JP2013215575A5

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Publication number: JP2013215575A5
Application number: JP2013077863A
Authority: JP
Filing date: 2013-04-03
Publication date: 2016-03-24
Anticipated expiration: 2033-04-03

Claims

ＭＲ（磁気共鳴）信号の収集時に検査対象（１３）の少なくとも２つの異なるスライス（１４、１５）からＭＲ信号が同時に検出されるスライス多重化方式において検査対象のＭＲ信号の収集時の信号位相を補正する方法であって、
少なくとも２つのスライス（１４、１５）のそれぞれについてスライス選択方向の線形補正位相を決定し、
少なくとも２つの異なるスライスのそれぞれに、スライス固有の周波数を有するＨＦ（高周波）励起パルス（２９、３０、６０ａ、６０ｂ）を照射し、
異なるＨＦ励起パルス（２９、３０、６０ａ、６０ｂ）が少なくとも２つの異なるスライス（１４、１５）に照射されるスライス選択期間（２７）の間、スライス選択グラジエント（２６、６１）を照射し、スライス選択期間（２７）がスライス選択期間の中心に時間中心（２８）を持ち、少なくとも２つの異なるスライスのための異なるＨＦ励起パルス（２９、３０、６０ａ、６０ｂ）が時間的にオーバーラップしており、
各スライスの線形補正位相に相当するスライス選択方向のスライス固有の補正グラジエントモーメントが各スライス（１４、１５）の磁化に影響するように、ＨＦ励起パルス（２９、３０、６０ａ、６０ｂ）のそれぞれについて時間中心（２８）に対するＨＦ励起パルスの時間的ずれを決定する
検査対象のＭＲ信号の収集時の信号位相の補正方法。
少なくとも２つの異なるスライス（１４、１５）のそれぞれについて、スライスに属する補正グラジエントモーメントが決定され、各スライスに属する補正グラジエントモーメントに基づいて、少なくとも２つの異なるスライスの全てに適用される平均補正グラジエントモーメントが決定され、少なくとも２つの異なるスライス（１４、１５）のそれぞれについて、当該スライス固有の補正グラジエントモーメントと平均補正グラジエントモーメントとの偏差が決定され、この偏差がそれぞれ１つのスライス個別の追加グラジエントモーメントに相当し、少なくとも２つの異なるスライス（１４、１５）のそれぞれについて、各スライスにスライス個別の追加グラジエントモーメントが影響するように時間的ずれが算出されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
さらに、同時に撮影されるスライスの数が、少なくとも１つの選択基準に関係して選択されることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
線形補正位相を有する補正グラジエントモーメントが、マクスウェル場によるスライス方向に沿ったデフェージングを補正することを特徴とする請求項１から３のいずれか１つに記載の方法。
平均補正グラジエントモーメントが、スライス方向に追加的補正グラジエントを照射することにより、少なくとも２つの異なるスライス（１４、１５）に印加されることを特徴とする請求項２を引用する請求項４に記載の方法。
複数のＨＦ励起パルス（２９、３０、６０ａ、６０ｂ）がＭＲ信号の収集前に１つのスライスに照射され、複数のＨＦ励起パルス（２９、３０、６０ａ、６０ｂ）がそれぞれのスライス選択期間の間に照射され、複数のＨＦ励起パルス（２９、３０、６０ａ、６０ｂ）およびそれに属するスライス選択期間は、スライス固有の補正グラジエントモーメントが複数のＨＦ励起パルスの照射後の各スライスにおける磁化の全体に印加されるように選択されることを特徴とする請求項１から５のいずれか１つに記載の方法。
少なくとも２つの異なるスライス（１４、１５）のそれぞれに、単独のスライス固有の補正グラジエントモーメントが印加されることを特徴とする請求項１から６のいずれか１つに記載の方法。
少なくとも２つの異なるスライス（１４、１５）のそれぞれに、複数の異なる補正グラジエントモーメントが印加され、少なくとも２つのスライス（１４、１５）のそれぞれに、少なくとも２つのスライスに使用された全ての異なる補正グラジエントモーメントが印加されることを特徴とする請求項１から６のいずれか１つに記載の方法。
Ｊ個の補正グラジエントモーメントが各スライスに印加され、Ｊ≧２であり、Ｎは同時に撮影されたスライスの数であり、かつＮはＪの整数倍であり、第１ステップにおいて各スライスにスライス固有の補正グラジエントモーメントが印加され、第１ステップは、スライス順序を変更して、各スライスにＪ個の補正グラジエントモーメントが印加されるまで繰り返されることを特徴とする請求項８に記載の方法。
ＨＦ励起パルス（２９、３０、６０ａ、６０ｂ）が、検査対象からスライスを選択するための励起パルスであることを特徴とする請求項１から９のいずれか１つに記載の方法。
ＨＦ励起パルスが、スピンエコー信号発生時のリフォーカシングパルスであることを特徴とする請求項１から９までのいずれか１つに記載の方法。
ＨＦ励起パルスが、刺激エコーによる信号発生時の記憶パルスであることを特徴とする請求項１から９までのいずれか１つに記載の方法。
ＭＲ（磁気共鳴）信号の収集時に検査対象の少なくとも２つの異なるスライス（１４、１５）からＭＲ信号が同時に検出されるスライス多重化方式において検査対象のＭＲ信号の収集時に信号位相を補正するように構成された磁気共鳴設備（１０）であって、
少なくとも２つのスライス（１４、１５）のそれぞれについてスライス選択方向の第１の線形補正位相を決定するモジュール（２４）と、
少なくとも２つの異なるスライス（１４、１５）のそれぞれに、スライス固有の周波数を有するＨＦ（高周波）励起パルス（２９、３０、６０ａ、６０ｂ）を照射するように構成され、かつ、異なるＨＦ励起パルス（２９、３０、６０ａ、６０ｂ）が少なくとも２つの異なるスライスに照射されるスライス選択期間（２７）の間、スライス選択グラジエント（２６、６１）を照射するように構成され、スライス選択期間（２７）がスライス選択期間（２７）の中心に時間中心（２８）を持ち、少なくとも２つの異なるスライスのための異なるＨＦ励起パルス（２９、３０、６０ａ、６０ｂ）が時間的にオーバーラップしており、かつ、各スライスの線形補正位相に相当するスライス選択方向のスライス固有の補正グラジエントモーメントが各スライスの磁化に影響するように、ＨＦ励起パルスのそれぞれについて時間中心に対するＨＦ励起パルスの時間的ずれを決定するように構成されたＭＲ撮影シーケンス制御装置（２０）と
を有する磁気共鳴設備。
ＭＲ撮影シーケンス制御装置が請求項２から１１のいずれか１つに記載の方法を実施するように構成されていることを特徴とする請求項１３に記載の磁気共鳴設備。