JP2015018009A - Optical film, image display device, molding die for optical film, method for manufacturing optical film, and method for manufacturing molding die for optical film - Google Patents

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光政 小岩
Mitsumasa Koiwa
光政 小岩
享博 京田
Yukihiro Kyoda
享博 京田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve accuracy of a retardation layer as compared to conventional technology in a configuration of a method for producing a retardation layer by curing a liquid crystal material while aligning the material by alignment regulation force of an aligned layer.SOLUTION: An optical film includes a substrate 2 made of a transparent film material, an aligned layer 3 having a line-shaped unevenness form formed on the substrate 2, and a retardation layer 4, which is formed from a liquid crystal material that is solidified while maintaining refractive index anisotropy by alignment regulation force of the aligned layer 3 and which gives a retardation to transmitted light. The aligned layer 3 is configured in such a way that an extending direction of the line-shaped unevenness form is varied along a width direction of the substrate 2; and the extending direction of the line-shaped unevenness form is set to compensate a change in a slow phase axis direction of the retardation layer 4 depending on the direction of an optical axis in a portion of the substrate 2.

Description

本発明は、パッシブ方式による3次元画像表示に適用するパターン位相差フィルム等の光学フィルムに関するものである。   The present invention relates to an optical film such as a pattern retardation film applied to three-dimensional image display by a passive method.

近年、3次元表示可能なフラットパネルディスプレイが提供されている。ここでフラットパネルディスプレイにおいて3次元表示をするには、通常、何らかの方式で右目用の画像と、左目用の画像とを、それぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供することが必要である。右目用の画像と左目用の画像とを選択的に提供する方法としては、例えば、パッシブ方式が知られている。このパッシブ方式の3次元表示方式について図を参照しながら説明する。図13は、液晶表示パネルを使用したパッシブ方式の3次元表示の一例を示す概略図である。この図13の例では、液晶表示パネルの垂直方向に連続する画素を、順次交互に、右目用の画像を表示する右目用画素、左目用の画像を表示する左目用画素に振り分け、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動し、これにより右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。なおこれにより液晶表示パネルの画面は、例えば短辺が垂直方向で長辺が水平方向となる帯状の領域により、右目用の画像を表示する領域と左目用の画像を表示する領域とに交互に区分される。   In recent years, flat panel displays capable of three-dimensional display have been provided. Here, in order to perform three-dimensional display on a flat panel display, it is usually necessary to selectively provide a right-eye image and a left-eye image to the viewer's right eye and left eye in some manner. . As a method for selectively providing a right-eye image and a left-eye image, for example, a passive method is known. This passive three-dimensional display method will be described with reference to the drawings. FIG. 13 is a schematic diagram showing an example of a passive three-dimensional display using a liquid crystal display panel. In the example of FIG. 13, pixels that are continuous in the vertical direction of the liquid crystal display panel are sequentially and alternately assigned to a right-eye pixel that displays a right-eye image and a left-eye pixel that displays a left-eye image. And driving with the image data for the left eye, thereby displaying the image for the right eye and the image for the left eye simultaneously. As a result, the screen of the liquid crystal display panel is alternately switched into a region for displaying an image for the right eye and a region for displaying an image for the left eye, for example, by a band-shaped region in which the short side is vertical and the long side is horizontal. It is divided.

さらにパッシブ方式では、液晶表示パネルのパネル面にパターン位相差フィルムを配置し、右目用及び左目用の画素からの直線偏光による出射光を、右目用及び左目用で回転方向の異なる円偏光に変換する。このためパターン位相差フィルムは、液晶表示パネルにおける領域の設定に対応して、遅相軸方向(屈折率が最大となる方向)が直交する2種類の帯状領域が順次交互に形成される。これによりパッシブ方式では、対応する偏光フィルタを備えてなる眼鏡を装着して、右目用の画像と左目用の画像とをそれぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供する。なおここでこの隣接する帯状領域の遅相軸方向は、通常、水平方向に対して、+45度と−45度、又は0度と+90度の組み合わせが採用される。なおこの図13の例では、通常の画像表示装置における呼称に習って画面の長辺方向を水平方向として示す。   Furthermore, in the passive method, a pattern retardation film is placed on the panel surface of the liquid crystal display panel, and light emitted from the linearly polarized light from the right-eye and left-eye pixels is converted into circularly polarized light with different rotation directions for the right-eye and left-eye. To do. Therefore, in the pattern retardation film, two types of band-like regions in which the slow axis direction (direction in which the refractive index is maximum) are orthogonal to each other are sequentially formed corresponding to the setting of the region in the liquid crystal display panel. Thus, in the passive method, glasses equipped with corresponding polarizing filters are worn, and a right-eye image and a left-eye image are selectively provided to the viewer's right eye and left eye, respectively. Here, as the slow axis direction of the adjacent band-like region, a combination of +45 degrees and −45 degrees, or 0 degrees and +90 degrees with respect to the horizontal direction is usually employed. In the example of FIG. 13, the long side direction of the screen is shown as the horizontal direction in accordance with the name in the normal image display device.

このパッシブ方式は、応答速度の遅い液晶表示装置でも適用することができ、さらにパターン位相差フィルムと円偏光メガネとを用いた簡易な構成で3次元表示することができる。   This passive method can also be applied to a liquid crystal display device with a slow response speed, and can also display three-dimensionally with a simple configuration using a pattern retardation film and circularly polarized glasses.

このパッシブ方式に係るパターン位相差フィルムは、画素の割り当てに対応して透過光に位相差を与えるパターン状の位相差層が必要である。このパターン位相差フィルムに関して、特許文献1には、配向規制力を制御した光配向膜をガラス基板上に形成し、この光配向膜により液晶の配列をパターンニングして位相差層を作成する方法が開示されている。この配向膜については、例えば賦型用金型の表面に形成された微細なライン状凹凸形状を紫外線硬化性樹脂等による賦型用樹脂層に賦型して作製する方法が提案されている(特許文献2)。またこれに代えて、基材上のポリイミド膜をラビング処理して作製する方法も提案されている(特許文献3)。   The pattern phase difference film according to this passive method requires a pattern-like phase difference layer that gives a phase difference to transmitted light corresponding to the allocation of pixels. With respect to this pattern retardation film, Patent Document 1 discloses a method for forming a retardation layer by forming a photo-alignment film with controlled alignment regulating force on a glass substrate and patterning the alignment of liquid crystals with this photo-alignment film. Is disclosed. For this alignment film, for example, a method has been proposed in which a fine line-shaped uneven shape formed on the surface of a molding die is molded into a molding resin layer made of an ultraviolet curable resin or the like ( Patent Document 2). Instead of this, a method has also been proposed in which a polyimide film on a base material is rubbed (Patent Document 3).

ところでこの種の光学フィルムの位相差層においては、透過光に所望する位相差を精度よく付与することが求められ、このためには位相差層を構成する液晶材料を所望する方向に精度良く配向させることが求められる。しかしながら種々に検討した結果によれば、配向膜を作製する基材において、光軸の向きにばらつきが存在し、この光軸のばらつきによる影響により位相差層の遅相軸方向が変化し、その結果、位相差層の精度が劣化することが判った。   By the way, in the retardation layer of this kind of optical film, it is required to provide the desired retardation with high accuracy to the transmitted light. For this purpose, the liquid crystal material constituting the retardation layer is accurately aligned in the desired direction. It is required to make it. However, according to various examination results, there are variations in the direction of the optical axis in the base material for producing the alignment film, and the slow axis direction of the retardation layer changes due to the influence of the variation in the optical axis. As a result, it was found that the accuracy of the retardation layer deteriorated.

特開2005−49865号公報JP 2005-49865 A 特開2010−152296号公報JP 2010-152296 A 特表2007−506813号公報Special table 2007-50613 gazette

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、配向膜の配向規制力により液晶材料を配向させた状態で硬化して位相差層を作製する構成において、従来に比して位相差層の精度を向上することができるようにする。   The present invention has been made in view of such a situation, and in a configuration in which a liquid crystal material is cured in a state of being aligned by the alignment regulating force of the alignment film to produce a retardation layer, the retardation is compared with the conventional one. The accuracy of the layer can be improved.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、基材における光軸のばらつきによる影響を補正するようにライン状凹凸形状の延長方向を設定するとの着想に至り、本発明を完成するに至った。   The present inventor has intensively studied to solve the above-mentioned problems, and arrived at the idea of setting the extending direction of the line-shaped uneven shape so as to correct the influence due to the variation of the optical axis in the substrate, and completed the present invention. It came to do.

(1) 透明フィルム材による基材と、
前記基材上に形成されたライン状凹凸形状による配向膜と、
前記配向膜の配向規制力により屈折率異方性を保持した状態で固化された液晶材料により形成され、透過光に位相差を付与する位相差層とを備え、
前記配向膜は、
前記ライン状凹凸形状の延長方向が前記基材の幅方向で変化するように設定されて、前記基材の各部における光軸に向きによる前記位相差層における遅相軸方向の変化を補正するように、前記ライン状凹凸形状の延長方向が設定される。
(1) a substrate made of a transparent film material;
An alignment film with a line-shaped uneven shape formed on the substrate;
Formed of a liquid crystal material solidified in a state in which the refractive index anisotropy is maintained by the alignment regulating force of the alignment film, and comprising a retardation layer that imparts a retardation to transmitted light,
The alignment film is
The extension direction of the line-shaped uneven shape is set so as to change in the width direction of the base material so as to correct the change in the slow axis direction in the retardation layer due to the direction of the optical axis in each part of the base material. In addition, the extending direction of the line-shaped uneven shape is set.

(1)によれば、基材、配向膜、位相差層を備えた光学フィルムにおいて、基材の各部における光軸に向きによる位相差層における遅相軸方向の変化を低減することができ、従来に比して位相差層の精度を向上することができる。   According to (1), in the optical film including the base material, the alignment film, and the retardation layer, the change in the slow axis direction in the retardation layer due to the direction of the optical axis in each part of the base material can be reduced. The accuracy of the retardation layer can be improved as compared with the prior art.

(2) (1)に記載の光学フィルムを画像表示パネルの視聴者側面に配置した画像表示装置。   (2) An image display device in which the optical film according to (1) is disposed on the viewer side of the image display panel.

(2)によれば、精度の高い位相差層を備えてなる光学フィルムを使用して画像表示装置を構成することができる。   According to (2), an image display device can be configured using an optical film including a highly accurate retardation layer.

(3) 周側面に形成されたライン状凹凸形状を賦型して配向膜の作製に供するロール版による賦型用金型において、
回転軸に沿った方向で、前記ライン状凹凸形状の延長方向が変化するように設定されて、賦型処理に供するフィルム材の各部における光軸の向きによる、前記配向膜の配向規制力により作製される位相差層における遅相軸方向の変化を補正するように設定される。
(3) In a mold for forming by a roll plate that molds a line-shaped uneven shape formed on the peripheral side surface and uses it for preparation of an alignment film,
Produced by the alignment regulating force of the alignment film according to the direction of the optical axis in each part of the film material that is set so that the extending direction of the line-shaped uneven shape changes in the direction along the rotation axis. The phase difference layer is set so as to correct the change in the slow axis direction.

(3)によれば、長尺のフィルム材の連続した賦型処理により配向膜を作製し、さらに位相差層を作製する場合に、このフィルム材の各部における光軸の向きによる位相差層における遅相軸方向の変化補正することができ、これにより従来に比してこれら位相差層の精度を向上することができる。   According to (3), in the case of producing an alignment film by continuous shaping treatment of a long film material, and further producing a retardation layer, in the retardation layer depending on the direction of the optical axis in each part of the film material. The change in the slow axis direction can be corrected, thereby improving the accuracy of these retardation layers as compared with the conventional case.

(4) 透明フィルム材による基材上に、ライン状凹凸形状による配向膜を作製する配向膜作成工程と、
前記配向膜の配向規制力により屈折率異方性を保持した状態で液晶材料を固化し、透過光に位相差を付与する位相差層を作製する位相差層作成工程とを備え、
前記配向膜は、
前記基材の各部における光軸に向きによる前記位相差層における遅相軸方向の変化を補正するように、前記ライン状凹凸形状の延長方向が設定される。
(4) An alignment film creating step for producing an alignment film with a line-shaped uneven shape on a substrate made of a transparent film material;
A phase difference layer creating step of producing a phase difference layer that solidifies a liquid crystal material while maintaining refractive index anisotropy by the orientation regulating force of the alignment film and gives a phase difference to transmitted light;
The alignment film is
The extension direction of the line-shaped uneven shape is set so as to correct the change in the slow axis direction in the retardation layer depending on the direction of the optical axis in each part of the substrate.

(4)によれば、基材、配向膜、位相差層を順次作成して光学フィルムを作製する場合に、基材の各部における光軸に向きによる位相差層における遅相軸方向の変化を低減することができ、従来に比して位相差層の精度を向上することができる。   According to (4), when an optical film is prepared by sequentially preparing a base material, an alignment film, and a retardation layer, the change in the slow axis direction in the retardation layer due to the direction of the optical axis in each part of the base material is changed. The accuracy of the retardation layer can be improved as compared with the conventional case.

(5) 周側面に形成されたライン状凹凸形状を賦型して配向膜の作製に供するロール版による賦型用金型の製造方法において、
回転する母材に回転するラビングロールを押しつけて、前記母材の回転軸に沿った方向に移動させることにより、前記ライン状凹凸形状を作製するラビング処理工程を有し、
前記回転軸に沿った方向で、前記ライン状凹凸形状の延長方向が変化するように、前記ライン状凹凸形状を作製する。
(5) In the manufacturing method of the mold for molding by the roll plate which molds the line-shaped uneven shape formed on the peripheral side surface and is used for the preparation of the alignment film,
A rubbing treatment step for producing the line-shaped uneven shape by pressing a rotating rubbing roll against the rotating base material and moving the rotating base material in a direction along the rotation axis of the base material,
The line-shaped uneven shape is produced so that the extending direction of the line-shaped uneven shape changes in the direction along the rotation axis.

(5)によれば、長尺のフィルム材による基材に配向膜を作製して位相差層を作製する場合に、基材の各部における光軸に向きによる相差層における遅相軸方向の変化を低減することができ、これにより従来に比してこれら位相差層の精度を向上することができる。   According to (5), when producing a retardation layer by producing an alignment film on a substrate made of a long film material, a change in the slow axis direction in the retardation layer depending on the direction of the optical axis in each part of the substrate. Therefore, the accuracy of these retardation layers can be improved as compared with the conventional case.

(6) (5)において、前記ラビングロールの傾きを変化させることにより、前記回転軸に沿った方向で、前記ライン状凹凸形状の延長方向が変化するように、前記ライン状凹凸形状を作製する。   (6) In (5), by changing the inclination of the rubbing roll, the line-shaped uneven shape is prepared so that the extending direction of the line-shaped uneven shape is changed in the direction along the rotation axis. .

(7) (5)又は(6)において、前記母材の回転速度に対する前記ラビングロールの回転速度の変化により、前記回転軸に沿った方向で、前記ライン状凹凸形状の延長方向が変化するように、前記ライン状凹凸形状を作製する。   (7) In (5) or (6), the extending direction of the line-shaped uneven shape is changed in the direction along the rotation axis due to the change in the rotation speed of the rubbing roll with respect to the rotation speed of the base material. In addition, the line-shaped uneven shape is produced.

(6)又は(7)よれば、より具体的構成により、回転軸に沿った方向でライン状凹凸形状の延長方向を変化させることができる。   According to (6) or (7), the extending direction of the line-shaped uneven shape can be changed in the direction along the rotation axis with a more specific configuration.

本発明は、配向膜の配向規制力により液晶材料を配向させた状態で硬化して位相差層を作製する構成において、従来に比して位相差層の精度を向上することができる。   The present invention can improve the accuracy of the retardation layer as compared with the conventional one in a configuration in which the retardation layer is prepared by curing in a state where the liquid crystal material is aligned by the alignment regulating force of the alignment film.

本発明の第1実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。It is a figure which shows the pattern phase difference film which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図1のパターン位相差フィルムの製造工程を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing process of the pattern phase difference film of FIG. ロール版の製造工程を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing process of a roll plate. 図3の続きを示す図である。It is a figure which shows the continuation of FIG. ラビング処理の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of a rubbing process. ライン状凹凸形状について、その延長方向の可変の説明に供する図である。It is a figure with which it uses for variable description of the extension direction about a line-shaped uneven | corrugated shape. 具体的な可変の構成を示す図である。It is a figure which shows a specific variable structure. 第2実施形態に係る延長方向の可変の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the variable of the extension direction which concerns on 2nd Embodiment. 本発明の第3実施形態に係る画像表示装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the image display apparatus which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 図9の画像表示装置に適用される光学フィルムの説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the optical film applied to the image display apparatus of FIG. 図10の光学フィルムに係る転写フィルムを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the transfer film which concerns on the optical film of FIG. 第3実施形態に係る配向膜の作製方法の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the preparation method of the alignment film which concerns on 3rd Embodiment. パターン位相差フィルムの説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of a pattern phase difference film.

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

〔第1実施形態の全体構成〕
図1は、本発明の第1実施形態に係る画像表示装置に適用されるパターン位相差フィルムを示す図である。この第1実施形態に係る画像表示装置は、垂直方向(図1においては左右方向が対応する方向である)に連続する液晶表示パネルの画素が、順次交互に、右目用の画像を表示する右目用画素、左目用の画像を表示する左目用画素に振り分けられて、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動される。これにより画像表示装置は、右目用の画像を表示する帯状の領域と、左目用の画像を表示する帯状の領域とに表示画面が交互に区分され、右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。この画像表示装置は、この液晶表示パネルのパネル面に、この図1に示すパターン位相差フィルム1が配置され、このパターン位相差フィルム1により右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。これによりこの画像表示装置は、パッシブ方式により所望の立体画像を表示する。
[Overall Configuration of First Embodiment]
FIG. 1 is a diagram showing a pattern retardation film applied to the image display device according to the first embodiment of the present invention. In the image display device according to the first embodiment, the pixels of the liquid crystal display panel that are continuous in the vertical direction (the left-right direction is the corresponding direction in FIG. 1) sequentially and alternately display the right-eye image. The pixels are assigned to the left-eye pixels for displaying the left-eye image and the left-eye image, and are driven by the right-eye and left-eye image data, respectively. As a result, the image display device alternately divides the display screen into a band-like region for displaying an image for the right eye and a band-like region for displaying an image for the left eye, so that the image for the right eye and the image for the left eye are divided. Display at the same time. In this image display device, the pattern phase difference film 1 shown in FIG. 1 is disposed on the panel surface of the liquid crystal display panel, and the pattern phase difference film 1 corresponds to light emitted from pixels for the right eye and the left eye, respectively. To give the phase difference. Thereby, this image display apparatus displays a desired three-dimensional image by a passive method.

ここでパターン位相差フィルム1は、TAC(トリアセチルセルロース)等の透明フィルムからなる基材2の一方の面上に、配向膜3、位相差層4が順次作製される。パターン位相差フィルム1は、位相差層4が屈折率異方性を保持した状態で固化(硬化)された液晶材料により形成され、この液晶材料の配向を配向膜3の配向規制力によりパターンニングする。なおこの液晶分子の配向を図1では細長い楕円により誇張して示す。このパターンニングにより、パターン位相差フィルム1は、液晶表示パネルにおける画素の割り当てに対応して、一定の幅により、右目用の領域(第1の領域)Aと左目用の領域(第2の領域)Bとが順次交互に帯状に形成され、右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。   Here, in the pattern retardation film 1, an alignment film 3 and a retardation layer 4 are sequentially formed on one surface of a substrate 2 made of a transparent film such as TAC (triacetyl cellulose). The pattern retardation film 1 is formed of a liquid crystal material that is solidified (cured) in a state where the retardation layer 4 retains refractive index anisotropy, and the alignment of the liquid crystal material is patterned by the alignment regulating force of the alignment film 3. To do. In FIG. 1, the orientation of the liquid crystal molecules is exaggerated by an elongated ellipse. By this patterning, the pattern phase difference film 1 has a certain width corresponding to the pixel assignment in the liquid crystal display panel, and the right eye region (first region) A and the left eye region (second region). ) B and B are sequentially formed in a band shape, and give phase differences corresponding to light emitted from the right-eye and left-eye pixels, respectively.

配向膜3は、基材2の表面に、微細なライン状凹凸形状の賦型に供する樹脂である賦型用樹脂が塗付され、この賦型用樹脂の賦型処理により微細なライン状凹凸形状が作製される。この実施形態では、この賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂が適用される。なお紫外線硬化性樹脂としては、アクリレート系、メタクリレート系、エポキシ系等の単量体、プレポリマー、或いはこれらの混合物にベンゾフェノン、芳香族ヨードニウム等の光重合開始剤を添加したものを適用することができる。   The alignment film 3 is coated on the surface of the base material 2 with a molding resin, which is a resin used for molding a fine line-shaped uneven shape. A shape is created. In this embodiment, an ultraviolet curable resin is applied to the shaping resin. As the ultraviolet curable resin, it is possible to apply an acrylate-based, methacrylate-based, epoxy-based monomer, a prepolymer, or a mixture thereof with a photopolymerization initiator such as benzophenone or aromatic iodonium added. it can.

これによりパターン位相差フィルム1は、基材2の表面に紫外線硬化性樹脂5が塗布された後、この紫外線硬化性樹脂5の表面に微小なライン状凹凸形状が形成され、この微小なライン状凹凸形状により配向膜3が形成される。パターン位相差フィルム1は、後述する賦型用金型の表面に作製された微小なライン状凹凸形状を転写して、配向膜3に係る微小なライン状凹凸形状が作製され、この凹凸形状による配向規制力により位相差層4をパターンニングする。このため配向膜3は、右目用及び左目用の帯状領域A及びBにそれぞれ対応する帯状の領域が順次交互に形成され、それぞれ微小なライン状凹凸形状が作製される。ここでこの微小なライン状凹凸形状は、一方向に延長するライン状(線)の凹凸形状により形成され、この一方向に延長する方向が右目用領域Aと左目用領域Bとで90度異なる方向となるように、かつ各領域の延長方向(水平方向であり、図1に於いては右上と左下とを結ぶ方向)に対して45度傾くように形成される。パターン位相差フィルム1は、この図1に示す基本構成に加えて、粘着層、セパレータフィルム、反射防止フィルム等が必要に応じて設けられる。   As a result, after the ultraviolet curable resin 5 is applied to the surface of the substrate 2, the pattern retardation film 1 is formed with minute line-shaped irregularities on the surface of the ultraviolet curable resin 5. The alignment film 3 is formed by the uneven shape. The pattern phase difference film 1 transfers a fine line-shaped uneven shape produced on the surface of a mold for molding to be described later to produce a fine line-shaped uneven shape related to the alignment film 3. The retardation layer 4 is patterned by the orientation regulating force. For this reason, in the alignment film 3, strip-shaped regions respectively corresponding to the strip-shaped regions A and B for the right eye and the left eye are alternately formed, and minute line-shaped uneven shapes are respectively produced. Here, the minute line-shaped uneven shape is formed by a line (line) uneven shape extending in one direction, and the direction extending in this one direction differs 90 degrees between the right-eye region A and the left-eye region B. And is inclined at 45 degrees with respect to the extending direction of each region (the horizontal direction, the direction connecting the upper right and the lower left in FIG. 1). In addition to the basic structure shown in FIG. 1, the pattern retardation film 1 is provided with an adhesive layer, a separator film, an antireflection film, and the like as necessary.

なおこの微小なライン状凹凸形状は、十点平均粗さ(Rz)が、10nm以上、45nm以下であり、またさらに平均面粗さ(Ra)が、1nm以上、4nm以下である。これにより配向膜3は、位相差層4との間で十分な密着強度を確保して、いわゆる黒輝度に係る位相差層4のばらつきを十分に小さくすることができる。   In addition, this fine line-shaped uneven shape has a 10-point average roughness (Rz) of 10 nm or more and 45 nm or less, and an average surface roughness (Ra) of 1 nm or more and 4 nm or less. Thereby, the alignment film 3 can secure sufficient adhesion strength between the alignment layer 4 and sufficiently reduce the variation of the retardation layer 4 related to so-called black luminance.

図2は、このパターン位相差フィルム1の製造工程を示す略線図である。この製造工程10は、基材2がロールにより提供され、この基材2を供給リール11から供給する。製造工程10は、ダイ12によりこの基材2に紫外線硬化性樹脂の塗布液を塗布する。この製造工程10において、ロール版20は、パターン位相差フィルム1の配向膜3に係るライン状凹凸形状が周側面に形成された円筒形状の賦型用金型である。製造工程10は、紫外線硬化性樹脂が塗布された基材2を加圧ローラ14によりロール版20の周側面に押圧し、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置15による紫外線の照射により紫外線硬化性樹脂を硬化させる。これにより製造工程10は、ロール版20の周側面に形成されたライン状凹凸形状を基材2に転写する。その後、剥離ローラ16によりロール版20から硬化した紫外線硬化性樹脂と一体に基材2を剥離し、ダイ19により液晶材料を塗布する。またその後、紫外線照射装置17による紫外線の照射により液晶材料を硬化させることにより、配向膜3の配向規制力により屈折率異方性を保持した状態で液晶材料を固化して位相差層4を作製し、その後、巻き取りリール18に巻き取る。パターン位相差フィルム1は、この巻き取りリール18に巻き取ったシート材に、必要に応じて粘着層、反射防止層等を形成した後、所望の大きさに切断して作製される。これによりパターン位相差フィルム1は、ロールにより提供される基材2を連続して処理して効率良く大量生産される。   FIG. 2 is a schematic diagram showing a manufacturing process of the pattern retardation film 1. In the manufacturing process 10, the base material 2 is provided by a roll, and the base material 2 is supplied from a supply reel 11. In the manufacturing process 10, a coating solution of an ultraviolet curable resin is applied to the substrate 2 by the die 12. In this manufacturing process 10, the roll plate 20 is a cylindrical mold for molding in which the line-shaped uneven shape related to the alignment film 3 of the pattern retardation film 1 is formed on the peripheral side surface. In the manufacturing process 10, the substrate 2 coated with the ultraviolet curable resin is pressed against the peripheral side surface of the roll plate 20 by the pressure roller 14, and the ultraviolet curable resin is applied by irradiating the ultraviolet rays with the ultraviolet irradiation device 15 made of a high-pressure mercury lamp. Harden. Thereby, the manufacturing process 10 transfers the line-shaped uneven | corrugated shape formed in the surrounding side surface of the roll plate 20 to the base material 2. FIG. Thereafter, the substrate 2 is peeled off integrally with the ultraviolet curable resin cured from the roll plate 20 by the peeling roller 16, and a liquid crystal material is applied by the die 19. Thereafter, the liquid crystal material is cured by irradiation with ultraviolet rays from the ultraviolet irradiation device 17, thereby solidifying the liquid crystal material while maintaining the refractive index anisotropy by the alignment regulating force of the alignment film 3, thereby producing the retardation layer 4. Then, it is wound up on the take-up reel 18. The pattern retardation film 1 is produced by forming an adhesive layer, an antireflection layer, and the like on the sheet material wound on the take-up reel 18 as necessary, and then cutting it to a desired size. Thereby, the pattern phase difference film 1 is efficiently mass-produced by continuously processing the substrate 2 provided by the roll.

図3及び図4は、パターン位相差フィルムの製造用金型であるロール版20の製造工程を示す図である。なおこの図3及び図4において、パターン位相差フィルム1の領域A、Bに対応する領域を、それぞれ符号ARA、ARBにより示す。この製造工程では、面出し工程において、母材40の周側面を切削により平滑化する。続いてこの製造工程は、下地層41が作製される(図3(a))。ここで母材40は、ロール版20の外形形状に対応する円筒形状の金属材料である。母材40は、加工のしやすさや寸法安定性などから金属材料であることが好ましく、ニッケル、クロム、ステンレス、銅などであることがより好ましい。なおこの実施形態において、母材40は、銅が適用される。   3 and 4 are diagrams showing a manufacturing process of the roll plate 20 which is a mold for manufacturing the pattern retardation film. 3 and 4, regions corresponding to the regions A and B of the pattern retardation film 1 are indicated by symbols ARA and ARB, respectively. In this manufacturing process, the peripheral side surface of the base material 40 is smoothed by cutting in the chamfering process. Subsequently, in this manufacturing process, the underlayer 41 is produced (FIG. 3A). Here, the base material 40 is a cylindrical metal material corresponding to the outer shape of the roll plate 20. The base material 40 is preferably a metal material from the viewpoint of ease of processing and dimensional stability, and more preferably nickel, chromium, stainless steel, copper, or the like. In this embodiment, the base material 40 is made of copper.

下地層41は、上層に設けられる材料層について、母材40に対する密着力を強化するために設けられる。この実施形態では、下地層41は、無電解メッキにより、リンをドープしたニッケル層により膜厚500nmで作製される。   The underlayer 41 is provided to reinforce the adhesion to the base material 40 with respect to the material layer provided on the upper layer. In this embodiment, the foundation layer 41 is formed with a thickness of 500 nm from a nickel layer doped with phosphorus by electroless plating.

続いてこの工程は、下地層41の上に、第1の無機材料層42を作製する。この実施形態では、この第1の無機材料層42にニッケル層が適用され、スパッタリングにより膜厚100nmのニッケル層を作製する。なおこの第1の無機材料層42には、金属材料、無機酸化物、無機窒化物、無機炭化物などの各種無機材料を広く適用することができるものの、加工のしやすさなどから、クロム、チタン、ニッケル、タングステン、ステンレス系金属材料、アルミ、SiO、SiOx、Al、Cr、TiO、Si、AlN、TiN、SiO、SiC、WC、DLCなどを適用することができる。 Subsequently, in this step, the first inorganic material layer 42 is formed on the base layer 41. In this embodiment, a nickel layer is applied to the first inorganic material layer 42, and a nickel layer having a thickness of 100 nm is formed by sputtering. In addition, although various inorganic materials, such as a metal material, an inorganic oxide, an inorganic nitride, an inorganic carbide, can be widely applied to this 1st inorganic material layer 42, it is chromium, titanium from the ease of processing etc. , nickel, tungsten, stainless steel-based metallic material, aluminum, SiO 2, SiOx, Al 2 O 3, Cr 2 O 3, TiO 2, Si 3 N 4, AlN, TiN, SiO x N y, SiC, WC, DLC , etc. Can be applied.

続いてこの工程は、図3(b)に示すように、第1の凹凸形状作製工程において、第1の無機材料層42の全面に微小なライン状凹凸形状を形成する。ここでこのライン状凹凸形状は、配向膜3の右目用領域又は左目用領域の凹凸形状に対応する微小なライン状凹凸形状である。この実施形態では、ラビング布を使用したラビング処理によりこの凹凸形状が作製される。なおこの実施形態では、ラビングロールRによりラビング処理を示す。   Subsequently, in this step, as shown in FIG. 3B, a fine line-shaped uneven shape is formed on the entire surface of the first inorganic material layer 42 in the first uneven shape forming step. Here, this line-shaped uneven shape is a minute line-shaped uneven shape corresponding to the uneven shape of the right-eye region or the left-eye region of the alignment film 3. In this embodiment, the concavo-convex shape is produced by a rubbing process using a rubbing cloth. In this embodiment, the rubbing process is shown by the rubbing roll R.

続いてこの工程は、マスク作製工程において、レジスト材料により、右目用領域Aに対応する領域ARAを被覆し、かつ左目用領域Bに対応する領域ARBを露出させたマスク43が作製される(図3(c))。すなわちこの工程では、ポジ型のレジスト剤を全面に塗布した後、露光、現像処理することにより、左目用領域Bに対応する領域ARBを露出させたマスクが作製される。なおレジスト材料としては特に限定されるものではなく、ネガ型レジスト材料を適用しても良い。また塗布方法、露光方法にあっても種々の手法を広く適用することができる   Subsequently, in this step, a mask 43 in which a region ARA corresponding to the right eye region A is covered with a resist material and a region ARB corresponding to the left eye region B is exposed with a resist material in the mask manufacturing step is manufactured (FIG. 3 (c)). That is, in this step, a positive resist agent is applied to the entire surface, and then exposed and developed to produce a mask that exposes the region ARB corresponding to the left-eye region B. The resist material is not particularly limited, and a negative resist material may be applied. In addition, various methods can be widely applied even in the coating method and the exposure method.

続いて図4(d)に示すように、薄膜作製工程において、全面に、第2の無機材料層44が作製される。この実施形態では、スパッタリングにより膜厚100nmのニッケル層を作製し、これによりこの第2の無機材料層44にニッケル層が適用される。なおこの第2の無機材料層44は、金属材料、無機酸化物、無機窒化物、無機炭化物などの各種無機材料を広く適用することができるものの、加工のしやすさなどから、クロム、チタン、ニッケル、タングステン、ステンレス系金属材料、アルミ、SiO、SiO、AlO3、Cr、TiO、Si、AlN、TiN、SiO、SiC、WC、DLCなどから選択される。 Subsequently, as shown in FIG. 4D, in the thin film manufacturing process, the second inorganic material layer 44 is formed on the entire surface. In this embodiment, a nickel layer having a thickness of 100 nm is formed by sputtering, and thereby the nickel layer is applied to the second inorganic material layer 44. The second inorganic material layer 44 can be widely applied to various inorganic materials such as a metal material, an inorganic oxide, an inorganic nitride, and an inorganic carbide. However, in terms of ease of processing, chromium, titanium, nickel, tungsten, stainless steel-based metallic material, aluminum, SiO 2, SiO x, Al 2 O3, Cr 2 O 3, TiO 2, Si 3 N 4, AlN, TiN, SiO x N y, SiC, WC, and the like DLC Selected.

続いて図4(e)に示すように、第2の凹凸形状作製工程において、第1の無機材料層43におけるライン状凹凸形状の延長方向とは異なる方向(この実施形態では第1の無機材料層43におけるラビング方向とは90度の角度をなす方向である)に全面をラビング処理し、第2無機材料層(ニッケル層)44の表面に凹凸形状を作製する。その後、製造工程は、図4(f)に示すように、続くレジスト除去工程において、マスク43を、その上層の第2無機材料層44と共に除去する。これらによりこの製造工程は、2回の凹凸形状作製処理により配向膜3の領域A及びBに対応する凹凸形状を作製し、ロール版20を作製する。   Subsequently, as shown in FIG. 4E, in the second concavo-convex shape manufacturing step, a direction different from the extending direction of the line-shaped concavo-convex shape in the first inorganic material layer 43 (in this embodiment, the first inorganic material The entire surface is rubbed in a direction that forms an angle of 90 degrees with the rubbing direction in the layer 43, and an uneven shape is formed on the surface of the second inorganic material layer (nickel layer) 44. Thereafter, as shown in FIG. 4F, in the manufacturing process, the mask 43 is removed together with the second inorganic material layer 44 as an upper layer in the subsequent resist removing process. Thus, in this manufacturing process, the concavo-convex shape corresponding to the regions A and B of the alignment film 3 is prepared by two concavo-convex shape manufacturing processes, and the roll plate 20 is manufactured.

なおロール版20に係る領域ARA及びARBのラビング処理は、例えば領域ARA及びARBを交互にマスクして選択的にラビング処理する場合等、種々の手法を広く適用することができる。   For the rubbing process of the areas ARA and ARB related to the roll plate 20, various methods can be widely applied, for example, when the areas ARA and ARB are alternately masked and selectively rubbed.

〔ラビング処理〕
図5は、ラビング処理の説明に供する図である。ロール版20は、ラビングロールRを使用したラビング処理により、賦型処理に供する微細なライン状凹凸形状が作成される。なおこの図9の説明に係る母材40は、ラビング処理時、図3及び図4について上述したように、周側面に下地層41等が設けられている。
[Rubbing treatment]
FIG. 5 is a diagram for explaining the rubbing process. The roll plate 20 has a fine line-shaped uneven shape to be subjected to a shaping process by a rubbing process using a rubbing roll R. The base material 40 according to the description of FIG. 9 is provided with the base layer 41 and the like on the peripheral side surface as described above with reference to FIGS.

ここでラビングロールRは、ラビング処理に供するラビング布を周囲に巻き付けた円柱形状の部材である。ラビング処理工程では、矢印Aにより示すように、母材40を一定の回転速度で回転させた状態で、矢印Bにより示すように一定の回転速度で回転するラビングロールRを所定角度だけ傾けて母材40の周側面に押し付け、矢印Cにより示すように、ラビングロールRを母材40の回転軸に沿った方向に移動させ、これによりラビングロールRに設けられたラビング布により母材40の周側面を摩擦して全面をラビング処理する。   Here, the rubbing roll R is a cylindrical member around which a rubbing cloth to be subjected to a rubbing process is wound. In the rubbing process, as shown by arrow A, the base material 40 is rotated at a constant rotational speed, and the rubbing roll R rotating at a constant rotational speed as shown by arrow B is tilted by a predetermined angle. The rubbing roll R is pressed against the peripheral side surface of the material 40 and moved in the direction along the rotation axis of the base material 40 as indicated by an arrow C, and thereby the periphery of the base material 40 is rubbed by the rubbing cloth provided on the rubbing roll R. Rub the sides to rub the entire surface.

なおラビング布は、例えばラビング処理に使用可能な各種の布材、天然皮革、人口皮革等を広く適用することができるものの、この実施形態では、表面に多数の纖維を植毛した布材である植毛布によりラビング処理する。なおラビング布の材料としては、一般的に用いられるセルロース、レーヨン、ポリアミド(ナイロン:登録商標))、ポリエチレン等のポリオレフィン、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂などの中から適宜選択して使用する。一般的な、パイル長1〜数mm、密度2〜4万フィラメント/cm2、パイル径数十〜300ディナール、パイル本数250〜1500/cm2程度の一般的なものを使用する。好ましい材料は、ラビングかすの少ないレーヨン、ナイロンなどの化学繊維を使用した植毛布が好適であり、この場合、パイル長1〜2mm、密度2.5〜3.5万フィラメント/cm2、パイル径数50〜150ディナール、パイル本数600〜1000/cm2、フィラメントの広がる角度は5〜20゜である。   The rubbing cloth can be widely applied, for example, various kinds of cloth materials that can be used for rubbing treatment, natural leather, artificial leather, etc. In this embodiment, the rubbing cloth is a cloth material in which a large number of fibers are planted. Rubbing with a blanket. The material for the rubbing cloth is appropriately selected from cellulose, rayon, polyamide (nylon: registered trademark), polyolefins such as polyethylene, acrylic resin, polyester resin, urethane resin and the like. A general pile having a pile length of 1 to several mm, a density of 20 to 40,000 filaments / cm2, a pile diameter of several tens to 300 dinars, and a pile number of about 250 to 1500 / cm2 is used. The preferred material is a flocked cloth using chemical fibers such as rayon and nylon with less rubbing residue. In this case, the pile length is 1-2 mm, the density is 2.5-35,000 filaments / cm2, and the pile diameter is 50 to 150 dinar, pile number 600 to 1000 / cm 2, and the spreading angle of the filament is 5 to 20 °.

ここでこのように母材40を一定の回転速度で回転させた状態で、回転するラビングロールRを所定角度だけ傾けて母材40の周側面に押し付けてラビング処理する場合、ロール版20の周側面に形成されるライン状凹凸形状の延長方向zは、母材40の周速度yと、母材40に対するラビングロールRの傾きθと、ラビングロールRの周速度xとにより決まることになる。これによりロール版20で、それぞれこの延長方向zがロール版20の円周接線方向に対してそれぞれ+45度、−45度の角度になるように、これら母材40の回転速度、母材40に対するラビングロールRの傾きθ、ラビングロールRの回転速度を設定した状態で、矢印Cにより示すように、ラビングロールRを母材40の回転軸に沿った方向に移動させるようにすれば、ロール版20の周側面の全面に均一にライン状凹凸形状を作製することができる。   Here, when the base material 40 is rotated at a constant rotational speed in this way, the rotating rubbing roll R is tilted by a predetermined angle and pressed against the peripheral side surface of the base material 40 to perform the rubbing process. The extending direction z of the line-shaped unevenness formed on the side surface is determined by the peripheral speed y of the base material 40, the inclination θ of the rubbing roll R with respect to the base material 40, and the peripheral speed x of the rubbing roll R. As a result, in the roll plate 20, the rotation direction of the base material 40 and the base material 40 are set such that the extending direction z is an angle of +45 degrees and −45 degrees, respectively, with respect to the circumferential tangential direction of the roll plate 20. If the rubbing roll R is moved in the direction along the axis of rotation of the base material 40 as indicated by an arrow C with the inclination θ of the rubbing roll R and the rotational speed of the rubbing roll R set, a roll plate A line-shaped uneven shape can be formed uniformly on the entire surface of the 20 peripheral side surfaces.

しかしながらこのようにして作成したロール版20を使用してパターン位相差フィルム1を作製して位相差層4の遅相軸方向を計測したところ、基材2の幅方向でばらつきが検出された。この原因を種々に検討したところ、基材2では幅方向で光軸の向きが変化し、この光軸の向きの変化により位相差層4において、基材2の幅方向で位相差が変化することが判った。より具体的に、基材2の延長方向に対して斜め45度の方向にライン状凹凸形状が延長するようにロール版を作製して賦型処理した場合、この延長方向に対して基材2における光軸の傾きがそれぞれ0度、5度の部位では、位相差層における遅相軸方向がそれぞれ45度、50度となる。これにより精度良く位相差層を作製できないことが判った。   However, when the patterned retardation film 1 was produced using the roll plate 20 thus produced and the slow axis direction of the retardation layer 4 was measured, variation was detected in the width direction of the substrate 2. When the cause is variously examined, the direction of the optical axis changes in the width direction in the base material 2, and the phase difference changes in the width direction of the base material 2 in the retardation layer 4 due to the change in the direction of the optical axis. I found out. More specifically, when a roll plate is produced and molded so that the line-shaped uneven shape extends in a direction of 45 degrees obliquely with respect to the extending direction of the base material 2, the base material 2 corresponds to the extending direction. In the regions where the inclination of the optical axis is 0 degree and 5 degrees respectively, the slow axis direction in the retardation layer is 45 degrees and 50 degrees, respectively. As a result, it was found that a retardation layer could not be produced with high accuracy.

この場合、このように基材の光軸の向きにより変化する位相差層における遅相軸方向を補正するように、ラビング処理により形成されるライン状部微細凹凸形状の延長方向を設定すれば、このような基材の光軸の向きによる影響を有効に回避して、位相差層の精度を向上することができる。すなわちライン状凹凸形状が延長するようにロール版を作製して賦型処理する場合に、この延長方向に対して基材2における光軸の傾きがそれぞれ0度、5度の部位で、それぞれライン状凹凸形状の延長方向が45度及び40度となるように設定すれば、この0度、5度の部位における位相差層の遅相軸方向を共に45度に設定することができる。   In this case, in order to correct the slow axis direction in the retardation layer that changes depending on the direction of the optical axis of the base material in this way, if the extension direction of the line-shaped portion fine irregularities formed by rubbing is set, The influence of the orientation of the optical axis of the substrate can be effectively avoided, and the accuracy of the retardation layer can be improved. That is, when a roll plate is produced so that the line-shaped uneven shape is extended and is subjected to a shaping process, the line of the optical axis in the substrate 2 is inclined at 0 degree and 5 degrees with respect to the extending direction. If the extending direction of the concavo-convex shape is set to 45 degrees and 40 degrees, both the slow axis directions of the retardation layer at the 0 degree and 5 degree parts can be set to 45 degrees.

そこでこの実施形態では、図5との対比により図6に示すように、基材2における光軸の向きに補正するように、ロール版20の軸方向で、ラビングロールRの傾きθを異ならせ、これにより基材2の幅方向で、賦型処理により形成されるライン状凹凸形状の延長方向を変化させる。なお基材2における光軸の向きについては、基材2の計測により求めることができる。   Therefore, in this embodiment, as shown in FIG. 6 in comparison with FIG. 5, the inclination θ of the rubbing roll R is made different in the axial direction of the roll plate 20 so as to correct the direction of the optical axis in the substrate 2. Thus, the extending direction of the line-shaped unevenness formed by the shaping process is changed in the width direction of the substrate 2. The direction of the optical axis in the substrate 2 can be obtained by measurement of the substrate 2.

より具体的に、図7に示すように、この実施形態では、母材40の回転速度及びラビングロールRの回転速度を一定速度に維持するようにして、さらに矢印Cにより示すように、母材40の回転軸に沿った方向にラビングロールR移動させるようにして、符号RA〜REにより示すように、ラビングロールRの傾きを徐々に変化させ、これによりライン状凹凸形状の延長方向が変化するように設定して、位相差層の作製精度を向上する。   More specifically, as shown in FIG. 7, in this embodiment, the rotation speed of the base material 40 and the rotation speed of the rubbing roll R are maintained at a constant speed, and further, as indicated by an arrow C, the base material. The rubbing roll R is moved in the direction along the rotation axis 40, and the inclination of the rubbing roll R is gradually changed as indicated by the symbols RA to RE, thereby changing the extending direction of the line-shaped unevenness. Thus, the production accuracy of the retardation layer is improved.

すなわち符号RAにより示すように、ラビング処理の開始端側では例えば傾きθを49度に設定してラビング処理し、ラビングロールRが移動により符号RBにより示す箇所では概ね傾きθを55.8度に設定してラビング処理する。またほぼ中央(RC)では、傾きθを56.5度に設定してラビング処理し、符号RDでは傾きθを56.0度に設定してラビング処理し、中央から終了端側に向かうに従って、傾きθを元に戻す。   That is, as indicated by the symbol RA, the rubbing process is performed at the start end side of the rubbing process by setting the inclination θ to 49 degrees, for example, and the rubbing roll R is moved to approximately 55.8 degrees at the position indicated by the reference numeral RB. Set and rub. Further, at the center (RC), the rubbing process is performed by setting the inclination θ to 56.5 degrees, and the rubbing process is performed at the sign RD by setting the inclination θ to 56.0 degrees. The inclination θ is restored.

この実施形態では、パターン位相差フィルムによる光学フィルムに適用して、基材2における光軸のばらつきを補正するようにライン状凹凸形状の延長方向を設定することにより、配向膜2の配向規制力により液晶材料を配向させた状態で硬化して位相差層4を作製する構成において、従来に比して位相差層の精度を向上することができる。   In this embodiment, the alignment regulating force of the alignment film 2 is set by applying the extension direction of the line-shaped uneven shape so as to be applied to the optical film by the pattern retardation film and correcting the variation of the optical axis in the substrate 2. In the configuration in which the retardation layer 4 is produced by curing in a state where the liquid crystal material is aligned, the accuracy of the retardation layer can be improved as compared with the conventional case.

〔第2実施形態〕
図7は、図6との対比により本発明の第2実施形態に係るパターン位相差フィルムの製造工程の説明に供する図である。この実施形態では、この図7に係るラビング処理工程が異なる点を除いて第1実施形態と同一に構成される。
[Second Embodiment]
FIG. 7 is a diagram for explaining the manufacturing process of the pattern retardation film according to the second embodiment of the present invention in comparison with FIG. This embodiment is configured in the same way as the first embodiment except that the rubbing process according to FIG. 7 is different.

ここでこの実施形態では、母材40の回転軸方向の位置に応じてラビングロールRの傾きθを変化させる代わりに、母材40に対するラビングロールRの相対的な回転速度を可変する。具体的に、傾きθを45度の一定値に保持するようにする。この状態で、符号RAで示す箇所では、母材40を回転速度10rpmで回転させ、ラビングロールRを回転速度100rpmで回転させる。また符号RBで示す箇所では、母材40を回転速度15rpmで回転させ、ラビングロールRを回転速度100rpmで回転させる。また符号RCで示す箇所では、母材40を回転速度20rpmで回転させ、ラビングロールRを回転速度180rpmで回転させる。また符号RDで示す箇所では、母材40を回転速度13rpmで回転させ、ラビングロールRを回転速度110rpmで回転させる。また符号REで示す箇所では、母材40を回転速度10rpmで回転させ、ラビングロールRを回転速度104rpmで回転させる。   Here, in this embodiment, instead of changing the inclination θ of the rubbing roll R according to the position of the base material 40 in the rotation axis direction, the relative rotational speed of the rubbing roll R with respect to the base material 40 is varied. Specifically, the inclination θ is held at a constant value of 45 degrees. In this state, the base material 40 is rotated at a rotational speed of 10 rpm and the rubbing roll R is rotated at a rotational speed of 100 rpm at a location indicated by the symbol RA. Moreover, in the location shown with the code | symbol RB, the base material 40 is rotated with the rotational speed of 15 rpm, and the rubbing roll R is rotated with the rotational speed of 100 rpm. Moreover, in the location shown with the code | symbol RC, the base material 40 is rotated with the rotational speed of 20 rpm, and the rubbing roll R is rotated with the rotational speed of 180 rpm. Moreover, in the location shown with the code | symbol RD, the base material 40 is rotated with the rotational speed of 13 rpm, and the rubbing roll R is rotated with the rotational speed of 110 rpm. Moreover, in the location shown with the code | symbol RE, the base material 40 is rotated with the rotational speed of 10 rpm, and the rubbing roll R is rotated with the rotational speed of 104 rpm.

この実施の形態のように、母材40に対するラビングロールRの相対的な回転速度の可変により、ライン状凹凸形状の延長方向を可変するようにしても、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。またこの場合、第1実施形態に係る構成に比して、このライン状凹凸形状の延長方向の可変に係る構成を簡略化することができる。   As in this embodiment, even if the extending direction of the line-shaped uneven shape is changed by changing the relative rotational speed of the rubbing roll R with respect to the base material 40, the same effect as in the first embodiment is obtained. be able to. Further, in this case, the configuration relating to the change in the extending direction of the line-shaped uneven shape can be simplified as compared with the configuration according to the first embodiment.

なお母材40の回転軸方向の位置に応じてラビングロールRの傾きθを変化させると共に、母材40に対するラビングロールRの相対的な回転速度を可変することにより、ライン状凹凸形状の延長方向を可変しても良い。   In addition, by changing the inclination θ of the rubbing roll R according to the position of the base material 40 in the rotation axis direction, and changing the relative rotational speed of the rubbing roll R with respect to the base material 40, the extending direction of the line-shaped uneven shape May be variable.

〔第3実施形態〕
図9は、本発明の第3実施形態に係る画像表示装置を示す図である。この画像表示装置51は、画像表示パネル52のパネル面(視聴者側面)に、光学フィルム53が配置される。ここで画像表示パネル52は、例えば有機ELパネルであり、所望のカラー画像を表示する。なお画像表示パネル52にあっては、有機ELパネルに限らず、液晶表示パネル等、種々の画像表示パネルを広く適用することができる。
[Third Embodiment]
FIG. 9 is a diagram showing an image display apparatus according to the third embodiment of the present invention. In the image display device 51, an optical film 53 is disposed on the panel surface (viewer side surface) of the image display panel 52. Here, the image display panel 52 is an organic EL panel, for example, and displays a desired color image. The image display panel 52 is not limited to the organic EL panel, and various image display panels such as a liquid crystal display panel can be widely applied.

光学フィルム53は、円偏光板の機能により画像表示パネル52に到来する外来光の反射を抑圧する光学フィルムである。このため光学フィルム53は、直線偏光板55、1/4波長板56を積層して構成される。光学フィルム53は、図示しないセパレータフィルムを剥離して感圧接着剤による粘着層54を露出させた後、この粘着層54により、画像表示パネル52のパネル面に貼り付けられて保持される。なお感圧接着剤に代えて例えば紫外線硬化性樹脂等の各種の接着剤、粘着剤により光学フィルム53を配置してもよい。また直線偏光板55及び1/4波長板56は、接着層57を介して一体化される。ここで接着層57は、紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、感圧接着剤等、各種の接着剤を広く適用することができるものの、全体の厚みを薄くする観点から、紫外線硬化性樹脂を適用することが好ましく、この場合は厚み1μm程度により作成することができる。   The optical film 53 is an optical film that suppresses reflection of extraneous light arriving at the image display panel 52 by the function of a circularly polarizing plate. Therefore, the optical film 53 is configured by laminating a linear polarizing plate 55 and a quarter wavelength plate 56. The optical film 53 is peeled off a separator film (not shown) to expose the pressure-sensitive adhesive layer 54, and is then adhered and held on the panel surface of the image display panel 52 by the pressure-sensitive adhesive layer 54. Instead of the pressure sensitive adhesive, the optical film 53 may be arranged by various adhesives such as an ultraviolet curable resin, and an adhesive. The linearly polarizing plate 55 and the quarter wavelength plate 56 are integrated with each other through the adhesive layer 57. Here, although various adhesives such as an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, and a pressure sensitive adhesive can be widely applied, the adhesive layer 57 is made of an ultraviolet curable resin from the viewpoint of reducing the overall thickness. In this case, it can be formed with a thickness of about 1 μm.

1/4波長板56は、透過光に1/4波長分の位相差を付与する1/4波長位相差層58と、透過光に1/2波長分の位相差を付与する1/2波長位相差層59とを接着層60により貼合した積層体により構成される。これにより光学フィルム53は、カラー画像の表示に供する広い波長帯域で十分に外来光の反射を抑圧する。   The quarter wavelength plate 56 includes a quarter wavelength retardation layer 58 that imparts a phase difference of ¼ wavelength to the transmitted light, and a ½ wavelength that imparts a phase difference of ½ wavelength to the transmitted light. It is comprised by the laminated body which bonded the phase difference layer 59 with the contact bonding layer 60. FIG. Thereby, the optical film 53 sufficiently suppresses reflection of extraneous light in a wide wavelength band used for displaying a color image.

また1/4波長板56は、1/4波長位相差層58、1/2波長位相差層59の作製に供する1/4波長位相差層用配向膜62、1/2波長位相差層用配向膜63が、それぞれ画像表示パネル52側、直線偏光板55側に設けられ、これにより転写法を適用して光学フィルム53を作製して全体の厚みを薄くすると共に、1/4波長位相差層用配向膜62、1/2波長位相差層用配向膜63を保護層として機能させて1/4波長位相差層58、1/2波長位相差層59の傷つきを低減する。   The quarter-wave plate 56 is used for the production of the quarter-wave retardation layer 58 and the half-wave retardation layer 59, and is used for the quarter-wave retardation layer 62 and the half-wave retardation layer. An alignment film 63 is provided on each of the image display panel 52 side and the linear polarizing plate 55 side, whereby an optical film 53 is produced by applying a transfer method to reduce the overall thickness and a quarter wavelength phase difference. The layer alignment film 62 and the ½ wavelength retardation layer alignment film 63 function as a protective layer to reduce damage to the ¼ wavelength retardation layer 58 and the ½ wavelength retardation layer 59.

これらにより画像表示装置51では、画像表示パネル52の表示画面側より、順次、1/4波長位相差層58、1/2波長位相差層59、直線偏光板55が配置される。また図10に示すように、矢印により示す直線偏光板55の透過軸に対して、1/2波長位相差層59及び1/4波長位相差層58の遅相軸(それぞれ矢印により示す)が、それぞれ反時計回りに55度、73度の角度を成すように配置される。   As a result, in the image display device 51, the ¼ wavelength phase difference layer 58, the ½ wavelength phase difference layer 59, and the linear polarizing plate 55 are sequentially arranged from the display screen side of the image display panel 52. Further, as shown in FIG. 10, the slow axes (indicated by arrows respectively) of the ½ wavelength phase difference layer 59 and the ¼ wavelength phase difference layer 58 with respect to the transmission axis of the linearly polarizing plate 55 indicated by arrows. These are arranged to form angles of 55 degrees and 73 degrees counterclockwise, respectively.

1/4波長位相差層用配向膜62、1/2波長位相差層用配向膜63は、表面に微細なライン状凹凸形状を作成して形成され、この微細なライン状凹凸形状による配向規制力により1/4波長位相差層58、1/2波長位相差層59に係る液晶材料を配向させる。なお1/4波長位相差層用配向膜22、1/2波長位相差層用配向膜23は、十点平均粗さ(Rz)が、10nm以上、45nm以下であり、またさらに平均面粗さ(Ra)が、1nm以上、4nm以下である。これにより1/4波長位相差層用配向膜22、1/2波長位相差層用配向膜23は、対応する1/4波長位相差層58、1/2波長位相差層59との間で十分な密着強度を確保して、いわゆる黒輝度に係る1/4波長位相差層58、1/2波長位相差層59のばらつきを十分に小さくすることができる。   The quarter-wave retardation layer alignment film 62 and the half-wave retardation layer alignment film 63 are formed by forming fine line-shaped uneven shapes on the surface, and the alignment regulation by the fine line-shaped uneven shapes. The liquid crystal material according to the quarter wavelength retardation layer 58 and the half wavelength retardation layer 59 is aligned by force. The quarter-wave retardation layer alignment film 22 and the half-wave retardation layer alignment film 23 have a 10-point average roughness (Rz) of 10 nm to 45 nm, and an average surface roughness. (Ra) is 1 nm or more and 4 nm or less. As a result, the quarter-wave retardation layer alignment film 22 and the half-wave retardation layer alignment film 23 are disposed between the corresponding quarter-wave retardation layer 58 and the half-wave retardation layer 59. Sufficient adhesion strength can be secured, and variations in the quarter-wave retardation layer 58 and the half-wave retardation layer 59 related to so-called black luminance can be sufficiently reduced.

この実施形態において、1/4波長位相差層用配向膜62、1/2波長位相差層用配向膜63は、賦型に供する賦型用樹脂層が形成された後、賦型処理によりこの賦型樹脂層の表面に微細なライン状凹凸形状を作成して形成される。この実施形態ではこの賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂が適用されて、アクリル系の紫外線硬化性樹脂が使用されるものの、これに限らず賦型処理に供する各種の樹脂を広く適用することができる。   In this embodiment, the quarter-wave retardation layer alignment film 62 and the half-wave retardation layer alignment film 63 are formed by a molding process after a molding resin layer for molding is formed. A fine line-shaped uneven shape is created on the surface of the shaping resin layer. In this embodiment, an ultraviolet curable resin is applied to the shaping resin, and an acrylic ultraviolet curable resin is used. However, the present invention is not limited to this, and various resins used for the shaping process can be widely applied. it can.

また、これら1/2波長位相差層用配向膜63及び1/4波長位相差層用配向膜62に係る微細なライン状凹凸形状は、一方向に延長するライン状(線)の凹凸形状により形成され、この一方向に延長する方向が直線偏光板55の透過軸に対して、それぞれ反時計回りに概ね55度、73度の角度を成す方向となるように作成される。   In addition, the fine line-shaped uneven shape related to the alignment film 63 for 1/2 wavelength phase difference layer and the alignment film 62 for 1/4 wavelength phase difference layer is formed by a line-shaped uneven shape extending in one direction. It is formed so that the direction extending in one direction is approximately 55 degrees and 73 degrees counterclockwise with respect to the transmission axis of the linearly polarizing plate 55, respectively.

1/4波長位相差層58及び1/2波長位相差層59は、対応する配向膜62、63の配向規制力により屈折率異方性を保持した状態で固化(硬化)された液晶材料により形成される。より具体的に1/4波長位相差層58及び1/2波長位相差層59は、重合性液晶モノマーを配向膜62、63上に積層した後、相転移点まで昇温し、その後、紫外線照射より重合性液晶モノマーを重合させて液晶の配向状態を固定することにより作製される。1/4波長位相差層58及び1/2波長位相差層59は、この種の光学フィルムに適用可能な各種の液晶材料を広く適用することができるものの、この実施形態では、同一の材料が適用される。   The quarter-wave retardation layer 58 and the half-wave retardation layer 59 are made of a liquid crystal material that is solidified (cured) while maintaining refractive index anisotropy by the orientation regulating force of the corresponding orientation films 62 and 63. It is formed. More specifically, the quarter-wave retardation layer 58 and the half-wave retardation layer 59 are formed by laminating a polymerizable liquid crystal monomer on the alignment films 62 and 63, and then raising the temperature to the phase transition point. It is produced by polymerizing a polymerizable liquid crystal monomer by irradiation to fix the alignment state of the liquid crystal. Although the ¼ wavelength retardation layer 58 and the ½ wavelength retardation layer 59 can widely apply various liquid crystal materials applicable to this type of optical film, in this embodiment, the same material is used. Applied.

接着層60は、紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、感圧接着剤等、各種の接着剤を広く適用することができるものの、全体の厚みを薄くする観点から、紫外線硬化性樹脂を適用することが好ましく、この場合は厚み1μm程度により作成することができる。この実施形態では、配向膜の作製に適用した紫外線硬化性樹脂を適用する。なお、本発明においては、接着層60は粘着層であってもよい。   Although various adhesives such as an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, and a pressure sensitive adhesive can be widely applied to the adhesive layer 60, an ultraviolet curable resin is applied from the viewpoint of reducing the overall thickness. In this case, it can be formed with a thickness of about 1 μm. In this embodiment, an ultraviolet curable resin applied to the preparation of the alignment film is applied. In the present invention, the adhesive layer 60 may be an adhesive layer.

直線偏光板55は、TAC(トリアセチルセルロース)等の透明フィルムからなる基材55Aの下面側が鹸化処理された後、光学機能層55Bが配置される。なお基材55Aは、これに代えてポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸ブチル共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂等の樹脂、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛硝子、石英硝子等の硝子等を適用することができる。   In the linear polarizing plate 55, the lower surface side of the base material 55A made of a transparent film such as TAC (triacetyl cellulose) is saponified, and then the optical functional layer 55B is disposed. In addition, 55 A of base materials replaced with this, poly (meth) acrylate methyl, poly (meth) acrylate butyl, (meth) acrylate methyl- (meth) acrylate butyl copolymer, (meth) acrylate methyl- A resin such as an acrylic resin such as a styrene copolymer, a glass such as soda glass, potash glass, lead glass, or quartz glass can be used.

光学機能層55Bは、直線偏光板としての光学的機能を担う部位であり、例えばポリビニルアルコール(PVA)によるフィルム材に、ヨウ素化合物分子を吸着配向させて作製される。   The optical functional layer 55B is a part that bears an optical function as a linearly polarizing plate, and is produced, for example, by adsorbing and orienting iodine compound molecules on a film material of polyvinyl alcohol (PVA).

しかして光学フィルム53においては、1/4波長位相差層58と1/2波長位相差層59とを接着層60により貼合した積層体により1/4波長板56を構成することにより、それぞれ別工程により作成された1/4波長位相差層58と1/2波長位相差層59とを使用して作成することができ、これにより順次、配向膜、位相差層を積層して作成する場合のはじき、密着力不足を有効に回避して作成することができ、その結果、安定かつ高い信頼性により作成することができる。   Thus, in the optical film 53, each of the quarter-wave plates 56 is configured by a laminate in which the quarter-wave retardation layer 58 and the half-wave retardation layer 59 are bonded by the adhesive layer 60, respectively. The ¼ wavelength phase difference layer 58 and the ½ wavelength phase difference layer 59 created by separate processes can be used, and thereby an alignment film and a phase difference layer are sequentially laminated. In this case, it can be created by effectively avoiding shortage of adhesion and insufficient adhesion, and as a result, it can be created with high stability and reliability.

またこれら1/4波長位相差層58、1/2波長位相差層59の作製に供する1/4波長位相差層用配向膜62、1/2波長位相差層用配向膜63を、それぞれ画像表示パネル52側、直線偏光板55側に設け、これにより転写法を適用して光学フィルム53を作製して全体の厚みを薄くすると共に、1/4波長位相差層用配向膜62、1/2波長位相差層用配向膜63を保護層として機能させ、1/4波長位相差層58、1/2波長位相差層59の傷つきを低減することができる。なお転写法とは、例えば基材の上に所望の層を形成する場合に、この層を直接当該基材上に形成するのでは無く、一旦、離型性の支持体上に剥離可能に該層を積層形成して転写体を作製した後、工程、需要等に応じて、該支持体上に形成した層を、最終的に該層を積層すべき基材(被転写基材)上に接着、積層し、その後、該支持体を剥離除去することにより、該基材上に所望の層を形成する方法である。   Further, the quarter-wave retardation layer alignment film 62 and the half-wave retardation layer alignment film 63 used for the production of the quarter-wave retardation layer 58 and the half-wave retardation layer 59 are respectively images. This is provided on the display panel 52 side and the linearly polarizing plate 55 side, whereby the transfer method is applied to produce the optical film 53 to reduce the overall thickness, and the 1/4 wavelength retardation layer alignment film 62, 1 / The alignment film 63 for the two-wavelength retardation layer can function as a protective layer, and damage to the quarter-wave retardation layer 58 and the half-wave retardation layer 59 can be reduced. The transfer method refers to, for example, when a desired layer is formed on a base material, the layer is not directly formed on the base material, but can be peeled once on a releasable support. After forming the transfer body by laminating the layers, the layer formed on the support is finally placed on the substrate (transfer base material) on which the layer is to be laminated according to the process, demand, etc. In this method, a desired layer is formed on the substrate by bonding and laminating, and then peeling and removing the support.

光学フィルム53は、接着層57により1/4波長板56、直線偏光板55が一体化され、この一体化に係る一連の処理に転写法が適用される。これによりこの実施形態では、被転写基材は、直線偏光板55であり、転写に供する層(転写層)は、1/4波長位相差層用配向膜62、1/4波長位相差層58、接着層60、1/2波長位相差層59、1/2波長位相差層用配向膜63の積層体である。   In the optical film 53, the quarter wavelength plate 56 and the linear polarizing plate 55 are integrated by the adhesive layer 57, and the transfer method is applied to a series of processes related to this integration. Thus, in this embodiment, the substrate to be transferred is the linear polarizing plate 55, and the layers (transfer layers) used for transfer are the quarter-wave retardation layer alignment film 62 and the quarter-wave retardation layer 58. , An adhesive layer 60, a ½ wavelength retardation layer 59, and a ½ wavelength retardation layer alignment film 63.

図11は、この転写体である転写フィルム61の構成を示す図である。転写フィルム61は、支持体基材65上に、1/4波長位相差層用配向膜62、1/4波長位相差層58、接着層60、1/2波長位相差層59、1/2波長位相差層用配向膜63、基材64が設けられる。   FIG. 11 is a diagram showing a configuration of a transfer film 61 that is a transfer body. The transfer film 61 is formed on a support substrate 65, a quarter-wave retardation layer alignment film 62, a quarter-wave retardation layer 58, an adhesive layer 60, a half-wave retardation layer 59, and a half. A wavelength retardation layer alignment film 63 and a substrate 64 are provided.

ここで支持体基材65は、転写層を剥離可能に担持し、転写層を被転写基材上に接着、積層した後は、適宜時機に剥離、除去に供される基材である。この実施形態では、透明フィルム材であるPET(Polyethylene terephthalate)フィルムが適用され、これにより転写フィルム61は、光学特性を検査可能に構成される。なおPETフィルムは、必要に応じてコロナ処理され、これにより密着力が適切に設定される。なお支持体基材65は、全体の形状をシート形状としても良い。また支持体基材65は、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンアフタレート等のポリエステル樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂等の樹脂からなる樹脂性フィルム材を適用してもよい。   Here, the support base material 65 is a base material that is detachably supported after the transfer layer is detachably supported and the transfer layer is bonded and laminated on the transfer target substrate. In this embodiment, a PET (Polyethylene terephthalate) film, which is a transparent film material, is applied, whereby the transfer film 61 is configured to be able to inspect optical characteristics. The PET film is subjected to corona treatment as necessary, whereby the adhesion force is appropriately set. The support substrate 65 may have a sheet shape as a whole. The support substrate 65 may be a resinous film material made of a resin such as a polyester resin such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, or polyethylene aphthalate, or a polyolefin resin such as polypropylene or polymethylpentene.

なお転写層との剥離性が不十分な場合は、支持体基材65には、転写層側に、剥離を促進する離型層を設ける。ここで離型層は、相対的に、支持体基材65との密着性は高く(剥離性は低く)、転写層との密着性は低い(剥離性は高い)材料を適用することができる。この実施形態では、転写層の最下層が紫外線硬化性樹脂による1/4波長位相差層用配向膜62であることにより、上述の支持体基材65に対して、例えばシリコン樹脂(有機珪素系高分子化合物)、弗素系樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、又はこれら樹脂と適宜の他の樹脂(アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂等)との混合物が用いられる。   When the peelability from the transfer layer is insufficient, a release layer that promotes peeling is provided on the support base material 65 on the transfer layer side. Here, the release layer can be applied with a material having relatively high adhesion to the support substrate 65 (low peelability) and low adhesion to the transfer layer (high peelability). . In this embodiment, the lowermost layer of the transfer layer is an alignment film 62 for a quarter wavelength retardation layer made of an ultraviolet curable resin. Polymer compound), fluorine-based resin, melamine resin, epoxy resin, or a mixture of these resins and other resins (acrylic resin, cellulose-based resin, polyester resin, etc.) as appropriate.

因みに、離型層による剥離性が不十分な場合、支持体基材65と離型層との間に、剥離層を設け、この剥離層により離型層による剥離性を補うようにしてもよい。なお剥離層は、相対的に、支持体フィルムとの密着性が低く(剥離性は高く)、剥離層との密着性が高い(剥離性は低い)材料を適用することができる。より具体的には、この実施形態において、剥離層には、アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、又は以上の中から選択した2種以上の混合物、或いは以上のなかから選択した1種以上とその他の樹脂との混合物を適用することができる。   Incidentally, when the peelability by the release layer is insufficient, a release layer may be provided between the support substrate 65 and the release layer, and the release layer may supplement the peelability by the release layer. . For the release layer, a material having relatively low adhesion to the support film (high peelability) and high adhesion to the release layer (low peelability) can be applied. More specifically, in this embodiment, the release layer includes an acrylic resin, a cellulose resin, a polyester resin, a urethane resin, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, or a mixture of two or more selected from the above. Alternatively, a mixture of one or more selected from the above and other resins can be applied.

基材64は、転写層を剥離可能に担持し、転写時等の適宜時機に剥離、除去に供される基材である。この実施形態では、支持体基材65と同様に構成される。また基材64においても、下層の1/2波長位相差層用配向膜63との間の密着力を適切に設定するために、必要に応じてコロナ処理したり、離形層、剥離層を形成することができる。   The base material 64 is a base material that carries the transfer layer in a peelable manner and is subjected to peeling and removal as appropriate at the time of transfer or the like. In this embodiment, it is comprised similarly to the support body base material 65. FIG. In addition, also in the base material 64, in order to appropriately set the adhesion between the lower-layer alignment layer 63 for the half-wave retardation layer, corona treatment is performed as necessary, and a release layer and a release layer are provided. Can be formed.

転写フィルム61の製造工程は、基材64に1/2波長位相差層用配向膜63、1/2波長位相差層59を作成し、また別工程において基材25に、1/4波長位相差層用配向膜62、1/4波長位相差層58を作成する。製造工程は、接着層60により1/2波長位相差層59、1/4波長位相差層58を貼合わせ、これにより転写フィルム61を作成する。   In the manufacturing process of the transfer film 61, the alignment film 63 for the ½ wavelength phase difference layer and the ½ wavelength phase difference layer 59 are formed on the base material 64. The alignment layer 62 for the retardation layer and the quarter wavelength retardation layer 58 are formed. In the manufacturing process, the ½ wavelength retardation layer 59 and the ¼ wavelength retardation layer 58 are bonded together by the adhesive layer 60, thereby creating the transfer film 61.

光学フィルム53の製造工程では、転写フィルム61から基材64のみを剥離させた後、接着層57を介して直線偏光板55に貼り付けて光学フィルム53を作製する。   In the manufacturing process of the optical film 53, only the base material 64 is peeled from the transfer film 61, and then attached to the linearly polarizing plate 55 through the adhesive layer 57 to produce the optical film 53.

この実施形態では、これら1/2波長位相差層用配向膜63、1/4波長位相差層用配向膜62が、第1又は第2実施形態について上述したと同様のラビング処理によりライン状凹凸形状が作製されたロール版を使用した賦型処理により実行され、これにより支持体基材65、基材64における光軸の変化による位相差層58、59の特性の劣化を有効に回避する。   In this embodiment, the half-wave retardation layer alignment film 63 and the quarter-wave retardation layer alignment film 62 are formed into line-shaped irregularities by rubbing treatment similar to that described above for the first or second embodiment. This is executed by a forming process using a roll plate having a shape, which effectively avoids deterioration of the characteristics of the retardation layers 58 and 59 due to changes in the optical axis of the support base material 65 and the base material 64.

この実施形態では、1/2波長位相差層及び1/4波長位相差層を作製する場合、さらにはこれらの位相差層を積層して転写体である光学フィルムを作製する場合、さらにはこの転写体により直線偏光板と一体化した光学フィルムを作製する場合でも、第1又は第1実施形態と同様の効果を得ることができる。   In this embodiment, when producing a half-wave retardation layer and a quarter-wave retardation layer, further laminating these retardation layers to produce an optical film as a transfer body, Even when an optical film integrated with a linear polarizing plate is produced by a transfer body, the same effects as those of the first or first embodiment can be obtained.

〔第4実施形態〕
図12は、本発明の第4実施形態に係る配向膜作成工程の説明に供する図である。この実施形態では、この配向膜に関すパターン位相差フィルムの製造工程の説明に供する図である。この実施形態では、配向膜作成工程に関する構成が異なる点を除いて第3実施形態と同一に構成される。
[Fourth Embodiment]
FIG. 12 is a diagram for explaining an alignment film forming step according to the fourth embodiment of the present invention. In this embodiment, it is a figure where it uses for description of the manufacturing process of the pattern phase difference film regarding this alignment film. This embodiment has the same configuration as that of the third embodiment except that the configuration relating to the alignment film forming step is different.

ここでこの配向膜作成工程では、リールから引き出した基材64、65の搬送過程において、基材64、65の表面にポリイミド膜等の配向膜作成用の材料膜を形成し、この配向膜作成用の材料膜表面をラビング処理して配向膜を作製する。なおこの材料膜には、種々の構成を適用することができる。また実用上十分な場合には、材料膜を設けることなく、基材64、65の表面を直接ラビング処理して配向膜を作製してもよい。   Here, in this alignment film forming step, a material film for forming an alignment film such as a polyimide film is formed on the surface of the base material 64, 65 in the process of transporting the base material 64, 65 drawn from the reel, and this alignment film preparation is performed. An alignment film is prepared by rubbing the material film surface for use. Various configurations can be applied to this material film. If practically sufficient, an alignment film may be produced by directly rubbing the surfaces of the base materials 64 and 65 without providing a material film.

配向膜作成工程は、基材64、65の幅方向に、基材64、65を横切るように、複数のラビングロールRA〜REが配置される。各ラビングロールRA〜REは、それぞれ傾き及び又は回転速度を可変できるように構成され、第1実施形態におけるロール版のラビング処理について上述したように、及び又は第2実施形態におけるロール版のラビング処理について上述したように、基材64、65の各部における光軸に向きの変化を補正するように、傾き及び又は回転速度が設定され、これにより基材64,65の各部における光軸に向きによる相差層における遅相軸方向の変化を低減し、従来に比してこれら位相差層の精度を向上する。   In the alignment film creating step, a plurality of rubbing rolls RA to RE are arranged in the width direction of the base materials 64 and 65 so as to cross the base materials 64 and 65. Each of the rubbing rolls RA to RE is configured such that the inclination and / or the rotation speed can be varied, and as described above for the rubbing process of the roll plate in the first embodiment and / or the rubbing process of the roll plate in the second embodiment. As described above, the inclination and / or the rotational speed are set so as to correct the change in the direction of the optical axis in each part of the bases 64 and 65, and thereby the direction of the optical axis in each part of the bases 64 and 65 depends on the direction. The change in the slow axis direction in the phase difference layer is reduced, and the accuracy of these phase difference layers is improved as compared with the prior art.

この実施形態のように直接基材をラビング処理する場合にあっても、上述の実施形態と同様の効果を得ることができる。   Even when the substrate is directly rubbed as in this embodiment, the same effects as in the above-described embodiment can be obtained.

〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に組み合わせたり、変更したりすることができる。
Other Embodiment
The specific configuration suitable for the implementation of the present invention has been described in detail above. However, the present invention can be variously combined or modified with the configuration of the above-described embodiment without departing from the spirit of the present invention. Can do.

すなわち上述の第3、第4実施形態では、位相差層を貼り合わせて複数の位相差層の積層体を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、1つの基材の上に配向膜及び位相差層を順次積層して複数の位相差層の積層体を作製する場合にも適用することができる。   That is, in the above-described third and fourth embodiments, the case where a laminate of a plurality of retardation layers is produced by bonding the retardation layers is described. However, the present invention is not limited to this, and a single substrate is formed. The present invention can also be applied to the case where a plurality of retardation layers are produced by sequentially laminating an alignment film and a retardation layer.

また上述の第3、第4実施形態では、配向膜62、63を転写層に含め保護層として機能させる場合について述べたが、本発明はこれに限らず、転写層より配向膜62、63を除外するようにしてもよい。   In the third and fourth embodiments described above, the alignment films 62 and 63 are included in the transfer layer to function as a protective layer. However, the present invention is not limited to this, and the alignment films 62 and 63 are formed from the transfer layer. You may make it exclude.

また上述の実施形態では本発明をパターン位相差フィルム、円偏光板に適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、これら以外の各種光学フィルムに広く適用することができる。   Moreover, although the case where this invention was applied to a pattern phase difference film and a circularly-polarizing plate was described in the above-mentioned embodiment, this invention is not limited to this but can be widely applied to various other optical films.

1 パターン位相差フィルム
2、64、65 基材
3、62、63 配向膜
4、58、59 位相差層
5 賦型層
10 製造工程
11 供給リール
12、19 ダイ
14 加圧ローラ
15、17 紫外線照射装置
16 剥離ローラ
18 巻き取りリール
20 ロール版
40 母材
41 下地層
42、44 無機材料層
43 マスク
56 1/4波長板
51 画像表示装置
52 画像表示パネル
53 光学フィルム
54 粘着層
55 直線偏光板
55B 光学機能層
57、20 接着層
61 転写フィルム
R ラビングロール
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Pattern phase difference film 2, 64, 65 Base material 3, 62, 63 Alignment film 4, 58, 59 Phase difference layer 5 Molding layer 10 Manufacturing process 11 Supply reel 12, 19 Die 14 Pressure roller 15, 17 Ultraviolet irradiation Device 16 Peeling roller 18 Take-up reel 20 Roll plate 40 Base material 41 Underlayer 42, 44 Inorganic material layer 43 Mask 56 1/4 wavelength plate 51 Image display device 52 Image display panel 53 Optical film 54 Adhesive layer 55 Linearly polarizing plate 55B Optical functional layer 57, 20 Adhesive layer 61 Transfer film R Rubbing roll

Claims (7)

透明フィルム材による基材と、
前記基材上に形成されたライン状凹凸形状による配向膜と、
前記配向膜の配向規制力により屈折率異方性を保持した状態で固化された液晶材料により形成され、透過光に位相差を付与する位相差層とを備え、
前記配向膜は、
前記ライン状凹凸形状の延長方向が前記基材の幅方向で変化するように設定されて、前記基材の各部における光軸に向きによる前記位相差層における遅相軸方向の変化を補正するように、前記ライン状凹凸形状の延長方向が設定された
光学フィルム。
A substrate made of a transparent film material;
An alignment film with a line-shaped uneven shape formed on the substrate;
Formed of a liquid crystal material solidified in a state in which the refractive index anisotropy is maintained by the alignment regulating force of the alignment film, and comprising a retardation layer that imparts a retardation to transmitted light,
The alignment film is
The extension direction of the line-shaped uneven shape is set so as to change in the width direction of the base material so as to correct the change in the slow axis direction in the retardation layer due to the direction of the optical axis in each part of the base material. And an extending direction of the line-shaped unevenness is set.
請求項1に記載の光学フィルムを画像表示パネルの視聴者側面に配置した
画像表示装置。
An image display device in which the optical film according to claim 1 is arranged on a viewer side of an image display panel.
周側面に形成されたライン状凹凸形状を賦型して配向膜の作製に供するロール版による賦型用金型において、
回転軸に沿った方向で、前記ライン状凹凸形状の延長方向が変化するように設定されて、賦型処理に供するフィルム材の各部における光軸の向きによる、前記配向膜の配向規制力により作製される位相差層における遅相軸方向の変化を補正するように設定された
光学フィルム用賦型用金型。
In the mold for molding by the roll plate that molds the line-shaped uneven shape formed on the peripheral side surface and serves for the production of the alignment film,
Produced by the alignment regulating force of the alignment film according to the direction of the optical axis in each part of the film material that is set so that the extending direction of the line-shaped uneven shape changes in the direction along the rotation axis. An optical film molding die set to correct a change in the slow axis direction in the retardation layer.
透明フィルム材による基材上に、ライン状凹凸形状による配向膜を作製する配向膜作成工程と、
前記配向膜の配向規制力により屈折率異方性を保持した状態で液晶材料を固化し、透過光に位相差を付与する位相差層を作製する位相差層作成工程とを備え、
前記配向膜は、
前記基材の各部における光軸に向きによる前記位相差層における遅相軸方向の変化を補正するように、前記ライン状凹凸形状の延長方向が設定された
光学フィルムの製造方法。
An alignment film creating step for producing an alignment film with a line-shaped uneven shape on a substrate made of a transparent film material,
A phase difference layer creating step of producing a phase difference layer that solidifies a liquid crystal material while maintaining refractive index anisotropy by the orientation regulating force of the alignment film and gives a phase difference to transmitted light;
The alignment film is
The method for producing an optical film, wherein an extension direction of the line-shaped unevenness is set so as to correct a change in a slow axis direction in the retardation layer depending on an optical axis in each part of the substrate.
周側面に形成されたライン状凹凸形状を賦型して配向膜の作製に供するロール版による賦型用金型の製造方法において、
回転する母材に回転するラビングロールを押しつけて、前記母材の回転軸に沿った方向に移動させることにより、前記ライン状凹凸形状を作製するラビング処理工程を有し、
前記回転軸に沿った方向で、前記ライン状凹凸形状の延長方向が変化するように、前記ライン状凹凸形状を作製する
光学フィルム用賦型金型の製造方法。
In the manufacturing method of the mold for molding by the roll plate that molds the line-shaped uneven shape formed on the peripheral side surface and serves for the production of the alignment film,
A rubbing treatment step for producing the line-shaped uneven shape by pressing a rotating rubbing roll against the rotating base material and moving the rotating base material in a direction along the rotation axis of the base material,
The manufacturing method of the shaping mold for optical films which produces the said line-shaped uneven | corrugated shape so that the extension direction of the said line-shaped uneven | corrugated shape changes in the direction along the said rotating shaft.
前記ラビングロールの傾きを変化させることにより、前記回転軸に沿った方向で、前記ライン状凹凸形状の延長方向が変化するように、前記ライン状凹凸形状を作製する
請求項5に記載の光学フィルム用賦型金型の製造方法。
The optical film according to claim 5, wherein the line-shaped uneven shape is produced by changing the inclination of the rubbing roll so that an extending direction of the line-shaped uneven shape is changed in a direction along the rotation axis. Of manufacturing molds for use.
前記母材の回転速度に対する前記ラビングロールの回転速度の変化により、前記回転軸に沿った方向で、前記ライン状凹凸形状の延長方向が変化するように、前記ライン状凹凸形状を作製する
請求項5又は請求項6に記載の光学フィルム用賦型金型の製造方法。
The line-shaped concavo-convex shape is produced so that the extending direction of the line-shaped concavo-convex shape changes in the direction along the rotation axis due to a change in the rotation speed of the rubbing roll with respect to the rotation speed of the base material. The manufacturing method of the shaping die for optical films of Claim 5 or Claim 6.
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