JP2013171270A - 防塵性アルミニウム反射ミラー及びその製造方法 - Google Patents
防塵性アルミニウム反射ミラー及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013171270A JP2013171270A JP2012036993A JP2012036993A JP2013171270A JP 2013171270 A JP2013171270 A JP 2013171270A JP 2012036993 A JP2012036993 A JP 2012036993A JP 2012036993 A JP2012036993 A JP 2012036993A JP 2013171270 A JP2013171270 A JP 2013171270A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aluminum
- dust
- reflecting mirror
- porous alumina
- alumina layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 139
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 139
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 239000000428 dust Substances 0.000 title abstract description 82
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 73
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims abstract description 48
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 36
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 6
- 238000007743 anodising Methods 0.000 claims description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 61
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 23
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 21
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 14
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 11
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 9
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 4
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 108010025899 gelatin film Proteins 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 description 1
- UGZADUVQMDAIAO-UHFFFAOYSA-L zinc hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Zn+2] UGZADUVQMDAIAO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940007718 zinc hydroxide Drugs 0.000 description 1
- 229910021511 zinc hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
【解決手段】アルミニウムからなる基材10と、アルミニウム基材10の反射面11上に形成された複数の細孔21を有するポーラスアルミナ層20とを有することを特徴とする防塵性アルミニウム反射ミラー。
【選択図】図1
Description
[1] アルミニウムからなる基材と、前記アルミニウム基材の反射面上に形成された複数の細孔を有するポーラスアルミナ層とを有することを特徴とする防塵性アルミニウム反射ミラー。
[2] 上記[1] に記載の防塵性アルミニウム反射ミラーであって、前記細孔の周期が使用する光の波長よりも小さいことを特徴とする防塵性アルミニウム反射ミラー。
[3] 上記[1] 又は[2] に記載の防塵性アルミニウム反射ミラーであって、前記細孔の周期が50〜300 nmであることを特徴とする防塵性アルミニウム反射ミラー。
[4] 上記[1]〜[3] のいずれかに記載の防塵性アルミニウム反射ミラーであって、前記反射面の三次元平均表面粗さが1〜100 nmであることを特徴とする防塵性アルミニウム反射ミラー。
[5] 上記[1]〜[4] のいずれかに記載の防塵性アルミニウム反射ミラーであって、前記ポーラスアルミナ層の膜厚が20〜200 nmであることを特徴とする防塵性アルミニウム反射ミラー。
[6] 上記[1]〜[5] に記載の防塵性アルミニウム反射ミラーを製造する方法において、アルミニウムからなる母材の表面を陽極酸化処理することにより、細孔構造を有する前記ポーラスアルミナ層を前記アルミニウム基材の反射面上に形成することを特徴とする防塵性アルミニウム反射ミラーの製造方法。
[7] 上記[6] に記載の防塵性アルミニウム反射ミラーの製造方法であって、アルミニウムからなる母材の表面を陽極酸化処理し、ポーラスアルミナ層を形成し、前記形成されたポーラスアルミナ層を剥離した後、前記アルミニウム母材の表面を再度陽極酸化処理することにより、細孔構造を有する前記ポーラスアルミナ層を前記アルミニウム基材の反射面上に形成することを特徴とする防塵性アルミニウム反射ミラーの製造方法。
[8] 上記[6] 又は[7] に記載の防塵性アルミニウム反射ミラーの製造方法であって、前記アルミニウム母材のアルミニウム純度が99%以上であることを特徴とする防塵性アルミニウム反射ミラーの製造方法。
[9] 上記[6]〜[8] のいずれかに記載の防塵性アルミニウム反射ミラーの製造方法であって、前記ポーラスアルミナ層の細孔の径を拡大する処理を行うことを特徴とする防塵性アルミニウム反射ミラーの製造方法。
本発明の一実施例による防塵性アルミニウム反射ミラー1は、図1に示すように、アルミニウムからなる基材10の反射面11にポーラスアルミナ層20が形成されている。ポーラスアルミナ層20は二次元周期で配置された複数のセル22と細孔21から構成される。ポーラスアルミナ層20の複数のセル22は、深さ方向に径がほぼ均一な円筒構造を有し、円筒状のセル22の内部空間が、深さ方向に径がほぼ均一な円柱状の細孔21を形成する。ポーラスアルミナ層は基材10の両面に設けても良い。
[AはHamaker定数(van der Waals 相互作用の大きさを表す量)であり、D1は塵埃粒子径であり、Zは塵埃粒子とポーラスアルミナ層20の表面との間の距離であり、kはポーラスアルミナ層20の弾性係数であり、bはポーラスアルミナ層20の三次元平均表面粗さSRaである。]により表すことができる。分子間力Fに影響を与えるパラメータの中で、特にSRaが支配的である。ポーラスアルミナ層20の表面の三次元平均表面粗さSRaを大きくすることにより、分子間力Fが低減し、塵埃粒子の付着力も低減させることができる。
[ただしε0は真空の誘電率8.85×10-12(F/m)であり、Vcは塵埃粒子とポーラスアルミナ層20との接触電位差であり、AはHamaker定数(van der Waals 相互作用の大きさを表す量)であり、kは下記式:k=k1 + k2(ただしk1及びk2は各々k1=(1−ν1 2)/E1及びk2=(1−ν2 2)/E2であり、ν1及びν2はポーラスアルミナ層20及び塵埃粒子のPoisson比であり、E1及びE2はそれぞれポーラスアルミナ層20及び塵埃粒子のYoung率である。)により表される係数であり、D1は塵埃粒子径であり、Z0はポーラスアルミナ層20と塵埃粒子との間の距離であり、bはポーラスアルミナ層20のSRaである。]により表され、化学的なポテンシャルの差により発生する。式(2) から明らかなように、b(ポーラスアルミナ層20のSRa)を大きくすることにより、接触帯電付着力F1も小さくできる。
(ただしXL〜XRは測定面のX座標の範囲であり、YB〜YTは測定面のY座標の範囲であり、S0は測定面がフラットであるとした場合の面積|XR−XL|×|YT−YB|であり、XはX座標であり、YはY座標であり、F(X,Y)は測定点(X,Y)における深さであり、Z0は測定面内の平均深さである。)により表される。
本発明の防塵性アルミニウム反射ミラー1の製造方法を、図3〜5を用いて以下詳細に説明する。
25 mm×25 mm×5mmのガラス(BK7)基板30の1面を反射面として研削・研磨により光学鏡面を形成した。基板30の光学鏡面に純度99.99%の高純度アルミニウムからなる基材10を真空蒸着により約200 nm成膜し、アルミニウム反射ミラーを作製した。得られたアルミニウム反射ミラーを17℃の0.3 Mシュウ酸電解質に浸漬し、陽極に電圧60Vを30秒間印加し、アルミニウム基材10の表面にポーラスアルミナ層20を形成した。ポーラスアルミナ層20を60℃の5wt%リン酸に40分浸漬して孔径拡大処理を行った。得られたアルミニウム反射ミラーを純水により洗浄した後乾燥させ、防塵性アルミニウム反射ミラー1(試料1)を作製した。
実施例1と同様の方法で、鏡面研磨したガラス(BK7)基板30の反射面に純度99.99%の高純度アルミニウムからなる基材10を真空蒸着により約500 nm成膜し、アルミニウム反射ミラーを作製した。得られたアルミニウム反射ミラーを17℃の0.3 Mシュウ酸電解質に浸漬し、陽極に電圧60Vを120秒間印加し、アルミニウム基材10の表面にポーラスアルミナ層を形成した。このアルミニウム反射ミラーを、1.8 wt%クロム酸と6 wt%リン酸の混酸に15分浸漬し、形成されたポーラスアルミナ層を溶解させ、再びアルミニウム基材10の反射面を露出させた。さらに、1回目の陽極酸化処理と同様に、17℃の0.3 Mシュウ酸電解質に浸漬し、陽極に電圧60Vを30秒間印加し、アルミニウム基材10の表面にポーラスアルミナ層20を形成した。実施例1と同様に、ポーラスアルミナ層20を60℃の5wt%リン酸に40分浸漬して孔径拡大処理を行った。得られたアルミニウム反射ミラーを純水により洗浄した後乾燥させ、防塵性アルミニウム反射ミラー1(試料2)を作製した。
実施例1と同様の方法で、鏡面研磨したガラス(BK7)基板30の反射面に純度99.99%の高純度アルミニウムからなる基材10を真空蒸着により約100 nm成膜し、比較例1のアルミニウム反射ミラー(試料3)を作製した。
比較例1のアルミニウム反射ミラーの反射面に、さらに真空蒸着により酸化シリコン(SiO)からなる保護膜を140 nm成膜し、比較例2のアルミニウム反射ミラー(試料4)を作製した。
実施例1及び2の防塵性アルミニウム反射ミラー1のポーラスアルミナ層20の表面のSEM写真をそれぞれ図6及び7に示す。実施例1及び2のいずいれも、孔径約100nmの細孔が約150nmの周期で二次元的に配置した凹凸構造を有しているのが確認された。さらに、実施例1と比べて実施例2のほうが細孔の周期が平均化され、また細孔間の壁の厚さが均等になっているのが確認された。
実施例1、実施例2、比較例1及び比較例2のアルミニウム反射ミラー(試料1〜4)の表面に同一条件で強制的にゴミを付与し、各試料1〜4に付着するゴミの数を調べることにより、ゴミの付着性を評価した。
実施例1、実施例2、比較例1及び比較例2のアルミニウム反射ミラーの分光反射率を図8に示す。実施例1、実施例2、比較例1及び比較例2の可視光領域(波長400 nm〜700 nm)における反射率の平均値を表3に示す。
各試料1〜4の反射面11の耐擦傷性を確認するため拭き取りテストを実施した。試料1〜4を大気中に1ヶ月間放置して反射面11にゴミを付着させた後、アセトンを含ませたシルボン紙を用いて反射面11を軽く拭き取ってゴミを除去した。ゴミ除去後の反射面11を観察し、傷の有無を確認した。試料3では、拭き取りにより細かい傷が多数発生しているのが確認された。保護膜を有する試料4では傷は確認されなかった。試料4と同様、実施例の試料1及び2においても、傷は確認されなかった、このことから、ポーラスアルミナ層20を有する実施例1及び2の防塵性アルミニウム反射ミラー1は、アルミニウム反射ミラーの表面に保護膜を設けるのと同様の十分な耐擦傷性を有することが確認された。
10・・・アルミニウム基材
11・・・反射面
20・・・ポーラスアルミナ層
21・・・細孔
30・・・基板
40・・・アルミニウム母材
41・・・反射面
Claims (9)
- アルミニウムからなる基材と、前記アルミニウム基材の反射面上に形成された複数の細孔を有するポーラスアルミナ層とを有することを特徴とする防塵性アルミニウム反射ミラー。
- 請求項1に記載の防塵性アルミニウム反射ミラーであって、前記細孔の周期が使用する光の波長よりも小さいことを特徴とする防塵性アルミニウム反射ミラー。
- 請求項1又は2に記載の防塵性アルミニウム反射ミラーであって、前記細孔の周期が50〜300 nmであることを特徴とする防塵性アルミニウム反射ミラー。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の防塵性アルミニウム反射ミラーであって、前記反射面の三次元平均表面粗さが1〜100 nmであることを特徴とする防塵性アルミニウム反射ミラー。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の防塵性アルミニウム反射ミラーであって、前記ポーラスアルミナ層の膜厚が20〜200 nmであることを特徴とする防塵性アルミニウム反射ミラー。
- 請求項1〜5に記載の防塵性アルミニウム反射ミラーを製造する方法において、アルミニウムからなる母材の表面を陽極酸化処理することにより、細孔構造を有する前記ポーラスアルミナ層を前記アルミニウム基材の反射面上に形成することを特徴とする防塵性アルミニウム反射ミラーの製造方法。
- 請求項6に記載の防塵性アルミニウム反射ミラーの製造方法であって、アルミニウムからなる母材の表面を陽極酸化処理し、ポーラスアルミナ層を形成し、前記形成されたポーラスアルミナ層を剥離した後、前記アルミニウム母材の表面を再度陽極酸化処理することにより、細孔構造を有する前記ポーラスアルミナ層を前記アルミニウム基材の反射面上に形成することを特徴とする防塵性アルミニウム反射ミラーの製造方法。
- 請求項6又は7に記載の防塵性アルミニウム反射ミラーの製造方法であって、前記アルミニウム母材のアルミニウム純度が99%以上であることを特徴とする防塵性アルミニウム反射ミラーの製造方法。
- 請求項6〜8のいずれかに記載の防塵性アルミニウム反射ミラーの製造方法であって、前記ポーラスアルミナ層の細孔の径を拡大する処理を行うことを特徴とする防塵性アルミニウム反射ミラーの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012036993A JP6064339B2 (ja) | 2012-02-23 | 2012-02-23 | 防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012036993A JP6064339B2 (ja) | 2012-02-23 | 2012-02-23 | 防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013171270A true JP2013171270A (ja) | 2013-09-02 |
JP6064339B2 JP6064339B2 (ja) | 2017-01-25 |
Family
ID=49265201
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012036993A Active JP6064339B2 (ja) | 2012-02-23 | 2012-02-23 | 防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6064339B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018221435A1 (ja) * | 2017-05-31 | 2018-12-06 | 東洋アルミニウム株式会社 | アルミニウム積層体およびその製造方法 |
KR20200028611A (ko) * | 2018-09-07 | 2020-03-17 | 강원대학교산학협력단 | 렌즈 어레이를 이용한 자외선 살균 장치 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09202649A (ja) * | 1996-01-24 | 1997-08-05 | Central Glass Co Ltd | 花弁状透明アルミナ膜及びその形成法 |
JP2002182016A (ja) * | 2000-12-12 | 2002-06-26 | Minolta Co Ltd | 拡散板及び表示装置の製造方法 |
JP2006250924A (ja) * | 2005-02-14 | 2006-09-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | ラマン分光用デバイス、及びラマン分光装置 |
JP2006318718A (ja) * | 2005-05-11 | 2006-11-24 | Mi Seiko:Kk | Led反射部材及びその製造方法 |
JP2008174764A (ja) * | 2007-01-16 | 2008-07-31 | Furukawa Sky Kk | 鏡面アルミニウム材 |
JP2008270158A (ja) * | 2007-03-27 | 2008-11-06 | Fujifilm Corp | 異方導電性部材およびその製造方法 |
WO2011135973A1 (ja) * | 2010-04-28 | 2011-11-03 | シャープ株式会社 | バックライトユニットおよび液晶表示装置 |
JP2011233395A (ja) * | 2010-04-28 | 2011-11-17 | Fujifilm Corp | バックライトユニットおよび液晶表示装置 |
-
2012
- 2012-02-23 JP JP2012036993A patent/JP6064339B2/ja active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09202649A (ja) * | 1996-01-24 | 1997-08-05 | Central Glass Co Ltd | 花弁状透明アルミナ膜及びその形成法 |
JP2002182016A (ja) * | 2000-12-12 | 2002-06-26 | Minolta Co Ltd | 拡散板及び表示装置の製造方法 |
JP2006250924A (ja) * | 2005-02-14 | 2006-09-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | ラマン分光用デバイス、及びラマン分光装置 |
JP2006318718A (ja) * | 2005-05-11 | 2006-11-24 | Mi Seiko:Kk | Led反射部材及びその製造方法 |
JP2008174764A (ja) * | 2007-01-16 | 2008-07-31 | Furukawa Sky Kk | 鏡面アルミニウム材 |
JP2008270158A (ja) * | 2007-03-27 | 2008-11-06 | Fujifilm Corp | 異方導電性部材およびその製造方法 |
WO2011135973A1 (ja) * | 2010-04-28 | 2011-11-03 | シャープ株式会社 | バックライトユニットおよび液晶表示装置 |
JP2011233395A (ja) * | 2010-04-28 | 2011-11-17 | Fujifilm Corp | バックライトユニットおよび液晶表示装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018221435A1 (ja) * | 2017-05-31 | 2018-12-06 | 東洋アルミニウム株式会社 | アルミニウム積層体およびその製造方法 |
JPWO2018221435A1 (ja) * | 2017-05-31 | 2020-04-09 | 東洋アルミニウム株式会社 | アルミニウム積層体およびその製造方法 |
JP7065087B2 (ja) | 2017-05-31 | 2022-05-11 | 東洋アルミニウム株式会社 | アルミニウム積層体およびその製造方法 |
KR20200028611A (ko) * | 2018-09-07 | 2020-03-17 | 강원대학교산학협력단 | 렌즈 어레이를 이용한 자외선 살균 장치 |
KR102108889B1 (ko) * | 2018-09-07 | 2020-05-11 | 강원대학교산학협력단 | 렌즈 어레이를 이용한 자외선 살균 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6064339B2 (ja) | 2017-01-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Li et al. | Efficiently texturing hierarchical superhydrophobic fluoride-free translucent films by AACVD with excellent durability and self-cleaning ability | |
Park et al. | Self-cleaning effect of highly water-repellent microshell structures for solar cell applications | |
JP5935931B2 (ja) | カバーガラス | |
Aytug et al. | Monolithic graded-refractive-index glass-based antireflective coatings: broadband/omnidirectional light harvesting and self-cleaning characteristics | |
JP6080349B2 (ja) | 光学部材および撮像装置 | |
JPWO2013183576A1 (ja) | 型基材、型基材の製造方法、型の製造方法および型 | |
JP6322294B2 (ja) | 型の製造方法および反射防止膜の製造方法 | |
Tsuge et al. | Fabrication of transparent TiO2 film with high adhesion by using self-assembly methods: Application to super-hydrophilic film | |
JP6064339B2 (ja) | 防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー及びその製造方法 | |
JP2016523788A (ja) | ガラス板の製造方法及びガラス板 | |
JP5027347B2 (ja) | 型および型の製造方法 | |
JP3688042B2 (ja) | 超撥水撥油防汚性膜及びその形成法 | |
Barshilia et al. | Wettability of ZnO: a comparison of reactively sputtered; thermally oxidized and vacuum annealed coatings | |
JP2012195411A (ja) | 基板支持治具 | |
JPWO2015159797A1 (ja) | 型、型の製造方法、反射防止膜および反射防止膜の製造方法 | |
CN113167928A (zh) | 电介质多层膜、其制造方法和使用其的光学构件 | |
JP7010294B2 (ja) | 積層体およびその製造方法 | |
JP6024119B2 (ja) | 防塵性及び低散乱性アルミニウム反射ミラー及びその製造方法、並びにそれを備えた光学機器 | |
Feng et al. | A highly transparent polymer coating on the glass with broadband antireflection, antifogging and antifouling properties | |
JPWO2015037513A1 (ja) | 撥水性ガラスおよびその製造方法、ならびにそれを用いた撥水性フィルム | |
JP5471125B2 (ja) | 無反射防塵構造を有する光学素子成形型、及び、無反射防塵構造を有する光学素子成形型の製造方法 | |
WO2011027872A1 (ja) | 無機構造物及びその製造方法、並びに無機薄膜の製造方法 | |
CA3132787A1 (en) | Optical transmission element, having a super-hydrophobic nanostructured surface having an anti-reflective property and covered with a conformal high-hardness thin film deposit | |
JP2011186401A (ja) | アルミニウム反射鏡及びアルミニウム反射鏡の製造方法 | |
JP5616191B2 (ja) | ナノ構造体作製用型体及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141225 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150812 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150818 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151019 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160405 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160425 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160913 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161101 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161122 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161205 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6064339 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |