JP2013140306A

JP2013140306A - Manufacturing method of pattern retardation film

Info

Publication number: JP2013140306A
Application number: JP2012001040A
Authority: JP
Inventors: Yusuke Hagiwara; 裕介萩原; Takayuki Shimada; 貴之嶋田; Yukihiro Kyoda; 享博京田
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2012-01-06
Filing date: 2012-01-06
Publication date: 2013-07-18

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve dimensional accuracy of a passive three-dimensional image display method much better than before.SOLUTION: When an alignment film on a UV-curing resin formed on a substrate is manufactured by molding a concave-convex shape manufactured on a metal mold (19), the water content of the substrate immediately before the molding is controlled to manage the extension and contraction of the substrate (52). Accordingly, dimensional accuracy of a pattern retardation film can be improved.

Description

本発明は、パッシブ方式による３次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムに関するものである。 The present invention relates to a pattern retardation film applied to a three-dimensional image display by a passive method.

フラットパネルディスプレイは、従来、２次元表示のものが主流であった。しかしながら、近年、３次元表示可能なフラットパネルディスプレイが注目を集めており、一部市販もされている。そして今後のフラットパネルディスプレイは３次元表示可能であることが当然に求められる傾向にあり、３次元表示可能なフラットパネルディスプレイの検討が幅広い分野において進められている。 Conventionally, flat panel displays have been mainly two-dimensional displays. However, in recent years, flat panel displays capable of three-dimensional display have attracted attention, and some are also commercially available. Further, there is a tendency that future flat panel displays are capable of three-dimensional display, and flat panel displays capable of three-dimensional display are being studied in a wide range of fields.

フラットパネルディスプレイにおいて３次元表示をするには、通常、何らかの方式で右目用の映像と、左目用の映像とを、それぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供することが必要である。右目用の映像と左目用の映像とを選択的に提供する方法としては、例えば、パッシブ方式が知られている。このパッシブ方式の３次元表示方式について図を参照しながら説明する。図９は、液晶表示パネルを使用したパッシブ方式の３次元表示の一例を示す概略図である。この図９の例では、液晶表示パネルの垂直方向に連続する画素を、順次交互に、右目用の映像を表示する右目用画素、左目用の映像を表示する左目用画素に振り分け、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動し、これにより右目用の映像と左目用の映像とを同時に表示する。なおこれにより液晶表示パネルの画面は、短辺が垂直方向で長辺が水平方向となる帯状の領域により、右目用の映像を表示する領域と左目用の映像を表示する領域とに交互に区分されることになる。 In order to perform three-dimensional display on a flat panel display, it is usually necessary to selectively provide a right-eye image and a left-eye image in some manner, respectively, to the viewer's right eye and left eye. As a method for selectively providing a right-eye video and a left-eye video, for example, a passive method is known. This passive three-dimensional display method will be described with reference to the drawings. FIG. 9 is a schematic diagram showing an example of a passive three-dimensional display using a liquid crystal display panel. In the example of FIG. 9, pixels that are consecutive in the vertical direction of the liquid crystal display panel are sequentially and alternately assigned to a right-eye pixel that displays a right-eye image and a left-eye pixel that displays a left-eye image. And the image data for the left eye, and thereby the image for the right eye and the image for the left eye are simultaneously displayed. In this way, the screen of the liquid crystal display panel is alternately divided into a region for displaying a right-eye image and a region for displaying a left-eye image by a strip-shaped region having a short side in a vertical direction and a long side in a horizontal direction. Will be.

さらにパッシブ方式では、液晶表示パネルのパネル面にパターン位相差フィルムを配置し、右目用及び左目用の画素からの直線偏光による出射光を、右目用及び左目用で回転方向の異なる円偏光に変換する。このためパターン位相差フィルムは、液晶表示パネルにおける領域の設定に対応して、遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）が互いに直交する２種類の帯状領域が順次交互に形成される。これによりパッシブ方式では、対応する偏光フィルタを備えてなる眼鏡（メガネ）を装着して、右目用の映像と左目用の映像とをそれぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供する。ちなみにこの隣接する帯状領域の遅相軸方向は、通常、水平方向に対して、＋４５度と−４５度、０度と＋９０度、０度と−９０度の何れかの組み合わせが採用される。なおこの図９の例では、通常の画像表示装置における呼称に習って画面の長辺方向を水平方向として示す。パッシブ方式では、この図９における水平方向に連続する画素を、垂直方向（画面の短辺方向）を長辺とする帯状領域に右目用及び左目用に振り分けて駆動すると共に、これに対応するようにパターン位相差フィルムを作製しても、同様に３次元画像を表示することができる。 Furthermore, in the passive method, a pattern retardation film is placed on the panel surface of the liquid crystal display panel, and light emitted from the linearly polarized light from the right-eye and left-eye pixels is converted into circularly polarized light with different rotation directions for the right-eye and left-eye. To do. For this reason, in the pattern retardation film, two types of band-like regions in which the slow axis direction (direction in which the refractive index is maximum) are orthogonal to each other are sequentially formed corresponding to the setting of the region in the liquid crystal display panel. Accordingly, in the passive method, glasses (glasses) each having a corresponding polarizing filter are attached, and a right eye image and a left eye image are selectively provided to the viewer's right eye and left eye, respectively. Incidentally, the slow axis direction of the adjacent strip-like region is usually any combination of +45 degrees and −45 degrees, 0 degrees and +90 degrees, and 0 degrees and −90 degrees with respect to the horizontal direction. In the example of FIG. 9, the long side direction of the screen is shown as the horizontal direction in accordance with the name in the normal image display apparatus. In the passive method, the pixels that are continuous in the horizontal direction in FIG. 9 are distributed and driven for the right eye and the left eye in the band-like region having the long side in the vertical direction (the short side direction of the screen), and corresponding to this. Even when a pattern retardation film is prepared, a three-dimensional image can be displayed in the same manner.

このパッシブ方式は、応答速度の遅い液晶表示装置でも適用することができ、さらにパターン位相差フィルムと円偏光メガネとを用いた簡易な構成で３次元表示することができる。従ってパッシブ方式の液晶表示装置は、今後の３次元表示装置の中心的存在となるものとして非常に注目されている。 This passive method can also be applied to a liquid crystal display device with a slow response speed, and can also display three-dimensionally with a simple configuration using a pattern retardation film and circularly polarized glasses. Therefore, the passive liquid crystal display device has been attracting a great deal of attention as a center of the future three-dimensional display device.

このパッシブ方式に係るパターン位相差フィルムは、画素の割り当てに対応して透過光に位相差を与えるパターン状の位相差層が必要である。このパターン位相差フィルムは、まだ広く研究、開発が行われておらず、標準的な技術としても確立されているものがないのが現状である。 The pattern phase difference film according to this passive method requires a pattern-like phase difference layer that gives a phase difference to transmitted light corresponding to the allocation of pixels. This pattern retardation film has not been widely researched and developed yet, and there is no established standard technology.

このパターン位相差フィルムに関して、特許文献１には、配向規制力を制御した光配向膜をガラス基板上に形成し、この光配向膜により液晶の配列をパターンニングして位相差層を作成する方法が開示されている。また特許文献２には、レーザーの照射によりロール版の周囲に微細な凹凸形状を形成し、この凹凸形状を転写してパターン状に配向規制力を制御した光配向膜を作製する方法が開示されている。 With respect to this pattern retardation film, Patent Document 1 discloses a method for forming a retardation layer by forming a photo-alignment film with controlled alignment regulating force on a glass substrate and patterning the alignment of liquid crystals with this photo-alignment film. Is disclosed. Further, Patent Document 2 discloses a method for forming a photo-alignment film in which a fine uneven shape is formed around a roll plate by laser irradiation, and this uneven shape is transferred to control the alignment regulating force in a pattern shape. ing.

このようなパターン位相差フィルムは、高い精度により効率良く量産できることが望まれるものの、従来の手法においては、精度の点で、実用上未だ不十分な問題がある。 Although it is desired that such a pattern retardation film can be mass-produced efficiently with high accuracy, the conventional method has a problem that is still insufficient in practice in terms of accuracy.

特開２００５−４９８６５号公報JP 2005-49865 A 特開２０１０−１５２２９６号公報JP 2010-152296 A

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、パッシブ方式に係るパターン位相差フィルム等に関して、従来に比して一段と寸法精度を向上することを目的とする。 The present invention has been made in view of such a situation, and an object of the present invention is to further improve the dimensional accuracy of the pattern phase difference film and the like related to the passive method as compared with the conventional one.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、金型の凹凸形状を賦型して配向膜を作製する場合に、この賦型直前における基材の含水率を制御して基材の伸縮を管理するとの着想に至り、本発明を完成するに至った。 In order to solve the above-mentioned problems, the present inventor has conducted extensive research, and in the case of forming an alignment film by forming a concavo-convex shape of a mold, the moisture content of the base material immediately before the forming is controlled to make a basis. The idea of managing the expansion and contraction of the material has been reached, and the present invention has been completed.

具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。 Specifically, the present invention provides the following.

（１）透明フィルムによる基材の一方の面に配向膜、位相差層が順次作製されるパターン位相差フィルムの製造方法において、
前記基材の一方の面に紫外線硬化性樹脂を塗布する紫外線硬化性樹脂の塗布工程と、
前記基材に塗布された前記紫外線硬化性樹脂を乾燥させる乾燥工程と、
前記乾燥工程で乾燥した前記紫外線硬化性樹脂を金型に押圧して硬化させることにより、前記金型に作製された凹凸形状を転写して前記配向膜を作製する賦型工程と、
前記位相差層を作製する位相差層作製工程とを備え、
さらに前記位相差層作製工程に供給する前記基材の含水率を制御する水分量調整工程を備える。 (1) In the method for producing a patterned retardation film in which an alignment film and a retardation layer are sequentially produced on one surface of a substrate made of a transparent film,
An application step of an ultraviolet curable resin for applying an ultraviolet curable resin to one surface of the substrate;
A drying step of drying the ultraviolet curable resin applied to the substrate;
A molding step for producing the alignment film by transferring the concavo-convex shape produced in the die by pressing the ultraviolet curable resin dried in the drying step onto the die and curing the resin;
A retardation layer producing step for producing the retardation layer,
Furthermore, a moisture content adjusting step for controlling the moisture content of the base material supplied to the retardation layer manufacturing step is provided.

（１）によれば、位相差層作製工程に供給する前記基材の含水率を制御する水分量調整工程を備えることにより、含水率により伸縮する基材に関して、含水率を一定範囲に収めた状態で金型に形成された凹凸形状を転写することができる。従って以降の工程において含水率が変化した場合でも、寸法の変化を一定範囲に留めることができ、これによりパターン位相差フィルムの寸法精度を向上することができる。 According to (1), by providing a moisture content adjusting step for controlling the moisture content of the base material supplied to the retardation layer manufacturing step, the moisture content is kept within a certain range with respect to the base material that expands and contracts due to the moisture content. The uneven shape formed on the mold in the state can be transferred. Therefore, even when the water content changes in the subsequent steps, the change in dimensions can be kept within a certain range, and thereby the dimensional accuracy of the pattern retardation film can be improved.

（２）（１）において、
前記水分量調整工程は、
前記賦型工程に供給する前記基材の含水率を０．３１％以上、０．９１％以下に制御する。 (2) In (1),
The moisture content adjusting step
The moisture content of the base material supplied to the shaping step is controlled to 0.31% or more and 0.91% or less.

（２）によれば、パターン位相差フィルムの製造工程において、実用上充分にパターン位相差フィルムの寸法精度を向上することができる。 According to (2), in the manufacturing process of the pattern retardation film, the dimensional accuracy of the pattern retardation film can be improved sufficiently practically.

（３）（１）又は（２）において、
前記水分量調整工程は、
前記乾燥工程における前記基材の搬送速度の制御により前記基材の含水率を制御する。 (3) In (1) or (2),
The moisture content adjusting step
The moisture content of the base material is controlled by controlling the conveyance speed of the base material in the drying step.

（３）によれば、乾燥工程を有効に利用して水分量調整工程を設けることができる。 According to (3), the moisture content adjusting step can be provided by effectively using the drying step.

（４）（１）、（２）又は（３）において、
前記紫外線硬化性樹脂の塗布工程の前及び又は後に、前記基材の含水率を測定する第１の水分量測定工程を有し、
前記水分量調整工程は、
前記水分量測定工程の測定結果に基づいて、前記基材の含水率を制御する。 (4) In (1), (2) or (3),
Before and / or after the application step of the ultraviolet curable resin, the first moisture content measurement step of measuring the moisture content of the substrate,
The moisture content adjusting step
Based on the measurement result of the moisture content measurement step, the moisture content of the substrate is controlled.

（４）によれば、製造工程に供給される基材の含水率が種々に変化する場合でも、この変化に対応して含水率を制御することができ、一段と精度を向上することができる。 According to (4), even when the moisture content of the base material supplied to the manufacturing process changes variously, the moisture content can be controlled in response to this change, and the accuracy can be further improved.

（５）（１）、（２）、（３）又は（４）において、
前記位相差層の上に保護フィルムを配置する保護フィルム配置工程と、
前記基材の他方の面に粘着層を作製する粘着層作製工程と、
前記賦型工程の後で、前記基材の含水率を測定する第２の水分量測定工程とをさらに備え、
前記第２の水分量測定工程の測定結果に基づいて、保護フィルム配置工程及び又は前記粘着層作製工程における前記基材の搬送速度を制御する。 (5) In (1), (2), (3) or (4),
A protective film disposing step of disposing a protective film on the retardation layer;
A pressure-sensitive adhesive layer producing step of producing a pressure-sensitive adhesive layer on the other surface of the substrate;
A second moisture content measurement step for measuring the moisture content of the substrate after the shaping step;
Based on the measurement result of the second moisture content measurement step, the transport speed of the base material in the protective film placement step and / or the adhesive layer preparation step is controlled.

（５）によれば、さらに詳細に含水率を調整して寸法精度を向上することができる。またこの場合、水分量調整工程において、含水率を事前に調整していることにより、保護フィルム配置工程及び又は前記粘着層作製工程における搬送速度の制御だけで、実用上充分に寸法のばらつきを抑圧して歩留まりを格段に向上することができる。 According to (5), the moisture content can be adjusted in more detail to improve the dimensional accuracy. Also, in this case, by adjusting the water content in advance in the moisture content adjustment process, the dimensional variation can be sufficiently suppressed practically only by controlling the transport speed in the protective film placement process and / or the adhesive layer preparation process. Thus, the yield can be significantly improved.

本発明によれば、高い寸法精度により効率良くパターン位相差フィルムを量産することができる。 According to the present invention, a pattern retardation film can be mass-produced efficiently with high dimensional accuracy.

本発明の第１実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。It is a figure which shows the pattern phase difference film which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図１のパターン位相差フィルムの製造工程の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the manufacturing process of the pattern phase difference film of FIG. 図２の続きを示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a continuation of FIG. 2. 図３の金型の製造方法の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the manufacturing method of the metal mold | die of FIG. 図４の続きを示す図である。It is a figure which shows the continuation of FIG. 図２の製造工程における基材含水率の変化を示す特性曲線図である。It is a characteristic curve figure which shows the change of the base material moisture content in the manufacturing process of FIG. 図３の製造工程における基材含水率の変化を示す特性曲線図である。It is a characteristic curve figure which shows the change of the base material moisture content in the manufacturing process of FIG. 含水率と寸法との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between a moisture content and a dimension. 寸法調整処理の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of a dimension adjustment process. パッシブ方式による３次元画像表示の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the three-dimensional image display by a passive system.

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

〔第１実施形態〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る画像表示装置に適用されるパターン位相差フィルムを示す図である。この第１実施形態に係る画像表示装置は、液晶表示パネルの垂直方向（図１においては左右方向）に連続する画素が、順次交互に、右目用の映像を表示する右目用画素、左目用の映像を表示する左目用画素に振り分けられて、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動される。これにより画像表示装置は、右目用の映像を表示する帯状の領域と、左目用の映像を表示する帯状の領域とに表示画面が交互に区分され、右目用の映像と左目用の映像とを同時に表示する。この画像表示装置は、この液晶表示パネルのパネル面に、この図１に示すパターン位相差フィルム１が配置され、このパターン位相差フィルム１により右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。これによりこの画像表示装置は、パッシブ方式により所望の立体画像を表示する。 [First Embodiment]
FIG. 1 is a diagram showing a pattern retardation film applied to the image display device according to the first embodiment of the present invention. In the image display device according to the first embodiment, pixels that are continuous in the vertical direction (the left-right direction in FIG. 1) of the liquid crystal display panel are alternately and sequentially displayed for right-eye pixels and left-eye pixels that display a right-eye image. They are distributed to the left-eye pixels that display the video, and are driven by right-eye and left-eye image data, respectively. As a result, the image display apparatus alternately divides the display screen into a band-like region for displaying the right-eye image and a band-like region for displaying the left-eye image, and separates the right-eye image and the left-eye image. Display at the same time. In this image display device, the pattern phase difference film 1 shown in FIG. 1 is disposed on the panel surface of the liquid crystal display panel, and the pattern phase difference film 1 corresponds to light emitted from pixels for the right eye and the left eye, respectively. To give the phase difference. Thereby, this image display apparatus displays a desired three-dimensional image by a passive method.

ここでパターン位相差フィルム１は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）の透明フィルムからなる基材２の一方の面上に、配向膜３、位相差層４が順次作製される。パターン位相差フィルム１は、位相差層４が屈折率異方性を保持した状態で固化（硬化）された液晶材料により形成され、この液晶材料の配向を配向膜３の配向規制力によりパターンニングする。なおこの液晶分子の配向を図１では細長い楕円により誇張して示す。このパターンニングにより、パターン位相差フィルム１は、液晶表示パネルにおける画素の割り当てに対応して、一定の幅により、右目用の領域Ａと、左目用の領域Ｂとが順次交互に帯状に形成され、右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。 Here, in the pattern retardation film 1, an alignment film 3 and a retardation layer 4 are sequentially formed on one surface of a substrate 2 made of a transparent film of TAC (triacetyl cellulose). The pattern retardation film 1 is formed of a liquid crystal material that is solidified (cured) in a state where the retardation layer 4 retains refractive index anisotropy, and the alignment of the liquid crystal material is patterned by the alignment regulating force of the alignment film 3. To do. In FIG. 1, the orientation of the liquid crystal molecules is exaggerated by an elongated ellipse. By this patterning, the pattern phase difference film 1 is formed in a band shape alternately with the right-eye area A and the left-eye area B sequentially with a certain width corresponding to the pixel assignment in the liquid crystal display panel. A phase difference corresponding to each of the light emitted from the right-eye and left-eye pixels is given.

パターン位相差フィルム１は、基材２の表面に紫外線硬化性樹脂５が塗布された後、この紫外線硬化性樹脂５の表面に微小な凹凸形状が形成される。パターン位相差フィルム１は、この紫外線硬化性樹脂５の表面の凹凸形状により配向膜３が形成される。パターン位相差フィルム１は、製造用金型に作製された微小な凹凸形状を転写して、配向膜３に係る微小な凹凸形状が作製され、この凹凸形状による配向規制力により位相差層４をパターンニングする。このため配向膜３は、右目用及び左目用の帯状領域Ａ及びＢにそれぞれ対応する帯状の領域が順次交互に形成され、それぞれ微小な凹凸形状が作製される。ここでこの微小な凹凸形状は、一方向に延長するライン状（線）の凹凸形状により形成され、この一方向に延長する方向が右目用領域Ａと左目用領域Ｂのうちの何れか一方向に対応する第１の領域及び右目用領域Ａと左目用領域Ｂのうちの他方向に対応する第２の領域とで互いに９０度異なる方向となるように、かつ各領域の延長方向（水平方向であり、図１に於いては右上と左下とを結ぶ方向に対応）に対して４５度傾くように形成される。なおこのこの傾きは、基材２等のリタデーションが無視できない程度に大きい場合には、リタデーション値に応じて、適宜、増減される。 In the pattern retardation film 1, after the ultraviolet curable resin 5 is applied to the surface of the substrate 2, minute uneven shapes are formed on the surface of the ultraviolet curable resin 5. In the pattern retardation film 1, the alignment film 3 is formed by the uneven shape on the surface of the ultraviolet curable resin 5. The pattern retardation film 1 is formed by transferring the minute uneven shape produced on the manufacturing mold to produce the minute uneven shape related to the alignment film 3, and the retardation layer 4 is formed by the alignment regulating force by the uneven shape. Pattern it. For this reason, in the alignment film 3, strip-shaped regions respectively corresponding to the strip-shaped regions A and B for the right eye and the left eye are sequentially formed, and minute uneven shapes are respectively produced. Here, the minute concavo-convex shape is formed by a line-shaped (line) concavo-convex shape extending in one direction, and the direction extending in the one direction is one of the right eye region A and the left eye region B. The first region corresponding to the right region and the second region corresponding to the other direction of the right eye region A and the left eye region B are in directions different from each other by 90 degrees, and the extending direction of each region (horizontal direction) 1 and corresponding to the direction connecting the upper right and the lower left in FIG. 1). In addition, this inclination is increased / decreased suitably according to a retardation value, when the retardation of the base material 2 etc. is so large that it cannot be disregarded.

さらにパターン位相差フィルム１は、位相差層４の上に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）フィルムによる保護フィルム６が配置される。また基材２の他方の面に粘着層７、セパレータフィルム８が順次設けられる。なおセパレータフィルム８は、例えばＰＥＴフィルムが適用される。パターン位相差フィルム１は、この粘着層７により液晶表示パネルの表示画面に貼り付けられて保持される。なおパターン位相差フィルム１は、さらに反射防止膜等が必要に応じて設けられる。 Further, in the pattern retardation film 1, a protective film 6 made of a PET (polyethylene terephthalate) film is disposed on the retardation layer 4. An adhesive layer 7 and a separator film 8 are sequentially provided on the other surface of the substrate 2. The separator film 8 is, for example, a PET film. The pattern retardation film 1 is attached and held on the display screen of the liquid crystal display panel by the adhesive layer 7. The pattern retardation film 1 is further provided with an antireflection film or the like as necessary.

〔パターン位相差フィルム製造工程〕
図２は、このパターン位相差フィルム１の製造工程の前半部分を示す略線図である。この製造工程１０は、基材２に配向膜３を作製する配向膜作製工程である。この製造工程１０は、基材２がロールにより提供され、この基材２を供給リール１１から供給する。製造工程１０は、紫外線硬化性樹脂の塗布工程１２において、この基材２に順次紫外線硬化性樹脂を塗布する。より具体的に、この塗布工程１２は、ダイ１３により紫外線硬化性樹脂の塗布液を塗布する。製造工程１０は、続く乾燥工程１７において、基材２に塗布した紫外線硬化性樹脂を乾燥させる。このため乾燥工程１７は、乾燥機１８において８０℃の熱風により約１分間、紫外線硬化性樹脂を乾燥させ、未硬化の状態で次工程に送出する。 [Pattern retardation film manufacturing process]
FIG. 2 is a schematic diagram showing the first half of the manufacturing process of the pattern retardation film 1. This manufacturing process 10 is an alignment film manufacturing process for manufacturing the alignment film 3 on the substrate 2. In the manufacturing process 10, the base material 2 is provided by a roll, and the base material 2 is supplied from a supply reel 11. In the manufacturing process 10, the ultraviolet curable resin is sequentially applied to the substrate 2 in the application process 12 of the ultraviolet curable resin. More specifically, in the coating step 12, a coating solution of an ultraviolet curable resin is applied by the die 13. The manufacturing process 10 dries the ultraviolet curable resin applied to the substrate 2 in the subsequent drying process 17. Therefore, in the drying step 17, the ultraviolet curable resin is dried for about 1 minute by hot air at 80 ° C. in the dryer 18, and is sent to the next step in an uncured state.

続いてこの製造工程１０は、賦型工程１９において、転写用金型の表面に形成された微細なライン状の凹凸形状を紫外線硬化性樹脂の表面に転写して配向膜３を作製する。すなわちこの賦型工程１９においては、円筒形状によるロール版２０が転写用金型であり、このロール版２０の表面に転写に供する微細な凹凸形状が形成されている。賦型工程１９は、押圧ローラ１９Ａにより基材２に設けられた紫外線硬化性樹脂層をロール版２０に押圧し、この状態で紫外線照射装置２３からの紫外線を基材２側から照射し、紫外線硬化性樹脂を硬化させる。また剥離ローラ１９Ｂによりロール版２０から基材２を剥離した後、図示しない紫外線照射装置により紫外線を再度照射して未硬化の紫外線硬化性樹脂を硬化させ、中間リール２４に巻き取って続く工程に送出する。 Subsequently, in the molding process 19, in the molding process 19, the fine line-shaped irregularities formed on the surface of the transfer mold are transferred to the surface of the ultraviolet curable resin to produce the alignment film 3. That is, in this forming step 19, the roll plate 20 having a cylindrical shape is a transfer mold, and the surface of the roll plate 20 has a fine uneven shape to be used for transfer. The molding step 19 presses the ultraviolet curable resin layer provided on the substrate 2 against the roll plate 20 by the pressing roller 19A, and in this state, irradiates ultraviolet rays from the ultraviolet irradiation device 23 from the substrate 2 side. Curing the curable resin. Further, after peeling the base material 2 from the roll plate 20 by the peeling roller 19B, the uncured ultraviolet curable resin is cured by irradiating the ultraviolet rays again by an ultraviolet irradiation device (not shown) and wound on the intermediate reel 24 to continue the process. Send it out.

図３は、このパターン位相差フィルム１の製造工程の後半部分を示す略線図である。この製造工程３０は、位相差層４の作製工程である。この製造工程３０は、図２の製造工程１０で配向膜３が作製された基材２の供給を中間リール２４により受ける。この製造工程３０は、液晶材料の塗布工程３１において、基材２をプリヒートした後、ダイ３３によりこの基材２に順次液晶材料を塗布する。この塗布された液晶材料は、配向膜３上において、配向膜３の配向規制力により、図１に示す帯状の領域Ａ、領域Ｂ内に係るライン状の凹凸形状の走行方向（延長方向）に配向する。 FIG. 3 is a schematic diagram showing the latter half of the manufacturing process of the pattern retardation film 1. This manufacturing process 30 is a manufacturing process of the retardation layer 4. In the manufacturing process 30, the supply of the base material 2 on which the alignment film 3 is manufactured in the manufacturing process 10 of FIG. 2 is received by the intermediate reel 24. In the manufacturing process 30, after the base material 2 is preheated in the liquid crystal material application process 31, the liquid crystal material is sequentially applied to the base material 2 by the die 33. The applied liquid crystal material is applied on the alignment film 3 in the travel direction (extension direction) of the line-shaped unevenness in the band-like regions A and B shown in FIG. Orient.

続いてこの製造工程３０は、続く乾燥工程３４において、乾燥機３５により基材２に塗布した液晶材料を熱風で乾燥させる。製造工程３０は、続く紫外線照射工程３６において、押圧ローラ３６Ａを介して基材２をローラ３７に巻き付け、ここで紫外線照射装置３８からの紫外線を照射する。なおここでローラ３７は、内部を冷却水が循環する鉄製の冷却ローラであり、これによりこの製造工程３０は、基材２の温度上昇を抑制する。これらによりこの製造工程３０は、液晶材料を、液晶分子が所定のパターン状に（図１における配向膜３上のライン状凹凸形状の延長方向と合致した配向パターンで）配向した状態のままで硬化させて位相差層４を作製し、剥離ローラ３６Ｂを介して基材２を送出する。 Subsequently, in the manufacturing process 30, in the subsequent drying process 34, the liquid crystal material applied to the substrate 2 by the dryer 35 is dried with hot air. In the manufacturing process 30, in the subsequent ultraviolet irradiation process 36, the substrate 2 is wound around the roller 37 via the pressing roller 36 </ b> A, and the ultraviolet light from the ultraviolet irradiation device 38 is irradiated here. Here, the roller 37 is an iron cooling roller through which cooling water circulates, and thus the manufacturing process 30 suppresses the temperature rise of the substrate 2. Thus, the manufacturing process 30 cures the liquid crystal material while the liquid crystal molecules are aligned in a predetermined pattern (with an alignment pattern that matches the extending direction of the line-shaped uneven shape on the alignment film 3 in FIG. 1). Thus, the retardation layer 4 is produced, and the substrate 2 is sent out through the peeling roller 36B.

製造工程３０は、続いて図示しない保護フィルム配置工程において、粘着剤を介して保護フィルム６を位相差層４の上面に圧着させ、この状態で所定の温度により粘着剤を硬化させ、これによりこの保護フィルムを貼り付ける。なおここで保護フィルムは、各種の透明フィルムを適用することができるものの、この実施形態ではＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）フィルムが適用される。 In the manufacturing process 30, subsequently, in a protective film arrangement process (not shown), the protective film 6 is pressure-bonded to the upper surface of the retardation layer 4 via the adhesive, and in this state, the adhesive is cured at a predetermined temperature. Apply protective film. In addition, although a various transparent film can be applied for a protective film here, a PET (polyethylene terephthalate) film is applied in this embodiment.

またさらに続く粘着層作製工程において、基材２の位相差層４を作製していない側の面に、粘着層７、セパレータフィルム８が設けられる。より具体的に、この工程では、粘着層７を構成する粘着剤を直接塗工し、該粘着剤にセパレータフィルムをラミネートした後、エージングして粘着層７、セパレータフィルム８を配置する。この製造工程は、その後、基材２を所望の大きさで切断してパターン位相差フィルム１を作製する。 Further, in the subsequent pressure-sensitive adhesive layer preparation step, the pressure-sensitive adhesive layer 7 and the separator film 8 are provided on the surface of the substrate 2 on which the retardation layer 4 is not formed. More specifically, in this step, the pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer 7 is directly applied, a separator film is laminated on the pressure-sensitive adhesive, and then aged to dispose the pressure-sensitive adhesive layer 7 and the separator film 8. In this manufacturing process, the substrate 2 is then cut into a desired size to produce the pattern retardation film 1.

〔ロール版製造工程〕
図４及び図５は、パターン位相差フィルムの製造用金型であるロール版２０の製造工程を示す図である。なおこの図４及び図５において、パターン位相差フィルム１の領域Ａ、Ｂに対応する領域を、それぞれ符号ＡＲＡ、ＡＲＢにより示す。この製造工程では、母材４０の表面を研磨して平滑化した後（図４（ａ））、第１の凹凸形状作製工程において、母材４０の全面に微小なライン状凹凸形状による第１凹凸領域４２を形成する（図４（ｂ））。ここで母材４０は、ロール版２０の外形形状に対応する円筒形状の金属材料である。母材４０は、後述するレジスト層４３等を剥離除去可能に積層できるものであれば特に限定されるものではなく、ニッケル、クロム、チタン、銅、コバルト等の各種金属材料、ＳｉＯ_２、ＤＬＣ（ダイヤモンド状炭素）、ＴｉＯ_２、等の各種無機酸化物等を広く適用することができるものの、後述するレジスト層４３等を剥離除去可能に積層する観点から、金属材料、ＤＬＣ、ＴｉＯ_２等であることが好ましく、ニッケル、クロム、ＤＬＣであることがより好ましい。またスパッタリング等の手法を適用して各種の金属材料層を表面に作製したものを適用しても良く、例えばこの表面の金属材料層にタングステン、チタン、金属化合物である酸化チタン、窒化チタン、タングステンカーバイド、酸化クロム、クロムモリブデン、ニッケルクロムモリブデンを適用すれば、強度を向上させることができる。 [Roll plate manufacturing process]
4 and 5 are diagrams showing a manufacturing process of the roll plate 20 which is a mold for manufacturing a pattern retardation film. 4 and 5, regions corresponding to the regions A and B of the pattern retardation film 1 are denoted by reference numerals ARA and ARB, respectively. In this manufacturing process, after the surface of the base material 40 is polished and smoothed (FIG. 4A), in the first concavo-convex shape manufacturing process, the first surface is formed by a fine line-shaped concavo-convex shape on the entire surface of the base material 40. The uneven region 42 is formed (FIG. 4B). Here, the base material 40 is a cylindrical metal material corresponding to the outer shape of the roll plate 20. The base material 40 is not particularly limited as long as a later-described resist layer 43 or the like can be laminated so as to be peeled and removed, and various metal materials such as nickel, chromium, titanium, copper, and cobalt, SiO ₂ , DLC ( Although various inorganic oxides such as diamond-like carbon) and TiO ₂ can be widely applied, they are metal materials, DLC, TiO _{2 and the} like from the viewpoint of laminating a resist layer 43 and the like described later so that they can be removed. Of these, nickel, chromium, and DLC are more preferable. In addition, a method in which various metal material layers are formed on the surface by applying a technique such as sputtering may be applied. If carbide, chromium oxide, chromium molybdenum, or nickel chromium molybdenum is applied, the strength can be improved.

第１凹凸領域４２は、母材４０の表面に、配向膜３の右目用領域又は左目用領域の凹凸形状に対応する微小な凹凸形状を作製して形成される。なおここで言う表面とは円筒形状をした母材４０の円筒としての側面を意味する。具体的に、この実施形態では、ラビングロールＲによるラビング処理によりこの凹凸形状が作製される。 The first uneven region 42 is formed on the surface of the base material 40 by forming a minute uneven shape corresponding to the uneven shape of the right eye region or the left eye region of the alignment film 3. In addition, the surface said here means the side surface as a cylinder of the base material 40 which has a cylindrical shape. Specifically, in this embodiment, the concavo-convex shape is produced by a rubbing process using a rubbing roll R.

続いてロール版２０は、マスク作製工程において、レジスト材料により、右目用領域Ａに対応する領域ＡＲＡを被覆し、かつ左目用領域Ｂに対応する領域ＡＲＢを露出させたマスクが作製される。すなわちこの工程では、ポジ型のレジスト剤を全面に塗布した後、紫外線により露光し、現像処理することにより、左目用領域Ｂに対応する領域ＡＲＢを露出させたマスクが作製される。なおレジスト材料としては特に限定されるものではなく、ネガ型レジスト材料を適用しても良い。また塗布方法、露光方法にあっても種々の手法を広く適用することができる。 Subsequently, in the mask plate manufacturing process, the roll plate 20 is formed with a mask that covers the region ARA corresponding to the right eye region A and exposes the region ARB corresponding to the left eye region B with a resist material. That is, in this step, a positive resist agent is applied to the entire surface, then exposed to ultraviolet rays, and developed to produce a mask exposing the region ARB corresponding to the left eye region B. The resist material is not particularly limited, and a negative resist material may be applied. Various methods can be widely applied even in the coating method and the exposure method.

続いて図５（ｄ）に示すように、薄膜作製工程において、全面に、無機材料の第２層膜４４が、０．１μｍの膜厚で作製される。これによりレジスト層４３によりマスクされていない母材４０の表面に、第２層膜４４からなる第２層パターンが形成される。なおこの第２層膜４４は、例えばスパッタリングの手法を適用してクロム、チタン、ニッケル等の金属材料、金属化合物、ＤＬＣを成膜して作製される。 Subsequently, as shown in FIG. 5D, in the thin film manufacturing process, a second layer film 44 of an inorganic material is formed on the entire surface with a film thickness of 0.1 μm. As a result, a second layer pattern composed of the second layer film 44 is formed on the surface of the base material 40 not masked by the resist layer 43. The second layer film 44 is formed by applying a metal material such as chromium, titanium, nickel, etc., a metal compound, and DLC by applying, for example, a sputtering method.

続いて図５（ｅ）に示すように、第２の凹凸形状作製工程において、第１凹凸領域４２と異なる方向（この実施形態では第１凹凸領域４２のラビング方向とは９０度の角度をなす方向である）に全面をラビングロールＲによりラビング処理し、第２層膜４４の表面に凹凸形状を作製する。その後、製造工程は、図５（ｆ）に示すように、続くレジスト除去工程において、レジスト層４３を、その上層の第２層膜４４と共に除去し、これにより２回の凹凸形状作製処理により配向膜３の領域Ａ及びＢに対応する凹凸形状を作製する。 Subsequently, as shown in FIG. 5E, in the second concavo-convex shape manufacturing step, a direction different from the first concavo-convex region 42 (in this embodiment, the rubbing direction of the first concavo-convex region 42 forms an angle of 90 degrees. The entire surface is rubbed with a rubbing roll R in a direction) to form a concavo-convex shape on the surface of the second layer film 44. Thereafter, as shown in FIG. 5 (f), in the manufacturing process, the resist layer 43 is removed together with the second layer film 44 on the upper layer in the subsequent resist removing process, whereby the alignment is performed by two uneven shape forming processes. Concave and convex shapes corresponding to the regions A and B of the film 3 are produced.

〔寸法調整処理〕
ところで基材２に適用されるＡＴＣは、水分を吸収し易く、また含水率に応じて伸縮する特徴がある。これによりパターン位相差フィルム１では、連続する右目用及び左目用の領域を所定数分だけまとめた幅（トータルピッチ）が変化し、その結果、寸法精度が劣化することが判った。なおトータルピッチが変化すると、例えば画像表示パネルの画面中央を基準にして画像表示パネルにパターン位相差フィルム１を配置した際に、画面の上下において、右目用画素及び左目用画素に対して、対応する右目用の領域Ａ及び左目用の領域Ｂを正しく割り当てることが困難になり、その結果、画面の上下でクロストークが発生することになる。ここでクロストークは、本来、右目に選択的に供給すべき右目用の画素からの出射光が左目に漏れ込んだり、これとは逆に本来、左目に選択的に供給すべき左目用の画素からの出射光が右目に漏れ込んだりする現象であり、激しくなると立体感が失われることになる。これに対してパターン位相差フィルム１は、製造工程で乾燥等の処理が種々に実行されることにより、含水率が種々に変化することになる。また製造工程に供給される基材２自体も、種々に含水率が変化する。 (Dimension adjustment processing)
By the way, ATC applied to the base material 2 has a feature that it easily absorbs moisture and expands and contracts depending on the moisture content. Thereby, in the pattern phase difference film 1, it turned out that the width | variety (total pitch) which put together the area | region for continuous right-eye and left-eye by a predetermined number changes, and as a result, dimensional accuracy deteriorates. When the total pitch changes, for example, when the pattern retardation film 1 is arranged on the image display panel with reference to the center of the screen of the image display panel, it corresponds to the right-eye pixel and the left-eye pixel at the top and bottom of the screen. Accordingly, it becomes difficult to correctly assign the right eye area A and the left eye area B, and as a result, crosstalk occurs at the top and bottom of the screen. Here, the crosstalk means that the light emitted from the right-eye pixel that should be selectively supplied to the right eye leaks into the left eye, or conversely, the left-eye pixel that should originally be selectively supplied to the left eye. This is a phenomenon in which the light emitted from the camera leaks into the right eye. On the other hand, the moisture content of the pattern retardation film 1 changes variously by performing various processes such as drying in the manufacturing process. Also, the water content of the base material 2 itself supplied to the manufacturing process varies in various ways.

図６は、配向膜作製工程１０における含水率の変化を示す図である。符号Ａ１は、紫外線硬化性樹脂の塗布の直前における測定結果であり、符号Ｂ１は、乾燥工程３４を経た直後の測定結果である。なお図２において、対応する測定箇所を符号Ａ１及びＢ１により示す。この測定は、基材２を間に挟んで光源及び受光素子を対向するように配置し、赤外線の吸光度を測定したものである。基材２は、厚みが６０〔μｍ〕であり、横軸は、複数ロールによる基材２の搬送量である。ここで赤外線は、水により吸収されることにより、吸光度は、含水率にほぼ反比例することになる。この図６によれば、乾燥工程１７の前後で、吸光度が約０．５から０．２５に変化しており、これにより乾燥工程で基材２の水分が低下したことが判る。なおここで吸光度０．５及び０．２５は、この例では、基材２における含水率２．１３％、０．６１％にそれぞれ相当する。なおこの明細書において、含水率は重量含水率である。 FIG. 6 is a diagram showing a change in moisture content in the alignment film manufacturing step 10. Reference sign A1 is a measurement result immediately before application of the ultraviolet curable resin, and reference sign B1 is a measurement result immediately after the drying step 34. In FIG. 2, the corresponding measurement points are indicated by reference signs A1 and B1. In this measurement, the light source and the light receiving element are arranged to face each other with the base material 2 interposed therebetween, and the absorbance of infrared rays is measured. The base material 2 has a thickness of 60 [μm], and the horizontal axis represents the transport amount of the base material 2 by a plurality of rolls. Here, the infrared rays are absorbed by water, so that the absorbance is almost inversely proportional to the water content. According to FIG. 6, the absorbance changed from about 0.5 to 0.25 before and after the drying step 17, indicating that the moisture of the base material 2 was reduced in the drying step. In this example, the absorbances 0.5 and 0.25 correspond to the moisture contents 2.13% and 0.61% in the base material 2, respectively. In this specification, the moisture content is a moisture content by weight.

また図７は、同様にして位相差層作製工程３０における含水率の測定結果である。符号Ｃは、中間リール２４から引き出した直後の測定結果であり、符号Ｄは、その後のプリヒート後の測定結果である。また符号Ｅは、乾燥機３５から排出された直後の測定結果であり、符号Ｆは、紫外線照射工程３６の直後の測定結果である。なお図３において、対応する測定箇所を符号Ｃ〜Ｆにより示す。各測定箇所では、基材２における幅方向の両端２箇所で吸光度を測定し、図７では、この２箇所の測定結果（それぞれＭＳ及びＧＳにより示す）をそれぞれ示すものである。またこの測定は、図６について上述した測定と同様の光学系により測定したものであり、測定値は、各測定点における平均値である。この図７によれば、位相差層作製工程３０において、含水率が種々に変化していることが判る。 FIG. 7 is a measurement result of the moisture content in the retardation layer manufacturing step 30 in the same manner. Reference symbol C is a measurement result immediately after the intermediate reel 24 is pulled out, and reference symbol D is a measurement result after the subsequent preheating. Symbol E is the measurement result immediately after being discharged from the dryer 35, and symbol F is the measurement result immediately after the ultraviolet irradiation step 36. In FIG. 3, the corresponding measurement points are indicated by symbols C to F. At each measurement location, the absorbance was measured at two locations in the width direction of the substrate 2, and FIG. 7 shows the measurement results (represented by MS and GS, respectively) at these two locations. Moreover, this measurement is measured with the same optical system as the measurement mentioned above about FIG. 6, and a measured value is an average value in each measuring point. According to FIG. 7, it can be seen that the water content changes variously in the retardation layer manufacturing step 30.

これらの測定結果を種々に検討したところ、賦型工程１９に供給する基材２の含水率を管理すれば、以降の工程において含水率が変化した場合でも、寸法の変化を一定範囲に留めることができることが判った。またこのようにして基材２の含水率を管理する場合には、賦型工程１９より得られるパターン位相差フィルム１の寸法のばらつきを一定の範囲に収め、以降の工程において、詳細に含水率を調整して寸法精度を一段と向上できることが判った。 As a result of various examinations of these measurement results, if the moisture content of the base material 2 supplied to the shaping step 19 is managed, even if the moisture content changes in the subsequent steps, the change in dimensions is kept within a certain range. I found out that Moreover, when managing the moisture content of the base material 2 in this way, variation in the dimensions of the pattern retardation film 1 obtained from the shaping step 19 is kept within a certain range, and in the subsequent steps, the moisture content is described in detail. It was found that the dimensional accuracy can be further improved by adjusting.

図８は、賦型工程１９に供給されるパターン位相差フィルム１の吸光度（図２のＢ点の測定値である）と寸法との関係を示すものである。この図８において、縦軸は、トータルピッチの測定基準値に対する偏差ΔＴＰである。また直線は、測定結果における吸光度と偏差ΔＴＰとの間の相関曲線である。この図８によれば、吸光度が０．１変化すると、トータルピッチが７０μｍ変化することが判る。ここでトータルピッチにおける７０μｍ程度の誤差は、トータルピッチが４００ｍｍ程度の場合、後工程である保護フィルム配置工程、粘着層作製工程において、基材２の搬送速度の制御により充分に調整することが可能な誤差である。 FIG. 8 shows the relationship between the absorbance (measured value at point B in FIG. 2) of the pattern retardation film 1 supplied to the shaping step 19 and dimensions. In FIG. 8, the vertical axis represents the deviation ΔTP with respect to the measurement reference value of the total pitch. The straight line is a correlation curve between the absorbance and the deviation ΔTP in the measurement result. According to FIG. 8, it can be seen that when the absorbance changes by 0.1, the total pitch changes by 70 μm. Here, an error of about 70 μm in the total pitch can be sufficiently adjusted by controlling the conveyance speed of the base material 2 in the protective film placement process and the adhesive layer manufacturing process, which are subsequent processes, when the total pitch is about 400 mm. It is a serious error.

これによりこの実施形態では、賦型工程１９に供給されるパターン位相差フィルム１の吸光度を０．２以上、０．３以下に管理し、賦型工程１９より得られるパターン位相差フィルム１の寸法のばらつきを一定の範囲に収めた上で、さらに、以降の工程において、詳細に含水率を詳細に調整して寸法精度を一段と向上する。なおここで賦型工程１９に供給されるパターン位相差フィルム１の吸光度を０．２以上、０．３以下に管理する場合、基材２の含水率は、０．９１％以下、０．３１％以上に管理することになる。 Thereby, in this embodiment, the light absorbency of the pattern phase difference film 1 supplied to the shaping | molding process 19 is managed to 0.2 or more and 0.3 or less, and the dimension of the pattern phase difference film 1 obtained from the shaping process 19 is obtained. In addition, in the subsequent steps, the moisture content is adjusted in detail to further improve the dimensional accuracy. In addition, when managing the light absorbency of the pattern phase difference film 1 supplied to the shaping process 19 here in 0.2 or more and 0.3 or less, the moisture content of the base material 2 is 0.91% or less, 0.31 It will be managed to more than%.

図９は、この含水率の管理に係る製造工程を示す図である。この図９において、図２及び図３について上述した各工程は、対応する符号を付して示す。この工程では、ダイ１３による紫外線硬化性樹脂の塗布工程１２の前に、第１の水分量測定工程５１が設けられる。ここで水分量測定工程５１は、基材２を間に挟んで対向するように光源及び受光素子を配置し、この光源及び受光素子を使用した赤外線に係る吸光度の測定により構成される。これによりこの製造工程は、ロールにより種々に変化する基材２の含水率を計測する。さらにこの工程は、水分量調整工程５２が設けられ、この水分量調整工程５２により基材２の含水率を制御する。これによりこの実施形態では、賦型直前における基材２の水分量（含水率）を制御して基材２の伸縮を管理し、パターン位相差フィルムの寸法精度を向上する。 FIG. 9 is a diagram showing a manufacturing process related to the management of the moisture content. In FIG. 9, each step described above with reference to FIGS. 2 and 3 is indicated by a corresponding reference symbol. In this step, a first moisture content measuring step 51 is provided before the ultraviolet curable resin coating step 12 by the die 13. Here, the moisture content measuring step 51 is configured by measuring the absorbance of infrared rays using a light source and a light receiving element arranged so as to face each other with the base material 2 interposed therebetween. Thereby, this manufacturing process measures the moisture content of the base material 2 which changes variously with a roll. Further, in this step, a moisture content adjusting step 52 is provided, and the moisture content of the base material 2 is controlled by the moisture content adjusting step 52. Thereby, in this embodiment, the moisture content (moisture content) of the base material 2 immediately before forming is controlled to manage the expansion and contraction of the base material 2, thereby improving the dimensional accuracy of the pattern retardation film.

より具体的に、この実施形態では、水分量測定工程５１で求められた含水率に基づいて、乾燥工程１７における基材２の搬送速度を可変することにより、乾燥工程１７から続く賦型工程１９に供給する機材２の含水率を０．３１％以上、０．９１％以下に制御する。なおこの搬送速度の可変は、水分量測定工程５１で高い水分量が計測された基材２程、乾燥工程１７における搬送速度を低下させて実行される。これによりこの実施形態では乾燥工程１７を有効に利用して基材２の水分量を調整する。 More specifically, in this embodiment, by changing the conveyance speed of the base material 2 in the drying process 17 based on the moisture content obtained in the moisture content measurement process 51, the molding process 19 that follows the drying process 17. The moisture content of the equipment 2 to be supplied to is controlled to 0.31% or more and 0.91% or less. The conveyance speed is changed by decreasing the conveyance speed in the drying step 17 as the base material 2 has a higher moisture content measured in the moisture content measurement step 51. Thereby, in this embodiment, the moisture content of the base material 2 is adjusted using the drying process 17 effectively.

さらにこの工程は、賦型工程１９に続いて第２の水分量測定工程５３が設けられ、この工程により賦型工程１９から排出された基材の水分量（含水率）を計測する。またこの計測結果に基づいて、位相差層作製工程３０、保護フィルム配置工程５４、粘着層作製工程５５における基材２の搬送速度を可変し、これによりさらに詳細に寸法精度を向上させる。ここでこの第２の水分量測定工程５３は、第1の水分量測定工程５１と同様に、基材２を間に挟んで光源及び受光素子を配置して赤外線の吸光度を測定して実行される。なお位相差層作製工程３０、保護フィルム配置工程５４、粘着層作製工程５５における基材２の搬送速度を可変にあっては、トータルピッチを目標値に近づけるために実行され、このトータルピッチは、賦型工程１９で基材２に賦型された右目用及び左目用の領域の所定数分の幅である。これによりこの工程では、賦型工程１９の直前に実行される乾燥工程における搬送速度の可変とは逆に、含水率が高い場合程、搬送速度を増加させるように搬送速度を可変して実行される。より具体的に、この工程では、含水率が大きく、乾燥により収縮の度合いが大きい場合程、乾燥に供する時間を低下させるように、搬送速度を可変して実行される。 Further, in this step, a second moisture content measurement step 53 is provided subsequent to the shaping step 19, and the moisture content (moisture content) of the base material discharged from the shaping step 19 by this step is measured. Moreover, based on this measurement result, the conveyance speed of the base material 2 in the phase difference layer preparation process 30, the protective film arrangement | positioning process 54, and the adhesion layer preparation process 55 is varied, thereby improving dimensional accuracy in detail. Here, as in the first moisture content measurement step 51, the second moisture content measurement step 53 is executed by measuring the absorbance of infrared rays by arranging the light source and the light receiving element with the base material 2 interposed therebetween. The In addition, when the conveyance speed of the base material 2 in the retardation layer production process 30, the protective film arrangement process 54, and the adhesive layer production process 55 is variable, it is executed to bring the total pitch closer to the target value. This is a width corresponding to a predetermined number of regions for the right eye and the left eye molded on the base material 2 in the molding step 19. As a result, in this step, contrary to the change in the conveyance speed in the drying step performed immediately before the shaping step 19, the conveyance speed is changed so as to increase as the moisture content increases. The More specifically, this step is performed with the conveyance speed being varied so that the moisture content is large and the degree of shrinkage due to drying is large, the time for drying is reduced.

なお位相差層作製工程３０、保護フィルム配置工程５４、粘着層作製工程５５における基材２の搬送速度の可変に代えて、これらの工程の特定工程の１つ又は複数ののみで搬送速度を可変するようにしてもよい。また第２の水分量測定工程５３は、賦型工程１９の後の、位相差層作製工程３０の直前等に設けるようにし、その後の工程で搬送速度を可変してもよい。また実用上充分にパターン位相差フィルムの寸法精度を向上できる場合、この水分量測定工程については、水分量を調整する工程の後に設けるようにして、いわゆるフィードバック制御により水分量を調整してもよい。 Instead of changing the conveyance speed of the substrate 2 in the retardation layer production process 30, the protective film arrangement process 54, and the adhesive layer production process 55, the conveyance speed can be changed only by one or more of the specific processes of these processes. You may make it do. In addition, the second moisture content measurement step 53 may be provided immediately after the shaping step 19 and immediately before the retardation layer preparation step 30, and the conveyance speed may be varied in the subsequent steps. Further, when the dimensional accuracy of the pattern retardation film can be improved sufficiently practically, the moisture amount measurement step may be provided after the step of adjusting the moisture amount, and the moisture amount may be adjusted by so-called feedback control. .

以上の構成によれば、配向膜作製工程に供給する基材の含水率を制御する水分量調整工程を備えることにより、含水率により伸縮する基材に関して、含水率を一定範囲に収めた状態で金型に形成された凹凸形状を転写することができ、これによりパターン位相差フィルムの寸法精度を向上することができる。 According to the above configuration, with the moisture content adjusting step for controlling the moisture content of the substrate to be supplied to the alignment film manufacturing process, the moisture content is kept within a certain range with respect to the substrate that expands and contracts due to the moisture content. The concavo-convex shape formed on the mold can be transferred, whereby the dimensional accuracy of the pattern retardation film can be improved.

またさらにこの基材の含水率を０，３１％以上、０．９１％以下に制御することにより、実用上充分にパターン位相差フィルムの寸法精度を向上することができる。 Furthermore, the dimensional accuracy of the pattern retardation film can be sufficiently improved practically by controlling the water content of the base material to 0.31% or more and 0.91% or less.

またさらに乾燥工程における基材の搬送速度の制御により基材の含水率を制御することにより、乾燥工程を有効に利用して水分量調整工程を設けることができる。 Furthermore, by controlling the moisture content of the base material by controlling the conveyance speed of the base material in the drying process, the moisture content adjusting process can be provided by effectively using the drying process.

またさらに第１の水分量測定工程の測定結果に基づいて、基材の含水率を制御することにより、製造工程に供給される基材の含水率が種々に変化する場合でも、この変化に対応して含水率を制御することができ、一段と精度を向上することができる。 Furthermore, by controlling the moisture content of the base material based on the measurement result of the first moisture content measurement process, even if the moisture content of the base material supplied to the manufacturing process changes variously, this change can be accommodated. Thus, the moisture content can be controlled, and the accuracy can be further improved.

またさらに第２の水分量調整工程の測定結果に基づいて、位相差層作製工程、保護フィルム配置工程、粘着層作製工程における基材の搬送速度を制御することにより、さらに詳細に含水率を調整して寸法精度を向上することができる。 Further, based on the measurement result of the second moisture content adjustment step, the water content is adjusted in more detail by controlling the conveyance speed of the base material in the retardation layer preparation step, the protective film placement step, and the adhesive layer preparation step. Thus, the dimensional accuracy can be improved.

〔第２実施形態〕
この実施形態では、製造工程において、位相差層４に適用する液晶材料を切り換えて、２種類のパターン位相差フィルムを生産する。なおこの実施形態では、この液晶材料に関する構成が異なる点を除いて、第１実施形態と同一であることにより、以下においては、適宜、第１実施形態の図面を流用して説明する。 [Second Embodiment]
In this embodiment, in the manufacturing process, the liquid crystal material applied to the retardation layer 4 is switched to produce two types of pattern retardation films. Note that this embodiment is the same as the first embodiment except that the configuration relating to the liquid crystal material is different, so that the following description will be made by appropriately using the drawings of the first embodiment.

ここでこの切り換えに係る液晶材料は、相転移点の異なる第１及び第２の液晶材料である。これら２種類の液晶のうちの第１の液晶材料は、この２種類の液晶のうちで相転移点が相対的に高い側の液晶材料であり、第２の液晶材料に比して相対的に分子量の大きな液晶材料である。また第２の液晶材料は、これとは逆に第１の液晶材料に比して相対的に分子量が小さな液晶材料であり、例えば商品名：ｌｉｃｒｉｖｕｅ（登録商標）ＲＭＳ０３−０１３Ｃ，メルク社製である。従ってこの実施形態では、第１の液晶材料によりパターン位相差フィルム１を生産する場合には、この相転移点が異なる分だけ、第２の液晶材料によりパターン位相差フィルム１を作製する場合に比して、位相差層作製工程３０における基材２の搬送速度を低下させる。 Here, the liquid crystal materials related to this switching are the first and second liquid crystal materials having different phase transition points. Of these two types of liquid crystals, the first liquid crystal material is a liquid crystal material having a relatively high phase transition point of the two types of liquid crystals, and is relatively in comparison with the second liquid crystal material. It is a liquid crystal material with a large molecular weight. On the contrary, the second liquid crystal material is a liquid crystal material having a relatively small molecular weight as compared with the first liquid crystal material. For example, the trade name: licrive (registered trademark) RMS03-013C, manufactured by Merck & Co., Inc. is there. Therefore, in this embodiment, when the pattern retardation film 1 is produced from the first liquid crystal material, the amount of the phase transition point is different from that in the case where the pattern retardation film 1 is produced from the second liquid crystal material. And the conveyance speed of the base material 2 in the phase difference layer preparation process 30 is reduced.

ところでこのように搬送速度を低下させると、その分、基材の含水率が低下し、トータルピッチが小さくなる。そこでこの実施形態では、第１実施形態と同様に、配向膜作製工程に供給する基材の含水率を制御することを前提に、第１及び第２の液晶材料で、ロール版２を交換し、第１の液晶材料でこのトータルピッチが低下する分だけ、領域ＡＲＡ、ＡＲＢが幅広のロール版２０を使用して第１液晶材料によりパターン位相差フィルム１を作製する。また第１の実施形態と同様に、位相差層作製工程以降の含水率の制御により最終的な寸法精度を確保する。 By the way, when the conveyance speed is reduced in this way, the moisture content of the base material is reduced accordingly, and the total pitch is reduced. Therefore, in this embodiment, as in the first embodiment, the roll plate 2 is replaced with the first and second liquid crystal materials on the premise that the moisture content of the base material supplied to the alignment film manufacturing process is controlled. The pattern retardation film 1 is produced from the first liquid crystal material using the roll plate 20 having the wide areas ARA and ARB corresponding to the reduction of the total pitch of the first liquid crystal material. Similarly to the first embodiment, the final dimensional accuracy is ensured by controlling the moisture content after the retardation layer manufacturing process.

この実施形態では、配向膜作製工程に供給する基材の含水率を制御することを前提にした上で、相転移点の異なる液晶材料でロール版を交換することにより、製造工程の管理を簡略化して、高い精度によりパターン位相差フィルムを生産することができる。 In this embodiment, management of the manufacturing process is simplified by replacing the roll plate with a liquid crystal material having a different phase transition point on the premise that the moisture content of the substrate supplied to the alignment film manufacturing process is controlled. Therefore, a pattern retardation film can be produced with high accuracy.

〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。 [Other Embodiments]
As mentioned above, although the specific structure suitable for implementation of this invention was explained in full detail, this invention can change the structure of the above-mentioned embodiment variously in the range which does not deviate from the meaning of this invention.

すなわち上述の実施形態では、紫外線硬化性樹脂の塗布工程１２の前に、第１の水分量測定工程５１を設ける場合について述べたが、本発明はこれに限らず、要は乾燥前の段階で含水量を測定することができればよく、実用上充分な測定精度を確保できる場合には、紫外線硬化性樹脂の塗布工程の後で、基材の含水率を測定しても良く、またこの塗布工程の前後で測定して測定結果を統計的に処理するようにしてもよい。 That is, in the above-described embodiment, the case where the first moisture content measurement step 51 is provided before the application step 12 of the ultraviolet curable resin has been described. However, the present invention is not limited to this, and the main point is the stage before drying. It is sufficient if the moisture content can be measured, and if the practically sufficient measurement accuracy can be ensured, the moisture content of the substrate may be measured after the UV curable resin coating step. The measurement result may be statistically processed by measuring before and after.

また上述の実施形態では、乾燥工程における搬送速度を可変することにより、賦型工程直前の含水率を管理する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、乾燥工程の温度を可変するようにしてもよい。 In the above-described embodiment, the case where the moisture content immediately before the shaping process is managed by changing the conveyance speed in the drying process has been described. However, the present invention is not limited to this, and the temperature of the drying process is variable. It may be.

また上述の実施形態では、リアルタイムにより水分量を測定して含水率を管理する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、実用上充分に含水率を管理できる場合には、サンプリングにより測定してもよい。 In the above-described embodiment, the case where the moisture content is managed by measuring the water content in real time has been described. However, the present invention is not limited to this, and when the moisture content can be managed practically, measurement is performed by sampling. May be.

また上述の実施形態では、液晶表示パネルの使用を前提とする場合について述べたが、本発明はこれに限らず、有機ＥＬパネル、プラズマディスプレイパネルの使用を前提とする場合にも広く適用することができ、また偏光フィルタを一体に設ける場合にも広く適用することができる。 In the above-described embodiment, the case where the use of the liquid crystal display panel is assumed has been described. However, the present invention is not limited to this, and the present invention can be widely applied to the case where the use of an organic EL panel or a plasma display panel is assumed. In addition, the present invention can be widely applied to the case where the polarizing filter is provided integrally.

１パターン位相差フィルム
２基材
３配向膜
４位相差層
５紫外線硬化性樹脂
６保護フィルム
７粘着層
８セパレータフィルム
１０、３０製造工程
１１供給リール
１９Ａ、１９Ｂ、２４Ａ、２４Ｂ、３６Ａ、３６Ｂ、３７ローラ
１２塗布工程
１２、３３ダイ
１７、３４乾燥工程
１８、３５乾燥機
１９賦型工程
２０ロール版
２３、３８紫外線照射装置
２４中間リール
３０製造工程
３１塗布工程
３６紫外線照射工程
４０母材
４２第１凹凸領域
４３レジスト層
４４第２層膜
５１、５３水分量測定工程
５２水分量調整工程
５４保護フィルム配置工程
５５粘着層作製工程 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Pattern phase difference film 2 Base material 3 Orientation film 4 Phase difference layer 5 UV curable resin 6 Protective film 7 Adhesion layer 8 Separator film 10, 30 Manufacturing process 11 Supply reel 19A, 19B, 24A, 24B, 36A, 36B, 37 Roller 12 Coating process 12, 33 Die 17, 34 Drying process 18, 35 Dryer 19 Molding process 20 Roll plate 23, 38 UV irradiation device 24 Intermediate reel 30 Manufacturing process 31 Coating process 36 UV irradiation process 40 Base material 42 1st Uneven region 43 Resist layer 44 Second layer film 51, 53 Water content measurement step 52 Water content adjustment step 54 Protective film placement step 55 Adhesive layer preparation step

Claims

In the method of manufacturing a patterned retardation film in which an alignment film and a retardation layer are sequentially produced on one surface of a substrate made of a transparent film,
An application step of an ultraviolet curable resin for applying an ultraviolet curable resin to one surface of the substrate;
A drying step of drying the ultraviolet curable resin applied to the substrate;
A molding step for producing the alignment film by transferring the concavo-convex shape produced in the die by pressing the ultraviolet curable resin dried in the drying step onto the die and curing the resin;
A retardation layer producing step for producing the retardation layer,
Furthermore, the manufacturing method of a pattern phase difference film provided with the moisture content adjustment process of controlling the moisture content of the said base material supplied to the said retardation layer preparation process.

The moisture content adjusting step
The method for producing a patterned retardation film according to claim 1, wherein the moisture content of the base material supplied to the shaping step is controlled to be 0.31% or more and 0.91% or less.

The moisture content adjusting step
The manufacturing method of the pattern phase difference film of Claim 1 or Claim 2 which controls the moisture content of the said base material by control of the conveyance speed of the said base material in the said drying process.

Before and / or after the application step of the ultraviolet curable resin, the first moisture content measurement step of measuring the moisture content of the substrate,
The moisture content adjusting step
The manufacturing method of the pattern phase difference film of Claim 1, Claim 2, or Claim 3 which controls the moisture content of the said base material based on the measurement result of the said moisture content measurement process.

A protective film disposing step of disposing a protective film on the retardation layer;
A pressure-sensitive adhesive layer producing step of producing a pressure-sensitive adhesive layer on the other surface of the substrate;
A second moisture content measurement step for measuring the moisture content of the substrate after the shaping step;
The conveyance speed of the base material in the protective film placement step and / or the adhesive layer preparation step is controlled based on the measurement result of the second moisture content measurement step. Item 5. A method for producing a patterned retardation film according to Item 4.