JP2013174850A - モニタフォトディテクタ付き光変調器 - Google Patents
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Abstract
【課題】基板側面から出射されるモニタ光を効率よくモニタフォトディテクタに入射させることを可能とした光変調器を提供する。
【解決手段】基板と、光導波路と、中心導体及び接地導体とを具備し、光導波路は、入力光導波路と、入力光導波路に入射した光を分岐する分岐光導波路と、相互作用光導波路と、相互作用光導波路を伝搬した光を合波する合波光導波路と、合波光導波路から出力される信号光が入力される出力光導波路と、合波光導波路から出力されるモニタ光が入力されるモニタ光出力用光導波路とを含む光変調器と、基板の側面から出射されるモニタ光を受光するモニタフォトディテクタとを具備しており、モニタ光用出力光導波路は、出力光導波路が向かう基板側面とは異なる別の基板側面に向かって形成され、前記別の基板側面におけるモニタ光が通過する領域に光学接着剤が塗布されてなり、当該別の基板側面から出射されるモニタ光の屈折角度が抑制される。
【選択図】図1
【解決手段】基板と、光導波路と、中心導体及び接地導体とを具備し、光導波路は、入力光導波路と、入力光導波路に入射した光を分岐する分岐光導波路と、相互作用光導波路と、相互作用光導波路を伝搬した光を合波する合波光導波路と、合波光導波路から出力される信号光が入力される出力光導波路と、合波光導波路から出力されるモニタ光が入力されるモニタ光出力用光導波路とを含む光変調器と、基板の側面から出射されるモニタ光を受光するモニタフォトディテクタとを具備しており、モニタ光用出力光導波路は、出力光導波路が向かう基板側面とは異なる別の基板側面に向かって形成され、前記別の基板側面におけるモニタ光が通過する領域に光学接着剤が塗布されてなり、当該別の基板側面から出射されるモニタ光の屈折角度が抑制される。
【選択図】図1
Description
本発明は光変調器に係り、特に、モニタフォトディテクタの実装を容易にするとともに、小型で動作状態が安定な光変調器に関する。
周知のように、光変調器においてリチウムナイオベート(LiNbO3)のように電界を印加することにより屈折率が変化する、いわゆる電気光学効果を有する基板(以下、リチウムナイオベート基板をLN基板と略す)に光導波路と進行波電極を形成した進行波電極型リチウムナイオベート光変調器(以下、LN光変調器と略す)は、その優れたチャーピング特性から2.5Gbit/s、10Gbit/sの大容量光伝送システムに適用されている。
このようなLN光変調器は、最近ではさらに40Gbit/sの超大容量光伝送システムにも適用が検討されており、大容量光伝送システムにおけるキーデバイスとして期待されている。
(第1の従来技術)
図6は、例えば、特許文献1に開示されている第1の従来技術による光変調器としてのLN光変調器の構成を示す斜視図である。図中、1はz−カットLN基板、2はTiを熱拡散して形成したマッハツェンダ光導波路であり、2aは入力光導波路、2bはY分岐型の分岐光導波路、2c−1と2c−2は相互作用光導波路、2dはY分岐型の合波光導波路、2eは出力光導波路、2gは出力光導波路の端部である。
図6は、例えば、特許文献1に開示されている第1の従来技術による光変調器としてのLN光変調器の構成を示す斜視図である。図中、1はz−カットLN基板、2はTiを熱拡散して形成したマッハツェンダ光導波路であり、2aは入力光導波路、2bはY分岐型の分岐光導波路、2c−1と2c−2は相互作用光導波路、2dはY分岐型の合波光導波路、2eは出力光導波路、2gは出力光導波路の端部である。
また、図中、3は電気信号源、4は進行波電極の中心導体、5aと5bは接地導体、6aと6bは後述のように光信号がOFF状態の場合に発生する放射光、7は信号光用単一モード光ファイバ、8は放射光受光用光ファイバ、11は、例えば、フォトダイオードからなるモニタフォトディテクタ、9はモニタフォトディテクタ11からの後述する放射光検出信号に基づいてバイアス電源DCの動作点およびLN光変調器の動作点を調整するバイアスコントローラを含む放射光検出手段である。なお、説明を簡単にするために、z−カットLN光変調器に通常用いられるSiO2バッファ層などやSi導電層などの図示は省略した。
図7は、図6に示すように構成されるLN光変調器の動作原理を説明するために示す図である。図7の(a)、(b)は光導波路2の動作説明図であり、図7の(c)はLN光変調器の側面図を示している。
図6と図7を用いて、LN光変調器の動作について説明する。入力光導波路2aに入射した光は分岐光導波路2bにおいて2分割される。電気信号源3からの電気信号が進行波電極の中心導体4と、接地導体5a、5bに印加されない場合には、図7の(a)に示すように、光は相互作用光導波路2c−1、2c−2を同相で伝搬する。その後、光は合波光導波路2dにより合波されて基本モードとして出力光導波路2eを伝搬し、最後に、光は信号光用単一モード光ファイバ7に出射される。これをON状態と呼ぶ。なお、合波光導波路2dが出力光導波路2fと接合している箇所を合波点2hと呼ぶ。
一方、電気信号源3からの電気信号が進行波電極の中心導体4と、接地導体5a、5bに印加された場合には、図7の(b)に示すように、光は相互作用光導波路2c−1、2c−2を異なった位相(逆位相)で伝搬する。その後、光は合波光導波路2dにより合波されて1次の高次モード光が形成される。通常、この1次の高次モード光がカットオフとなるように、出力光導波路2eが設計されている。
従って、この1次の高次モード光は出力光導波路2eを伝搬できないために、放射光6a、6bとして基板の水平方向に0.7度、図7の(c)に示すように、深さ方向に0.9度という小さな角度をもって合波点2hから基板内に放射され、基板内を広がりながら伝搬する。これをOFF状態と呼ぶ。
図8に示す電圧−光出力特性において、図示実線の曲線はある状態でのLN光変調器の電圧−光出力特性であり、Vbはその際のDCバイアス電圧である。
この図8に示すように、通常、DCバイアス電圧Vbは光出力特性の山と底の中点に設定される。
一方、温度変動など何らかの原因により図8の破線のように電圧−光出力特性が変化した場合には、バイアス点をVb´のように設定変更する必要がある。
この第1の従来技術では、この放射光を放射光受光用光ファイバ8で受光・伝搬した後、例えば、フォトダイオードからなるモニタフォトディテクタ11に入射させることにより電流に変換している。バイアスコントローラを含む放射光検出手段9は、この電流の大きさにより電圧−光出力特性の変化を検知し、バイアスDC電源によるDCバイアス電圧の最適バイアス点を見出している。
しかしながら、以上のように構成したLN光変調器においても以下のような問題点がある。放射光は、実際には図7の(b)、(c)に示すように、基板の水平方向に0.7度、深さ方向に0.9度の小さな角度をもって合波点2hから基板内の下方に出射されるので、放射光受光用光ファイバ8は信号光用単一モード光ファイバ7に非常に近く、また信号光用単一モード光ファイバ7よりもほんの僅かだけ低い位置に配置する必要がある。
ここで、図9は、信号光用単一モード光ファイバ7側から見た光信号のOFF状態の様子を示している。図7の(b)において、例えば、出力光導波路2eの光軸方向の長さを4mmとすると、前述のように放射光の水平方向の伝搬角度はわずか0.7度であるから、信号光用単一モード光ファイバ7と放射光6aあるいは放射光6bとの間隔は約50μmと極めて狭い。また、放射光6aあるいは放射光6bのパワーの中心はz−カットLN基板1の上側の表面から深さHの位置に来るが、放射光の垂直方向の伝搬角度は0.9度であるから、Hの値は63μm程度である。このように、信号光と放射光6aあるいは放射光6bの中心との距離は小さいので、信号光用単一モード光ファイバ7と放射光受光用光ファイバ8とを実装することは非常に難しい。
この実装の難しさについて図10を用いて説明する(例えば、特許文献1の図4参照)。図中、7aは信号光用単一モード光ファイバのコア、8aは放射光受光用光ファイバのコア、10aはキャピラリー(誘電体からなるキャピラリーで、一般的にはガラス材が知られているが、セラミックなどその他の材料でも良い)を示している。
そして、キャピラリー10aに信号光用単一モード光ファイバ7用とは別に穴を開けて、放射光受光用光ファイバ8をその穴に固定している。こうして、信号光用単一モード光ファイバ7のコア7aには信号光が結合するように、放射光受光用光ファイバ8のコア8aには放射光6b(あるいは、6a)が結合するように、それぞれの位置関係を調整して固定する。
以上説明したように、第1の従来技術によるモニタフォトディテクタ付きLN光変調器では、信号光と放射光の間の距離が50μm程度と極めて小さいため、信号光用単一モード光ファイバ7のコア7aには信号光を結合させ、かつ放射光受光用光ファイバ8のコア8aには放射光を結合させるという実装が必要となり、その実装は極めて困難であるため、実装が容易な構造のLN光変調器の開発が望まれている。
通常、この実装の困難さを回避するためには、信号光と放射光との間の距離を広げることが考えられる。
ところで、信号光と放射光との間の距離を広げる考えとは別に、放射光を信号光に干渉させることで、干渉パターンを信号光から遠方に形成する発明が開示されている(例えば、特許文献2参照)。しかし、放射光と信号光が干渉するということは、つまり信号光が減衰することを意味しており、その結果、信号光の損失増加につながるか、あるいはあくまで干渉であるので信号光が影響できる範囲にのみ、つまり信号光に比較的近い領域にしか干渉パターンを形成することができないという問題点があり、上記課題の解決には至っていないというのが実情である。
以上のように、キャピラリー10aに信号光用単一モード光ファイバ7と放射光受光用光ファイバ8の両方を実装することは極めて困難なことである。そこで、放射光受光用光ファイバ8を用いる代わりに、キャピラリー10aを通過した後の放射光をモニタフォトダイオード等のモニタフォトディテクタ11で受光する場合を考えてみる。
この場合、z−カットLN基板1とキャピラリー10aの屈折率を各々2.14と1.45とすると、放射光はキャピラリー10aの中を±0.7°×2.14/1.45=±1.0°の屈折角度で伝搬するので、放射光はキャピラリー10aの中に固定した信号光用単一モード光ファイバ7の極めて近くを伝搬するため、モニタフォトディテクタ11を実装することは事実上困難である。
(第2の従来技術)
図11は、これらの問題を解決する構造として、第2の従来技術によるモニタフォトディテクタ付きLN光変調器を示している。この第2の従来技術によるLN光変調器では、z−カットLN基板1を伝搬して来た放射光6a、6bをさらに後端が傾斜されているキャピラリー10bの中を放射光6c、6dとして伝搬させる。
図11は、これらの問題を解決する構造として、第2の従来技術によるモニタフォトディテクタ付きLN光変調器を示している。この第2の従来技術によるLN光変調器では、z−カットLN基板1を伝搬して来た放射光6a、6bをさらに後端が傾斜されているキャピラリー10bの中を放射光6c、6dとして伝搬させる。
ここで、キャピラリー10bの後端傾斜面に、予め、誘電体多層膜14を堆積しておくことにより、光を全反射させて外部に出し、それをモニタフォトディテクタ11を用いて受光し、電流に変換する。
ところが、この第2の従来技術によるLN光変調器には重大な問題点がある。以下、この問題点について考察する。まず、放射光6a、6bが基板端面1aを通過した後、モニタフォトディテクタ等のモニタフォトディテクタ11に達するまでの光路長について考える。
放射光6cの場合には、基板端面1aを通過後にキャピラリー10bの中をL1の距離を伝搬した後、キャピラリー10aの後端傾斜面の誘電体多層膜14において反射され、さらにキャピラリー10aの中を上方にL2の距離を伝搬する。その後、空気中をL3の距離を伝搬し、モニタフォトディテクタに達する。キャピラリー10aの屈折率をncとすると、放射光6cの光学的な全光路長L6cはL6c=ncL1+ncL2+L3となる。
一方、放射光6dの場合には、基板端面1aを通過後にキャピラリー10bの中をL4の距離を伝搬した後、キャピラリー10aの後端傾斜面の誘電体多層膜14において反射され、さらにキャピラリー10aの中を上方にL5の距離を伝搬する。その後、空気中をL6の距離を伝搬し、フォトダイオード等のモニタフォトディテクタ11に達する。放射光6dの光学的な全光路長L6dはL6d=ncL4+ncL5+L6となる。
一方、放射光6a、6bはキャピラリー10aの中を互いに異なった角度±1.0°で伝搬し、キャピラリー10aの後端傾斜面の誘電体多層膜14において上方に反射された後、モニタフォトディテクタ11へ入射するときに、放射光6c、6dは図12に示すように、互いに重なり合い、干渉する。図12において、6iは放射光6cと6dとの重なり部(干渉部)である。
ここで、放射光6c、6dの位相が約180度異なっている様子を図13に示す。放射光6cと6dの位相が互いに180度異なっている場合には、図14の(a)に示すようにそれらの重なり部にはそのパワーが零となる箇所がある。
ところが、キャピラリー10aの屈折率ncは温度により変化するので、放射光6c、6dがモニタフォトディテクタ11に入射する際の両光路長L6cとL6dは温度により変化することになる。その結果、放射光6c、6dの位相差は180度とは異なってくる。そのため、放射光6c、6dを重ねた結果、図14の(b)に示すように、放射光6cと6dの重なり部6iはどの箇所においても零とはならないことになる。
換言すると、図12から図14に示した放射光6cと6dの重なり部6iの光の強度(換言すると、モニタフォトディテクタ11の受光感度)が温度とともに変化してしまい、LN光変調器のDCバイアスコントロールに支障が生じることになる。
また、図10に示した第1の従来技術におけるキャピラリー10aの場合と同様に、この第2の従来技術においてもキャピラリー10bには信号光用単一モード光ファイバ7を実装する必要がある。また、いずれのキャピラリー10a、10bでも信号光用単一モード光ファイバ7の実装を容易にするために、キャピラリー10aと10bの後端に信号光用単一モード光ファイバ7の外形よりも大きなガイド用のザグリを入れておくことが望ましい。
しかるに、いずれのキャピラリー10a、10bでもその中の信号光用単一モード光ファイバ7の近傍を放射光が伝搬するために、キャピラリー10aと10bの後端にそのようなガイド用のこのザグリを設けることはできない。
(第3の従来技術)
図15は、これらの問題を解決する構造として、第3の従来技術によるモニタフォトディテクタ付きLN光変調器を示している。この第3の従来技術によるLN光変調器では、放射光6cのみをモニタフォトディテクタ11により受光するために、キャピラリー10cを図15に示すように加工し、放射光6dがモニタフォトディテクタ11には入射しないように工夫している。なお、キャピラリー10cを半分切り欠くことにより信号光用単一モード光ファイバ7の実装のガイドをすることが可能となる。
図15は、これらの問題を解決する構造として、第3の従来技術によるモニタフォトディテクタ付きLN光変調器を示している。この第3の従来技術によるLN光変調器では、放射光6cのみをモニタフォトディテクタ11により受光するために、キャピラリー10cを図15に示すように加工し、放射光6dがモニタフォトディテクタ11には入射しないように工夫している。なお、キャピラリー10cを半分切り欠くことにより信号光用単一モード光ファイバ7の実装のガイドをすることが可能となる。
しかしながら、この第3の従来技術によるLN光変調器の構造では、キャピラリー10cを複雑な構造に加工する必要があるとともに、図11に示した第2の従来技術によるLN光変調器のキャピラリー10bと同じく、キャピラリー10cの後端傾斜面に光を全反射させるための誘電体多層膜15などを堆積する必要があり、光変調器全体としての製作のコストがますます高くなってしまうという問題がある。
(第4の従来技術)
図16に特許文献4に開示された第4の従来技術のモニタフォトディテクタ付きLN光変調器についてその斜視図を示す。ここで、50はz−カットLN基板、51は基板表面50Aに形成された光導波路、51Aは入力光導波路、51Bは多モード干渉光導波路(MMI)からなる入力用3−dBカプラ(分岐光導波路)、51C、51Dは相互作用光導波路、51Eは多モード干渉光導波路(MMI)からなる出力用3−dBカプラ(合波光導波路)、51Fは信号光出力用光導波路、51Gはモニタ光出力用光導波路、53は反射溝、52は進行波電極、52Aは中心導体、52Bは接地導体、52Cはパッド、54はモニタフォトディテクタ、55はブロック材である。56はモニタ光出力用光導波路51Gを出射後、反射溝53により反射された後、モニタフォトディテクタ54へ向かうモニタ光である。
図16に特許文献4に開示された第4の従来技術のモニタフォトディテクタ付きLN光変調器についてその斜視図を示す。ここで、50はz−カットLN基板、51は基板表面50Aに形成された光導波路、51Aは入力光導波路、51Bは多モード干渉光導波路(MMI)からなる入力用3−dBカプラ(分岐光導波路)、51C、51Dは相互作用光導波路、51Eは多モード干渉光導波路(MMI)からなる出力用3−dBカプラ(合波光導波路)、51Fは信号光出力用光導波路、51Gはモニタ光出力用光導波路、53は反射溝、52は進行波電極、52Aは中心導体、52Bは接地導体、52Cはパッド、54はモニタフォトディテクタ、55はブロック材である。56はモニタ光出力用光導波路51Gを出射後、反射溝53により反射された後、モニタフォトディテクタ54へ向かうモニタ光である。
この第4の従来技術における出力用3−dBカプラ51E付近や反射溝53を含む拡大図を図17に示す。但し、紙面の関係上、長手方向を大幅に縮小している。
ここで、この第4の従来技術の動作を説明する。基板50の光入力側面に与えられた光が、入力導波路51Aを伝搬して入力側カプラ51Bで2分岐され、各平行導波路51C,51Dをそれぞれ伝搬する。このとき、電極パターン52A,52Bに印加される電気信号に応じて、各平行導波路51C,51Dを伝搬する光に位相差が与えられ、出力側カプラ51Eで各々の光が合波された後に信号光およびモニタ光にそれぞれ分岐される。信号光は、信号光出力用光導波路51Fを伝搬して基板50の側面から出射される。一方、出力側カプラ51Eで分岐されたモニタ光は、モニタ光出力用光導波路51Gを伝搬し、反射溝53により基板側面50´に向かって反射され、モニタフォトディテクタ11に向かうモニタ光56として伝搬している。
ところが、この第4の従来技術をDQPSKやDP−QPSKのような複数のマッハツェンダ光導波路を有するネスト型の光変調器に適用する際に大きな問題が生じる。
つまり、モニタ光56は反射溝53により反射された後に放射光として広がりながらモニタフォトディテクタ11へ向かう。そして、モニタフォトディテクタ11に達した時、モニタ光56はかなり広がっている。従って、図16のようにマッハツェンダ光導波路の数が1つの場合にはまだしもDQPSKやDP−QPSKのような複数のマッハツェンダ光導波路を有するネスト構造の場合には、各々のマッハツェンダ光導波路に対応する複数の反射溝を起点とする複数のモニタ光が互いに重なり合いつつ広がるため、モニタ光同士のクロストークが生じてしまい、結果的に各マッハツェンダ光導波路に対する最適なバイアス電圧を決定することができないという問題があった。
(第5の従来技術)
図18には同じく、特許文献4に開示された第5の従来技術によるモニタフォトディテクタ付きLN光変調器を示す。この第5の従来技術では図16に示した第4の従来技術における入力用3−dBカプラ51Bと出力用3−dBカプラ51Eの代わりにY分岐型の分波器と合波器を使用している。なお、入力側については入力用Y分岐、あるいは入力用Y分岐光導波路、また出力側については出力用Y分岐、あるいは出力用Y分岐光導波路とも言う。ここで、51Hは入力光導波路であり、51B´は入力用Y分岐の分岐点、51Iは出力光導波路である。56´は出力用Y分岐の合波点51E´から放射された放射光であり、反射溝53により反射されてモニタ光56´´としてモニタフォトディテクタ54に向かって伝搬している。このようにMMIからなる3−dBカプラの代わりにY分岐型の光導波路を使用することにより、図16と図17において説明した第4の従来技術が持つ問題点は解消できたが、この第5の従来技術には実用上極めて大きな問題点がある。
図18には同じく、特許文献4に開示された第5の従来技術によるモニタフォトディテクタ付きLN光変調器を示す。この第5の従来技術では図16に示した第4の従来技術における入力用3−dBカプラ51Bと出力用3−dBカプラ51Eの代わりにY分岐型の分波器と合波器を使用している。なお、入力側については入力用Y分岐、あるいは入力用Y分岐光導波路、また出力側については出力用Y分岐、あるいは出力用Y分岐光導波路とも言う。ここで、51Hは入力光導波路であり、51B´は入力用Y分岐の分岐点、51Iは出力光導波路である。56´は出力用Y分岐の合波点51E´から放射された放射光であり、反射溝53により反射されてモニタ光56´´としてモニタフォトディテクタ54に向かって伝搬している。このようにMMIからなる3−dBカプラの代わりにY分岐型の光導波路を使用することにより、図16と図17において説明した第4の従来技術が持つ問題点は解消できたが、この第5の従来技術には実用上極めて大きな問題点がある。
図から明らかにわかるように、反射溝53は出力用Y分岐の合波点51E´から距離的に離れ、光が出力される側の端面(光出力側端面)58の近傍に形成されている。さらに、挿入損失の観点から出力光導波路51Iに影響を及ぼさない距離に形成する必要がある反射溝53が、出力光導波路51Iとモニタフォトディテクタ54の間に設けられている。放射光56´は水平方向にわずか約0.7度しか広がっていないことを考えると、このことも反射溝53が出力用Y分岐の合波点51E´から距離的に離れて光出力側端面58の近傍に形成されていることを示唆している。
そして図19には出力用Y分岐の合波点51E´からの距離に対する放射光56´のパワーの中心が存在する深さ(図9のH)を示している。第1の従来技術において説明したように、放射光が不図示の信号光用単一モード光ファイバ(図6の7を参照)に入射して信号光のON/OFF比が劣化するのを防ぐためには、出力光導波路51Iの長さとして最低2〜3mm、望ましくは4mm程度必要である。出力光導波路51Iがこの程度の長さを有すると、反射溝53は光出力側端面58の近傍に形成されているので、z−カットLN基板50の深さ方向に0.9度の傾きで伝搬することを考えると、図19からわかるように放射光56´のパワーの中心は出力光導波路51Iの長さが2〜3mmの場合でも30〜40μmもの深さにあり、出力光導波路51Iの長さが4mmの場合には、63μmもの深さにある。
このことから、この第5の従来技術の問題点を直ちに理解することができる。つまり、モニタ光56´´を効率よくモニタフォトディテクタ11に入射させるためには、数十ミクロンの深さの反射溝53を形成する必要がある。そして通常のドライエッチング装置のエッチング速度は装置に依存はするものの、通常10nm/分から0.1μm/分程度であり、数十ミクロンもの深い反射溝を形成することは極めて困難である。また、反射溝をドライエッチングではなくダイサーで形成しようとしてもダイサーの歯の直径は数センチメートルもあるので、出力光導波路を傷つけることなく反射溝を形成することは不可能である。
しかも、この第5の従来技術では反射溝53の反射面は曲率として凸の曲面形状であることを規定しており、このことがモニタフォトディテクタ54によりモニタ光56´´の受光をさらに困難にする。つまり、基板を数ミリも伝搬した放射光56´は大変広がっており、その上曲率が凸の曲面の反射面で反射させると放射光56´はモニタフォトディテクタ54の受光面よりも広くなり、モニタフォトディテクタ54の受光感度が極めて劣化してしまう。
(第6の従来技術)
図20には、特許文献5の図12に開示された第6の従来技術を示す。この従来技術では、モニタ光出力用光導波路51G´をLN基板50の側面50´(出力光導波路が向かう基板側面とは異なる基板側面)に向かって曲げて形成しており、それから出射される不図示のモニタ光をモニタフォトディテクタ11で検出する。
図20には、特許文献5の図12に開示された第6の従来技術を示す。この従来技術では、モニタ光出力用光導波路51G´をLN基板50の側面50´(出力光導波路が向かう基板側面とは異なる基板側面)に向かって曲げて形成しており、それから出射される不図示のモニタ光をモニタフォトディテクタ11で検出する。
図20におけるI領域の部分拡大図を図21に示す。LN基板50の側面までモニタ光出力用光導波路51G´を形成するが、チップをウェーハからダイサーで切り出す際に59のような凹凸部(チッピング部)がチップの側面全体において発生する(なお、図20と図21、および後述する図1〜図4ではモニタ光が通過する部位のみ凹凸状に図示している)。そのため、モニタ光出力用光導波路51G´を伝搬して来たモニタ光70はチッピング部59により屈折されてしまうので、モニタフォトディテクタ11の受光感度が著しく低下してしまうという問題があった。
以上のように、LN光変調器のDCバイアスを制御するために各種の光変調器が提案された。しかしながら、第1の従来技術では信号光用単一モード光ファイバが距離的に極めて近いために放射光受光用光ファイバの実装が困難であった。また第2の従来技術ではLN光変調器を使用する際の環境温度が変化すると、モニタフォトディテクタに入射する放射光の強度が変化するためにDCバイアスコントロールに問題が生じた。そして、第3の従来技術では信号光用単一モード光ファイバを実装し、かつモニタフォトディテクタに放射光を送るためのキャピラリーの形状が複雑であり、LN光変調器のコストアップの一因となっていた。第4の従来技術ではDQPSKやDP−QPSKのような複数のマッハツェンダ光導波路を有するネスト構造の光変調器の場合には複数のモニタ光同士のクロストークが生じてしまい、結果的に各マッハツェンダ光導波路に対する最適なバイアス電圧を決定することができないという問題があった。第5の従来技術では放射光を反射させることによりモニタ光としてモニタフォトディテクタに伝搬させる反射溝がLN光変調器における光の出力側端面付近に形成されていた。そのため、反射溝を何十ミクロンと深くエッチングする必要があり、ドライエッチング装置を使用してその形成することは難航を極めていた。また、例えダイサーを使用しても、信号光を出力する出力光導波路を傷つけることなく反射溝を形成することは不可能であった。さらに、第6の従来技術ではLN変調器をウェーハからチップとして切り出す際にチップの側面に発生するチッピング部によりモニタフォトディテクタへのモニタ光の入射効率、つまりモニタフォトディテクタの受光感度が著しく劣化していた。
そこで、本発明は、以上のような従来技術による問題点を解消して、モニタフォトディテクタの実装を容易にするともに、モニタフォトディテクタのモニタ光の受光感度が高く、かつネスト構造にも適用可能な小型で動作状態が安定な光変調器を提供することを目的としている。
上記課題を解決するために、本発明の請求項1に記載のモニタフォトディテクタ付き光変調器は、電気光学効果を有する基板と、光を導波するための光導波路と、前記光を変調するための電圧を印加する中心導体及び接地導体とを具備し、前記光導波路は、少なくとも前記光を入射するための入力光導波路と、前記入力光導波路に入射した光を分岐する分岐光導波路と、前記中心導体と前記接地導体との間に前記電圧を印加することにより前記光の位相を変調するための相互作用光導波路と、前記相互作用光導波路を伝搬した前記光を合波する合波光導波路と、前記合波光導波路から出力される信号光が入力される出力光導波路と、前記合波光導波路から出力される、前記信号光と位相が異なるモニタ光が入力されるモニタ光出力用光導波路とを含む光変調器と、前記基板の側面から出射される前記モニタ光を受光するモニタフォトディテクタとを具備しており、前記モニタ光用出力光導波路は、前記出力光導波路が向かう基板側面とは異なる別の基板側面に向かって形成され、前記別の基板側面における前記モニタ光が通過する領域に光学接着剤が塗布されてなり、当該別の基板側面から出射される前記モニタ光の屈折角度が抑制されることを特徴としている。
本発明の請求項2に記載のモニタフォトディテクタ付き光変調器は、請求項1に記載のモニタフォトディテクタ付き光変調器において、前記光導波路がマッハツェンダ型光導波路であることを特徴としている。
本発明の請求項3に記載のモニタフォトディテクタ付き光変調器は、請求項1に記載のモニタフォトディテクタ付き光変調器において、前記光導波路は、当該光導波路における光の導波方向と交わる方向に並列に構成された2個以上のマッハツェンダ型光導波路からなることを特徴としている。
本発明の請求項4に記載のモニタフォトディテクタ付き光変調器は、請求項1乃至3のいずれか一項に記載のモニタフォトディテクタ付き光変調器において、前記光学接着剤が、紫外線硬化型接着剤または熱硬化型接着剤であって、硬化時の屈折率が前記基板の屈折率よりも小さいことを特徴としている。
本発明の請求項5に記載のモニタフォトディテクタ付き光変調器は、請求項1乃至4のいずれか一項に記載のモニタフォトディテクタ付き光変調器において、前記モニタフォトディテクタを、前記基板に対して空間を介して具備していることを特徴としている。
本発明の請求項6に記載のモニタフォトディテクタ付き光変調器は、請求項1乃至5のいずれか一項に記載のモニタフォトディテクタ付き光変調器において、前記光学接着剤の表面の少なくとも一部が凸形状であることを特徴としている。
本発明では、LN変調器チップをウェーハからダイサーで切り出す際に生じるチッピング部を光学接着剤により埋めることにより、モニタ光を効率よくモニタフォトディテクタに入射させる、つまりモニタフォトディテクタの受光感度を改善することを可能とする。さらに、光がランダムに屈折されないため、ネスト型の光変調器においてはモニタ光のクロストークを小さくすることができるという利点がある。
以下、本発明によるモニタフォトディテクタ付き光変調器の実施形態について説明するが、図6から図21に示した第1から第6の従来技術と同一番号は同一機能部に対応しているため、ここでは同じ番号を持つ機能部の説明を省略する。
(第1の実施形態)
図1に、本発明によるモニタフォトディテクタ付き光変調器の実施形態を示す。この図1は、図20と同部位を示すものである。また、図1のII領域について、その部分拡大図を図2に示す。60はLN基板50の側面50´(出力光導波路が向かう基板側面とは異なる別の基板側面)の、モニタ光71が通過する領域に塗布された光学接着剤である。
この光学接着剤60の塗布により、モニタ光71が通過する領域におけるチッピング部59が平滑化されることになり、モニタ光71がモニタフォトディテクタ11に入らない程度までにランダムな角度で屈折されるのを防ぐことができる。光学接着剤は、種類としては例えば紫外線硬化型接着剤、熱硬化性接着剤が挙げられ、また硬化時の屈折率がLN基板50よりも小さいものを用いるのが好適である。
図1に、本発明によるモニタフォトディテクタ付き光変調器の実施形態を示す。この図1は、図20と同部位を示すものである。また、図1のII領域について、その部分拡大図を図2に示す。60はLN基板50の側面50´(出力光導波路が向かう基板側面とは異なる別の基板側面)の、モニタ光71が通過する領域に塗布された光学接着剤である。
この光学接着剤60の塗布により、モニタ光71が通過する領域におけるチッピング部59が平滑化されることになり、モニタ光71がモニタフォトディテクタ11に入らない程度までにランダムな角度で屈折されるのを防ぐことができる。光学接着剤は、種類としては例えば紫外線硬化型接着剤、熱硬化性接着剤が挙げられ、また硬化時の屈折率がLN基板50よりも小さいものを用いるのが好適である。
ここで、本発明の製造工程を図3および図4を用いて説明する。
(a)従来から行われている通常の工程により、ウェーハからチップをダイサーなどにより切り出す。なおこの時、図21の第6の従来技術と同じくLN基板50の側面にチッピング部59が発生している。
(b)組立工具である細い棒61の先端に光学接着剤62を付け、チッピング部59に塗布する。
(c)すると、図4のようなチッピング部59が覆われた状態になる。つまり光学接着剤60はチッピング部59が深い箇所には多く、また浅い箇所には少なく溜まる。
(d)この後、紫外線を照射する、あるいは加熱することにより光学接着剤60を硬化させる。
LN基板50の屈折率は約2である。一般に光学接着剤の屈折率は2よりやや小さい程度である。そのため、本発明を適用することにより、図21に示した第6の従来技術のモニタ光70と比較して、モニタ光71はモニタ光導波路51から出射される際のランダムな屈折がほとんどないほどに改善されている。
そのため、本発明を適用することにより、モニタフォトディテクタへのモニタ光の結合効率が大幅に向上するので、その受光感度を改善できる。よって、光変調器としての歩留まりを極めて向上することが可能となる。
本発明ではモニタ光出力用光導波路51G´を、LN基板50の側面50´まで形成しているので、DQPSKやDP−QPSKのようなマッハツェンダ光導波路を光の導波方向と交わる方向に並列に複数有するネスト構造の光変調器にも適用可能である。つまり、複数のマッハツェンダ光導波路と複数のモニタフォトディテクタを有するネスト構造においても、各マッハツェンダ光導波路における各モニタ光出力用光導波路51G´を互いに影響を与えない基板側面50´の別々の位置に配置することができ、モニタ光のクロストークを極めて小さくできるという利点がある。
表1に本発明の効果を示す。表1の中において、「本発明適用前」とは、例えば図21に示したように、LN基板50の側面50´のモニタ光が通過する領域における凹凸部に、光学接着剤が塗布されていない状態である。また、「本発明適用後」とは、例えば図2に示したように、LN基板50の側面50´のモニタ光が通過する領域における凹凸部が、光学接着剤60の塗布により埋め込まれた状態である。表1は、4個のサンプルについて、本発明適用前と本発明適用後の受光感度を示している。表1からわかるように、本発明を適用することにより、従来技術と比較してモニタフォトディテクタ11の受光感度について大幅な改善を得ることができる。
なお、以上の説明においてはモニタ光出力用光導波路51G´がLN基板側面50´にまで延びた(接した)構成としていたが、これに限定されることはない。例えば、モニタ光出力用光導波路51G´が途中で途切れていて、一部基板内を導波してLN基板側面50´からモニタ光が出射されるようになっている場合であっても、LN基板側面50´に光学接着剤60を塗布することによって本願発明の作用効果(モニタ光の屈折の抑制)を奏する場合にあっては、本願の権利範囲に属することになる。そして、このことは本願の全ての実施形態について当てはまる。
(第2の実施形態)
本発明に係るモニタフォトディテクタ付き光変調器の第2の実施形態を図面を参照しながら説明する。なお、第1の実施形態と同様の構成及び動作については適宜説明を省略する。
本発明に係るモニタフォトディテクタ付き光変調器の第2の実施形態を図面を参照しながら説明する。なお、第1の実施形態と同様の構成及び動作については適宜説明を省略する。
図5に本発明の第2の実施形態を示す。本実施形態では、LN基板50の側面50´のモニタ光71´が通過する領域に塗布される光学接着剤として、粘性の高い光学接着剤60´を用いる。これにより、光学接着剤60´の表面形状の少なくとも一部を凸形状とし、光学接着剤60´にレンズ効果を持たせている。そして、光学接着剤60´がレンズ効果を持つことにより、モニタ光71´の集光効率が大きくなるので、モニタフォトディテクタ11の受光感度をより改善することが可能となる。
(各実施形態)
以上の説明においては、LN基板としてz−カットLN基板である場合について説明したが、x−カット基板あるいはy−カットLN基板など各種基板を用いても良い。
以上の説明においては、LN基板としてz−カットLN基板である場合について説明したが、x−カット基板あるいはy−カットLN基板など各種基板を用いても良い。
またマッハツェンダ光導波路からモニタ光導波路への接続はMMIカプラで説明したが、方向性結合器、さらにはY分岐でも良いことはいうまでもない。
さらに、以上の説明においては、電極として非対称コプレーナストリップ(ACPS)やコプレーナウェーブガイド(CPW)型の進行波電極を想定したが、その他の構造の進行波電極でも良いし、もちろん集中定数型電極でも良い。
また、以上の説明においては、基板としてLN基板を想定したが、リチウムタンタレートなどその他の誘電体基板、さらには半導体基板でも良い。
1、50:z−カットLN基板
1a:基板端面
2:マッハツェンダ型の光導波路
2a:入力光導波路
2b:Y分岐型の分岐光導波路
2c−1、2c−2:相互作用光導波路
2d:Y分岐型の合波光導波路
2e、2f:出力光導波路
2g:出力光導波路の端部
2h、51E´:合波光導波路の合波点
2i:Y分岐型の分岐光導波路の遷移領域
3:電気信号源
4:進行波電極の中心導体
5a,5b:接地導体
6a、6b、6c、6d、6e、6f、56´:放射光
6i:放射光の干渉部
7:信号光用単一モード光ファイバ
7a:信号光用単一モード光ファイバのコア
8a:放射光受光用光ファイバ
8:放射光受光用光ファイバのコア
9:放射光検出手段
10a、10b、10c、10d:キャピラリー
11、54:モニタフォトディテクタ
12:ミラー
13:ガラスブロック
14、15:キャピラリー後端傾斜面に反射面として形成される誘電体多層膜
20、21、22:反射溝
20a:反射溝20の壁
30a、30b、56´:放射光
30c、30d、30e、56、56´´:モニタ光
40:z−カットLN基板1の側面
41、42、43:反射面
50´:基板50の側面
50A:基板50の表面
51:光導波路
51A:入力光導波路
51B:入力用3−dBカプラ
51B´:分岐光導波路の分岐点
51C、51D:相互作用光導波路
51E:出力用3−dBカプラ
51F:信号光出力用光導波路
51G、51G´:モニタ光出力用光導波路
51H:入力光導波路
51I:出力光導波路
52:進行波電極
52A:中心導体
52B:接地導体
52C:パッド
53:反射溝
55:ブロック材
58:光出力側端面
59:チッピング部
60、60´:光学接着剤
61:光学接着剤を塗るための棒
62:製造工程中の光学接着剤
70、71、71´:モニタ光
1a:基板端面
2:マッハツェンダ型の光導波路
2a:入力光導波路
2b:Y分岐型の分岐光導波路
2c−1、2c−2:相互作用光導波路
2d:Y分岐型の合波光導波路
2e、2f:出力光導波路
2g:出力光導波路の端部
2h、51E´:合波光導波路の合波点
2i:Y分岐型の分岐光導波路の遷移領域
3:電気信号源
4:進行波電極の中心導体
5a,5b:接地導体
6a、6b、6c、6d、6e、6f、56´:放射光
6i:放射光の干渉部
7:信号光用単一モード光ファイバ
7a:信号光用単一モード光ファイバのコア
8a:放射光受光用光ファイバ
8:放射光受光用光ファイバのコア
9:放射光検出手段
10a、10b、10c、10d:キャピラリー
11、54:モニタフォトディテクタ
12:ミラー
13:ガラスブロック
14、15:キャピラリー後端傾斜面に反射面として形成される誘電体多層膜
20、21、22:反射溝
20a:反射溝20の壁
30a、30b、56´:放射光
30c、30d、30e、56、56´´:モニタ光
40:z−カットLN基板1の側面
41、42、43:反射面
50´:基板50の側面
50A:基板50の表面
51:光導波路
51A:入力光導波路
51B:入力用3−dBカプラ
51B´:分岐光導波路の分岐点
51C、51D:相互作用光導波路
51E:出力用3−dBカプラ
51F:信号光出力用光導波路
51G、51G´:モニタ光出力用光導波路
51H:入力光導波路
51I:出力光導波路
52:進行波電極
52A:中心導体
52B:接地導体
52C:パッド
53:反射溝
55:ブロック材
58:光出力側端面
59:チッピング部
60、60´:光学接着剤
61:光学接着剤を塗るための棒
62:製造工程中の光学接着剤
70、71、71´:モニタ光
Claims (6)
- 電気光学効果を有する基板と、光を導波するための光導波路と、前記光を変調するための電圧を印加する中心導体及び接地導体とを具備し、前記光導波路は、少なくとも前記光を入射するための入力光導波路と、前記入力光導波路に入射した光を分岐する分岐光導波路と、前記中心導体と前記接地導体との間に前記電圧を印加することにより前記光の位相を変調するための相互作用光導波路と、前記相互作用光導波路を伝搬した前記光を合波する合波光導波路と、前記合波光導波路から出力される信号光が入力される出力光導波路と、前記合波光導波路から出力される、前記信号光と位相が異なるモニタ光が入力されるモニタ光出力用光導波路とを含む光変調器と、
前記基板の側面から出射される前記モニタ光を受光するモニタフォトディテクタと、を具備しており、
前記モニタ光用出力光導波路は、前記出力光導波路が向かう基板側面とは異なる別の基板側面に向かって形成され、
前記別の基板側面における前記モニタ光が通過する領域に光学接着剤が塗布されてなり、当該別の基板側面から出射される前記モニタ光の屈折角度が抑制されることを特徴とするモニタフォトディテクタ付き光変調器。 - 前記光導波路がマッハツェンダ型光導波路であることを特徴とする請求項1に記載のモニタフォトディテクタ付き光変調器。
- 前記光導波路は、当該光導波路における光の導波方向と交わる方向に並列に構成された2個以上のマッハツェンダ型光導波路からなることを特徴とする請求項1に記載のモニタフォトディテクタ付き光変調器。
- 前記光学接着剤が、紫外線硬化型接着剤または熱硬化型接着剤であって、硬化時の屈折率が前記基板の屈折率よりも小さいことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のモニタフォトディテクタ付き光変調器。
- 前記モニタフォトディテクタを、前記基板に対して空間を介して具備していることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載のモニタフォトディテクタ付き光変調器。
- 前記光学接着剤の表面の少なくとも一部が凸形状であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載のモニタフォトディテクタ付き光変調器。
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