JP2013169686A - パターン形成方法、パターン形成装置、テンプレート及びテンプレート検査方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】テンプレートの凹凸パターンの状態を的確に把握することができるパターン形成方法、パターン形成装置、テンプレート及びテンプレート検査方法を提供すること。
【解決手段】実施形態に係るパターン形成方法は、主面を有する基材と、基材の主面上に設けられ導電性パターンを有する凹凸パターンと、を含むテンプレートを用い、前記テンプレートの前記凹凸パターンを被転写物に押印して前記凹凸パターンの形状を前記被転写物に転写するパターン形成方法であって、前記導電性パターンを含む回路の電気的特性によって前記凹凸パターンの状態が異常か否かを判断する工程を備える。
【選択図】図1
【解決手段】実施形態に係るパターン形成方法は、主面を有する基材と、基材の主面上に設けられ導電性パターンを有する凹凸パターンと、を含むテンプレートを用い、前記テンプレートの前記凹凸パターンを被転写物に押印して前記凹凸パターンの形状を前記被転写物に転写するパターン形成方法であって、前記導電性パターンを含む回路の電気的特性によって前記凹凸パターンの状態が異常か否かを判断する工程を備える。
【選択図】図1
Description
本発明の実施形態は、パターン形成方法、パターン形成装置、テンプレート及びテンプレート検査方法に関する。
パターンの形成方法においては、形成するパターンの凹凸形状が設けられた原版(テンプレート)を用いたインプリントが注目されている。インプリントでは、基板上に例えば光硬化性の有機材料を塗布し、この有機材料の層にテンプレートを接触させて光照射によって硬化させる。これにより、有機材料の層にテンプレートの凹凸形状が転写されたパターンが形成される。
テンプレートを用いたパターンの形成方法では、テンプレートの凹凸パターンの状態を的確に把握することが重要である。
テンプレートを用いたパターンの形成方法では、テンプレートの凹凸パターンの状態を的確に把握することが重要である。
本発明の実施形態は、テンプレートの凹凸パターンの状態を的確に把握することができるパターン形成方法、パターン形成装置、テンプレート及びテンプレート検査方法を提供する。
実施形態に係るパターン形成方法は、基材の主面上に設けられ導電性パターンを有する凹凸パターンを含むテンプレートを用い、前記テンプレートの前記凹凸パターンを被転写物に押印して前記凹凸パターンの形状を前記被転写物に転写するパターン形成方法であって、前記導電性パターンを含む回路の電気的特性によって前記凹凸パターンの状態が異常か否かを判断する工程を備える。
以下、本発明の実施形態を図に基づき説明する。
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
また、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
また、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
(第1の実施形態)
図1は、第1の実施形態に係るパターン形成方法を例示するフローチャートである。
本実施形態に係るパターン形成方法は、凹凸形状(凹凸パターン)を有するテンプレートを用い、この凹凸パターンを被転写物に転写するインプリント法である。
本実施形態に係るパターン形成方法で用いられるテンプレートは、主面を有する基材と、基材の主面上に設けられ導電性パターンを有する凹凸パターンと、を備える。
図1は、このテンプレートを用いたパターンの形成方法を順に表している。
図1は、第1の実施形態に係るパターン形成方法を例示するフローチャートである。
本実施形態に係るパターン形成方法は、凹凸形状(凹凸パターン)を有するテンプレートを用い、この凹凸パターンを被転写物に転写するインプリント法である。
本実施形態に係るパターン形成方法で用いられるテンプレートは、主面を有する基材と、基材の主面上に設けられ導電性パターンを有する凹凸パターンと、を備える。
図1は、このテンプレートを用いたパターンの形成方法を順に表している。
先ず、ステップS101に表したように、基板の上に被転写物を塗布する。被転写物は、例えば感光性材料である。感光性材料には、光硬化性有機材料が用いられる。
次に、ステップS102に表したように、テンプレートを被転写物に接触させる。これにより、テンプレートの凹パターン内に被転写物が入り込む。
次に、ステップS103に表したように、テンプレートを被転写物に接触させた状態で、被転写物を硬化させる。本実施形態では光硬化性有機材料を用いているため、被転写物に光を照射して硬化させる。
次に、ステップS104に表したように、被転写物が硬化したのち、テンプレートを離型する。これにより、被転写物にテンプレートの凹凸パターンが転写される。
次に、ステップS105に表したように、テンプレートの凹凸パターンに含まれる導電性パターンを含む回路の電気的特性を計測し、凹凸パターンの状態が異常であるか否かを判断する。凹凸パターンの状態が異常でないと判断した場合には、同じテンプレートを用いて次のパターンの形成を行う(例えば、ステップS101〜ステップS104の処理を繰り返す。)。凹凸パターンの状態が異常であると判断した場合には、テンプレートの洗浄や、新たなテンプレートへの交換を行う。そして、テンプレートの洗浄や交換を行った後、次のパターンの形成を行う。
図2(a)〜図3(b)は、本実施形態に係るパターン形成方法の具体例を示す模式図である。
図2(a)〜(c)は、図1に表したステップS101〜ステップS104の処理を例示する模式的断面図である。図3(a)〜(b)は、図1に表したステップS105の処理を例示する模式図である。図3(a)は模式的断面図、(b)は模式的平面図を表している。
図2(a)〜(c)は、図1に表したステップS101〜ステップS104の処理を例示する模式的断面図である。図3(a)〜(b)は、図1に表したステップS105の処理を例示する模式図である。図3(a)は模式的断面図、(b)は模式的平面図を表している。
先ず、図2(a)に表したように、基板60の上に、被転写物70を設ける(図1のステップS101)。被転写物70としては、例えば、光硬化性有機材料が用いられる。被転写物70は、例えば、ノズルNからインクジェット法によって基板60の上に滴下される。なお、被転写物70は、スピンコート等によって一様に設けられてもよい。
次に、図2(b)に表したように、テンプレート110を用意する。本実施形態に係るパターン形成方法で用いられるテンプレート110は、基材10の主面10a上に設けられた凹凸パターン21を備える。凹凸パターン21には導電性パターン31が含まれる。また、基材10の主面10a上には導電性パターン31の一端と接続された第1引き出しパターン41と、導電性パターン31の他端と接続された第2引き出しパターン42と、が設けられる。
そして、このテンプレート110の凹凸パターン21を、被転写物70に接触させる(図1のステップS102)。被転写物70は、毛細管現象により、凹凸パターン21の凹パターン212の中に侵入し、凹パターン212内に充填される。
次に、テンプレート110の凹凸パターン21を被転写物70に接触させた状態で、テンプレート110の基材10側から光Cを照射する。光Cは、例えば、紫外線光である。光Cは、基材10及び凹凸パターン21を透過して、被転写物70に照射される。光硬化性有機材料による被転写物70は、光が照射されることで硬化する(図1のステップS103)。
次に、図2(c)に表したように、テンプレート110を、被転写物70から離型する(図1のステップS104)。これにより、被転写物70にはテンプレート110の凹凸パターン21の凹凸形状が転写された転写パターン70aが形成される。
なお、テンプレート110を被転写物70に接触させる際、凹凸パターン21の凸パターン211と、基板60の表面と、が完全に接触しない場合もある。この時、凸パターン211と、基板60の表面と、の間に被転写物70が介在し、テンプレート110を離型したあと、転写パターン70aの凹部の底に残ることになる。
また、さらに、転写パターン70aをマスクとして基板60を加工する場合には、例えば異方性のRIE(Reactive Ion Etching)などよって基板60をエッチングする。エッチング後は、転写パターン70aを除去する。これにより、基板60に転写パターン70aに対応したパターンが形成される。
インプリントにおいては、図2(a)〜(c)で表した各工程を繰り返し行うことで、テンプレート110の凹凸パターン21を被転写物70に転写する。これにより、同じパターンが繰り返し形成される。
次に、図3(a)及び(b)に表したように、テンプレート110の導電性パターン31を含む回路の電気的特性の計測を行う。本実施形態で用いたテンプレート110の凹凸パターン21には導電性パターン31が含まれている。例えば、凹凸パターン21の凸パターン211が導電性材料で形成され、導電性パターン31になっている。導電性パターン31の一端には第1引き出しパターン41が設けられ、導電性パターン31の他端には第2引き出しパターン42が設けられている。
例えば、図3(b)に表したように、導電性パターン31は、基材10の主面10a上に設けられた複数本の導電部310を有する。各導電部310は、例えばライン状に設けられる。各導電部310には、一端に第1引き出しパターン41が設けられ、他端に第2引き出しパターン42が設けられる。各導電部310は、第1引き出しパターン41及び第2引き出しパターン42を介して電気的に並列接続される。各導電部310はそれぞれ抵抗値を持つため、各導電部310の並列接続によって各導電部310による抵抗器を並列に接続した回路が構成される。また、各導電部310による並列接続の合成抵抗器と並列して抵抗Rが接続される。この抵抗Rの両端には計測部520が接続される。抵抗Rの両端の電位差に基づき導電性パターン31を含む回路の電気的な抵抗値(各導電部310の合成抵抗値)を計測する。
図4は、導電性パターンを含む回路の抵抗値の変化を例示する図である。
図4の横軸は時間、縦軸は相対的な抵抗値を示している。テンプレート110を用いたインプリントを繰り返し行うと、凹凸パターン21に被転写物70が付着したり、凹凸パターン21の欠損など、劣化が生じる。このような劣化は、凹凸パターン21に含まれる導電性パターン31を含む回路の電気的特性の変化として現れる。
図4の横軸は時間、縦軸は相対的な抵抗値を示している。テンプレート110を用いたインプリントを繰り返し行うと、凹凸パターン21に被転写物70が付着したり、凹凸パターン21の欠損など、劣化が生じる。このような劣化は、凹凸パターン21に含まれる導電性パターン31を含む回路の電気的特性の変化として現れる。
例えば、被転写物70に導電性材料を用いると、凹凸パターン21に被転写物70が付着することで、複数の導電部310による合成抵抗値が顕著に変化する。複数の導電部310が並列接続されている場合には、被転写物70の付着によって複数の導電部310による合成抵抗値が低下する。本実施形態では、導電部310によって構成される回路の電気的特性(例えば、抵抗値)の変化を、導電性パターン31を含む回路の電気的特性(例えば、抵抗値)の変化という。
図4では、一例として、凹凸パターン21に被転写物70が付着していく場合の抵抗値の時間変化について例示している。図4に表したように、被転写物70の付着の状態によって、導電性パターン31を含む回路の抵抗値が変化することが分かる。また、時間の経過とともに徐々に導電性パターン31を含む回路の抵抗値が低下している。
本実施形態では、予め導電性パターン31を含む回路の抵抗値の閾値Rthを設定しておき、導電性パターン31を含む回路の抵抗値がこの閾値Rthを超えた段階でテンプレート110の凹凸パターン21の状態が異常であると判断する。図4に表した例では、時間t1の段階で抵抗値が閾値Rthを超えている。テンプレート110の凹凸パターン21の状態が異常であると判断された場合には、テンプレート110の洗浄や、新たなテンプレートへの交換を行うようにする。
なお、本願明細書において、「閾値を超え」るとは、電気抵抗などの特性値が閾値よりも大きくなる場合のみならず、閾値よりも小さくなる場合も含む。つまり、初期状態(あるいは正常な状態)における特性値が閾値よりも小さい場合には、特性値が閾値よりも大きくなったとき、閾値を超えることとなる。一方で、初期状態における特性値が閾値よりも大きい場合には、特性値が閾値よりも小さくなったとき、閾値を超えることとなる。
なお、本願明細書において、「閾値を超え」るとは、電気抵抗などの特性値が閾値よりも大きくなる場合のみならず、閾値よりも小さくなる場合も含む。つまり、初期状態(あるいは正常な状態)における特性値が閾値よりも小さい場合には、特性値が閾値よりも大きくなったとき、閾値を超えることとなる。一方で、初期状態における特性値が閾値よりも大きい場合には、特性値が閾値よりも小さくなったとき、閾値を超えることとなる。
なお、上記に例示したパターン形成方法では、テンプレート110の導電性パターン31を含む回路の電気的特性(例えば、抵抗値)の計測及び判断(図1のステップS105)を、インプリントによるパターン形成を行った後(図1のステップS101〜ステップS104の後)に実行していが、この計測及び判断は、インプリントによるパターン形成を行う前(図1のステップS101の前)に行っても、また、インプリントによるパターン形成を行っている間(図1のステップS101〜ステップS104の間)、連続的に行うようにしてもよい。
次に、具体的なテンプレートの状態について説明する。
図5(a)及び(b)は、凹凸パターンを有するテンプレートへの被転写物の詰まりの状態を例示する模式図である。
図5(a)は模式的平面図、(b)は模式的断面図である。
図5(a)及び(b)に表したテンプレート110は、図3(a)及び(b)に表したテンプレート110と同じである。
図5(a)及び(b)は、凹凸パターンを有するテンプレートへの被転写物の詰まりの状態を例示する模式図である。
図5(a)は模式的平面図、(b)は模式的断面図である。
図5(a)及び(b)に表したテンプレート110は、図3(a)及び(b)に表したテンプレート110と同じである。
このテンプレート110を用いてインプリントによるパターン形成を繰り返していくと、凹凸パターン21の凹パターン212内に被転写物70が詰まることがある。被転写物70に導電性材料が含まれている場合、凹パターン212内に詰まる被転写物70の長さが長いほど、導電性パターン31を含む回路の抵抗値が減少する。導電性パターン31を含む回路の抵抗値は、計測部520によって計測される。導電性パターン31を含む回路の抵抗値が、予め設定した閾値以下(あるいは閾値未満)になった段階でテンプレート110の凹凸パターン21の状態が異常であると判断される。
図6(a)及び(b)は、ホールパターンを有するテンプレートへの被転写物の詰まりの状態を例示する模式図である。
図6(a)は模式的平面図、(b)は模式的断面図である。
図6(a)及び(b)に表したテンプレート114には、複数のホールパターン213が設けられている。一方、導電性パターン31は平行に配置された複数の導電部310を有する。複数の導電部310は、基材10の主面10a側に埋め込まれている。導電部310の露出面は、基材10の主面10aと同一平面上に設けられている。導電部310は、複数のホールパターン213を直線上につなぐように配置される。すなわち、1本の導電部310には複数のホールパターン213が配置される。複数の導電部310は電気的に並列接続される。
図6(a)は模式的平面図、(b)は模式的断面図である。
図6(a)及び(b)に表したテンプレート114には、複数のホールパターン213が設けられている。一方、導電性パターン31は平行に配置された複数の導電部310を有する。複数の導電部310は、基材10の主面10a側に埋め込まれている。導電部310の露出面は、基材10の主面10aと同一平面上に設けられている。導電部310は、複数のホールパターン213を直線上につなぐように配置される。すなわち、1本の導電部310には複数のホールパターン213が配置される。複数の導電部310は電気的に並列接続される。
このテンプレート114を用いてインプリントによるパターン形成を繰り返していくと、ホールパターン213内に被転写物70が詰まることがある。被転写物70に導電性材料が含まれている場合、ホールパターン213内に被転写物70が詰まることで、導電性パターン31を含む回路の抵抗値が減少する。導電性パターン31を含む回路の抵抗値は、計測部520によって計測される。導電性パターン31を含む回路の抵抗値が、予め設定した閾値以下(あるいは閾値未満)になった段階でテンプレート114の状態が異常であると判断される。
図7(a)及び(b)は、凹凸パターンの欠損の状態を例示する模式図である。
図7(a)は模式的平面図、(b)は模式的断面図である。
図7(a)及び(b)に表したテンプレート110は、図5(a)及び(b)に表したテンプレート110と同じである。
図7(a)は模式的平面図、(b)は模式的断面図である。
図7(a)及び(b)に表したテンプレート110は、図5(a)及び(b)に表したテンプレート110と同じである。
このテンプレート110を用いてインプリントによるパターン形成を繰り返していくと、凸パターン211に欠損CPが生じることがある。凸パターン211に欠損CPが生じると、導電性パターン31を含む回路の抵抗値が増加する。導電性パターン31を含む回路の抵抗値は、計測部520によって計測される。導電性パターン31を含む回路の抵抗値が、予め設定した閾値以上になった段階でテンプレート110の凹凸パターン21の状態が異常であると判断される。
第1の実施形態に係るパターン形成方法によれば、テンプレート110の凹凸パターン21の状態を、凹凸パターン21に含まれる導電性パターン31を含む回路の電気的特性によって的確に把握することができるようになる。
(第2の実施形態)
次に、第2の実施形態に係るテンプレートについて説明する。
図8(a)〜(e)は、第2の実施形態に係るテンプレートの例について示す模式的断面図である。
図8(a)に表したテンプレート110は、図3(a)及び(b)に表したテンプレート110と同じである。すなわち、テンプレート110は、基材10と、基材10の主面10a上に設けられた凹凸パターン21と、を備える。凹凸パターン21の凸パターン211は導電性材料を含む。これにより、凸パターン211が導電性パターン31の導電部310になる。また、基材10の主面10a上には第1引き出しパターン41及び第2引き出しパターン42が設けられる。第1引き出しパターン41は導電性パターン31の一端に接続され、第2引き出しパターン42は導電性パターン31の他端に接続される。
次に、第2の実施形態に係るテンプレートについて説明する。
図8(a)〜(e)は、第2の実施形態に係るテンプレートの例について示す模式的断面図である。
図8(a)に表したテンプレート110は、図3(a)及び(b)に表したテンプレート110と同じである。すなわち、テンプレート110は、基材10と、基材10の主面10a上に設けられた凹凸パターン21と、を備える。凹凸パターン21の凸パターン211は導電性材料を含む。これにより、凸パターン211が導電性パターン31の導電部310になる。また、基材10の主面10a上には第1引き出しパターン41及び第2引き出しパターン42が設けられる。第1引き出しパターン41は導電性パターン31の一端に接続され、第2引き出しパターン42は導電性パターン31の他端に接続される。
導電性パターン31の材料としては、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)、インジウム酸化物、ルテニウム酸化物の少なくともいずれかを用いる。これらの材料によって、導電性パターン31は透光性を備えることになる。
図8(a)に表したテンプレート110では、凸パターン211が導電部310であるため、凸パターン211の形成と同時に導電部310、すなわち導電性パターン31を設けることができ、製造工程の簡素化が達成される。
図8(b)に表したテンプレート111は、基材10と、基材10の主面10a上に設けられた凹凸パターン21と、を備える。凹凸パターン21における凸パターン211の表面には、導電性パターン31が設けられている。すなわち、導電性パターン31の導電部310は、凸パターン211の表面を覆うように設けられている。導電性パターン31の材料は、図8(a)に表したテンプレート110と同様である。また、基材10の主面10a上には第1引き出しパターン41及び第2引き出しパターン42が設けられる。第1引き出しパターン41は導電性パターン31の一端に接続され、第2引き出しパターン42は導電性パターン31の他端に接続される。
図8(b)に表したテンプレート111では、凸パターン211の表面に導電性パターン31の導電部310が設けられているため、凸パターン211及び導電性パターン31のそれぞれについて最適材料を選択することができる。
図8(c)に表したテンプレート112は、基材10と、基材10の主面10a上に設けられた凹凸パターン21と、を備える。凹凸パターン21における凸パターン211の上面(凸パターン211の基材10と反対側の面)には、導電性パターン31の導電部310が設けられている。導電性パターン31の材料は、図8(a)に表したテンプレート110と同様である。また、基材10の主面10a上には第1引き出しパターン41及び第2引き出しパターン42が設けられる。第1引き出しパターン41は導電性パターン31の一端に接続され、第2引き出しパターン42は導電性パターン31の他端に接続される。
図8(c)に表したテンプレート112では、凸パターン211の上面に導電性パターン31の導電部310が設けられているため、微細な凸パターン211であっても導電性パターン31を設けることができる。
図8(d)に表したテンプレート113は、基材10と、基材10の主面10a上に設けられた凹凸パターン21と、を備える。凹凸パターン21における凸パターン211の側面には、導電性パターン31の導電部310が設けられている。すなわち、1つの凸パターン211について、対向する2つの側面にそれぞれ導電部310が設けられる。導電性パターン31の材料は、図8(a)に表したテンプレート110と同様である。また、基材10の主面10a上には第1引き出しパターン41及び第2引き出しパターン42が設けられる。第1引き出しパターン41は導電性パターン31の一端に接続され、第2引き出しパターン42は導電性パターン31の他端に接続される。
図8(d)に表したテンプレートでは、1つの凸パターン211について、対向する2つの側面にそれぞれ導電部310が設けられるため、1つの凸パターン211について1つの導電部310が設けられる場合に比べて隣接する導電部310の間隔が狭くなる。これによって、より細かい領域で被転写物70の付着による導電性パターン31を含む回路の電気的特性の変化を検出できる。
図8(e)に表したテンプレート114は、図6(a)及び(b)に表したテンプレート114と同じである。すなわち、テンプレート114は、基材10と、基材10の主面10a上に設けられたホールパターン213と、を備える。また、テンプレート114は、基材10の主面10a側に埋め込まれた導電性パターン31を備える。ホールパターン213は、導電性パターン31の導電部310と重なるように設けられる。これにより、ホールパターン213の周りに導電部310が設けられる。導電性パターン31の材料は、図8(a)に表したテンプレート110と同様である。
図8(e)に表したテンプレート114では、導電性パターン31の導電部310に重なるようにホールパターン213が設けられているため、ホールパターン213内に被転写物70が埋め込まれた場合の導電性パターン31を含む回路の電気的特性の変化を検出することができるようになる。
図9(a)及び(b)は、他のテンプレートを例示する模式図である。
図9(a)は模式的平面図、(b)は模式的断面図である。
このテンプレート120は、基材10と、基材10の主面10a上に設けられた凹凸パターン21と、を備える。また、凹凸パターン21は、導電性パターン31を有する。導電性パターン31は、基材10の主面10a側に埋め込まれた第1導電部310Aと、基材10の主面10a上に設けられ第1導電部310Aと接触する第2導電部310Bと、を含む。第2導電部310Bは、形成対象となるパターンの形状と反転した凹凸パターン21を有する。第2導電部310Bの抵抗値は、第1導電部310Aの抵抗値よりも低い。第2導電部310Bは、第1導電部310Aと電気的に並列接続される。
図9(a)は模式的平面図、(b)は模式的断面図である。
このテンプレート120は、基材10と、基材10の主面10a上に設けられた凹凸パターン21と、を備える。また、凹凸パターン21は、導電性パターン31を有する。導電性パターン31は、基材10の主面10a側に埋め込まれた第1導電部310Aと、基材10の主面10a上に設けられ第1導電部310Aと接触する第2導電部310Bと、を含む。第2導電部310Bは、形成対象となるパターンの形状と反転した凹凸パターン21を有する。第2導電部310Bの抵抗値は、第1導電部310Aの抵抗値よりも低い。第2導電部310Bは、第1導電部310Aと電気的に並列接続される。
図9(a)及び(b)に表したテンプレート120では、第2導電部310Bのパターンが破損すると、導電性パターン31を含む回路の抵抗値が増加する。一方、第2導電部310Bのパターンに被転写物70が詰まると、導電性パターン31を含む回路の抵抗値が低下する。
このテンプレート120においては、導電性パターン31が、20nm〜50nmといった微細なパターン幅のサイズであるのに対し、凹凸パターン21は、μmレベルの大きなサイズのパターン幅でもよい。凹凸パターン21のパターン幅が広いことで、テンプレート120の製造コストが削減される。また、検査の際に測定ポイント数が少ないため、導電性パターン31を含む回路の抵抗値を測定するための構成(例えば、電圧印加装置、ドライバ、抵抗測定器)の装置コストの削減と、測定時間が短縮されるといった利点がある。
図8(a)〜図9(b)に表したいずれのテンプレート110、111、112、113、114及び120でも、導電性パターン31を含む回路の電気的特性の一つである抵抗値の変化によって、テンプレートの凹凸パターン21の状態が異常であるか否かを判断することができる。抵抗値が予め定めた閾値を超えた場合には、凹凸パターン21の状態が異常であると判断し、テンプレート110、111、112、113、114及び120の洗浄や、新たなテンプレート110、111、112、113、114及び120への交換を行うことになる。
図10は、他の導電性パターンの構成を示す模式的平面図である。
図10に表したテンプレート130において、導電性パターン31は、第1パターン部31Aと、第2パターン部31Bと、を有する。第2パターン部31Bは、第1パターン部31Aと離間し対向して設けられる。導電性パターン31の材料は、図8(a)に表したテンプレート110と同様である。
図10に表したテンプレート130において、導電性パターン31は、第1パターン部31Aと、第2パターン部31Bと、を有する。第2パターン部31Bは、第1パターン部31Aと離間し対向して設けられる。導電性パターン31の材料は、図8(a)に表したテンプレート110と同様である。
第1パターン部31Aは、例えば複数の第1対向部311を有し、第2パターン部31Bは、例えば複数の第2対向部312を有する。複数の第1対向部311のそれぞれは、複数の第2対向部312それぞれと、交互に配置される。これら複数の第1対向部311と、複数の第2対向部312と、が互いに離間し対向することによって、所定の容量が構成される。導電性パターン31を含む回路には、計測部520が接続される。計測部520は、導電性パターン31によって構成される回路の容量を計測する。
このテンプレート130において、導電性パターン31の第1パターン部31Aと、第2パターン部31Bと、のあいだに被転写物70が付着すると、第1パターン部31Aと、第2パターン部31Bと、のあいだの誘電率が変化する。この誘電率の変化によって、導電性パターン31によって構成される容量の値に変化が生じる。したがって、計測部520により、導電性パターン31によって構成される回路の容量の値を計測し、予め定めた閾値と比較することで、テンプレート130の凹凸パターン21の状態が異常であるか否かを判断することができる。
なお、凹凸パターン21に欠損が生じた場合も、第1パターン部31Aと、第2パターン部31Bと、のあいだの誘電率が変化する。したがって、被転写物70が付着した場合と同様に、計測部520により、導電性パターン31によって構成される回路の容量の値を計測し、予め定めた閾値と比較することで、テンプレート130の凹凸パターン21の状態が異常であるか否かを判断することができる。
図11は、複数の導電部の他の構成例を示す模式的平面図である。
図11に表したテンプレート140は、基材10と、基材10の主面10aに設けられた凹凸パターン21と、を備える。凹凸パターン21には導電性パターン31が含まれる。導電性パターン31の材料は、図8(a)に表したテンプレート110と同様である。このテンプレート140において、導電性パターン31は平行に配置された複数の導電部310を有する。複数の導電部310は、互いに電気的に独立している。
図11に表したテンプレート140は、基材10と、基材10の主面10aに設けられた凹凸パターン21と、を備える。凹凸パターン21には導電性パターン31が含まれる。導電性パターン31の材料は、図8(a)に表したテンプレート110と同様である。このテンプレート140において、導電性パターン31は平行に配置された複数の導電部310を有する。複数の導電部310は、互いに電気的に独立している。
複数の導電部310のそれぞれの一端は、選択部580に入力される。一方、複数の導電部310のそれぞれの他端は、共通に接続されて計測部520に入力される。選択部580は、複数の導電部310の少なくとも1つを選択する部分である。選択部580は、例えば複数の導電部310のうちの1つを一定の時間ごとに順次切り替えて選択する。選択部580は、複数の導電部310のうち2つ以上を同時に選択してもよい。2つ以上の導電部310を選択した場合には、これらの導電部310が電気的に並列に接続される。
計測部520は、選択部580による導電部310の選択のタイミングに合わせて抵抗値を計測する。計測部520は選択された少なくとも1つの導電部310の抵抗値(または、合成抵抗値)を計測する。これにより、一定の時間ごとに選択された導電部310の抵抗値が順次計測される。したがって、選択部580による導電部310の選択のタイミングと、計測した抵抗値の変化と、によって、どの凹凸パターンのどの位置に被転写物70が付着したのか、または凹凸パターン21のどの位置に欠損が発生したのかを判断することができる。
なお、上記説明したテンプレート110、111、112、113、114、120、130及び140については、基材10の主面10a側に第1引き出しパターン41及び第2引き出しパターン42が形成されたテンプレート用基板を用いて製造される。第1引き出しパターン41及び第2引き出しパターン42は、基材10の主面10a側に埋め込まれていても、主面10a上に設けられていてもよい。
また、テンプレート114においては、基材10の主面10a側に導電部310が埋め込まれたテンプレート用基板を用いて製造される。また、テンプレート120においては、基材10の主面10a側に第1導電部310Aが埋め込まれたテンプレート用基板を用いて製造される。
また、上記説明したテンプレート110、111、112、113、114、120、130及び140は、製造時のテンプレート検査方法に適用される。すなわち、導電性パターン31を含む回路の電気的特性を測定することで、テンプレート110、111、112、113、114、120、130及び140を製造した際のパターン(導電性パターン31及び凹凸パターン21の少なくともいずれか)の良否の判断を行う。例えば、パターンが設計通りに形成された場合の導電性パターン31を含む回路の電気的特性を予め計算または測定して基準値を設定する。そして、製造後のテンプレート110、111、112、113、114、120、130及び140について導電性パターン31を含む回路の電気的特性を測定する。この測定値と基準値とを比較することで、製造したテンプレート110、111、112、113、114、120、130及び140の良否の判断が行われる。
(第3の実施形態)
図12は、第3の実施形態に係るパターン形成装置を例示する模式図である。
図12に表したように、パターン形成装置500は、制御部510と、計測部520と、判断部530と、を備える。実施形態に係るパターン形成装置500では、光照射部540、保持部550及びステージ560を備える。また、パターン形成装置500は、テンプレートの交換部570を備えていてもよい。
図12は、第3の実施形態に係るパターン形成装置を例示する模式図である。
図12に表したように、パターン形成装置500は、制御部510と、計測部520と、判断部530と、を備える。実施形態に係るパターン形成装置500では、光照射部540、保持部550及びステージ560を備える。また、パターン形成装置500は、テンプレートの交換部570を備えていてもよい。
保持部550には、テンプレート110Aが保持されているものとする。また、交換部570は、複数のテンプレート110B、110C、…、110Nを順次交換する機構を有する。
制御部510は、テンプレート110Aの導電性パターン31に所定の電圧を印加する制御を行う。また、制御部510は、各部(例えば、計測部520、判断部530、光照射部540、保持部550、ステージ560及び交換部570)を制御する。
計測部520は、テンプレート110Aの導電性パターン31を含む回路の電気的特性を計測する。計測部520は、例えば導電性パターン31を含む回路の抵抗値を計測する。
判断部530は、計測部520で計測した電気的特性によって凹凸パターン21の状態が異常であるか否かを判断する。例えば、計測部520で計測した電気的特性として導電性パターン31を含む回路の抵抗値を計測した場合、判断部530は、その計測した抵抗値が予め設定された閾値を超えた場合に凹凸パターン21の状態が異常であると判断する。
このパターン形成装置500によってパターンを形成するには、先ず、保持部550にテンプレート110Aを装着する。また、ステージ560に基板60を載置する。次に、図示しないノズルから基板60上に被転写物70を吐出する。次に、例えばステージ560を上昇して、保持部550に保持されたテンプレート110Aの凹凸パターン21を、基板60上の被転写物70に接触させる。
次に、この状態で光照射部540から光を照射する。光は、保持部550及びテンプレート110Aを透過して基板60上の被転写物70にまで到達する。この光によって被転写物70が硬化する。被転写物70が硬化した後、例えばステージ560を下降して、テンプレート110Aを被転写物70から離型する。これにより、被転写物70に転写パターン70aが形成される。
次に、制御部510からテンプレート110Aに電圧を印加する。そして、印加された電圧に基づきテンプレート110Aの導電性パターン31を含む回路の抵抗値を計測部520で計測する。計測部520で計測した抵抗値は判断部530に送られる。判断部530は、計測部520から送られた抵抗値と、予め設定された閾値と、の比較を行う。判断部530は、この比較の結果、導電性パターン31を含む回路の抵抗値が予め設定された閾値を超えているか否かを判断する。判断部530は、判断の結果を制御部510に送る。
制御部510は、判断部530から送られた判断の結果を参照し、導電性パターン31を含む回路の抵抗値が予め設定された閾値を超えていない場合には、テンプレート110Aを交換することなく、次の基板60をステージ560に載置する制御を行う。そして、先と同様な手順によって、次の基板60に対して、テンプレート110Aを用いたパターンの形成を行う。
一方、制御部510は、判断部から送られた判断の結果を参照し、導電性パターン31を含む回路の抵抗値が予め設定された閾値を超えている場合には、交換部570に交換指示を与える。交換部570は、制御部510の指示に応じてテンプレート110Aを新たなテンプレート110Bに交換する処理を行う。新たなテンプレート110Bが保持部550に保持されたあとは、次の基板60をステージ560に載置し、先と同様な手順によって次の基板60に対して、テンプレート110Bを用いたパターンの形成を行う。
このように、パターン形成装置500は、テンプレート110Aの導電性パターン31を含む回路の抵抗値によってテンプレート110Aの凹凸パターン21の状態が異常であるか否かを判断し、異常でない場合には同じテンプレート110Aを繰り返し使用し、異常である場合には交換部570によって新たなテンプレート110Bに交換する。これにより、異常のないテンプレート110Bを用いて高精度にパターン形成を行うことができる。
なお、上記のパターン形成装置500では、計測部520によって導電性パターン31を含む回路の抵抗値を計測したが、導電性パターン31を含む回路の容量を計測してもよい。容量を計測する場合には、例えば図10に表したテンプレート130を用いるようにすればよい。
また、実施形態に係るパターン形成装置500の各部(制御部510、計測部520、判断部530、光照射部540、保持部550、ステージ560及び交換部570)は、必ずしも1つの装置内に設けられていなくてもよい。すなわち、パターン形成装置500を構成する各部の少なくとも1つの部分が離れた位置に設けられていたり、少なくとも1つの部分がネットワークを介して他の部分と接続されている構成であってもよい。
以上説明したように、実施形態に係るパターン形成方法、パターン形成装置、テンプレート及びテンプレート検査方法によれば、テンプレートの凹凸パターンの状態を的確に把握することができる。
なお、上記に本実施形態を説明したが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。例えば、被転写物として光硬化性有機材料を用いる例を説明したが、被転写物として熱硬化性有機材料を用いてもよい。この場合、被転写物を所定の温度に加熱して硬化させる。また、上記の実施形態では、複数の導電部を電気的に並列に接続する例を説明したが、複数の導電部を電気的に直列に接続してもよい。また、導電性パターンは、必ずしも凸パターンに沿って設けられていなくてもよい。例えば、導電性パターンを凸パターンの延在する方向と非平行に設けてもよい。また、凸パターンは柱状であってもよい。
また、前述の各実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除、設計変更を行ったものや、各実施の形態の特徴を適宜組み合わせたものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含有される。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
10…基材、10a…主面、21…凹凸パターン、31…導電性パターン、31A…第1パターン部、31B…第2パターン部、41…第1引き出しパターン、42…第2引き出しパターン、60…基板、70…被転写物、70a…転写パターン、110,111,112,113,114,120,130,140…テンプレート、211…凸パターン、212…凹パターン、213…ホールパターン、310…導電部、310A…第1導電部、310B…第2導電部、311…第1対向部、312…第2対向部、500…パターン形成装置、510…制御部、520…計測部、530…判断部、540…光照射部、550…保持部、560…ステージ、570…交換部、580…選択部、C…光、N…ノズル、R…抵抗、Rth…閾値
Claims (16)
- 主面を有する基材と、前記基材の前記主面上に設けられ導電性パターンを有する凹凸パターンと、を含むテンプレートを用い、前記テンプレートの前記凹凸パターンを、導電性材料を含む被転写物に押印して前記凹凸パターンの形状を前記被転写物に転写するパターン形成方法であって、
前記導電性パターンを含む回路の抵抗値を測定し、前記抵抗値が予め設定された閾値を超えた場合に前記凹凸パターンの状態が異常であると判断する工程を備えたパターン形成方法。 - 主面を有する基材と、前記基材の前記主面上に設けられ導電性パターンを有する凹凸パターンと、を含むテンプレートを用い、前記テンプレートの前記凹凸パターンを被転写物に押印して前記凹凸パターンの形状を前記被転写物に転写するパターン形成方法であって、
前記導電性パターンを含む回路の電気的特性によって前記凹凸パターンの状態が異常か否かを判断する工程を備えたパターン形成方法。 - 前記凹凸パターンの状態を判断する工程は、前記導電性パターンを含む回路の抵抗値を計測し、前記抵抗値が予め設定された閾値を超えた場合に前記凹凸パターンの状態が異常であると判断することを含む請求項2記載のパターン形成方法。
- 前記凹凸パターンの状態を判断する工程は、前記導電性パターンを含む回路の静電容量を計測し、前記静電容量が予め設定された閾値を超えた場合に前記凹凸パターンの状態が異常であると判断することを含む請求項2記載のパターン形成方法。
- 前記被転写物は、導電性材料を含む請求項2〜4のいずれか1つに記載のパターン形成方法。
- 主面を有する基材と、前記基材の前記主面上に設けられ導電性パターンを有する凹凸パターンと、を含むテンプレートを用い、前記テンプレートの前記凹凸パターンを被転写物に押印して前記凹凸パターンの形状を前記被転写物に転写するパターン形成装置であって、
前記導電性パターンを含む回路に電圧を印加する制御部と、
前記電圧による前記回路の電気的特性を計測する計測部と、
前記計測部で計測した前記電気的特性によって前記凹凸パターンの状態が異常か否かを判断する判断部と、
を備えたパターン形成装置。 - 前記計測部は、前記回路の抵抗値を計測し、
前記判断部は、前記計測部で計測した前記抵抗値が予め設定された閾値を超えた場合に前記凹凸パターンの状態が異常であると判断する請求項6記載のパターン形成装置。 - 前記計測部は、前記回路の静電容量を計測し、
前記判断部は、前記計測部で計測した前記静電容量が予め設定された閾値を超えた場合に前記凹凸パターンの状態が異常であると判断する請求項6記載のパターン形成装置。 - 前記判断部により前記凹凸パターンの状態が異常であると判断した場合、前記テンプレートを別なテンプレートに交換する交換部をさらに備えた請求項6〜8のいずれか1つに記載のパターン形成装置。
- 主面を有する基材と、
前記基材の前記主面上に設けられ導電性パターンを有する凹凸パターンと、
前記基材の前記主面上に設けられ、前記導電性パターンの一端に接続された第1引き出しパターンと、
前記基材の前記主面上に設けられ、前記導電性パターンの他端に接続された第2引き出しパターンと、
を備えたテンプレート。 - 前記導電性パターンは、前記凹凸パターンの凸パターンに設けられた請求項10記載のテンプレート。
- 前記導電性パターンは、前記凹凸パターンの凸パターンの延在する方向に沿って設けられた請求項10記載のテンプレート。
- 前記導電性パターンは、第1パターン部と、前記第1パターン部と離間し対向して設けられた第2パターン部と、を含む請求項10〜12のいずれか1つに記載のテンプレート。
- 前記導電性パターンは、複数の導電部を含み、前記複数の導電部は互いに電気的に独立している請求項10〜13のいずれか1つに記載のテンプレート。
- 前記導電性パターンは、ITO(Indium Tin Oxide)、インジウム酸化物、ルテニウム酸化物の少なくともいずれかを含む請求項10〜14のいずれか1つに記載のテンプレート。
- 請求項10〜15のいずれか1つに記載のテンプレートの前記導電性パターンを含む回路の電気的特性によって前記テンプレートの良否を判断するテンプレート検査方法。
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