JP2013235287A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 アクティブ素子、画素電極、共通電極、および液晶層を有する画素がドットマトリクス状に配置された液晶表示パネルを有し、当該液晶表示パネルは、第1の基板、第2の基板、および前記第1の基板と前記第2の基板との間に配置された液晶層とを有し、前記第1の基板は、前記アクティブ素子、前記画素電極、前記共通電極、および第1の配向膜を有し、前記第2の基板は、第2の配向膜を有し、前記第1の配向膜および前記第2の配向膜は、それぞれ、光分解型の絶縁膜に光を照射して形成された光配向膜である液晶表示装置であって、前記第2の配向膜は、前記第1の配向膜よりも薄く、かつ、その厚さが10nm以上50nm以下である液晶表示装置。
【選択図】 図4
Description
なお、実施例を説明するための全図において、同一機能を有するものは、同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
図1は、本発明による実施例1の液晶表示パネルにおける画素の平面構成の一例を示す模式平面図である。図2は、図1のA−A’線の位置における断面構成の一例を示す模式断面図である。図3は、図1のB−B’線の位置における断面構成の一例を示す模式断面図である。図4は、実施例1の液晶表示パネルにおける画素(液晶層)の動作の一例を示す模式断面図である。
図5は、配向膜の厚さと光透過率との関係の一例を示す模式図である。図6は、配向膜の厚さとAC残像強度との関係の一例を示す模式図である。
なお、図5は、横軸が配向膜の厚さD(nm)、縦軸が光透過率TRORI(%)のグラフである。また、図5において、菱形の点は本願発明者らによる測定結果を示しており、右下がりの直線は当該測定結果から得られる回帰直線を示している。
また、図6は、横軸が配向膜の厚さD(nm)、縦軸がAC残像強度IoSAC(%)のグラフである。また、図6において、白抜きの菱形の点は第2の配向膜18の厚さD2を100nmに固定して第1の配向膜8の厚さD1を変えたときのAC残像強度IoSACの測定結果を示しており、点線の曲線は当該測定結果から得られる回帰曲線を示している。また、図6において、白抜きの円形の点は第1の配向膜8の厚さD1を100nmに固定して第2の配向膜18の厚さD2を変えたときのAC残像強度IoSACの測定結果を示しており、実線の曲線は当該測定結果から得られる回帰曲線を示している。
なお、図7は、横軸が第2の配向膜18を形成するときの光の照射量の相対値RoIR(%)、縦軸がAC残像強度IoSAC(%)のグラフ図である。また、光の照射量の相対値RoIR(%)は、第1の配向膜8を形成するときと同じ照射量を100%としている。
また、図7において、白抜きの菱形の点は第2の配向膜18の厚さD2を100nm、第1の配向膜8の厚さD1を100nmとして、第2の配向膜18を形成するときの光の照射量を変えたときのAC残像強度IoSACの測定結果を示しており、実線の曲線は当該測定結果から得られる回帰曲線を示している。また、図7において、白抜きの円形の点は第2の配向膜18の厚さD2を50nm、第1の配向膜8の厚さD1を100nmとして、第2の配向膜18を形成するときの光の照射量を変えたときのAC残像強度IoSACの測定結果を示しており、点線の曲線は当該測定結果から得られる回帰曲線を示している。また、図7において、白抜きの四角の点は第2の配向膜18の厚さD2を20nm、第1の配向膜8の厚さD1を100nmとして、第2の配向膜18を形成するときの光の照射量を変えたときのAC残像強度IoSACの測定結果を示しており、破線の曲線は当該測定結果から得られる回帰曲線を示している。
2 第2の基板
3 液晶層
3M 液晶分子
4 第1の偏光板
5 第2の偏光板
6 光
7 第1の絶縁基板
8 第1の配向膜
9 走査信号線
10 第1の絶縁層
11 映像信号線
12 アクティブ素子
12s 第1のソース-ドレイン電極
13 第2の絶縁層
14 共通電極
15 第3の絶縁層
16 画素電極
17 第2の絶縁基板
18 第2の配向膜
19 ブラックマトリクス
20 カラーフィルタ
21 平坦化層
22 電気力線
Claims (6)
- 第1の基板、第2の基板、および前記第1の基板と前記第2の基板との間に配置された液晶層とを有し、
前記第1の基板には、アクティブ素子、画素電極、および第1の配向膜を有し、
前記第2の基板には、有機膜、および前記有機膜の上に形成された第2の配向膜を有する液晶表示装置であって、
前記第1の基板に平行な成分を主とする電界によって前記液晶層の配向状態が変化され、
前記第1の配向膜および前記第2の配向膜は、それぞれ、光分解型の材料からなる膜に光を照射して形成された光配向膜であり、
前記第2の配向膜は、前記第1の配向膜よりも薄く、かつ、その厚さが10nm以上50nm以下であることを特徴とする液晶表示装置。 - 前記第1の配向膜は、厚さが80nm以上130nm以下であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 液晶表示パネルは、更に、カラ―フィルタを有することを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶表示装置。
- 前記カラ―フィルタは、前記第2の基板と前記有機膜との間に形成されていることを特徴とする請求項3に記載の液晶表示装置。
- 前記画素電極は櫛歯状であり、
前記第1の基板には、共通電極、絶縁層、前記画素電極が順に積層されていることを特徴とする請求項1乃至4の何れかに記載の液晶表示装置。 - 前記第1の基板には、前記画素電極、絶縁層、櫛歯状の共通電極が順に積層されていることを特徴とする請求項1乃至4の何れかに記載の液晶表示装置。
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