JP2013227506A - フルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物 - Google Patents
フルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013227506A JP2013227506A JP2013041543A JP2013041543A JP2013227506A JP 2013227506 A JP2013227506 A JP 2013227506A JP 2013041543 A JP2013041543 A JP 2013041543A JP 2013041543 A JP2013041543 A JP 2013041543A JP 2013227506 A JP2013227506 A JP 2013227506A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- formula
- silicone compound
- containing silicone
- ocf
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 116
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 title claims abstract description 59
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 54
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 claims abstract description 21
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims abstract description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 49
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 claims description 43
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 claims description 41
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 34
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 33
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 17
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 16
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 15
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 13
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims description 5
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 5
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 32
- -1 silane compound Chemical class 0.000 description 45
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 41
- 239000010408 film Substances 0.000 description 33
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 29
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 28
- 239000000463 material Substances 0.000 description 26
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 24
- 239000002335 surface treatment layer Substances 0.000 description 24
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 21
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 19
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 19
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 18
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 15
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 12
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 9
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 8
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 7
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 7
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 5
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 5
- SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical class C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 4
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 4
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 4
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 4
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 230000035807 sensation Effects 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 3
- KSOCRXJMFBYSFA-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,6,6,6-tridecafluoro-5-(1,1,1,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6-tridecafluorohexan-2-yloxy)hexane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(C(F)(F)F)OC(F)(C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F KSOCRXJMFBYSFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PGISRKZDCUNMRX-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoro-4-(trifluoromethoxy)butane Chemical compound FC(F)(F)OC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F PGISRKZDCUNMRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXZOEDQFGXTEAD-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1C(F)(F)F XXZOEDQFGXTEAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- LFRDHGNFBLIJIY-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC=C LFRDHGNFBLIJIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006273 (C1-C3) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002733 (C1-C6) fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- BRWBDEIUJSDQGV-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-tridecafluoro-6-methoxyhexane Chemical compound COC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F BRWBDEIUJSDQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOPJRYAFUXTDLX-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3-heptafluoro-3-methoxypropane Chemical compound COC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F NOPJRYAFUXTDLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIROQPWSJUXOJC-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6-undecafluoro-6-(trifluoromethyl)cyclohexane Chemical compound FC(F)(F)C1(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C1(F)F QIROQPWSJUXOJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- MBXXQYJBFRRFCK-UHFFFAOYSA-N benzyl fluoride Chemical compound FCC1=CC=CC=C1 MBXXQYJBFRRFCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000010985 leather Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- XZWYZXLIPXDOLR-UHFFFAOYSA-N metformin Chemical compound CN(C)C(=N)NC(N)=N XZWYZXLIPXDOLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 125000003261 o-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 229960004624 perflexane Drugs 0.000 description 1
- ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N perfluorohexane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920003216 poly(methylphenylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000001953 sensory effect Effects 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
- C08G77/46—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing polyether sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/30—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/38—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
- C08G77/382—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon
- C08G77/385—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon containing halogens
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Polyethers (AREA)
Abstract
Description
本発明は、フルオロポリエーテル基、特にパーフルオロポリエーテル基を含有するシリコーン化合物に関する。また、本発明は、かかるフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物を使用した表面処理剤等に関する。
ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層(以下、表面処理層とも言う)は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。
そのような含フッ素シラン化合物として、パーフルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Si原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている(特許文献1〜2を参照のこと)。このパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤を基材に適用すると、Si原子に結合した加水分解可能な基が基材との間および化合物間で反応することにより結合して、表面処理層を形成し得る。
パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層は、上記のような機能を薄膜でも発揮し得ることから、光透過性ないし透明性が求められるメガネやタッチパネルなどの光学部材に好適に利用されている。とりわけ、これら用途においては、撥水性、撥油性、指紋等の汚れが付着するのを防止する防汚性に加えて、指紋等の汚れが付着しても容易に拭き取ることができる表面滑り性が求められる。
更に、近年、スマートフォンやタブレット型端末が急速に普及する中、タッチパネルの用途においては、ユーザが指でディスプレイパネルに触れて操作した際に優れた触感(使用感)を提供することが望まれている。このため、従来よりも一層高い表面滑り性を実現することが求められている。
しかしながら、従来のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層では、次第に高まる表面滑り性向上の要求に応えるには、もはや必ずしも十分とは言えない。
離型剤に関しては、シロキサン骨格を分子主鎖に有し、かつ炭素数1〜6のフルオロアルキル基を分子側鎖に有するフルオロアルキル基含有シリコーン化合物が知られている(特許文献3を参照のこと)。しかしながら、かかるフルオロアルキル基含有シリコーン化合物は、離型性を有するものの、基材に対して撥水性、撥油性、防汚性などを提供するものではない。
撥水性、撥油性、防汚性などを提供するために使用される表面処理剤に関しては、2価のパーフルオロポリエーテル基およびシロキサン骨格を分子主鎖に有し、シロキサン骨格を成すSi原子に−(CH2)−の繰り返し単位を介してSi原子が連結され、これにより連結されたSi原子に、加水分解可能な基が結合しているパーフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物が知られている(特許文献4および5を参照のこと)。しかしながら、かかるパーフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物であっても、表面滑り性の点で必ずしも満足できるものではない。
本発明は、撥水性、撥油性、防汚性を有し、かつ、高い表面滑り性を有する層を形成することのできる新規なフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物を提供することを目的とする。また、本発明は、かかるフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物を使用して得られる表面処理剤等を提供することを目的とする。
本発明の1つの要旨によれば、下記一般式(I)で表されるフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物が提供される。
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11およびR12は、それぞれ独立してアルキル基またはアリール基であり、Rfはフルオロポリエーテル基であり、XおよびYは、互いに同一または異なる2価の有機基であり、Zは加水分解可能な部位を含むシリル基であり、aは1以上100以下、bは0以上100以下、cは0以上200以下、dは0以上200以下であり、bおよびcの和は少なくとも1であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。)
本発明の上記フルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物は、シロキサン骨格と、シロキサン骨格を成すSi原子に(2価の有機基Xを介して)結合したフルオロポリエーテル基(Rf−)と、シロキサン骨格を成すSi原子に(2価の有機基Yを介して)結合した加水分解可能な部位を含むシリル基(−Z)およびシロキサン骨格を成すSi原子に直接結合したアルコキシ基の少なくとも一方とを有する。フルオロポリエーテル基(Rf−)は、撥水性および撥油性ひいては防汚性に寄与する。また、シロキサン骨格は、表面滑り性に寄与する。更に、加水分解可能な部位を含むシリル基(−Z)およびSi原子に直接結合したアルコキシ基(−OR7)は、摩擦耐久性に寄与する。かかるフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物によれば、撥水性、撥油性、防汚性を有し、かつ、高い表面滑り性を有し、摩擦耐久性を有する層を形成することが可能となる。
上記一般式(I)において、Rfは、好ましくはパーフルオロポリエーテル基であるが、フッ素原子の一部が水素原子または他のハロゲン原子に置換されていてもよい。パーフルオロポリエーテル基は、撥水性および撥油性ひいては防汚性を一層高めることができる。
例えば、Rfは以下の式:
R13−(OC4F8)k−(OC3F6)l−(OC2F4)m−(OCF2)n−
(式中、R13は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜16のアルキル基であり、好ましくは炭素数1〜16のパーフルオロアルキル基であり、k、l、mおよびnは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、k、l、mおよびnの和は少なくとも1であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。)で表わされるフルオロポリエーテル基であってよい。
より詳細には、Rfは以下の式:
CF3CF2CF2−(OCF2CF2CF2)l’−OCF2CF2−
(式中、l’は1以上200以下の整数である。)で表わされるパーフルオロポリエーテル基であってよい。
例えば、Rfは以下の式:
R13−(OC4F8)k−(OC3F6)l−(OC2F4)m−(OCF2)n−
(式中、R13は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜16のアルキル基であり、好ましくは炭素数1〜16のパーフルオロアルキル基であり、k、l、mおよびnは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、k、l、mおよびnの和は少なくとも1であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。)で表わされるフルオロポリエーテル基であってよい。
より詳細には、Rfは以下の式:
CF3CF2CF2−(OCF2CF2CF2)l’−OCF2CF2−
(式中、l’は1以上200以下の整数である。)で表わされるパーフルオロポリエーテル基であってよい。
上記一般式(I)において、Zは以下の式:
−SiTxR14 3−x
(式中、Tは水酸基または加水分解可能な基であり、R14は水素原子または炭素数1〜22のアルキル基であり、xは1、2または3である。)で表されるシリル基であってよい。
−SiTxR14 3−x
(式中、Tは水酸基または加水分解可能な基であり、R14は水素原子または炭素数1〜22のアルキル基であり、xは1、2または3である。)で表されるシリル基であってよい。
上記一般式(I)において、R7は、炭素数1〜4のアルキル基であってよい。
上記一般式(I)において、Xは以下の式:
−(CH2)p−O−(CH2)q−
(式中、pは1以上20以下の整数であり、qは2以上20以下の整数である。)で表される基であってよい。また、上記一般式(I)において、Xは以下の式:
−(CH2)s−CONH−(CH2)t−
(式中、sは0以上10以下の整数であり、tは2以上10以下の整数である。)で表される基であってもよい。
−(CH2)p−O−(CH2)q−
(式中、pは1以上20以下の整数であり、qは2以上20以下の整数である。)で表される基であってよい。また、上記一般式(I)において、Xは以下の式:
−(CH2)s−CONH−(CH2)t−
(式中、sは0以上10以下の整数であり、tは2以上10以下の整数である。)で表される基であってもよい。
上記一般式(I)において、Yは以下の式:
−(CH2)r−
(式中、rは2以上20以下の整数である。)で表される基であってよい。
−(CH2)r−
(式中、rは2以上20以下の整数である。)で表される基であってよい。
本発明のもう1つの要旨によれば、上記フルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物を含む表面処理剤もまた提供される。かかる表面処理剤は、撥水性、撥油性、防汚性、表面滑り性を基材に対して付与することができ、特に限定されるものではないが、防汚性コーティング剤として好適に使用され得る。
本発明の更にもう1つの要旨によれば、基材と、該基材の表面に、上記フルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物または上記表面処理剤より形成された層(表面処理層)とを含む物品もまた提供される。かかる物品における層は、撥水性、撥油性、防汚性を有し、かつ、高い表面滑り性を有する。
本発明によって得られる物品は、特に限定されるものではないが、例えば光学部材であり得る。光学部材は、表面滑り性の向上に対する要請が高く、本発明が好適に利用され得る。上記基材は、例えばガラスまたは透明プラスチックであり得る。なお、本発明において「透明」とは、一般的に透明と認識され得るものであればよいが、例えば、ヘイズ値5%以下のものを意味する。
本発明によれば、新規なフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物が提供され、この化合物は、シロキサン骨格と、シロキサン骨格を成すSi原子に(間接的に)結合したフルオロポリエーテル基と、シロキサン骨格を成すSi原子に(間接的に)結合した加水分解可能な部位を含むシリル基およびシロキサン骨格を成すSi原子に直接結合したアルコキシ基の少なくとも一方とを有し、これにより、撥水性、撥油性、防汚性を有し、かつ、高い表面滑り性を有し、摩擦耐久性を有する層を形成することができる。更に、本発明によれば、かかるフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物を使用して得られる表面処理剤およびそれらを適用した物品もまた提供される。
以下、本発明のフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物、表面処理剤、およびそれらを適用して得られる物品について詳述するが、本発明はこれに限定されるものではない。
上記一般式(I)中、R1〜R12は、それぞれ独立して、置換または非置換のアルキル基あるいは置換または非置換のアリール基である。かかる置換または非置換のアルキル基は、好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12を有する。置換または非置換のアリール基は、好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜12を有する。アルキル基の置換基としては、塩素原子などのハロゲン原子が挙げられる。アリール基の置換基としては、塩素原子などのハロゲン原子や、また、例えばメチル基などの炭素数1〜10のアルキル基が挙げられる。R1〜R12の例には、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基およびドデシル基などの非置換アルキル基;クロロメチル基などの置換アルキル基;フェニル基およびナフチル基などの非置換アリール基;4−クロロフェニル基および2−メチルフェニル基などの置換アリール基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
但し、R7は、置換または非置換の、直鎖または分枝状の、炭素数1〜4のアルキル基であることが好ましい。R7の例には、メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基;クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
本発明の化合物において、シロキサン骨格を成すSiに結合したアルコキシ基(−OR7)は、基材との間および化合物間で反応することにより結合し得、かかる基を有する化合物は、(例えば後述するシリコーンオイルや含フッ素オイルに比べて)優れた摩擦耐久性を発現し得る。
本発明の化合物において、シロキサン骨格を成すSiに結合したアルコキシ基(−OR7)は、基材との間および化合物間で反応することにより結合し得、かかる基を有する化合物は、(例えば後述するシリコーンオイルや含フッ素オイルに比べて)優れた摩擦耐久性を発現し得る。
上記一般式(I)中、Rfはフルオロポリエーテル基である。Rfは、エーテル結合鎖に関して、直鎖状、分枝状および環状構造をとり得るが、直鎖状であることが好ましい。また、Rfは、パーフルオロポリエーテル基であることが好ましいが、フッ素原子の一部が水素原子または他のハロゲン原子に置換されていてもよい。
より詳細には、Rfは以下の式:
R13−(OC4F8)k−(OC3F6)l−(OC2F4)m−(OCF2)n−
で表わされるパーフルオロポリエーテル基であることが好ましい。
この式中、R13は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜16の(例えば直鎖状または分枝状の)アルキル基であり、好ましくは、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜3の直鎖状または分枝状のアルキル基である。好ましくは、上記1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいアルキル基は、末端炭素原子がCF2H−であり他のすべての炭素原子がフッ素により全置換されているフルオロアルキル基、またはパーフルオロアルキル基であり、より好ましくはパーフルオロアルキル基であり、具体的には−CF3、−CF2CF3、または−CF2CF2CF3である。
k、l、mおよびnは、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロポリエーテルの3種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して0以上200以下、好ましくは1以上100以下の整数であって、k、l、mおよびnの和は少なくとも1、好ましくは1以上100以下である。また、添字k、l、mおよびnを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、便宜上、式中では特定の順序で記載したが、これら繰り返し単位の結合順序はこれに限定されず、任意である。これら繰り返し単位のうち、−(OC4F8)−は、−(OCF2CF2CF2CF2)−、−(OCF(CF3)CF2CF2)−、−(OCF2CF(CF3)CF2)−、−(OCF2CF2CF(CF3))−、−(OC(CF3)2CF2)−、−(OCF2C(CF3)2)−および−(OCF(CF3)CF(CF3))−のいずれであってもよいが、好ましくは−(OCF2CF2CF2CF2)−である。−(OC3F6)−は、−(OCF2CF2CF2)−、−(OCF(CF3)CF2)−および−(OCF2CF(CF3))−のいずれであってもよいが、好ましくは−(OCF2CF2CF2)−である。−(OC2F4)−は、−(OCF2CF2)−および−(OCF(CF3))−のいずれであってもよいが、好ましくは−(OCF2CF2)−である。
かかるパーフルオロポリエーテル基を有する化合物は、優れた撥水性および撥油性ひいては防汚性(例えば指紋等の汚れの付着を防止する)を発現し得る。
R13−(OC4F8)k−(OC3F6)l−(OC2F4)m−(OCF2)n−
で表わされるパーフルオロポリエーテル基であることが好ましい。
この式中、R13は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜16の(例えば直鎖状または分枝状の)アルキル基であり、好ましくは、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜3の直鎖状または分枝状のアルキル基である。好ましくは、上記1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいアルキル基は、末端炭素原子がCF2H−であり他のすべての炭素原子がフッ素により全置換されているフルオロアルキル基、またはパーフルオロアルキル基であり、より好ましくはパーフルオロアルキル基であり、具体的には−CF3、−CF2CF3、または−CF2CF2CF3である。
k、l、mおよびnは、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロポリエーテルの3種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して0以上200以下、好ましくは1以上100以下の整数であって、k、l、mおよびnの和は少なくとも1、好ましくは1以上100以下である。また、添字k、l、mおよびnを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、便宜上、式中では特定の順序で記載したが、これら繰り返し単位の結合順序はこれに限定されず、任意である。これら繰り返し単位のうち、−(OC4F8)−は、−(OCF2CF2CF2CF2)−、−(OCF(CF3)CF2CF2)−、−(OCF2CF(CF3)CF2)−、−(OCF2CF2CF(CF3))−、−(OC(CF3)2CF2)−、−(OCF2C(CF3)2)−および−(OCF(CF3)CF(CF3))−のいずれであってもよいが、好ましくは−(OCF2CF2CF2CF2)−である。−(OC3F6)−は、−(OCF2CF2CF2)−、−(OCF(CF3)CF2)−および−(OCF2CF(CF3))−のいずれであってもよいが、好ましくは−(OCF2CF2CF2)−である。−(OC2F4)−は、−(OCF2CF2)−および−(OCF(CF3))−のいずれであってもよいが、好ましくは−(OCF2CF2)−である。
かかるパーフルオロポリエーテル基を有する化合物は、優れた撥水性および撥油性ひいては防汚性(例えば指紋等の汚れの付着を防止する)を発現し得る。
具体的には、Rfは以下の式:
CF3CF2CF2−(OCF2CF2CF2)l’−OCF2CF2−
で表わされるパーフルオロポリエーテル基であってよい。式中、l’は1以上200以下の整数、好ましくは1以上100以下の整数である。この場合、パーフルオロポリエーテル基は直鎖状構造を有し、分枝状構造を有する場合に比べて高い摩擦耐久性を得ることができ、また、合成が容易であるという利点もある。
CF3CF2CF2−(OCF2CF2CF2)l’−OCF2CF2−
で表わされるパーフルオロポリエーテル基であってよい。式中、l’は1以上200以下の整数、好ましくは1以上100以下の整数である。この場合、パーフルオロポリエーテル基は直鎖状構造を有し、分枝状構造を有する場合に比べて高い摩擦耐久性を得ることができ、また、合成が容易であるという利点もある。
上記一般式(I)中、Xは、Rfとシロキサン骨格を成すSiとの間を結合する連結基である。Xは、2価の有機基であればよく、好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12を有する。
より詳細には、Xは以下の式:
−(CH2)p−O−(CH2)q−
で表される基であってよい。この式中、pは1以上20以下、好ましくは1以上10以下の整数であり、qは2以上20以下、好ましくは2以上10以下の整数である。かかる式で表される基の例には、−CH2−O−CH2CH2CH2−、−CH2CH2−O−CH2CH2CH2−、−CH2−O−CH2CH2CH2CH2CH2CH2−、−CH2CH2−O−CH2CH2CH2CH2CH2CH2−などが含まれる(但し、式の左端がRfに結合し、式の右端がSiに結合するものとする。)。
−(CH2)p−O−(CH2)q−
で表される基であってよい。この式中、pは1以上20以下、好ましくは1以上10以下の整数であり、qは2以上20以下、好ましくは2以上10以下の整数である。かかる式で表される基の例には、−CH2−O−CH2CH2CH2−、−CH2CH2−O−CH2CH2CH2−、−CH2−O−CH2CH2CH2CH2CH2CH2−、−CH2CH2−O−CH2CH2CH2CH2CH2CH2−などが含まれる(但し、式の左端がRfに結合し、式の右端がSiに結合するものとする。)。
また、Xは以下の式:
−(CH2)s−CONH−(CH2)t−
で表される基であってもよい。この式中、sは0以上10以下の整数、好ましくは0であり、tは2以上10以下の整数である。かかる式で表される基の例には、−CONH−CH2CH2CH2−、−CONH−CH2CH2CH2CH2CH2CH2−などが含まれる(但し、式の左端がRfに結合し、式の右端がSiに結合するものとする。)。
−(CH2)s−CONH−(CH2)t−
で表される基であってもよい。この式中、sは0以上10以下の整数、好ましくは0であり、tは2以上10以下の整数である。かかる式で表される基の例には、−CONH−CH2CH2CH2−、−CONH−CH2CH2CH2CH2CH2CH2−などが含まれる(但し、式の左端がRfに結合し、式の右端がSiに結合するものとする。)。
しかしながら、Xはこれらに限定されず、Rfとシロキサン骨格を成すSiとの間を結合する限り、任意の適切な2価の有機基を適用し得る。
上記一般式(I)中、Zは加水分解可能な部位を含むシリル基である。より詳細には、Zは以下の式:
−SiTxR14 3−x
で表されるシリル基であってよい。この式中、TおよびR14はSiに結合する基であり、xは1、2または3である。
Tは水酸基または加水分解可能な基を表す。加水分解可能な基の例としては、−OA、−OCOA、−O−N=C(A)2、−N(A)2、−NHA、ハロゲン(これら式中、Aは、置換または非置換の炭素数1〜4のアルキル基を示す)などが挙げられ、好ましくは−OA(アルコキシ基)である。Aの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基;クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。
R14は水素原子または炭素数1〜22のアルキル基であり、好ましくは炭素数1〜22のアルキル基、より好ましくは炭素数1〜4のアルキル基である。
本発明の化合物において、Siに結合した加水分解可能な基(−T)は、基材との間および化合物間で反応することにより結合し得、かかる基を有する化合物は、(例えば後述するシリコーンオイルや含フッ素オイルに比べて)優れた摩擦耐久性を発現し得る。
−SiTxR14 3−x
で表されるシリル基であってよい。この式中、TおよびR14はSiに結合する基であり、xは1、2または3である。
Tは水酸基または加水分解可能な基を表す。加水分解可能な基の例としては、−OA、−OCOA、−O−N=C(A)2、−N(A)2、−NHA、ハロゲン(これら式中、Aは、置換または非置換の炭素数1〜4のアルキル基を示す)などが挙げられ、好ましくは−OA(アルコキシ基)である。Aの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基;クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。
R14は水素原子または炭素数1〜22のアルキル基であり、好ましくは炭素数1〜22のアルキル基、より好ましくは炭素数1〜4のアルキル基である。
本発明の化合物において、Siに結合した加水分解可能な基(−T)は、基材との間および化合物間で反応することにより結合し得、かかる基を有する化合物は、(例えば後述するシリコーンオイルや含フッ素オイルに比べて)優れた摩擦耐久性を発現し得る。
上記一般式(I)中、Yは、シロキサン骨格を成すSiとZとの間を結合する連結基である。Yは、2価の有機基であればよく、好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12を有する。Yは、Xと同じであっても、異なっていてもよい。
より詳細には、Yは以下の式:
−(CH2)r−
で表される基であってよい。この式中、rは2以上20以下の整数、好ましくは2以上10以下の整数である。
−(CH2)r−
で表される基であってよい。この式中、rは2以上20以下の整数、好ましくは2以上10以下の整数である。
しかしながら、Yはこれらに限定されず、シロキサン骨格を成すSiとZとの間を結合する限り、任意の適切な2価の有機基を適用し得る。
上記一般式(I)中、aは1以上100以下、好ましくは1以上10以下、bは0以上100以下、好ましくは0以上20以下、cは0以上200以下、好ましくは0以上20以下、dは0以上200以下、好ましくは0以上50以下であり、bおよびcの和は少なくとも1、好ましくは1以上20以下である。1つの化合物のみに着目すれば、a、b、c、dは整数であるが、本発明の化合物は上記一般式(I)で表される複数の化合物の混合物であってよく、この場合、a、b、c、dは、かかる混合物の平均組成を表す実数であり得る。また、添字a、b、c、dを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、便宜上、式中では特定の順序で記載したが、これら繰り返し単位の結合順序はこれに限定されず、任意である。
かかるシロキサン骨格を有する化合物は、優れた表面滑り性(または潤滑性、例えば指紋等の目立ちにくさや、指に対する優れた触感)を発現し得る。
かかるシロキサン骨格を有する化合物は、優れた表面滑り性(または潤滑性、例えば指紋等の目立ちにくさや、指に対する優れた触感)を発現し得る。
以上、本発明の一般式(I)で表されるフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物について説明した。かかる化合物は、例えば1000〜30000の平均分子量を有することが好ましい。これにより、溶媒に対する高い溶解性が得られ、また、合成が容易であるという利点もある。なお、本発明において「平均分子量」は数平均分子量を言う。
かかる本発明のフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物は、任意の適切な方法によって製造可能である。
例えば、上記一般式(I)で表されるフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物は、以下の一般式(IIa):
(式中、R1〜R6、R8〜R12、a、b、c、dは上記の通りであり、典型的には、R4、R5、R6は同じであり得る。)で表される化合物を、以下の一般式(IIb)または(IIc):
Rf−(CH2)p−O−(CH2)q−2−CH=CH2 ・・・(IIb)
Rf−(CH2)s−CONH−(CH2)t−2−CH=CH2 ・・・(IIc)
(これら式中、Rf、p、q、s、tは上記の通りである。)で表される化合物、および、bがゼロでない場合には以下の一般式(IId):
CH2=CH−(CH2)r−2−Z ・・・(IId)
(式中、Z、rは上記の通りである。)で表される化合物とヒドロシリル化反応に付し、および、cがゼロでない場合にはR7OH(式中、R7は上記の通りである。)と脱水素カップリング反応に付すことにより得ることができる。
この例により得られるフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物について、一般式(I)中、Xは以下の式:
−(CH2)p−O−(CH2)q−
(式中、pおよびqは上記の通りであり、式の左端がRfに結合し、式の右端がSiに結合するものとする。)または以下の式:
−(CH2)s−CONH−(CH2)t−
(式中、sおよびtは上記の通りであり、式の左端がRfに結合し、式の右端がSiに結合するものとする。)で表される基となり、Yは以下の式:
−(CH2)r−
(式中、rは上記の通りである。)で表される基となる。
Rf−(CH2)p−O−(CH2)q−2−CH=CH2 ・・・(IIb)
Rf−(CH2)s−CONH−(CH2)t−2−CH=CH2 ・・・(IIc)
(これら式中、Rf、p、q、s、tは上記の通りである。)で表される化合物、および、bがゼロでない場合には以下の一般式(IId):
CH2=CH−(CH2)r−2−Z ・・・(IId)
(式中、Z、rは上記の通りである。)で表される化合物とヒドロシリル化反応に付し、および、cがゼロでない場合にはR7OH(式中、R7は上記の通りである。)と脱水素カップリング反応に付すことにより得ることができる。
この例により得られるフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物について、一般式(I)中、Xは以下の式:
−(CH2)p−O−(CH2)q−
(式中、pおよびqは上記の通りであり、式の左端がRfに結合し、式の右端がSiに結合するものとする。)または以下の式:
−(CH2)s−CONH−(CH2)t−
(式中、sおよびtは上記の通りであり、式の左端がRfに結合し、式の右端がSiに結合するものとする。)で表される基となり、Yは以下の式:
−(CH2)r−
(式中、rは上記の通りである。)で表される基となる。
これらヒドロシリル化反応および脱水素カップリング反応は、いずれも、無溶媒で、または溶媒中で進行させてよい。かかる溶媒の例としては、パーフルオロ脂肪族炭化水素、含フッ素置換基を有する芳香族炭化水素(例えばビス(トリフルオロメチル)ベンゼン)、ヒドロフルオロエーテルなどが挙げられ、これらを単独で、または2種以上を組み合わせて用い得る。
ヒドロシリル化反応は、白金などの触媒の存在下にて、例えば0〜130℃で、簡便には常圧下で実施され得る。一般式(IIb)または(IIc)の化合物とのヒドロシリル化反応および一般式(IId)の化合物とのヒドロシリル化反応を実施する場合には、これら一般式(IIb)または(IIc)の化合物および(IId)の化合物を予め溶媒中に混合しておき、触媒の存在下にて、上記一般式(IIa)の化合物を添加することにより、これらヒドロシリル化反応を一緒に実施することが、反応熱を制御できるので好ましい。
脱水素カップリング反応は、白金などの触媒の存在下にて、例えば0〜130℃で、簡便には常圧下で実施され得る。脱水素カップリング反応を実施する場合には、ヒドロシリル化反応を実施した後に、その反応混合物にR7OHを添加することにより、脱水素カップリング反応を実施することが、反応熱を制御できるので好ましい。
以上、本発明のフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物について、製造例を挙げて説明したが、本発明のフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物はかかる例によって製造されたものに限定されるものではない。
本発明の化合物は、下記するように表面処理剤において有用であるが、これに限定されず、例えば潤滑剤、相溶化剤としても用いることができる。
・表面処理剤
本発明の表面処理剤(または表面処理組成物)は、上述した本発明のフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物を含むものであればよい。
本発明の表面処理剤(または表面処理組成物)は、上述した本発明のフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物を含むものであればよい。
表面処理剤は、フルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物を主成分または有効成分として含んでいればよい。ここで、「主成分」とは、表面処理剤中の含量が50%を超える成分を言い、「有効成分」とは、表面処理すべき基材上に残留して表面処理層を形成し、何らかの機能(撥水性、撥油性、防汚性、表面滑り性、摩擦耐久性など)を発現させ得る成分を意味する。
本発明の表面処理剤は、上述のフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物を含んでおり、撥水性、撥油性、防汚性を有し、かつ、高い表面滑り性を有し、摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができるので、防汚性コーティング剤として好適に利用される。
更に、本発明の表面処理剤は、シリコーンオイルとして理解され得る(例えば非フッ素系)シリコーン化合物(以下、本発明のフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物と区別する趣旨で、「シリコーンオイル」と言う)を含んでいてもよい。シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を一層向上させるのに寄与する。
本発明の表面処理剤中、上記一般式(I)で表されるフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物100質量部に対して、シリコーンオイルは、例えば0〜80質量部、好ましくは0〜40質量部で含まれ得る。
かかるシリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が2000以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。
また、本発明の表面処理剤は、含フッ素オイルとして理解され得るフルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロポリエーテル化合物を含んでいてもよい(以下、本発明のフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物と区別する趣旨で、「含フッ素オイル」と言う)。含フッ素オイルは、表面処理層の表面滑り性を一層向上させるのに寄与する。
本発明の表面処理剤中、上記一般式(I)で表されるフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物100質量部に対して、含フッ素オイルは、例えば0〜80質量部、好ましくは0〜40質量部で含まれ得る。
かかる含フッ素オイルとしては、以下の一般式(IV)で表される化合物(パーフルオロポリエーテル化合物)が挙げられる。
R21−(OC4F8)k’’−(OC3F6)l’’−(OC2F4)m’’−(OCF2)n’’−R22 ・・・(IV)
式中、R21は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜16のアルキル基を表し、好ましくは1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜3のアルキル基である。好ましくは、上記1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいアルキル基は、末端炭素原子がCF2H−であり他のすべての炭素原子がフッ素により全置換されているフルオロアルキル基、またはパーフルオロアルキル基であり、より好ましくはパーフルオロアルキル基である。
R22は、水素原子、フッ素原子、または1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜16のアルキル基を表し、好ましくは1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜3のアルキル基である。好ましくは、上記1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいアルキル基は、末端炭素原子がCF2H−であり他のすべての炭素原子がフッ素により全置換されているフルオロアルキル基、またはパーフルオロアルキル基であり、より好ましくはパーフルオロアルキル基である。
k’’、l’’、m’’およびn’’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロポリエーテルの3種の繰り返し単位数をそれぞれ表わし、互いに独立して0以上300以下の整数であって、k’’、l’’、m’’およびn’’の和は少なくとも1、好ましくは1〜100である。添字k’’、l’’、m’’、n’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−(OC4F8)−は、−(OCF2CF2CF2CF2)−、−(OCF(CF3)CF2CF2)−、−(OCF2CF(CF3)CF2)−、−(OCF2CF2CF(CF3))−、−(OC(CF3)2CF2)−、−(OCF2C(CF3)2)−、−(OCF(CF3)CF(CF3))−、−(OCF(C2F5)CF2)−および−(OCF2CF(C2F5))−のいずれであってもよく、好ましくは−(OCF2CF2CF2CF2)−である。−(OC3F6)−は、−(OCF2CF2CF2)−、−(OCF(CF3)CF2)−および−(OCF2CF(CF3))−のいずれであってもよく、好ましくは−(OCF2CF2CF2)−である。−(OC2F4)−は、−(OCF2CF2)−および−(OCF(CF3))−のいずれであってもよいが、好ましくは−(OCF2CF2)−である。
R21−(OC4F8)k’’−(OC3F6)l’’−(OC2F4)m’’−(OCF2)n’’−R22 ・・・(IV)
式中、R21は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜16のアルキル基を表し、好ましくは1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜3のアルキル基である。好ましくは、上記1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいアルキル基は、末端炭素原子がCF2H−であり他のすべての炭素原子がフッ素により全置換されているフルオロアルキル基、またはパーフルオロアルキル基であり、より好ましくはパーフルオロアルキル基である。
R22は、水素原子、フッ素原子、または1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜16のアルキル基を表し、好ましくは1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜3のアルキル基である。好ましくは、上記1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいアルキル基は、末端炭素原子がCF2H−であり他のすべての炭素原子がフッ素により全置換されているフルオロアルキル基、またはパーフルオロアルキル基であり、より好ましくはパーフルオロアルキル基である。
k’’、l’’、m’’およびn’’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロポリエーテルの3種の繰り返し単位数をそれぞれ表わし、互いに独立して0以上300以下の整数であって、k’’、l’’、m’’およびn’’の和は少なくとも1、好ましくは1〜100である。添字k’’、l’’、m’’、n’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−(OC4F8)−は、−(OCF2CF2CF2CF2)−、−(OCF(CF3)CF2CF2)−、−(OCF2CF(CF3)CF2)−、−(OCF2CF2CF(CF3))−、−(OC(CF3)2CF2)−、−(OCF2C(CF3)2)−、−(OCF(CF3)CF(CF3))−、−(OCF(C2F5)CF2)−および−(OCF2CF(C2F5))−のいずれであってもよく、好ましくは−(OCF2CF2CF2CF2)−である。−(OC3F6)−は、−(OCF2CF2CF2)−、−(OCF(CF3)CF2)−および−(OCF2CF(CF3))−のいずれであってもよく、好ましくは−(OCF2CF2CF2)−である。−(OC2F4)−は、−(OCF2CF2)−および−(OCF(CF3))−のいずれであってもよいが、好ましくは−(OCF2CF2)−である。
上記一般式(IV)で表されるパーフルオロポリエーテル化合物の例として、以下の一般式(IVa)および(IVb)のいずれかで示される化合物(1種または2種以上の混合物であってよい)が挙げられる。
R21−(OCF2CF2CF2)l’’’−R22 ・・・(IVa)
R21−(OCF2CF2CF2CF2)k’’’−(OCF2CF2CF2)l’’’−(OCF2CF2)m’’’−(OCF2)n’’’−R22 ・・・(IVb)
これら式中、R21およびR22は上記の通りであり;式(IVa)中、l’’’は1以上100以下の整数であり;式(IVb)中、k’’’およびl’’’はそれぞれ独立して1以上30以下の整数であり、m’’’およびn’’’はそれぞれ独立して1以上300以下の整数である。これら式中、添字k’’’、l’’’、m’’’またはn’’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。)
R21−(OCF2CF2CF2)l’’’−R22 ・・・(IVa)
R21−(OCF2CF2CF2CF2)k’’’−(OCF2CF2CF2)l’’’−(OCF2CF2)m’’’−(OCF2)n’’’−R22 ・・・(IVb)
これら式中、R21およびR22は上記の通りであり;式(IVa)中、l’’’は1以上100以下の整数であり;式(IVb)中、k’’’およびl’’’はそれぞれ独立して1以上30以下の整数であり、m’’’およびn’’’はそれぞれ独立して1以上300以下の整数である。これら式中、添字k’’’、l’’’、m’’’またはn’’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。)
一般式(IVa)で示される化合物および一般式(IVb)で示される化合物は、それぞれ単独で用いても、組み合わせて用いてもよい。一般式(IVa)で示される化合物よりも、一般式(IVb)で示される化合物を用いるほうが、より高い表面滑り性が得られるので好ましい。これらを組み合わせて用いる場合、一般式(IVa)で表される化合物と、一般式(IVb)で表される化合物とを、質量比1:1〜1:30で使用することが好ましい。かかる質量比によれば、表面滑り性と摩擦耐久性のバランスに優れた表面処理剤を得ることができる。
また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Rf−F(式中、Rfは上記の通りで、好ましくはパーフルオロポリエーテル基である)で表される化合物であってよい。Rf−Fで表される化合物は、上記一般式(I)で表される各化合物と高い親和性が得られる点で好ましい。
含フッ素オイルは、1000〜30000の平均分子量を有することが好ましい。これにより、高い表面滑り性を得ることができる。より具体的には、所望の表面滑り性が得られるように、使用する第2化合物の構造に従って平均分子量のレベルを選択し得る。代表的には、一般式(IVa)で表される化合物の場合には、2000〜6000の平均分子量を有することが好ましく、一般式(IVb)で表される化合物の場合には、8000〜30000の平均分子量を有することが好ましい。これら平均分子量の範囲では、高い表面滑り性を得ることができる。
また、本発明の表面処理剤は、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含んでいてもよい。パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、表面処理層の撥水性、撥油性、防汚性、表面滑り性、摩擦耐久性に寄与し、とりわけ摩擦耐久性向上に寄与し得る。
本発明の表面処理剤中、上記一般式(I)で表されるフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物100質量部に対して、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、例えば0〜80質量部、好ましくは0〜40質量部で含まれ得る。
かかるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物としては、以下の一般式(Va)および(Vb)のいずれかで示される化合物(1種または2種以上の混合物であってよい)が挙げられる。
これら式中、R31は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜16のアルキル基を表し、好ましくは1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜3のアルキル基である。好ましくは、上記1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいアルキル基は、末端炭素原子がCF2H−であり他のすべての炭素原子がフッ素により全置換されているフルオロアルキル基、またはパーフルオロアルキル基であり、より好ましくはパーフルオロアルキル基である。
k、l、mおよびnは、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロポリエーテルの3種の繰り返し単位数をそれぞれ表わし、互いに独立して0以上200以下の整数であって、k、l、mおよびnの和は少なくとも1、好ましくは1〜100である。添字k、l、m、nを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−(OC4F8)−は、−(OCF2CF2CF2CF2)−、−(OCF(CF3)CF2CF2)−、−(OCF2CF(CF3)CF2)−、−(OCF2CF2CF(CF3))−、−(OC(CF3)2CF2)−、−(OCF2C(CF3)2)−、−(OCF(CF3)CF(CF3))−、−(OCF(C2F5)CF2)−および−(OCF2CF(C2F5))−のいずれであってもよいが、好ましくは−(OCF2CF2CF2CF2)−である。−(OC3F6)−は、−(OCF2CF2CF2)−、−(OCF(CF3)CF2)−および−(OCF2CF(CF3))−のいずれであってもよく、好ましくは−(OCF2CF2CF2)−である。−(OC2F4)−は、−(OCF2CF2)−および−(OCF(CF3))−のいずれであってもよいが、好ましくは−(OCF2CF2)−である。
eは0または1である。
fは1以上10以下の整数である。
gは0以上2以下の整数である。
X’は水素原子またはハロゲン原子を表す。ハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子、フッ素原子である。
Y’は水素原子または低級アルキル基を表す。低級アルキル基は、好ましくは炭素数1〜20のアルキル基である。
Z’はフッ素原子または低級フルオロアルキル基を表す。低級フルオロアルキル基は、例えば炭素数1〜3のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数1〜3のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、更に好ましくはトリフルオロメチル基である。
T’およびR32はSiに結合した基である。
T’は水酸基または加水分解可能な基を表す。加水分解可能な基の例としては、−OA、−OCOA、−O−N=C(A)2、−N(A)2、−NHA、ハロゲン(これら式中、Aは、置換または非置換の炭素数1〜3のアルキル基を示す)などが挙げられる。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。
R32は水素原子または炭素数1〜22のアルキル基を表し、好ましくは炭素数1〜22のアルキル基、より好ましくは炭素数1〜3のアルキル基である。
xは1、2または3である。
なお、式中、X’、Y’、Z’、T’、R32、e、f、g、xは複数存在するが、互いに同じであっても、異なっていてもよい。
k、l、mおよびnは、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロポリエーテルの3種の繰り返し単位数をそれぞれ表わし、互いに独立して0以上200以下の整数であって、k、l、mおよびnの和は少なくとも1、好ましくは1〜100である。添字k、l、m、nを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−(OC4F8)−は、−(OCF2CF2CF2CF2)−、−(OCF(CF3)CF2CF2)−、−(OCF2CF(CF3)CF2)−、−(OCF2CF2CF(CF3))−、−(OC(CF3)2CF2)−、−(OCF2C(CF3)2)−、−(OCF(CF3)CF(CF3))−、−(OCF(C2F5)CF2)−および−(OCF2CF(C2F5))−のいずれであってもよいが、好ましくは−(OCF2CF2CF2CF2)−である。−(OC3F6)−は、−(OCF2CF2CF2)−、−(OCF(CF3)CF2)−および−(OCF2CF(CF3))−のいずれであってもよく、好ましくは−(OCF2CF2CF2)−である。−(OC2F4)−は、−(OCF2CF2)−および−(OCF(CF3))−のいずれであってもよいが、好ましくは−(OCF2CF2)−である。
eは0または1である。
fは1以上10以下の整数である。
gは0以上2以下の整数である。
X’は水素原子またはハロゲン原子を表す。ハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子、フッ素原子である。
Y’は水素原子または低級アルキル基を表す。低級アルキル基は、好ましくは炭素数1〜20のアルキル基である。
Z’はフッ素原子または低級フルオロアルキル基を表す。低級フルオロアルキル基は、例えば炭素数1〜3のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数1〜3のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、更に好ましくはトリフルオロメチル基である。
T’およびR32はSiに結合した基である。
T’は水酸基または加水分解可能な基を表す。加水分解可能な基の例としては、−OA、−OCOA、−O−N=C(A)2、−N(A)2、−NHA、ハロゲン(これら式中、Aは、置換または非置換の炭素数1〜3のアルキル基を示す)などが挙げられる。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。
R32は水素原子または炭素数1〜22のアルキル基を表し、好ましくは炭素数1〜22のアルキル基、より好ましくは炭素数1〜3のアルキル基である。
xは1、2または3である。
なお、式中、X’、Y’、Z’、T’、R32、e、f、g、xは複数存在するが、互いに同じであっても、異なっていてもよい。
また、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の別の例として、以下の一般式(VIa)および(VIb)のいずれかで示される化合物(1種または2種以上の混合物であってよい)が挙げられる。
これら式中、R31は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜16のアルキル基を表し、好ましくは、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜3のアルキル基である。好ましくは、上記1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいアルキル基は、末端炭素原子がCF2H−であり他のすべての炭素原子がフッ素により全置換されているフルオロアルキル基、またはパーフルオロアルキル基であり、より好ましくはパーフルオロアルキル基である。
k、l、mおよびnは、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロポリエーテルの3種の繰り返し単位数をそれぞれ表わし、互いに独立して0以上200以下の整数であって、k、l、mおよびnの和は少なくとも1、好ましくは1〜100である。添字k、l、m、nを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−(OC4F8)−は、−(OCF2CF2CF2CF2)−、−(OCF(CF3)CF2CF2)−、−(OCF2CF(CF3)CF2)−、−(OCF2CF2CF(CF3))−、−(OC(CF3)2CF2)−、−(OCF2C(CF3)2)−、−(OCF(CF3)CF(CF3))−、−(OCF(C2F5)CF2)−および−(OCF2CF(C2F5))−のいずれであってもよいが、好ましくは−(OCF2CF2CF2CF2)−である。−(OC3F6)−は、−(OCF2CF2CF2)−、−(OCF(CF3)CF2)−および−(OCF2CF(CF3))−のいずれであってもよく、好ましくは−(OCF2CF2CF2)−である。−(OC2F4)−は、−(OCF2CF2)−および−(OCF(CF3))−のいずれであってもよいが、好ましくは−(OCF2CF2)−である。
eは0または1である。
hは1または2である。
iは2以上20以下の整数である。
Z’はフッ素原子または低級フルオロアルキル基を表す。低級フルオロアルキル基は、例えば炭素数1〜3のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数1〜3のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、更に好ましくはトリフルオロメチル基である。
T’およびR32はSiに結合した基である。
T’は水酸基または加水分解可能な基を表す。加水分解可能な基の例としては、−OA、−OCOA、−O−N=C(A)2、−N(A)2、−NHA、ハロゲン(これら式中、Aは、置換または非置換の炭素数1〜3のアルキル基を示す)などが挙げられる。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。
R32は水素原子または炭素数1〜22のアルキル基を表し、好ましくは炭素数1〜22のアルキル基、より好ましくは炭素数1〜3のアルキル基である。
xは1、0または3である。
なお、式中、Z’、T’、R32、e、h、i、xは複数存在するが、互いに同じであっても、異なっていてもよい。
k、l、mおよびnは、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロポリエーテルの3種の繰り返し単位数をそれぞれ表わし、互いに独立して0以上200以下の整数であって、k、l、mおよびnの和は少なくとも1、好ましくは1〜100である。添字k、l、m、nを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−(OC4F8)−は、−(OCF2CF2CF2CF2)−、−(OCF(CF3)CF2CF2)−、−(OCF2CF(CF3)CF2)−、−(OCF2CF2CF(CF3))−、−(OC(CF3)2CF2)−、−(OCF2C(CF3)2)−、−(OCF(CF3)CF(CF3))−、−(OCF(C2F5)CF2)−および−(OCF2CF(C2F5))−のいずれであってもよいが、好ましくは−(OCF2CF2CF2CF2)−である。−(OC3F6)−は、−(OCF2CF2CF2)−、−(OCF(CF3)CF2)−および−(OCF2CF(CF3))−のいずれであってもよく、好ましくは−(OCF2CF2CF2)−である。−(OC2F4)−は、−(OCF2CF2)−および−(OCF(CF3))−のいずれであってもよいが、好ましくは−(OCF2CF2)−である。
eは0または1である。
hは1または2である。
iは2以上20以下の整数である。
Z’はフッ素原子または低級フルオロアルキル基を表す。低級フルオロアルキル基は、例えば炭素数1〜3のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数1〜3のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、更に好ましくはトリフルオロメチル基である。
T’およびR32はSiに結合した基である。
T’は水酸基または加水分解可能な基を表す。加水分解可能な基の例としては、−OA、−OCOA、−O−N=C(A)2、−N(A)2、−NHA、ハロゲン(これら式中、Aは、置換または非置換の炭素数1〜3のアルキル基を示す)などが挙げられる。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。
R32は水素原子または炭素数1〜22のアルキル基を表し、好ましくは炭素数1〜22のアルキル基、より好ましくは炭素数1〜3のアルキル基である。
xは1、0または3である。
なお、式中、Z’、T’、R32、e、h、i、xは複数存在するが、互いに同じであっても、異なっていてもよい。
上記一般式(Va)、(Vb)、(VIa)、(VIb)中、−(OC4F8)k−(OC3F6)l−(OC2F4)m−(OCF2)n−は、−(OCF2CF2CF2)l’−であってよい。式中、l’は1以上200以下の整数、好ましくは1以上100以下の整数である。また、代表的には、Z’はフッ素原子であり、eは1である。
パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の分子量は、特に限定されないが、例えば1000〜12000の平均分子量を有していてよい。かかる範囲の中でも、2000〜10000の平均分子量を有することが、撥水性、撥油性、表面滑り性(例えば指紋拭き取り性)および摩擦耐久性の観点から好ましい。
本発明の表面処理剤は、基材に対して非反応性である化合物(例えばシリコーンオイルおよび/または含フッ素オイル)と、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の双方を含んでいてもよい。この場合、本発明の表面処理剤中、上記一般式(I)で表されるフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物100質量部に対して、基材に対して非反応性である化合物は、例えば0〜80質量部、好ましくは0〜40質量部で含まれ得、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、例えば0〜80質量部、好ましくは0〜40質量部で含まれ得る。
・物品
次に、かかる表面処理剤を使用して得られる物品について説明する。本発明の物品は、基材と、該基材の表面において上述のフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物または表面処理剤(以下、これらを代表して単に表面処理剤と言う)より形成された層(表面処理層)とを含む。この物品は、例えば以下のようにして製造できる。
次に、かかる表面処理剤を使用して得られる物品について説明する。本発明の物品は、基材と、該基材の表面において上述のフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物または表面処理剤(以下、これらを代表して単に表面処理剤と言う)より形成された層(表面処理層)とを含む。この物品は、例えば以下のようにして製造できる。
まず、基材を準備する。本発明に使用可能な基材は、例えばガラス、樹脂(天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい)、金属(アルミニウム、銅、鉄等の金属単体または合金等の複合体であってよい)、セラミックス、半導体(シリコン、ゲルマニウム等)、繊維(織物、不織布等)、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、任意の適切な材料で構成され得る。
例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面(最外層)に何らかの層(または膜)、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、SiO2、SiO、ZrO2、TiO2、TiO、Ti2O3、Ti2O5、Al2O3、Ta2O5、CeO2、MgO、Y2O3、SnO2、MgF2、WO3などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの2種以上を組み合わせて(例えば混合物として)使用してよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはSiO2および/またはSiOを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ(ITO)や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材(ガラス)の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層(I−CON)、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。
基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。
かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属(特に卑金属)、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理(例えばコロナ放電)や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する(異物等を除去する)ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をLB法(ラングミュア−ブロジェット法)や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。
またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばSi−H基を1つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。
次に、かかる基材の表面に、上記の表面処理剤の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより、表面処理剤から表面処理層を形成する。
表面処理剤の膜形成は、上記の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。
湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。
乾燥被覆法の例としては、真空蒸着、スパッタリング、CVDおよび類似の方法が挙げられる。真空蒸着法の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。CVD方法の具体例としては、プラズマ−CVD、光学CVD、熱CVDおよび類似の方法が挙げられる。
更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。
湿潤被覆法を使用する場合、表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される:炭素数5〜12のパーフルオロ脂肪族炭化水素(例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ−1,3−ジメチルシクロヘキサン);ポリフルオロ芳香族炭化水素(例えば、ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン);ポリフルオロ脂肪族炭化水素;ヒドロフルオロエーテル(HFE)(例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル(C3F7OCH3)、パーフルオロブチルメチルエーテル(C4F9OCH3)、パーフルオロブチルエチルエーテル(C4F9OC2H5)、パーフルオロヘキシルメチルエーテル(C2F5CF(OCH3)C3F7)などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル(パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい))など。これらの溶媒は、単独で、または、2種以上の混合物として用いることができる。なかでも、パーフルオロブチルメチルエーテル(C4F9OCH3)および/またはヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルエチルエーテル(C4F9OC2H5)が特に好ましい。
膜形成は、膜中で表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した表面処理剤をそのまま真空蒸着処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて真空蒸着処理をしてもよい。
触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。
次に、必要に応じて、膜を後処理する。この後処理は、特に限定されないが、例えば、水分供給および乾燥加熱を逐次的に実施するものであってよく、より詳細には、以下のようにして実施してよい。なお、上記一般式(I)で表される化合物中、Zに含まれるTが全て水酸基である(および存在する場合には、上記一般式(Va)、(Vb)、(VIa)および(VIb)のいずれかで表される化合物中、T’が全て水酸基である)場合には、水分供給は必ずしも要しない。
上記のようにして基材表面に表面処理剤を膜形成した後、この膜(以下、前駆体膜とも言う)に水分を供給する。水分の供給方法は、特に限定されず、例えば、前駆体膜(および基材)と周囲雰囲気との温度差による結露や、水蒸気(スチーム)の吹付けなどの方法を使用してよい。
前駆体膜に水分が供給されると、表面処理剤中のフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物(および存在する場合には、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物)のSiに結合した加水分解可能な基に水が作用し、当該化合物を速やかに加水分解させることができると考えられる。
水分の供給は、例えば0〜500℃、好ましくは100℃以上で、300℃以下の雰囲気下にて実施し得る。このような温度範囲において水分を供給することにより、加水分解を進行させることが可能である。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。
次に、該前駆体膜を該基材の表面で、60℃を超える乾燥雰囲気下にて加熱する。乾燥加熱方法は、特に限定されず、前駆体膜を基材と共に、60℃を超え、好ましくは100℃を超える温度であって、例えば500℃以下、好ましくは300℃以下の温度で、かつ不飽和水蒸気圧の雰囲気下に配置すればよい。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。
このような雰囲気下では、フルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物(および存在する場合には、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物)間では、加水分解後のSiに結合した基(上記一般式(I)で表される化合物中、Zに含まれるTが全て水酸基である場合にはその水酸基である。以下も同様)同士が速やかに脱水縮合する。また、かかる化合物と基材との間では、当該化合物の加水分解後のSiに結合した基と、基材表面に存在する反応性基との間で速やかに反応し、基材表面に存在する反応性基が水酸基である場合には脱水縮合する。(なお、このように結合した化合物間に、存在する場合には、シリコーンオイルおよび/または含フッ素オイルが混在することとなる。)この結果、フルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物(および存在する場合には、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物)間で結合が形成され、また、当該化合物と基材との間で結合が形成される(および存在する場合には、シリコーンオイルおよび/または含フッ素オイルがフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物(およびパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物)に対する親和性により保持または捕捉される)。
上記の水分供給および乾燥加熱は、過熱水蒸気を用いることにより連続的に実施してもよい。
過熱水蒸気は、飽和水蒸気を沸点より高い温度に加熱して得られるガスであって、常圧下では、100℃を超え、一般的には500℃以下、例えば300℃以下の温度で、かつ、沸点を超える温度への加熱により不飽和水蒸気圧となったガスである。前駆体膜を形成した基材を過熱水蒸気に曝すと、まず、過熱水蒸気と、比較的低温の前駆体膜との間の温度差により、前駆体膜表面にて結露が生じ、これによって前駆体膜に水分が供給される。やがて、過熱水蒸気と前駆体膜との間の温度差が小さくなるにつれて、前駆体膜表面の水分は過熱水蒸気による乾燥雰囲気中で気化し、前駆体膜表面の水分量が次第に低下する。前駆体膜表面の水分量が低下している間、即ち、前駆体膜が乾燥雰囲気下にある間、基材の表面の前駆体膜は過熱水蒸気と接触することによって、この過熱水蒸気の温度(常圧下では100℃を超える温度)に加熱されることとなる。従って、過熱水蒸気を用いれば、前駆体膜を形成した基材を過熱水蒸気に曝すだけで、水分供給と乾燥加熱とを連続的に実施することができる。
以上のようにして後処理が実施され得る。かかる後処理は、摩擦耐久性を一層向上させるために実施され得るが、本発明の物品を製造するのに必須でないことに留意されたい。例えば、表面処理剤を基材表面に適用した後、そのまま静置しておくだけでもよい。
上記のようにして、基材の表面に、表面処理剤の膜に由来する表面処理層が形成され、本発明の物品が製造される。これにより得られる表面処理層は、撥水性、撥油性、防汚性(例えば指紋等の汚れの付着を防止する)、表面滑り性(または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感)、摩擦耐久性などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。
これによって得られる表面処理層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる:眼鏡などのレンズ;PDP、LCDなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板;携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート;ブルーレイ(Blu-ray)ディスク、DVDディスク、CD−R、MOなどの光ディスクのディスク面;光ファイバーなど。
表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、1〜30nm、好ましくは1〜15nmの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。
以上、本発明の表面処理剤を使用して得られる物品について詳述した。なお、本発明の表面処理剤の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。
本発明の表面処理剤およびそれを使用して得られる物品について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
(実施例)
実施例1〜4として、それぞれ下記の合成例1〜4にてフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物を合成し、更に、これらより得られた各化合物を用いて表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
実施例1〜4として、それぞれ下記の合成例1〜4にてフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物を合成し、更に、これらより得られた各化合物を用いて表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
・合成例1
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた200mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3CF2CF2O-(CF2CF2CF2O)20-CF2CF2CH2OCH2CH=CH2で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリルエーテル40gと、m−キシレンヘキサフロライド(溶媒)40gと、1,2−ジビニルテトラメチルシロキサンとの錯体としてPt(触媒)を4mg含むキシレン溶液0.1mLとを入れて、5℃で撹拌した。その後、平均組成Me3SiO-(Me2SiO)13-(MeHSiO)13-SiMe3(記号Meはメチル基を表し、以下も同様とする)で表されるシロキサン19gを滴下した。続いて、エタノール10gを滴下し、室温まで昇温させて2時間攪拌した。その後、加熱により60℃まで昇温させて2時間攪拌し、続いて減圧下で溶媒などを留去して、以下の式で表される化合物1を得た。
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた200mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3CF2CF2O-(CF2CF2CF2O)20-CF2CF2CH2OCH2CH=CH2で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリルエーテル40gと、m−キシレンヘキサフロライド(溶媒)40gと、1,2−ジビニルテトラメチルシロキサンとの錯体としてPt(触媒)を4mg含むキシレン溶液0.1mLとを入れて、5℃で撹拌した。その後、平均組成Me3SiO-(Me2SiO)13-(MeHSiO)13-SiMe3(記号Meはメチル基を表し、以下も同様とする)で表されるシロキサン19gを滴下した。続いて、エタノール10gを滴下し、室温まで昇温させて2時間攪拌した。その後、加熱により60℃まで昇温させて2時間攪拌し、続いて減圧下で溶媒などを留去して、以下の式で表される化合物1を得た。
・合成例2
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた200mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3CF2CF2O-(CF2CF2CF2O)20-CF2CF2CH2OCH2CH=CH2で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリルエーテル40gと、アリルトリメトキシシラン1.6g、m−キシレンヘキサフロライド(溶媒)40gと、1,2−ジビニルテトラメチルシロキサンとの錯体としてPt(触媒)を4mg含むキシレン溶液0.1mLとを入れて、5℃で撹拌した。その後、平均組成Me3SiO-(Me2SiO)13-(MeHSiO)13-SiMe3で表されるシロキサン19gを滴下した。続いて、メタノール10gを滴下し、室温まで昇温させて2時間攪拌した。その後、加熱により60℃まで昇温させて2時間攪拌し、続いて減圧下で溶剤などを留去して、以下の式で表される化合物2を得た。
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた200mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3CF2CF2O-(CF2CF2CF2O)20-CF2CF2CH2OCH2CH=CH2で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリルエーテル40gと、アリルトリメトキシシラン1.6g、m−キシレンヘキサフロライド(溶媒)40gと、1,2−ジビニルテトラメチルシロキサンとの錯体としてPt(触媒)を4mg含むキシレン溶液0.1mLとを入れて、5℃で撹拌した。その後、平均組成Me3SiO-(Me2SiO)13-(MeHSiO)13-SiMe3で表されるシロキサン19gを滴下した。続いて、メタノール10gを滴下し、室温まで昇温させて2時間攪拌した。その後、加熱により60℃まで昇温させて2時間攪拌し、続いて減圧下で溶剤などを留去して、以下の式で表される化合物2を得た。
・合成例3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた200mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3CF2CF2O-(CF2CF2CF2O)20-CF2CF2CH2OCH2CH=CH2で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリルエーテル40gと、m−キシレンヘキサフロライド(溶媒)40gと、1,2−ジビニルテトラメチルシロキサンとの錯体としてPt(触媒)を4mg含むキシレン溶液0.1mLとを入れて、5℃で撹拌した。その後、平均組成Me3SiO-(Me2SiO)5-(MeHSiO)5-SiMe3で表されるシロキサン8.4gを滴下した。続いて、メタノール10gを滴下し、室温まで昇温させて2時間攪拌した。その後、加熱により60℃まで昇温させて2時間攪拌し、続いて減圧下で溶剤などを留去して、以下の式で表される化合物3を得た。
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた200mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3CF2CF2O-(CF2CF2CF2O)20-CF2CF2CH2OCH2CH=CH2で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリルエーテル40gと、m−キシレンヘキサフロライド(溶媒)40gと、1,2−ジビニルテトラメチルシロキサンとの錯体としてPt(触媒)を4mg含むキシレン溶液0.1mLとを入れて、5℃で撹拌した。その後、平均組成Me3SiO-(Me2SiO)5-(MeHSiO)5-SiMe3で表されるシロキサン8.4gを滴下した。続いて、メタノール10gを滴下し、室温まで昇温させて2時間攪拌した。その後、加熱により60℃まで昇温させて2時間攪拌し、続いて減圧下で溶剤などを留去して、以下の式で表される化合物3を得た。
・合成例4
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた200mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3CF2CF2O-(CF2CF2CF2O)20-CF2CF2CH2OCH2CH=CH2で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリルエーテル40gと、アリルトリメトキシシラン7.0gと、m−キシレンヘキサフロライド(溶媒)40gと、1,2−ジビニルテトラメチルシロキサンとの錯体としてPt(触媒)を4mg含むキシレン溶液0.1mLとを入れて、5℃で撹拌した。その後、平均組成Me3SiO-(Me2SiO)5-(MeHSiO)5-SiMe3で表されるシロキサン8.4gを滴下した。続いて、室温まで昇温させて2時間攪拌した。その後、加熱により60℃まで昇温させて2時間攪拌し、続いて減圧下で溶剤などを留去して、以下の式で表される化合物4を得た。
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた200mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3CF2CF2O-(CF2CF2CF2O)20-CF2CF2CH2OCH2CH=CH2で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリルエーテル40gと、アリルトリメトキシシラン7.0gと、m−キシレンヘキサフロライド(溶媒)40gと、1,2−ジビニルテトラメチルシロキサンとの錯体としてPt(触媒)を4mg含むキシレン溶液0.1mLとを入れて、5℃で撹拌した。その後、平均組成Me3SiO-(Me2SiO)5-(MeHSiO)5-SiMe3で表されるシロキサン8.4gを滴下した。続いて、室温まで昇温させて2時間攪拌した。その後、加熱により60℃まで昇温させて2時間攪拌し、続いて減圧下で溶剤などを留去して、以下の式で表される化合物4を得た。
・表面処理剤(表面処理組成物)の調製
上記合成例1〜4で得た化合物1〜4(パーフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物)を、濃度20wt%になるように、1,3−トリフルオロメチルベンゼンにそれぞれ溶解させて、表面処理剤1〜4を調製した。
上記合成例1〜4で得た化合物1〜4(パーフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物)を、濃度20wt%になるように、1,3−トリフルオロメチルベンゼンにそれぞれ溶解させて、表面処理剤1〜4を調製した。
・表面処理層の形成
上記で調製した各表面処理剤をスライドガラス上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、圧力3.0×10−3Paとし、スライドガラス1枚あたり、各表面処理剤1mgを蒸着させた。その後、蒸着膜付きスライドガラスを、温度20℃および湿度65%の雰囲気下で24時間静置した。これにより、蒸着膜が硬化して、表面処理層が形成された。
上記で調製した各表面処理剤をスライドガラス上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、圧力3.0×10−3Paとし、スライドガラス1枚あたり、各表面処理剤1mgを蒸着させた。その後、蒸着膜付きスライドガラスを、温度20℃および湿度65%の雰囲気下で24時間静置した。これにより、蒸着膜が硬化して、表面処理層が形成された。
(比較例)
化合物1〜4に代えて、比較例1〜2では以下の対照化合物1〜2を使用し、比較例3では以下の組成物1を使用したこと以外は、上記実施例と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
・対照化合物1
Me3SiO-(Me2SiO)13-(MeHSiO)13-SiMe3
・対照化合物2
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)3
・組成物1
対照化合物1と対照化合物2を1:1の質量比で混合した組成物。
化合物1〜4に代えて、比較例1〜2では以下の対照化合物1〜2を使用し、比較例3では以下の組成物1を使用したこと以外は、上記実施例と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
・対照化合物1
Me3SiO-(Me2SiO)13-(MeHSiO)13-SiMe3
・対照化合物2
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)3
・組成物1
対照化合物1と対照化合物2を1:1の質量比で混合した組成物。
(評価)
上記実施例および比較例により得られたスライドガラス上の表面処理層の表面をエタノールを含浸させたウエスで拭き取った後、表面処理層について、撥水撥油性、動摩擦係数(表面滑り性)、油性インク拭き取り性、指での使用感を下記の通り評価/測定した。これらの結果を表1に示す。
上記実施例および比較例により得られたスライドガラス上の表面処理層の表面をエタノールを含浸させたウエスで拭き取った後、表面処理層について、撥水撥油性、動摩擦係数(表面滑り性)、油性インク拭き取り性、指での使用感を下記の通り評価/測定した。これらの結果を表1に示す。
[撥水撥油性]
接触角計(協和界面科学株式会社製、「DropMaster」)を用いて、上記にて作製したスライドガラス上の表面処理層の水(1μL)に対する接触角およびノルマルヘキサデカン(1μL)に対する接触角を測定した。
接触角計(協和界面科学株式会社製、「DropMaster」)を用いて、上記にて作製したスライドガラス上の表面処理層の水(1μL)に対する接触角およびノルマルヘキサデカン(1μL)に対する接触角を測定した。
[動摩擦係数(表面滑り性)]
表面性測定機(「トライボギア TYPE:14FW」、新東科学株式会社製)を用いて、摩擦子として鋼球を用いて、ASTM D1894に準拠し、動摩擦係数(−)を測定した。
表面性測定機(「トライボギア TYPE:14FW」、新東科学株式会社製)を用いて、摩擦子として鋼球を用いて、ASTM D1894に準拠し、動摩擦係数(−)を測定した。
[油性インク拭き取り性]
油性マーキングペン(ゼブラ株式会社製、「ハイマッキー」(登録商標))を用いて油性インクを表面処理層の表面に塗り、これをパルプ製ウエス(日本製紙クレシア株式会社製、「キムワイプ」(登録商標))で拭き取る操作(手でウエスを処理表面に押し当てて一方向に滑らせる操作)を行って、油性インクの拭き取り性(拭き取り易さ)を下記指標に従って目視により評価した。
A:1回の拭き取り操作で簡単に完全にインクを拭き取れる
B:1回の拭き取り操作では少しインクが残る
C:1回の拭き取り操作では半分ほどインクが残る
D:1回の拭き取り操作ではインクを全く拭きとれない
油性マーキングペン(ゼブラ株式会社製、「ハイマッキー」(登録商標))を用いて油性インクを表面処理層の表面に塗り、これをパルプ製ウエス(日本製紙クレシア株式会社製、「キムワイプ」(登録商標))で拭き取る操作(手でウエスを処理表面に押し当てて一方向に滑らせる操作)を行って、油性インクの拭き取り性(拭き取り易さ)を下記指標に従って目視により評価した。
A:1回の拭き取り操作で簡単に完全にインクを拭き取れる
B:1回の拭き取り操作では少しインクが残る
C:1回の拭き取り操作では半分ほどインクが残る
D:1回の拭き取り操作ではインクを全く拭きとれない
[指での使用感]
官能評価の専門パネラー20名が、処理表面を指で触り、その使用感を次の基準で評価し、その平均を求めた。
4:非常に良い
3:良い
2:普通
1:悪い
官能評価の専門パネラー20名が、処理表面を指で触り、その使用感を次の基準で評価し、その平均を求めた。
4:非常に良い
3:良い
2:普通
1:悪い
表1から理解されるように、本発明のフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物を用いた実施例1〜4では、対照化合物1(ポリオルガノシリコーン化合物)を用いた比較例1に準じる程度に小さい動摩擦係数(高い表面滑り性)および優れた指での使用感が得られると共に、対照化合物2(パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物)を用いた比較例2に準じる程度に高い撥水撥油性(大きい接触角)および優れた油性インク拭き取り性が得られた。本発明のフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物を用いた実施例1〜4では、対照化合物1および2を単に混合した組成物1を使用した比較例3よりも、撥水撥油性が高く(接触角が大きく)、動摩擦係数が小さく(表面滑り性が高く)、油性インク拭き取り性および指での使用感に優れていた。
本発明は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。
Claims (14)
- 前記一般式(I)において、Rfは以下の式:
R13−(OC4F8)k−(OC3F6)l−(OC2F4)m−(OCF2)n−
(式中、R13は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜16のアルキル基であり、k、l、mおよびnは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、k、l、mおよびnの和は少なくとも1であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。)で表わされるパーフルオロポリエーテル基である、請求項1に記載のフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物。 - 前記一般式(I)において、Rfは以下の式:
CF3CF2CF2−(OCF2CF2CF2)l’−OCF2CF2−
(式中、l’は1以上200以下の整数である。)で表わされるパーフルオロポリエーテル基である、請求項2に記載のフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物。 - 前記一般式(I)において、Zは以下の式:
−SiTxR14 3−x
(式中、Tは水酸基または加水分解可能な基であり、R14は水素原子または炭素数1〜22のアルキル基であり、xは1、2または3である。)で表されるシリル基である、請求項1〜3のいずれかに記載のフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物。 - 前記一般式(I)において、R7が炭素数1〜4のアルキル基である、請求項1〜4のいずれかに記載のフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物。
- 前記一般式(I)において、Xは以下の式:
−(CH2)p−O−(CH2)q−
(式中、pは1以上20以下の整数であり、qは2以上20以下の整数である。)で表される基である、請求項1〜5のいずれかに記載のフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物。 - 前記一般式(I)において、Xは以下の式:
−(CH2)s−CONH−(CH2)t−
(式中、sは0以上10以下の整数であり、tは2以上10以下の整数である。)で表される基である、請求項1〜5のいずれかに記載のフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物。 - 前記一般式(I)において、Yは以下の式:
−(CH2)r−
(式中、rは2以上20以下の整数である。)で表される基である、請求項1〜7のいずれかに記載のフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物。 - 前記一般式(I)のRfにおいて、R13は、炭素数1〜16のパーフルオロアルキル基である、請求項2〜8のいずれかに記載のフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物。
- 請求項1〜9のいずれかに記載のフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物を含む、表面処理剤。
- 防汚性コーティング剤として使用される、請求項10に記載の表面処理剤。
- 基材と、該基材の表面に、請求項1〜9のいずれかに記載のフルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物あるいは請求項10または11に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
- 前記物品が光学部材である、請求項12に記載の物品。
- 前記基材が、ガラスまたは透明プラスチックである、請求項12または13に記載の物品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013041543A JP5472503B2 (ja) | 2012-03-30 | 2013-03-04 | フルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012080837 | 2012-03-30 | ||
JP2012080837 | 2012-03-30 | ||
JP2013041543A JP5472503B2 (ja) | 2012-03-30 | 2013-03-04 | フルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013227506A true JP2013227506A (ja) | 2013-11-07 |
JP5472503B2 JP5472503B2 (ja) | 2014-04-16 |
Family
ID=49259383
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013041543A Active JP5472503B2 (ja) | 2012-03-30 | 2013-03-04 | フルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5472503B2 (ja) |
WO (1) | WO2013146111A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106832294B (zh) * | 2017-01-21 | 2019-10-29 | 苏州逸微光电科技有限公司 | 一种新型氟硅聚合物以及表面处理剂 |
CN107400461B (zh) * | 2017-08-30 | 2019-08-06 | 合众(佛山)化工有限公司 | 一种高硬度哑光陶瓷防污剂及其制备方法 |
CN113661199B (zh) * | 2019-11-18 | 2022-12-16 | 广东核心新材料股份有限公司 | 一种氟硅表面活性剂、制备方法及应用 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0827456A (ja) * | 1994-04-20 | 1996-01-30 | Asahi Glass Co Ltd | 表面処理剤および表面処理された基材 |
JPH1180667A (ja) * | 1997-09-05 | 1999-03-26 | Asahi Glass Co Ltd | 表面処理剤、表面処理剤組成物、および表面処理された基板 |
JP2000169835A (ja) * | 1998-12-04 | 2000-06-20 | Asahi Glass Co Ltd | 撥水撥油性基材 |
JP2009541498A (ja) * | 2006-06-21 | 2009-11-26 | ダイキン工業株式会社 | フルオロシリコーン離型組成物 |
-
2013
- 2013-03-04 WO PCT/JP2013/055873 patent/WO2013146111A1/ja active Application Filing
- 2013-03-04 JP JP2013041543A patent/JP5472503B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0827456A (ja) * | 1994-04-20 | 1996-01-30 | Asahi Glass Co Ltd | 表面処理剤および表面処理された基材 |
JPH1180667A (ja) * | 1997-09-05 | 1999-03-26 | Asahi Glass Co Ltd | 表面処理剤、表面処理剤組成物、および表面処理された基板 |
JP2000169835A (ja) * | 1998-12-04 | 2000-06-20 | Asahi Glass Co Ltd | 撥水撥油性基材 |
JP2009541498A (ja) * | 2006-06-21 | 2009-11-26 | ダイキン工業株式会社 | フルオロシリコーン離型組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5472503B2 (ja) | 2014-04-16 |
WO2013146111A1 (ja) | 2013-10-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5376082B2 (ja) | フルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物 | |
JP5713079B2 (ja) | パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および表面処理剤 | |
JP5621864B2 (ja) | フルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物 | |
JP6575721B1 (ja) | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 | |
JP5835512B2 (ja) | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 | |
JP6156274B2 (ja) | 表面処理組成物およびそれを使用して得られる物品 | |
JP5761305B2 (ja) | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 | |
JP6163796B2 (ja) | パーフルオロポリエーテル基含有シラザン化合物 | |
JP5397561B2 (ja) | フルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物 | |
JP2015511174A (ja) | 含フッ素シラン系膜を有する物品の製造方法 | |
JP5354125B1 (ja) | 光学部材用表面処理剤および光学部材 | |
JP5472503B2 (ja) | フルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140107 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140120 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5472503 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |