JP2013194123A - オフセット印刷ブランケット用洗浄液およびオフセット印刷ブランケットの洗浄方法ならびに表示装置の製造方法および印刷物の製造方法。 - Google Patents

Abstract

【課題】高精細なパターニングで印刷を行うことができるインキ組成物，印刷方法および表示装置の製造方法を提供する
【解決手段】本技術のオフセット印刷ブランケット用洗浄液は、双極子モーメントが１．７以上４．１未満であり、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒を含む。
【選択図】図２

Description

本開示は、例えば有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置の有機層の形成に用いるオフセット印刷ブランケット用洗浄液およびそれを用いたオフセット印刷ブランケットの洗浄方法ならびに表示装置の製造方法および印刷物の製造方法に関する。

情報通信産業の発達の加速に伴い、高性能な表示素子が要求されている。例えば有機ＥＬ表示素子は、自発発光型であり視野角の広さ、コントラストおよび応答速度の点において優れている。

有機ＥＬ素子を画素として含む有機ＥＬ表示装置では、発光層等を構成する有機層は真空蒸着法等の乾式法や溶液を塗布する湿式法によって形成されている。湿式法の一例としては、スピンコーティング、インクジェット、ノズルジェット等の吐出系印刷法、あるいはフレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷等の有版印刷法がある。

有版印刷法の中でも反転オフセット印刷法は、ブランケットと呼ばれる中間転写体にインキ塗膜を形成したのち、凹版を接触させ、ブランケット上に残ったパターンをブランケットから被印刷基板に接触転写することで印刷を行うものである。このような反転オフセット印刷としては、ロール状のブランケットを用いたもの（例えば、特許文献１参照）や、平板状のブランケットを用いたもの（例えば、特許文献２参照）が提案されている。

オフセット印刷において使用されるブランケットには、ブランケット上に形成されるインキ塗膜の高い離型性が求められる。具体的には、インク塗膜が形成されたブランケットと被印刷基板との接触時に、被印刷基板の接触領域内のインク塗膜が残存することなく被印刷基板へ転写される必要がある。このような離型性の良いブランケット材料としては、一般的にポリジメチルシロキサンをベース（主成分）としたシリコーンゴムが用いられている。

特開２００４−３２７０６７号公報 特開２０１０−１５８７９９号公報

しかしながら、シリコーンゴム製のブランケットは非常に溶媒を吸収しやすく、膨潤状態を引き起こしやすい。このため、一度ブランケットに溶媒が吸収されると、ブランケットが再度使用可能になるまでの乾燥時間として多大な時間を要するという問題があった。この問題を解決するためにブランケットの加熱処理や真空乾燥処理工程が用いられるが、処理後に離型性が著しく低下し、再利用が困難になるという問題があった。また、オフセット印刷においては、本印刷の前に行うダミー印刷のパターンの除去やブランケット表面の洗浄のためにブランケットを洗浄液に浸す工程があり、印刷後の洗浄時と同様に、数日間放置してブランケットを完全に乾燥させる必要があった。

本技術はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、ブランケット洗浄後の乾燥時間を短縮することが可能なオフセット印刷ブランケット用洗浄液およびオフセット印刷ブランケットの洗浄方法ならびに表示装置の製造方法および印刷物の製造方法を提供することにある。

本技術によるオフセット印刷ブランケット用洗浄液は、双極子モーメントが１．７以上４．１未満であり、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒を含むものである。

本技術によるオフセット印刷ブランケットの洗浄方法は、ブランケットを、双極子モーメントが１．７以上４．１未満であり、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒を含む洗浄液に浸漬させる工程を含むものである。

本技術による表示装置の製造方法は、基板上に表示素子を形成する工程において上記オフセット印刷ブランケットの洗浄液および洗浄方法を用いたものである。

本技術による印刷物の製造方法は、基板上にパターン層を形成する工程において上記オフセット印刷ブランケットの洗浄液および洗浄方法を用いたものである。

本技術のオフセット印刷ブランケット用洗浄液およびオフセット印刷ブランケットの洗浄方法ならびに表示装置の製造方法および印刷物の製造方法では、双極子モーメントが１．７以上４．１未満であると共に、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒を用いることにより、ブランケットへの溶媒吸収が抑制される。

本技術のオフセット印刷ブランケット用洗浄液およびオフセット印刷ブランケットの洗浄方法ならびに表示装置の製造方法および印刷物の製造方法によれば、双極子モーメントが１．７以上４．１未満であり、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒を用いるようにしたので、ブランケット洗浄後の乾燥時間を短縮することが可能となる。

本開示の一実施の形態に係る印刷方法の流れを説明する工程図である。 図２に続く工程図である。 （Ａ）双極子モーメントとブランケットの重量増加率との関係を表した特性図である。（Ｂ）各双極子モーメントとブランケットの膨潤率との関係を表した特性図である。 各溶媒と残存有機膜の洗浄時間および洗浄後の膨潤率との関係を表した特性図である。 各溶媒の双極子モーメントを表したものである。 本開示の一実施の形態に係る表示装置の製造方法の流れ図である。 図６に示した表示装置の構成の一例を表す断面図である。 図６に示した表示装置の構成の他の例を表す断面図である。 図７に示した表示装置の画素駆動回路の一例を表す模式図である。 図９に示した画素回路の一例を表す回路図である。 上記実施の形態の表示装置を含むモジュールの概略構成を表す平面図である。 上記実施の形態の表示装置の適用例１の外観を表す斜視図である。 （Ａ）は適用例２の表側から見た外観を表す斜視図であり、（Ｂ）は裏側から見た外観を表す斜視図である。 適用例３の外観を表す斜視図である。 適用例４の外観を表す斜視図である。 （Ａ）は適用例５の開いた状態の正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態の正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。

以下、本技術の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．実施の形態
１−１．オフセット印刷ブランケット用洗浄液
１−２．洗浄方法
１−３．有機ＥＬ表示装置の構成および製造方法
２．適用例
３．実施例

＜１．実施の形態＞
（１−１．オフセット印刷ブランケット用洗浄液）
本開示の一実施の形態に係るオフセット印刷ブランケット用洗浄液は、有版印刷法によって発光層を形成する際の印刷前または印刷後における版の洗浄に用いるものである。有版印刷法、例えば反転オフセット印刷では、前述したように、ブランケット２１にインキ塗膜（転写層２２ａ）を形成した後、凹版（反転印刷用版２３）を接触させ、ブランケット２１上に残ったパターン（パターン層２２ｂ）をブランケット２１から被印刷基板（基板１１）に接触転写することで印刷を行う（いずれも図１，２参照）。本実施の形態では、この有版印刷法に用いる版上の異物や印刷残余物を除去する洗浄液について詳細に説明する。

図１，２は、反転オフセット印刷の工程の一例を表したものである。反転オフセット印刷は、まず、図１（Ａ）に示したように基体上に軟質材料層（図示せず）を有するブランケット２１を用意する。次いで、このブランケット２１の軟質材料層上に、図１（Ｂ）に示したように、インキ組成物２２を塗布する。続いて、スピンコート法により、図１（Ｃ）に示したようインキ組成物２２からなる転写層２２ａを形成する。次に、図１（Ｄ）に示したように、この転写層２２ａに反転印刷用版２３を押し当てる。

反転印刷用版２３には、上述したように、一方の面に目的とするパターン（例えば、赤色発光層１４ＣＲ、図７参照）に対応するパターンの凹部が設けられている。この反転印刷用版２３の凹部と転写層２２ａとが対向するように反転印刷用版２３とブランケット２１とを接触させることにより、図２（Ａ）に示したように、ブランケット２１側に反転印刷用版２３の凹部のパターンと同一パターンのインキ組成物２２からなるパターン層２２ｂが形成される。反転印刷用版２３側には、凹部と逆パターン（凸部と同一パターン）のインキ組成物２２からなる非印刷部２２ｃが形成される。

続いて、図２（Ｂ）に示したように、被印刷基板（例えば、基板１１、図５参照）を用意し、ブランケット２１のパターン層２２ｂと被印刷面とが対向するようにして位置合わせを行う。次に、図２（Ｃ）に示したように、ブランケット２１に基板１１を押し当てたのち、図２（Ｄ）に示したように、ブランケット２１を基板１１から引き離すことで基板１１上にパターン層２２ｂ（第１パターン）が印刷される。この後、パターン層２２ｂに加熱等の処理を施したのち、基板１１上に次のパターン（第２パターン）を印刷する場合には、同一または新たなブランケット２１を用い、同様の工程を経て印刷する。

本実施の形態におけるオフセット印刷ブランケット用洗浄液（以下、洗浄液Ｒとする。）は、例えば、上述したように同一のブランケット２１を用いて基板１１に第２パターンを印刷する場合のブランケット２１の洗浄に用いるものである。また、例えば、ブランケット２１に第１パターン用のインキ組成物を塗布する前に行うブランケット２１の洗浄に用いるものである。洗浄液Ｒに用いる溶媒としては、洗浄するブランケット２１を構成する材料および洗浄液Ｒによる被洗浄物（インキ組成物による有機膜）の組成によって適宜選択する。具体的には、ブランケット２１の離型性を損なわず、且つブランケット２１に吸収されにくく、更に有機膜に対して溶解性を有する溶媒を用いる。

ブランケット２１は、前述のように有機膜の離型性の良いポリジメチルシロキサンを主成分としたシリコーンゴムによって形成されている。シリコーンゴム製のブランケット２１は表面密度が低く、容易に溶媒が浸透しやすい（膨潤現象）。また、ブランケット２１の表面に存在するポリジメチルシロキサンはほぼ極性を持たない。具体的には、双極子モーメントが０〜０．５と低く、極性の低い溶媒であるほど膨潤量が増える。

図３（Ａ）は、シリコーンゴム製のブランケット２１を各種双極子モーメントを有する溶媒に１分間浸漬させた場合の重量増加率（％）を表したものである。図３（Ｂ）は、シリコーンゴム製のブランケット２１を各種双極子モーメントを有する溶媒に１０分間浸漬させた後のブランケット２１の膨潤率（％）を表したものである。図３（Ａ），（Ｂ）から、ポリジメチルシロキサンと同程度の双極子モーメントを有する溶媒では、ブランケット２１の１分後の重量増加率および１０分後の膨潤率が著しく高いことがわかる。１０分後の膨潤率は溶媒の双極子モーメントが高くなるに従って減少し、双極子モーメントが１．５付近で１０％程度まで低下する。このことから、ブランケット２１の洗浄液Ｒには、双極子モーメントが１．５以上の溶媒を用いることが好ましいといえる。また、１０分後の膨潤率に加えて、１分後の重量増加率を合わせて判断すると、１．７付近でそれぞれ２％、１０％以下となりほぼ一定となる。このことから、ブランケット２１の洗浄液Ｒとしてより好ましい溶媒は、双極子モーメントが１．７以上の溶媒であることがわかる。

また、洗浄液Ｒには、ブランケット２１における吸収率の低さの他に、ブランケット２１上に残存するインキ組成物による有機膜の溶解性の高さが求められる。

インキ組成物は、目的とする対象物を構成する材料（溶質）と、この材料を溶解する溶媒とから構成されている。インキ組成物を構成する溶質としては、例えば有機ＥＬ表示装置１を構成する有機ＥＬ素子１０の有機層１４（図５参照）を形成する場合には有機材料を用いる。具体的には、インキ組成物の有機材料（溶質）としては、例えば分子量が５０００以上のポリマーないしオリゴマーを用いることが好ましい。特に、発光層１４Ｃを形成する際には、蛍光あるいは燐光発光を示すためπ共役系を分子内に有する有機発光材料が用いられる。

よって、洗浄液Ｒとしては、上記有機発光材料に対して優れた溶解性を有する溶媒を用いることが好ましい。溶解性に優れた溶媒としては、溶質との親和性の観点から双極子モーメントが所定の範囲を有する溶媒を用いることが好ましい。また、上述した蛍光あるいは燐光発光を示すためπ共役系を分子内に有する有機発光材料を用いる場合には、同様に溶質との親和性から分子骨格にπ共有結合を有する溶媒、具体的には酸素原子や窒素原子を有する溶媒を用いることが好ましい。

図４は各種溶媒におけるブランケット２１上の有機膜の洗浄時間（棒グラフ）と洗浄後のブランケット２１の膨潤率（％）（折れ線グラフ）との関係を表したものである。図４から、双極子モーメント０．４〜４．０９を有する溶媒では、３分程度の浸漬でブランケット２１上の有機膜は溶解され、除去されることがわかる。これに対して、π共役結合を有しないオクタン（双極子モーメント０）および双極子モーメントが高いジメチルスルホキシド(双極子モーメント４．３)やγ―ブチルラクトン（双極子モーメント４．１２）ではブランケット２１を１０分以上浸漬させても有機膜を完全に溶解させることができなく、有機膜に対する溶解性が低いことがわかる。

なお、双極子モーメントが低い（例えば、１．２以下）キシレン，テトラリン，シクロヘキシルベンゼンおよびアニソールでは２分程度で完全に除去されたが、膨潤率が１０％以上と高く、ブランケット２１が完全に乾燥するまでに1時間以上を要した。一方、双極子モーメントが高い（例えば、１．７以上）１，３−ジメトキシベンゼン（約１．７２），アセトフェノン（２．９６）およびN−メチルピロリドン（４．０９）ではブランケット２１上の有機膜は３分程度で完全に除去され、更にブランケット２１はほとんど膨潤していない。若干の膨潤率の上昇は表面に残った溶媒によるもので、エアー等で吹き飛ばすことで完全に除去することができる。

以上のことから、本実施の形態におけるオフセット印刷用ブランケットの洗浄液Ｒは、双極子モーメントが１．７以上４．１未満であると共に、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒を用いることが好ましいといえる。

図５は、シリコーンゴムブランケットに対し耐久性を減少させない代表的な溶媒の一例と、その双極子モーメントとを表したものである。上記範囲内の溶媒としては、例えば、１，２−ジメトキシベンゼン、１，３−ジメトキシベンゼン、アセトフェノン、シクロヘキサノン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、４−ペンタノン、N−メチル−２−ピロリドンや、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等が挙げられる。また、本実施の形態における洗浄液Ｒは、上記溶媒を単独で用いる他、数種類の溶媒を組み合わせても構わない。その際には、上記双極子モーメントの範囲外の溶媒を用いてもよい。

上記双極子モーメントの範囲外の溶媒としては、ブランケット２１に対する洗浄液Ｒの広がりを良くするために、ブランケット２１との接触角の低い溶媒を混合させることが好ましい。接触角の低い溶媒を用いることにより洗浄液Ｒの塗れ広がりが促進され、使用する洗浄液Ｒの総量が抑えられる。接触角が低い溶媒としては、例えば、テトラリンやアニソール等の溶媒が挙げられる。但し、ブランケット２１に対して接触角の低い溶媒は双極子モーメントが低く、ブランケット２１への溶媒吸収が高くなる傾向があるため単独溶媒では使用には適さない。したがって、上述したブランケット２１に対して接触角の低い溶媒を混合する場合には、洗浄液Ｒの溶媒を５０％以上含むことが望ましい。

（１−２．洗浄方法）
ブランケット２１は、上述したようにブランケット２１の表面を清浄に保つためおよび印刷時にブランケット２１の表面に残った有機膜を除去するために、印刷工程の前後に上記洗浄液Ｒによって表面が洗浄される。具体的には、印刷前にブランケット２１上に存在する塵芥等の異物を除去する場合には、洗浄液Ｒを吐出あるいは浸漬させた後、例えば回転式やエアナイフ等で溶媒を除去する。また、第１パターン印刷後、同一ブランケット２１を用いて第２パターンを印刷する場合には、洗浄液Ｒにブランケット２１を浸漬させたのち、洗浄液Ｒを常に供給した状態を保ちながら数分間（例えば５〜１０分程度）継続して浸漬させる。ブランケット２１の乾燥方法は、上述した方法と同様に回転式あるいはエアナイフ等で溶媒を除去する。本実施の形態では、洗浄液Ｒとしてブランケット２１に吸収されにくい溶媒を用いるため、加熱処理や真空乾燥など複雑な乾燥方法が不要となる。

（１−３．有機ＥＬ表示装置の構成および製造方法）
図６は、本開示の一実施の形態に係る表示装置１の製造方法を表す流れ図であり、図７はこの製造方法により得られる表示装置１の断面構成の一例を表したものである。表示装置１は基板１１の上にそれぞれ下部電極１２，有機層１４および上部電極１５を順に有する赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂがマトリクス状に配置されたものである。この表示装置１は、図１，２に示した反転オフセット印刷によって赤色有機ＥＬ素子１０Ｒの赤色発光層１４ＣＲ、緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの緑色発光層１４ＣＧおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂの青色発光層１４ＣBを形成したものである。

（下部電極１２を形成する工程）
まず、画素駆動回路（図示せず）が形成された基板１１の全面に例えばＩＴＯ（インジウムとスズの酸化物）よりなる透明導電膜を形成し、この透明導電膜をパターニングすることにより、下部電極１２を赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの各々ごとに形成する（ステップＳ１０１）。このとき、下部電極１２は画素駆動回路の駆動トランジスタと接続させる。基板１１には、例えば石英、ガラス、金属箔、もしくは樹脂製のフィルムやシートなどの公知のものを用いることができるが、石英やガラスを用いることが好ましい。下部電極１２には、クロム（Ｃｒ），金（Ａｕ），白金（Ｐｔ），ニッケル（Ｎｉ），銅（Ｃｕ），タングステン（Ｗ）あるいは銀（Ａｇ）等の金属元素の単体または合金、あるいはＩｎＺｎＯ（インジウム亜鉛オキシド）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）とアルミニウム（Ａｌ）との合金等の透明導電膜を用いてもよい。

（隔壁１３を形成する工程）
次いで、下部電極１２上および基板１１上に、例えばＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition；化学気相成長）法により、ＳｉＯ₂等の無機絶縁膜を成膜し、フォトリソグラフィー技術およびエッチング技術を用いてパターニングすることにより、隔壁１３を形成する（ステップＳ１０２）。隔壁１３は、下部電極１２と上部電極１５との絶縁性を確保すると共に発光領域を所望の形状にするためのものでもあるので、発光領域に対応して開口を設けるようにする。隔壁１３を形成した後、基板１１の表面（隔壁１３および下部電極１２が形成された側の面）に酸素プラズマ処理を行い、下部電極１２の表面をクリーニングする。

（正孔注入層１４Ａおよび正孔輸送層１４Ｂを形成する工程）
酸素プラズマ処理を行った後、下部電極１２上および隔壁１３上に有機層１４のうち赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂに共通する正孔注入層１４Ａおよび正孔輸送層１４Ｂをこの順に形成する（ステップＳ１０３，Ｓ１０４）。

正孔注入層１４Ａおよび正孔輸送層１４Ｂには、詳細は後述するが、例えば以下の材料を用いることができる。正孔注入層１４Ａの材料としては、例えば、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンビニレン、ポリチエニレンビニレン、ポリキノリン、ポリキノキサリンおよびそれらの誘導体、芳香族アミン構造を主鎖または側鎖に含む重合体等の導電性高分子、金属フタロシアニン（銅フタロシアニン等）またはカーボン等を用いることができる。この他、オリゴアニリンあるいはポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）などのポリジオキシチオフェンを用いてもよい。また、エイチ・シー・スタルク製の商品名Nafion（商標）および商品名Liquion（商標）、日産化学製の商品名エルソース（商標）および綜研化学製の導電性ポリマーベラゾール等を使用することができる。

正孔輸送層１４Ｂの材料としては、例えば、ポリビニルカルバゾール、ポリフルオレン、ポリアニリン、ポリシラン、側鎖または主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ポリチオフェンおよびその誘導体あるいはポリピロール等の高分子材料を使用することができる。

（赤色発光層１４ＣＲ，緑色発光層１４ＣＧおよび青色発光層１４ＣＢを形成する工程）
正孔輸送層１４Ｂを形成した後、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒの赤色発光層１４ＣＲ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの緑色発光層１４ＣＧおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂの青色発光層１４ＣＢを反転オフセット印刷により形成する（ステップＳ１０５）。

具体的には、上記反転オフセット印刷（図１，２）を用いて赤色発光層１４ＣＲ（緑色発光層１４ＣＧ，青色発光層１４ＣＢ）を形成する。まず、上述したように、ブランケット２１を上記洗浄液Ｒを用いて洗浄したのち、例えばエアナイフ等で溶媒を除去する。続いて、図１（Ａ）に示したように基体上に軟質材料層を有するブランケット２１を用意する。次いで、このブランケット２１の軟質材層上に、図１（Ｂ）に示したように、インキ組成物２２（例えば、まず赤色発光層１４ＣＲ用のインキ）を塗布する。続いて、スピンコート法により、図１（Ｃ）に示したようインキ組成物２２からなる転写層２２ａを形成する。なお、大気中で赤色発光層１４ＣＲ，緑色発光層１４ＣＧおよび青色発光層１４ＣＢの形成を行うと、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの発光寿命を短縮してしまう虞があるので、窒素雰囲気下で印刷を行うことが好ましい。

このような赤色発光層１４ＣＲ用のインキ組成物２２からなる転写層２２ａをブランケット２１上に形成した後、図１（Ｄ）に示したように、この転写層２２ａに反転印刷用版２３を押し当てる。この工程ではブランケット２１と反転印刷用版２３とが平行となるように設置し、ブランケット２１の背面側に圧力を加えることで均一にムラのない接触が可能となる。

反転印刷用版２３には、上述したように、一方の面に目的とするパターン（例えば、赤色発光層１４ＣＲ）に対応するパターンの凹部が設けられている。この反転印刷用版２３の凹部と転写層２２ａとが対向するように反転印刷用版２３とブランケット２１とを接触させることにより、図２（Ａ）に示したように、ブランケット２１側に反転印刷用版２３の凹部のパターンと同一パターン（例えば、赤色発光層１４ＣＲに対応するパターン）のインキ組成物２２からなるパターン層２２ｂが形成される。反転印刷用版２３側には、凹部と逆パターン（凸部と同一パターン）のインキ組成物２２からなる非印刷部２２ｃが形成される。

次いで、図２（Ｂ）に示したように、正孔輸送層１４Ｂまでが形成された基板１１を用意し、ブランケット２１のパターン層２２ｂと正孔輸送層１４Ｂとが対向するようにしてアラインメントを行う。ここでは、ブランケット２１のパターン層２２ｂは、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒに対応する位置に合わせる。続いて、図２（Ｃ）に示したように、ブランケット２１に基板１１を押し当てた後、図２（Ｄ）に示したように、ブランケット２１を基板１１から引き離すことで正孔輸送層１４Ｂ上にパターン層２２ｂが印刷される。この基板１１上のパターン層２２ｂを加熱し、溶媒を完全に除去することで、赤色発光層１４ＣＲが形成される。この後、上述したように、ブランケット２１を上記洗浄液Ｒを用いて洗浄し、エアナイフ等で溶媒を除去させたのち、同様の工程を経て緑意と発光層１４ＣＧおよび青色発光層１４ＣＢをそれぞれ形成する。

赤色発光層１４ＣＲ，緑色発光層１４ＣＧおよび青色発光層１４ＣＢの形成方法としては、他にもインクジェット法やノズルプリンティング法がある。しかしながらこれらの方法では、インキが乾燥するまでの間、形成予定領域に液体のインキを保持しておかなければならないため、本実施の形態の隔壁１３を下部隔壁としてその上に上部隔壁を形成する必要がある。一方、反転オフセット印刷により赤色発光層１４ＣＲ，緑色発光層１４ＣＧおよび青色発光層１４ＣＢを形成する場合には、インキを保持するための上部隔壁は不要となり、図５に示したような表示装置１の構造を簡略化することができる。また、上部隔壁によって赤色発光層１４ＣＲ，緑色発光層１４ＣＧおよび青色発光層１４ＣＢが汚染されることもない。

インキ組成物２２の溶質である有機材料、特に高分子材料は、赤色発光層１４ＣＲ，緑色発光層１４ＣＧおよび青色発光層１４ＣＢを構成するものであり、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生する。この高分子材料として、例えばポリフルオレン系高分子誘導体や、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリチオフェン誘導体、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、あるいは上記高分子に有機ＥＬ材料をドープしたものが挙げられる。ドープ材料としては、例えばルブレン、ペリレン、９,１０ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッドまたはクマリン６等を用いることができる。

また、インキ組成物２２は上記高分子材料の他に低分子材料を含んでいてもよい。低分子材料を用いることにより、基板１１にパターニングで赤色発光層１４ＣＲ，緑色発光層１４ＣＧおよび青色発光層１４ＣＢを高精細に形成することができ、表示装置１の解像度を向上させることが可能となる。

詳細には、ブランケット２１に転写層２２ａが形成された際（図１（Ｃ））、または後述のブランケット２１から基板１１（被印刷基板）へのパターン層２２ｂの転写前（図２（Ａ），（Ｂ））に、この低分子材料がインキ組成物２２（転写層２２ａ，パターン層２２ｂ）のブランケット２１上でのフィルム化を抑える。このため、高精細なパターニングが可能となる。上記の高分子材料の立体配座は、濃度やスピンコートの条件により異なってくるが、インキ組成物２２に低分子材料が含まれない場合、これらの高分子材料の分子同士が絡み合い易く、ブランケット２１上で容易にフィルム化してしまうと推測される。低分子材料は、この高分子材料のフィルム化を抑制するため、基板１１に精細なラインアンドスペース（ライン解像度）で赤色発光層１４ＣＲおよび緑色発光層１４ＣＧを形成することが可能となる。表示装置１において、この低分子材料は上記高分子材料と共に赤色発光層１４ＣＲ，緑色発光層１４ＣＧおよび青色発光層１４ＣＢを構成する。

インキ組成物２２の低分子材料は、低分子化合物が同じ反応または類似の反応を連鎖的に繰り返すことにより生じた高分子量の重合体または縮合体の分子からなる化合物以外のものであって、分子量が実質的に単一であるものを指す。また、この低分子材料は加熱による分子間の新たな化学結合は生じず、単分子で存在する。

このような低分子材料の重量平均分子量（Ｍｗ）は５万以下であることが好ましく、１万５千以下であることがより好ましい。これは、分子量の大きい、例えば５万以上の材料に比べてある程度小さい分子量の材料の方が多様な特性を有するため、溶媒への溶解度やインキの粘度等の条件を調整し易いためである。

また、高分子材料と低分子材料との比率は、高分子材料：低分子材料（重量比）＝１０：１以上１：２以下であることが好ましく、２：１以上１：２以下であることがより好ましい。高分子材料：低分子材料（重量比）が１０：１未満では、低分子材料による効果が現れにくく、１：２を超える場合には、膜形成が困難になる虞があるためである。

このような低分子材料としては、例えば、ベンゼン、スチリルアミン、トリフェニルアミン、ポルフィリン、トリフェニレン、アザトリフェニレン、テトラシアノキノジメタン、トリアゾール、イミダゾール、カルバゾール、オキサジアゾール、ポリアリールアルカン、フェニレンジアミン、アリールアミン、オキサゾール、アントラセン、フルオレノン、ヒドラゾン、スチルベンあるいはこれらの誘導体、またはポリシラン系化合物、ビニルカルバゾール系化合物、チオフェン系化合物あるいはアニリン系化合物等の複素環式共役系のモノマーあるいはオリゴマーを用いることができる。

上記の具体的な低分子材料として、α−ナフチルフェニルフェニレンジアミン、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリン、金属ナフタロシアニン、ヘキサシアノアザトリフェニレン、７,７,８,８−テトラシアノキノジメタン（ＴＣＮＱ）、７,７,８,８−テトラシアノ−２,３,５,６−テトラフルオロキノジメタン（Ｆ４−ＴＣＮＱ）、テトラシアノ４,４,４−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン、Ｎ,
Ｎ,Ｎ’,Ｎ’,−テトラキス（ｐ−トリル）ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’,
−テトラフェニル−４,４’−ジアミノビフェニル、Ｎ−フェニルカルバゾール、４−ジ
−ｐ−トリルアミノスチルベン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（チオフェンビニレン）、ポリ（２,２’−チエニルピロール）などが挙げられるが、これらに限定され
るものではない。

なお、青色発光層１４ＣＢは、図８に示したように共通層として形成してもよい。その場合には、赤色発光層１４ＣＲおよび緑色発光層１４ＣＧを形成した後、蒸着法により赤色発光層１４ＣＲ，緑色発光層１４ＣＧおよび正孔輸送層１４Ｂの全面に青色発光層１４ＣＢを形成する。共通層となる青色発光層１４ＣＢの材料としては、例えば、ホスト材料としてのアントラセン化合物に、青色もしくは緑色の蛍光性色素のゲスト材料がドーピングを用いる。これにより、青色もしくは緑色の発光光を発生する。

また、青色発光層１４ＣＢを共通層とする際に赤色発光層１４ＣＲおよび緑色発光層１４ＣＧを構成するインキ組成物２２に低分子材料を含有させることで、表示装置２の動作時に赤色発光層１４ＣＲおよび緑色発光層１４ＣＧ上に積層された青色発光層１４ＣＢから、各発光層１４ＣＲ，１４ＣＧへの正孔および電子の注入効率を向上させることができる。つまり、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの特性が向上する。

赤色発光層１４ＣＲおよび緑色発光層１４ＣＧが上記低分子材料を含有していない場合には、青色発光層１４ＣＢのエネルギー準位と、赤色発光層１４ＣＲ，緑色発光層１４ＣＧのエネルギー準位との差が大きくなる。つまり、青色発光層１４ＣＢと赤色発光層１４ＣＲ，緑色発光層１４ＣＧとの間の正孔または電子の注入効率が低くなり、所望の特性が得られない虞がある。これに対し、高分子材料と共に低分子材料により赤色発光層１４ＣＲおよび緑色発光層１４ＣＧを構成すると、このエネルギー準位の差が小さくなり、上記の正孔および電子の注入効率を向上させることが可能となる。

（電子輸送層１４Ｄ，電子注入層１４Ｅおよび上部電極１５を形成する工程）
青色発光層１４ＣＢを形成した後、この青色発光層１４ＣＢの全面に蒸着法により電子輸送層１４Ｄ，電子注入層１４Ｅおよび上部電極１５をこの順に形成する（ステップＳ１０６，Ｓ１０７，Ｓ１０８）。

電子輸送層１４Ｄは、赤色発光層１４ＣＲ，緑色発光層１４ＣＧおよび青色発光層１４ＣＢへの電子輸送効率を高めるものである。電子輸送層１４Ｄの材料としては、例えば、キノリン、ペリレン、フェナントロリン、ビススチリル、ピラジン、トリアゾール、オキサゾール、フラーレン、オキサジアゾール、フルオレノン、またはこれらの誘導体や金属錯体が挙げられる。具体的には、トリス（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム（略称Ａｌｑ３）、アントラセン、ナフタレン、フェナントレン、ピレン、ペリレン、ブタジエン、クマリン、Ｃ₆₀、アクリジン、スチルベン、１,１０−フェナントロリンまたはそれ
らの誘導体や金属錯体等である。

電子注入層１４Ｅは、電子注入効率を高めるためのものである。電子注入層１４Ｅの材料として、例えば、リチウム（Ｌｉ）の酸化物である酸化リチウム（Ｌｉ₂Ｏ）や、セシ
ウム（Ｃｓ）の複合酸化物である炭酸セシウム（Ｃｓ₂ＣＯ₃）、またはこれらの混合物を用いることができる。また、電子注入層１４Ｅの材料として、例えばカルシウム（Ｃａ）、バリウム（Ｂａ）等のアルカリ土類金属、リチウム、セシウム等のアルカリ金属、インジウム（Ｉｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）等の仕事関数の小さい金属またはこれらの金属の酸化物、複合酸化物やフッ化物等を単体で、あるいは混合物や合金として使用してもよい。

上部電極１５は隔壁１３および有機層１４により下部電極１２とは絶縁された状態で基板１１上にベタ膜状に形成され、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂの共通電極として機能する。上部電極１５は例えばアルミニウム、マグネシウム、カルシウムまたはナトリウム（Ｎａ）等の金属導電膜により形成される。薄膜での導電性が良好であり、かつ、光吸収の小さいマグネシウムと銀との合金（Ｍｇ−Ａｇ合金）により上部電極１５が形成されていることが好ましい。Ｍｇ−Ａｇ合金におけるマグネシウムと銀との比率は特に限定されないが、膜厚比でＭｇ：Ａｇ＝２０：１〜１：１の範囲であることが好ましい。上部電極１５の材料にアルミニウムとリチウムとの合金（Ａｌ−Ｌｉ合金）を用いてもよい。

上部電極１５は、アルミキノリン錯体、スチリルアミン誘導体またはフタロシアニン誘導体等の有機発光材料を含有した混合層により形成してもよい。この場合、更に第３層としてＭｇ−Ａｇ合金のような光透過性の層を形成してもよい。

上部電極１５を形成した後、例えば蒸着法やＣＶＤ法により透水性の低いアモルファス窒化シリコンからなる保護層１６を形成する。保護層１６を形成した後、最後に、遮光膜およびカラーフィルタ（図示せず）が設けられた封止用基板１７を接着層（図示せず）を間にして保護層１６の上に張り合わせる。以上により図７に示した表示装置１が完成する。

図９は、本実施の形態の有機ＥＬ素子１０を備えた表示装置１の平面構成を表したものである。この表示装置１は、有機ＥＬテレビジョン装置などとして用いられるものであり、例えば、基板１１の上に、表示領域１１０として、複数の有機ＥＬ素子１０（例えば、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂ）がマトリクス状に配置されたものである。表示領域１１０の周辺には、映像表示用のドライバである信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０が設けられている。なお、隣り合う有機ＥＬ素子１０の組み合わせが一つの画素（ピクセル）を構成している。

表示領域１１０内には画素駆動回路１４０が設けられている。図１０は、画素駆動回路１４０の一例を表したものである。画素駆動回路１４０は、下部電極１２の下層に形成されたアクティブ型の駆動回路である。即ち、この画素駆動回路１４０は、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２と、これらトランジスタＴｒ１，Ｔｒ２の間のキャパシタ（保持容量）Ｃｓと、第１の電源ライン（Ｖｃｃ）および第２の電源ライン（ＧＮＤ）の間において駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続された有機ＥＬ素子１０（例えば、１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂ）とを有する。駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２は、一般的なＴＦＴにより構成され、その構成は例えば逆スタガ構造（いわゆるボトムゲート型）でもよいしスタガ構造（トップゲート型）でもよく特に限定されない。

画素駆動回路１４０において、列方向には信号線１２０Ａが複数配置され、行方向には走査線１３０Ａが複数配置されている。各信号線１２０Ａと各走査線１３０Ａとの交差点が、各有機ＥＬ素子１０のいずれか１つ（サブピクセル）に対応している。各信号線１２０Ａは、信号線駆動回路１２０に接続され、この信号線駆動回路１２０から信号線１２０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のソース電極に画像信号が供給されるようになっている。各走査線１３０Ａは走査線駆動回路１３０に接続され、この走査線駆動回路１３０から走査線１３０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極に走査信号が順次供給されるようになっている。

この表示装置１では、各画素に対して走査線駆動回路１３０から書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極を介して走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路１２０から画像信号が書き込みトランジスタＴｒ２を介して保持容量Ｃｓに保持される。即ち、この保持容量Ｃｓに保持された信号に応じて駆動トランジスタＴｒ１がオンオフ制御され、これにより、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂに駆動電流Ｉｄが注入され、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、下面発光（ボトムエミッション）の場合には下部電極１２および基板１１を透過して、上面発光（トップエミッション）の場合には上部電極１５，波長変換部および封止用基板１７を透過して取り出される。

有版印刷法では、連続する印刷工程において同一のブランケットを用いる場合には、ブランケット上の印刷残余物（残存有機膜）や異物除去工程を行う必要がある。また、有版印刷法では、被印刷基板に印刷するときブランケットの表面と被印刷基板とは直接接するため、ブランケットの表面に塵芥等の異物が存在した場合、例えば表示装置では、異物による短絡等の欠陥が発生する虞があった。また、例えば粘着剤を用いて印刷残余物を除去すると、粘着剤がブランケットに逆転写され、離型性の低下や有機電界発光素子の特性の劣化が発生するという問題があった。

上記問題を解決する方法として、ブランケットを溶媒に浸漬させることによりブランケット上の異物または印刷残余物を洗浄・除去する方法が考えられる。しかしながら、ブランケットを構成するシリコーンゴムは溶媒を吸収しやすいため、連続印刷を行う場合には印刷パターンの安定性を考慮して洗浄後のブランケットを完全に乾燥させる時間がある。但し、上述したように、ブランケットは溶媒の吸収率が高いため、完全に乾燥させるには多大な時間（例えば１０時間〜数日）を要する。このため、製造効率が低下するという問題があった。また、印刷パターンごとにブランケットを交換することによって製造効率を向上させることが可能となるが、その場合にはブランケット数の増加、クリーン度の高い環境でのブランケットの保管および工程数の増加等によって製造コストが上昇するという問題があった。

これに対して、本実施の形態のオフセット印刷ブランケット用の洗浄液Ｒでは、双極子モーメントが１．７以上４．１未満であり、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒を用いるようにした。ブランケット２１表面にあるポリジメチルシロキサンは極性をほぼ持たない。このため、ポリジメチルシロキサンよりも極性の高い溶媒を用いることで、ブランケット２１への溶媒吸収を抑えられ、ブランケット２１の膨潤が抑制される。

以上のように、本実施の形態によれば、双極子モーメントが１．７以上４．１未満であり、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒をオフセット印刷ブランケット用の洗浄液Ｒとして用いるようにした。これにより、印刷前後のブランケット２１の洗浄後の乾燥時間を短縮することが可能となる。更に、新たに溶媒乾燥装置等の設備を追加することなく、多段階印刷時に同一ブランケットの連続使用が可能となる。よって、表示品位が高く、低コストな表示装置を提供することができる。

＜２．適用例＞
（モジュールおよび適用例）
以下、上記実施の形態で説明した表示装置１，２の適用例について説明する。上記実施の形態の表示装置は、テレビジョン装置，デジタルカメラ，ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。

（モジュール）
上記実施の形態で説明した表示装置１，２は、例えば、図１１に示したようなモジュールとして、後述する適用例１〜５などの種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、基板１１の一辺に、保護層１６および封止用基板１７から露出した領域２１０を設け、この露出した領域２１０に、信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０の配線を延長して外部接続端子（図示せず）を形成したものである。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板（ＦＰＣ；Flexible Printed Circuit）２２０が設けられていてもよい。

（適用例１）
図１２は、上記実施の形態で説明した表示装置１，２が適用されるテレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル３１０およびフィルターガラス３２０を含む映像表示画面部３００を有しており、この映像表示画面部３００は、上記実施の形態に係る表示装置により構成されている。

（適用例２）
図１３は、上記実施の形態で説明した表示装置１，２が適用されるデジタルカメラの外観を表したものである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部４１０、表示部４２０、メニュースイッチ４３０およびシャッターボタン４４０を有しており、その表示部４２０は、上記実施の形態に係る表示装置により構成されている。

（適用例３）
図１４は、上記実施の形態で説明した表示装置１，２が適用されるノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体５１０，文字等の入力操作のためのキーボード５２０および画像を表示する表示部５３０を有しており、その表示部５３０は、上記実施の形態に係る表示装置により構成されている。

（適用例４）
図１５は、上記実施の形態で説明した表示装置１，２が適用されるビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部６１０，この本体部６１０の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ６２０，撮影時のスタート／ストップスイッチ６３０および表示部６４０を有しており、その表示部６４０は、上記実施の形態に係る表示装置により構成されている。

（適用例５）
図１６は、上記実施の形態で説明した表示装置１，２が適用される携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体７１０と下側筐体７２０とを連結部（ヒンジ部）７３０で連結したものであり、ディスプレイ７４０，サブディスプレイ７５０，ピクチャーライト７６０およびカメラ７７０を有している。そのディスプレイ７４０またはサブディスプレイ７５０は、上記実施の形態等に係る表示装置により構成されている。

以上、実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本開示は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態では、インキ組成物２２を用いて赤色発光層１４ＣＲまたは緑色発光層１４ＣＧを形成する例を示したが、赤色発光層１４ＣＲおよび緑色発光層１４ＣＧ以外の発光層、あるいは正孔注入層１４Ａや正孔輸送層１４Ｂ等の他の有機層１４をパターニングして形成するようにしてもよい。特に、正孔注入層１４Ａをパターニングして形成すれば、リーク電流を抑えることができる。

また、上記実施の形態では、機能層の一部としての印刷パターン層が発光層１４Ｃである場合を例示したが、これに限定されず、他の有機層１４、例えば正孔注入層１４Ａ，正孔輸送層１４Ｂ，電子輸送層１４Ｄおよび電子供給層１４Ｅのうちの１層または２層以上を、印刷パターン層として、オフセット印刷により形成するようにしてもよい。

更に、上記実施の形態では、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、他の層を更に備えていてもよい。また、上記実施の形態等では、青色以外の有機ＥＬ素子として赤色および緑色の有機ＥＬ素子を備えた表示装置について説明したが、本開示はこれに限定されず、印刷法を用いて機能層を形成可能な表示装置全般に適用可能である。例えば、青色有機ＥＬ素子と黄色有機ＥＬ素子からなる表示装置への適用も可能である。

更にまた、上記実施の形態では、アクティブマトリクス型の表示装置１，２の場合について説明したが、本開示はパッシブマトリクス型の表示装置への適用も可能である。更にまた、アクティブマトリクス駆動のための画素駆動回路の構成は、上記実施の形態で説明したものに限られず、必要に応じて容量素子やトランジスタを追加してもよい。その場合、画素駆動回路の変更に応じて、上述した信号線駆動回路１２０や走査線駆動回路１３０のほかに、必要な駆動回路を追加してもよい。

また、上記実施の形態では、表示装置１，２がトップエミッション型あるいはボトムエミッション型である場合について説明したが、上面および下面の両方から光を取り出すタイプの表示装置１，２にも本開示は適用可能である。

更にまた、上記実施の形態では、表示装置の製造工程において有版印刷工程の前後にブランケットの洗浄を行ったが、必ずしも両工程において行う必要はない。例えば、印刷公邸前のブランケット２１の洗浄工程を省略してもよいし、連続印刷時に異なるブランケット２１を用いる場合には、印刷後の洗浄工程を省略しても構わない。

なお、本技術は以下のような構成も取ることができる。
（１）双極子モーメントが１．７以上４．１未満であり、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒を含むオフセット印刷ブランケット用洗浄液。
（２）前記溶媒は、１，２−ジメトキシベンゼン、１，３−ジメトキシベンゼン、アセトフェノン、シクロヘキサノン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、４−ペンタノン、Ｎ−メチル−２−ピロリドンおよび１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンのうちの少なくとも１種である、前記（１）に記載のオフセット印刷ブランケット用洗浄液。
（３）前記溶媒の含有量が５０％以上１００％以下である、前記（１）または（２）に記載のオフセット印刷ブランケット用洗浄液。
（４）ブランケットを、双極子モーメントが１．７以上４．１未満であり、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒を含む洗浄液に浸漬させる工程を含む、オフセット印刷ブランケットの洗浄方法。
（５）前記洗浄液を供給しつつ前記ブランケットを前記洗浄液に浸漬させる、前記（４）に記載のオフセット印刷ブランケットの洗浄方法。
（６）前記ブランケットはシリコーンゴムによって形成されている、前記（４）または（５）に記載のオフセット印刷ブランケットの洗浄方法。
（７）基板上に表示素子を形成する工程を含み、前記表示素子を形成する工程は、ブランケットを、双極子モーメントが１．７以上４．１未満であり、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒を含む洗浄液に浸漬させる工程と、有機材料を含むインキ組成物を前記ブランケットに塗布して転写層を形成する工程と、前記転写層に所定のパターンを有する版を押し当てて、前記ブランケット上にパターン層を形成する工程と、前記パターン層を被印刷基板に転写する工程とを含む表示装置の製造方法。
（８）前記転写層を形成する前に、前記ブランケットを前記洗浄液に浸漬させる、前記（７）に記載の表示装置の製造方法。
（９）前記パターン層を被印刷基板に転写したのち、前記ブランケットを前記洗浄液に浸漬させる、前記（７）または（８）に記載の印刷方法。
（１０）基板上にパターン層を形成する工程を含み、前記パターン層を形成する工程は、ブランケットを、双極子モーメントが１．７以上４．１未満であり、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒を含む洗浄液に浸漬させる工程と、有機材料を含むインキ組成物を前記ブランケットに塗布して転写層を形成する工程と、前記転写層に所定のパターンを有する版を押し当てて、前記ブランケット上にパターン層を形成する工程と、前記パターン層を被印刷基板に転写する工程とを含む印刷物の製造方法。

１，２…表示装置、１０Ｒ…赤色有機ＥＬ素子、１０Ｇ…緑色有機ＥＬ素子、１０Ｂ…青色有機ＥＬ素子、１１…基板、１２…下部電極、１３…下部隔壁、１４…有機膜、１４Ａ…正孔注入層、１４Ｂ…正孔輸送層、１４ＣＲ…赤色発光層、１４ＣＧ…緑色発光層、１４ＣＢ…青色発光層、１４Ｄ…電子輸送層、１４Ｅ…電子注入層、１５…上部電極、１６…保護層、１７…封止用基板、２１…ブランケット、２２…反転印刷用インキ組成物、２２ａ…転写層、２２ｂ…パターン層、２２ｃ…非印刷部。

Claims (10)

1. 双極子モーメントが１．７以上４．１未満であり、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒を含む
   オフセット印刷ブランケット用洗浄液。
2. 前記溶媒は、１，２−ジメトキシベンゼン、１，３−ジメトキシベンゼン、アセトフェノン、シクロヘキサノン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、４−ペンタノン、Ｎ−メチル−２−ピロリドンおよび１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンのうちの少なくとも１種である、請求項１に記載のオフセット印刷ブランケット用洗浄液。
3. 前記溶媒の含有量が５０％以上１００％以下である、請求項１に記載のオフセット印刷ブランケット用洗浄液。
4. ブランケットを、双極子モーメントが１．７以上４．１未満であり、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒を含む洗浄液に浸漬させる工程を含む
   オフセット印刷ブランケットの洗浄方法。
5. 前記洗浄液を供給しつつ前記ブランケットを前記洗浄液に浸漬させる、請求項４に記載のオフセット印刷ブランケットの洗浄方法。
6. 前記ブランケットはシリコーンゴムによって形成されている、請求項４に記載のオフセット印刷ブランケットの洗浄方法。
7. 基板上に表示素子を形成する工程を含み、
   前記表示素子を形成する工程は、
   ブランケットを、双極子モーメントが１．７以上４．１未満であり、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒を含む洗浄液に浸漬させる工程と、
   有機材料を含むインキ組成物を前記ブランケットに塗布して転写層を形成する工程と、
   前記転写層に所定のパターンを有する版を押し当てて、前記ブランケット上にパターン層を形成する工程と、
   前記パターン層を被印刷基板に転写する工程と
   を含む表示装置の製造方法。
8. 前記転写層を形成する前に、前記ブランケットを前記洗浄液に浸漬させる、請求項７に記載の表示装置の製造方法。
9. 前記パターン層を被印刷基板に転写したのち、前記ブランケットを前記洗浄液に浸漬させる、請求項７に記載の表示装置の製造方法。
10. 基板上にパターン層を形成する工程を含み、
    前記パターン層を形成する工程は、
    ブランケットを、双極子モーメントが１．７以上４．１未満であり、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒を含む洗浄液に浸漬させる工程と、
    有機材料を含むインキ組成物を前記ブランケットに塗布して転写層を形成する工程と、
    前記転写層に所定のパターンを有する版を押し当てて、前記ブランケット上にパターン層を形成する工程と、
    前記パターン層を被印刷基板に転写する工程と
    を含む印刷物の製造方法。

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