JP2013242189A - 濃度測定センサ及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】使用時に、血液の赤色を視認したことにより補色残像が発生することを低減することが可能な濃度測定センサを提供する。
【解決手段】濃度測定センサ１０は、血液中の物質の濃度を測定するためのものであり、表面１２ａが絶縁性をもつ絶縁面となる絶縁性基材１２と、絶縁性基材１２の表面１２ａ上に設けられた導電性パターン３０とを備えている。絶縁性基材１２の裏面１２ｂに、絶縁性基材１２を支持する支持基材１１が配設されている。絶縁性基材１２と支持基材１１との間に、血液の補色に相当する色を有する補色残像低減着色層２４が設けられている。
【選択図】図１

Description

本発明は、物質の濃度を測定するための濃度測定センサ及びその製造方法に関する。

血液等の生体試料中の特定成分について迅速かつ簡便に濃度等を測定する方法として、電気化学的検出手段によるセンサ（濃度測定センサ）が実用化されている。このようなセンサの一例として、電気化学的に血液中のグルコース濃度を定量化するグルコースセンサがある。

グルコースセンサでは、基材と、基材上に設けられた作用電極と対電極を含む電極系と、酵素及び電子受容体とを基本構成として備えている。酵素は血液中のグルコースを選択的に酸化してグルコン酸を生成し、また同時に電子受容体を還元して還元体を生じる。この還元体に外部デバイスから電極系へ一定の電圧を印加することで還元体が再び酸化され、その際に電流が発生する。この電流値が血液中のグルコース濃度に依存することから、血液中のグルコースを定量化して測定することができる。

従来、グルコースセンサを製造する時、絶縁性基材に銀を含むペーストをスクリーン印刷してリード配線を形成し、リード配線の先端にカーボンを主成分とするペーストをスクリーン印刷して塗布して作用電極と対電極を含む電極系を形成している（特許文献１参照）。

特開２００６−２７５８１９号

ところで、従来のグルコースセンサにおいては、絶縁性基材として白色の樹脂が用いられることが多い。しかしながら、従来のグルコースセンサにおいては、使用者が白色の絶縁性基材に付着した血液を目視にて確認し、その後グルコースセンサから目を離して他の白い部分（例えば白い壁面）を見たとき、赤色の補色である青色や緑色が視覚に残像（補色残像）として現れるという課題があった。

本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、血液の赤色を見たことによる補色残像の発生を低減することが可能な、濃度測定センサ及びその製造方法を提供することを目的とする。

本発明は、血液中の物質の濃度を測定するための濃度測定センサにおいて、少なくとも一方の面が絶縁性をもつ絶縁面となる絶縁性基材と、前記絶縁性基材の前記絶縁面上に設けられた導電性パターンと、前記絶縁性基材の他方の面に配設され、前記絶縁性基材を支持する支持基材とを備え、前記導電性パターン上、前記導電性パターンと前記絶縁性基材との間、前記絶縁性基材と前記支持基材との間、または前記支持基材の裏面に、血液の補色に相当する色を有する補色残像低減着色層を設けたことを特徴とする濃度測定センサである。

本発明は、血液中の物質の濃度を測定するための濃度測定センサにおいて、少なくとも一方の面が絶縁性をもつ絶縁面となる絶縁性基材と、前記絶縁性基材の前記絶縁面上に設けられた導電性パターンとを備え、前記導電性パターン上、前記導電性パターンと前記絶縁性基材との間、または前記絶縁性基材の他方の面に、血液の補色に相当する色を有する補色残像低減着色層を設けたことを特徴とする濃度測定センサである。

本発明は、前記補色残像低減着色層は、前記導電性パターン上に設けられた絶縁層又はキャビティからなることを特徴とする濃度測定センサである。

本発明は、血液中の物質の濃度を測定するための濃度測定センサにおいて、少なくとも一方の面が絶縁性をもつ絶縁面となる絶縁性基材と、前記絶縁性基材の前記絶縁面上に設けられた導電性パターンと、前記絶縁性基材の他方の面に配設され、前記絶縁性基材を支持する支持基材とを備え、前記絶縁性基材自体または前記支持基材自体が、血液の補色に相当する色を有する補色残像低減着色層となっていることを特徴とする濃度測定センサである。

本発明は、血液中の物質の濃度を測定するための濃度測定センサにおいて、少なくとも一方の面が絶縁性をもつ絶縁面となる絶縁性基材と、前記絶縁性基材の前記絶縁面上に設けられた導電性パターンとを備え、前記絶縁性基材自体が、血液の補色に相当する色を有する補色残像低減着色層となっていることを特徴とする濃度測定センサである。

本発明は、血液中の物質の濃度を測定するための濃度測定センサの製造方法であって、少なくとも一方の面が絶縁性をもつ絶縁面となる帯状の絶縁性基材を供給する絶縁性基材供給工程と、前記絶縁性基材の絶縁面に導電性パターンを形成する導電性パターン形成工程と、前記絶縁性基材の他方の面に、前記絶縁性基材を支持する支持基材を配設する支持基材配設工程と、前記導電性パターン上、前記導電性パターンと前記絶縁性基材との間、前記絶縁性基材と前記支持基材との間、または前記支持基材の裏面に、血液の補色に相当する色を有する補色残像低減着色層を設ける着色層形成工程とを備えたことを特徴とする濃度測定センサの製造方法である。

本発明は、血液中の物質の濃度を測定するための濃度測定センサの製造方法であって、少なくとも一方の面が絶縁性をもつ絶縁面となる帯状の絶縁性基材を供給する絶縁性基材供給工程と、前記絶縁性基材の絶縁面に導電性パターンを形成する導電性パターン形成工程と、前記導電性パターン上、前記導電性パターンと前記絶縁性基材との間、または前記絶縁性基材の他方の面に、血液の補色に相当する色を有する補色残像低減着色層を設ける着色層形成工程とを備えたことを特徴とする濃度測定センサの製造方法である。

本発明は、前記補色残像低減着色層は、前記導電性パターン上に設けられた絶縁層又はキャビティからなることを特徴とする濃度測定センサの製造方法である。

本発明は、前記着色層形成工程において、前記補色残像低減着色層と同時にアランメントマークが形成されることを特徴とする濃度測定センサの製造方法である。

本発明は、血液中の物質の濃度を測定するための濃度測定センサの製造方法であって、少なくとも一方の面が絶縁性をもつ絶縁面となる帯状の絶縁性基材を供給する絶縁性基材供給工程と、前記絶縁性基材の絶縁面に導電性パターンを形成する導電性パターン形成工程と、前記絶縁性基材の他方の面に、前記絶縁性基材を支持する支持基材を配設する支持基材配設工程とを備え、前記絶縁性基材自体または前記支持基材自体が、血液の補色に相当する色を有する補色残像低減着色層となっていることを特徴とする濃度測定センサの製造方法である。

本発明は、血液中の物質の濃度を測定するための濃度測定センサの製造方法であって、少なくとも一方の面が絶縁性をもつ絶縁面となる帯状の絶縁性基材を供給する絶縁性基材供給工程と、前記絶縁性基材の絶縁面に導電性パターンを形成する導電性パターン形成工程とを備え、前記絶縁性基材自体が、血液の補色に相当する色を有する補色残像低減着色層となっていることを特徴とする濃度測定センサの製造方法である。

本発明によれば、濃度測定センサを使用する際、血液の赤色を視認したことにより補色残像が発生することを低減することができる。

図１は本発明による濃度測定センサを示す分解斜視図。 図２は本発明による濃度測定センサの変形例を示す分解斜視図。 図３は本発明による濃度測定センサの変形例を示す分解斜視図。 図４は本発明による濃度測定センサの変形例を示す分解斜視図。 図５は濃度測定センサと外部デバイスとを示す斜視図。 図６は本発明による濃度測定センサの製造方法を示すフロー図。 図７は濃度測定センサの製造装置を示す概略図。 図８（ａ）（ｂ）は濃度測定センサの製造装置を示す概略図。 図９（ａ）は絶縁性基材供給工程における絶縁性基材を示す平面図、図９（ｂ）は図９（ａ）のIX−IX線断面図。 図１０（ａ）は水溶性樹脂層形成工程における絶縁性基材を示す平面図、図１０（ｂ）は図１０（ａ）のＸ−Ｘ線断面図。 図１１（ａ）は導電層形成工程における絶縁性基材を示す平面図、図１１（ｂ）は図１１（ａ）のXI−XI線断面図。 図１２（ａ）は水溶性樹脂層除去工程における絶縁性基材を示す平面図、図１２（ｂ）は図１２（ａ）のXII−XII線断面図。 図１３（ａ）は支持基材配設工程における支持基材および絶縁性基材を示す平面図、図１３（ｂ）は図１３（ａ）のXIII−XIII線断面図。 図１４（ａ）は枚葉基材作製工程における枚葉基材を示す平面図、図１４（ｂ）は図１４（ａ）のXIV−XIV線断面図。 図１５（ａ）は絶縁層配設工程における枚葉基材を示す平面図、図１５（ｂ）は図１５（ａ）のXV−XV線断面図。 図１６（ａ）はキャビティ配設工程における枚葉基材を示す平面図、図１６（ｂ）は図１６（ａ）のXVI−XVI線断面図。 図１７（ａ）は試薬層配設工程における枚葉基材を示す平面図、図１７（ｂ）は図１７（ａ）のXVII−XVII線断面図。 図１８（ａ）はカバー配設工程における枚葉基材を示す平面図、図１８（ｂ）は図１８（ａ）のXVIII−XVIII線断面図。 図１９（ａ）は絶縁層とともに第１のアライメントマークが設けられた枚葉基材を示す部分拡大平面図、図１９（ｂ）はキャビティとともに第２のアライメントマークが設けられた枚葉基材を示す部分拡大平面図。

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図面は例示であり、説明のために特徴部を誇張することがあり、実物とは異なる場合がある。また、技術思想を逸脱しない範囲において適宜変更して実施することが可能である。なお、以下の各図において、同一部分には同一の符号を付しており、一部詳細な説明を省略する場合がある。

図１乃至図１９は本発明による濃度測定センサおよびその製造方法の実施の形態を示す図である。

まず図１により濃度測定センサの一実施の形態について説明する。図１に示すように、濃度測定センサ１０は血液中の物質の濃度を測定するものであり、例えば血液中のグルコースの濃度を測定することにより、血糖値を検出するものである。

このような濃度測定センサ１０は、表面１１ａと裏面１１ｂとを有する支持基材１１と、支持基材１１の表面１１ａ上に設けられた絶縁性基材１２と、絶縁性基材１２の表面（一方の面）１２ａ上に設けられた一対の配線部１３ａ、１３ｂとを備えている。

このうち、絶縁性基材１２により、表面１２ａが絶縁面となる基材が構成される。また絶縁性基材１２は、その裏面（他方の面）１２ｂ側において、剛性をもつ支持基材１１により保持されている。

また絶縁性基材１２と支持基材１１との間に、血液の補色に相当する色を有し、使用者に補色残像が生じることを低減する、補色残像低減着色層２４が設けられている。

また、一方の配線部１３ａの一端に作用電極１４ａが設けられ、他方の配線部１３ｂの一端に対電極１４ｂが設けられている。これら作用電極１４ａと対電極１４ｂとにより、被測定溶液（血液）が接触する電極系１４が構成されている。

さらに一対の配線部１３ａ、１３ｂの他端には、各々接続端子１５ａ、１５ｂが設けられている。

この接続端子１５ａ、１５ｂは、濃度測定センサ１０を後述のように、外部デバイス２５の挿入口２６内に挿入した際、外部デバイス２５側の接続部（図示せず）に接続される（図５）。

なお、一対の配線部１３ａ、１３ｂと、作用電極１４ａおよび対電極１４ｂと、一対の接続端子１５ａ、１５ｂとにより、導電性パターン３０が構成されている。

また導電性パターン３０を覆って絶縁層１６が設けられている。この絶縁層１６は、作用電極１４ａ、対電極１４ｂおよび一対の接続端子１５ａ、１５ｂを外方へ露出するよう一対の配線部１３ａ、１３ｂを覆っている。

また絶縁層１６上に、絶縁性材料からなり、外部からの被測定対象となる血液を作用電極１４ａおよび対電極１４ｂへ導く吸引口１７ａを有するキャビティ１７が設けられている。さらにキャビティ１７上には絶縁性材料からなるカバー１９が設けられ、キャビティ１７とカバー１９とによって、グルコース酸化酵素を含む試薬層１８が保持されている。

なお、補色残像低減着色層２４が設けられる場所は、絶縁性基材１２と支持基材１１との間に限られない。

例えば、補色残像低減着色層２４は、導電性パターン３０上であって、キャビティ１７と絶縁層１６との間に設けられていても良く（図１の符号２４Ａ）、導電性パターン３０上であって、絶縁層１６と導電性パターン３０との間に設けられていても良い（図１の符号２４Ｂ）。

また、補色残像低減着色層２４は、導電性パターン３０と絶縁性基材１２との間に設けられていても良く（図１の符号２４Ｃ）、または支持基材１１の裏面１１ｂに設けられていてもよい（図１の符号２４Ｄ）。

あるいは、補色残像低減着色層２４は、上述した箇所のうちの複数箇所に設けられていても良い。

また、補色残像低減着色層２４は、必ずしも独立した層として構成されていなくても良い。図２に示すように、絶縁性基材１２自体または支持基材１１自体が、血液の補色に相当する色を有する補色残像低減着色層２４となっていてもよい。あるいは、絶縁性基材１２および支持基材１１の両方が、補色残像低減着色層２４からなっていてもよい。

なお、絶縁性基材１２自体が適度な剛性や強度を有する場合には、支持基材１１を設けなくてもよい。この場合、図３に示すように、補色残像低減着色層２４は絶縁性基材１２の裏面１２ｂに設けられていてもよいが、これに限られるものではない。

例えば、補色残像低減着色層２４は導電性パターン３０上であって、キャビティ１７と絶縁層１６との間に設けられていても良く（図３の符号２４Ｅ）、あるいは絶縁層１６と導電性パターン３０との間に設けられていても良い（図３の符号２４Ｆ）。

また、補色残像低減着色層２４は、導電性パターン３０と絶縁性基材１２との間に設けられていても良い（図３の符号２４Ｇ）。

さらに、図４に示すように、支持基材１１を設けない場合においても、絶縁性基材１２自体が補色残像低減着色層２４となっていてもよい。

なお、図１乃至図４において、補色残像低減着色層２４は、導電性パターン３０上に設けられた絶縁層１６またはキャビティ１７からなっていても良い。すなわち、絶縁層１６自体またはキャビティ１７自体が、血液の補色に相当する色を有していても良い。

上記において、支持基材１１、絶縁性基材１２、絶縁層１６またはキャビティ１７自体が補色残像低減着色層２４となっている場合、別途補色残像低減着色層２４を形成する工程を設ける必要がないので、濃度測定センサ１０の製造工程を簡略化することができる。

次に各部の構成部材について説明する。

支持基材１１
支持基材１１は、ロール・ツー・ロール（Roll to Roll）方式に適用できるよう絶縁性樹脂を用いることが好ましい。支持基材１１は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリスチレン（ＰＳ）樹脂、ポリプロピレン（ＰＰ）樹脂等の絶縁性樹脂からなり、なかでもより好適にはＰＥＴ製となっている。

支持基材１１は、絶縁性基材１２を補強することができ、取扱い時に自重で折れたりしない程度の剛性があればよい。また支持基材１１の厚さは、例えば１００μｍ以上かつ１ｍｍ未満の範囲としてもよい。なお、支持基材１１は、複数の基材を貼合わせた構成からなっていても良い。

絶縁性基材１２
絶縁性基材１２は、導電性パターン３０を支持する基材であり、少なくとも導電性パターン３０が配置される表面１２ａは絶縁面となっている。絶縁性基材１２は、ロール・ツー・ロール方式に適用できるよう絶縁性樹脂を用いることが好ましい。具体的には、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリスチレン（ＰＳ）樹脂、ポリプロピレン（ＰＰ）樹脂等のフィルムを好適に用いることができる。

絶縁性基材１２の厚さは、例えば１０μｍ以上かつ５０μｍ以下の範囲とすることが好ましい。なお、絶縁性基材１２と支持基材１１との熱膨張係数を合わせることが好ましく、とりわけ絶縁性基材１２と支持基材１１とを同一の材料から構成するとよい。

なお、支持基材１１自体または絶縁性基材１２自体を補色残像低減着色層２４とする場合（図２および図４）を除き、補色残像低減着色層２４を外部から視認できるよう、支持基材１１および絶縁性基材１２が透明な樹脂からなっていることが好ましい。この場合、支持基材１１および絶縁性基材１２として高価な着色樹脂を用いる必要がないので、濃度測定センサ１０の製造コストを低減することができる。

導電性パターン３０
導電性パターン３０は、導電性をもつものであればその形状、本数、材料、構成について特に限定はなく、例えばＡｇ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、ＴａまたはＣｕから選択される金属材料を含んでいても良い。導電性パターン３０は、形成方法に応じて、例えば１０ｎｍ〜２０μｍの範囲の厚みとするとよい。なお、真空成膜法により導電性パターン３０を形成する場合には、その厚みを１０ｎｍ〜２００ｎｍ程度とすることが好ましい。

補色残像低減着色層２４
補色残像低減着色層２４は、血液の補色に相当する色を有する層であれば良い。補色残像低減着色層２４が独立した層として構成されている場合、補色残像低減着色層２４としては、例えばアンスラキノン系レッド・イエロー、ポリアゾ系イエロー、ベンズイミダゾロン系 イエロー・オレンジ、銅フタロシアニンブルー、銅フタロシアニングリーン、フタロシアニンブルーなどの顔料等の着色プライマーを用いることができる。血液の補色に相当する色とは緑色乃至青色であり、より詳細には、マンセル色相環で黄緑から青紫の範囲のうち、緑、青緑、青を含む範囲をいう。

なお、支持基材１１、絶縁性基材１２、絶縁層１６またはキャビティ１７自体が補色残像低減着色層２４となっている場合、予め血液の補色に相当する色に着色された支持基材１１、絶縁性基材１２、絶縁層１６またはキャビティ１７が用いられる。

絶縁層１６
絶縁層１６は例えばアクリルオリゴマーからなる非水溶性のレジスト樹脂層からなり、一対の配線部１３ａ、１３ｂを覆ってパターン状に設けられている。なお、絶縁層１６自体を補色残像低減着色層２４とする場合を除き、補色残像低減着色層２４を外部から視認できるよう、絶縁層１６が透明な樹脂からなっていることが好ましい。

試薬層１８
試薬層１８は酵素と電子受容体を含み、本実施の形態では酵素としてグルコース酸化還元酵素を含んでおり、血液中のグルコースの濃度を測定することができる。しかしながら試薬層１８はグルコース酸化酵素以外の酵素を含んでいてもよい。

試薬層１８はグルコース酸化酵素以外の酵素、例えばコレステロールセンサ、アルコールセンサ、スクロールセンサ、乳酸センサ、フルクトースセンサとして機能する酵素を含んでいてもよい。この場合、各センサに用いる酵素としては、コレステロールエステラーゼ、コレステロールオキシダーゼ、アルコールオキシダーゼ、乳酸オキシダーゼ、フルクトースデヒドロゲナーゼ、キサンチンオキシダーゼ、アミノ酸オキシダーゼ等の反応系に合ったものを適宜用いることができる。

キャビティ１７およびカバー１９
キャビティ１７およびカバー１９は、絶縁性基材１２と同様の材料から形成することができ、キャビティ１７およびカバー１９の厚みは各々１００μｍ以上３００μｍ以下および５０μｍ以上１００μｍ以下となっている。なお、カバー１９は、透明な樹脂からなっていることが好ましい。また、キャビティ１７自体を補色残像低減着色層２４とする場合を除き、補色残像低減着色層２４を外部から視認できるよう、キャビティ１７が透明な樹脂からなっていることが好ましい。

次に本実施の形態による濃度測定センサの製造方法について、図６乃至図１８を用いて説明する。図６は濃度測定センサの製造方法を示すフロー図であり、図７および図８は濃度測定センサの製造装置を示す概略図であり、図９乃至図１８は、濃度測定センサの製造方法の各工程における絶縁性基材１２を示す平面図及び断面図である。なお、以下において、補色残像低減着色層２４が絶縁性基材１２と支持基材１１との間に設けられる場合を例にとって説明する。

まず絶縁性基材供給ロール４１（図７）から帯状の絶縁性基材１２が連続して供給される（絶縁性基材供給工程）（図９（ａ）（ｂ））。

次に絶縁性基材１２は、水溶性樹脂層形成部４２（図７）に搬送される。この水溶性樹脂層形成部４２において、絶縁性基材１２の絶縁性をもつ表面（絶縁面）１２ａ上にパターン状に水溶性樹脂が塗布されて、パターン状の水溶性樹脂層３２が形成される（水溶性樹脂層形成工程）（図１０（ａ）（ｂ））。

この場合、水溶性樹脂層３２は、各導電性パターン３０以外の部分に対応する形状を有している。換言すれば、導電性パターン３０に対応する部分には水溶性樹脂層３２が設けられず、絶縁性基材１２が露出している。

なお、水溶性樹脂層３２は、例えば水溶性ビニル樹脂からなるリフトオフ材料からなり、その厚みは例えば１μｍ〜１０μｍとすることができる。

次に絶縁性基材１２は、導電層形成部４３（図７）に搬送される。この導電層形成部４３において、水溶性樹脂層３２上および水溶性樹脂層３２から露出する絶縁性基材１２上に、導電層３３が形成される（導電層形成工程）（図１１（ａ）（ｂ））。

この導電層３３は、水溶性樹脂層３２上および水溶性樹脂層３２から露出する絶縁性基材１２上の略全面に渡って設けられることが好ましい。

導電層３３は、導電性パターン３０を構成する導電性材料からなり、例えばＡｇ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、ＴａまたはＣｕから選択される金属材料を含んでいても良い。また導電層３３の厚みは例えば１０ｎｍ〜２０μｍとすることができる。

なお、導電層３３を設ける方法としては、例えば真空蒸着法、スパッタリング法等の真空成膜法を挙げることができる。このように真空成膜法を用いた場合、導電層３３を薄膜で形成することができ、材料コストを低減することができる。また、絶縁性基材供給ロール４１から繰り出される長尺の絶縁性基材１２に対して導電層３３を高速で形成することができる。

次いで、絶縁性基材１２は、水溶性樹脂層除去部４４（図７）に搬送される。この水溶性樹脂層除去部４４において、水溶性樹脂層３２が水によって除去され、水溶性樹脂層３２上の導電層３３が選択的に除去される。これにより、絶縁性基材１２上に、導電層３３の一部からなる複数の導電性パターン３０が形成される（水溶性樹脂層除去工程）（図１２（ａ）（ｂ））。なお図１２（ａ）において、６組の導電性パターン３０が示されている。

この場合、図７に示すように水溶性樹脂層除去部４４のノズル４４ａから導電層３３上にシャワー状の水を噴出することにより、導電層３３中に水を浸透させ、水溶性樹脂層３２を除去しても良い。あるいは、絶縁性基材１２ごと水溶性樹脂層３２を水中に浸漬させることにより、水溶性樹脂層３２を除去しても良い。

このように水溶性樹脂層形成工程、導電層形成工程および水溶性樹脂層除去工程を順次経ることにより、絶縁性基材１２の表面１２ａに、複数の導電性パターン３０が形成される（導電性パターン形成工程）。

なお、導電性パターン形成工程としてはこれに限られるものではなく、例えば絶縁性基材供給工程の後、グラビア印刷などの印刷法により、絶縁性基材１２の表面１２ａに複数の導電性パターン３０を形成しても良い。

続いて、絶縁性基材１２は、膜厚測定部４５（図７）に搬送される。膜厚測定部４５は、例えば透過型の光計測装置からなっている。この膜厚測定部４５において、絶縁性基材１２上に形成された少なくとも１つの導電性パターン３０に対して光が照射され、その透過光を用いて導電性パターン３０の厚さが測定される（膜厚測定工程）。これにより導電性パターン３０の厚さが規定の範囲内にあるか否かを確認することができる。

上述したように、絶縁性基材１２の厚さは例えば１０μｍ以上かつ５０μｍ以下の範囲とされている。このように絶縁性基材１２の厚さが薄くなっていることにより、光の透過性を高めることができ、膜厚測定部４５において膜厚測定を正確に行うことができる。

また、補色残像低減着色層２４を形成するよりも前に導電性パターン３０の厚さを測定するので、補色残像低減着色層２４の影響によって膜厚測定の精度が低下することを防止することができる。

その後、絶縁性基材１２は中間ロール４９に巻き取られる。

次に、絶縁性基材１２は中間ロール４９から巻き出され、支持基材配設部４６（図８（ａ））に向けて搬送される。

また、支持基材１１が支持基材供給ロール４７から巻き出され、着色層形成部５５（図８（ａ））に搬送される。この着色層形成部５５において、支持基材１１の表面１１ａに例えば着色プライマーが塗布され、補色残像低減着色層２４が形成される（着色層形成工程）。補色残像低減着色層２４が形成された支持基材１１は、支持基材配設部４６に向けて搬送される。

なお着色プライマーを塗布する方法としては、印刷法、例えばグラビア印刷法を用いることができる。

その後、支持基材配設部４６において、絶縁性基材１２の裏面１２ｂに、補色残像低減着色層２４が形成された支持基材１１が配設される（支持基材配設工程）（図１３（ａ）（ｂ））。具体的には、例えば接着剤によって支持基材１１が絶縁性基材１２の裏面１２ｂに貼着され、これにより絶縁性基材１２と支持基材１１との間に補色残像低減着色層２４が介設される。なお接着剤としては、公知のものを使用することができる。

続いて、支持基材１１および絶縁性基材１２は、巻取りロール４８（図７）に巻き取られる。

その後、支持基材１１および絶縁性基材１２を所定の大きさ毎に切断することにより、矩形状の枚葉基材５０が作製される（枚葉基材作製工程）（図１４（ａ）（ｂ））。各枚葉基材５０はそれぞれ１つまたは複数（この場合６組）の導電性パターン３０を含んでいる。

なお、支持基材１１および絶縁性基材１２を巻取りロール４８（図８（ａ））に巻き取ることなく、支持基材配設部４６から供給された支持基材１１および絶縁性基材１２をそのまま切断することにより、枚葉基材５０を作製しても良い。

その後、枚葉基材５０の導電性パターン３０を覆って絶縁層１６がパターン状に形成される（絶縁層配設工程）（図１５（ａ）（ｂ））。この場合、導電性パターン３０の作用電極１４ａ、対電極１４ｂおよび一対の接続端子１５ａ、１５ｂは絶縁層１６により覆われることなく外方へ露出する。

次に、絶縁層１６上にキャビティ１７を設け（キャビティ配設工程）（図１６（ａ）（ｂ））、キャビティ１７上に試薬層１８を設ける（試薬層配設工程）（図１７（ａ）（ｂ））。次いで、試薬層１８上にカバー１９を設けて試薬層１８をキャビティ１７とカバー１９との間で挟持する（カバー配設工程）（図１８（ａ）（ｂ））。

なお、絶縁層１６、キャビティ１７およびカバー１９を形成する方法としては、印刷法、例えばグラビア印刷法を挙げることができる。

その後、枚葉基材５０を切断し、各導電性パターン３０毎に個片化することにより、図１に示す濃度測定センサ１０が得られる。

ところで、図７において、絶縁性基材供給ロール４１から供給された絶縁性基材１２が、水溶性樹脂層形成部４２、導電層形成部４３および水溶性樹脂層除去部４４を順次経由して中間ロール４９に巻き取られる例を示した。しかしながら、これに限らず、絶縁性基材１２はそれぞれの工程（水溶性樹脂層形成工程、導電層形成工程、水溶性樹脂層除去工程）毎にロールに巻き取られても良い。

あるいは、中間ロール４９を用いることなく、絶縁性基材供給ロール４１からの絶縁性基材１２が、水溶性樹脂層形成部４２、導電層形成部４３、水溶性樹脂層除去部４４および支持基材配設部４６を順次経由して巻取りロール４８によって巻き取られても良い。

また、着色層形成部５５は、支持基材１１と支持基材配設部４６との間に代えて、あるいは支持基材１１と支持基材配設部４６との間に加え、絶縁性基材１２と支持基材配設部４６との間に設けられていても良い（図８（ａ）の二点鎖線）。この場合、着色層形成部５５において、絶縁性基材１２の裏面１２ｂに着色プライマーが塗布されることにより、絶縁性基材１２と支持基材１１との間に補色残像低減着色層２４が設けられる。

ところで、上記においては、絶縁性基材１２と支持基材１１との間に補色残像低減着色層２４が設けられる場合（図１の符号２４）を例にとって説明した。一方、補色残像低減着色層２４が絶縁性基材１２と支持基材１１との間以外の箇所に設けられる場合、以下のようにすることができる。

例えば、補色残像低減着色層２４がキャビティ１７と絶縁層１６との間に設けられる場合（図１の符号２４Ａ）、絶縁層配設工程において絶縁層１６を形成した後、絶縁層１６上に補色残像低減着色層２４を形成する。その後、キャビティ配設工程において補色残像低減着色層２４上にキャビティ１７を設ける。これにより、キャビティ１７と絶縁層１６との間に補色残像低減着色層２４を設けることができる。

また、補色残像低減着色層２４が絶縁層１６と導電性パターン３０との間に設けられる場合（図１の符号２４Ｂ）、着色層形成部５５は、中間ロール４９と支持基材配設部４６との間に配置される（図８（ａ）の二点鎖線）。この着色層形成部５５において、絶縁性基材１２の表面１２ａ側の導電性パターン３０上に着色プライマーが塗布される。これにより、絶縁層１６と導電性パターン３０との間に補色残像低減着色層２４を設けることができる。

また、補色残像低減着色層２４が導電性パターン３０と絶縁性基材１２との間に設けられる場合（図１の符号２４Ｃ）、着色層形成部５５は、絶縁性基材供給ロール４１と水溶性樹脂層形成部４２との間に配置される（図示せず）。この着色層形成部５５において、絶縁性基材１２の表面１２ａに着色プライマーが塗布される。これにより、絶縁性基材１２と導電性パターン３０との間に補色残像低減着色層２４を設けることができる。

また、補色残像低減着色層２４が支持基材１１の裏面１１ｂに設けられる場合（図１の符号２４Ｄ）、着色層形成部５５は、支持基材供給ロール４７と支持基材配設部４６との間に配置される（図８（ａ）の実線）。この着色層形成部５５において、支持基材１１の裏面１１ｂに着色プライマーを塗布する。これにより、支持基材１１の裏面１１ｂに補色残像低減着色層２４を設けることができる。

さらに、図２に示すように、絶縁性基材１２自体または支持基材１１自体が補色残像低減着色層２４となっている場合、予め血液の補色に相当する色に着色された絶縁性基材１２または支持基材１１を準備する。その後、この絶縁性基材１２または支持基材１１を絶縁性基材供給ロール４１（図７）または支持基材供給ロール４７（図８（ａ））から供給する。これにより、着色層形成部５５を用いることなく、濃度測定センサ１０内に補色残像低減着色層２４を配設することができる。

一方、支持基材１１を設けない場合（図３）には、図８（ｂ）に示すように、支持基材配設部４６は設けられない。この場合、補色残像低減着色層２４は以下のようにして配設することができる。

すなわち、補色残像低減着色層２４が絶縁性基材１２の裏面１２ｂに設けられる場合（図３の符号２４）、中間ロール４９から巻き出された絶縁性基材１２が着色層形成部５５（図８（ｂ））に達し、この着色層形成部５５においてその裏面１２ｂに着色プライマーが塗布される。これにより、絶縁性基材１２の裏面１２ｂに補色残像低減着色層２４を設けることができる。

また、補色残像低減着色層２４がキャビティ１７と絶縁層１６との間に設けられる場合（図３の符号２４Ｅ）、絶縁層配設工程において絶縁層１６を形成した後、絶縁層１６上に補色残像低減着色層２４を形成する。その後、キャビティ配設工程において補色残像低減着色層２４上にキャビティ１７を設ける。これにより、キャビティ１７と絶縁層１６との間に補色残像低減着色層２４を設けることができる。

また、補色残像低減着色層２４が絶縁層１６と導電性パターン３０との間に設けられる場合（図３の符号２４Ｆ）、図８（ｂ）に示す着色層形成部５５において、絶縁性基材１２の表面１２ａ側の導電性パターン３０上に着色プライマーが塗布される。これにより、絶縁層１６と導電性パターン３０との間に補色残像低減着色層２４を設けることができる。

また、補色残像低減着色層２４が導電性パターン３０と絶縁性基材１２との間に設けられる場合（図３の符号２４Ｇ）、着色層形成部５５は、絶縁性基材供給ロール４１と水溶性樹脂層形成部４２との間に配置される（図示せず）。この着色層形成部５５において、絶縁性基材１２の表面１２ａに着色プライマーが塗布される。これにより、絶縁性基材１２と導電性パターン３０との間に補色残像低減着色層２４を設けることができる。

さらに、図４に示すように、絶縁性基材１２自体が補色残像低減着色層２４となっている場合、予め血液の補色に相当する色に着色された絶縁性基材１２を準備する。この絶縁性基材１２を絶縁性基材供給ロール４１（図７）から供給する。これにより、着色層形成部５５を用いることなく、濃度測定センサ１０内に補色残像低減着色層２４を配設することができる。

一方、図１乃至図４において、補色残像低減着色層２４が絶縁層１６またはキャビティ１７からなる場合、着色層形成工程は、絶縁層配設工程またはキャビティ配設工程からなっている。この場合、予め血液の補色に相当する色に着色された絶縁層１６またはキャビティ１７を準備する。その後、絶縁層配設工程またはキャビティ配設工程において、着色された絶縁層１６またはキャビティ１７を、導電性パターン３０上または絶縁層１６上に配設する。

ところで、上述した着色層形成工程において、補色残像低減着色層２４を形成するのと同時に、後の加工を行う際に用いられるアランメントマークを形成するようにしても良い。

例えば、絶縁層１６およびキャビティ１７が補色残像低減着色層２４からなり、かつ絶縁層１６およびキャビティ１７がそれぞれ印刷により形成される場合を想定する。この場合、図１９（ａ）に示すように、絶縁層１６とともに、着色された第１のアライメントマーク１６ｍが形成される。例えば図１９（ａ）において、絶縁性基材１２の周縁部にドーナツ形状の第１のアライメントマーク１６ｍが形成される。

その後、キャビティ１７を印刷により形成する際、キャビティ１７とともに第２のアライメントマーク１７ｍが形成される。例えば、図１９（ｂ）において、円形状の第２のアライメントマーク１７ｍが形成され、この第２のアライメントマーク１７ｍは、キャビティ１７と絶縁層１６とが正しく位置決めされている場合、ドーナツ形状の第１のアライメントマーク１６ｍにぴったり入り込むようになっている。

このように、第２のアライメントマーク１７ｍを第１のアライメントマーク１６ｍに一致させることにより、絶縁層１６に対するキャビティ１７の位置決めや補正を適切に行うことができる。とりわけ、第１のアライメントマーク１６ｍおよび第２のアライメントマーク１７ｍが着色されていることにより、これらの視認性を高めることができる。

次に濃度測定センサ１０を用いた濃度測定について説明する。

まず濃度測定センサ１０が外部デバイス２５の挿入口２６内に挿入される。このとき外部デバイス２５側の接続部が濃度測定センサ１０の接続端子１５ａ、１５ｂにそれぞれ接触する。そして、外部デバイス２５内のスイッチ（図示せず）が濃度測定センサ１０により作動し、外部デバイス２５は液体試料吸引待機状態となる。

その後、使用者が、濃度測定センサ１０のキャビティ１７の吸引口１７ａに液体試料（血液）を付着させる。このときキャビティ１７の吸引口１７ａの毛細管現象によって、キャビティ１７の吸引口１７ａから液体試料が引き込まれる。例えば、濃度測定センサ１０を血糖値センサとして用いる場合、使用者は、自身の指、掌、又は腕等を穿刺して、少量の血液を搾り出し、この血液を液体試料として、キャビティ１７の吸引口１７ａに付着させる。

キャビティ１７の吸引口１７ａに付着された血液は、その後試薬層１８に達し、血液が試薬層１８に達した後、血液中のグルコース濃度が外部デバイス２５により測定され、測定結果は外部デバイス２５の表示部２７に表示される。

このように、濃度測定センサ１０を使用する際、使用者は血液を目視で確認する。その後、使用者が白い部分（例えば白い壁面）を見た場合、血液の色（赤色）の補色である青色や緑色が視覚に残像として現れるおそれがある。これに対して本実施の形態においては、濃度測定センサ１０は、血液の補色に相当する色の補色残像低減着色層２４を有している。このことにより、濃度測定センサ１０を使用する際、血液を視認した後に生じる補色残像を低減することができる。

次に外部デバイス２５によるグルコース濃度の測定の原理について述べる。

まず試薬層１８はグルコース酸化還元酵素と、電子受容体としてフェリシアン化カリウムを含み、血液中のブドウ糖と特異的に反応し、グルコン酸と電子を発する。この電子はフェリシアン化カリウムをフェロシアン化カリウムとし、これに外部デバイス２５側から接続端子１５ａ、１５ｂ、配線部１３ａ、１３ｂ、および作用電極１４ａおよび対電極１４ｂを介して一定の電圧を加えることで再びフェリシアン化カリウムとなり、そのとき電流が発生する。この場合の電流値は血液中のグルコース濃度に比例するため、この電流値を外部デバイス２５により測定することによりグルコース濃度を測定することができる。

試薬層１８内での反応を更に述べる。酸化還元酵素としてグルコースオキシダーゼ（ＧＯＤ）、電子伝達体としてフェリシアン化カリウム（Ｋ_３Ｆｅ（ＣＮ）_６）を用いた場合、試薬層１８内において、以下の反応がおこる。

グルコース ＋ ２［Ｆｅ（ＣＮ）_６］^３− ＋ Ｈ_２Ｏ → グルコン酸 ＋２Ｈ^＋ ＋ ２［Ｆｅ（ＣＮ）_６］^４−

このとき、フェロシアン化イオンは、作用電極１４ａで酸化されて酸化電流を生じ、以下のようにしてフェリシアン化イオンに還元される。

２［Ｆｅ（ＣＮ）_６］^４− → ２［Ｆｅ（ＣＮ）_６］^３− ＋ ２ｅ⁻

測定終了後、使用者は濃度測定センサ１０を外部デバイス２５の挿入口２６から引き抜く。

以上のように本実施の形態によれば、濃度測定センサ１０は、血液の補色に相当する色の補色残像低減着色層２４を有するので、濃度測定センサ１０を使用する際、血液を視認したことにより生じる補色残像を低減することができる。

１０ 濃度測定センサ
１１ 支持基材
１２ 絶縁性基材
１３ａ、１３ｂ 配線部
１４ａ 作用電極
１４ｂ 対電極
１５ａ、１５ｂ 接続端子
１６ 絶縁層
１６ｍ 第１のアライメントマーク
１７ キャビティ
１７ｍ 第２のアライメントマーク
１８ 試薬層
１９ カバー
２４（２４Ａ〜２４Ｇ） 補色残像低減着色層
３０ 導電性パターン
４１ 絶縁性基材供給ロール
４２ 水溶性樹脂層形成部
４３ 導電層形成部
４４ 水溶性樹脂層除去部
４６ 支持基材配設部
４７ 支持基材供給ロール
４８ 巻取りロール
４９ 中間ロール
５０ 枚葉基材
５５ 着色層形成部

Claims (11)

1. 血液中の物質の濃度を測定するための濃度測定センサにおいて、
   少なくとも一方の面が絶縁性をもつ絶縁面となる絶縁性基材と、
   前記絶縁性基材の前記絶縁面上に設けられた導電性パターンと、
   前記絶縁性基材の他方の面に配設され、前記絶縁性基材を支持する支持基材とを備え、
   前記導電性パターン上、前記導電性パターンと前記絶縁性基材との間、前記絶縁性基材と前記支持基材との間、または前記支持基材の裏面に、血液の補色に相当する色を有する補色残像低減着色層を設けたことを特徴とする濃度測定センサ。
2. 血液中の物質の濃度を測定するための濃度測定センサにおいて、
   少なくとも一方の面が絶縁性をもつ絶縁面となる絶縁性基材と、
   前記絶縁性基材の前記絶縁面上に設けられた導電性パターンとを備え、
   前記導電性パターン上、前記導電性パターンと前記絶縁性基材との間、または前記絶縁性基材の他方の面に、血液の補色に相当する色を有する補色残像低減着色層を設けたことを特徴とする濃度測定センサ。
3. 前記補色残像低減着色層は、前記導電性パターン上に設けられた絶縁層又はキャビティからなることを特徴とする請求項１または２記載の濃度測定センサ。
4. 血液中の物質の濃度を測定するための濃度測定センサにおいて、
   少なくとも一方の面が絶縁性をもつ絶縁面となる絶縁性基材と、
   前記絶縁性基材の前記絶縁面上に設けられた導電性パターンと、
   前記絶縁性基材の他方の面に配設され、前記絶縁性基材を支持する支持基材とを備え、
   前記絶縁性基材自体または前記支持基材自体が、血液の補色に相当する色を有する補色残像低減着色層となっていることを特徴とする濃度測定センサ。
5. 血液中の物質の濃度を測定するための濃度測定センサにおいて、
   少なくとも一方の面が絶縁性をもつ絶縁面となる絶縁性基材と、
   前記絶縁性基材の前記絶縁面上に設けられた導電性パターンとを備え、
   前記絶縁性基材自体が、血液の補色に相当する色を有する補色残像低減着色層となっていることを特徴とする濃度測定センサ。
6. 血液中の物質の濃度を測定するための濃度測定センサの製造方法であって、
   少なくとも一方の面が絶縁性をもつ絶縁面となる帯状の絶縁性基材を供給する絶縁性基材供給工程と、
   前記絶縁性基材の絶縁面に導電性パターンを形成する導電性パターン形成工程と、
   前記絶縁性基材の他方の面に、前記絶縁性基材を支持する支持基材を配設する支持基材配設工程と、
   前記導電性パターン上、前記導電性パターンと前記絶縁性基材との間、前記絶縁性基材と前記支持基材との間、または前記支持基材の裏面に、血液の補色に相当する色を有する補色残像低減着色層を設ける着色層形成工程とを備えたことを特徴とする濃度測定センサの製造方法。
7. 血液中の物質の濃度を測定するための濃度測定センサの製造方法であって、
   少なくとも一方の面が絶縁性をもつ絶縁面となる帯状の絶縁性基材を供給する絶縁性基材供給工程と、
   前記絶縁性基材の絶縁面に導電性パターンを形成する導電性パターン形成工程と、
   前記導電性パターン上、前記導電性パターンと前記絶縁性基材との間、または前記絶縁性基材の他方の面に、血液の補色に相当する色を有する補色残像低減着色層を設ける着色層形成工程とを備えたことを特徴とする濃度測定センサの製造方法。
8. 前記補色残像低減着色層は、前記導電性パターン上に設けられた絶縁層又はキャビティからなることを特徴とする請求項６または７記載の濃度測定センサの製造方法。
9. 前記着色層形成工程において、前記補色残像低減着色層と同時にアランメントマークが形成されることを特徴とする請求項６乃至８のいずれか一項記載の濃度測定センサの製造方法。
10. 血液中の物質の濃度を測定するための濃度測定センサの製造方法であって、
    少なくとも一方の面が絶縁性をもつ絶縁面となる帯状の絶縁性基材を供給する絶縁性基材供給工程と、
    前記絶縁性基材の絶縁面に導電性パターンを形成する導電性パターン形成工程と、
    前記絶縁性基材の他方の面に、前記絶縁性基材を支持する支持基材を配設する支持基材配設工程とを備え、
    前記絶縁性基材自体または前記支持基材自体が、血液の補色に相当する色を有する補色残像低減着色層となっていることを特徴とする濃度測定センサの製造方法。
11. 血液中の物質の濃度を測定するための濃度測定センサの製造方法であって、
    少なくとも一方の面が絶縁性をもつ絶縁面となる帯状の絶縁性基材を供給する絶縁性基材供給工程と、
    前記絶縁性基材の絶縁面に導電性パターンを形成する導電性パターン形成工程とを備え、
    前記絶縁性基材自体が、血液の補色に相当する色を有する補色残像低減着色層となっていることを特徴とする濃度測定センサの製造方法。

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