヘキサメタリン酸ナトリウムで被覆された酸化チタン、例えば、テイカ株式会社の製品「Microtitanium Dioxide MT150W」。
-Sunsmart社によって「Z-Cote」の名称で販売されているもの;
-Elementis社によって「Nanox」の名称で販売されているもの;
-Nanophase Technologies社によって「Nanogard WCD2025」の名称で販売されているもの。
-Sunsmart社によって「Z-Cote HP1」の名称で販売されているもの(ジメチコーン被覆ZnO);
-Toshibi社によって「Zinc Oxide CS-5」の名称で販売されているもの(ポリメチル水素シロキサンで被覆されたZnO);
-Nanophase Technologies社によって「Nanogard Zinc Oxide FN」の名称で販売されているもの(Finsolv TN、C12〜C15アルキルベンゾエート中40%分散液として);
-大東化成株式会社によって「Daitopersion ZN-30」及び「Daitopersion ZN-50」の名称で販売されているもの(シリカ及びポリメチル水素シロキサンで被覆されたナノ亜鉛酸化物30%又は50%を含む、シクロポリメチルシロキサン/オキシエチレン化ポリジメチルシロキサン中分散液);
-Daikin社によって「NFD Ultrafine ZnO」の名称で販売されているもの(シクロペンタシロキサン中分散液としての、ペルフルオロアルキルホスフェート及びペルフルオロアルキルエチルをベースとするコポリマーで被覆されたZnO);
-信越化学工業株式会社によって「SPD-Z1」の名称で販売されているもの(シクロジメチルシロキサン中に分散された、シリコーングラフトアクリルポリマーで被覆されたZnO);
-ISP社によって「Escalol Z100」の名称で販売されているもの(エチルヘキシルメトキシシンナメート/PVP-ヘキサデセンコポリマー/メチコーン混合物中に分散された、アルミナ処理ZnO);
-富士色素株式会社によって「Fuji ZnO-SMS-10」の名称で販売されているもの(シリカ及びポリメチルシルセスキオキサンで被覆されたZnO);
-Elementis社によって「Nanox Gel TN」の名称で販売されているもの(ヒドロキシステアリン酸重縮合物を含むC12〜C15アルキルベンゾエート中に55%の濃度で分散されたZnO)。
組成物は、これらの活性剤の生物学的効果の補完又は即効性の視覚効果の提供を目的とする少なくとも1種の追加成分をさらに含むことが可能であり、特に、艶消剤、ソフトフォーカス効果充填剤、蛍光剤、皮膚の自然なピンクがかった着色を促すための作用剤、及び研磨(abrasive)又は剥離(exfoliating)充填剤に言及することができる。
「艶消剤」という用語は、皮膚を視覚的により艶消し、より光沢を少なくすることを目的とする作用剤を意味する。
-米又はトウモロコシ澱粉、特に、National Starch社によってDry Flo(登録商標)の名称で販売されているアルミニウム澱粉オクテニルスクシネート;
-カオリナイト;
-シリカ;
-タルク;
-Indena社によってCurbilene(登録商標)の名称で販売されているカボチャ種子エキス;
-特許出願EP1562562に記載されているセルロースマイクロビーズ;
-繊維、例えば、絹繊維、綿繊維、羊毛繊維、亜麻繊維、特に木材、植物又は藻類から抽出されたセルロース繊維、ポリアミド(Nylon(登録商標))繊維、変性セルロース繊維、ポリ(p-フェニレンテレフタルアミド)繊維、アクリル繊維、ポリオレフィン繊維、ガラス繊維、シリカ繊維、アラミド繊維、炭素繊維、Teflon(登録商標)繊維、不溶性コラーゲン繊維、ポリエステル繊維、ポリ塩化ビニル又はポリ塩化ビニリデン繊維、ポリビニルアルコール繊維、ポリアクリロニトリル繊維、キトサン繊維、ポリウレタン繊維、ポリエチレンフタレート繊維、ポリマーの混合物から形成された繊維、吸収性合成繊維(resorbable synthetic fibre)、及びそれらの混合物(特許出願EP1151742に記載);
-発泡アクリルコポリマー微小球、例えば、Expancel551(登録商標)の名称でEXPANCEL社によって販売されているもの;
-光学効果を有する充填剤(特に特許出願FR2869796に記載されているもの)
-ポリアミド(Nylon(登録商標))粉末、例えば、平均粒径が10ミクロン及び屈折率が1.54の、Arkema製のOrgasol型のNylon-12粒子、
-シリカ粉末、例えば、平均粒径が5ミクロン及び屈折率が1.45の、三好化成株式会社製のSilica beads SB150、
-ポリテトラフルオロエチレン粉末、例えば、平均粒径が8ミクロン及び屈折率が1.36の、Clariant製のPTFE Ceridust9205F、
-シリコーン樹脂粉末、例えば、平均粒径が4.5ミクロン及び屈折率が1.41の、GE Silicone製のシリコーン樹脂Tospearl145A、
-アクリルコポリマー粉末、特にポリメチル(メタ)アクリレートのアクリルコポリマー粉末、例えば、平均粒径が8ミクロン及び屈折率が1.49の、Nihon Junyoki製のPMMA粒子Jurymer MBI、又は松本油脂製薬株式会社製のMicropearl M100(登録商標)及びF80ED(登録商標)粒子、
-ワックス粉末、例えば、平均粒径が7ミクロン及び屈折率が1.54の、Micropowders製のパラフィンワックス粒子Microease114S;
-ポリエチレン粉末、特に少なくとも1種のエチレン/アクリル酸コポリマーを含むもの、具体的にはエチレン/アクリル酸コポリマーから構成されるもの、例えば、Sumitomo製の粒子Flobeads EA209(平均粒径10ミクロン及び屈折率1.48)、
-シリコーン樹脂、特にシルセスキオキサン樹脂で被覆されたエラストマー性架橋オルガノポリシロキサン粉末(例えば、特許US5538793に記載)(このようなエラストマー粉末は、信越化学工業株式会社によってKSP-100、KSP-101、KSP-102、KSP-103、KSP-104及びKSP-105の名称で販売されている)、並びに
-タルク/二酸化チタン/アルミナ/シリカ複合粉末、例えば、Catalyst & Chemicals社によってCoverleaf(登録商標)AR-80の名称で販売されているもの、
-それらの混合物、
-特許出願FR2869796に記載されている、皮脂を吸収及び/又は吸着する化合物。特に、以下のものを挙げることができる:
-シリカ粉末、例えば、三好化成株式会社によってSilica Beads SB-700の名称で販売されている多孔質シリカ微小球、旭硝子株式会社によってSunsphere(登録商標)H51、Sunsphere(登録商標)H33及びSunsphere(登録商標)H53で販売されている製品、旭硝子株式会社によって販売されているSA Sunsphere(登録商標)H-33及びSA Sunsphere(登録商標)H-53の名称で販売されているポリジメチルシロキサン被覆非晶質シリカ微小球;
-非晶質混合シリケート粉末、特に、アルミニウム及びマグネシウムの非晶質混合シリケート粉末、例えば、Sumitomo社によってNeusilin UFL2の名称で販売されている製品;
-ポリアミド(Nylon(登録商標))粉末、例えば、Arkema社によって販売されているOrgasol(登録商標)4000、及び
-アクリルポリマー粉末、特にポリメチルメタクリレート粉末(例えば、Wackherr社によって販売されているCovabead(登録商標)LH85)、ポリメチルメタクリレート/エチレングリコールジメタクリレート粉末(例えば、Dow Corning社によって販売されているDow Corning5640Microsponge(登録商標)Skin Oil Adsorber又はGanz Chemical社によって販売されているGanzpearl(登録商標)GMP-0820)、ポリアリルメタクリレート/エチレングリコールジメタクリレート粉末(例えば、Amcol社によって販売されているPoly-Pore(登録商標)L200又はPoly-Pore(登録商標)E200)、エチレングリコールジメタクリレート/ラウリルメタクリレートコポリマー粉末(例えば、Dow Corning社によって販売されているPolytrap(登録商標)6603);
-シリケート粒子、例えば、アルミナシリケート;
-混合シリケート粒子、例えば:
-マグネシウムアルミニウムシリケート粒子、例えば、サポナイト又はクニミネ工業株式会社によって商標名Sumecton(登録商標)で販売されている、硫酸ナトリウムを含む水和マグネシウムアルミニウムシリケート;
-ケイ酸マグネシウム、ヒドロキシエチルセルロース、ブラッククミンオイル、マローオイル及びリン脂質の複合体又はLucas Meyer製のMatipure(登録商標)、並びに
-それらの混合物。
これらの充填剤は、固有の物理的性質によって皺を修正する及び隠すことができる任意の物質とすることができる。これらの充填剤は特に、テンショニング効果、被覆効果又はソフトフォーカス効果によって皺を修正することができる。
-多孔質シリカ微小粒子、例えば、三好化成株式会社製のSilica Beads(登録商標)SB150及びSB700(平均粒径5μm)及び旭硝子株式会社製のSunspheres(登録商標)Hシリーズ、例えば、Sunspheres H33、H51(粒径はそれぞれ、3.5及び5μm);
-中空半球形シリコーン樹脂粒子、例えば、特にEP-A-1579849に記載されている、竹本油脂株式会社製のNLK500(登録商標)、NLK506(登録商標)及びNLK510(登録商標);
-シリコーン樹脂粉末、例えば、GE Silicone製のシリコーン樹脂Tospearl(登録商標)145A(平均粒径4.5μm);
-アクリルコポリマー粉末、特にポリメチル(メタ)アクリレート粉末、例えば、Nihon Junyoki製のPMMA粒子Jurimer MBI(登録商標)(平均粒径8μm)、Wackherr社によってCovabead(登録商標)LH85の名称で販売されているPMMA中空球、及びExpancel(登録商標)の名称で販売されているビニリデン/アクリロニトリル/メタクリル酸メチレン発泡微小球;
-ワックス粉末、例えば、Micropowders製のパラフィンワックス粒子MicroEase(登録商標)114S(平均粒径7μm);
-ポリエチレン粉末、特に少なくとも1種のエチレン/アクリル酸コポリマーを含むもの、例えば、Sumitomo製のFlobeads(登録商標)EA209E(平均粒径10μm);
-シリコーン樹脂、特にシルセスキオキサン樹脂で被覆された架橋エラストマー性オルガノポリシロキサン粉末(信越化学工業株式会社によってKSP-100(登録商標)、KSP-101(登録商標)、KSP-102(登録商標)、KSP-103(登録商標)、KSP-104(登録商標)及びKSP-105(登録商標)の名称で販売されている);
-タルク/二酸化チタン/アルミナ/シリカ複合粉末、例えば、Catalyst & Chemical社製のCoverleaf AR-80(登録商標);
-タルク、マイカ、カオリン、ラウリルグリシン、無水コハク酸オクテニルで架橋された澱粉粉末、窒化ホウ素、ポリテトラフルオロエチレン粉末、沈降炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸水素マグネシウム、硫酸バリウム、ヒドロキシアパタイト、ケイ酸カルシウム、二酸化セリウム及びガラス又はセラミックマイクロカプセル;
-親水性又は疎水性の、合成又は天然の、無機又は有機の繊維、例えば、絹繊維、綿繊維、羊毛繊維、亜麻繊維、特に木材、植物又は藻類から抽出されたセルロース繊維、ポリアミド(Nylon(登録商標))繊維、変性セルロース繊維、ポリ(p-フェニレンテレフタルアミド)繊維、アクリル繊維、ポリオレフィン繊維、ガラス繊維、シリカ繊維、アラミド繊維、炭素繊維、ポリテトラフルオロエチレン(Teflon(登録商標))繊維、不溶性コラーゲン繊維、ポリエステル繊維、ポリ塩化ビニル繊維、ポリ塩化ビニリデン繊維、ポリビニルアルコール繊維、ポリアクリロニトリル繊維、キトサン繊維、ポリウレタン繊維、ポリエチレンフタレート繊維、ポリマーの混合物から形成された繊維、吸収性合成繊維、及びそれらの混合物(特許出願EP1151742に記載);
-球形エラストマー性架橋シリコーン、例えば、Dow Corning製のTrefil E-505C(登録商標)又はE-506C(登録商標);
-機械的作用によって皮膚のマクロレリーフを平坦化する研磨充填剤、例えば、研磨シリカ、例えば、Semanez製のAbrasif SP(登録商標)又はナッツ若しくはシェル粉末(例えば、Cosmetochem製のアプリコット又はクルミ粉末)。
特に、以下のものを挙げることができる:
-セルフタンニング剤、即ち、皮膚、特に顔への適用時に、日光への長期間曝露(自然の日焼け)又はUVランプ下で生じ得るのと程度の差はあるが同様な外観の日焼け効果を生じることができる作用剤;
-追加の着色剤、即ち、持続的で非被覆性の(即ち、皮膚を不透明化する傾向がない)着色を皮膚に与えることができ、水を用いても、又は溶媒を使用しても除去されず、摩擦にも界面活性剤を含む水溶液による洗浄にも耐える、皮膚に対して特別な親和性を有する任意の化合物(したがって、このよう持続的な着色は、例えばメークアップ顔料によって提供される表面的で一時的な着色とは区別される);
及びそれらの混合物。
ジヒドロキシアセトン(DHA)、
エリトルロース、及び
以下から形成される触媒系の組合せ:
-マンガン及び/又は亜鉛の酸化物及び塩、並びに
-アルカリ金属及び/又はアルカリ土類金属炭酸水素塩。
-CTFA名:CI45380又はRed21として知られるテトラブロモフルオレセイン又はエオシン;
-CTFA名:CI45410又はRed27として知られるフロキシンB;
-CTFA名:CI45425又はOrange10として知られるジヨードフルオレセイン;
-CTFA名: CI45370又はOrange5として知られるジブロモフルオレセイン;
-CTFA名:CI45380(Na塩)又はRed22として知られるテトラブロモフルオレセインのナトリウム塩;
-CTFA名:CI45410(Na塩)又はRed28として知られるフロキシンBのナトリウム塩;
-CTFA名:CI45425(Na塩)又はOrange11として知られるジヨードフルオレセインのナトリウム塩;
-CTFA名:CI45430又はAcid Red51として知られるエリトロシン;
-CTFA名:CI45405又はAcid Red98として知られるフロキシン。
本発明によるリンスアウト(rinse-out)組成物中に使用することができる剥離剤として、言及することができる例は、鉱物、植物又は有機由来の剥離又はスクラブ粒子を含む。したがって、例えば、ポリエチレンビーズ又は粉末、Nylon粉末、ポリ塩化ビニル粉末、軽石粉末、粉砕杏仁又はクルミ殻、おがくず、ガラスビーズ及びアルミナ、並びにそれらの混合物を使用できる。また、Solabia製のExfogreen(登録商標)(竹エキス)、イチゴ痩果エキス(Greentech製のStrawberry Achenes)、桃仁粉末、杏仁粉末を挙げることができ、最後に、研磨効果を有する植物粉末の分野において、クランベリー仁粉末を挙げることができる。
(実施例1及び2)
以下の成分を含有する日焼け止め製剤を調製した。
Claims (11)
- 化粧品として許容される水性担体中に、
(a)1種若しくは複数の親水性、親油性又は不溶性の有機遮断剤及び/又は被覆されていてもよく又は被覆されていなくてもよい1種若しくは複数の金属酸化物顔料により構成される、UV放射線を遮断することができる少なくとも1つの光保護系;及び
(b)少なくとも1つの2-アルコキシ-4-アルキルケトンフェノール化合物
を含むことを特徴とする、皮膚及び/又は毛髪を紫外線から保護するための流体組成物。 - 2-アルコキシ-4-アルキルケトンフェノール化合物が、
-R2が、H及びCH3から選択され、及び/又は
-R3が、(i)C1〜C10アルキル基、(ii)C2〜C10アルケニル基、特に、-CH=CH-R4基(R4は、直鎖C1〜Cアルキル基を表す)、そうでなければ(iii)構造-CH2-CH(OH)-R5のヒドロキシアルキル基(R5は直鎖C1〜C10、好ましくはC4〜C10、アルキル基を表す)を表す、
式(I)の化合物から選択される、請求項2に記載の組成物。 - 2-アルコキシ-4-アルキルケトンフェノール化合物が、組成物の総重量に対して0.01〜10重量%及びより好ましくは、さらに0.5〜5 %及びより詳細には、さらに1〜3 %の範囲の濃度で存在する、請求項1から5のいずれか一項に記載の組成物。
- 有機UV遮断剤が、ケイ皮酸誘導体、アントラニラート、サリチル酸誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、カンファー誘導体、ベンゾフェノン誘導体、β,β-ジフェニルアクリレート誘導体、トリアジン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンザルマロネート誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、イミダゾリン、ビス-ベンゾアゾリル誘導体、p-アミノ安息香酸(PABA)誘導体、メチレンビス-(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、遮断ポリマー及び遮断シリコーン、α-アルキルスチレンから誘導される二量体、4,4-ジアリールブタジエン、メロシアニン誘導体、及びそれらの混合物から選択される、請求項1に記載の組成物。
- 前記有機UV遮断剤が、以下:
エチルヘキシルメトキシシンナメート、
ホモサレート、
エチルヘキシルサリチレート、
オクトクリレン、
ブチルメトキシジベンゾイルメタン、
テレフタリリデンジカンファースルホン酸、
フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、
フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
ベンゾフェノン-3、
n-ヘキシル2-(4-ジエチル-アミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)ベンゾエート、
4-メチルベンジリデンカンファー、
エチルヘキシルトリアゾン、
ビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
2,4-ビス(n-ブチル4'-アミノベンザルマロネート)-6-[(3-{1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル}プロピル)-アミノ]-s-トリアジン、
2,4,6-トリス(ビフェニル-4-イル)-1,3,5-トリアジン、
2,4,6-トリス(ジネオペンチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、
2,4,6-トリス(ジイソブチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、
2,4-ビス(ジネオペンチル4'-アミノベンザルマロネート)-6-(n-ブチル4'-アミノベンゾエート)-s-トリアジン、
メチレンビス-ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、
ドロメトリゾールトリシロキサン、
ポリシリコーン-15、
ジ-ネオペンチル4'-メトキシベンザルマロネート、
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン、
2,4-ビス[5-1(ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-2-イル-(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン、
及びそれらの混合物
から選択される、請求項7に記載の組成物。 - 金属酸化物粒子が、500nm以下の、より好ましくは5nmから500nmの間の、及びより好ましくはさらに10nmから100nmの間の、好ましくは15nmから50nmの間の平均基本粒子径を有する、請求項1に記載の組成物。
- 前記金属酸化物粒子が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化セリウム又はそれらの混合物から選択される、請求項9に記載の組成物。
- 太陽光線保護指数(SPF)を増加させるための、化粧品として許容される水性担体中に、請求項1から10のいずれか一項に定義のUV放射線を遮断することができる少なくとも1つの光保護系を含む組成物における、請求項1から10のいずれか一項に定義の2-アルコキシ-4-アルキルケトンフェノール化合物の使用。
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