JP2013182225A - 反射型表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】視認性を低下させることなく画像の輝度を高くすることができる反射型表示装置を提供する。
【解決手段】前面から外光が入射するパネル状の反射型表示装置であって、外光を前面に向かって反射する鏡面状の光反射部材が、異方性散乱体を挟んだ状態で背面側に配置されている。
【選択図】 図3
【解決手段】前面から外光が入射するパネル状の反射型表示装置であって、外光を前面に向かって反射する鏡面状の光反射部材が、異方性散乱体を挟んだ状態で背面側に配置されている。
【選択図】 図3
Description
本開示は反射型表示装置に関する。より具体的には、前面から外光が入射するパネル状の反射型表示装置に関する。
外光の反射率を制御する反射型表示装置として、例えば、液晶材料層の状態を変えて外光の反射率を制御する反射型表示装置が周知である。反射型表示装置は、低消費電力化、薄型化、軽量化を図ることができ、携帯電子機器などの反射型表示装置として利用されている。例えば、特開平3−223715号公報や特開平4−97121号公報には、液晶セル基板の外側背面に反射板を配置した構成の反射型表示装置が提案されている。
液晶セル基板の外側背面に反射板を配置する場合、反射板を等方性の拡散反射板とすることにより視認性は向上する。しかしながら、所定の観察位置から離れた方向にも光が拡散するため、所定の観察位置から観察する際の画像の輝度は低くなるといった課題がある。
従って、本開示の目的は、視認性を低下させることなく画像の輝度を高くすることができる反射型表示装置を提供することにある。
上記の目的を達成するための本開示の反射型表示装置は、
前面から外光が入射するパネル状の反射型表示装置であって、
外光を前面に向かって反射する鏡面状の光反射部材が、異方性散乱体を挟んだ状態で背面側に配置されている反射型表示装置である。
前面から外光が入射するパネル状の反射型表示装置であって、
外光を前面に向かって反射する鏡面状の光反射部材が、異方性散乱体を挟んだ状態で背面側に配置されている反射型表示装置である。
本開示の反射型表示装置にあっては、外光を前面に向かって反射する鏡面状の光反射部材が、異方性散乱体を挟んだ状態で背面側に配置されている。異方性散乱体の配置を好適に設定することによって、所定の観察位置に向かう方向に光を拡散させることができるので、視認性を低下させることなく画像の輝度を高くすることができる。
以下、図面を参照して、実施形態に基づき本開示を説明する。本開示は実施形態に限定されるものではなく、実施形態における種々の数値や材料は例示である。以下の説明において、同一要素または同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。尚、説明は、以下の順序で行う。
1.本開示に係る反射型表示装置、全般に関する説明
2.第1の実施形態
3.第2の実施形態
4.第3の実施形態(その他)
1.本開示に係る反射型表示装置、全般に関する説明
2.第1の実施形態
3.第2の実施形態
4.第3の実施形態(その他)
[本開示に係る反射型表示装置、全般に関する説明]
上述したように、本開示の反射型表示装置にあっては、外光を前面に向かって反射する鏡面状の光反射部材が、異方性散乱体を挟んだ状態で背面側に配置されている。反射型表示装置は、モノクロ表示であってもよいし、カラー表示であってもよい。
上述したように、本開示の反射型表示装置にあっては、外光を前面に向かって反射する鏡面状の光反射部材が、異方性散乱体を挟んだ状態で背面側に配置されている。反射型表示装置は、モノクロ表示であってもよいし、カラー表示であってもよい。
鏡面状の光反射部材の構成は特に限定するものではない。例えば、PETフィルムから成る基材の上にアルミニウム等の金属を蒸着する事によって光反射部材を得ることができる。
本開示の反射型表示装置において、異方性散乱体の面内方向の領域は、低屈折率領域と高屈折率領域とが混在する領域として形成されており、低屈折率領域と高屈折率領域とは、光反射部材によって反射した外光が異方性散乱体から出射する際に散乱するように配置されている構成とすることができる。
異方性散乱体は、光反応性の化合物を含む組成物などを用いて構成することができる。例えば、光重合の前後で或る程度の屈折率変化を示す組成物から成る基材に、所定の方向から紫外線などの光を照射することによって、異方性散乱体を得ることができる。組成物を構成する材料は、ラジカル重合性やカチオン重合性の官能基を有するポリマー等といった公知の光反応性の材料から、光反応をした部分とそうでない部分とで或る程度の屈折率変化を生ずる材料を適宜選択して用いればよい。
あるいは又、例えば、光反応性の化合物と光反応性のない高分子化合物とを混合した組成物から成る基材に、所定の方向から紫外線などの光を照射することによって、異方性散乱体を得ることもできる。光反応性のない高分子化合物は、例えば、アクリル樹脂やスチレン樹脂などといった公知の材料から適宜選択して用いればよい。
上記の組成物から成る基材は、例えば、高分子材料から成るフィルム状の基体の上に、組成物を公知の塗布方法などにより塗布することで得ることができる。
上述した組成物等から成る異方性散乱体の面内方向の領域は、低屈折率領域と高屈折率領域とが混在する領域として形成される。通常、異方性散乱体の厚み方向に対して低屈折率領域と高屈折率領域との境界が所定の角度を成すように形成される。場合によっては、この角度は、面内方向において連続的に変化するように構成されていてもよい。
低屈折率領域と高屈折率領域における屈折率の差は、通常、0.01以上であることが好ましく、0.05以上であることがより好ましく、0.10以上であることが更に好ましい。
異方性散乱体を構成する材料や製造方法にもよるが、光反応をした部分とそうでない部分とは、例えば、後述する図4の(B)に示すようにそれぞれルーバー状の領域を形成する構成であってもよいし、あるいは又、図4の(C)に示すように、柱状領域とそれを取り巻く周辺領域を形成する構成であってもよい。
低屈折率領域と高屈折率領域とは、光反射部材によって反射した外光が異方性散乱体から出射する際に散乱するように配置されている構成(以下、出射散乱の構成と呼ぶ場合がある)にあっては、外部から入射する外光が異方性散乱体を透過して光反射部材に向かう際には、光は散乱することなくそのまま透過し、光反射部材によって反射する。これによって、所定の観察位置に向かう方向に効率よく光を拡散することができるので、画像の輝度をより高めることができる。
上述した各種の好ましい構成を含む本開示の反射型表示装置にあっては、前面基板、背面基板、及び、前面基板と背面基板との間に配置されている液晶材料層を含み、背面基板には複数の画素電極が形成されている構成とすることができる。
前面基板や背面基板は、光に対して透明な材料から構成することができる。これらの基板を構成する材料として、ガラス、アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂(PC)、ABS樹脂、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)、ポリアリレート樹脂(PAR)、ポリエチレンテレフタレート樹脂(PET)を例示することができる。前面基板や背面基板は同じ材料から構成されていてもよいし、異なる材料から構成されていてもよい。
液晶材料層を構成する材料は特に限定するものではない。液晶材料層を構成する材料として、ネマチック液晶材料などの広く周知の材料を用いることができる。ポジ型の液晶材料を用いた構成とすることができるし、ネガ型の液晶材料を用いた構成とすることもできる。尚、所謂ブルー相の液晶材料を用いることもできる。液晶材料層の動作モードは、反射型としての表示動作に支障がない限り特に限定するものではない。例えば、所謂VAモードやECBモードで駆動される構成とすることができる。また、ノーマリーホワイトモードの構成であってもよいし、ノーマリーブラックモードの構成であってもよい。
上述した画素電極を備える本開示の反射型表示装置において、画素電極は、透明導電材料から成る構成とすることができる。透明導電材料として、例えば、インジウムとスズの酸化物(ITO)やインジウムと亜鉛の酸化物(IZO)などの周知の透明導電材料を用いることができる。あるいは又、画素電極は金属材料から成る構成とすることもできる。金属材料として、例えばアルミニウム(Al)や、周知の合金を用いることができる。画素電極は、例えば、真空蒸着法やスパッタリング法に例示される物理的気相成長法(PVD法)、各種の化学的気相成長法(CVD法)などの周知の成膜方法と、エッチング法やリフトオフ法などの周知のパターニング法との組み合わせによって形成することができる。
液晶材料層を備えた反射型表示装置にあっては、液晶材料層に印加する電圧の値を変化させて階調表示を行う構成であってよいし、あるいは又、いわゆる面積階調方式により階調表示を行う構成であってもよい。例えば、各画素(カラー表示の場合は副画素)は面積が略2倍づつ増大する画素電極の組を備え、画素電極の組に印加する電圧を画素電極毎に制御することによって表示に供する領域の面積を可変するといった構成とすることができる。
画素電極や液晶材料層を含む上述した各種の反射型表示装置にあっては、通常、画素電極に印加する電圧等を制御するために、背面基板に複数本の線状の配線が形成される。これらの配線も、周知の成膜方法とパターニング法との組み合わせなどによって形成することができる。画素電極が金属材料から成る場合には、各配線は画素電極によって覆われるように配置されている構成とすることができる。この構成によれば、画素電極と画素電極との間隙を通る外光を効率よく光反射部材によって反射することができるので、光の利用効率を上げることができる。
上述した各種の好ましい構成を含む、画素電極が金属材料から成る構成の反射型表示装置にあっては、画素電極の表面は凹凸状である構成とすることができる。
あるいは又、画素電極が金属材料から成る構成の反射型表示装置にあっては、画素電極は鏡面状である構成とすることができる。この場合において、反射型表示装置は、更に、前面基板側に配置された、第2の異方性散乱体を備えている構成とすることができる。
第2の異方性散乱体の面内方向の領域は、低屈折率領域と高屈折率領域とが混在する領域として形成されており、第2の異方性散乱体における低屈折率領域と高屈折率領域とは、画素電極によって反射した外光が第2の異方性散乱体を透過する際に散乱するように配置されている構成とすることができる。
反射型表示装置の形状は特に限定するものではなく、横長の矩形状であってもよいし縦長の矩形状であってもよい。反射型表示装置の画素(ピクセル)の数M×Nを(M,N)で表記したとき、例えば横長の矩形状の場合には(M,N)の値として、(640,480)、(800,600)、(1024,768)等の画像表示用解像度の幾つかを例示することができ、縦長の矩形状の場合には相互に値を入れ替えた解像度を例示することができるが、これらの値に限定するものではない。
反射型表示装置を駆動する駆動回路は、種々の回路から構成することができる。これらは周知の回路素子などを用いて構成することができる。
本明細書に示す各種の条件は、厳密に成立する場合の他、実質的に成立する場合にも満たされる。設計上あるいは製造上生ずる種々のばらつきの存在は許容される。
[第1の実施形態]
第1の実施形態は、本開示に係る反射型表示装置に関する。
第1の実施形態は、本開示に係る反射型表示装置に関する。
図1は、第1の実施形態に係る反射型表示装置の模式的な斜視図である。図2は、反射型表示装置の模式的な分解斜視図である。
反射型表示装置1は、画素12が配列された表示領域11を有し、前面から外光が入射するパネル状の反射型表示装置である。反射型表示装置1はカラー表示の反射型表示装置であって、各画素12は、例えば、赤色表示副画素、緑色表示副画素および青色表示副画素の組から構成されている。尚、図示の都合上、図においては副画素の表示を省略した。反射型表示装置1は、図示せぬ駆動回路などにより駆動され、表示領域11には、例えば太陽光や照明光などの外光が入射する。説明の都合上、表示領域11はX−Y平面と平行であり、画像を観察する側が+Z方向であるとする。外光は、方位角90度の方向から、所定の極角(例えば30度)を成して表示領域11に入射するとして説明するが、これは例示に過ぎない。
図1および図2に示すように、反射型表示装置1にあっては、外光を前面に向かって反射する鏡面状の光反射部材30が、異方性散乱体40を挟んだ状態で背面側に配置されている。尚、これらの図に示す符号10,20については、後述する図3を参照して後で詳しく説明する。
反射型表示装置1は矩形状であり、辺を参照番号13A,13B,13C,13Dで表す。辺13Cは手前側の辺であり、辺13Aは辺13Cに対向する辺である。例えば、辺13A,13Cは約12[cm]、辺13B,13Dは約16[cm]といった値であるが、これに限るものではない。
図3に示すように、反射型表示装置1は、前面基板19、背面基板14、及び、前面基板19と背面基板14との間に配置されている液晶材料層18を含む。鏡面状の光反射部材30は、異方性散乱体40を挟んだ状態で背面側、より具体的には、背面基板14の裏面側に配置されている。光反射部材30はフィルム状であり、例えばPETフィルムから成る基体31の上に、アルミニウム等の金属から成る反射膜32が積層されて成る。
後述する図4乃至図6を参照して後で詳しく説明するが、異方性散乱体40の面内方向の領域は、低屈折率領域と高屈折率領域とが混在する領域として形成されており、低屈折率領域と高屈折率領域とは、光反射部材によって反射した外光が異方性散乱体から出射する際に散乱するように配置されている(出射散乱の構成)。
背面基板14には複数の画素電極17が形成されている。符号15は、画素電極17に印加する電圧を制御するための走査線などの配線を示す。符号18Aは、液晶材料層18を構成する液晶分子を模式的に示す。液晶材料層18は、図示せぬスペーサ等によって、所定の条件において、光が往復すると液晶材料層18が1/2波長板として作用するような厚さに設置されている。符号10は、反射型表示装置1のうち、前面基板19、背面基板14、及び、前面基板19と背面基板14との間に配置されている液晶材料層18を含む部分を示す。同様に、符号20は、反射型表示装置1のうち、1/4波長板21、1/2波長板22、及び、偏光板23を含む部分を示す。
例えばガラス材料から成る背面基板14には、信号線や走査線を構成する複数本の線状の配線15が形成されており、更に、それらを含む全面を覆うように、アクリル樹脂等の高分子材料から成る平坦化膜16が形成されている。そして、平坦化膜16の上に、例えばITOといった透明導電材料から成る画素電極17が形成されている。画素電極17の表面は平坦である。
配線15は、例えばクロム等の薄膜から構成されており、光を遮光する。第1の実施形態において、配線15は、所謂ブラックマトリックスの構成要素としても利用されており、隣接する画素電極17の間に対応するように配置されている。
映像信号を供給する信号線と画素電極17との電気的な接続を制御するために、画素電極17にはTFT等の素子が接続されている。尚、図3においては、TFT等の素子、前面基板19等に設けられる共通電極やカラーフィルター、及び、液晶材料層18の初期配向状態を規定するための配向膜などの図示を省略した。また、図3においては、X方向に延びる走査線を構成する線状の配線15のみが示されており、Y方向に延びる信号線を構成する線状の配線は表れていない。後述する他の断面図においても同様である。
反射型表示装置1にあっては、異方性散乱体40によって所定の方向に向かって光が散乱するので、所定の観察方向から観察される画像の輝度を高めることができる。以下、異方性散乱体40の詳細について説明する。
図4の(A)は、異方性散乱体の構造を説明するための模式的な断面図である。図4の(B)及び(C)は、異方性散乱体における低屈折率領域と高屈折率領域の配置を説明するための模式的な斜視図である。
異方性散乱体40は、例えばその厚さが0.02〜0.5[mm]程度のシート状(フィルム状)である。図5を参照して後で詳しく説明するが、異方性散乱体40は、散乱特性が最大となる方向を通常の観察方向に揃えるように配置されている。
図4の(A)に示すように、異方性散乱体40の面内方向の領域は、低屈折率領域41と高屈折率領域42とが例えばミクロンオーダーで混在する領域として形成されている。尚、ミクロンオーダー以下で混在する構成であってもよい。図示の都合上、図4等においては、異方性散乱体40の下地となる透明なフィルム等の表示を省略した。
異方性散乱体40は、光反応性の化合物を含む組成物などを用いて構成されている。異方性散乱体40は、例えば、図4の(B)に示すように、低屈折率領域41と高屈折率領域42がルーバー状に形成されている構成であってもよいし、図4の(C)に示すように、低屈折率領域41と高屈折率領域42とが、柱状領域とそれを取り巻く周辺領域を形成する構成であってもよい。図4の(C)では、例えば光反応をした組成物の部分が柱状領域状に高屈折率化する場合の例を示した。
図4の(B)では、各低屈折率領域41の厚み方向の幅や、各高屈折率領域42の厚み方向の幅が一定であるように表したが、これは例示に過ぎない。同様に、図4の(C)においても、各柱状領域の形状が同一であるように表したが、これも例示に過ぎない。
図4の(A)乃至(C)に示すように、異方性散乱体40の内部において、低屈折率領域41及び高屈折率領域42は、異方性散乱体40の厚み方向(Z方向)に対して低屈折率領域41と高屈折率領域42との境界が角度θを成すように、斜め方向に形成されている。角度θは、異方性散乱体40の仕様等に応じて適宜好適な値に設定される。
説明の都合上、ここでは、低屈折率領域41と高屈折率領域42とは図4の(B)に示すようにルーバー状に形成されており、それらルーバー状の領域が延びる方向はX方向に平行であるとする。また、高屈折率領域42は基材が光反応を生じた領域であるとして説明するが、これは例示にすぎない。基材が光反応を生じた領域が低屈折率領域41となる構成であってもよい。
図5に示すように、異方性散乱体における低屈折率領域41と高屈折率領域42との境界が延びる方向に概ね倣う方向から光が入射した場合、光は散乱して出射する。図に示す散乱中心軸Sとは、それを中心として、入射する光の異方散乱特性が略対称性となる軸をいう。これに対し、異方性散乱体における低屈折率領域41と高屈折率領域42との境界が延びる方向と略直交する方向から光が入射した場合、光はそのまま透過する。
図6を参照して、反射型表示装置1における外光の反射および散乱について説明する。外部からの外光は、偏光板23によって所定の方向の直線偏光となり、次いで、1/2波長板22によって偏光面が90度回転し、その後、1/4波長板21によって円偏光となる。円偏光となった外光は、前面基板19、液晶材料層18、透明導電材料から成る画素電極17、平坦化膜16および背面基板14を透過した後、異方性散乱体40に入射する。このとき、外光は、低屈折率領域41と高屈折率領域42との境界が延びる方向と略直交する方向から入射するので、散乱することなく光反射部材30に達する。
光反射部材30によって外光は反射し、異方性散乱体40に再び入射する。このときには、低屈折率領域41と高屈折率領域42との境界が延びる方向に概ね倣う方向から入射するので、外光は散乱する。散乱した外光は、背面基板14、平坦化膜16、画素電極17および液晶材料層18を透過し、更に、1/4波長板21及び1/2波長板22を透過して偏光板23に達し、外部に向けて出射する。画素電極17などに印加する電圧を制御して、液晶材料層18における液晶分子18Aの配向状態を制御することにで、画素電極17によって反射した外光が偏光板23を透過する量を制御することができる。
[第2の実施形態]
第2の実施形態も、本開示に係る反射型表示装置に関する。
第2の実施形態も、本開示に係る反射型表示装置に関する。
第2の実施形態に係る反射型表示装置は、第1の実施形態に対して、平坦化膜や画素電極の構造、及び、配線の配置関係が相違する。以上の相違点を除く他は、第1の実施形態に係る反射型表示装置と同様の構成である。
第2の実施形態に係る反射型表示装置2の模式的な斜視図は、図1に示す反射型表示装置1を反射型表示装置2と読み替え、符号10を符号210と読み替えればよいので省略する。反射型表示装置の模式的な分解斜視図についても、図2において上述したと同様の読み替えをすればよいので省略する。
図7は、第2の実施形態に係る反射型表示装置の模式的な断面図である。
反射型表示装置2においても、背面基板14上の配線15を含む全面を覆うように、アクリル樹脂等の高分子材料から成る平坦化膜216が形成されている。但し、画素電極217が形成される平坦化膜216の部分には、微小な凹凸216Aが形成されている。微小な凹凸216Aは、例えば、レジスト技術等に基づいて平坦化膜216の表面に円柱状の突起を設け、これに熱を加えて変形させるといった方法によって形成することができる。
第1の実施形態において、図3等に示す画素電極17は透明導電材料から成る。これに対し、図7に示す画素電極217は、例えばアルミニウムといった金属材料から成り、反射電極として作用する。画素電極217も、周知の成膜方法とパターニング法との組み合わせなどによって形成することができる。微小な凹凸216A上に画素電極217が形成されるので、画素電極217の表面は凹凸状である。画素電極217は、基本的には、等方的な散乱反射面として作用する。
反射型表示装置2においても、背面基板14には複数本の線状の配線が形成されている。以下、図8を参照して、画素電極と線状の配線の配置関係について説明する。
第1の実施形態においては、配線は所謂ブラックマトリックスの構成要素としても利用されており、隣接する画素電極の間に対応するように配置されていた。これに対し、反射型表示装置2では、各配線は画素電極217によって覆われるように配置されている。
具体的には、X方向に延びる走査線を構成する配線15は、X方向に並ぶ画素電極217によって覆われるように配置されている。また、Y方向に延びる信号線を構成する配線15Aは、Y方向に並ぶ画素電極217によって覆われるように配置されている。従って、画素電極217と隣接する画素電極217のX方向の間隙とY方向の間隙にあっては、光が透過する。
図9を参照して、反射型表示装置2における外光の反射および散乱について説明する。外部からの外光が液晶材料層18を透過するまでの挙動は、第1の実施形態において説明した挙動と同様である。
外部から入射する外光は、画素電極217に達する成分と、画素電極217と隣接する画素電極217との間隙に達する成分とに大別される。画素電極217に達する外光1は、画素電極217の表面において散乱反射し、反射光の一部が所定の観察位置に達する。尚、図において、所定の観察位置に向かう反射光を反射光1と表した。
一方、画素電極217と隣接する画素電極217との間隙に達する外光は、平坦化膜216および背面基板14を透過して、異方性散乱体40に達する。異方性散乱体40に入射した後の光の挙動は、第1の実施形態において図3を参照して説明した挙動と同様である。光反射部材30によって反射した外光は、異方性散乱体40によって所定の方向に向かって散乱する。第1の実施形態において説明したように、異方性散乱体40の配置は、出射散乱の構成である。尚、図において、所定の観察位置に向かう反射光を反射光2と表した。
上述したように、外部から入射する外光は、画素電極217に達する成分と、画素電極217と隣接する画素電極217との間隙に達する成分とに大別される。第2の実施形態にあっては、いずれの成分の外光も画像の表示に寄与するので、表示される画像の輝度を高めることができる。
[第3の実施形態]
第3の実施形態も、本開示に係る反射型表示装置に関する。
第3の実施形態も、本開示に係る反射型表示装置に関する。
第3の実施形態に係る反射型表示装置は、第1の実施形態に対して、画素電極の構造、及び、配線の配置関係が相違すると共に、前面基板側に配置された第2の異方性散乱体を備えている点が相違する。以上の相違点を除く他は、第1の実施形態に係る反射型表示装置と同様の構成である。
第3の実施形態に係る反射型表示装置3の模式的な斜視図は、図1に示す反射型表示装置1を反射型表示装置3と読み替え、符号10を符号310と読み替え、符号20を符号320と読み替えればよいので省略する。
図10は、第3の実施形態に係る反射型表示装置の模式的な断面図である。図11は、反射型表示装置の模式的な分解斜視図である。
反射型表示装置3においても、背面基板14上の配線15を含む全面を覆うように、アクリル樹脂等の高分子材料から成る平坦化膜16が形成されている。第1の実施形態において、図3等に示す画素電極17は透明導電材料から成る。これに対し、図10に示す画素電極317は、例えばアルミニウムといった金属材料から成り、反射電極として作用する。第2の実施形態とは異なり、画素電極317は鏡面状である。
第2の実施形態において説明したと同様に、反射型表示装置3においても、各配線15は画素電極317によって覆われるように配置されている。画素電極317と線状の配線15の配置関係についての説明は、第2の実施形態において図8を参照して行った説明について、画素電極217を画素電極317と読み替えればよい。
背面基板14、異方性散乱体40および光反射部材30の構成は、第1の実施形態において説明した構成と同様である。尚、表記上の区別を明確化するために、以下の説明にあっては、異方性散乱体40を「第1の異方性散乱体40」と表す。
反射型表示装置3にあっては、前面基板19側に配置された、第2の異方性散乱体40Aを備えている。図2に示す例では、第2の異方性散乱体40Aは1/4波長板21と1/2波長板22との間に配置されているが、例えば、1/4波長板21の下に配置してもよい。第2の異方性散乱体40Aを配置する場所は、反射型表示装置の設計や仕様に応じて適宜決定すればよい。第2の異方性散乱体40Aの面内方向の領域は、低屈折率領域41と高屈折率領域42とが混在する領域として形成されている。第2の異方性散乱体40Aは、第1の実施形態において説明した第1の異方性散乱体40と基本的に同様の構成であるので、説明を省略する。
第2の異方性散乱体40Aにおける低屈折率領域41と高屈折率領域42とは、画素電極317によって反射した外光が第2の異方性散乱体40Aを透過する際に散乱するように配置されている。具体的には、第2の異方性散乱体40Aは、外部からの外光が低屈折率領域41と高屈折率領域42との境界が延びる方向と略直交する方向から入射する。そして、反射電極317によって反射した外光や、光反射部材30によって反射した外光は、低屈折率領域41と高屈折率領域42との境界が延びる方向に概ね倣う方向から入射するように配置されている。
図12を参照して、反射型表示装置2における外光の反射および散乱について説明する。
外部からの外光は、偏光板23と1/2波長板22とを透過して、第2の異方性散乱体40Aに入射する。このとき、外光は、低屈折率領域41と高屈折率領域42との境界が延びる方向と略直交する方向から入射するので、散乱することなく1/4波長板21、前面基板19および液晶材料層18を透過する。
液晶材料層18を透過する外光は、画素電極317に達する成分と、画素電極317と隣接する画素電極317との間隙に達する成分とに大別される。画素電極317に達する外光1は、画素電極317の表面において鏡面反射し、液晶材料層18、前面基板19および1/4波長板21を透過した後、第2の異方性散乱体40Aに再び入射する。このときには、低屈折率領域41と高屈折率領域42との境界が延びる方向に概ね倣う方向から入射するので、画素電極317によって鏡面反射した外光(反射光)は散乱する。第1の実施形態において第1の異方性散乱体40について説明したのと同様に、第2の異方性散乱体40Aの配置も出射散乱の構成である。散乱した外光は、1/2波長板22を透過して偏光板23に達し、外部に向けて出射する。尚、図において、所定の観察位置に向かう反射光を反射光1と表した。
一方、画素電極317と隣接する画素電極317との間隙に達する外光は、平坦化膜16および背面基板14を透過して、第1の異方性散乱体40に達する。第1の異方性散乱体40に入射した後の光の挙動は、第1の実施形態において図6を参照して説明したと同様である。光反射部材30によって反射した外光は、第1の異方性散乱体40によって所定の方向に向かって散乱する。散乱した光の挙動は、基本的には、画素電極317の表面において鏡面反射した光の挙動と同様であるので、説明を省略する。尚、図において、光反射部材30によって反射した外光(反射光)のうち、所定の観察位置に向かう反射光を反射光2と表した。
上述したように、外部から入射する外光は、画素電極317に達する成分と、画素電極317と隣接する画素電極317との間隙に達する成分とに大別される。第2の実施形態と同様に、第3の実施形態においても、いずれの成分の外光も画像の表示に寄与するので、表示される画像の輝度を高めることができる。
尚、図13に示すように、第1の異方性散乱体40の配置を変えて、外光2が第1の異方性散乱体40に入射する際に光が散乱するといった構成(以下、入射散乱の構成と呼ぶ場合がある)とすることも考えられるが、図12に示す構成のほうが、図13に示す構成よりも外光の反射率の向上の効果が高い。
外光の反射率の向上の効果を確認するため、仕様を変えた反射型表示装置を複数種試作し、外光の反射率について測定をした。結果を下の表に示す。尚、表におけるYは、視感反射率である。
表に示すように、光反射部材30と第1の異方性散乱体40とを備え、かつ、第1の異方性散乱体40を出射散乱の構成とした「仕様1」は、光反射部材30のみを備えた仕様2に比べて、反射率Yの値が向上していることがわかる。
以上、本開示の実施形態について具体的に説明したが、本開示は、上述の実施形態に限定されるものではなく、本開示の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
なお、本開示の技術は以下のような構成も取ることができる。
(1)前面から外光が入射するパネル状の反射型表示装置であって、
外光を前面に向かって反射する鏡面状の光反射部材が、異方性散乱体を挟んだ状態で背面側に配置されている反射型表示装置。
(2)異方性散乱体の面内方向の領域は、低屈折率領域と高屈折率領域とが混在する領域として形成されており、
低屈折率領域と高屈折率領域とは、光反射部材によって反射した外光が異方性散乱体から出射する際に散乱するように配置されている上記(1)に記載の反射型表示装置。
(3)反射型表示装置は、前面基板、背面基板、及び、前面基板と背面基板との間に配置されている液晶材料層を含み、
背面基板には複数の画素電極が形成されている上記(1)または(2)に記載の反射型表示装置。
(4)画素電極は透明導電材料から成る上記(3)に記載の反射型表示装置。
(5)画素電極は金属材料から成る上記(3)に記載の反射型表示装置。
(6)背面基板には複数本の線状の配線が形成されており、
各配線は画素電極によって覆われるように配置されている上記(5)に記載の反射型表示装置。
(7)画素電極の表面は凹凸状である上記(5)または(6)に記載の反射型表示装置。
(8)画素電極は鏡面状である上記(5)または(6)に記載の反射型表示装置。
(9)反射型表示装置は、更に、前面基板側に配置された、第2の異方性散乱体を備えている上記(8)に記載の反射型表示装置。
(10)第2の異方性散乱体の面内方向の領域は、低屈折率領域と高屈折率領域とが混在する領域として形成されており、
第2の異方性散乱体における低屈折率領域と高屈折率領域とは、画素電極によって反射した外光が第2の異方性散乱体を透過する際に散乱するように配置されている上記(9)に記載の反射型表示装置。
(1)前面から外光が入射するパネル状の反射型表示装置であって、
外光を前面に向かって反射する鏡面状の光反射部材が、異方性散乱体を挟んだ状態で背面側に配置されている反射型表示装置。
(2)異方性散乱体の面内方向の領域は、低屈折率領域と高屈折率領域とが混在する領域として形成されており、
低屈折率領域と高屈折率領域とは、光反射部材によって反射した外光が異方性散乱体から出射する際に散乱するように配置されている上記(1)に記載の反射型表示装置。
(3)反射型表示装置は、前面基板、背面基板、及び、前面基板と背面基板との間に配置されている液晶材料層を含み、
背面基板には複数の画素電極が形成されている上記(1)または(2)に記載の反射型表示装置。
(4)画素電極は透明導電材料から成る上記(3)に記載の反射型表示装置。
(5)画素電極は金属材料から成る上記(3)に記載の反射型表示装置。
(6)背面基板には複数本の線状の配線が形成されており、
各配線は画素電極によって覆われるように配置されている上記(5)に記載の反射型表示装置。
(7)画素電極の表面は凹凸状である上記(5)または(6)に記載の反射型表示装置。
(8)画素電極は鏡面状である上記(5)または(6)に記載の反射型表示装置。
(9)反射型表示装置は、更に、前面基板側に配置された、第2の異方性散乱体を備えている上記(8)に記載の反射型表示装置。
(10)第2の異方性散乱体の面内方向の領域は、低屈折率領域と高屈折率領域とが混在する領域として形成されており、
第2の異方性散乱体における低屈折率領域と高屈折率領域とは、画素電極によって反射した外光が第2の異方性散乱体を透過する際に散乱するように配置されている上記(9)に記載の反射型表示装置。
1,2,3,3’・・・反射型表示装置、10,210,310・・・前面基板、背面基板、及び、前面基板と背面基板との間に配置されている液晶材料層を含む反射型表示装置の部分、11・・・表示領域、12・・・画素、13A,13B,13C,13D・・・辺、14・・・背面基板、15・・・線状の配線(走査線)、15A・・・線状の配線(信号線)、16,216・・・平坦化膜、17,217,317・・・画素電極、18・・・液晶材料層、18A・・・液晶分子、19・・・前面基板、20,320・・・1/4波長板、1/2波長板、及び、偏光板を含む液晶表示パネルの部分、21・・・1/4波長板、22・・・1/2波長板、23・・・偏光板、30・・・鏡面状の光反射部材、31・・・基体、32・・・反射膜、33・・・青色フィルター層、40,40A・・・異方性散乱体、41・・・低屈折率領域、42・・・高屈折率領域
Claims (10)
- 前面から外光が入射するパネル状の反射型表示装置であって、
外光を前面に向かって反射する鏡面状の光反射部材が、異方性散乱体を挟んだ状態で背面側に配置されている反射型表示装置。 - 異方性散乱体の面内方向の領域は、低屈折率領域と高屈折率領域とが混在する領域として形成されており、
低屈折率領域と高屈折率領域とは、光反射部材によって反射した外光が異方性散乱体から出射する際に散乱するように配置されている請求項1に記載の反射型表示装置。 - 反射型表示装置は、前面基板、背面基板、及び、前面基板と背面基板との間に配置されている液晶材料層を含み、
背面基板には複数の画素電極が形成されている請求項1または請求項2に記載の反射型表示装置。 - 画素電極は透明導電材料から成る請求項3に記載の反射型表示装置。
- 画素電極は金属材料から成る請求項3に記載の反射型表示装置。
- 背面基板には複数本の線状の配線が形成されており、
各配線は画素電極によって覆われるように配置されている請求項5に記載の反射型表示装置。 - 画素電極の表面は凹凸状である請求項5に記載の反射型表示装置。
- 画素電極は鏡面状である請求項5に記載の反射型表示装置。
- 反射型表示装置は、更に、前面基板側に配置された、第2の異方性散乱体を備えている請求項8に記載の反射型表示装置。
- 第2の異方性散乱体の面内方向の領域は、低屈折率領域と高屈折率領域とが混在する領域として形成されており、
第2の異方性散乱体における低屈折率領域と高屈折率領域とは、画素電極によって反射した外光が第2の異方性散乱体を透過する際に散乱するように配置されている請求項9に記載の反射型表示装置。
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JP2012047557A JP2013182225A (ja) | 2012-03-05 | 2012-03-05 | 反射型表示装置 |
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WO2017092106A1 (zh) * | 2015-12-04 | 2017-06-08 | 武汉华星光电技术有限公司 | 显示装置、反射式显示面板及其反射单元 |
US11841515B2 (en) | 2019-03-29 | 2023-12-12 | Japan Display Inc. | Lens array and display device |
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- 2012-03-05 JP JP2012047557A patent/JP2013182225A/ja active Pending
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