JP2013197445A5 - 光源装置、投映表示装置及び発光装置の製造方法 - Google Patents

Claims (6)

1. 光を出射する出射部を備えた発光素子と、
   基板と、
   前記基板に形成される配線層と、
   前記発光素子と前記配線層とを接合する導電性ペースト層とを備え、
   前記配線層は、第１の厚みを有する第１配線層部分と、前記第１の厚みよりも厚い第２の厚みを有する第２配線層部分と、を有し、
   前記発光素子は、前記出射部を含む第１面と、前記導電性ペースト層と接する第２面と、前記第２面と前記第１面とが接する端部と、を有し、
   前記第１配線層部分は、前記第２配線層部分より端部側に位置し、
   前記端部は前記導電性ペースト層と接続されていないことを特徴とする光源装置。
2. 前記第１配線層部分と前記第２配線層部分とで、段差を構成することを特徴とする請求項１に記載の光源装置。
3. 前記第２配線層部分は、前記第２配線層部分から前記第１配線層部分に向けて厚さが薄くなることを特徴とする請求項１に記載の光源装置。
4. 前記配線層は、前記第１配線層部分よりも前記端部側に前記第１の厚みよりも厚い第３の厚みを有する第３の配線層部分を有し、前記配１配線層部分と前記第２配線層部分と前記第３配線層部分とで凹部を構成することを特徴とする請求項１に記載の光源装置。
5. 請求項１から４の何れか１項に記載の光源装置を備えた投影表示装置。
6. 基板の主面上に第１のレジストパターンを形成する工程と、
   前記第１のレジストパターンの、下部配線層形成領域に下部配線層をめっきする工程と、
   前記第１のレジストパターンの表面と、前記下部配線層の表面の一部と、に第２のレジストパターンを形成する工程と、
   前記第２のレジストパターンの、上部配線層形成領域に上部配線層をめっきする工程と、
   前記第１のレジストパターン及び前記第２のレジストパターンを剥離する工程と、
   前記基板の前記上部配線層と前記下配線層とが設けられた主面と、発光素子と、を重ねて、導電性ペースト剤で接合する工程と、を備え、
   前記上部配線層は前記下部配線層に積層され、且つ、前記上部配線層形成領域は前記下部配線層形成領域よりも、前記基板の主面の端部側に位置していることを特徴とする光源装置の製造方法。