JP2013242508A - Optical film, transfer body for optical film, image display device, and mold for manufacturing optical film - Google Patents

Optical film, transfer body for optical film, image display device, and mold for manufacturing optical film Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To effectively avoid deterioration of orientation in a liquid crystal layer of a pattern retardation film applied to three-dimensional image display in a passive system, to improve adhesion between an orientation film and the liquid crystal layer better than before.SOLUTION: An optical film includes a base material 2 made of a transparent film, an orientation film 3 prepared on one surface of the base material 2, and a liquid crystal layer 4 prepared on the orientation film 3 and oriented and solidified by an orientation regulating force of the orientation film 3. The orientation film 3 has the ten-point average roughness (Rz) of 10 nm or more and 45 nm or less.

Description

本発明は、パッシブ方式による3次元画像表示に適用するパターン位相差フィルム、1/2位相差板、1/4位相差板等の光学フィルム、これらを使用した画像表示装置、これら光学フィルムの製造方法に関するものである。   The present invention relates to an optical film such as a pattern phase difference film, a half phase difference plate, and a quarter phase difference plate applied to a three-dimensional image display by a passive method, an image display device using them, and production of these optical films. It is about the method.

従来、画像表示装置等に適用する光学フィルムに関して、配向膜により重合性液晶を配向させて所望の光学特性を確保する方法が提案されている。またこの配向膜の作製には、賦型用金型を使用した賦型処理、ポリイミド膜のラビング処理等が提案されている。   2. Description of the Related Art Conventionally, with respect to an optical film applied to an image display device or the like, a method for securing desired optical characteristics by aligning a polymerizable liquid crystal with an alignment film has been proposed. For the production of the alignment film, a molding process using a mold for molding, a rubbing process for a polyimide film, and the like have been proposed.

すなわちパッシブ方式の画像表示装置では、画像表示パネルの垂直方向に連続する画素を、順次交互に、右目用及び左目用に割り当て、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動する。これによりパッシブ方式では、右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。なおこれにより画像表示パネルの画面は、短辺が垂直方向で長辺が水平方向となる帯状の領域により、右目用の画像を表示する領域と左目用の画像を表示する領域とに交互に区分される。   That is, in the passive image display device, pixels that are continuous in the vertical direction of the image display panel are sequentially and alternately assigned to the right eye and the left eye, and are driven by the image data for the right eye and the left eye, respectively. Thus, in the passive method, the image for the right eye and the image for the left eye are displayed simultaneously. In this manner, the screen of the image display panel is alternately divided into a region for displaying a right-eye image and a region for displaying a left-eye image by a band-shaped region having a short side in a vertical direction and a long side in a horizontal direction. Is done.

パッシブ方式の画像表示装置では、配向膜と重合性液晶層とを備えた光学フィルムであるパターン位相差フィルムが表示画面に配置され、このパターン位相差フィルムにより画像表示パネルの右目用及び左目用の画素からの直線偏光による出射光を、右目用及び左目用で回転方向の異なる円偏光に変換して出射する。   In the passive type image display device, a pattern retardation film, which is an optical film including an alignment film and a polymerizable liquid crystal layer, is arranged on a display screen, and the pattern retardation film is used for the right eye and the left eye of the image display panel. Light emitted from the pixel by linearly polarized light is converted into circularly polarized light having different rotation directions for the right eye and the left eye, and then emitted.

このためパターン位相差フィルムは、透明フィルムによる基材の表面に、配向規制力を制御した配向膜が作製され、さらに液晶材料が塗布される。パターン位相差フィルムは、この液晶材料が配向膜の配向規制力によりパターンニングされて硬化され、これによりこの液晶材料層により、画像表示パネルからの出射光に対応する位相差を与える。この配向膜については、例えば賦型用金型の表面に形成された微細な凹凸形状を紫外線硬化性樹脂等による賦型用樹脂層に賦型して作製する方法が提案されている(特許文献1)。またこれに代えて、基材上のポリイミド膜をラビング処理して作製する方法も提案されている(特許文献2)。   For this reason, in the pattern retardation film, an alignment film in which the alignment regulating force is controlled is produced on the surface of the substrate made of a transparent film, and a liquid crystal material is further applied. In the pattern phase difference film, the liquid crystal material is patterned and cured by the alignment regulating force of the alignment film, thereby giving a phase difference corresponding to the light emitted from the image display panel by the liquid crystal material layer. For this alignment film, for example, a method has been proposed in which a fine uneven shape formed on the surface of a molding die is molded into a molding resin layer made of an ultraviolet curable resin or the like (Patent Document). 1). Instead of this, a method has also been proposed in which a polyimide film on a base material is rubbed (Patent Document 2).

しかしながらこのように透明基材上に、順次、配向膜、重合性液晶層を積層した光学フィルムは、配向膜と重合性液晶層との密着性が実用上未だ不十分な問題がある。すなわち配向膜にポリイミド膜を適用する場合には、そもそもポリイミドと重合性液晶との密着性が弱く、これにより充分に密着性を確保することが困難になる。この問題を解決する1つの方法として接着促進剤を重合性液晶に混入する方法も考えられるが、この方法では重合性液晶層の配向が劣化する問題がある。また賦型用金型を使用する場合でも、配向膜と重合性液晶層とで充分に密着性を確保することが困難である。この場合、コロナ処理、プラズマ処理等による表面処理を配向膜に施すことにより密着性を向上する方法も考えられるものの、この場合も重合性液晶層の配向が劣化する問題がある。   However, the optical film in which the alignment film and the polymerizable liquid crystal layer are sequentially laminated on the transparent substrate as described above has a problem that the adhesion between the alignment film and the polymerizable liquid crystal layer is still insufficient in practice. That is, when a polyimide film is applied to the alignment film, the adhesion between the polyimide and the polymerizable liquid crystal is weak in the first place, which makes it difficult to sufficiently secure the adhesion. One method for solving this problem is to mix an adhesion promoter into the polymerizable liquid crystal. However, this method has a problem that the orientation of the polymerizable liquid crystal layer deteriorates. Even when a mold for molding is used, it is difficult to ensure sufficient adhesion between the alignment film and the polymerizable liquid crystal layer. In this case, a method of improving the adhesion by applying a surface treatment such as corona treatment or plasma treatment to the alignment film can be considered, but there is also a problem that the alignment of the polymerizable liquid crystal layer deteriorates in this case.

特開2010−152296号公報JP 2010-152296 A 特表2007−506813号公報Special table 2007-50613 gazette

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、パッシブ方式による3次元画像表示に適用するパターン位相差フィルム等の光学フィルムに関して、液晶層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a situation, and with respect to an optical film such as a pattern retardation film applied to a three-dimensional image display by a passive method, by effectively avoiding the deterioration of alignment in a liquid crystal layer, It aims at improving the adhesiveness of an orientation film and a liquid-crystal layer compared with.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、液晶の配向に影響を与えない凹凸形状を配向膜に作製する、との着想に至り、本発明を完成するに至った。   The present inventor has made extensive studies to solve the above-mentioned problems, and has come up with the idea that an uneven shape that does not affect the alignment of the liquid crystal is produced in the alignment film, thereby completing the present invention.

(1) 透明フィルムによる基材と、
前記基材の一方の面に作製された配向膜と、
前記配向膜の上に作製されて、前記配向膜の配向規制力により配向して固化した液晶層とを備え、
前記配向膜は、
十点平均粗さ(Rz)が、10nm以上、45nm以下である。
(1) a substrate made of a transparent film;
An alignment film produced on one surface of the substrate;
A liquid crystal layer produced on the alignment film and aligned and solidified by the alignment regulating force of the alignment film;
The alignment film is
Ten-point average roughness (Rz) is 10 nm or more and 45 nm or less.

(1)によれば、黒輝度に係る傾きθのばらつき3σを十分に小さくして、黒輝度を十分に小さくすることができ、これにより従来に比して一段と精度良く透過光に位相差を付与することができる。また概ね、配向膜の平均面粗さ(Ra)を1nm以上、4nm以下に設定できることにより、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。   According to (1), the variation 3σ of the gradient θ related to black luminance can be made sufficiently small to make the black luminance sufficiently small, whereby the phase difference in transmitted light can be made much more accurate than before. Can be granted. In general, since the average surface roughness (Ra) of the alignment film can be set to 1 nm or more and 4 nm or less, alignment deterioration in the retardation layer, which is a liquid crystal layer, can be effectively avoided, and the alignment film and Adhesion with the liquid crystal layer can be improved.

(2) (1)において、
前記配向膜は、
平均面粗さ(Ra)が、1nm以上、4nm以下である。
(2) In (1),
The alignment film is
The average surface roughness (Ra) is 1 nm or more and 4 nm or less.

(2)によれば、配向膜の平均面粗さ(Ra)が、1nm以上、4nm以下であることにより、より具体的に、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。   According to (2), when the average surface roughness (Ra) of the alignment film is 1 nm or more and 4 nm or less, more specifically, alignment deterioration in the retardation layer that is a liquid crystal layer is effectively avoided. Thus, the adhesion between the alignment film and the liquid crystal layer can be improved as compared with the conventional case.

(3) (1)又は(2)において、
前記液晶層は、
右目用画像データで駆動される画像表示パネルの画素からの出射光に対応する位相差を与える帯状による右目用領域と、左目用画像データで駆動される前記画像表示パネルの画素からの出射光に対応する位相差を与える帯状による左目用領域とが順次交互に設けられる。
(3) In (1) or (2),
The liquid crystal layer is
A band-shaped right-eye region that gives a phase difference corresponding to light emitted from pixels of an image display panel driven by right-eye image data, and light emitted from pixels of the image display panel driven by left-eye image data Band-shaped left eye regions that provide corresponding phase differences are provided alternately.

(3)にれば、パターン位相差フィルムである光学フィルムに適用することができる。   If it is (3), it can be applied to an optical film which is a pattern retardation film.

(4) (1)又は(2)において、
前記液晶層が、透過光に1/2波長分、又は1/4波長分の位相差を付与する。
(4) In (1) or (2),
The liquid crystal layer imparts a phase difference of ½ wavelength or ¼ wavelength to transmitted light.

(4)によれば、1/2位相差板、1/4位相板等の光学フィルムに適用することができる。   According to (4), it can be applied to an optical film such as a ½ phase plate or a ¼ phase plate.

(5) 透明フィルムによる第1の基材と、
前記第1の基材の一方の面に作製された第1の配向膜と、
前記第1の配向膜の上に作製されて、前記第1の配向膜の配向規制力により配向して固化した第1の液晶層と、
前記第1の液晶層の上に作製された第2の配向膜と、
前記第2の配向膜の上に作製されて、前記第2の配向膜の配向規制力により配向して固化した第2の液晶層とを備え、
前記第1及び又は第2の配向膜は、
十点平均粗さ(Rz)が、10nm以上、45nm以下である。
(5) a first substrate made of a transparent film;
A first alignment film produced on one surface of the first substrate;
A first liquid crystal layer produced on the first alignment film and aligned and solidified by the alignment regulating force of the first alignment film;
A second alignment film formed on the first liquid crystal layer;
A second liquid crystal layer produced on the second alignment film and aligned and solidified by the alignment regulating force of the second alignment film;
The first and second alignment films are
Ten-point average roughness (Rz) is 10 nm or more and 45 nm or less.

(5)によれば、
第1及び第2液晶層により順次透過光に位相差を与える円偏光板等の構成に適用して、基材の一方の面にこれら第1及び第2の液晶層を積層する場合に、黒輝度を十分に小さくすることができ、また液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。
According to (5)
When the first and second liquid crystal layers are applied to the configuration of a circularly polarizing plate or the like that sequentially gives a phase difference to transmitted light, and the first and second liquid crystal layers are laminated on one surface of the base, Luminance can be made sufficiently small, and deterioration of alignment in the retardation layer, which is a liquid crystal layer, can be effectively avoided, and adhesion between the alignment film and the liquid crystal layer can be improved as compared with the conventional case.

(6) 透明フィルムによる基材と、
前記基材の一方の面に作製された第1の配向膜と、
前記第1の配向膜の上に作製されて、前記第1の配向膜の配向規制力により配向して固化した第1の液晶層と、
前記基材の他方の面に作製された第2の配向膜と、
前記第2の配向膜の上に作製されて、前記第2の配向膜の配向規制力により配向して固化した第2の液晶層とを備え、
前記第1及び又は第2の配向膜は、
十点平均粗さ(Rz)が、10nm以上、45nm以下である。
(6) a substrate made of a transparent film;
A first alignment film produced on one surface of the substrate;
A first liquid crystal layer produced on the first alignment film and aligned and solidified by the alignment regulating force of the first alignment film;
A second alignment film produced on the other surface of the substrate;
A second liquid crystal layer produced on the second alignment film and aligned and solidified by the alignment regulating force of the second alignment film;
The first and second alignment films are
Ten-point average roughness (Rz) is 10 nm or more and 45 nm or less.

(6)によれば、
第1及び第2液晶層により順次透過光に位相差を与える円偏光板等の構成に適用して、基材の両面にそれぞれ第1及び第2の液晶層を積層する場合に、黒輝度を十分に小さくすることができ、また液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。
According to (6)
When the first and second liquid crystal layers are applied to a configuration such as a circularly polarizing plate that sequentially gives a phase difference to transmitted light by the first and second liquid crystal layers, and the first and second liquid crystal layers are respectively laminated on both surfaces of the base material, It can be made sufficiently small, and the deterioration of alignment in the retardation layer that is a liquid crystal layer can be effectively avoided, and the adhesion between the alignment film and the liquid crystal layer can be improved as compared with the conventional case.

(7) (5)又は(6)において、
前記第1及び又は第2の配向膜は、
平均面粗さ(Ra)が、1nm以上、4nm以下である。
(7) In (5) or (6),
The first and second alignment films are
The average surface roughness (Ra) is 1 nm or more and 4 nm or less.

(7)によればより具体的に、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。   According to (7), more specifically, it is possible to effectively avoid the deterioration of the alignment in the retardation layer that is a liquid crystal layer, and to improve the adhesion between the alignment film and the liquid crystal layer as compared with the conventional case.

(8) 配向膜の配向規制力により配向して固化した液晶層を少なくとも有する転写層と、
前記転写層を保持する支持体とを備え、
前記配向膜が、
十点平均粗さ(Rz)が、10nm以上、45nm以下である。
(8) a transfer layer having at least a liquid crystal layer that is aligned and solidified by the alignment regulating force of the alignment film;
A support for holding the transfer layer,
The alignment film is
Ten-point average roughness (Rz) is 10 nm or more and 45 nm or less.

(8)によれば、光学フィルムに供する光学フィルム用転写体に適用して、黒輝度に係る傾きθのばらつき3σを十分に小さくして、黒輝度を十分に小さくすることができ、これにより従来に比して一段と精度良く透過光に位相差を付与することができる。また配向膜の平均面粗さ(Ra)を1nm以上、4nm以下に設定できることにより、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。   According to (8), when applied to a transfer member for an optical film used for an optical film, the variation 3σ of the inclination θ related to the black luminance can be sufficiently reduced, and the black luminance can be sufficiently reduced. The phase difference can be imparted to the transmitted light with higher accuracy than in the past. Further, since the average surface roughness (Ra) of the alignment film can be set to 1 nm or more and 4 nm or less, the alignment film and the liquid crystal layer can be effectively avoided from deterioration of alignment in the retardation layer which is a liquid crystal layer. Adhesion with can be improved.

(9) (8)において、
前記配向膜は、
平均面粗さ(Ra)が、1nm以上、4nm以下である。
(9) In (8),
The alignment film is
The average surface roughness (Ra) is 1 nm or more and 4 nm or less.

(9)によれば、配向膜の平均面粗さ(Ra)が、1nm以上、4nm以下であることにより、より具体的に、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。   According to (9), when the average surface roughness (Ra) of the alignment film is 1 nm or more and 4 nm or less, more specifically, alignment deterioration in the retardation layer that is a liquid crystal layer is effectively avoided. Thus, the adhesion between the alignment film and the liquid crystal layer can be improved as compared with the conventional case.

(10) (8)又は(9)において、
前記液晶層が、
透過光に1/2波長分の位相差を付与する1/2波長板用液晶層と、透過光に1/4波長分の位相差を付与する1/4波長板用液晶層であり、
前記配向膜が、
前記1/2波長板用液晶層に係る1/2波長板用配向膜と、
前記1/4波長板用液晶層に係る1/4波長板用配向膜とであり、
前記転写層が、
前記1/2波長板用液晶層、前記1/2波長板用配向膜、前記1/4波長板用液晶層、前記1/4波長板用配向膜の積層体である。
(10) In (8) or (9),
The liquid crystal layer is
A liquid crystal layer for a ½ wavelength plate that imparts a phase difference of ½ wavelength to the transmitted light, and a liquid crystal layer for a ¼ wavelength plate that imparts a phase difference of a ¼ wavelength to the transmitted light,
The alignment film is
An alignment film for a half-wave plate according to the liquid crystal layer for the half-wave plate;
An alignment film for a quarter-wave plate according to the liquid crystal layer for a quarter-wave plate,
The transfer layer is
It is a laminate of the liquid crystal layer for half-wave plates, the alignment film for half-wave plates, the liquid crystal layer for quarter-wave plates, and the alignment film for quarter-wave plates.

(10)によれば、1/2波長板、1/4波長板の積層構造にかかる円偏光板用の光学フィルム用転写体に適用して、1/2波長板用配向膜、1/4波長板用配向膜を一体に転写する場合に、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。   According to (10), when applied to a transfer member for an optical film for a circularly polarizing plate having a laminated structure of a half-wave plate and a quarter-wave plate, an alignment film for a half-wave plate, 1/4 When the alignment film for the wave plate is transferred integrally, it is possible to effectively avoid the deterioration of the alignment in the retardation layer, which is a liquid crystal layer, and to improve the adhesion between the alignment film and the liquid crystal layer as compared with the conventional case. it can.

(11) (8)又は(9)において、
前記液晶層が、
透過光に1/2波長分の位相差を付与する1/2波長板用液晶層と、透過光に1/4波長分の位相差を付与する1/4波長板用液晶層であり、
前記配向膜が、
前記1/2波長板用液晶層に係る1/2波長板用配向膜と、
前記1/4波長板用液晶層に係る1/4波長板用配向膜とであり、
前記転写層が、
前記1/2波長板用液晶層、前記1/2波長板用配向膜、前記1/4波長板用液晶層の積層体であり、
前記支持体に、前記1/4波長板用配向膜が含まれる。
(11) In (8) or (9),
The liquid crystal layer is
A liquid crystal layer for a ½ wavelength plate that imparts a phase difference of ½ wavelength to the transmitted light, and a liquid crystal layer for a ¼ wavelength plate that imparts a phase difference of a ¼ wavelength to the transmitted light,
The alignment film is
An alignment film for a half-wave plate according to the liquid crystal layer for the half-wave plate;
An alignment film for a quarter-wave plate according to the liquid crystal layer for a quarter-wave plate,
The transfer layer is
A laminate of the liquid crystal layer for half-wave plates, the alignment film for half-wave plates, and the liquid crystal layer for quarter-wave plates,
The support includes the alignment film for a quarter-wave plate.

(11)によれば、1/2波長板、1/4波長板の積層構造にかかる円偏光板用の光学フィルム用転写体に適用して、1/2波長板用配向膜のみを一体に転写する場合に、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。   According to (11), it is applied to an optical film transfer body for a circularly polarizing plate having a laminated structure of a half-wave plate and a quarter-wave plate, and only the half-wave plate alignment film is integrated. When transferring, it is possible to effectively avoid the deterioration of the alignment in the retardation layer that is a liquid crystal layer, and to improve the adhesion between the alignment film and the liquid crystal layer as compared with the conventional case.

(12) 透明フィルムによる基材と、
直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層と、
円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層とが積層され、
前記円偏光板の光学機能層が、(8)、(9)、(10)、又は(11)の何れかに記載の光学フィルム用転写体に設けられた前記転写層による光学機能層である。
(12) a substrate made of a transparent film;
An optical functional layer of a linearly polarizing plate that functions as a linearly polarizing plate;
The optical functional layer of the circularly polarizing plate that functions as a circularly polarizing plate is laminated,
The optical functional layer of the circularly polarizing plate is an optical functional layer formed by the transfer layer provided on the optical film transfer body according to any one of (8), (9), (10), and (11). .

(12)によれば、(8)、(9)、(10)、又は(11)の何れかに記載の光学フィルム用転写体を使用して作成する光学フィルムに関して、黒輝度に係る傾きθのばらつき3σを十分に小さくして、黒輝度を十分に小さくすることができ、これにより従来に比して一段と精度良く透過光に位相差を付与することができる。また配向膜の平均面粗さ(Ra)を1nm以上、4nm以下に設定できることにより、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。   According to (12), with respect to the optical film produced using the optical film transfer member according to any one of (8), (9), (10), or (11), the inclination θ related to black luminance The black luminance can be sufficiently reduced by sufficiently reducing the variation 3σ of the light intensity, and thereby, the phase difference can be imparted to the transmitted light with higher accuracy than in the past. Further, since the average surface roughness (Ra) of the alignment film can be set to 1 nm or more and 4 nm or less, the alignment film and the liquid crystal layer can be effectively avoided from deterioration of alignment in the retardation layer which is a liquid crystal layer. Adhesion with can be improved.

(13) (1)、(2)、(3)、(4)、(5)、(6)、(7)、又は(12)の何れかに記載の光学フィルムを画像表示パネルの表側面に配置する。   (13) The optical film according to any one of (1), (2), (3), (4), (5), (6), (7), or (12) is used as the front side surface of the image display panel. To place.

(14) 賦型により配向膜の作製に供する光学フィルムの製造用金型において、
賦型に供する部位の十点平均粗さ(Rz)が、10nm以上、45nm以下である。
(14) In a mold for manufacturing an optical film that is used for forming an alignment film by shaping,
The ten-point average roughness (Rz) of the part subjected to shaping is 10 nm or more and 45 nm or less.

(14)によれば、この製造用金型により作製される配向膜については、充分な配向規制力を確保できるようにして、充分な表面粗さを確保することができ、これにより液晶層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。また黒輝度に係る傾きθのばらつき3σを十分に小さくして、黒輝度を十分に小さくすることができ、これにより従来に比して一段と精度良く透過光に位相差を付与することができる。   According to (14), with respect to the alignment film produced by this production mold, sufficient alignment regulation force can be ensured, and sufficient surface roughness can be ensured. By effectively avoiding the deterioration of the alignment, the adhesion between the alignment film and the liquid crystal layer can be improved as compared with the conventional case. In addition, the variation 3σ of the slope θ related to black luminance can be made sufficiently small to make the black luminance sufficiently small, whereby a phase difference can be given to transmitted light with higher accuracy than in the past.

(15) (14)において、
前記賦型に供する部位の平均面粗さ(Ra)が、1nm以上、4nm以下である。
(15) In (14),
The average surface roughness (Ra) of the portion subjected to the shaping is 1 nm or more and 4 nm or less.

(15)によれば、より具体的に、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。   According to (15), more specifically, it is possible to effectively avoid the deterioration of the alignment in the retardation layer that is the liquid crystal layer, and to improve the adhesion between the alignment film and the liquid crystal layer as compared with the conventional case. .

(16) (14)又は(15)において、
前記賦型に供する部位に、
ライン状の凹凸形状が作製された帯状による第1の領域と、前記第1の領域におけるライン状の凹凸形状とは延長方向が異なるライン状の凹凸形状が作製された帯状による第2の領域とが、順次、交互に作製された。
(16) In (14) or (15),
In the part to be subjected to the shaping,
A first region having a strip shape in which a line-shaped uneven shape is formed; and a second region having a band shape in which a line-shaped uneven shape having a different extension direction from the line-shaped uneven shape in the first region is formed; Were produced alternately one after the other.

(16)によれば、パターン位相差フィルムの製造用金型に適用して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。   According to (16), the adhesiveness between the alignment film and the liquid crystal layer can be improved as compared with the prior art when applied to a mold for producing a patterned retardation film.

液晶層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。また黒輝度に係る傾きθのばらつき3σを十分に小さくして、黒輝度を十分に小さくすることができ、これにより従来に比して一段と精度良く透過光に位相差を付与することができる。   By effectively avoiding the deterioration of the alignment in the liquid crystal layer, the adhesion between the alignment film and the liquid crystal layer can be improved as compared with the conventional case. In addition, the variation 3σ of the slope θ related to black luminance can be made sufficiently small to make the black luminance sufficiently small, whereby a phase difference can be given to transmitted light with higher accuracy than in the past.

本発明の第1実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。It is a figure which shows the pattern phase difference film which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図1のパターン位相差フィルムの製造工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing process of the pattern phase difference film of FIG. ロール版の製造工程を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing process of a roll plate. 図3の続きを示す図である。It is a figure which shows the continuation of FIG. ラビング処理による表面形状の変化を示す図である。It is a figure which shows the change of the surface shape by a rubbing process. 図5の例について、さらに倍率を拡大した図である。It is the figure which expanded the magnification further about the example of FIG. 図5の例について、図6よりさらに倍率を拡大した図である。FIG. 6 is a diagram in which the magnification of the example of FIG. 5 is further enlarged than that of FIG. 6. ラビングの回数が少ない場合の表面形状を示す図である。It is a figure which shows the surface shape in case the frequency | count of rubbing is few. 図8の例よりラビングの回数を増大させた場合の表面形状を示す図である。It is a figure which shows the surface shape at the time of increasing the frequency | count of rubbing from the example of FIG. 図9の例よりさらにラビングの回数を増大させた場合の表面形状を示す図である。It is a figure which shows the surface shape at the time of increasing the frequency | count of rubbing further from the example of FIG. 図8の例における表面形状の測定結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of the surface shape in the example of FIG. 図9の例における表面形状の測定結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of the surface shape in the example of FIG. 図10の例における表面形状の測定結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of the surface shape in the example of FIG. パターン位相差フィルムの断面を示す写真である。It is a photograph which shows the cross section of a pattern phase difference film. 本発明の第2実施形態に係る位相差板を示す図である。It is a figure which shows the phase difference plate which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 図15の位相差板の製造用金型の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the metal mold | die for manufacture of the phase difference plate of FIG. 第3実施形態に係る計測装置の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the measuring device which concerns on 3rd Embodiment. ラビング処理時間によりばらつきを示す図である。It is a figure which shows dispersion | variation by rubbing process time. ラビング処理時間によりばらつきを示す図である。It is a figure which shows dispersion | variation by rubbing process time. 二乗平均粗さとばらつきとの関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between a root mean square roughness and dispersion | variation. 十点平均粗さとばらつきとの関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between ten-point average roughness and dispersion | variation. 配向膜の表面形状を示す写真である。It is a photograph which shows the surface shape of alignment film. 図22との対比により光学特性が劣る場合の配向膜の表面形状を示す写真である。It is a photograph which shows the surface shape of the alignment film when an optical characteristic is inferior by contrast with FIG. 第5実施形態に係る光学フィルムの断面図である。It is sectional drawing of the optical film which concerns on 5th Embodiment. 図24の光学フィルムにおける各部材の配置の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of arrangement | positioning of each member in the optical film of FIG. 第6実施形態に係る光学フィルムの断面図である。It is sectional drawing of the optical film which concerns on 6th Embodiment. 第7実施形態に係る光学フィルムの断面図である。It is sectional drawing of the optical film which concerns on 7th Embodiment. 図27の光学フィルムに適用される転写フィルムの断面図である。It is sectional drawing of the transfer film applied to the optical film of FIG. 第8実施形態に係る光学フィルムの断面図である。It is sectional drawing of the optical film which concerns on 8th Embodiment. 図29の光学フィルムに適用される転写フィルムの断面図である。It is sectional drawing of the transfer film applied to the optical film of FIG.

〔第1実施形態〕
図1は、本発明の第1実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。この第1実施形態に係る画像表示装置は、垂直方向(図1においては左右方向に対応する方向である)に連続する液晶表示パネルの画素が、順次交互に、右目用の画像を表示する右目用画素、左目用の画像を表示する左目用画素に振り分けられ、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動される。これにより画像表示装置は、右目用の画像を表示する帯状の領域と左目用の画像を表示する帯状の領域とに表示画面が交互に区分され、右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。この画像表示装置は、この液晶表示パネルのパネル面に、この図1に示すパターン位相差フィルム1が配置され、このパターン位相差フィルム1により右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。これによりこの画像表示装置は、パッシブ方式により所望の立体画像を表示する。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a view showing a pattern retardation film according to the first embodiment of the present invention. In the image display apparatus according to the first embodiment, the pixels of the liquid crystal display panel that are continuous in the vertical direction (the direction corresponding to the left-right direction in FIG. 1) sequentially and alternately display the right-eye image. The pixel for the left eye and the pixel for the left eye for displaying the image for the left eye are allocated, and driven by the image data for the right eye and the left eye, respectively. As a result, the image display device alternately divides the display screen into a band-like region for displaying an image for the right eye and a band-like region for displaying an image for the left eye, so that the image for the right eye and the image for the left eye are simultaneously displayed. indicate. In this image display device, the pattern phase difference film 1 shown in FIG. 1 is disposed on the panel surface of the liquid crystal display panel, and the pattern phase difference film 1 corresponds to light emitted from pixels for the right eye and the left eye, respectively. To give the phase difference. Thereby, this image display apparatus displays a desired three-dimensional image by a passive method.

パターン位相差フィルム1は、TAC(トリアセチルセルロース)等の透明フィルムからなる基材2の一方の面上に、配向膜3、位相差層4が順次作製される。パターン位相差フィルム1では、この位相差層4がアクリル系等の重合性液晶材料による液晶層である。パターン位相差フィルム1は、この位相差層4の液晶材料が屈折率異方性を保持した状態で固化(硬化)され、この液晶材料の配向を配向膜3の配向規制力によりパターンニングする。なおこの液晶分子の配向を図1では細長い楕円により誇張して示す。このパターンニングにより、パターン位相差フィルム1は、液晶表示パネルにおける画素の割り当てに対応して、一定の幅により、右目用の領域Aと、左目用の領域Bとが順次交互に帯状に形成され、右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。なおここでこの隣接する帯状領域の遅相軸方向は、通常、水平方向に対して、+45度と−45度、0度と+90度、又は0度と−90度の何れかの組み合わせが採用される。   In the pattern retardation film 1, an alignment film 3 and a retardation layer 4 are sequentially formed on one surface of a base material 2 made of a transparent film such as TAC (triacetyl cellulose). In the pattern retardation film 1, the retardation layer 4 is a liquid crystal layer made of a polymerizable liquid crystal material such as acrylic. The pattern retardation film 1 is solidified (cured) while the liquid crystal material of the retardation layer 4 maintains refractive index anisotropy, and the alignment of the liquid crystal material is patterned by the alignment regulating force of the alignment film 3. In FIG. 1, the orientation of the liquid crystal molecules is exaggerated by an elongated ellipse. By this patterning, the pattern phase difference film 1 is formed in a band shape alternately with the right-eye area A and the left-eye area B sequentially with a certain width corresponding to the pixel assignment in the liquid crystal display panel. A phase difference corresponding to each of the light emitted from the right-eye and left-eye pixels is given. Here, the slow axis direction of the adjacent belt-like region is usually any combination of +45 degrees and −45 degrees, 0 degrees and +90 degrees, or 0 degrees and −90 degrees with respect to the horizontal direction. Is done.

パターン位相差フィルム1は、微細な凹凸形状の賦型に供する樹脂である賦型用樹脂が塗付され、この賦型用樹脂による賦型樹脂層5が作成される。パターン位相差フィルム1は、この賦型樹脂層5の表面の凹凸形状により配向膜3が形成される。なおこの実施形態では、この賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂が適用される。また紫外線硬化性樹脂としては、アクリレート系、メタクリレート系、エポキシ系等の単量体、プレポリマー、或いはこれらの混合物にベンゾフェノン、芳香族ヨードニウム等の光重合開始剤を添加したものを使用することができる。   The pattern phase difference film 1 is coated with a molding resin, which is a resin used for molding a fine concavo-convex shape, and a molding resin layer 5 is formed from this molding resin. In the pattern retardation film 1, the alignment film 3 is formed by the uneven shape on the surface of the shaping resin layer 5. In this embodiment, an ultraviolet curable resin is applied to the shaping resin. Further, as the ultraviolet curable resin, it is possible to use an acrylate-based, methacrylate-based or epoxy-based monomer, a prepolymer, or a mixture thereof to which a photopolymerization initiator such as benzophenone or aromatic iodonium is added. it can.

すなわちパターン位相差フィルム1は、後述する金型の表面に作製された微小な凹凸形状を賦型樹脂層5に賦型して、配向膜3に係る微小な凹凸形状が作製され、この凹凸形状による配向規制力により位相差層4をパターンニングする。このため配向膜3は、右目用及び左目用の帯状領域A及びBにそれぞれ対応する帯状の領域が順次交互に形成され、それぞれ微小な凹凸形状が作製される。ここでこの微小な凹凸形状は、一方向に延長するライン状(線状)の凹凸形状により形成され、この一方向に延長する方向が右目用領域Aと左目用領域Bとで90度異なる方向となるように、かつ各領域の延長方向(表示画面では水平方向であり、図1に於いては右上と左下とを結ぶ方向に対応)に対して45度傾くように形成される。パターン位相差フィルム1は、この図1に示す基本構成に加えて、粘着層、セパレータフィルム、反射防止フィルム等が必要に応じて設けられる。   That is, the pattern retardation film 1 is formed with a minute uneven shape formed on the surface of a mold, which will be described later, on the shaping resin layer 5 to produce a minute uneven shape related to the alignment film 3. The retardation layer 4 is patterned by the orientation regulating force due to. For this reason, in the alignment film 3, strip-shaped regions respectively corresponding to the strip-shaped regions A and B for the right eye and the left eye are sequentially formed, and minute uneven shapes are respectively produced. Here, the minute concavo-convex shape is formed by a line-shaped (linear) concavo-convex shape extending in one direction, and the direction extending in the one direction is different by 90 degrees between the right-eye region A and the left-eye region B. And is inclined at 45 degrees with respect to the extending direction of each region (the horizontal direction on the display screen, corresponding to the direction connecting the upper right and the lower left in FIG. 1). In addition to the basic structure shown in FIG. 1, the pattern retardation film 1 is provided with an adhesive layer, a separator film, an antireflection film, and the like as necessary.

〔パターン位相差フィルム製造工程〕
図2は、このパターン位相差フィルム1の製造工程を示す略線図である。この製造工程10は、基材2がロールにより提供され、この基材2を供給リール11から供給する。製造工程10は、ダイ12によりこの基材2に紫外線硬化性樹脂の塗布液を塗布する。この製造工程10において、ロール版20は、パターン位相差フィルム1の配向膜3に係る凹凸形状が周側面に形成された円筒形状の金型である。製造工程10は、紫外線硬化性樹脂が塗布された基材2を加圧ローラ14によりロール版20に押圧し、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置15による紫外線の照射により紫外線硬化性樹脂を硬化させる。これにより製造工程10は、ロール版20の周側面に形成された凹凸形状を基材2に転写する。その後、剥離ローラ16によりロール版20から硬化した紫外線硬化性樹脂と一体に基材2を剥離し、ダイ19により液晶材料を塗布する。またその後、紫外線照射装置17による紫外線の照射により液晶材料を硬化させた後、巻き取りリール18に巻き取る。パターン位相差フィルム1は、この巻き取りリール18に巻き取ったシート材に、必要に応じて粘着層、反射防止層等を形成した後、所望の大きさに切断して作製される。これによりパターン位相差フィルム1は、ロール版20を用いた凹凸形状の転写により、ロールにより提供される基材2を連続して処理して効率良く大量生産される。
[Pattern retardation film manufacturing process]
FIG. 2 is a schematic diagram showing a manufacturing process of the pattern retardation film 1. In the manufacturing process 10, the base material 2 is provided by a roll, and the base material 2 is supplied from a supply reel 11. In the manufacturing process 10, a coating solution of an ultraviolet curable resin is applied to the substrate 2 by the die 12. In this manufacturing process 10, the roll plate 20 is a cylindrical mold in which the uneven shape related to the alignment film 3 of the pattern retardation film 1 is formed on the peripheral side surface. In the manufacturing process 10, the base material 2 coated with the ultraviolet curable resin is pressed against the roll plate 20 by the pressure roller 14, and the ultraviolet curable resin is cured by irradiation with ultraviolet rays by the ultraviolet irradiation device 15 made of a high-pressure mercury lamp. Thereby, the manufacturing process 10 transfers the uneven | corrugated shape formed in the surrounding side surface of the roll plate 20 to the base material 2. FIG. Thereafter, the substrate 2 is peeled off integrally with the ultraviolet curable resin cured from the roll plate 20 by the peeling roller 16, and a liquid crystal material is applied by the die 19. Thereafter, the liquid crystal material is cured by ultraviolet irradiation by the ultraviolet irradiation device 17, and then wound around the take-up reel 18. The pattern retardation film 1 is produced by forming an adhesive layer, an antireflection layer, and the like on the sheet material wound on the take-up reel 18 as necessary, and then cutting it to a desired size. Thereby, the pattern phase difference film 1 is efficiently mass-produced by continuously processing the base material 2 provided by the roll by transferring the concavo-convex shape using the roll plate 20.

〔ロール版製造工程〕
図3及び図4は、パターン位相差フィルムの製造用金型であるロール版20の製造工程を示す図である。なおこの図3及び図4において、パターン位相差フィルム1の領域A、Bに対応する領域を、それぞれ符号ARA、ARBにより示す。この製造工程では、母材40の周側面を研磨して平滑化する(図3(a))。続いてこの製造工程は、下地層41が作製される(図3(a))。ここで母材40は、ロール版20の外形形状に対応する円筒形状の金属材料である。母材40は、加工のしやすさや寸法安定性などから金属材料であることが好ましく、ニッケル、クロム、ステンレス、銅などであることがより好ましい。なおこの実施形態において、母材40は、銅が適用される。
[Roll plate manufacturing process]
3 and 4 are diagrams showing a manufacturing process of the roll plate 20 which is a mold for manufacturing the pattern retardation film. 3 and 4, regions corresponding to the regions A and B of the pattern retardation film 1 are indicated by symbols ARA and ARB, respectively. In this manufacturing process, the peripheral side surface of the base material 40 is polished and smoothed (FIG. 3A). Subsequently, in this manufacturing process, the underlayer 41 is produced (FIG. 3A). Here, the base material 40 is a cylindrical metal material corresponding to the outer shape of the roll plate 20. The base material 40 is preferably a metal material from the viewpoint of ease of processing and dimensional stability, and more preferably nickel, chromium, stainless steel, copper, or the like. In this embodiment, the base material 40 is made of copper.

下地層41は、上層に設けられる材料層について、母材40に対する密着力を強化するために設けられる。この実施形態では、下地層41は、無電解メッキにより、リンをドープしたニッケル層により膜厚500nmで作製される。   The underlayer 41 is provided to reinforce the adhesion to the base material 40 with respect to the material layer provided on the upper layer. In this embodiment, the foundation layer 41 is formed with a thickness of 500 nm from a nickel layer doped with phosphorus by electroless plating.

続いてこの工程は、下地層41の上に、第1の無機材料層42を作製する。この実施形態では、この第1の無機材料層42にクロム層が適用され、スパッタリングにより膜厚100nmにより作製される。なおこの第1の無機材料層42には、金属材料、無機酸化物、無機窒化物、無機炭化物などの各種無機材料を広く適用することができるものの、加工のしやすさなどから、クロム、チタン、ニッケル、タングステン、ステンレス系金属材料、アルミ、SiO、SiO、Al、Cr、TiO、Si、AlN、TiN、SiO、SiC、WC、DLCなどを適用することができる。 Subsequently, in this step, the first inorganic material layer 42 is formed on the base layer 41. In this embodiment, a chromium layer is applied to the first inorganic material layer 42, and the first inorganic material layer 42 is produced by sputtering to a thickness of 100 nm. In addition, although various inorganic materials, such as a metal material, an inorganic oxide, an inorganic nitride, an inorganic carbide, can be widely applied to this 1st inorganic material layer 42, it is chromium, titanium from the ease of processing etc. , nickel, tungsten, stainless steel-based metallic material, aluminum, SiO 2, SiO x, Al 2 O 3, Cr 2 O 3, TiO 2, Si 3 N 4, AlN, TiN, SiO x N y, SiC, WC, DLC Etc. can be applied.

続いてこの工程は、図3(b)に示すように、第1の凹凸形状作製工程において、第1の無機材料層42の全面に微小なライン状の凹凸形状を形成する。ここでこのライン状凹凸形状は、配向膜3の右目用領域の凹凸形状に対応する微小な凹凸形状である。この実施形態では、ラビング布を使用したラビング処理によりこの凹凸形状が作製される。なお図3及び図4では、便宜上、ラビングロールRによりラビング処理を示す。   Subsequently, in this step, as shown in FIG. 3B, a fine line-shaped uneven shape is formed on the entire surface of the first inorganic material layer 42 in the first uneven shape forming step. Here, the line-shaped uneven shape is a minute uneven shape corresponding to the uneven shape of the right eye region of the alignment film 3. In this embodiment, the concavo-convex shape is produced by a rubbing process using a rubbing cloth. 3 and 4, the rubbing process is shown by the rubbing roll R for convenience.

続いてこの工程は、マスク作製工程において、レジスト材料により、右目用領域Aに対応する領域ARAを被覆し、かつ左目用領域Bに対応する領域ARBを露出させたマスク43が作製される(図3(c))。すなわちこの工程では、ポジ型のレジスト剤を全面に塗布した後、露光、現像処理することにより、左目用領域Bに対応する領域ARBを露出させたマスクが作製される。なおレジスト材料としては特に限定されるものではなく、ネガ型レジスト材料を適用しても良い。また塗布方法、露光方法にあっても種々の手法を広く適用することができる   Subsequently, in this step, a mask 43 in which a region ARA corresponding to the right eye region A is covered with a resist material and a region ARB corresponding to the left eye region B is exposed with a resist material in the mask manufacturing step is manufactured (FIG. 3 (c)). That is, in this step, a positive resist agent is applied to the entire surface, and then exposed and developed to produce a mask that exposes the region ARB corresponding to the left-eye region B. The resist material is not particularly limited, and a negative resist material may be applied. In addition, various methods can be widely applied even in the coating method and the exposure method.

続いて図4(d)に示すように、薄膜作製工程において、全面に、第2の無機材料層44が作製される。この実施形態では、スパッタリングにより膜厚100nmのクロム層を作製し、これによりこの第2の無機材料層44にクロム層が適用される。なおこの第2の無機材料層44は、金属材料、無機酸化物、無機窒化物、無機炭化物などの各種無機材料を広く適用することができるものの、加工のしやすさなどから、クロム、チタン、ニッケル、タングステン、ステンレス系金属材料、アルミ、SiO、SiO、Al、Cr、TiO、Si、AlN、TiN、SiO、SiC、WC、DLCなどから選択される。 Subsequently, as shown in FIG. 4D, in the thin film manufacturing process, the second inorganic material layer 44 is formed on the entire surface. In this embodiment, a chromium layer having a thickness of 100 nm is formed by sputtering, and thereby the chromium layer is applied to the second inorganic material layer 44. The second inorganic material layer 44 can be widely applied to various inorganic materials such as a metal material, an inorganic oxide, an inorganic nitride, and an inorganic carbide. However, in terms of ease of processing, chromium, titanium, nickel, tungsten, stainless steel-based metallic material, aluminum, SiO 2, SiO x, Al 2 O 3, Cr 2 O 3, TiO 2, Si 3 N 4, AlN, TiN, SiO x N y, SiC, WC, DLC , etc. Selected from.

続いて図4(e)に示すように、第2の凹凸形状作製工程において、第1の無機材料層42におけるライン状の凹凸形状の延長方向とは異なる方向(この実施形態では第1の無機材料層42におけるラビング方向とは90度の角度をなす方向である)に全面をラビング処理し、第2の無機材料層(クロム層)44の表面に凹凸形状を作製する。その後、製造工程は、図4(f)に示すように、続くレジスト除去工程において、マスク43を、その上層の第2の無機材料層44と共に除去する。これらによりこの製造工程は、2回の凹凸形状作製処理により配向膜3の領域A及びBに対応する凹凸形状を作製し、ロール版20を作製する。   Subsequently, as shown in FIG. 4E, in the second concavo-convex shape manufacturing step, a direction different from the extending direction of the line-shaped concavo-convex shape in the first inorganic material layer 42 (in this embodiment, the first inorganic shape The entire surface is rubbed in a direction that forms an angle of 90 degrees with the rubbing direction in the material layer 42, and an uneven shape is produced on the surface of the second inorganic material layer (chrome layer) 44. Thereafter, as shown in FIG. 4F, in the manufacturing process, the mask 43 is removed together with the second inorganic material layer 44, which is an upper layer, in a subsequent resist removing process. Thus, in this manufacturing process, the concavo-convex shape corresponding to the regions A and B of the alignment film 3 is prepared by two concavo-convex shape manufacturing processes, and the roll plate 20 is manufactured.

〔ラビング工程〕
ところで上述のロール版製造工程におけるラビング処理を詳細に検討したところ、ラビング処理の繰り返しにより、ラビング処理対象の表面形状が徐々に平坦化することが判った。
[Rubbing process]
By the way, when the rubbing process in the roll plate manufacturing process described above was examined in detail, it was found that the surface shape of the rubbing process target was gradually flattened by repeating the rubbing process.

すなわち図5、図6、図7は、順次倍率を増大させてラビング処理対象の表面形状を撮影した写真である。図5(a)、図6(a)、図7(a)は、研磨した銅の表面に、無電解メッキにより、膜厚500nmによるリンをドープしたニッケル層の下地層を作製し、その上に膜厚100nmによるチタン層をスパッタリングにより作製したものである。また図5(b)、図6(b)、図7(b)は、この図5(a)、図6(a)、図7(a)によるチタン層の表面を一定の押圧力によりラビング布で押圧した状態で、ラビング処理した結果であり、水平方向がラビング方向である。なおラビングの回数は3000回である。また図5(c)、図6(c)、図7(c)は、図5(b)、図6(b)、図7(b)と同一の条件により、ラビング処理の回数を5000回に設定した結果である。   That is, FIG. 5, FIG. 6, and FIG. 7 are photographs obtained by photographing the surface shape of the object to be rubbed while sequentially increasing the magnification. 5 (a), 6 (a), and 7 (a) show an example in which an underlayer of a nickel layer doped with phosphorus with a film thickness of 500 nm is formed on the polished copper surface by electroless plating. A titanium layer having a film thickness of 100 nm was prepared by sputtering. 5 (b), 6 (b) and 7 (b) rub the surface of the titanium layer according to FIGS. 5 (a), 6 (a) and 7 (a) with a constant pressing force. It is the result of rubbing treatment in a state of being pressed with a cloth, and the horizontal direction is the rubbing direction. The number of rubbing is 3000 times. 5 (c), 6 (c), and 7 (c), the number of rubbing processes is 5000 times under the same conditions as in FIGS. 5 (b), 6 (b), and 7 (b). This is the result of setting.

これら図5、図6、図7によれば、何らラビング処理しない場合には、チタンの粒界により表面が覆われており、これによりこのチタンの粒界による凹凸形状が表面に現れていることが判る。しかしながらラビングの回数の増大により、粒界が引き伸ばされたような表面形状に変形が見られ、全体的に表面が平坦になっているように観察される。これによりこれら図5、図6、図7によれば、金属粒界による凹凸形状がラビング処理により徐々に平坦化されているように見える。   According to FIG. 5, FIG. 6, and FIG. 7, when no rubbing treatment is performed, the surface is covered with a grain boundary of titanium, and thereby the uneven shape due to the grain boundary of titanium appears on the surface. I understand. However, as the number of times of rubbing increases, deformation is observed in the surface shape as if the grain boundaries are stretched, and the surface is observed to be flat as a whole. As a result, according to FIGS. 5, 6, and 7, it appears that the uneven shape due to the metal grain boundary is gradually flattened by the rubbing process.

このようにラビング処理の繰り返しにより、ラビング処理対象の表面形状が徐々に平坦化することを前提に、ラビング処理対象の表面形状による重合性液晶材料との密着力を検討した結果、平均面粗さ(Ra)を1nm以上確保することが必要であることが判った。これにより密着力を強化する観点から、ラビング処理の回数は、一定回数以下に制限することが必要であることが判った。   Based on the assumption that the surface shape of the object to be rubbed is gradually flattened by repeating the rubbing process as described above, as a result of examining the adhesion force with the polymerizable liquid crystal material due to the surface shape of the object to be rubbed, the average surface roughness It was found that it is necessary to secure (Ra) of 1 nm or more. Thus, it was found that the number of rubbing treatments should be limited to a certain number or less from the viewpoint of enhancing the adhesion.

しかしながらラビング処理の回数を少なくすると、配向膜3に充分な配向規制力を付与できない恐れがある。すなわち位相差層の配向に供する凹凸形状は、この図5〜図7では見て取ることができない程度の微細なものであり、ラビング処理の回数の増大により配向規制力が増大する。充分な配向規制力を確保する観点より、ラビング処理回数と配向規制力との関係を検討したところ、平均面粗さ(Ra)が4nm以下となるまでラビング処理すると、充分な配向規制力を確保できることが判った。   However, if the number of rubbing treatments is reduced, there is a possibility that sufficient alignment regulating force cannot be applied to the alignment film 3. That is, the concavo-convex shape used for the alignment of the retardation layer is so fine that it cannot be seen in FIGS. 5 to 7, and the alignment regulating force increases as the number of rubbing treatments increases. The relationship between the number of rubbing treatments and the orientation regulating force was examined from the viewpoint of securing sufficient orientation regulating force. When rubbing treatment was performed until the average surface roughness (Ra) was 4 nm or less, sufficient orientation regulating force was secured. I found that I can do it.

なおこれらの平均面粗さ(Ra)は、当然のことながらラビング処理した金型を使用した賦型処理により配向膜3を作製し、この配向膜3と重合性液晶材料との密着力を検討し、さらに配向規制力を検討したものである。また平均面粗さ(Ra)は、規格JIS B 0601:2001に規定の算術平均粗さであり、ラビング方向と直交する方向に測定したものである。   The average surface roughness (Ra) is, of course, determined by preparing the alignment film 3 by a molding process using a rubbing mold and examining the adhesion between the alignment film 3 and the polymerizable liquid crystal material. In addition, the orientation regulation power was examined. The average surface roughness (Ra) is an arithmetic average roughness defined in the standard JIS B 0601: 2001, and is measured in a direction orthogonal to the rubbing direction.

これらにより配向膜3において、平均面粗さ(Ra)が1nm以上、4nm以下となるように、ラビング処理回数を設定することが必要であることが判った。ここでこの種の賦型処理においては、充分に賦型用金型の表面形状を転写することができることにより、賦型用金型であるロール版20の周側面にあっても、平均面粗さ(Ra)が1nm以上用、4nm以下となるように、ラビング処理回数を設定することが必要である。なおラビング処理においては、ラビング布の押圧力等のラビング処理の条件によって、ラビング処理回数と表面粗さの変化との関係が変化する。従って平均粗さ(Ra)を上述の範囲に設定する場合、ラビング処理回数は、ラビング処理の条件に応じて適宜選定することが必要である。   Accordingly, it has been found that it is necessary to set the number of rubbing treatments so that the average surface roughness (Ra) is 1 nm or more and 4 nm or less in the alignment film 3. Here, in this type of molding process, the surface shape of the molding die can be sufficiently transferred, so that the average surface roughness can be obtained even on the peripheral side surface of the roll plate 20 that is the molding die. It is necessary to set the number of rubbing treatments so that the thickness (Ra) is 1 nm or more and 4 nm or less. In the rubbing treatment, the relationship between the number of rubbing treatments and the change in surface roughness changes depending on the rubbing treatment conditions such as the pressing force of the rubbing cloth. Therefore, when the average roughness (Ra) is set in the above range, the number of rubbing treatments needs to be appropriately selected according to the rubbing treatment conditions.

図8、図9、図10は、具体的に、この実施形態の製造工程によりパターン位相差フィルムを作製した場合の配向膜の表面形状を示す写真である。図8は、ラビング処理回数が少なく、密着力は充分に確保することができるものの、配向規制力が不足する場合である。図8(a)は、第1の無機材料層42により賦型される右目用領域Aの表面形状であり、図8(b)は、第2の無機材料層44により賦型される左目用領域Bの表面形状である。なお図8(a)及び(b)において、1回目及び2回目の矢印は、図3(b)及び図4(e)のラビング方向を示すものである。この図8(b)においては、下層の第1の無機材料層42の表面に形成されたラビング痕が、その上層である第2の無機材料層44の表面に現れている。   FIG. 8, FIG. 9, and FIG. 10 are photographs specifically showing the surface shape of the alignment film when a pattern retardation film is produced by the manufacturing process of this embodiment. FIG. 8 shows the case where the number of rubbing treatments is small and the adhesion force can be sufficiently secured, but the orientation regulating force is insufficient. FIG. 8A shows the surface shape of the right eye region A shaped by the first inorganic material layer 42, and FIG. 8B shows the left eye shape shaped by the second inorganic material layer 44. This is the surface shape of region B. In FIGS. 8A and 8B, the first and second arrows indicate the rubbing directions in FIGS. 3B and 4E. In FIG. 8B, rubbing marks formed on the surface of the lower first inorganic material layer 42 appear on the surface of the second inorganic material layer 44 that is the upper layer.

図9は、密着力及び配向規制力の双方を充分に確保できる場合であり、図8の例に比してラビング処理回数を増大させた場合である。図9(a)及び図9(b)は、それぞれ図8(a)及び図8(b)に対応する写真である。また図10は、図9の場合に比してさらにラビング処理回数を増大させたものであり、配向規制力は充分に確保することができるものの、密着力が不足する場合である。図10(a)及び図10(b)は、それぞれ図8(a)及び図8(b)に対応する写真である。   FIG. 9 shows a case where both the adhesion force and the orientation regulating force can be sufficiently secured. This is a case where the number of rubbing treatments is increased as compared with the example shown in FIG. 9 (a) and 9 (b) are photographs corresponding to FIGS. 8 (a) and 8 (b), respectively. FIG. 10 shows the case where the number of rubbing treatments is further increased as compared with the case of FIG. 9, and the alignment regulating force can be sufficiently secured, but the adhesion force is insufficient. 10 (a) and 10 (b) are photographs corresponding to FIGS. 8 (a) and 8 (b), respectively.

図11、図12、図13は、それぞれ図8、図9、図10に示した部位の表面形状の測定結果を示す図である。図11〜図13においては、ラビング方向と直交する方向についての測定結果であり、(a1)及び(a2)は、第1の無機材料層42により賦型される右目用領域Aの表面形状であり、(b1)及び(b2)は、第2の無機材料層44により賦型される左目用領域の表面形状である。図11(a1)及び(a2)の測定結果において、平均面粗さ(Ra)は4.5nmであり、図11(b1)及び(b2)の測定結果において、平均面粗さ(Ra)は4.5nmであった。また。図12の測定結果において、第1の無機材料層42及び第2の無機材料層44の平均面粗さ(Ra)はそれぞれ2.0nm及び1.8nmであった。また図13の測定結果において、第1の無機材料層42及び第2の無機材料層44の平均面粗さ(Ra)はそれぞれ0.85nm及び0.71nmであった。これら図8〜図13による結果によっても、配向膜3の平均面粗さ(Ra)を1nm以上、4nm以下に設定して、液晶層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上できることが判った。   11, FIG. 12, and FIG. 13 are diagrams showing the measurement results of the surface shapes of the parts shown in FIG. 8, FIG. 9, and FIG. 10, respectively. 11 to 13 show measurement results in a direction orthogonal to the rubbing direction, and (a1) and (a2) are surface shapes of the right eye region A formed by the first inorganic material layer 42. Yes, (b1) and (b2) are the surface shapes of the region for the left eye shaped by the second inorganic material layer 44. In the measurement results of FIGS. 11 (a1) and (a2), the average surface roughness (Ra) is 4.5 nm, and in the measurement results of FIGS. 11 (b1) and (b2), the average surface roughness (Ra) is It was 4.5 nm. Also. In the measurement results of FIG. 12, the average surface roughness (Ra) of the first inorganic material layer 42 and the second inorganic material layer 44 was 2.0 nm and 1.8 nm, respectively. Moreover, in the measurement result of FIG. 13, the average surface roughness (Ra) of the 1st inorganic material layer 42 and the 2nd inorganic material layer 44 was 0.85 nm and 0.71 nm, respectively. 8 to 13 also show that the average surface roughness (Ra) of the alignment film 3 is set to 1 nm or more and 4 nm or less to effectively avoid the deterioration of the alignment in the liquid crystal layer, compared with the conventional case. Thus, it was found that the adhesion between the alignment film and the liquid crystal layer can be improved.

図14(a)及び(b)は、パターン位相差フィルムの断面を示す写真である。図14(a)及び(b)は、適切に凹凸形状が作成されている場合の、異なる個所の写真である。なおこの図14の写真撮影に供したパターン位相差フィルムは、賦型樹脂層5にアクリル系樹脂を適用したものであり、包埋樹脂が位相差層4の樹脂層である。またこの包埋樹脂の部分に配置した記載は、表面形状の測定により把握された凹凸形状を模式的に示すものである。この図14によれば、両端を矢印により示す位相差層(アクリル樹脂)と包埋樹脂との境界を詳細に観察すると、図12の表面形状の測定結果に対応する凹凸形状を把握することができる。   14 (a) and 14 (b) are photographs showing a cross section of the pattern retardation film. FIGS. 14A and 14B are photographs of different portions when the uneven shape is appropriately created. In the pattern retardation film used for the photography of FIG. 14, an acrylic resin is applied to the shaping resin layer 5, and the embedding resin is the resin layer of the retardation layer 4. Moreover, the description arrange | positioned in the part of this embedding resin shows typically the uneven | corrugated shape grasped | ascertained by the measurement of the surface shape. According to FIG. 14, when the boundary between the retardation layer (acrylic resin) and the embedding resin indicated by arrows at both ends is observed in detail, the uneven shape corresponding to the surface shape measurement result of FIG. 12 can be grasped. it can.

以上の構成によれば、配向膜の平均面粗さ(Ra)を1nm以上、4nm以下に設定したことにより、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。   According to the above configuration, since the average surface roughness (Ra) of the alignment film is set to 1 nm or more and 4 nm or less, deterioration of alignment in the retardation layer that is a liquid crystal layer can be effectively avoided, compared with the conventional case. Thus, the adhesion between the alignment film and the liquid crystal layer can be improved.

〔第2実施形態〕
この実施形態に係る画像表示装置は、液晶表示パネルのパネル面に順次偏光板、1/2波長板、1/4波長板を配置し、液晶表示パネルの視野角特性を改善する。図15は、このパネル面に配置する1/4波長板を示す斜視図である。なお1/2波長板は、後述する位相差層の厚み、遅相軸の方向が異なる点を除いて、この図15に示す1/4波長板と同一に構成されることにより、以下においては、詳細な説明は省略する。
[Second Embodiment]
In the image display device according to this embodiment, a polarizing plate, a half-wave plate, and a quarter-wave plate are sequentially arranged on the panel surface of the liquid crystal display panel to improve the viewing angle characteristics of the liquid crystal display panel. FIG. 15 is a perspective view showing a quarter-wave plate disposed on the panel surface. The half-wave plate is configured the same as the quarter-wave plate shown in FIG. 15 except that the thickness of the retardation layer and the direction of the slow axis, which will be described later, are different. Detailed description will be omitted.

ここで1/4波長板51は、TAC(トリアセチルセルロース)等の透明フィルムからなる基材52の一方の面上に、配向膜53、位相差層54が順次作製される。1/4波長板51は、パターン位相差フィルム1と同様に、位相差層54が屈折率異方性を保持した状態で固化(硬化)された液晶材料により形成され、この液晶材料の配向を配向膜53の配向規制力によりパターンニングし、これにより透過光に対応する位相差を与える。また1/4波長板51は、パターン位相差フィルム1と同様の紫外線硬化性樹脂55の表面形状により配向膜53が作製され、この配向膜53は、全面が、一様に垂直方向に対して斜め傾く方向に延長するライン状凹凸形状により作製される。   Here, in the quarter-wave plate 51, an alignment film 53 and a retardation layer 54 are sequentially formed on one surface of a substrate 52 made of a transparent film such as TAC (triacetyl cellulose). The quarter-wave plate 51 is formed of a liquid crystal material that is solidified (cured) in a state in which the retardation layer 54 retains the refractive index anisotropy, similarly to the pattern retardation film 1, and the orientation of the liquid crystal material is changed. Patterning is performed by the alignment regulating force of the alignment film 53, thereby giving a phase difference corresponding to the transmitted light. The quarter-wave plate 51 is formed with an alignment film 53 with the same surface shape of the ultraviolet curable resin 55 as the pattern retardation film 1, and the entire surface of the alignment film 53 is uniformly perpendicular to the vertical direction. It is produced by a line-shaped uneven shape extending in a slanting direction.

1/4波長板51は、専用の製造用金型であるロール版を使用して、図2について上述したパターン位相差フィルム1の製造工程と同一の工程で生産される。これにより1/4波長板51及び1/2波長板は、効率良く大量生産される。   The quarter-wave plate 51 is produced in the same process as the process for manufacturing the pattern retardation film 1 described above with reference to FIG. 2 using a roll plate that is a dedicated manufacturing mold. Thereby, the quarter-wave plate 51 and the half-wave plate are efficiently mass-produced.

図16は、1/4波長板51の製造に使用するロール版の製造工程を示す図である。この製造工程では、母材60の周側面を切削により平滑化した後、下地層61が作製される(図16(a))。ここで母材60は、ロール版の外形形状に対応する円筒形状の金属材料であり、パターン位相差フィルム1について上述したと同様に各種の金属材料等を広く適用することができるものの、この実施形態では、銅が適用される。また下地層61は、無電解メッキにより、リンをドープしたニッケル層が膜厚500nmで作製される。   FIG. 16 is a diagram illustrating a manufacturing process of a roll plate used for manufacturing the quarter-wave plate 51. In this manufacturing process, after the peripheral side surface of the base material 60 is smoothed by cutting, the base layer 61 is manufactured (FIG. 16A). Here, the base material 60 is a cylindrical metal material corresponding to the outer shape of the roll plate, and various metal materials and the like can be widely applied in the same manner as described above for the pattern retardation film 1. In form, copper is applied. The underlayer 61 is made of phosphorus-doped nickel layer with a film thickness of 500 nm by electroless plating.

続いてこの工程は、下地層61の表面に、無機材料層62を作製する。この実施形態では、この無機材料層62にクロム層が適用され、スパッタリングにより膜厚100nmにより作製される。続いてこの工程は、図16(b)に示すように、この無機材料層62の全面にラビング処理により微小なライン状凹凸形状を形成する。なおこの実施形態では、液晶表示パネルのパネル面に配置される偏光板の透過軸と、1/2波長板、1/4波長板の遅相軸はそれぞれ時計回りに75度、15度となるような角度を成す方向であり、ライン状凹凸形状の延長方向はこの遅相軸の延長方向に一致する方向である。これにより1/4波長板51は、この無機材料層62の表面形状が賦型処理により転写されて配向膜53が作製されることになる。   Subsequently, in this step, an inorganic material layer 62 is formed on the surface of the base layer 61. In this embodiment, a chromium layer is applied to the inorganic material layer 62, and the inorganic material layer 62 is produced by sputtering to a thickness of 100 nm. Subsequently, in this step, as shown in FIG. 16B, a fine line-shaped uneven shape is formed on the entire surface of the inorganic material layer 62 by rubbing. In this embodiment, the transmission axis of the polarizing plate disposed on the panel surface of the liquid crystal display panel and the slow axis of the half-wave plate and quarter-wave plate are 75 degrees and 15 degrees clockwise, respectively. The extending direction of the line-shaped concavo-convex shape coincides with the extending direction of the slow axis. Thereby, in the quarter-wave plate 51, the surface shape of the inorganic material layer 62 is transferred by the shaping process, and the alignment film 53 is produced.

この実施形態では、この無機材料層62におけるラビング処理回数の設定により、ラビング方向と直交する方向において、平均面粗さ(Ra)を1nm以上、4nm以下に設定し、またこれにより賦型処理によりこの無機材料層62の表面形状を転写する配向膜53において、平均面粗さ(Ra)を1nm以上、4nm以下に設定した。これによりこの実施形態においても、液晶層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上する。   In this embodiment, by setting the number of rubbing treatments in the inorganic material layer 62, the average surface roughness (Ra) is set to 1 nm or more and 4 nm or less in the direction orthogonal to the rubbing direction. In the alignment film 53 for transferring the surface shape of the inorganic material layer 62, the average surface roughness (Ra) was set to 1 nm or more and 4 nm or less. Thereby, also in this embodiment, the deterioration of the alignment in the liquid crystal layer is effectively avoided, and the adhesion between the alignment film and the liquid crystal layer is improved as compared with the conventional case.

この第2の実施形態によれば、1/2位相差板、1/4位相差板に本発明を適用して、第1実施形態と同一の効果を確保することができる。   According to the second embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be secured by applying the present invention to the ½ retardation plate and the ¼ retardation plate.

〔第3実施形態〕
ところで上述の第1及び第2の実施形態の構成を前提に、さらに配向膜の表面粗さについて検討を試みた。図17は、この配向膜の検討に供した測定装置の構成を示す図である。この測定装置では、直交ニコル配置による偏光板70A及び70Bの間にパターン位相差フィルム1を配置する。この状態で、偏光板70A及び70Bに対するパターン位相差フィルム1の傾きθを変化させながら、透過光量を計測し、最も透過光量が小さくなる傾きθを計測する。なおこの最も透過光量が小さくなる場合の光量は、黒輝度とも呼ばれる。この実施形態では、1つのパターン位相差フィルム1について、この黒輝度の光量、黒輝度に係る傾きを複数個所で計測し、計測結果を統計的に処理した。なおこの測定に係るラビング処理は、レーヨンを使用した植毛布を使用して押し込み量0.5mmにより実行した。またパターン位相差フィルム1は、母材40の周側面に計測用の試料を貼り付けて作成した試験用金型により作成した。
[Third Embodiment]
By the way, on the premise of the configurations of the first and second embodiments described above, further investigation was made on the surface roughness of the alignment film. FIG. 17 is a diagram showing a configuration of a measuring apparatus used for examining the alignment film. In this measuring apparatus, the pattern phase difference film 1 is arrange | positioned between polarizing plates 70A and 70B by orthogonal Nicol arrangement. In this state, the amount of transmitted light is measured while changing the inclination θ of the pattern retardation film 1 with respect to the polarizing plates 70A and 70B, and the inclination θ with the smallest amount of transmitted light is measured. The light amount when the transmitted light amount is the smallest is also called black luminance. In this embodiment, with respect to one pattern retardation film 1, the amount of black luminance and the inclination related to black luminance were measured at a plurality of locations, and the measurement results were statistically processed. In addition, the rubbing process which concerns on this measurement was performed by the pushing amount of 0.5 mm using the flocking cloth which used the rayon. Moreover, the pattern phase difference film 1 was created with the test metal mold | die produced by affixing the sample for a measurement on the surrounding side surface of the base material 40. FIG.

図18及び図19は、この計測結果を示す図である。図18の測定結果は、ラビング処理の時間を横軸に取り、傾きθのばらつき3σを縦軸により示すものである。なおσは、標準偏差である。また符号L1により示す測定結果は、符号L2により示す測定結果に比して、ラビング処理時における母材に対するラビングクロスの変位速度を5倍に設定した場合の測定結果である。この図18による計測結果によれば、母材に対するラビングクロスの変位速度が低い程、またラビング処理時間が短い程、黒輝度に係る角度θのばらつき3σが小さいことが判った。特に、処理時間を一定時間より短くすると、ばらつき3σが急激に小さくなることが判る。   18 and 19 are diagrams showing the measurement results. The measurement results in FIG. 18 show the rubbing time on the horizontal axis and the variation 3σ of the inclination θ on the vertical axis. Note that σ is a standard deviation. The measurement result indicated by reference sign L1 is a measurement result when the displacement speed of the rubbing cloth with respect to the base material during the rubbing process is set to five times that of the measurement result indicated by reference sign L2. According to the measurement result shown in FIG. 18, it was found that the variation 3σ of the angle θ related to the black luminance is smaller as the displacement speed of the rubbing cloth relative to the base material is lower and the rubbing processing time is shorter. In particular, when the processing time is shorter than a certain time, it can be seen that the variation 3σ is rapidly reduced.

また図19は、黒輝度を横軸に取り、傾きθのばらつき3σを縦軸により示すものである。なお横軸の単位はカンデラであり、一定の光量により測定に供する光を照射した場合の透過光量である。この図19によれば、ばらつき3σが小さい程、黒輝度も小さくなることが判る。特に、ばらつき3σのほぼ1.0度を境にして、これよりばらつき3σが小さくなると、ばらつき3σの変化に対する黒輝度の変化量が小さくなる。このばらつき3σの1.0度を境にした測定結果の変化は、図18の測定結果でも見て取ることができる。   FIG. 19 shows the black luminance on the horizontal axis and the variation 3σ of the inclination θ by the vertical axis. The unit of the horizontal axis is candela, which is the amount of transmitted light when irradiated with light for measurement with a constant amount of light. According to FIG. 19, it can be seen that the smaller the variation 3σ is, the smaller the black luminance is. In particular, when the variation 3σ becomes smaller than about 1.0 degree of the variation 3σ, the amount of change in black luminance with respect to the variation 3σ becomes smaller. The change in the measurement result at the boundary of 1.0 degree of the variation 3σ can also be seen in the measurement result of FIG.

ここでこのばらつき3σが小さい場合、黒輝度が小さい場合には、パターン位相差フィルム1で付与される位相差量にばらつきが小さいと言え、パターン位相差フィルム1では、精度良く、画像表示パネルの出射光を右目用及び左目用で方向の異なる円偏光に変換することができる。従ってクロストークも十分に抑圧することができる。また1/2位相差板、1/4位相差板に適用する場合には、精度良く所望の位相差を付与することができる。   Here, when the variation 3σ is small, or when the black luminance is small, it can be said that the variation in the amount of retardation applied by the pattern retardation film 1 is small. In the pattern retardation film 1, the image display panel has high accuracy. The emitted light can be converted into circularly polarized light having different directions for the right eye and the left eye. Therefore, crosstalk can be sufficiently suppressed. Moreover, when applied to a 1/2 phase difference plate and a 1/4 phase difference plate, a desired phase difference can be given with high accuracy.

これらにより精度良く位相差層を作成するためには、母材とラビング布との相対速度を一定速度以下に設定して短い処理時間によりラビング処理することが必要であり、従来のラビング処理に係る考え方とは真逆の考え方によりラビング処理することが必要であることが判った。しかしてこのように相対速度を一定速度以下に設定して短い時間によりラビング処理する場合には、十分な深さによりライン状凹凸形状が作成されていないと考えられる。   In order to create a retardation layer with high accuracy, it is necessary to set the relative speed between the base material and the rubbing cloth to a constant speed or less and perform rubbing processing in a short processing time. It was found that rubbing treatment was necessary based on a concept opposite to the concept. Thus, when the rubbing process is performed in a short time with the relative speed set to a certain speed or less, it is considered that the line-shaped uneven shape is not formed with a sufficient depth.

図20及び図21は、このような観点より配向膜の表面形状とばらつき3σとの関係を測定した結果である。なおこの測定結果は、図18及び図19の測定に供したパターン位相差フィルムについて、紫外線硬化性樹脂を塗付する前の段階で配向膜の表面形状を測定したものである。図20は、二乗平均粗さRMS(Rq)を横軸に取り、ばらつき3σを縦軸に取った測定結果である。この図10の測定結果によれば、ばらつき3σが小さい場合には、二乗平均粗さによる粗さも小さいことが判るものの、図18及び図19の測定結果について上述したばらつき3σの1.0度に係る境界については、見て取ることができない。   20 and 21 show the results of measuring the relationship between the surface shape of the alignment film and the variation 3σ from such a viewpoint. In addition, this measurement result measured the surface shape of the alignment film in the stage before apply | coating an ultraviolet curable resin about the pattern phase difference film used for the measurement of FIG.18 and FIG.19. FIG. 20 shows a measurement result in which the root mean square roughness RMS (Rq) is taken on the horizontal axis and the variation 3σ is taken on the vertical axis. According to the measurement result of FIG. 10, when the variation 3σ is small, it can be seen that the roughness due to the mean square roughness is small, but the measurement result of FIGS. 18 and 19 is 1.0 degree of the variation 3σ described above. Such boundaries cannot be seen.

これに対して図21は、十点平均粗さRzを横軸に取り、ばらつき3σを縦軸に取った測定結果である。これら図20及び図21の測定結果によれば、表面粗さが粗い場合程、すなわち配向膜に係るライン状凹凸形状が十分な深さにより作成されている場合程、位相差層に係る光学特性が劣化することが判る。換言すれば、配向膜に係るライン状凹凸形状が浅い場合程、位相差層にかかる液晶分子が揃った状態で配向し易いと言える。   On the other hand, FIG. 21 shows measurement results in which the ten-point average roughness Rz is plotted on the horizontal axis and the variation 3σ is plotted on the vertical axis. 20 and 21, according to the measurement results of FIG. 20 and FIG. 21, as the surface roughness is rough, that is, as the line-shaped unevenness shape related to the alignment film is formed with a sufficient depth, the optical characteristics related to the retardation layer. It turns out that deteriorates. In other words, it can be said that the shallower the line-shaped unevenness of the alignment film, the easier it is to align the liquid crystal molecules in the retardation layer.

またさらにこの図21の測定結果によれば、図18及び図19の測定結果との対比により、十点平均粗さRzが45nm以下であるようにラビング処理すれば、ばらつき3σが1.2度以下であるようにラビング処理することができ、また黒輝度も十分に抑圧できることが判る。なお、十点平均粗さの下限値は、位相差層に適用される液晶分子の大きさの10倍程度は必要であり、これにより1nm以上は必要である。しかしながらさらに実用的な余裕を確保する観点から、好ましくは下限値は、10nm以上は必要である。   Further, according to the measurement results of FIG. 21, in comparison with the measurement results of FIGS. 18 and 19, if rubbing is performed so that the ten-point average roughness Rz is 45 nm or less, the variation 3σ is 1.2 degrees. It can be seen that the rubbing process can be performed as described below, and the black luminance can be sufficiently suppressed. Note that the lower limit of the ten-point average roughness needs to be about 10 times the size of the liquid crystal molecules applied to the retardation layer, and thus needs to be 1 nm or more. However, from the viewpoint of securing a practical margin, the lower limit is preferably 10 nm or more.

これらにより充分にばらつきを小さくして液晶層を十分に配向させるために、配向膜は、十点平均粗さRzが45nm以下、10nm以上であることが必要であることが判った。これによりこの実施形態では、第1及び第2の実施形態の構成を前提に、ラビングの処理回数、ラビング処理速度の設定により、十点平均粗さRzが45nm以下、10nm以上であるように設定した。またこれによりこの実施形態では、ロール版の周側面の十点平均粗さRzが45nm以下、10nm以上であるように作製される。   It has been found that the alignment film needs to have a ten-point average roughness Rz of 45 nm or less and 10 nm or more in order to sufficiently reduce the variation and sufficiently align the liquid crystal layer. Accordingly, in this embodiment, on the premise of the configuration of the first and second embodiments, the ten-point average roughness Rz is set to be 45 nm or less and 10 nm or more by setting the number of rubbing processes and the rubbing process speed. did. Further, in this embodiment, the ten-point average roughness Rz of the peripheral side surface of the roll plate is prepared to be 45 nm or less and 10 nm or more.

図22及び図23は、図20及び図21の測定に供した配向膜について、5μm×5μmの領域の表面形状を示すAFM(Atomic Force Microscope:原子間力顕微鏡)による写真であり、上方から下方がラビング方向である。図22は、上述の範囲に入る試料によるものであり、かろうじてラビング方向を見て取ることができる程度に、微弱なライン状凹凸形状が作成されている。図23は、上述の範囲に入らない、ラビングし過ぎの試料によるものであり、ばらつき3σ及び黒輝度共に未だ不十分なものであった。この図22及び図23によれは、配向膜に係るライン状凹凸形状が十分な深さにより作成されている場合程、位相差層に係る光学特性が劣化することが判り、配向膜に係るライン状凹凸形状が浅い場合程、位相差層にかかる液晶分子が揃った状態で配向し易いことが判る。   FIGS. 22 and 23 are photographs taken by AFM (Atomic Force Microscope) showing the surface shape of the 5 μm × 5 μm region of the alignment film subjected to the measurement of FIGS. Is the rubbing direction. FIG. 22 is based on a sample that falls within the above-described range, and a weak line-shaped uneven shape is created to such an extent that the rubbing direction can be barely seen. FIG. 23 is based on an excessively rubbed sample that does not fall within the above-described range, and the variation 3σ and the black luminance are still insufficient. According to FIGS. 22 and 23, it can be seen that the optical characteristics related to the retardation layer deteriorate as the line-shaped unevenness shape related to the alignment film is formed with a sufficient depth. It can be seen that the shallower the concavo-convex shape is, the easier it is to align the liquid crystal molecules applied to the retardation layer.

この第3実施形態によれば、配向膜の十点平均粗さRzが45nm以下、10nm以上であることにより、充分にばらつきを低減して液晶層を配向させることができ、これにより高い品質でパターン位相差フィルム、位相差板を作製することができる。また図11(a1)〜図12(b2)の計測結果による十点平均粗さRzとの対比によれば、十点平均粗さRzが45nm以下、10nm以上である場合には、概ね、配向膜の平均面粗さ(Ra)を1nm以上、4nm以下に設定できることにより、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。   According to the third embodiment, when the ten-point average roughness Rz of the alignment film is 45 nm or less and 10 nm or more, the liquid crystal layer can be aligned with sufficiently reduced variation, thereby achieving high quality. Pattern retardation film and retardation plate can be produced. Further, according to the comparison with the ten-point average roughness Rz based on the measurement results of FIGS. 11 (a1) to 12 (b2), when the ten-point average roughness Rz is 45 nm or less and 10 nm or more, the alignment is generally performed. Since the average surface roughness (Ra) of the film can be set to 1 nm or more and 4 nm or less, it is possible to effectively avoid the deterioration of the alignment in the retardation layer that is the liquid crystal layer, and the alignment film and the liquid crystal layer are compared with the conventional one Adhesion can be improved.

〔第4実施形態〕
この実施形態では、上述の第3の実施形態の構成において、さらにラビングの処理回数、ラビング処理速度の設定により、配向膜の十点平均粗さRzが45nm以下、10nm以上であり、かつ配向膜の平均面粗さ(Ra)を1nm以上、4nm以下に設定する。またこれによりこの実施形態では、ロール版の周側面の十点平均粗さRzが45nm以下、10nm以上であり、かつ平均面粗さ(Ra)を1nm以上、4nm以下により作製される。
[Fourth Embodiment]
In this embodiment, in the configuration of the above-described third embodiment, the ten-point average roughness Rz of the alignment film is 45 nm or less and 10 nm or more by further setting the number of rubbing processes and the rubbing process speed, and the alignment film The average surface roughness (Ra) is set to 1 nm or more and 4 nm or less. In this embodiment, the ten-point average roughness Rz of the peripheral side surface of the roll plate is 45 nm or less and 10 nm or more, and the average surface roughness (Ra) is 1 nm or more and 4 nm or less.

この実施形態では、配向膜の十点平均粗さRzが45nm以下、10nm以上であり、かつ配向膜の平均面粗さ(Ra)を1nm以上、4nm以下に設定することにより、充分にばらつきを低減して液晶層を配向させることができ、さらに液晶層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。   In this embodiment, the ten-point average roughness Rz of the alignment film is 45 nm or less, 10 nm or more, and the average surface roughness (Ra) of the alignment film is set to 1 nm or more and 4 nm or less. The liquid crystal layer can be aligned with a reduced amount, and the deterioration of the alignment in the liquid crystal layer can be effectively avoided, and the adhesion between the alignment film and the liquid crystal layer can be improved as compared with the conventional case.

〔第5実施形態〕
図24は、本発明の第5実施形態に係る画像表示装置を示す図である。この画像表示装置71では、画像表示パネル72のパネル面に、光学フィルム73が配置される。画像表示パネル72は、可撓性を有するシート形状による有機ELパネルであり、所望のカラー画像を表示する。光学フィルム73は、偏光面の制御により、画像表示パネル72に到来する外来光の反射を抑圧する。
[Fifth Embodiment]
FIG. 24 is a diagram showing an image display apparatus according to the fifth embodiment of the present invention. In the image display device 71, an optical film 73 is disposed on the panel surface of the image display panel 72. The image display panel 72 is an organic EL panel having a flexible sheet shape, and displays a desired color image. The optical film 73 suppresses reflection of extraneous light arriving at the image display panel 72 by controlling the polarization plane.

このため光学フィルム73は、直線偏光板75、円偏光板76の積層体により構成され、画像表示パネル72側面に感圧接着剤による粘着層74が設けられ、この粘着層74により画像表示パネル72のパネル面に貼り付けられて保持される。   For this reason, the optical film 73 is configured by a laminate of a linearly polarizing plate 75 and a circularly polarizing plate 76, and an adhesive layer 74 made of a pressure sensitive adhesive is provided on the side surface of the image display panel 72. Affixed to the panel surface and held.

光学フィルム73は、画像表示パネル72のパネル面に向かう外来光を直線偏光板75により直線偏光に変換し、続く円偏光板76により円偏光に変換する。ここでこの円偏光による外来光は、画像表示パネル72の表面等で反射するものの、この反射の際に偏光面の回転方向が逆転する。その結果、この反射光は、到来時とは逆に、円偏光板76より、直線偏光板75により遮光される方向の直線偏光に変換された後、続く直線偏光板75により遮光され、その結果、偏光面の制御により外部への出射が著しく抑制される。   The optical film 73 converts extraneous light traveling toward the panel surface of the image display panel 72 into linearly polarized light by the linearly polarizing plate 75 and then converts it into circularly polarized light by the circularly polarizing plate 76. Here, the extraneous light by the circularly polarized light is reflected by the surface of the image display panel 72 and the like, but the rotation direction of the polarization plane is reversed at the time of this reflection. As a result, the reflected light is converted from the circularly polarizing plate 76 to linearly polarized light in the direction shielded by the linearly polarizing plate 75, and then shielded by the subsequent linearly polarizing plate 75, as a result. The emission to the outside is remarkably suppressed by controlling the polarization plane.

この実施形態において、円偏光板76は、1/2位相差板として機能する部位77(1/2波長板用位相差層と呼ぶ)と、1/4位相差板として機能する部位78(1/4波長板用位相差層と呼ぶ)との積層体により構成される。図25に示すように、矢印により示す直線偏光板75の透過軸に対して、これら1/2波長板用位相差層77及び1/4波長板用位相差層78は、遅相軸(それぞれ矢印により示す)が、それぞれ反時計回りに15度、73度の角度を成すように配置される。これにより画像表示装置71は、カラー画像の表示に供する広い波長帯域で正の分散特性を確保し、十分に外来光の反射を抑圧する。   In this embodiment, the circularly polarizing plate 76 includes a portion 77 (referred to as a half-wave plate retardation layer) that functions as a ½ retardation plate and a portion 78 (1 that functions as a ¼ retardation plate). / 4 wavelength plate retardation layer). As shown in FIG. 25, the half-wave plate retardation layer 77 and the quarter-wave plate retardation layer 78 have a slow axis (respectively, respectively) with respect to the transmission axis of the linear polarizing plate 75 indicated by the arrow. Are arranged so as to form angles of 15 degrees and 73 degrees counterclockwise, respectively. Accordingly, the image display device 71 ensures positive dispersion characteristics in a wide wavelength band used for displaying a color image, and sufficiently suppresses reflection of external light.

より具体的に、1/4波長板用位相差層78は、面内位相差(Re)が125nm以上、150nm以下により作成され、1/2波長板用位相差層77は面内位相差(Re)が235nm以上、285nm以下により作成される。これにより光学フィルム73は、直線偏光板75側より入射する可視光域波長域(450〜750nm)の透過光を、楕円率0.8以上の円偏光により出射する。   More specifically, the quarter-wave plate retardation layer 78 is formed with an in-plane retardation (Re) of 125 nm or more and 150 nm or less, and the half-wave plate retardation layer 77 is formed with an in-plane retardation (Re) Re) is created when 235 nm or more and 285 nm or less. Thereby, the optical film 73 emits the transmitted light in the visible light wavelength range (450 to 750 nm) incident from the linearly polarizing plate 75 side as circularly polarized light having an ellipticity of 0.8 or more.

ここで円偏光板76(図24)は、TAC(トリアセチルセルロース)等の透明フィルムからなる基材79の下面側に、順次、1/4波長板用配向膜81、1/4波長板用位相差層78が設けられ、1/4波長板用位相差層78の画像表示パネル72側面に粘着層74が設けられる。1/4波長板用位相差層78は、屈折率異方性を保持した状態で固化(硬化)された液晶材料により形成され、円偏光板76は、この液晶材料の配向を1/4波長板用配向膜81の配向規制力によりパターンニングする。円偏光板76は、基材79の表面に、微細な凹凸形状の賦型に供する樹脂である賦型用樹脂が塗付され、この賦型用樹脂の賦型処理により微細な凹凸形状が作製される。円偏光板76は、この賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂が適用され、これにより基材79の表面に紫外線硬化性樹脂82が塗布された後、この紫外線硬化性樹脂82の表面に微小な凹凸形状が形成され、この微小な凹凸形状により1/4波長板用配向膜81が形成される。なおこの紫外線硬化性樹脂82については、例えばアクリル系等、賦型処理に供する各種の樹脂を広く適用することができる。   Here, the circularly polarizing plate 76 (FIG. 24) is arranged on the lower surface side of the base material 79 made of a transparent film such as TAC (triacetyl cellulose) in order, for a quarter-wave plate alignment film 81 and for a quarter-wave plate. A retardation layer 78 is provided, and an adhesive layer 74 is provided on the side surface of the image display panel 72 of the quarter-wave plate retardation layer 78. The quarter-wave plate retardation layer 78 is formed of a liquid crystal material that is solidified (cured) while maintaining refractive index anisotropy, and the circularly polarizing plate 76 has an alignment of the liquid crystal material of ¼ wavelength. Patterning is performed by the alignment regulating force of the plate alignment film 81. In the circularly polarizing plate 76, a molding resin, which is a resin used for forming a fine uneven shape, is applied to the surface of the base material 79, and a fine uneven shape is produced by the forming process of the forming resin. Is done. In the circularly polarizing plate 76, an ultraviolet curable resin is applied to the shaping resin, and after the ultraviolet curable resin 82 is applied to the surface of the base material 79, a minute amount is formed on the surface of the ultraviolet curable resin 82. An uneven shape is formed, and the quarter-wave plate alignment film 81 is formed by this minute uneven shape. In addition, about this ultraviolet curable resin 82, various resin used for a shaping process, such as an acrylic type, can be applied widely.

また円偏光板76は、基材79の上面側に、順次、1/2波長板用配向膜80、1/2波長板用位相差層77が設けられる。1/2波長板用位相差層77は、屈折率異方性を保持した状態で固化(硬化)された液晶材料により形成され、この液晶材料の配向を1/2波長板用配向膜80の配向規制力によりパターンニングする。円偏光板76は、1/4波長板用配向膜81と同様に、賦型用樹脂である紫外線硬化性樹脂83を使用した賦型処理により紫外線硬化性樹脂83の表面に微小な凹凸形状が形成され、この微小な凹凸形状により1/2波長板用配向膜80が形成される。   The circularly polarizing plate 76 is provided with a half-wave plate alignment film 80 and a half-wave plate retardation layer 77 in this order on the upper surface side of the substrate 79. The half-wave plate retardation layer 77 is formed of a liquid crystal material that is solidified (cured) while maintaining the refractive index anisotropy. Patterning is performed by orientation regulation force. Similar to the alignment film 81 for the quarter-wave plate, the circularly polarizing plate 76 has a minute uneven shape on the surface of the ultraviolet curable resin 83 by the molding process using the ultraviolet curable resin 83 which is a molding resin. The half-wave plate alignment film 80 is formed by this minute uneven shape.

ここでこれら1/2波長板用配向膜80及び1/4波長板用配向膜81に係る微細な凹凸形状は、一方向に延長するライン状(線)の凹凸形状により形成され、この一方向に延長する方向が直線偏光板75の透過軸に対して、それぞれ反時計回りに15度、73度の角度を成すように作成される。   Here, the fine concavo-convex shape relating to the alignment film for half-wave plate 80 and the alignment film for quarter-wave plate 81 is formed by a line-shaped concavo-convex shape extending in one direction. Are formed so as to form angles of 15 degrees and 73 degrees counterclockwise with respect to the transmission axis of the linearly polarizing plate 75, respectively.

直線偏光板75は、TAC(トリアセチルセルロース)等の透明フィルムからなる基材85の下面側が鹸化処理された後、光学機能層86、粘着層87が順次配置され、この粘着層87により円偏光板76と一体化される。ここで光学機能層86は、直線偏光板としての光学的機能を担う部位であり、例えばポリビニルアルコール(PVA)によるフィルム材に、ヨウ素化合物分子を吸着配向させて作製される。粘着層87は、例えばPVA(ポリビニルアルコール)糊である。   In the linear polarizing plate 75, the lower surface side of a base material 85 made of a transparent film such as TAC (triacetyl cellulose) is saponified, and then an optical functional layer 86 and an adhesive layer 87 are sequentially arranged. It is integrated with the plate 76. Here, the optical functional layer 86 is a part having an optical function as a linear polarizing plate, and is produced, for example, by adsorbing and orienting iodine compound molecules on a film material made of polyvinyl alcohol (PVA). The adhesive layer 87 is, for example, PVA (polyvinyl alcohol) glue.

しかして光学フィルム1における円偏光板76側の各構成について、基材79には厚み30μm程度のフィルム材を適用することができ、1/4波長板用位相差層78、1/2波長板用位相差層77はそれぞれ厚み1μm、2μm程度により作成することができる。また紫外線硬化性樹脂82、83は、厚み2μm程度、粘着層74は、15μm以下により作成することができる。これらにより円偏光板76に有っては、全体として厚みを50μm程度により作成することができる。また直線偏光板75については、光学機能層86と基材85との総合の厚みを30μm程度により作成することができ、粘着層87は、厚み20μ以下により作成することができる。これにより直線偏光板75にあっても、十分に厚みを薄くすることができる。これらにより光学フィルム73にあっては、十分な可撓性を確保することができる。なお粘着層87に紫外線硬化性樹脂を適用する場合、厚み100nm程度とすることができ、一段と全体の厚みを薄くすることができる。   Thus, for each component on the side of the circularly polarizing plate 76 in the optical film 1, a film material having a thickness of about 30 μm can be applied to the base material 79, and a quarter-wave plate retardation layer 78, a half-wave plate The retardation layer 77 can be formed with a thickness of about 1 μm and 2 μm, respectively. The ultraviolet curable resins 82 and 83 can be formed with a thickness of about 2 μm, and the adhesive layer 74 can be formed with a thickness of 15 μm or less. Thus, the circularly polarizing plate 76 can be formed with a thickness of about 50 μm as a whole. The linear polarizing plate 75 can be formed with a total thickness of the optical functional layer 86 and the substrate 85 of about 30 μm, and the adhesive layer 87 can be formed with a thickness of 20 μm or less. Thereby, even if it exists in the linearly-polarizing plate 75, thickness can be made thin enough. Accordingly, the optical film 73 can ensure sufficient flexibility. When an ultraviolet curable resin is applied to the adhesive layer 87, the thickness can be about 100 nm, and the overall thickness can be further reduced.

ここでこの実施形態に係る画像表示パネル72にあっては、可撓性を有するシート形状であることにより、光学フィルム73は、画像表示パネル72に比して格段的に可撓性を有していると言える。しかしながらこの種の光学フィルム73においては、画像表示パネル以外の、著しく曲率の大きな部材に配置される場合も予測され、この場合には一段と可撓性が求められる。   Here, in the image display panel 72 according to this embodiment, the optical film 73 has much more flexibility than the image display panel 72 due to the sheet shape having flexibility. It can be said that. However, in this type of optical film 73, it is predicted that the optical film 73 is disposed on a member having a significantly large curvature other than the image display panel. In this case, further flexibility is required.

そこで光学フィルム73、円偏光板76について、それぞれJIS K5600−5−1に規定の円筒形マンドレル試験により耐屈曲性を試験した。試験した結果によれば、光学フィルム73、円偏光板76の双方において、マンドレルの直径が3mmの場合であって、表面に、割れ及びはがれ等が発生しないこと、さらにはフィルムの屈曲が発生しないこと等が確認された。これによりこの直径3mmによる耐屈曲性の試験を満足することが判った。ここでこの程度の耐屈曲性を備えている場合には、配置対象物が可撓性を有するシート形状による画像表示パネルであっても、十分に配置対象物の可撓性を損なわないことを確認することができた。また配置対象が一段と大きな曲率を備えた部材であっても、光学フィルム73を損傷しないようにして配置することができる。   Therefore, the optical film 73 and the circularly polarizing plate 76 were tested for bending resistance by a cylindrical mandrel test defined in JIS K5600-5-1. According to the test results, in both the optical film 73 and the circularly polarizing plate 76, the mandrel has a diameter of 3 mm, and the surface is free from cracks and peeling, and further, the film is not bent. That was confirmed. As a result, it was found that the bending resistance test with the diameter of 3 mm was satisfied. Here, in the case of having such a degree of bending resistance, even if the arrangement target is an image display panel having a flexible sheet shape, the flexibility of the arrangement target is not sufficiently impaired. I was able to confirm. Even if the object to be arranged is a member having a much larger curvature, the optical film 73 can be arranged without being damaged.

この実施形態では、このようにして基材79の両面に作製される1/2波長板用配向膜80、1/4波長板用配向膜81が、それぞれ上述の実施形態と同様のロール版を使用した賦型処理により作製される。またこの賦型処理に係るロール版の一方又は双方は、周側面の十点平均粗さRzが45nm以下、10nm以上に作製され、これにより1/2波長板用配向膜80、1/4波長板用配向膜81の一方又は双方が、十点平均粗さRzが45nm以下、10nm以上に作製される。   In this embodiment, the alignment film 80 for half-wave plates and the alignment film 81 for quarter-wave plates produced on both surfaces of the base material 79 in this way are roll plates similar to those in the above-described embodiment. It is produced by the used shaping process. In addition, one or both of the roll plates related to this shaping treatment are produced so that the ten-point average roughness Rz of the peripheral side surface is 45 nm or less and 10 nm or more. One or both of the plate alignment films 81 are produced so that the ten-point average roughness Rz is 45 nm or less and 10 nm or more.

この実施形態では、1/2位相差板及び1/4位相差板の積層構造に係る円偏光板に適用して、さらにはこの円偏光板と直線偏光板との積層による偏光面の制御により反射防止を図る光学フィルムに適用して、1/2波長板用配向膜、1/4波長板用配向膜の一方又は双方を、十点平均粗さRzを45nm以下、10nm以上とすることにより、これらの円偏光板、光学フィルムに関して上述の実施形態と同一の効果を得ることができる。   In this embodiment, the present invention is applied to a circularly polarizing plate according to a laminated structure of a ½ retardation plate and a ¼ retardation plate, and further, by controlling the polarization plane by laminating this circularly polarizing plate and a linearly polarizing plate. By applying to one or both of the alignment film for half-wave plates and the alignment film for quarter-wave plates, the ten-point average roughness Rz is 45 nm or less and 10 nm or more by applying to an optical film for preventing reflection. The same effects as those of the above-described embodiment can be obtained with respect to these circularly polarizing plates and optical films.

またこれら、これら円偏光板、光学フィルムに係る金型の一方又は双方に適用して、十点平均粗さRzを45nm以下、10nm以上とすることにより、これらの円偏光板、光学フィルムに係る金型に関して上述の実施形態と同一の効果を得ることができる。   Further, by applying to one or both of these circularly polarizing plates and optical film molds, the ten-point average roughness Rz is set to 45 nm or less and 10 nm or more, thereby relating to these circularly polarizing plates and optical films. With respect to the mold, the same effect as the above-described embodiment can be obtained.

〔第6実施形態〕
図26は、図24との対比により、本発明の第6実施形態に係る画像表示装置を示す図である。この図26において、図24の画像表示装置71と同一の構成は、対応する符号を付して示し、重複した説明は省略する。ここでこの画像表示装置91は、光学フィルム73に代えて、光学フィルム93が配置される点を除いて、第5実施形態に係る画像表示装置71と同一に構成される。また光学フィルム93は、円偏光板76に代えて円偏光板96が設けられる点を除いて光学フィルム73と同一に構成される。
[Sixth Embodiment]
FIG. 26 is a diagram showing an image display device according to the sixth embodiment of the present invention in comparison with FIG. In FIG. 26, the same components as those of the image display device 71 of FIG. 24 are denoted by the corresponding reference numerals, and redundant description is omitted. Here, the image display device 91 is configured in the same manner as the image display device 71 according to the fifth embodiment except that an optical film 93 is disposed instead of the optical film 73. The optical film 93 is configured in the same manner as the optical film 73 except that a circularly polarizing plate 96 is provided instead of the circularly polarizing plate 76.

光学フィルム93は、基材79の画像表示パネル72側面に、順次、1/2波長板用位相差層77、1/4波長板用位相差層78が設けられ、基材79の逆側面に、粘着層87により直線偏光板75が設けられる。ここで光学フィルム93は、紫外線硬化性樹脂83の賦型処理により1/2波長板用配向膜80が作成され、この1/2波長板用配向膜80の配向規制力により液晶材料を配向させた状態で硬化して1/2波長板用位相差層77が作成される。また続いて紫外線硬化性樹脂82が塗付された後、この紫外線硬化性樹脂82の賦型処理により1/4波長板用配向膜81が作成される。またこの1/4波長板用配向膜81の配向規制力により液晶材料を配向させた状態で硬化して1/4波長板用位相差層78が作成される。   In the optical film 93, a half-wave plate retardation layer 77 and a quarter-wave plate retardation layer 78 are sequentially provided on the side surface of the image display panel 72 of the base material 79. The linearly polarizing plate 75 is provided by the adhesive layer 87. Here, in the optical film 93, the alignment film 80 for half-wave plates is formed by the molding process of the ultraviolet curable resin 83, and the liquid crystal material is aligned by the alignment regulating force of the alignment film 80 for half-wave plates. In this state, the half-wave plate retardation layer 77 is cured. Subsequently, after the ultraviolet curable resin 82 is applied, a quarter wavelength plate alignment film 81 is formed by a molding process of the ultraviolet curable resin 82. Further, the quarter-wave plate retardation layer 78 is formed by curing in a state where the liquid crystal material is oriented by the orientation regulating force of the quarter-wave plate orientation film 81.

この実施形態では、これら1/2波長板用配向膜80、1/4波長板用配向膜81の一方又は双方が第5実施形態について上述したと同様にして十点平均粗さRzが45nm以下、10nm以上に作製される。またこれに対応して1/2波長板用配向膜80、1/4波長板用配向膜81の賦型処理に係るロール版の一方又は双方が、十点平均粗さRzが45nm以下、10nm以上に作製される。   In this embodiment, one or both of the alignment film for half-wave plate 80 and the alignment film for quarter-wave plate 81 have a ten-point average roughness Rz of 45 nm or less in the same manner as described above for the fifth embodiment. It is made to be 10 nm or more. Correspondingly, one or both of the roll plates related to the shaping process of the alignment film 80 for half-wave plates and the alignment film 81 for quarter-wave plates has a 10-point average roughness Rz of 45 nm or less, 10 nm. As described above.

この実施形態のように、基材79の一方の側の面に、順次、1/2波長板用位相差層77、1/4波長板用位相差層78を作成するようにしても、第5実施形態と同様の効果を得ることができる。   As in this embodiment, even if the retardation layer 77 for half-wave plates and the retardation layer 78 for quarter-wave plates are sequentially formed on one surface of the base material 79, the first Effects similar to those of the fifth embodiment can be obtained.

〔第7実施形態〕
図27は、図24、図26との対比により本発明の第8実施形態に係る画像表示装置を示す図である。この画像表示装置101では、画像表示パネル72のパネル面に、光学フィルム103が配置される。この実施形態では、この光学フィルム103の構成が異なる点を除いて第5実施形態又は第6実施形態と同一に構成される。なおこの光学フィルム103において、図24、図26と同一の構成は対応する符号を付して示し、重複した説明は省略する。
[Seventh Embodiment]
FIG. 27 is a diagram showing an image display apparatus according to the eighth embodiment of the present invention in comparison with FIG. 24 and FIG. In the image display device 101, the optical film 103 is disposed on the panel surface of the image display panel 72. This embodiment has the same configuration as that of the fifth or sixth embodiment except that the configuration of the optical film 103 is different. In addition, in this optical film 103, the same structure as FIG. 24, FIG. 26 is attached | subjected and shown, and the overlapping description is abbreviate | omitted.

この光学フィルム103は、粘着層87を介して直線偏光板75、円偏光板76を積層して構成され、粘着層74により画像表示パネル72に保持される。円偏光板76は、画像表示パネル72側から、1/4波長板用賦型樹脂層82、1/4波長板用配向膜81、1/4波長板用位相差層78、1/2波長板用賦型樹脂層83、1/2波長板用配向膜80、1/2波長板用位相差層77が順次設けられる。これによりこの光学フィルム103は、直線偏光板75に直接、1/4波長板用賦型樹脂層82、1/4波長板用位相差層78、1/2波長板用賦型樹脂層83、1/2波長板用位相差層77が設けられて構成され、これにより第5実施形態について光学フィルム73に比して、一段と全体の厚みを薄くして一段と可撓性を確保する。   The optical film 103 is configured by laminating a linearly polarizing plate 75 and a circularly polarizing plate 76 with an adhesive layer 87 interposed therebetween, and is held on the image display panel 72 by the adhesive layer 74. The circularly polarizing plate 76 is, from the image display panel 72 side, a quarter-wave plate shaping resin layer 82, a quarter-wave plate alignment film 81, a quarter-wave plate retardation layer 78, and a half wavelength. A plate-forming resin layer 83, a half-wave plate alignment film 80, and a half-wave plate retardation layer 77 are sequentially provided. Thereby, this optical film 103 is directly applied to the linear polarizing plate 75, the quarter-wave plate shaping resin layer 82, the quarter-wave plate retardation layer 78, the half-wave plate shaping resin layer 83, The half-wave plate retardation layer 77 is provided, and thereby, the fifth embodiment is further reduced in thickness as compared with the optical film 73 to further increase flexibility.

円偏光板76は、これら1/4波長板用配向膜81、1/2波長板用配向膜80の一方又は双方が上述の実施形態について上述したと同様に、賦型処理により作製され、この賦型処理に供するロール版が十点平均粗さRzが45nm以下、10nm以上に作製され、これにより1/2波長板用配向膜80、1/4波長板用配向膜81の一方又は双方が十点平均粗さRzが45nm以下、10nm以上に作製される。   The circularly polarizing plate 76 is produced by a molding process in the same manner as described above for the above-described embodiment in which one or both of the quarter-wave plate alignment film 81 and the half-wave plate alignment film 80 are formed. The roll plate to be subjected to the shaping process is prepared so that the ten-point average roughness Rz is 45 nm or less and 10 nm or more, whereby one or both of the alignment film 80 for half-wave plates and the alignment film 81 for quarter-wave plates are formed. The ten-point average roughness Rz is made to be 45 nm or less and 10 nm or more.

円偏光板76は、これら1/4波長板用賦型樹脂層82、1/4波長板用配向膜81、1/4波長板用位相差層78、1/2波長板用賦型樹脂層83、1/2波長板用配向膜80、1/2波長板用位相差層77を直線偏光板75に一体化する処理に、転写法が適用される。   The circularly polarizing plate 76 includes a quarter-wave plate shaping resin layer 82, a quarter-wave plate orientation film 81, a quarter-wave plate retardation layer 78, and a half-wave plate shaping resin layer. 83, the transfer method is applied to the process of integrating the alignment film 80 for half-wave plate and the retardation layer 77 for half-wave plate into the linearly polarizing plate 75.

ここで転写法は、例えば基材の上に所望の層を形成する場合に、この層を直接当該基材上に形成するのでは無く、一旦、離型性の支持体上に剥離可能に該層を積層形成して転写体を作成した後、工程、需要等に応じて、該支持体上に形成した層を、最終的に該層を積層すべき基材(被転写基材)上に接着、積層し、その後、該支持体を剥離除去することにより、該基材上に所望の層を形成する方法である。   Here, in the transfer method, for example, when a desired layer is formed on a base material, the layer is not directly formed on the base material, but can be peeled once on a releasable support. After forming the transfer body by laminating the layers, the layer formed on the support is finally placed on the base material (transfer base material) on which the layer is to be laminated according to the process, demand, etc. In this method, a desired layer is formed on the substrate by bonding and laminating, and then peeling and removing the support.

この実施形態では、直線偏光板75に、円偏光板76に係る層構成を転写法により積層する。従って被転写基材は、直線偏光板75であり、転写に供する層(転写層)は、1/4波長板用賦型樹脂層82、1/4波長板用配向膜81、1/4波長板用位相差層78、1/2波長板用賦型樹脂層83、1/2波長板用配向膜80、1/2波長板用位相差層77の積層体である。   In this embodiment, the layer configuration related to the circularly polarizing plate 76 is laminated on the linearly polarizing plate 75 by a transfer method. Therefore, the substrate to be transferred is a linear polarizing plate 75, and the layer (transfer layer) used for transfer is a quarter-wave plate shaping resin layer 82, a quarter-wave plate alignment film 81, and a quarter wavelength. This is a laminate of a plate retardation layer 78, a half-wave plate shaping resin layer 83, a half-wave plate alignment film 80, and a half-wave plate retardation layer 77.

図28は、この転写体である転写フィルムの構成を示す図である。転写フィルム110は、支持体基材111上に、順次、円偏光板76に係る1/4波長板用賦型樹脂層82、1/4波長板用配向膜81、1/4波長板用位相差層78、1/2波長板用賦型樹脂層83、1/2波長板用配向膜80、1/2波長板用位相差層77が設けられる。   FIG. 28 is a diagram showing a configuration of a transfer film as the transfer body. The transfer film 110 is formed on the support substrate 111 in sequence, the quarter-wave plate shaping resin layer 82, the quarter-wave plate alignment film 81, and the quarter-wave plate position according to the circularly polarizing plate 76. A retardation layer 78, a half-wave plate shaping resin layer 83, a half-wave plate alignment film 80, and a half-wave plate retardation layer 77 are provided.

ここで支持体基材111は、転写に供する層(転写層)を剥離可能に担持し、転写層を被転写基材上に接着、積層した後は、適宜時機に剥離、除去に供される基材である。この実施形態では、透明フィルム材であるPET(Polyethylene terephthalate)フィルムが適用され、これにより転写フィルム110は、光学特性を検査可能に構成される。なおPETフィルムは、コロナ処理され、これにより後述する離型層との間の密着力を適切に設定する。なお支持体基材111は、全体の形状をシート形状としても良い。また支持体基材21は、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンアフタレート等のポリエステル樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂等の樹脂からなる樹脂性フィルム材を適用してもよい。なお転写層との剥離性が不十分な場合は、支持体基材21には、転写層側に、剥離を促進する離型層を設ける。   Here, the support substrate 111 detachably carries a layer (transfer layer) to be transferred, and after the transfer layer is bonded and laminated on the transfer substrate, it is appropriately peeled and removed as needed. It is a substrate. In this embodiment, a PET (Polyethylene terephthalate) film, which is a transparent film material, is applied, whereby the transfer film 110 is configured to be able to inspect optical characteristics. The PET film is corona-treated, thereby appropriately setting the adhesion between the PET film and a release layer described later. The support substrate 111 may have a sheet shape as a whole. The support substrate 21 may be a resinous film material made of a resin such as a polyester resin such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, or polyethylene aphthalate, or a polyolefin resin such as polypropylene or polymethylpentene. When the peelability from the transfer layer is insufficient, the support substrate 21 is provided with a release layer that promotes peeling on the transfer layer side.

離型層は、相対的に、支持体基材111との密着性は高く(剥離性は低く)、転写層との密着性は低い(剥離性は高い)材料を適用することができる。この実施形態では、転写層の最下層が紫外線硬化性樹脂による1/4波長板用賦型樹脂層82であることにより、上述の支持体基材111に対して、例えばシリコン樹脂(有機珪素系高分子化合物)、弗素系樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、又はこれら樹脂と適宜の他の樹脂(アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂等)との混合物が用いられる。この実施形態では、上述したPETフィルムによる支持体基材21上に、メラミン樹脂による離型層を設け、離型層の上に設ける紫外線硬化性樹脂の塗布液に対する濡れ性を確保する。   For the release layer, it is possible to apply a material having relatively high adhesion to the support substrate 111 (low peelability) and low adhesion to the transfer layer (high peelability). In this embodiment, the lowermost layer of the transfer layer is a quarter-wave plate shaping resin layer 82 made of an ultraviolet curable resin. Polymer compound), fluorine-based resin, melamine resin, epoxy resin, or a mixture of these resins and other resins (acrylic resin, cellulose-based resin, polyester resin, etc.) as appropriate. In this embodiment, a release layer made of melamine resin is provided on the support substrate 21 made of the above-described PET film, and wettability with respect to the coating solution of the ultraviolet curable resin provided on the release layer is ensured.

なおこのように、コロナ処理したPETフィルムにメラミン樹脂による離型層を設ける代わりに、何ら表面処理してないPETフィルムを支持体基材に適用して離型層を省略してもよい。またこれに代えていわゆるノンソルと呼ばれる浸透層を設けていないTACフィルムを支持体基材に適用して、離型層を省略してもよい。このようにすると構成を簡略化することができる。   In this way, instead of providing a release layer made of melamine resin on a corona-treated PET film, a PET film that has not been surface-treated at all may be applied to a support substrate to omit the release layer. Alternatively, a release layer may be omitted by applying a TAC film without a so-called permeation layer called a nonsol to the support substrate. In this way, the configuration can be simplified.

因みに、離型層による剥離性が不十分な場合、支持体基材111と離型層との間に、剥離層を設け、この剥離層により離型層による剥離性を補うようにしてもよい。なお剥離層は、相対的に、支持体フィルムとの密着性が低く(剥離性は高く)、剥離層との密着性が高い(剥離性は低い)材料を適用することができる。より具体的には、この実施形態において、剥離層には、アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、又は以上の中から選択した2種以上の混合物、或いは以上のなかから選択した1種以上とその他の樹脂との混合物が用いられる。剥離層の厚みは、通常、1〜10μm程度である。また剥離層は、支持体基材111に設けても良く、剥離層に設けてもよい。   Incidentally, when the peelability by the release layer is insufficient, a release layer may be provided between the support substrate 111 and the release layer, and this release layer may supplement the release property by the release layer. . For the release layer, a material having relatively low adhesion to the support film (high peelability) and high adhesion to the release layer (low peelability) can be applied. More specifically, in this embodiment, the release layer includes an acrylic resin, a cellulose resin, a polyester resin, a urethane resin, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, or a mixture of two or more selected from the above. Alternatively, a mixture of one or more selected from the above and other resins is used. The thickness of the release layer is usually about 1 to 10 μm. The release layer may be provided on the support substrate 111 or may be provided on the release layer.

1/4波長板用賦型樹脂層82は、この支持体基材111の上に、又は支持体基材111の上に形成された剥離層の上に、紫外線硬化性樹脂の塗付液を塗付して作成され、1/4波長板用配向膜81は、賦型に供する微細凹凸形状を周側面に形成した賦型用金型(ロール版)を用いて1/4波長板用賦型樹脂層82を賦型処理して作成される。1/4波長板用位相差層78は、1/4波長板用配向膜81上に、液晶材料を塗付して硬化させることにより作成される。   The quarter-wave plate shaping resin layer 82 is obtained by applying an ultraviolet curable resin coating solution on the support substrate 111 or on a release layer formed on the support substrate 111. The quarter-wave plate alignment film 81 is prepared by coating, and the quarter-wave plate alignment film 81 is formed by using a mold for molding (roll plate) in which fine irregularities for forming are formed on the peripheral side surface. The mold resin layer 82 is formed by a forming process. The quarter-wave plate retardation layer 78 is formed by applying a liquid crystal material on the quarter-wave plate alignment film 81 and curing it.

1/2波長板用賦型樹脂層83は、1/4波長板用位相差層78の上に、1/4波長板用賦型樹脂層82と同様に、紫外線硬化性樹脂の塗付液を塗付して作成され、1/2波長板用配向膜80は、1/4波長板用配向膜81と同様に、賦型用金型を用いて1/2波長板用賦型樹脂層83を賦型処理して作成される。1/2波長板用位相差層77は、1/2波長板用配向膜80上に、液晶材料を塗付して硬化させることにより作成される。しかして転写体では、これら円偏光板に係る層構成である、1/4波長板用賦型樹脂層82、1/4波長板用配向膜81、1/4波長板用位相差層78、1/2波長板用賦型樹脂層83、1/2波長板用配向膜80、1/2波長板用位相差層77が転写に供する転写層である。   The half-wave plate shaping resin layer 83 is applied on the quarter-wave plate retardation layer 78 in the same manner as the quarter-wave plate shaping resin layer 82 and is applied with an ultraviolet curable resin. The half-wave plate alignment film 80 is formed by using a molding die in the same manner as the quarter-wave plate alignment film 81. 83 is created by a shaping process. The half-wave plate retardation layer 77 is formed by applying and curing a liquid crystal material on the half-wave plate alignment film 80. Thus, in the transfer body, the quarter wavelength plate shaping resin layer 82, the quarter wavelength plate alignment film 81, the quarter wavelength plate retardation layer 78, which have the layer configuration related to these circularly polarizing plates, The half-wave plate shaping resin layer 83, the half-wave plate alignment film 80, and the half-wave plate retardation layer 77 are transfer layers used for transfer.

さらに転写フィルム110は、円偏光板76の層構成に係る転写層の上に、粘着層87、セパレータフィルム113が設けられる。   Further, the transfer film 110 is provided with an adhesive layer 87 and a separator film 113 on the transfer layer according to the layer configuration of the circularly polarizing plate 76.

ここで粘着層87は、転写層と被転写基材とを接着するための層である。転写層の材料と被転写基材の材料に応じて、両者に密着性の高い材料が適用される。この実施形態では、アセチルセルロース(酢酸纖維素)、ニトロセルロース(硝酸纖維素又は硝化綿)、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロース(纖維素)系樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸ブチル共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー、天然又は合成ゴム等の材料が用いられる。接着剤層の厚みは、1〜30μm程度である。なおこの粘着層87に紫外線硬化性樹脂を適用しても良く、この場合には全体の厚みをさらに薄くすることができる。   Here, the adhesive layer 87 is a layer for adhering the transfer layer and the substrate to be transferred. Depending on the material of the transfer layer and the material of the substrate to be transferred, a material having high adhesion is applied to both. In this embodiment, cellulose (fiber) based resins such as acetyl cellulose (cellulose acetate), nitrocellulose (cellulose nitrate or nitrified cotton), cellulose acetate propionate, poly (meth) methyl acrylate, poly (meta) ) Acrylic resin such as butyl acrylate, methyl (meth) acrylate- (meth) butyl acrylate copolymer, methyl (meth) acrylate-styrene copolymer, urethane resin, polyester resin, vinyl chloride-vinyl acetate Materials such as polymers, ionomers, natural or synthetic rubbers are used. The thickness of the adhesive layer is about 1 to 30 μm. In addition, you may apply an ultraviolet curable resin to this adhesion layer 87, In this case, the whole thickness can be made still thinner.

セパレータフィルム113は、粘着層87の表面を離型可能に被覆する離型シートである。セパレータフィルム113は、粘着層87が露出して不要な物品と不要な接着をすることを防止するために設けられ、転写の直前に剥離除去される。   The separator film 113 is a release sheet that covers the surface of the adhesive layer 87 so that it can be released. The separator film 113 is provided to prevent the adhesive layer 87 from being exposed and causing unnecessary adhesion to unnecessary articles, and is peeled off and removed immediately before transfer.

光学フィルム103は、転写フィルム110からセパレータフィルム113を剥離して粘着層87を露出させ、この粘着層87により直線偏光板75に転写フィルム110を貼り合わせた後、支持体基材111を剥離して作成される。またその後、粘着層74、この粘着層74を覆うセパレータフィルムが順次設けられて所望の大きさに切断された後、画像表示パネルへの組み込み工程において、セパレータフィルムを引き剥がして粘着層74が露出された後、この粘着層74により画像表示パネルに配置される。なおこれにより光学フィルム103において粘着層74を覆うセパレータフィルムは、最終的に光学フィルム103から引き剥がされることにより、上述の支持体基材111に代えて、この粘着層74に係るセパレータフィルムを支持体に適用するようにしてもよい。   The optical film 103 peels the separator film 113 from the transfer film 110 to expose the adhesive layer 87, and after the transfer film 110 is bonded to the linearly polarizing plate 75 by the adhesive layer 87, the support substrate 111 is peeled off. Created. After that, an adhesive layer 74 and a separator film covering the adhesive layer 74 are sequentially provided and cut into a desired size, and then the separator film is peeled off in the step of incorporating into the image display panel to expose the adhesive layer 74. After that, the adhesive layer 74 is disposed on the image display panel. In this way, the separator film covering the adhesive layer 74 in the optical film 103 is finally peeled off from the optical film 103, thereby supporting the separator film according to the adhesive layer 74 in place of the support substrate 111 described above. You may make it apply to a body.

以上の構成によれば、転写の手法を適用して光学フィルム3を作成する場合であっても、上述の実施形態と同様の効果を得ることができる。   According to the above configuration, even when the optical film 3 is created by applying a transfer method, the same effect as in the above-described embodiment can be obtained.

〔第8実施形態〕
図29は、図27との対比により本発明の第9実施形態に係る画像表示装置を示す断面図である。この画像表示装置121では、光学フィルム103に代えて光学フィルム123が配置される点を除いて、第8実施形態の画像表示装置と同一に構成される。また光学フィルム123は、1/4波長板用賦型樹脂層82、1/4波長板用配向膜81、1/4波長板用位相差層78、1/2波長板用賦型樹脂層83、1/2波長板用配向膜80、1/2波長板用位相差層77による円偏光板76に代えて、円偏光板76から1/4波長板用賦型樹脂層82及び1/4波長板用配向膜81を取り除いた構成である円偏光板126が適用される点を除いて、光学フィルム103と同一に構成される。これによりこの実施形態では、1/4波長板用賦型樹脂層82を取り除いている分、さらに一段と全体の厚みを薄くして一段と可撓性を確保できるように構成される。
[Eighth Embodiment]
FIG. 29 is a cross-sectional view showing an image display apparatus according to the ninth embodiment of the present invention in comparison with FIG. This image display device 121 is configured in the same manner as the image display device of the eighth embodiment except that an optical film 123 is disposed instead of the optical film 103. The optical film 123 includes a quarter-wave plate shaping resin layer 82, a quarter-wave plate orientation film 81, a quarter-wave plate retardation layer 78, and a half-wave plate shaping resin layer 83. , Instead of the circularly polarizing plate 76 formed of the half-wave plate alignment film 80 and the half-wave plate retardation layer 77, the circular polarizing plate 76 to the quarter-wave plate shaping resin layers 82 and 1/4. The optical film 103 has the same configuration except that a circularly polarizing plate 126 having a configuration in which the wavelength plate alignment film 81 is removed is applied. As a result, in this embodiment, the quarter-wave plate shaping resin layer 82 is removed, so that the overall thickness can be further reduced to further ensure flexibility.

図30は、図29との対比によりこの光学フィルム123の製造に使用される転写フィルムを示す断面図である。この転写フィルム130は、1/4波長板用位相差層78、1/2波長板用賦型樹脂層83、1/2波長板用位相差層77が転写層に割り当てられ、1/4波長板用賦型樹脂層82の表面である1/4波長板用配向膜81が剥離層に割り当てられる。   FIG. 30 is a cross-sectional view showing a transfer film used for manufacturing the optical film 123 in comparison with FIG. In this transfer film 130, a quarter-wave plate retardation layer 78, a half-wave plate shaping resin layer 83, and a half-wave plate retardation layer 77 are assigned to the transfer layer, and the quarter wavelength plate A quarter-wave plate alignment film 81, which is the surface of the plate shaping resin layer 82, is assigned to the release layer.

具体的に、1/4波長板用賦型樹脂層82にあっては、その表面形状が、1/4波長板用配向膜81として十分に機能し、かつ支持体を転写層から剥離する際に、離型層として十分に機能するように構成される。これにより1/4波長板用賦型樹脂層82は、1/4波長板用配向膜81を形成した状態で、支持体基材111の密着性は高く(剥離性は低く)、転写層の最下層である1/4波長板用位相差層78との密着性は低い(剥離性は高い)材料が適用される。またさらに、転写フィルム130に形成される他の層間の密着力に比して、1/4波長板用位相差層78との間の密着力が十分に小さい材料が適用される。   Specifically, in the quarter-wave plate shaping resin layer 82, the surface shape sufficiently functions as the quarter-wave plate orientation film 81, and the support is peeled off from the transfer layer. In addition, it is configured to sufficiently function as a release layer. Thereby, the quarter-wave plate shaping resin layer 82 is in a state in which the quarter-wave plate alignment film 81 is formed, and the adhesiveness of the support substrate 111 is high (the peelability is low). A material having low adhesion (high peelability) to the quarter-wave plate retardation layer 78 that is the lowermost layer is applied. Furthermore, a material having a sufficiently small adhesion with the quarter-wave plate retardation layer 78 is applied as compared with the adhesion between the other layers formed on the transfer film 130.

1/4波長板用賦型樹脂層82、1/4波長板用位相差層78、1/2波長板用賦型樹脂層83、1/2波長板用位相差層77には、賦型処理に供する紫外線硬化性樹脂、光学フィルムに供される液晶材料からこれらの条件を満足する材料が選択されて、又はこれらの条件を満足するように調製されて適用される。   The quarter-wave plate shaping resin layer 82, the quarter-wave plate retardation layer 78, the half-wave plate shaping resin layer 83, and the half-wave plate retardation layer 77 are molded. A material satisfying these conditions is selected from an ultraviolet curable resin used for the treatment and a liquid crystal material used for the optical film, or prepared and applied so as to satisfy these conditions.

なおこのような各材料の選定、調整に代えて、別途、1/4波長板用賦型樹脂層82の表面に、離型層を設けるようにしてもよい。また離型層による剥離性が不十分な場合、離型層の支持体側に剥離層を設け、この剥離層により離型層による剥離性を補うようにしてもよい   Instead of such selection and adjustment of each material, a release layer may be separately provided on the surface of the quarter-wave plate shaping resin layer 82. Further, when the peelability by the release layer is insufficient, a release layer may be provided on the support side of the release layer, and this release layer may supplement the peelability by the release layer.

転写フィルム130は、これら1/4波長板用配向膜81、1/2波長板用配向膜80が上述の実施形態について上述したと同様に、賦型処理により作製され、この賦型処理に供するロール版の一方又は双方が十点平均粗さRzが45nm以下、10nm以上に作製され、これにより1/2波長板用配向膜80、1/4波長板用配向膜81の一方又は双方が十点平均粗さRzが45nm以下、10nm以上に作製される。   The transfer film 130 is prepared by a shaping process in the same manner as described above for the quarter-wave plate orientation film 81 and the half-wave plate orientation film 80 for the above-described embodiment, and is used for this shaping process. One or both of the roll plates are prepared so that the ten-point average roughness Rz is 45 nm or less and 10 nm or more, whereby one or both of the alignment film 80 for half-wave plates and the alignment film 81 for quarter-wave plates are sufficient. The point average roughness Rz is made to be 45 nm or less and 10 nm or more.

この実施形態によれば、転写法により1/4波長板、1/2波長板の積層構造を供えた光学フィルムを生産する場合でも、配向膜の十点平均粗さRzが45nm以下、10nm以上であることにより、充分にばらつきを低減して液晶層を配向させることができ、これにより高い品質で光学フィルム、この光学フィルムの生産に供する転写フィルムを作製することができ、さらには液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。   According to this embodiment, even when an optical film having a laminated structure of a quarter-wave plate and a half-wave plate is produced by a transfer method, the ten-point average roughness Rz of the alignment film is 45 nm or less, 10 nm or more. Therefore, it is possible to align the liquid crystal layer with sufficiently reduced variation, thereby making it possible to produce a high quality optical film, a transfer film for production of this optical film, and further with a liquid crystal layer. By effectively avoiding the deterioration of the alignment in a certain retardation layer, the adhesion between the alignment film and the liquid crystal layer can be improved as compared with the conventional case.

〔第9実施形態〕
この実施形態では、第5実施形態、第6実施形態、第7実施形態、又は第8実施形態の構成を前提に、さらに配向膜の十点平均粗さRzが45nm以下、10nm以上であり、かつ配向膜の平均面粗さ(Ra)を1nm以上、4nm以下に設定する。またこれによりこの実施形態では、賦型処理に供するロール版の周側面の十点平均粗さRzが45nm以下、10nm以上であり、かつ平均面粗さ(Ra)を1nm以上、4nm以下により作製される。
[Ninth Embodiment]
In this embodiment, on the premise of the configuration of the fifth embodiment, the sixth embodiment, the seventh embodiment, or the eighth embodiment, the ten-point average roughness Rz of the alignment film is 45 nm or less, 10 nm or more, The average surface roughness (Ra) of the alignment film is set to 1 nm or more and 4 nm or less. Further, in this embodiment, the ten-point average roughness Rz of the peripheral side surface of the roll plate subjected to the shaping process is 45 nm or less and 10 nm or more, and the average surface roughness (Ra) is 1 nm or more and 4 nm or less. Is done.

この実施形態では、種々の手法により1/4波長板、1/2波長板の積層構造を供えた光学フィルムを生産する場合でも、配向膜の十点平均粗さRzが45nm以下、10nm以上であり、かつ配向膜の平均面粗さ(Ra)を1nm以上、4nm以下に設定することにより、充分にばらつきを低減して液晶層を配向させることができ、さらに液晶層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。   In this embodiment, even when an optical film having a laminated structure of a quarter-wave plate and a half-wave plate is produced by various methods, the ten-point average roughness Rz of the alignment film is 45 nm or less and 10 nm or more. In addition, by setting the average surface roughness (Ra) of the alignment film to 1 nm or more and 4 nm or less, the dispersion can be sufficiently reduced and the liquid crystal layer can be aligned, and the deterioration of the alignment in the liquid crystal layer is effective. Thus, the adhesion between the alignment film and the liquid crystal layer can be improved as compared with the conventional case.

〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を種々に組み合わせ、さらには上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。
[Other Embodiments]
The specific configuration suitable for the implementation of the present invention has been described in detail above. However, the present invention is not limited to the scope of the present invention, and various combinations of the above-described embodiments, and further the configuration of the above-described embodiments. Can be variously changed.

すなわち上述の第1実施形態では、全面をラビング処理した後、レジストを使用したマスクラビングによりロール版を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、ロール版の作製方法については、種々の手法を広く適用することができる。   That is, in the first embodiment described above, the case where the roll plate is produced by mask rubbing using a resist after the entire surface is rubbed has been described. Various techniques can be widely applied.

また上述の実施形態では、賦型処理により配向膜を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、ポリイミド膜のラビング処理により配向膜を作製する場合にも広く適用することができる。   In the above-described embodiment, the case where the alignment film is formed by the shaping process has been described. However, the present invention is not limited to this, and can be widely applied to the case where the alignment film is formed by the rubbing process of the polyimide film. .

また上述の実施形態では、賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、紫外線硬化性樹脂以外の各種賦型用樹脂を適用する場合、さらには加熱等により軟化させた基材を押し付けて賦型する場合等にも広く適用することができる。   In the above-described embodiment, the case where the ultraviolet curable resin is applied to the shaping resin has been described. However, the present invention is not limited to this, and when various shaping resins other than the ultraviolet curable resin are applied, Can be widely applied to the case where a base material softened by heating or the like is pressed to form.

また上述の実施形態では、パターン位相差フィルム、位相差板に本発明を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、これら以外の賦型処理により配向膜を作製する各種の光学フィルムの生産に広く適用することができる。   In the above-described embodiment, the case where the present invention is applied to the pattern phase difference film and the phase difference plate has been described. However, the present invention is not limited to this, and various types of optical materials for producing an alignment film by other shaping processes. Can be widely applied in film production.

また上述の実施形態では、ロール版により各種光学フィルムを生産する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、平板により生産する場合にも広く適用することができる。   Moreover, in the above-mentioned embodiment, although the case where various optical films were produced with a roll plate was described, this invention is not limited to this, It can apply widely also when producing with a flat plate.

また上述の第1実施形態では、液晶表示パネルの使用を前提とする場合について述べたが、本発明はこれに限らず、有機ELパネル、プラズマディスプレイパネルの使用を前提とする場合にも広く適用することができ、また偏光フィルタを一体に設ける場合にも広く適用することができる。   Further, in the first embodiment described above, the case where the use of the liquid crystal display panel is assumed has been described, but the present invention is not limited to this, and is widely applied to the case where the use of an organic EL panel or a plasma display panel is assumed. The present invention can also be widely applied to the case where the polarizing filter is provided integrally.

1 パターン位相差フィルム
2、52、79、85 基材
3、53、80、81 配向膜
4、54、77、78 位相差層
5、55、82、83 紫外線硬化性樹脂
10 製造工程
11 供給リール
12、19 ダイ
14 加圧ローラ
15、17 紫外線照射装置
16 剥離ローラ
18 リール
20 ロール版
40、60 母材
41、61 下地層
42、44、62 無機材料層
43 レジスト層
51 1/4波長板
70A、70B 偏光板
71、91、101、121 画像表示装置
72 画像表示パネル
73、93、103、123 光学フィルム
74、87 粘着層
75 直線偏光板
76、96、126 円偏光板
86 光学機能層
87 粘着層
110、130 転写フィルム
111 支持体基材
113 セパレータフィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Pattern retardation film 2, 52, 79, 85 Base material 3, 53, 80, 81 Alignment film 4, 54, 77, 78 Retardation layer 5, 55, 82, 83 UV curable resin 10 Manufacturing process 11 Supply reel 12, 19 Die 14 Pressure roller 15, 17 Ultraviolet irradiation device 16 Peeling roller 18 Reel 20 Roll plate 40, 60 Base material 41, 61 Underlayer 42, 44, 62 Inorganic material layer 43 Resist layer 51 1/4 wavelength plate 70A 70B Polarizing plate 71, 91, 101, 121 Image display device 72 Image display panel 73, 93, 103, 123 Optical film 74, 87 Adhesive layer 75 Linear polarizing plate 76, 96, 126 Circular polarizing plate 86 Optical functional layer 87 Adhesive Layer 110, 130 Transfer film 111 Support base material 113 Separator film

Claims (16)

透明フィルムによる基材と、
前記基材の一方の面に作製された配向膜と、
前記配向膜の上に作製されて、前記配向膜の配向規制力により配向して固化した液晶層とを備え、
前記配向膜は、
十点平均粗さ(Rz)が、10nm以上、45nm以下である
光学フィルム。
A substrate made of a transparent film;
An alignment film produced on one surface of the substrate;
A liquid crystal layer produced on the alignment film and aligned and solidified by the alignment regulating force of the alignment film;
The alignment film is
An optical film having a ten-point average roughness (Rz) of 10 nm or more and 45 nm or less.
前記配向膜は、
平均面粗さ(Ra)が、1nm以上、4nm以下である
請求項1に記載の光学フィルム。
The alignment film is
The optical film according to claim 1, wherein the average surface roughness (Ra) is 1 nm or more and 4 nm or less.
前記液晶層は、
右目用画像データで駆動される画像表示パネルの画素からの出射光に対応する位相差を与える帯状による右目用領域と、左目用画像データで駆動される前記画像表示パネルの画素からの出射光に対応する位相差を与える帯状による左目用領域とが順次交互に設けられた
請求項1、又は請求項2に記載の光学フィルム。
The liquid crystal layer is
A band-shaped right-eye region that gives a phase difference corresponding to light emitted from pixels of an image display panel driven by right-eye image data, and light emitted from pixels of the image display panel driven by left-eye image data The optical film of Claim 1 or Claim 2 with which the area | region for left eyes by the strip | belt shape which gives a corresponding phase difference was alternately provided.
前記液晶層が、透過光に1/2波長分、又は1/4波長分の位相差を付与する
請求項1、又は請求項2に記載の光学フィルム。
The optical film according to claim 1, wherein the liquid crystal layer imparts a phase difference of ½ wavelength or ¼ wavelength to transmitted light.
透明フィルムによる第1の基材と、
前記第1の基材の一方の面に作製された第1の配向膜と、
前記第1の配向膜の上に作製されて、前記第1の配向膜の配向規制力により配向して固化した第1の液晶層と、
前記第1の液晶層の上に作製された第2の配向膜と、
前記第2の配向膜の上に作製されて、前記第2の配向膜の配向規制力により配向して固化した第2の液晶層とを備え、
前記第1及び又は第2の配向膜は、
十点平均粗さ(Rz)が、10nm以上、45nm以下である
光学フィルム。
A first substrate made of a transparent film;
A first alignment film produced on one surface of the first substrate;
A first liquid crystal layer produced on the first alignment film and aligned and solidified by the alignment regulating force of the first alignment film;
A second alignment film formed on the first liquid crystal layer;
A second liquid crystal layer produced on the second alignment film and aligned and solidified by the alignment regulating force of the second alignment film;
The first and second alignment films are
An optical film having a ten-point average roughness (Rz) of 10 nm or more and 45 nm or less.
透明フィルムによる基材と、
前記基材の一方の面に作製された第1の配向膜と、
前記第1の配向膜の上に作製されて、前記第1の配向膜の配向規制力により配向して固化した第1の液晶層と、
前記基材の他方の面に作製された第2の配向膜と、
前記第2の配向膜の上に作製されて、前記第2の配向膜の配向規制力により配向して固化した第2の液晶層とを備え、
前記第1及び又は第2の配向膜は、
十点平均粗さ(Rz)が、10nm以上、45nm以下である
光学フィルム。
A substrate made of a transparent film;
A first alignment film produced on one surface of the substrate;
A first liquid crystal layer produced on the first alignment film and aligned and solidified by the alignment regulating force of the first alignment film;
A second alignment film produced on the other surface of the substrate;
A second liquid crystal layer produced on the second alignment film and aligned and solidified by the alignment regulating force of the second alignment film;
The first and second alignment films are
An optical film having a ten-point average roughness (Rz) of 10 nm or more and 45 nm or less.
前記第1及び又は第2の配向膜は、
平均面粗さ(Ra)が、1nm以上、4nm以下である
請求項5、又は請求項6に記載の光学フィルム。
The first and second alignment films are
The optical film according to claim 5 or 6, wherein the average surface roughness (Ra) is 1 nm or more and 4 nm or less.
配向膜の配向規制力により配向して固化した液晶層を少なくとも有する転写層と、
前記転写層を保持する支持体とを備え、
前記配向膜が、
十点平均粗さ(Rz)が、10nm以上、45nm以下である
光学フィルム用転写体。
A transfer layer having at least a liquid crystal layer that is aligned and solidified by the alignment regulating force of the alignment film;
A support for holding the transfer layer,
The alignment film is
The ten-point average roughness (Rz) is 10 nm or more and 45 nm or less.
前記配向膜は、
平均面粗さ(Ra)が、1nm以上、4nm以下である
請求項8に記載の光学フィルム用転写体。
The alignment film is
The transfer body for optical films according to claim 8, wherein the average surface roughness (Ra) is 1 nm or more and 4 nm or less.
前記液晶層が、
透過光に1/2波長分の位相差を付与する1/2波長板用液晶層と、透過光に1/4波長分の位相差を付与する1/4波長板用液晶層であり、
前記配向膜が、
前記1/2波長板用液晶層に係る1/2波長板用配向膜と、
前記1/4波長板用液晶層に係る1/4波長板用配向膜とであり、
前記転写層が、
前記1/2波長板用液晶層、前記1/2波長板用配向膜、前記1/4波長板用液晶層、前記1/4波長板用配向膜の積層体である
請求項8又は請求項9に記載の光学フィルム用転写体。
The liquid crystal layer is
A liquid crystal layer for a ½ wavelength plate that imparts a phase difference of ½ wavelength to the transmitted light, and a liquid crystal layer for a ¼ wavelength plate that imparts a phase difference of a ¼ wavelength to the transmitted light,
The alignment film is
An alignment film for a half-wave plate according to the liquid crystal layer for the half-wave plate;
An alignment film for a quarter-wave plate according to the liquid crystal layer for a quarter-wave plate,
The transfer layer is
The liquid crystal layer for the half-wave plate, the alignment film for the half-wave plate, the liquid crystal layer for the quarter-wave plate, or the alignment film for the quarter-wave plate. The transfer body for optical films according to 9.
前記液晶層が、
透過光に1/2波長分の位相差を付与する1/2波長板用液晶層と、透過光に1/4波長分の位相差を付与する1/4波長板用液晶層であり、
前記配向膜が、
前記1/2波長板用液晶層に係る1/2波長板用配向膜と、
前記1/4波長板用液晶層に係る1/4波長板用配向膜とであり、
前記転写層が、
前記1/2波長板用液晶層、前記1/2波長板用配向膜、前記1/4波長板用液晶層の積層体であり、
前記支持体に、前記1/4波長板用配向膜が含まれる
請求項8又は請求項9に記載の光学フィルム用転写体。
The liquid crystal layer is
A liquid crystal layer for a ½ wavelength plate that imparts a phase difference of ½ wavelength to the transmitted light, and a liquid crystal layer for a ¼ wavelength plate that imparts a phase difference of a ¼ wavelength to the transmitted light,
The alignment film is
An alignment film for a half-wave plate according to the liquid crystal layer for the half-wave plate;
An alignment film for a quarter-wave plate according to the liquid crystal layer for a quarter-wave plate,
The transfer layer is
A laminate of the liquid crystal layer for half-wave plates, the alignment film for half-wave plates, and the liquid crystal layer for quarter-wave plates,
The optical film transfer body according to claim 8, wherein the support includes the alignment film for a quarter-wave plate.
透明フィルムによる基材と、
直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層と、
円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層とが積層され、
前記円偏光板の光学機能層が、請求項8、請求項9、請求項10、又は請求項11の何れかに記載の光学フィルム用転写体に設けられた前記転写層による光学機能層である
光学フィルム。
A substrate made of a transparent film;
An optical functional layer of a linearly polarizing plate that functions as a linearly polarizing plate;
The optical functional layer of the circularly polarizing plate that functions as a circularly polarizing plate is laminated,
The optical functional layer of the circularly polarizing plate is an optical functional layer formed by the transfer layer provided on the optical film transfer body according to any one of claims 8, 9, 10, and 11. Optical film.
請求項1、請求項2、請求項3、請求項4、請求項5、請求項6、請求項7、又は請求項12の何れかに記載の光学フィルムを画像表示パネルの表側面に配置した
画像表示装置。
The optical film according to any one of claims 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, or 12 is disposed on a front side surface of an image display panel. Image display device.
賦型により配向膜の作製に供する光学フィルムの製造用金型において、
賦型に供する部位の十点平均粗さ(Rz)が、10nm以上、45nm以下である
光学フィルムの製造用金型。
In the mold for manufacturing the optical film used for the production of the alignment film by shaping,
A mold for producing an optical film, wherein a ten-point average roughness (Rz) of a portion subjected to shaping is 10 nm or more and 45 nm or less.
前記賦型に供する部位の平均面粗さ(Ra)が、1nm以上、4nm以下である
請求項14に記載の光学フィルムの製造用金型。
The mold for manufacturing an optical film according to claim 14, wherein an average surface roughness (Ra) of a portion subjected to the shaping is 1 nm or more and 4 nm or less.
前記賦型に供する部位に、
ライン状の凹凸形状が作製された帯状による第1の領域と、前記第1の領域におけるライン状の凹凸形状とは延長方向が異なるライン状の凹凸形状が作製された帯状による第2の領域とが、順次、交互に作製された
請求項14、又は請求項15に記載の光学フィルムの製造用金型。
In the part to be subjected to the shaping,
A first region having a strip shape in which a line-shaped uneven shape is formed; and a second region having a band shape in which a line-shaped uneven shape having a different extension direction from the line-shaped uneven shape in the first region is formed; The mold for producing an optical film according to claim 14 or 15, wherein the molds are alternately and sequentially produced.
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