JP2013219401A - プラズマ処理方法のRun−to−Run制御方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】Run-to-Run制御によるプラズマ処理を試料に施すプラズマ処理方法におけるRun-to-Run制御方法であって、ウエットクリーニング実施時とロット処理とで得られるプロセス量のモニター値を参照して、次回のプラズマ処理時のモニター値を推定し、真空処理室のプロセス量を制御する際の制御量とモニター値との相関関係から制御モデルを導出し、次回のプラズマ処理をする際、モニター値推定手段により推定されたモニター値と目標値との偏差をもとに制御量を計算してプロセス量を制御する。
【選択図】図1
Description
N1:ウェットクリーニングからの処理枚数
B1、C1、D1:長期変動モデル係数
ここでは、N1をウェットクリーニングからの処理枚数としたが、長期変動モデルをリセットするような処理があれば、それを起点とした処理枚数をN1とすることもできる。
N2:ロット内の処理枚数
A2、B2、C2:短期変動モデル係数
制御モデル23は、ガス変更量26(X3)を入力、プラズマ発光モニター値20を出力として、例えば、式3で示すモデルで表される。
X3:制御量
A3:制御モデル係数
プロセスチャンバ100からの出力103は、各モデルの出力18,19,20の組み合わせとして表される。
まず、ステップ604で求めた制御しなかった場合のモニター値をプロットすると、図中の点31となる。モデル移動方法の1つは、移動前の短期変動モデル32を、制御しなかった場合のモニター値31に重なるように平行移動させると移動後の短期変動モデル33となる。例えば、2式で示される短期変動モデルでは、制御しなかった場合のモニター値31を通るように、C2の値を変更することで平行移動することができる。
101 アクチュエータ
102 プロセスモニター
109 長期変動モデルデータベース
110 短期変動モデルデータベース
111 制御量計算手段
113 レシピ
114 装置コントローラ
115 制御モデルデータベース
116 処理履歴管理部
Claims (5)
- Run-to-Run制御によるプラズマ処理を試料に施すプラズマ処理方法のRun-to-Run制御方法において、
ウエットクリーニング実施時から次回のウエットクリーニング実施時までの期間に渡り、プラズマ処理された試料の枚数と前記枚数の試料をプラズマ処理したときに得られるプロセス量のモニター値の相関関係から第一のモニター量変動モデルを導出し、
ロット処理の開始からロット処理の終了までの期間に渡り、プラズマ処理された試料の枚数と前記枚数の試料をプラズマ処理したときに得られるプロセス量のモニター値の相関関係から第二のモニター量変動モデルを導出し、
ウエットクリーニング実施時からのプラズマ処理された試料の枚数およびロット処理の開始時からのプラズマ処理された試料の枚数を記憶し、
前記第一のモニター量変動モデルと前記第二のモニター量変動モデルを参照して、次回のプラズマ処理時のモニター値を推定し、
前記真空処理室のプロセス量を制御する際の制御量とモニター値との相関関係から制御モデルを導出し、
次回のプラズマ処理をする際、前記推定されたモニター値と目標値との偏差をもとに前記制御量を計算することを特徴とするRun-to-Run制御方法。 - 請求項1に記載のRun-to-Run制御方法において、
前記第一のモニター量変動モデルは、ウエットクリーニング実施の毎にリセットされることを特徴とするRun-to-Run制御方法。 - 請求項1に記載のRun-to-Run制御方法において、
前記次回のプラズマ処理は、今回のプラズマ処理と同じ製品処理あるいはクリーニング処理であることを特徴とするRun-to-Run制御方法。 - 請求項1に記載のRun-to-Run制御方法において、
今回のプラズマ処理は製品処理であり、前記次回のプラズマ処理はクリーニング処理であることを特徴とするRun-to-Run制御方法。 - 請求項1に記載のRun-to-Run制御方法において、
今回のプラズマ処理はクリーニング処理であり、前記次回のプラズマ処理は製品処理であることを特徴とするRun-to-Run制御方法。
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