JP2013257898A - タッチセンサ付き表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】複数の表示画素電極と、共通電極と、画像表示機能を有する表示機能層と、画像信号に基づいて、表示画素電極と共通電極との間に表示用電圧を印加して表示機能層の表示機能を発揮させるように画像表示制御を行う表示制御回路と、共通電極と対向して、または並んで設けられ、共通電極との間に静電容量を形成するタッチ検出電極と、表示制御回路およびタッチ検出電極が形成された回路基板と、回路基板と対向して配設された対向基板と、を備え、回路基板に共通電極および表示画素電極が形成され、回路基板の表示画素電極と、対向基板との間に表示機能層が設けられ、共通電極が、回路基板の表示領域の内側に配設され、タッチ検出電極が、回路基板上の表示領域を取り囲む額縁領域に、共通電極と同一階層の電極層として共通電極から隔てて形成されている。
【選択図】図4
Description
図4は、本実施の形態のタッチセンサ付き表示装置の要部断面構造を表すものである。このタッチセンサ付き表示装置は、表示素子として液晶表示素子を用いると共に、この液晶表示素子に元々備えられている電極の一部(後述する共通電極43)および表示用駆動信号(後述するコモン駆動信号Vcom)を兼用して静電容量型タッチセンサを構成したものである。
次に、第2の実施の形態について説明する。本実施の形態は、上記第1の実施の形態の場合とは異なり、表示素子として横電界モードの液晶素子を用いるようにしたものである。
第2の実施の形態では、センサ用検出電極44をガラス基板41の表面側(液晶層6と反対側)に設けるようにしたが、次のような変形が可能である。
上記第1および第2の実施の形態では、センサ用検出電極44を表示領域に配設するようにしたが、本実施の形態は、図16,図17に示したように、センサ用検出電極44を表示領域Dの周りの領域(額縁領域F)に設けるようにしたものである。なお、図17は本実施の形態のタッチセンサ付き表示装置の平面構成を表し、図16は、図17におけるA−A矢視断面を表す。
上記第3の実施の形態では、TFT基板21上に共通電極43とセンサ用検出電極44とを並べて配設し、横方向容量結合により容量素子C1を形成するようにしたが、これとは異なり、縦方向容量結合により容量素子C1を形成することも可能である。例えば図19に示したように、共通電極43をTFT基板21上の表示領域Dのみならず額縁領域Fにまで延在させると共に、センサ用検出電極44を、TFT基板21の額縁領域Fにおいて、共通電極43と異なる階層の電極層として共通電極43に対向するように形成する。これにより、共通電極43とセンサ用検出電極44との間に容量素子C1が形成される。この場合には、センサ用検出電極44とTFT基板21との間を結ぶコンタクト導電柱7Cを設け、これにより、センサ用検出電極44からの検出信号Vdet をTFT基板21側に伝送するようにすればよい。
Claims (8)
- 複数の表示画素電極と、
共通電極と、
画像表示機能を有する表示機能層と、
画像信号に基づいて、前記表示画素電極と前記共通電極との間に表示用電圧を印加して前記表示機能層の表示機能を発揮させるように画像表示制御を行う表示制御回路と、
前記共通電極と対向して、または並んで設けられ、前記共通電極との間に静電容量を形成するタッチ検出電極と、
前記表示制御回路および前記タッチ検出電極が形成された回路基板と、
前記回路基板と対向して配設された対向基板と、
を備え、
前記回路基板に前記共通電極および前記表示画素電極が形成され、
前記回路基板の前記表示画素電極と、前記対向基板との間に前記表示機能層が設けられ、
前記共通電極が、前記回路基板の表示領域の内側に配設され、
前記タッチ検出電極が、前記回路基板上の前記表示領域を取り囲む額縁領域に、前記共通電極と同一階層の電極層として前記共通電極から隔てて形成されている
タッチセンサ付き表示装置。 - 複数の表示画素電極と、
共通電極と、
画像表示機能を有する表示機能層と、
画像信号に基づいて、前記表示画素電極と前記共通電極との間に表示用電圧を印加して前記表示機能層の表示機能を発揮させるように画像表示制御を行う表示制御回路と、
前記共通電極と対向して、または並んで設けられ、前記共通電極との間に静電容量を形成するタッチ検出電極と、
前記表示制御回路および前記タッチ検出電極が形成された回路基板と、
前記回路基板と対向して配設された対向基板と、
を備え、
前記回路基板に前記共通電極および前記表示画素電極が形成され、
前記回路基板の前記表示画素電極と、前記対向基板との間に前記表示機能層が設けられ、
前記共通電極が、前記回路基板上の前記表示領域から前記額縁領域にまで延在し、
前記タッチ検出電極が、前記回路基板の前記額縁領域において、前記共通電極と異なる階層の電極層として前記共通電極に対向して形成されている
タッチセンサ付き表示装置。 - 前記共通電極は、前記表示画素電極と対向して設けられ、
前記タッチ検出電極は、前記表示制御回路により前記共通電極に印加される駆動信号に基づく検出信号を出力する
請求項1または2に記載のタッチセンサ付き表示装置。 - 前記共通電極は、前記複数の表示画素電極と対向して複数設けられ、
前記タッチ検出電極は、前記複数の共通電極との間に静電容量をそれぞれ形成し、
前記表示制御回路は、共通電極を順次駆動して走査することにより、充放電される静電容量を走査し、前記タッチ検出電極が、その充放電に応じた検出信号を出力する
請求項1または2に記載のタッチセンサ付き表示装置。 - 前記共通電極および前記表示画素電極は、前記回路基板に絶縁層を介して順に積層されている
請求項1から請求項4のいずれか一項に記載のタッチセンサ付き表示装置。 - 前記表示機能層は、前記回路基板の前記表示画素電極と、前記対向基板との間に挿設されている
請求項1から請求項4のいずれか一項に記載のタッチセンサ付き表示装置。 - 前記タッチ検出電極を電磁的にシールドするシールド電極が配設されている
請求項1から請求項6のいずれか一項に記載のタッチセンサ付き表示装置。 - 前記表示機能層が液晶層であり、横電界モードでの液晶表示が行われる
請求項1から請求項7のいずれか一項に記載のタッチセンサ付き表示装置。
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