JP2013204138A - Titanium copper and method for producing the same - Google Patents

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弘泰 堀江
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide titanium copper excellent in strength and bendability, and to provide a method for producing the titanium copper.SOLUTION: Titanium copper contains 2.0-4.0 mass% of Ti, 0-0.5 mass%, in total, of third elements, and the balance comprising Cu and inevitable impurities, and has a crystal orientation which satisfies 1.14≤{2×I(200)+I(311)}/I(220)≤2.63 (expression 1). In a method for producing the titanium copper, a solution heat treatment including: a first solution heat treatment process comprising performing a heat treatment at a temperature of 800-950°C for 2 to 10 min and cooling to 300°C at a cooling rate of 3-30°C/sec; an intermediate rolling treatment process for performing rolling at a rolling-reduction ratio of 3-70% after the first solution heat treatment; and a final solution heat treatment process for performing a heat treatment for 0.5-3 min at a temperature higher by 30 to 50°C than the temperature of the solubility limit of a second phase particle composition after the intermediate rolling treatment process is performed as solution heat treatment to the titanium copper.

Description

本発明はチタン銅及びその製造方法に関し、特にコネクタ等の電子部品用部材に好適なチタン銅及びその製造方法に関する。   The present invention relates to titanium copper and a method for manufacturing the same, and more particularly to titanium copper suitable for electronic parts such as connectors and a method for manufacturing the same.

近年では携帯端末などに代表される電子機器の小型化が益々進み、従ってそれに使用されるコネクタは狭ピッチ化及び低背化の傾向が著しい。小型のコネクタほどピン幅が狭く、小さく折り畳んだ加工形状となるため、使用する部材には、必要なバネ性を得るための高い強度と、過酷な曲げ加工に耐えることのできる、優れた曲げ加工性が求められる。この点、チタンを含有する銅合金(以下、「チタン銅」と称する。)は、比較的強度が高く、応力緩和特性にあっては銅合金中最も優れているため、特に強度が要求される信号系端子用部材として、近年、需要が増大してきている。   In recent years, electronic devices typified by portable terminals and the like have been increasingly miniaturized, and accordingly, connectors used for such devices tend to have a narrow pitch and a low profile. The smaller the connector, the narrower the pin width and the smaller the folded shape, so the members used will have high strength to obtain the necessary spring properties and excellent bending that can withstand severe bending. Sex is required. In this regard, a titanium-containing copper alloy (hereinafter referred to as “titanium copper”) has a relatively high strength and is most excellent in the copper alloy in terms of stress relaxation characteristics. In recent years, demand for signal system terminals has been increasing.

チタン銅は時効硬化型の銅合金である。具体的には、溶体化処理によって溶質原子であるTiの過飽和固溶体を形成させ、その状態から低温で比較的長時間の熱処理を施すと、スピノーダル分解によって母相中にTi濃度の周期的変動である変調構造が発達し、強度が向上する。かかる強化機構を基本としてチタン銅の更なる特性向上を目指して種々の手法が研究されている。   Titanium copper is an age-hardening type copper alloy. Specifically, when a supersaturated solid solution of Ti, which is a solute atom, is formed by solution treatment, and heat treatment is performed at a low temperature for a relatively long time from that state, periodic fluctuations in the Ti concentration in the parent phase occur due to spinodal decomposition. A certain modulation structure develops and the strength improves. Based on this strengthening mechanism, various methods have been studied with the aim of further improving the properties of titanium copper.

この際、問題となるのは、強度と曲げ加工性が相反する特性である点である。すなわち、強度を向上させると曲げ加工性が損なわれ、逆に、曲げ加工性を重視すると所望の強度が得られないということである。そこで、Fe、Co、Ni、Siなどの第三元素を添加する(特許文献1)、母相中に固溶する不純物元素群の濃度を規制し、これらを第二相粒子(Cu−Ti−X系粒子)として所定の分布形態で析出させて変調構造の規則性を高くする(特許文献2)、結晶粒を微細化させるのに有効な微量添加元素と第二相粒子の密度を規定する(特許文献3)、などの観点から、チタン銅の強度と曲げ加工性の両立を図ろうとする研究開発が従来なされてきた。   At this time, the problem is that the strength and the bending workability are contradictory. That is, if the strength is improved, the bending workability is impaired, and conversely, if the bending workability is emphasized, a desired strength cannot be obtained. Therefore, a third element such as Fe, Co, Ni, Si or the like is added (Patent Document 1), the concentration of the impurity element group that dissolves in the matrix phase is regulated, and these elements are added to the second phase particles (Cu-Ti- X-type particles) are precipitated in a predetermined distribution form to increase the regularity of the modulation structure (Patent Document 2), and the density of the trace additive elements and second-phase particles effective to refine the crystal grains is specified. From the viewpoints of (Patent Document 3), etc., research and development have been made in order to achieve both the strength and bending workability of titanium copper.

一般に、チタン銅の製造過程において第二相粒子が粗大化しすぎると、曲げ加工性が損なわれる傾向にあることが知られている。そのため、従来の最終溶体化処理においては、材料を所定の温度に加熱した後、水冷等によりできるだけ速い冷却速度で材料の冷却を行い、冷却過程での第二相粒子の析出を抑える手法が行われている。例えば特開2001−303222号公報(特許文献4)では、特性のばらつきを抑制するために、材料の熱処理後に200℃/s以上の冷却速度で速やかに冷却する例が開示されている。   In general, it is known that bending workability tends to be impaired when the second phase particles are excessively coarsened in the production process of titanium copper. For this reason, in the conventional final solution treatment, after the material is heated to a predetermined temperature, the material is cooled at a cooling rate as fast as possible by water cooling or the like to suppress precipitation of second phase particles during the cooling process. It has been broken. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-303222 (Patent Document 4) discloses an example in which cooling is rapidly performed at a cooling rate of 200 ° C./s or higher after heat treatment of a material in order to suppress variation in characteristics.

特開2004−231985号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-231985 特開2004−176163号公報JP 2004-176163 A 特開2005−97638号公報JP-A-2005-97638 特開2001−303222号公報JP 2001-303222 A

このように、従来のチタン銅の製造方法は、2回の溶体化処理によってチタンを母相に十分に固溶させた後、固溶させたチタンの安定相を析出させない条件で速やかに冷却し、時効処理(熱処理)でスピノーダル分解を起こして高強度チタン銅を得るというものであった。しかし、1回目(第一)の溶体化処理については未だ十分な検討がなされておらず、そのために、チタン銅の曲げ強度バランス向上を考慮したうえで、1回目(第一)の溶体化処理と、2回目(第二)の溶体化処理をどのような組み合わせで行うかについても、十分な検討がなされていなかった。   As described above, the conventional method for producing titanium copper sufficiently cools titanium under a condition in which the solid phase of the solid solution is not precipitated after titanium is sufficiently dissolved in the matrix by two solution treatments. In addition, spinodal decomposition was caused by aging treatment (heat treatment) to obtain high-strength titanium copper. However, the first (first) solution treatment has not yet been sufficiently studied, and therefore the first (first) solution treatment after considering the improvement of the bending strength balance of titanium copper. In addition, sufficient examination has not been made as to what combination the second (second) solution treatment is performed.

そこで、本発明は、これらの溶体化処理条件の更なる改善を図り、強度と曲げ加工性に優れたチタン銅、及びその製造方法を提供することを目的とする。   Then, this invention aims at the further improvement of these solution treatment conditions, and aims at providing the titanium copper excellent in intensity | strength and bending workability, and its manufacturing method.

本発明者は、上記課題を解決するために、チタン銅の曲げ加工性と、チタン銅の結晶方位の関係について鋭意検討したところ、特徴的なX線回折ピークを有するチタン銅が、優れた曲げ加工性と強度とを有していること、そのチタン銅が、後述する溶体化処理によって得られることを見いだして、本発明に到達した。   In order to solve the above problems, the present inventor has intensively studied the relationship between the bending workability of titanium copper and the crystal orientation of titanium copper. As a result, titanium copper having a characteristic X-ray diffraction peak is excellent in bending. It has been found that it has workability and strength, and that the titanium copper can be obtained by a solution treatment described later.

したがって、本発明は、次の(1)〜(5)にある。
(1)
Tiを2.0〜4.0質量%含有し、
第3元素としてFe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B、及びPからなる群から選択された1種以上を合計で0〜0.5質量%含有し、
残部が銅及び不可避的不純物からなり、
次の式1:
1.14≦(2×I{200}+I{311})/I{220}≦2.63 (式1)
(ただし、I{200}、I{311}、I{220}は、それぞれ、{200}結晶面、{311}結晶面、{220}結晶面でのX線回折強度を表す)
を満たす結晶配向を有する、チタン銅。
(2)
Tiを2.0〜4.0質量%含有し、
第3元素としてFe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B、及びPからなる群から選択された1種以上を合計で0〜0.3質量%含有し、
残部が銅及び不可避的不純物からなる、(1)に記載のチタン銅。
(3)
BadwayのW曲げ試験による、割れが発生しない最小の半径(MBR)に対する板厚(t)の比であるMBR/t値が1.0以下である、(1)〜(2)のいずれかに記載のチタン銅。
(4)
ビッカース硬度(Hv)が、300〜360の範囲にある、(1)〜(3)のいずれかに記載のチタン銅。
(5)
平均結晶粒径が、3〜25μmである、(1)〜(4)のいずれかに記載のチタン銅。
Therefore, this invention exists in following (1)-(5).
(1)
Containing 2.0 to 4.0% by mass of Ti,
The total amount of one or more selected from the group consisting of Fe, Co, Mg, Si, Ni, Cr, Zr, Mo, V, Nb, Mn, B, and P as the third element is 0 to 0.5% by mass. Contains,
The balance consists of copper and inevitable impurities,
The following formula 1:
1.14 ≦ (2 × I {200} + I {311}) / I {220} ≦ 2.63 (Formula 1)
(However, I {200}, I {311}, and I {220} represent X-ray diffraction intensities at the {200} crystal plane, {311} crystal plane, and {220} crystal plane, respectively)
Titanium copper having a crystal orientation satisfying
(2)
Containing 2.0 to 4.0% by mass of Ti,
The total amount of one or more selected from the group consisting of Fe, Co, Mg, Si, Ni, Cr, Zr, Mo, V, Nb, Mn, B, and P as the third element is 0 to 0.3% by mass. Contains,
Titanium copper as described in (1) whose remainder consists of copper and an unavoidable impurity.
(3)
The MBR / t value, which is the ratio of the plate thickness (t) to the minimum radius (MBR) at which cracking does not occur, according to Badway's W-bending test, is 1.0 or less, (1) to (2) Titanium copper as described.
(4)
Titanium copper in any one of (1)-(3) whose Vickers hardness (Hv) exists in the range of 300-360.
(5)
Titanium copper in any one of (1)-(4) whose average crystal grain diameter is 3-25 micrometers.

さらに、本発明は、次の(11)〜(14)にもある。
(11)
チタン銅の板材である、(1)〜(5)のいずれかに記載のチタン銅。
(12)
(1)〜(5)のいずれかに記載のチタン銅からなる、伸銅品。
(13)
(1)〜(5)のいずれかに記載のチタン銅からなる、電子部品。
(14)
(1)〜(5)のいずれかに記載のチタン銅を備えた、コネクタ。
Furthermore, this invention exists also in following (11)-(14).
(11)
Titanium copper in any one of (1)-(5) which is a plate material of titanium copper.
(12)
(1)-a copper-stretched product made of the titanium copper according to any one of (5).
(13)
An electronic component comprising the titanium-copper according to any one of (1) to (5).
(14)
A connector comprising the titanium copper according to any one of (1) to (5).

さらに、本発明は、次の(21)〜(33)にもある。
(21)
Tiを2.0〜4.0質量%含有し、
第3元素としてFe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B、及びPからなる群から選択された1種以上を合計で0〜0.5質量%含有し、
残部が銅及び不可避的不純物からなるチタン銅を製造する方法であって、
チタン銅に対する溶体化処理として、
800〜950℃の温度で2〜10分間の熱処理を行い、300℃までの冷却速度を3〜30℃/secで冷却する、第一溶体化処理の工程、
第一溶体化処理の後に、3〜70%の圧下率で圧延する、中間圧延処理の工程、
中間圧延処理の後に、第二相粒子組成の固溶限の温度から、30〜50℃高い温度で0.5〜3分間の熱処理を行う、最終溶体化処理の工程、
を含む溶体化処理が行われる、方法。
(22)
第一溶体化処理の工程の直後のチタン銅が、5〜15の範囲の導電率(%IACS)である、(21)に記載の方法。
(23)
最終溶体化処理の工程の直後のチタン銅が、平均結晶粒径が、3〜25μmである、(21)〜(22)のいずれかに記載の方法。
(24)
溶体化処理の後に、
5〜40%の圧下率で冷間圧延する冷間圧延工程、
を含む、(21)〜(23)のいずれかに記載の方法。
(25)
冷間圧延工程の後に、
300℃〜450℃の温度で0.5〜24時間加熱する、時効処理の工程、
を含む、(24)に記載の方法。
(26)
溶体化処理の後に、
400〜650℃で0.002〜5時間加熱する、熱処理の工程、
を含む、(21)〜(25)のいずれかに記載の方法。
(27)
熱処理の後に、
5〜40%の圧下率の冷間圧延する冷間圧延工程、
を含む、(26)に記載の方法。
(28)
Tiを2.0〜4.0質量%含有し、
第3元素としてFe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B、及びPからなる群から選択された1種以上を合計で0〜0.5質量%含有し、
残部が銅及び不可避的不純物からなるチタン銅を製造する方法であって、
チタン銅に対する溶体化処理として、
800〜950℃の温度で2〜10分間の熱処理を行い、300℃までの冷却速度を3〜30℃/secで冷却する、第一溶体化処理の工程、
第一溶体化処理の後に、3〜70%の圧下率で圧延する、中間圧延処理の工程、
中間圧延処理の後に、第二相粒子組成の固溶限の温度から、30〜50℃高い温度で0.5〜3分間の熱処理を行う、最終溶体化処理の工程、
を含む溶体化処理が行われる、方法。
(29)
チタン銅に対する溶体化処理の後に、
5〜40%の圧下率で冷間圧延する冷間圧延工程、
冷間圧延工程の後に、300℃〜450℃の温度で0.5〜24時間加熱する、時効処理の工程、
を含む、(28)に記載の方法。
(30)
チタン銅に対する溶体化処理の後に、
400〜650℃で0.002〜5時間加熱する、熱処理の工程、
熱処理の工程の後に、5〜40%の圧下率で冷間圧延する冷間圧延工程、
を含む、(28)に記載の方法。
(31)
最終溶体化処理の工程が、
中間圧延処理の後に、第二相粒子組成の固溶限の温度から、30〜50℃高い温度で0.5〜3分間の熱処理を行い、水冷によって急速に冷却する、最終溶体化処理の工程、
である、(28)〜(30)のいずれかに記載の方法。
(32)
Tiを2.0〜4.0質量%含有し、
第3元素としてFe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B、及びPからなる群から選択された1種以上を合計で0〜0.5質量%含有し、
残部が銅及び不可避的不純物からなるチタン銅を製造する方法であって、
チタン銅に対する溶体化処理として、
800〜950℃の温度で2〜10分間の熱処理を行い、300℃までの冷却速度を3〜30℃/secで冷却する、第一溶体化処理の工程、
第一溶体化処理の後に、3〜70%の圧下率で圧延する、中間圧延処理の工程、
中間圧延処理の後に、第二相粒子組成の固溶限の温度から、30〜50℃高い温度で0.5〜3分間の熱処理を行う、最終溶体化処理の工程、
を含み、上記溶体化処理の後に、
5〜40%の圧下率で冷間圧延する冷間圧延工程、
冷間圧延工程の後に、300℃〜450℃の温度で0.5〜24時間加熱する、時効処理の工程、
を含む、方法。
(33)
Tiを2.0〜4.0質量%含有し、
第3元素としてFe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B、及びPからなる群から選択された1種以上を合計で0〜0.5質量%含有し、
残部が銅及び不可避的不純物からなるチタン銅を製造する方法であって、
チタン銅に対する溶体化処理として、
800〜950℃の温度で2〜10分間の熱処理を行い、300℃までの冷却速度を3〜30℃/secで冷却する、第一溶体化処理の工程、
第一溶体化処理の後に、3〜70%の圧下率で圧延する、中間圧延処理の工程、
中間圧延処理の後に、第二相粒子組成の固溶限の温度から、30〜50℃高い温度で0.5〜3分間の熱処理を行う、最終溶体化処理の工程、
を含み、上記溶体化処理の後に、
400〜650℃で0.002〜5時間加熱する、熱処理の工程、
熱処理の工程の後に、5〜40%の圧下率で冷間圧延する冷間圧延工程、
を含む、方法。
Furthermore, this invention exists also in following (21)-(33).
(21)
Containing 2.0 to 4.0% by mass of Ti,
The total amount of one or more selected from the group consisting of Fe, Co, Mg, Si, Ni, Cr, Zr, Mo, V, Nb, Mn, B, and P as the third element is 0 to 0.5% by mass. Contains,
A method for producing titanium copper, the balance of which consists of copper and inevitable impurities,
As a solution treatment for titanium copper,
A first solution treatment step of performing a heat treatment for 2 to 10 minutes at a temperature of 800 to 950 ° C., and cooling a cooling rate to 300 ° C. at 3 to 30 ° C./sec,
After the first solution treatment, rolling at a rolling reduction of 3 to 70%, an intermediate rolling process step,
After the intermediate rolling treatment, a final solution treatment step of performing heat treatment for 0.5 to 3 minutes at a temperature higher by 30 to 50 ° C. from the temperature of the solid solution limit of the second phase particle composition,
A solution treatment comprising:
(22)
The method according to (21), wherein the titanium copper immediately after the first solution treatment step has a conductivity (% IACS) in the range of 5 to 15.
(23)
The method according to any one of (21) to (22), wherein the titanium copper immediately after the final solution treatment step has an average crystal grain size of 3 to 25 µm.
(24)
After solution treatment,
Cold rolling process for cold rolling at a rolling reduction of 5-40%,
The method according to any one of (21) to (23), comprising:
(25)
After the cold rolling process
An aging treatment step of heating at a temperature of 300 ° C. to 450 ° C. for 0.5 to 24 hours,
The method according to (24), comprising:
(26)
After solution treatment,
A heat treatment step of heating at 400 to 650 ° C. for 0.002 to 5 hours;
The method according to any one of (21) to (25).
(27)
After heat treatment
A cold rolling step for cold rolling at a rolling reduction of 5 to 40%,
The method according to (26), comprising:
(28)
Containing 2.0 to 4.0% by mass of Ti,
The total amount of one or more selected from the group consisting of Fe, Co, Mg, Si, Ni, Cr, Zr, Mo, V, Nb, Mn, B, and P as the third element is 0 to 0.5% by mass. Contains,
A method for producing titanium copper, the balance of which consists of copper and inevitable impurities,
As a solution treatment for titanium copper,
A first solution treatment step of performing a heat treatment for 2 to 10 minutes at a temperature of 800 to 950 ° C., and cooling a cooling rate to 300 ° C. at 3 to 30 ° C./sec,
After the first solution treatment, rolling at a rolling reduction of 3 to 70%, an intermediate rolling process step,
After the intermediate rolling treatment, a final solution treatment step of performing heat treatment for 0.5 to 3 minutes at a temperature higher by 30 to 50 ° C. from the temperature of the solid solution limit of the second phase particle composition,
A solution treatment comprising:
(29)
After solution treatment for titanium copper,
Cold rolling process for cold rolling at a rolling reduction of 5-40%,
An aging treatment step of heating at a temperature of 300 ° C. to 450 ° C. for 0.5 to 24 hours after the cold rolling step;
The method according to (28), comprising:
(30)
After solution treatment for titanium copper,
A heat treatment step of heating at 400 to 650 ° C. for 0.002 to 5 hours;
A cold rolling process in which cold rolling is performed at a rolling reduction of 5 to 40% after the heat treatment process;
The method according to (28), comprising:
(31)
The final solution treatment process
After the intermediate rolling treatment, a final solution treatment step of performing heat treatment for 0.5 to 3 minutes at a temperature higher by 30 to 50 ° C. from the solid solution limit temperature of the second phase particle composition and rapidly cooling by water cooling. ,
The method according to any one of (28) to (30), wherein
(32)
Containing 2.0 to 4.0% by mass of Ti,
The total amount of one or more selected from the group consisting of Fe, Co, Mg, Si, Ni, Cr, Zr, Mo, V, Nb, Mn, B, and P as the third element is 0 to 0.5% by mass. Contains,
A method for producing titanium copper, the balance of which consists of copper and inevitable impurities,
As a solution treatment for titanium copper,
A first solution treatment step of performing a heat treatment for 2 to 10 minutes at a temperature of 800 to 950 ° C., and cooling a cooling rate to 300 ° C. at 3 to 30 ° C./sec,
After the first solution treatment, rolling at a rolling reduction of 3 to 70%, an intermediate rolling process step,
After the intermediate rolling treatment, a final solution treatment step of performing heat treatment for 0.5 to 3 minutes at a temperature higher by 30 to 50 ° C. from the temperature of the solid solution limit of the second phase particle composition,
And after the solution treatment,
Cold rolling process for cold rolling at a rolling reduction of 5-40%,
An aging treatment step of heating at a temperature of 300 ° C. to 450 ° C. for 0.5 to 24 hours after the cold rolling step;
Including a method.
(33)
Containing 2.0 to 4.0% by mass of Ti,
The total amount of one or more selected from the group consisting of Fe, Co, Mg, Si, Ni, Cr, Zr, Mo, V, Nb, Mn, B, and P as the third element is 0 to 0.5% by mass. Contains,
A method for producing titanium copper, the balance of which consists of copper and inevitable impurities,
As a solution treatment for titanium copper,
A first solution treatment step of performing a heat treatment for 2 to 10 minutes at a temperature of 800 to 950 ° C., and cooling a cooling rate to 300 ° C. at 3 to 30 ° C./sec,
After the first solution treatment, rolling at a rolling reduction of 3 to 70%, an intermediate rolling process step,
After the intermediate rolling treatment, a final solution treatment step of performing heat treatment for 0.5 to 3 minutes at a temperature higher by 30 to 50 ° C. from the temperature of the solid solution limit of the second phase particle composition,
And after the solution treatment,
A heat treatment step of heating at 400 to 650 ° C. for 0.002 to 5 hours;
A cold rolling process in which cold rolling is performed at a rolling reduction of 5 to 40% after the heat treatment process;
Including a method.

さらに、本発明は、次の(41)〜(44)にもある。
(41)
(21)〜(33)のいずれかに記載の方法によって製造された、
Tiを2.0〜4.0質量%含有し、
第3元素としてFe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B、及びPからなる群から選択された1種以上を合計で0〜0.5質量%含有し、
残部が銅及び不可避的不純物からなるチタン銅。
(42)
次の式1:
1.14≦(2×I{200}+I{311})/I{220}≦2.63 (式1)
(ただし、I{200}、I{311}、I{220}は、それぞれ、{200}結晶面、{311}結晶面、{220}結晶面でのX線回折強度を表す)
を満たす結晶配向を有する、(41)に記載のチタン銅。
(43)
BadwayのW曲げ試験による、割れが発生しない最小の半径(MBR)に対する板厚(t)の比であるMBR/t値が1.0以下である、(41)〜(42)のいずれかに記載のチタン銅。
(44)
ビッカース硬度(Hv)が、300〜360の範囲にある、(41)〜(43)のいずれかに記載のチタン銅。
Furthermore, this invention exists also in following (41)-(44).
(41)
Manufactured by the method according to any one of (21) to (33),
Containing 2.0 to 4.0% by mass of Ti,
The total amount of one or more selected from the group consisting of Fe, Co, Mg, Si, Ni, Cr, Zr, Mo, V, Nb, Mn, B, and P as the third element is 0 to 0.5% by mass. Contains,
Titanium copper with the balance being copper and inevitable impurities.
(42)
The following formula 1:
1.14 ≦ (2 × I {200} + I {311}) / I {220} ≦ 2.63 (Formula 1)
(However, I {200}, I {311}, and I {220} represent X-ray diffraction intensities at the {200} crystal plane, {311} crystal plane, and {220} crystal plane, respectively)
Titanium copper as described in (41) which has the crystal orientation which satisfy | fills.
(43)
The MBR / t value, which is the ratio of the plate thickness (t) to the minimum radius (MBR) at which cracking does not occur, according to Badway's W bending test, is 1.0 or less, and any of (41) to (42) Titanium copper as described.
(44)
Titanium copper in any one of (41)-(43) whose Vickers hardness (Hv) exists in the range of 300-360.

さらに、本発明は、次の(51)〜(53)にもある。
(51)
Tiを2.0〜4.0質量%含有し、
第3元素としてFe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B、及びPからなる群から選択された1種以上を合計で0〜0.5質量%含有し、
残部が銅及び不可避的不純物からなるチタン銅を、溶体化処理する方法であって、
800〜950℃の温度で2〜10分間の熱処理を行い、300℃までの冷却速度を3〜30℃/secで冷却する、第一溶体化処理の工程、
第一溶体化処理の後に、3〜70%の圧下率で圧延する、中間圧延処理の工程、
中間圧延処理の後に、第二相粒子組成の固溶限の温度から、30〜50℃高い温度で0.5〜3分間の熱処理を行う、最終溶体化処理の工程、
を含む、方法。
(52)
第一溶体化処理の工程の直後のチタン銅が、5〜15の範囲の導電率(%IACS)である、(51)に記載の方法。
(53)
最終溶体化処理の工程の直後のチタン銅が、平均結晶粒径が、3〜25μmである、(51)〜(52)のいずれかに記載の方法。
Furthermore, this invention exists also in following (51)-(53).
(51)
Containing 2.0 to 4.0% by mass of Ti,
The total amount of one or more selected from the group consisting of Fe, Co, Mg, Si, Ni, Cr, Zr, Mo, V, Nb, Mn, B, and P as the third element is 0 to 0.5% by mass. Contains,
It is a method for solution treatment of titanium copper with the balance being copper and inevitable impurities,
A first solution treatment step of performing a heat treatment for 2 to 10 minutes at a temperature of 800 to 950 ° C., and cooling a cooling rate to 300 ° C. at 3 to 30 ° C./sec,
After the first solution treatment, rolling at a rolling reduction of 3 to 70%, an intermediate rolling process step,
After the intermediate rolling treatment, a final solution treatment step of performing heat treatment for 0.5 to 3 minutes at a temperature higher by 30 to 50 ° C. from the temperature of the solid solution limit of the second phase particle composition,
Including a method.
(52)
The method according to (51), wherein the titanium copper immediately after the first solution treatment step has a conductivity (% IACS) in the range of 5 to 15.
(53)
The method according to any one of (51) to (52), wherein the titanium copper immediately after the final solution treatment step has an average crystal grain size of 3 to 25 μm.

本発明によれば、優れた曲げ加工性と強度とを備えたチタン銅を得ることができる。本発明に係るチタン銅は、優れた曲げ加工性と強度とを有しているので、曲げ加工によって製造される電子部品、特に曲げ加工性と強度をあわせて求められる小型電子部品の製造に好適に使用することができる。   According to the present invention, titanium copper having excellent bending workability and strength can be obtained. Since the titanium copper according to the present invention has excellent bending workability and strength, it is suitable for manufacturing electronic parts manufactured by bending, particularly small electronic parts required to combine bending workability and strength. Can be used for

以下に、好適な実施の態様をあげて、本発明を詳細に説明する。
本発明に係るチタン銅は、
Tiを2.0〜4.0質量%含有し、
第3元素としてFe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B、及びPからなる群から選択された1種以上を合計で0〜0.5質量%含有し、
残部が銅及び不可避的不純物からなり、
次の式1:
1.14≦(2×I{200}+I{311})/I{220}≦2.63 (式1)(ただし、I{200}、I{311}、I{220}は、それぞれ、{200}結晶面、{311}結晶面、{220}結晶面でのX線回折強度を表す)
を満たす結晶配向を有する、チタン銅にある。このようなチタン銅は、優れた曲げ加工性と強度とを備えたものとなっている。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with preferred embodiments.
Titanium copper according to the present invention,
Containing 2.0 to 4.0% by mass of Ti,
The total amount of one or more selected from the group consisting of Fe, Co, Mg, Si, Ni, Cr, Zr, Mo, V, Nb, Mn, B, and P as the third element is 0 to 0.5% by mass. Contains,
The balance consists of copper and inevitable impurities,
The following formula 1:
1.14 ≦ (2 × I {200} + I {311}) / I {220} ≦ 2.63 (Formula 1) (where I {200}, I {311}, and I {220} are respectively X-ray diffraction intensity in {200} crystal plane, {311} crystal plane, {220} crystal plane)
Titanium copper having a crystal orientation satisfying Such titanium copper has excellent bending workability and strength.

[Ti含有量]
本発明に係るチタン銅は、Tiを2.0〜4.0質量%、好ましくは2.5〜3.5質量%含有するものとなっている。Tiが2.0質量%未満では十分な強度が得られず、逆に4.0質量%を超えると、強度及び曲げ加工性が劣化する傾向にある。このようにTiの含有量を適正化することで、電子部品用に適した強度及び曲げ加工性を共に実現することができる。
[Ti content]
The titanium copper according to the present invention contains Ti in an amount of 2.0 to 4.0% by mass, preferably 2.5 to 3.5% by mass. If Ti is less than 2.0% by mass, sufficient strength cannot be obtained. Conversely, if Ti exceeds 4.0% by mass, strength and bending workability tend to deteriorate. Thus, by optimizing the Ti content, both strength and bending workability suitable for electronic components can be realized.

[第3元素]
本発明に係るチタン銅は、所望によって、銅及びチタン以外に、所定の第3元素を含有させて、使用することができる。好適な実施の態様において、第3元素としてFe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B、及びPからなる群から選択された1種以上を、合計して、例えば、0〜0.5質量%、好ましくは0〜0.3質量%、例えば、0.05〜0.5質量%、好ましくは0.05〜0.3質量%の範囲で含有させて、使用することができる。このような第3元素の添加によって、チタン銅の時効硬化を改善することができるが、第3元素を添加しないチタン銅もまた、本発明の優れた効果を奏するものとなっている。
[Third element]
The titanium copper according to the present invention can be used by containing a predetermined third element in addition to copper and titanium, if desired. In a preferred embodiment, one or more selected from the group consisting of Fe, Co, Mg, Si, Ni, Cr, Zr, Mo, V, Nb, Mn, B, and P are added as the third element in total. For example, 0 to 0.5% by mass, preferably 0 to 0.3% by mass, for example, 0.05 to 0.5% by mass, preferably 0.05 to 0.3% by mass Let it be used. Although the age hardening of titanium copper can be improved by the addition of such a third element, titanium copper not added with the third element also exhibits the excellent effect of the present invention.

[第二相粒子]
本発明において「第二相粒子」とは、母相の成分組成とは異なる組成の粒子を指す。第二相粒子は、種々の熱処理中に析出して母相と境界を形成するCuとTiを主成分とした粒子であり、具体的にはTiCu3粒子又は第3元素群の構成要素X(具体的にはMn、Fe、Mg、Co、Ni、Cr、V、Nb、Mo、Zr、Si、B及びPの何れか)を含むCu−Ti−X系粒子として現れる。
[Second phase particles]
In the present invention, the “second phase particle” refers to a particle having a composition different from the component composition of the parent phase. The second-phase particles are particles mainly composed of Cu and Ti that precipitate during various heat treatments to form a boundary with the parent phase. Specifically, TiCu 3 particles or a constituent element X (third element group X ( Specifically, it appears as Cu—Ti—X-based particles containing Mn, Fe, Mg, Co, Ni, Cr, V, Nb, Mo, Zr, Si, B, and P).

[結晶粒径]
チタン銅の強度及び曲げ加工性を向上させるためには、好適な実施の態様において、最終溶体化処理の工程の直後のチタン銅は、平均結晶粒径が、例えば3〜25μm、好ましくは3〜20μm、さらに好ましくは3〜15μm、例えば4〜23μm、好ましくは4〜21μm、とすることができる。本発明において、平均結晶粒径は光学顕微鏡又は電子顕微鏡による観察で圧延方向に平行な断面の組織観察における円相当径で計算する。
[Crystal grain size]
In order to improve the strength and bending workability of titanium copper, in a preferred embodiment, titanium copper immediately after the final solution treatment step has an average crystal grain size of, for example, 3 to 25 μm, preferably 3 to 3 μm. The thickness may be 20 μm, more preferably 3 to 15 μm, for example 4 to 23 μm, preferably 4 to 21 μm. In the present invention, the average crystal grain size is calculated by the equivalent circle diameter in the structure observation of the cross section parallel to the rolling direction by observation with an optical microscope or electron microscope.

[X線回折強度]
好適な実施の態様において、本発明に係るチタン銅は、次の式1:
1.14≦(2×I{200}+I{311})/I{220}≦2.63 (式1)
を満たす結晶配向を有するものとすることができ、好ましくは、次の式2:
1.15<(2×I{200}+I{311})/I{220}<2.50 (式2)
を満たす結晶配向を有するものとすることができる。上記式中の、I{200}、I{311}、I{220}は、それぞれ、チタン銅の材料面における、{200}結晶面、{311}結晶面、{220}結晶面でのX線回折強度(X線回折ピークの積分強度)を表す。
[X-ray diffraction intensity]
In a preferred embodiment, the titanium copper according to the present invention has the following formula 1:
1.14 ≦ (2 × I {200} + I {311}) / I {220} ≦ 2.63 (Formula 1)
Having a crystal orientation satisfying the above, preferably:
1.15 <(2 × I {200} + I {311}) / I {220} <2.50 (Formula 2)
The crystal orientation satisfying the above can be satisfied. In the above formula, I {200}, I {311}, and I {220} are X on the {200} crystal plane, {311} crystal plane, and {220} crystal plane, respectively, in the titanium copper material plane. Represents the line diffraction intensity (integrated intensity of the X-ray diffraction peak).

本発明者は、上記式1及び式2に示されるI{200}、I{311}、I{220}の関係は、従来のチタン銅よりも、再結晶集合組織が発達していると同時に、圧延集合組織が弱いものとなっていることを示していると考えており、上記数値範囲となることで、再結晶集合組織と圧延集合組織とが、優れた曲げ加工性と強度のバランスを実現していると考えている。   The present inventor has found that the relationship of I {200}, I {311}, and I {220} shown in the above formulas 1 and 2 is that the recrystallized texture is developed more than the conventional titanium copper. The rolling texture is considered to be weak, and by satisfying the above numerical range, the recrystallization texture and the rolling texture provide an excellent balance of bending workability and strength. I believe it has been realized.

[硬度]
本発明に係るチタン銅の強さ(強度)を、ビッカース硬度で評価することができる。好適な実施の態様において、本発明に係るチタン銅は、ビッカース硬度(Hv)が、例えば300〜360の範囲、好ましくは305〜360の範囲、さらに好ましくは310〜360の範囲と、することができる。本発明におけるチタン銅の強度及び曲げ加工性のバランスは、このようなビッカース硬度の範囲として実現することができる。
[hardness]
The strength (strength) of titanium copper according to the present invention can be evaluated by Vickers hardness. In a preferred embodiment, the titanium copper according to the present invention has a Vickers hardness (Hv) in the range of, for example, 300 to 360, preferably in the range of 305 to 360, and more preferably in the range of 310 to 360. it can. The balance between the strength and bending workability of titanium copper in the present invention can be realized as such a range of Vickers hardness.

[曲げ加工性]
本発明に係るチタン銅の曲げ加工性を、JIS H 3130に従った、Badway(曲げ軸が圧延方向と同一方向)のW曲げ試験によって、割れが発生しない最小半径(MBR)の板厚(t)に対する比であるMBR/t値を測定して、評価することができる。好適な実施の態様において、MBR/t値は、1.0以下とすることができ、例えば0〜1.0、例えば0.1〜0.6、例えば0.4〜0.6の範囲とすることができる。
[Bending workability]
The bending workability of the titanium copper according to the present invention is determined by the thickness (t) of the minimum radius (MBR) at which cracks do not occur in the W-bending test of Badway (the bending axis is the same direction as the rolling direction) according to JIS H 3130. The MBR / t value, which is the ratio to ()), can be measured and evaluated. In a preferred embodiment, the MBR / t value can be 1.0 or less, for example in the range of 0 to 1.0, such as 0.1 to 0.6, such as 0.4 to 0.6. can do.

[製造方法]
チタン銅の一般的な製造プロセスでは、まず溶解炉で電気銅、Ti等の原料を溶解し、所望の組成の溶湯を得る。そして、この溶湯をインゴットに鋳造する。チタンの酸化損耗を防止するため、溶解及び鋳造は真空中又は不活性ガス雰囲気中で行うことが好ましい。その後、熱間圧延、冷間圧延、溶体化処理、時効処理の順で所望の厚みおよび特性を有する条や箔に仕上げる。熱処理後には、熱処理時に生成した表面酸化膜を除去するために、表面の酸洗や研磨等を行ってもよい。また、高強度化のために、溶体化処理と時効の間や時効後に冷間圧延を行ってもよい。
[Production method]
In a general manufacturing process of titanium copper, first, raw materials such as electrolytic copper and Ti are melted in a melting furnace to obtain a molten metal having a desired composition. Then, this molten metal is cast into an ingot. In order to prevent oxidation wear of titanium, melting and casting are preferably performed in a vacuum or in an inert gas atmosphere. Thereafter, the strips and foils having desired thickness and characteristics are finished in the order of hot rolling, cold rolling, solution treatment, and aging treatment. After the heat treatment, surface pickling, polishing, or the like may be performed in order to remove the surface oxide film generated during the heat treatment. In order to increase the strength, cold rolling may be performed between the solution treatment and aging or after aging.

本発明に係るチタン銅は、特に第一の溶体化処理、その直後の中間圧延及びその直後の最終の溶体化処理の工程を適切な条件で実施することにより製造可能である。以下に、好適な製造例を工程毎に順次説明する。   The titanium-copper according to the present invention can be produced by carrying out the first solution treatment, the intermediate rolling immediately thereafter, and the final solution treatment immediately thereafter under appropriate conditions. Below, a suitable manufacture example is demonstrated one by one for every process.

1) インゴット製造
溶解及び鋳造によるインゴットの製造は、基本的に真空中又は不活性ガス雰囲気中で行う。溶解において添加元素の溶け残りがあると、強度の向上に対して有効に作用しない。よって、溶け残りをなくすため、FeやCr等の高融点の第3元素は、添加してから十分に攪拌したうえで、一定時間保持する必要がある。一方、TiはCu中に比較的溶け易いので第3元素の溶解後に添加すればよい。従って、Cuに、第3元素としてMn、Fe、Mg、Co、Ni、Cr、V、Nb、Mo、Zr、Si、B及びPよりなる群から選択される1種又は2種以上を合計で0〜0.50質量%含有するように添加し、次いで第2元素としてTiを2.0〜4.0質量%含有するように添加してインゴットを製造することが望ましい。
1) Ingot production Ingot production by melting and casting is basically performed in a vacuum or in an inert gas atmosphere. If the additive element remains undissolved during melting, it does not effectively act on strength improvement. Therefore, in order to eliminate undissolved residue, it is necessary to add a high melting point third element such as Fe or Cr, and after sufficiently stirring, hold for a certain period of time. On the other hand, since Ti is relatively easily dissolved in Cu, it may be added after the third element is dissolved. Therefore, Cu includes a total of one or more selected from the group consisting of Mn, Fe, Mg, Co, Ni, Cr, V, Nb, Mo, Zr, Si, B, and P as the third element. It is desirable to add in an amount of 0 to 0.50% by mass, and then to add 2.0 to 4.0% by mass of Ti as the second element to produce an ingot.

2) 均質化焼鈍及び熱間圧延
インゴット製造時に生じた凝固偏析や晶出物は粗大なので均質化焼鈍でできるだけ母相に固溶させて小さくし、可能な限り無くすことが望ましい。これは曲げ割れの防止に効果があるからである。具体的には、インゴット製造工程後には、900〜970℃に加熱して3〜24時間均質化焼鈍を行った後に、熱間圧延を実施するのが好ましい。液体金属脆性を防止するために、熱延前及び熱延中は960℃以下とするのが好ましい。
2) Homogenization annealing and hot rolling Since solidification segregation and crystallized matter generated during ingot production are coarse, it is desirable to make them as small as possible by dissolving them in the parent phase as much as possible by homogenization annealing. This is because it is effective in preventing bending cracks. Specifically, after the ingot manufacturing process, it is preferable to perform hot rolling after heating to 900 to 970 ° C. and performing homogenization annealing for 3 to 24 hours. In order to prevent liquid metal embrittlement, the temperature is preferably 960 ° C. or less before and during hot rolling.

3) 第一溶体化処理
その後、冷間圧延と焼鈍を適宜繰り返してから、溶体化処理を行うのが好ましい。本発明においては、最終の溶体化処理に先だって、ここで予め溶体化を行っておく(第一溶体化処理)。このようにすれば、第二相粒子は第一溶体化処理で既に溶体化されているのだから、最終の溶体化処理では、第二相粒子を固溶させるための熱処理ではなく、その状態を維持しつつ再結晶のみ起こさせればよい処理となる。この第一溶体化処理は、加熱温度を800〜950℃とし、2〜10分間行えばよい。好適な実施の態様において、第一溶体化処理は、加熱温度を、例えば、800〜950℃の範囲、好ましくは830〜920℃の範囲とすることができる。このときの昇温速度は、極力速くすることが好ましい。
3) First solution treatment After that, cold rolling and annealing are repeated as appropriate, and then the solution treatment is preferably performed. In the present invention, prior to the final solution treatment, solution treatment is performed in advance (first solution treatment). In this way, since the second phase particles are already solutionized in the first solution treatment, the final solution treatment is not a heat treatment for solid solution of the second phase particles, but the state. It is a process that only requires recrystallization while maintaining. This first solution treatment may be performed at a heating temperature of 800 to 950 ° C. for 2 to 10 minutes. In a preferred embodiment, in the first solution treatment, the heating temperature can be, for example, in the range of 800 to 950 ° C, preferably in the range of 830 to 920 ° C. At this time, it is preferable to increase the rate of temperature increase as much as possible.

一方で、この第一溶体化処理の時の冷却速度は、緩冷却とすることが好ましく、好適な実施の態様において、例えば、300℃までの冷却速度を、3〜30℃/sec、好ましくは3〜25℃/sec、さらに好ましくは5〜25℃/sec、さらに好ましくは5〜20℃/secとすることができる。この冷却速度を速くしてしまった場合には、例えば、200℃/sec超の冷却速度としてしまった場合には、所望の結晶方位が得られず従来の曲げ加工性となってしまう。この冷却速度を速くすることは、粗大な粒子の析出を防ぐという点では好ましいが、結晶方位の観点からは好ましくなく、最終的な特性における曲げ加工性は冷却速度を緩冷却とした場合に比べて劣ってしまう。この冷却速度を遅くしてしまった場合には、粗大な粒子の析出が生じてしまうためか、やはり最終的な特性における曲げ加工性が大きく劣ったものとなってしまう。本発明者は、上記冷却速度の範囲の条件が、曲げ強度バランスの向上を実現するような、中程度のサイズの粒子(例えば、1μm以下の粒径)の析出を生じさせる条件となっていると考えている。   On the other hand, the cooling rate at the time of the first solution treatment is preferably slow cooling. In a preferred embodiment, for example, the cooling rate up to 300 ° C. is 3 to 30 ° C./sec, preferably It can be 3-25 degreeC / sec, More preferably, it is 5-25 degreeC / sec, More preferably, it can be 5-20 degreeC / sec. If the cooling rate is increased, for example, if the cooling rate is higher than 200 ° C./sec, the desired crystal orientation cannot be obtained and the conventional bending workability is obtained. Increasing the cooling rate is preferable from the viewpoint of preventing the precipitation of coarse particles, but is not preferable from the viewpoint of crystal orientation, and the bending workability in the final characteristics is compared with the case where the cooling rate is slow cooling. It will be inferior. If this cooling rate is slowed down, coarse particles will precipitate, and the bending workability in the final characteristics will be greatly inferior. In the present inventor, the condition of the cooling rate range is a condition that causes precipitation of medium-sized particles (for example, a particle size of 1 μm or less) that realizes an improvement in bending strength balance. I believe.

4) 中間圧延
第一溶体化処理と最終の溶体化処理の間に、中間圧延を行う。好適な実施の態様において、中間圧延の圧下率(加工度)は、例えば、3〜70%、好ましくは5〜60%、さらに好ましくは5〜50%、さらに好ましくは5〜40%とすることができる。圧下率は{((圧延前の厚み−圧延後の厚み)/圧延前の厚み)×100%}で定義される。この圧下率を高くしてしまった場合、例えば、70%超の圧下率としてしまった場合には、所望の結晶方位が得られず、最終的な特性における曲げ加工性が不十分となってしまう。本発明者は、上記圧下率の範囲の条件が、曲げ加工性に不利な影響を与える圧延集合組織の発達を抑制しつつ、その後の最終の溶体化処理で再結晶集合組織が発達しやすくなると考えている。
4) Intermediate rolling Intermediate rolling is performed between the first solution treatment and the final solution treatment. In a preferred embodiment, the rolling reduction (working degree) of intermediate rolling is, for example, 3 to 70%, preferably 5 to 60%, more preferably 5 to 50%, and further preferably 5 to 40%. Can do. The rolling reduction is defined by {((thickness before rolling−thickness after rolling) / thickness before rolling) × 100%}. If this rolling reduction is increased, for example, if the rolling reduction exceeds 70%, a desired crystal orientation cannot be obtained, and bending workability in the final characteristics becomes insufficient. . The present inventor, when the conditions of the above rolling reduction range, while suppressing the development of the rolling texture that adversely affects the bending workability, the recrystallization texture is likely to develop in the final solution treatment thereafter. thinking.

5) 最終の溶体化処理
中間圧延の後に、最終の溶体化処理を、第一溶体化処理に次いで行われる溶体化処理(第二溶体化処理)として、行う。好ましい実施の態様において、最終の溶体化処理では、加熱温度を、第二相粒子組成の固溶限の温度から、30〜50℃高い温度、好ましくは35〜45℃高い温度とすることができる。固溶減温度は、例えば、Tiの添加量が2.0〜4.0質量%の範囲でTiの固溶限が添加量と等しくなる温度は730〜840℃程度であり、例えばTiの添加量が3.2質量%では800℃程度である。例えば、典型的には、730〜880℃のTiの固溶限が添加量と同じになる温度に比べて30〜50℃高い温度、好ましくは35〜45℃高い温度に加熱する。
5) Final solution treatment After the intermediate rolling, the final solution treatment is performed as a solution treatment (second solution treatment) performed after the first solution treatment. In a preferred embodiment, in the final solution treatment, the heating temperature can be 30 to 50 ° C. higher, preferably 35 to 45 ° C. higher than the solid solution limit temperature of the second phase particle composition. . The solid solution decreasing temperature is, for example, about 730 to 840 ° C. at which the solid solubility limit of Ti is equal to the addition amount in the range of 2.0 to 4.0% by mass of Ti. The amount is about 800 ° C. when the amount is 3.2% by mass. For example, it is typically heated to a temperature 30 to 50 ° C., preferably 35 to 45 ° C. higher than the temperature at which the solid solubility limit of Ti at 730 to 880 ° C. is the same as the addition amount.

最終の溶体化処理での加熱時間は短いほうが結晶粒の粗大化を抑制できる。加熱時間は例えば0.5〜3分とすることができ、典型的には0.5〜1.5分とすることができる。冷却速度は極力速くし、例えば水冷などで行なわれる。この時点で新たに第2相粒子が発生しても微細かつ均一に分散していれば、強度と曲げ加工性に対してほとんど無害である。しかし粗大なものは最終の時効処理で更に成長する傾向にあるので、この時点での第2相粒子は生成してもなるべく少なく、小さくする。   A shorter heating time in the final solution treatment can suppress the coarsening of crystal grains. The heating time can be, for example, 0.5 to 3 minutes, and typically 0.5 to 1.5 minutes. The cooling rate is increased as much as possible, for example, by water cooling. Even if new second phase particles are generated at this point, if they are finely and uniformly dispersed, they are almost harmless to strength and bending workability. However, since coarse particles tend to grow further in the final aging treatment, the second-phase particles at this point are made as small as possible even if they are produced.

最終の溶体化処理時における冷却は、急冷であることが好ましい。このような急冷は、例えば、水冷によって行うことができる。好適な実施の態様において、材料温度が400℃になるまで、例えば、冷却速度150℃/s以上、好ましくは200℃/s以上、さらに好ましくは250℃/s以上の速度で、急冷することが好ましい。急冷する場合の冷却速度には特に上限はないが、例えば水冷によって実現可能な範囲とすることができ、例えば、2000℃/s以下、例えば、1000℃/s以下の冷却速度とすることができる。   Cooling during the final solution treatment is preferably rapid cooling. Such rapid cooling can be performed by water cooling, for example. In a preferred embodiment, rapid cooling is performed until the material temperature reaches 400 ° C., for example, at a cooling rate of 150 ° C./s or higher, preferably 200 ° C./s or higher, more preferably 250 ° C./s or higher. preferable. There is no particular upper limit to the cooling rate in the case of rapid cooling, but it can be in a range that can be realized by water cooling, for example, and can be a cooling rate of 2000 ° C./s or less, for example 1000 ° C./s or less .

6) 最終の冷間圧延
上記最終の溶体化処理後、所望によって、最終の冷間圧延を行う。最終の冷間加工によってチタン銅の強度を高めることができる。圧下率(加工度)は、例えば、5%以上、好ましくは10%以上、さらに好ましくは15%以上、さらに好ましくは20%以上とすることができる。圧下率が高くなると強度は上昇するものの曲げ性が劣化することから、圧下率を40%以下、好ましくは35%以下、より好ましくは30%以下とすることができる。好適な実施の態様において、圧下率(加工度)は、例えば、5〜40%、好ましくは10〜35%、さらに好ましくは15〜30%、さらに好ましくは20〜30%とすることができる。圧下率は{((圧延前の厚み−圧延後の厚み)/圧延前の厚み)×100%}で定義される。
6) Final cold rolling After the final solution treatment, final cold rolling is performed as desired. The strength of titanium copper can be increased by the final cold working. The rolling reduction (working degree) can be, for example, 5% or more, preferably 10% or more, more preferably 15% or more, and further preferably 20% or more. As the rolling reduction increases, the strength increases but the bendability deteriorates. Therefore, the rolling reduction can be made 40% or less, preferably 35% or less, more preferably 30% or less. In a preferred embodiment, the rolling reduction (working degree) can be, for example, 5 to 40%, preferably 10 to 35%, more preferably 15 to 30%, and still more preferably 20 to 30%. The rolling reduction is defined by {((thickness before rolling−thickness after rolling) / thickness before rolling) × 100%}.

7) 時効処理
最終の冷間圧延の後、時効処理を行う。時効処理の条件は慣用の条件でよい。好適な実施の態様において、例えば、材料温度が、300℃〜500℃で0.1〜15時間加熱することが好ましく、材料温度350〜450℃で0.5〜15時間加熱することがより好ましい。
7) Aging treatment After the final cold rolling, an aging treatment is performed. The conditions for the aging treatment may be conventional conditions. In a preferred embodiment, for example, the material temperature is preferably 300 to 500 ° C. for 0.1 to 15 hours, more preferably the material temperature 350 to 450 ° C. for 0.5 to 15 hours. .

6´) 熱処理
本発明の好適な実施の態様において、上記「5) 最終の溶体化処理」の後に、所望によって、上記「6) 最終の冷間圧延」以降の処理に代えて、熱処理を行うことができる。熱処理は、材料温度が400〜650℃で0.002〜5時間加熱することが好ましく、材料温度400〜550℃で0.01〜5時間加熱することがより好ましい。
6 ′) Heat treatment In a preferred embodiment of the present invention, after the “5) final solution treatment”, a heat treatment is performed instead of the treatment after the “6) final cold rolling”, if desired. be able to. The heat treatment is preferably performed at a material temperature of 400 to 650 ° C. for 0.002 to 5 hours, and more preferably at a material temperature of 400 to 550 ° C. for 0.01 to 5 hours.

7´) 最終の冷間圧延
上記「6´) 熱処理」の後、所望によって、最終の冷間圧延を行うことができる。最終の冷間加工によってチタン銅の強度を高めることができる。圧下率(加工度)は、例えば、5%以上、好ましくは10%以上、さらに好ましくは15%以上、さらに好ましくは20%以上とすることができる。圧下率が高くなると強度は上昇するものの曲げ性が劣化することから、圧下率を40%以下、好ましくは35%以下、より好ましくは30%以下とすることができる。好適な実施の態様において、圧下率(加工度)は、例えば、5〜40%、好ましくは10〜35%、さらに好ましくは15〜30%、さらに好ましくは20〜30%とすることができる。圧下率は{((圧延前の厚み−圧延後の厚み)/圧延前の厚み)×100%}で定義される。
7 ′) Final cold rolling After the above “6 ′) heat treatment”, final cold rolling can be performed as desired. The strength of titanium copper can be increased by the final cold working. The rolling reduction (working degree) can be, for example, 5% or more, preferably 10% or more, more preferably 15% or more, and further preferably 20% or more. As the rolling reduction increases, the strength increases but the bendability deteriorates. Therefore, the rolling reduction can be made 40% or less, preferably 35% or less, more preferably 30% or less. In a preferred embodiment, the rolling reduction (working degree) can be, for example, 5 to 40%, preferably 10 to 35%, more preferably 15 to 30%, and still more preferably 20 to 30%. The rolling reduction is defined by {((thickness before rolling−thickness after rolling) / thickness before rolling) × 100%}.

8´) 時効処理
上記「7´) 最終の冷間圧延」の後、時効処理を行うことができる。時効処理の条件は慣例の条件でよい。好適な実施の態様において、例えば、材料温度が、250℃〜450℃で0.1〜15時間加熱することが好ましく、材料温度300〜400℃で0.5〜15時間加熱することがより好ましい。
8 ′) Aging treatment After the above “7 ′) final cold rolling”, an aging treatment can be performed. The conditions for the aging treatment may be conventional conditions. In a preferred embodiment, for example, the material temperature is preferably heated at 250 ° C. to 450 ° C. for 0.1 to 15 hours, and more preferably heated at the material temperature of 300 to 400 ° C. for 0.5 to 15 hours. .

なお、当業者であれば、上記各工程の合間に適宜、表面の酸化スケール除去のための研削、研磨、ショットブラスト酸洗等の工程を行なうことができることは理解できるであろう。   A person skilled in the art will understand that steps such as grinding, polishing, and shot blast pickling for removing oxide scale on the surface can be appropriately performed between the above steps.

[伸銅品、電子部品]
本発明に係るチタン銅は、種々の伸銅品、例えば板、条及び箔に加工することができる。本発明に係るチタン銅は、電気伝導性であることに加えて、優れた曲げ加工性と強度とを有しているので、曲げ加工によって製造される電子部品、リードフレーム、コネクタ、ピン、端子、リレー、スイッチ、二次電池用箔材等の小型電子機器部品等の製造に、好適に使用することができる。
[Copper products, electronic parts]
The titanium copper according to the present invention can be processed into various copper products, such as plates, strips and foils. In addition to being electrically conductive, titanium copper according to the present invention has excellent bending workability and strength, so that electronic parts, lead frames, connectors, pins, terminals manufactured by bending work It can be suitably used for the production of small electronic equipment parts such as relays, switches, and foil materials for secondary batteries.

以下に本発明の実施例を比較例と共に示すが、これらの実施例は本発明及びその利点をよりよく理解するために提供するものであり、発明が限定されることを意図するものではない。   Examples of the present invention will be described below together with comparative examples, but these examples are provided for better understanding of the present invention and its advantages, and are not intended to limit the invention.

[チタン銅の製造]
実施例の銅合金を製造するに際しては、活性金属であるTiが第2成分として添加されるから、溶製には真空溶解炉を用いた。また、本発明で規定した元素以外の不純物元素の混入による予想外の副作用が生じることを未然に防ぐため、原料は比較的純度の高いものを厳選して使用した。
[Production of titanium copper]
When manufacturing the copper alloy of the example, Ti, which is an active metal, is added as the second component, so a vacuum melting furnace was used for melting. In addition, in order to prevent unexpected side effects due to mixing of impurity elements other than the elements defined in the present invention, raw materials having a relatively high purity were carefully selected and used.

表1に記載の濃度のTiを添加し、場合により表1に記載の第3元素を更に添加して、残部銅及び不可避的不純物の組成を有するインゴットに対して950℃で3時間加熱する均質化焼鈍の後、900〜950℃で熱間圧延を行い、板厚10mmの熱延板を得た。なお、表1中に示される各成分の数字は質量%を示す。面削による脱スケール後、冷間圧延して素条の板厚(0.408〜2.0mm)とし、素条での第1溶体化処理を行った。第1溶体化処理の条件は、表2に記載の通りである。次いで、中間の冷間圧延では、表2に記載の加工度となるよう調整して冷間圧延(板厚0.4mm)した。   Homogeneity in which Ti of the concentration shown in Table 1 is added, and in some cases, the third element shown in Table 1 is further added, and the ingot having the composition of the remaining copper and inevitable impurities is heated at 950 ° C. for 3 hours. After the chemical annealing, hot rolling was performed at 900 to 950 ° C. to obtain a hot rolled sheet having a thickness of 10 mm. In addition, the number of each component shown in Table 1 shows the mass%. After descaling by chamfering, cold rolling was performed to obtain a strip thickness (0.408 to 2.0 mm), and a first solution treatment was performed on the strip. The conditions for the first solution treatment are as shown in Table 2. Next, in intermediate cold rolling, cold rolling (plate thickness of 0.4 mm) was performed by adjusting the processing degree shown in Table 2.

次いで、急速加熱が可能な焼鈍炉に挿入して、最終の溶体化処理(第2の溶体化処理)を行った。最終の溶体化処理の条件は、表2に記載の通りである。表2に記載の条件は、材料温度がTiの固溶限が添加量と同じになる温度(Ti濃度1.5質量%で約680℃、Ti濃度2.0質量%で約730℃、Ti濃度3.0質量%及び3.2質量%で約800℃、Ti濃度4.0質量%で約840℃)よりも、それぞれ30〜50℃高い温度(発明例1〜19、及び比較例2、4〜8、12)か、あるいはその範囲外の温度(その他の比較例)となる加熱条件である。その後、水冷で冷却し、酸洗による脱スケール後、最終圧延として表2に記載の加工度となるよう調整して冷間圧延(板厚0.3mm)した後に、表2の条件で時効処理を行った。時効処理は不活性ガス(Ar)雰囲気中で行い、その他の熱処理は空気中で行った。また、一部の発明例及び比較例では、表2に記載の通り、最終圧延の前にそれぞれ記載の条件で、熱処理を行った。   Then, it inserted in the annealing furnace in which rapid heating is possible, and the last solution treatment (2nd solution treatment) was performed. The conditions for the final solution treatment are as shown in Table 2. The conditions described in Table 2 are the temperatures at which the solid solubility limit of the Ti is the same as the addition amount (about 680 ° C. at a Ti concentration of 1.5% by mass, about 730 ° C. at a Ti concentration of 2.0% by mass, Ti Temperatures 30 to 50 ° C. higher than those of about 800 ° C. at a concentration of 3.0% by mass and 3.2% by mass and about 840 ° C. at a Ti concentration of 4.0% by mass (Invention Examples 1-19 and Comparative Example 2) 4-8, 12), or heating conditions that result in a temperature outside that range (other comparative examples). Then, after cooling by water cooling, descaling by pickling, adjusting to the degree of processing shown in Table 2 as final rolling and cold rolling (plate thickness 0.3 mm), then aging treatment under the conditions of Table 2 Went. The aging treatment was performed in an inert gas (Ar) atmosphere, and the other heat treatment was performed in air. In some invention examples and comparative examples, as shown in Table 2, heat treatment was performed under the conditions described before the final rolling.

上記のように処理を行った各試験片について、以下の条件で特性評価を行った。
[硬度]
最終的に得られた各試験片のビッカース硬度Hvを、測定した。その結果は、表3に示す。
About each test piece processed as mentioned above, the characteristic evaluation was performed on condition of the following.
[hardness]
The Vickers hardness Hv of each test piece finally obtained was measured. The results are shown in Table 3.

[曲げ加工性]
最終的に得られた各試験片の曲げ加工性を、JIS H 3130に従った、Badway(曲げ軸が圧延方向と同一方向)のW曲げ試験によって、割れが発生しない最小半径(MBR)の板厚(t)に対する比であるMBR/t値を測定して、評価した。その結果は、表3に示す。
[Bending workability]
The final workability of each test piece obtained was determined as follows: The minimum radius (MBR) plate in which cracks do not occur in the W-bending test of Badway (the bending axis is the same direction as the rolling direction) according to JIS H 3130. The MBR / t value, which is the ratio to the thickness (t), was measured and evaluated. The results are shown in Table 3.

[X線回折強度]
最終的に得られた各試験片のX線回折強度を、次のように測定した。最終的に得られた各試験片の板面(圧延面)を#1500耐水ペーパーで研磨仕上げした試料を準備し、X線回折装置(理学電機社製型式right Ultima2000)を用いて、Cu管球、管電圧25kV、管電流20mAの条件で、前記研磨仕上げ面について{200}結晶面、{311}結晶面、{220}結晶面でのX線回折強度(X線回折ピークの積分強度)を測定した。これらの測定値を用いて、各試験片の(2×I{200}+I{311})/I{220}の値を、求めた。その結果は、表3に示す。
[X-ray diffraction intensity]
The X-ray diffraction intensity of each test piece finally obtained was measured as follows. A sample was prepared by polishing the plate surface (rolled surface) of each finally obtained test piece with # 1500 water-resistant paper, and using an X-ray diffractometer (Rigaku Electric's model right Ultimate 2000), a Cu tube The X-ray diffraction intensity (integrated intensity of the X-ray diffraction peak) at the {200} crystal face, {311} crystal face, and {220} crystal face on the polished finished surface under the conditions of a tube voltage of 25 kV and a tube current of 20 mA. It was measured. Using these measured values, the value of (2 × I {200} + I {311}) / I {220} of each test piece was determined. The results are shown in Table 3.

[導電率]
JIS H 0505に準拠して導電率(%IACS)を測定した。その結果は、表3に示す。
[conductivity]
Conductivity (% IACS) was measured according to JIS H 0505. The results are shown in Table 3.

[結晶粒径]
最終の溶体化処理の後の各試験片の平均結晶粒径(μm)を、次のように求めた。最終の溶体化処理の後の各試験片の板面(圧延面)を研磨したのちエッチングし、その面を光学顕微鏡で観察し、300μm×300μmの視野において100個以上の結晶粒の粒径をJIS H 0501の切断法で測定し、平均結晶粒径Dを求めた。その結果は、表3に示す。
[Crystal grain size]
The average crystal grain size (μm) of each test piece after the final solution treatment was determined as follows. The plate surface (rolled surface) of each test piece after the final solution treatment is polished and etched, and the surface is observed with an optical microscope, and the grain size of 100 or more crystal grains is observed in a 300 μm × 300 μm field of view. The average crystal grain size D was determined by measuring with the cutting method of JIS H 0501. The results are shown in Table 3.

Figure 2013204138
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Figure 2013204138
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[結果]
上述のように、試験片として、各発明例及び各比較例のチタン銅を、表1〜3に示す各条件下で製造したところ、表3に示す特性を有することがわかった。このように、本発明に係るチタン銅は、上記X線回折強度の比を有し、優れた曲げ加工性と強度(ビッカース硬度)を有するものとなっていた。また、本発明に係るチタン銅は、上記組成のチタン銅に対して、上記条件による二段階の溶体化処理、すなわち、第1の溶体化処理、中間圧延、最終の溶体化処理(第2の溶体化処理)を上記各条件で行うことにより、製造できることがわかった。
[result]
As above-mentioned, when the titanium copper of each invention example and each comparative example was manufactured on each condition shown in Tables 1-3 as a test piece, it turned out that it has the characteristic shown in Table 3. Thus, the titanium copper according to the present invention has the ratio of the X-ray diffraction intensity and has excellent bending workability and strength (Vickers hardness). In addition, the titanium copper according to the present invention is a two-step solution treatment according to the above conditions, that is, the first solution treatment, the intermediate rolling, and the final solution treatment (second solution) It was found that the solution can be produced by performing the solution treatment) under the above conditions.

本発明によれば、優れた曲げ加工性と強度とを備えたチタン銅を得ることができる。本発明に係るチタン銅は、優れた曲げ加工性と強度とを有しているので、曲げ加工によって製造される電子部品、特に曲げ加工性と強度をあわせて求められる小型電子部品の製造に好適に使用することができる。本発明は、産業上有用な発明である。   According to the present invention, titanium copper having excellent bending workability and strength can be obtained. Since the titanium copper according to the present invention has excellent bending workability and strength, it is suitable for manufacturing electronic parts manufactured by bending, particularly small electronic parts required to combine bending workability and strength. Can be used for The present invention is an industrially useful invention.

Claims (6)

Tiを2.0〜4.0質量%含有し、
第3元素としてFe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B、及びPからなる群から選択された1種以上を合計で0〜0.5質量%含有し、
残部が銅及び不可避的不純物からなり、
次の式1:
1.14≦(2×I{200}+I{311})/I{220}≦2.63 (式1)
(ただし、I{200}、I{311}、I{220}は、それぞれ、{200}結晶面、{311}結晶面、{220}結晶面でのX線回折強度を表す)
を満たす結晶配向を有する、チタン銅。
Containing 2.0 to 4.0% by mass of Ti,
The total amount of one or more selected from the group consisting of Fe, Co, Mg, Si, Ni, Cr, Zr, Mo, V, Nb, Mn, B, and P as the third element is 0 to 0.5% by mass. Contains,
The balance consists of copper and inevitable impurities,
The following formula 1:
1.14 ≦ (2 × I {200} + I {311}) / I {220} ≦ 2.63 (Formula 1)
(However, I {200}, I {311}, and I {220} represent X-ray diffraction intensities at the {200} crystal plane, {311} crystal plane, and {220} crystal plane, respectively)
Titanium copper having a crystal orientation satisfying
平均結晶粒径が、3〜25μmである、請求項1に記載のチタン銅。   The titanium-copper of Claim 1 whose average crystal grain diameter is 3-25 micrometers. 請求項1又は請求項2に記載のチタン銅からなる、伸銅品。   A wrought copper product comprising the titanium-copper according to claim 1 or 2. 請求項1又は請求項2に記載のチタン銅からなる、電子部品。   The electronic component which consists of titanium copper of Claim 1 or Claim 2. 請求項1又は請求項2に記載のチタン銅を備えた、コネクタ。   The connector provided with the titanium copper of Claim 1 or Claim 2. Tiを2.0〜4.0質量%含有し、
第3元素としてFe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B、及びPからなる群から選択された1種以上を合計で0〜0.5質量%含有し、
残部が銅及び不可避的不純物からなるチタン銅を製造する方法であって、
チタン銅に対する溶体化処理として、
800〜950℃の温度で2〜10分間の熱処理を行い、300℃までの冷却速度を3〜30℃/secで冷却する、第一溶体化処理の工程、
第一溶体化処理の後に、3〜70%の圧下率で圧延する、中間圧延処理の工程、
中間圧延処理の後に、第二相粒子組成の固溶限の温度から、30〜50℃高い温度で0.5〜3分間の熱処理を行う、最終溶体化処理の工程、
を含む溶体化処理が行われる、方法。
Containing 2.0 to 4.0% by mass of Ti,
The total amount of one or more selected from the group consisting of Fe, Co, Mg, Si, Ni, Cr, Zr, Mo, V, Nb, Mn, B, and P as the third element is 0 to 0.5% by mass. Contains,
A method for producing titanium copper, the balance of which consists of copper and inevitable impurities,
As a solution treatment for titanium copper,
A first solution treatment step of performing a heat treatment for 2 to 10 minutes at a temperature of 800 to 950 ° C., and cooling a cooling rate to 300 ° C. at 3 to 30 ° C./sec,
After the first solution treatment, rolling at a rolling reduction of 3 to 70%, an intermediate rolling process step,
After the intermediate rolling treatment, a final solution treatment step of performing heat treatment for 0.5 to 3 minutes at a temperature higher by 30 to 50 ° C. from the temperature of the solid solution limit of the second phase particle composition,
A solution treatment comprising:
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